KR102348106B1 - 전자 장치 및 이의 제조방법 - Google Patents

전자 장치 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

전자 장치는 복수의 표시 소자들을 포함하고, 평면상에서 표시 소자들이 각각 배치된 복수의 발광 영역들 및 발광 영역들에 인접한 주변 영역으로 구분되는 표시 부재, 표시 부재 상에 배치된 제1 센싱 패턴, 및 표시 부재 상에 배치되고 제1 센싱 패턴과 정전 용량을 형성하는 제2 센싱 패턴을 포함하는 센싱 부재를 포함하고, 제1 센싱 패턴 및 제2 센싱 패턴 각각은 주변 영역에 배치되어 발광 영역들 각각에 중첩하는 복수의 개구부들을 정의하는 복수의 메쉬선들을 포함하고, 제1 센싱 패턴 및 제2 센싱 패턴 각각은 개구부들 중 중심 개구부, 및 중심 개구부를 에워싸는 복수의 주변 개구부들을 포함하는 단위 메쉬 패턴을 포함하고, 단위 메쉬 패턴에는 각각이 복수의 주변 개구부들 중 인접하는 적어도 두 개의 개구부들을 서로 오픈시키는 복수의 커팅 라인들이 정의되고, 커팅 라인들은 중심 개구부를 에워싸는 방향으로 배열된다.

Description

전자 장치 및 이의 제조방법{ELECTRONIC DEVICE AND MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 전자 장치에 관한 것으로, 상세하게는 시인성이 개선된 전자 장치 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
전자 장치는 전기적 신호를 인가 받아 활성화된다. 전자 장치는 영상을 표시하는 표시 장치나 외부로부터 인가되는 터치를 감지하는 터치 스크린을 포함한다.
전자 장치는 전기적 신호에 의해 활성화 되도록 다양한 전극 패턴들을 포함할 수 있다. 전극 패턴들이 활성화된 영역은 정보가 표시되거나 외부로부터 인가되는 터치에 반응한다.
본 발명은 터치 센서들이 외광 반사에 의해 시인되는 것을 방지할 수 있는 전자 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 시인성이 개선된 터치 센서를 용이하게 형성하는 전자 장치 제조방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치는 복수의 표시 소자들을 포함하고, 평면상에서 상기 표시 소자들이 각각 배치된 복수의 발광 영역들 및 상기 발광 영역들에 인접한 주변 영역으로 구분되는 표시 부재, 및 상기 표시 부재 상에 배치된 제1 센싱 패턴, 및 상기 표시 부재 상에 배치되고 상기 제1 센싱 패턴과 정전 용량을 형성하는 제2 센싱 패턴을 포함하는 센싱 부재를 포함하고, 상기 제1 센싱 패턴 및 상기 제2 센싱 패턴 각각은 상기 주변 영역에 배치되어 상기 발광 영역들 각각에 중첩하는 복수의 개구부들을 정의하는 복수의 메쉬선들을 포함하고, 상기 제1 센싱 패턴 및 상기 제2 센싱 패턴 각각은 상기 개구부들 중 중심 개구부, 및 상기 중심 개구부를 에워싸는 복수의 주변 개구부들을 포함하는 단위 메쉬 패턴을 포함하고, 상기 단위 메쉬 패턴에는 각각이 상기 복수의 주변 개구부들 중 인접하는 적어도 두 개의 개구부들을 서로 오픈시키는 복수의 커팅 라인들이 정의되고, 상기 커팅 라인들은 상기 중심 개구부를 에워싸는 방향으로 배열된다.
상기 커팅 라인은 주변 개구부들의 중심들을 연결하여 정의되고, 상기 메쉬선들 중 상기 커팅 라인에 중첩하는 부분들이 단절되어 주변 개구부들을 오픈 시킬 수 있다.
상기 단위 메쉬 패턴 내에서 상기 주변 개구부들은 단일의 중심 개구부를 에워싸는 형상으로 배열되고, 상기 단위 메쉬 패턴은 상기 개구부의 형상과 대응되는 형상을 가질 수 있다.
상기 단위 메쉬 패턴은, 상기 중심 개구부가 정의되고 사각형 형상을 가진 중심 메쉬 패턴, 및 상기 주변 개구부들이 정의되고, 상기 중심 메쉬 패턴을 에워싸는 프레임 형상을 가진 서브 메쉬 패턴을 포함하고, 상기 커팅 라인들은 상기 서브 메쉬 패턴에 배치되어 상기 중심 메쉬 패턴을 중심으로 시계 방향 또는 반 시계 방향으로 이격되어 배열될 수 있다.
상기 서브 메쉬 패턴은, 상기 중심 메쉬 패턴의 네 변들에 각각 인접하고, 제1 커팅 라인들이 정의된 제1 서브 메쉬 패턴들, 및 상기 중심 메쉬 패턴의 네 꼭지점들에 각각 인접하고, 제2 커팅 라인들이 정의된 제2 서브 메쉬 패턴들을 포함하고, 상기 제1 서브 메쉬 패턴들 각각에는 i개(단, i는 자연수)의 주변 개구부들이 정의되고 상기 제2 서브 메쉬 패턴들 각각에는 i*i개의 주변 개구부들이 정의될 수 있다.
상기 제1 커팅 라인들은 상기 중심 메쉬 패턴의 상기 네 변들 중 인접하는 변과 교차하는 방향으로 연장된 라인 형상을 가질 수 있다.
상기 제2 커팅 라인들 각각은 폐루프 형상을 가질 수 있다.
상기 제2 커팅 라인들 각각은 X자 형상을 가질 수 있다.
상기 서브 메쉬 패턴은, 상기 중심 메쉬 패턴의 가장자리를 에워싸는 사각 프레임 형상을 갖고, 제1 커팅 라인들이 정의된 제1 서브 메쉬 패턴, 및 상기 제1 서브 메쉬 패턴을 에워싸는 사각 프레임 형상을 갖고, 제2 커팅 라인들이 정의된 제2 서브 메쉬 패턴을 포함하고, 상기 제1 커팅 라인들 각각은 직선 형상을 갖고,
상기 제1 커팅 라인들은 상기 중심 메쉬 패턴의 네 변들 중 인접하는 변들과 나란한 방향으로 연장되도록 배열될 수 있다.
상기 제2 커팅 라인들은 상기 제1 커팅 라인들과 동일한 형상을 갖고, 상기 제2 커팅 라인들은 상기 제1 서브 메쉬 패턴의 네 변들 중 인접하는 변들과 나란한 방향으로 연장되도록 배열될 수 있다.
상기 제2 커팅 라인들 각각은 절곡된 라인 형상을 갖고, 각각이 상기 제1 서브 메쉬 패턴의 네 꼭지점들에 인접하여 상기 네 꼭지점들을 감싸도록 배열될 수 있다.
상기 단위 메쉬 패턴은 복수로 구비되고, 상기 복수의 단위 메쉬 패턴들 각각은 최 외곽에 배치되는 메쉬 선들이 서로 중첩하도록 배열될 수 있다.
상기 단위 메쉬 패턴은 복수로 구비되고, 상기 복수의 단위 메쉬 패턴들 각각은 상기 커팅 라인들 중 적어도 어느 하나가 서로 연결되도록 배열될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치 제조방법은 각각이 제1 방향을 따라 연장되는 복수의 제1 메쉬선들 및 각각이 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향을 따라 연장되는 복수의 제2 메쉬선들을 포함하고, 각각에 상기 제1 및 제2 메쉬선들의 일부들을 절단하는 복수의 커팅 라인들이 정의된 복수의 단위 메쉬 패턴들을 포함하는 초기 메쉬 기판을 제공하는 단계, 상기 커팅 라인들 중 적어도 일부를 연결하는 경계 라인을 따라 커팅하여 복수의 센싱 패턴들을 형성하는 단계, 상기 센싱 패턴들 상에 절연막을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 커팅 라인들은 상기 제1 방향 또는 상기 제2 방향을 따라 연장되고 인접하는 두 개구부들의 중심들을 연결하는 선분을 포함한다.
상기 단위 메쉬 패턴은, 중심 개구부가 정의된 중심 메쉬 패턴, 및 상기 중심 개구부를 에워싸는 주변 개구부들이 정의된 서브 메쉬 패턴을 포함하고, 상기 커팅 라인들은 상기 서브 메쉬 패턴에 정의되어 상기 주변 개구부들 중 적어도 두 개의 개구부들을 서로 오픈시킬 수 있다.
상기 커팅 라인들은 상기 중심 메쉬 패턴을 중심으로 시계 방향 또는 반 시계 방향으로 서로 이격되어 배열될 수 있다.
상기 커팅 라인들은 제1 방향으로 연장된 제1 패턴 및 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 제1 패턴과 교차하는 제2 패턴을 포함하는 교차 형상을 갖고, 상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 교차점은 상기 주변 개구부들 중 일 개구부의 중심일 수 있다.
상기 커팅 라인은 폐루프 형상을 가질 수 있다.
상기 경계 라인을 형성하는 단계는 상기 일부의 커팅 라인들 사이에 배치된 메쉬선들을 커팅하는 단계를 포함하고, 상기 일부의 커팅 라인들 각각은 상기 경계 라인에 전면적으로 중첩할 수 있다.
상기 절연막 상에 상기 복수의 센싱 패턴들 중 일부를 연결하는 브릿지 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 절연막을 형성하는 단계는, 상기 센싱 패턴들을 커버하는 절연층을 형성하는 단계 및 상기 절연층에 컨택홀을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 다양한 배열을 가지면서도 메쉬 선들의 연장 방향과 대응되는 커팅 라인들이 정의된 초기 메쉬 기판을 통해, 조합에 따라 사용자가 필요로 하는 다양한 형상의 센싱 패턴들을 용이하게 형성할 수 있다.
또한, 광학적 보상 패턴들을 형성하여 센서들 간의 구별을 어렵게 함으로써 전자 장치의 시인성이 개선될 수 있다.
또한, 본 발명의 제조방법에 따르면, 경계 라인을 형성하는 공정만으로도 광학적 보상 패턴이 형성된 센서를 형성할 수 있어, 공정이 단순화되고 공정 비용이 절감될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치의 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 전자 장치의 평면도이다.
도 3a는 도 2에 도시된 XX 영역을 도시한 평면도이고, 도 3b는 도 3a에 도시된 Ⅰ-Ⅰ'를 따라 자른 단면도이다.
도 4a는 도 3a에 도시된 일부 구성을 확대하여 도시한 평면도이다.
도 4b 및 도 4c는 도 4a의 일부 구성들을 도시한 평면도들이다.
도 4d는 도 4a의 일부 구성을 도시한 평면도이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴을 도시한 평면도이다.
도 5b 및 도 5c는 도 5a에 도시된 단위 메쉬 패턴의 일부들을 각각 도시한 평면도들이다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴을 도시한 평면도이다.
도 6b는 도 6a에 도시된 단위 메쉬 패턴의 일부를 도시한 평면도이다.
도 7a 내지 도 7f는 본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴과 관련된 평면도이다.
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치 제조방법을 도시한 평면도들이다.
도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치 제조방법을 도시한 평면도들이다.
도 10a 내지 도 10c는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치 제조방법을 도시한 평면도들이다.
도 11a 내지 도 11c는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치 제조방법을 도시한 평면도들이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치의 사시도이다. 전자 장치(EA)는 전기적 신호를 인가 받아 활성화된다. 전자 장치(EA)는 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)이 정의하는 평면상에서 액티브 영역(AA) 및 주변 영역(NAA)으로 구분될 수 있다.
액티브 영역(AA)은 전기적 신호가 공급되면 전기적으로 활성화되는 영역일 수 있다. 액티브 영역(AA)은 전자 장치(EA)의 용도에 따라 다양한 기능을 갖도록 활성화될 수 있다.
예를 들어, 액티브 영역(AA)은 외부에서 인가되는 입력을 감지하는 센싱 영역(sensing area)일 수 있다. 도 1에 도시된 것과 같이, 전자 장치(EA)는 액티브 영역(AA)에 인가되는 외부 입력(TC)을 감지할 수 있다. 이 점에서 전자 장치(EA)는 입력 장치로서 기능할 수 있다.
외부 입력(TC)은 사용자의 손으로 예시적으로 도시되었으나, 외부에서 인가되는 입력은 다양한 형태로 제공될 수 있다. 예를 들어, 입력은 사용자의 손 등 신체의 일부가 접촉 또는 인접하는 터치는 물론, 힘, 압력, 또는 광 등 다양한 형태를 가질 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
또는, 예를 들어, 액티브 영역(AA)은 소정의 정보를 표시하는 표시 영역(display area)일 수 있다. 전자 장치(EA)는 액티브 영역(AA)에 영상(image)을 표시하고 사용자는 영상을 통해 정보를 습득할 수 있다. 이 점에서, 전자 장치(EA)는 출력 장치로 기능할 수 있다.
주변 영역(NAA)은 액티브 영역(AA)에 인접한다. 주변 영역(NAA)은 전기적 신호가 인가되더라도 외부에 영상을 표시하거나 외부 입력을 감지하는 기능을 제공하지 않는다.
주변 영역(NAA)은 외부로부터 인가되는 신호를 액티브 영역(AA)에 제공하기 위한 신호 라인들이나, 액티브 영역(AA)을 구동시키기 위한 구동 소자들이 배치된 영역일 수 있다. 주변 영역(NAA)은 액티브 영역(AA)의 일 측에 인접할 수 있다.
본 실시예에서, 주변 영역(NAA)은 액티브 영역(AA)을 에워싸는 프레임 형상으로 도시되었다. 다만, 이는 예시적으로 도시된 것이고, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치(EA)에 있어서 주변 영역(NAA)은 생략될 수도 있다. 주변 영역(NAA)은 다양한 형상을 가진 것으로 정의될 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
도 1에서는 전자 장치(EA)가 터치 스크린 장치인 경우를 예시적으로 도시하였다. 다만, 이는 예시적으로 도시한 것이고, 전자 장치(EA)에서 표시 기능은 생략될 수도 있다.
도 2는 도 1에 도시된 전자 장치의 평면도이다. 도 3a는 도 2에 도시된 XX' 영역을 도시한 평면도이고, 도 3b는 도 3a에 도시된 Ⅰ-Ⅰ'를 따라 자른 단면도이다. 도 2 내지 도 3b에는 용이한 설명을 위해 일부 구성들을 생략하여 도시하였다. 이하, 도 2 내지 도 3b를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치(EA)에 대해 설명한다.
도 3b에 도시된 것과 같이, 전자 장치(EA)는 표시 부재(DM)와 센싱 부재(SM)를 포함한다. 본 실시예에서, 센싱 부재(SM)는 표시 부재(DM) 상에 배치된다. 본 실시예에서 단층형 센싱 부재를 예시적으로 도시하였으나 이에 제한되지 않는다.
센싱 부재(SM)는 제1 터치 전극들(TE1-1, TE1-2, TE1-3, TE1-4), 제2 터치 전극들(TE2-1, TE2-2, TE2-3, TE2-4, TE2-5), 제1 터치 전극들(TE1-1, TE1-2, TE1-3, TE1-4)에 연결된 제1 터치 신호 라인들(SL1-1, SL1-2, SL1-3, SL1-4), 제2 터치 전극들(TE2-1, TE2-2, TE2-3, TE2-4, TE2-5)에 연결된 제2 터치 신호 라인들(SL2-1, SL2-2, SL2-3, SL2-4, SL2-5), 및 터치 패드들(PADa), 및 커버층(CVL)을 포함한다.
제1 터치전극들(TE1-1, TE1-2, TE1-3, TE1-4) 및 제2 터치전극들(TE2-1, TE2-2, TE2-3, TE2-4)은 액티브 영역(AA)에 배치되고, 제1 터치 신호 라인들(SL1-1, SL1-2, SL1-3, SL1-4), 제2 터치 신호 라인들(SL2-1, SL2-2, SL2-3, SL2-4), 및 터치 패드들(PADa)은 주변 영역(NAA)에 배치될 수 있다.
제1 터치전극들(TE1-1, TE1-2, TE1-3, TE1-4)은 제2 방향(DR2)으로 연장되어 제1 방향(D1)으로 배열된다. 제1 터치전극들(TE1-1, TE1-2, TE1-3, TE1-4) 각각은 복수의 제1 센싱 패턴들(SP1)을 포함할 수 있다. 제1 센싱 패턴들(SP1)은 제2 방향(D2)을 따라 배열되고, 제1 연결 패턴들(CP1)을 통해 연결된다.
제2 터치전극들(TE2-1, TE2-2, TE2-3, TE2-4, TE4-5)은 제1 방향(D1)으로 연장되어 제2 방향(D2)으로 배열된다. 제2 터치전극들(TE2-1, TE2-2, TE2-3, TE2-4, TE2-5) 각각은 복수의 제2 센싱 패턴들(SP2)을 포함할 수 있다. 제2 센싱 패턴들(SP2)은 제1 센싱 패턴들(SP1)과 절연 교차하도록 배치된다. 제2 센싱 패턴들(SP2)은 제1 방향(D1)을 따라 배열되고 제2 연결부들(CP2)을 통해 연결된다.
터치 패드부들(PADa)은 제1 터치 신호라인들(SL1-1, SL1-2, SL1-3, SL1-4) 및 제2 터치 신호라인들(SL2-1, SL2-2, SL2-3, SL2-4, SL2-5)에 연결된다. 센싱 부재(SM)는 제1 터치 신호라인들(SL1-1, SL1-2, SL1-3, SL1-4) 및 제2 터치 신호라인들(SL2-1, SL2-2, SL2-3, SL2-4, SL2-5)을 통해 전기적 신호를 송/수신하여 제1 센싱 패턴들(SP1)과 제2 센싱 패턴들(SP2)을 활성화시킨다.
제1 센싱 패턴들(SP1)과 제2 센싱 패턴들(SP2)은 정전 용량을 형성한다. 센싱 부재(SM)는 외부 입력(TC: 도 1 참조)에 의해 발생되는 제1 센싱 패턴들(SP1)과 제2 센싱 패턴들(SP2) 사이의 정전 용량 변화를 측정하여 외부 입력의 정보를 감지할 수 있다.
도 3a를 참조하면, 제1 센싱 패턴들(SP1)과 제2 센싱 패턴들(SP2) 각각은 메쉬 형상을 가질 수 있다. 구체적으로, 제1 센싱 패턴들(SP1)과 제2 센싱 패턴들(SP2) 각각은 복수 개의 터치 개구부들(TS-OP)을 정의하는 복수의 메쉬선들을 포함한다.
도 3a는 실질적으로 표시 부재(DM)와 센싱 부재(SM) 사이의 평면상에서의 배치 관계를 설명하기 위한 도면으로서, 설명의 편의를 위해 도 3a에는 제1 센싱 패턴들(SP1) 및 제2 센싱 패턴들(SP2)과 함께 복수의 발광 영역들(PXA)의 평면 형상이 도시되었다.
발광 영역들(PXA) 각각은 레드 색, 그린 색, 또는 블루 색을 표시할 수 있다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 발광 영역들(PXA)은 마젠타, 시안, 또는 화이트 색을 표시하기 위한 발광 영역들을 더 포함할 수 있다. 발광 영역들(PXA)은 표시하는 색에 따라서 서로 다른 크기(또는 면적)를 가질 수 있다.
본 실시예에서, 발광 영역들(PXA)은 제1 방향(D1)과 제2 방향(D2)에 교차하는 제4 방향(D4), 및 제4 방향(D4)에 교차하는 제5 방향(D5)을 따라 배열될 수 있다. 본 실시예에서, 발광 영역들(PXA) 각각은 제4 방향(D4) 및 제5 방향(D5)에 의해 정의되는 마름모 형상을 가질 수 있다.
도 3a에서는 용이한 구별을 위해 제1 센싱 패턴들(SP1) 및 제2 센싱 패턴들(SP2)을 음영 처리하여 도시하였다. 제1 센싱 패턴들(SP1) 및 제2 센싱 패턴들(SP2)은 비 발광 영역(NPXA)에 중첩하도록 배치된다.
상술한 바와 같이, 제1 센싱 패턴들(SP1) 및 제2 센싱 패턴들(SP2) 각각은 복수의 메쉬선들을 포함한다. 메쉬선들은 비 발광 영역(NPXA)에 배치된다.
구체적으로, 제1 센싱 패턴들(SP1) 각각은 제4 방향(D4)을 따라 연장되고 제5 방향(D5)을 따라 이격된 복수의 제1 메쉬선들(MSL1-A) 및 제5 방향(D5)을 따라 연장되고 제4 방향(D4)을 따라 이격되며 제1 메쉬선들(MSL1-A)과 교차 연결되는 복수의 제2 메쉬선들(MSL2-A)을 포함한다. 제2 센싱 패턴들(SP2) 각각도 서로 교차 연결되는 복수의 제1 메쉬선들(MSL1-B) 및 복수의 제2 메쉬선들(MSL2-B)을 포함한다.
제1 메쉬선들(MSL1-A)과 제2 메쉬선들(MSL2-A)은 터치 개구부들(TS-OP)을 정의한다. 이와 마찬가지로, 제1 메쉬선들(MSL1-B)과 제2 메쉬선들(MSL2-B)도 터치 개구부들(TS-OP)을 정의한다.
터치 개구부들(TS-OP)은 발광 영역들(PXA)의 형상에 대응하는 마름모 형상을 가지며 발광 영역들(PXA) 각각에 대응되는 영역에 정의될 수 있다. 평면상에서, 터치 개구부들(TS-OP)은 발광 영역들(PXA)의 면적 이상의 면적으로 구비될 수 있다. 터치 개구부들(TS-OP) 각각은 발광 영역들(PXA) 각각에 전면적으로 중첩한다.
도 3b를 참조하면, 표시 부재(DM)는 베이스 층(BSL), 화소 정의막(PDL), 표시 소자(DEM), 및 봉지층(EC)을 포함할 수 있다. 도 3b에는 발광 영역들(PXA) 중 제1 발광 영역(PXA1) 및 제2 발광 영역(PXA2)에 대응되는 영역을 도시하였다.
도시되지 않았으나, 베이스 층(BSL)은 복수의 절연층들 및 복수의 도전층들을 포함할 수 있다. 복수의 도전층들 및 복수의 절연층들은 표시 소자(DEM)에 연결된 박막 트랜지스터 및 커패시터를 구성할 수 있다.
표시 소자(DEM)는 베이스 층(BSL) 상에 배치된다. 표시 소자(DEM)는 박막 트랜지스터 및 커패시터를 통해 전달된 전기적 신호에 따라 광을 표시하여 영상을 구현한다.
표시 소자(DEM)는 다양한 실시예들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 표시 소자(DEM)는 전기 영동 소자, 액정 커패시터, 전기 습윤 소자, 또는 유기발광소자일 수 있다. 본 실시예에서, 표시 소자(DEM)는 유기발광소자인 실시예를 예시적으로 설명한다.
화소 정의막(PDL)은 베이스 층(BSL) 상에 배치된다. 화소 정의막(PDL)에는 소정의 개구부들(OP)이 정의된다. 개구부들(OP) 각각은 하나의 표시 소자(DEM)가 구획되는 영역을 정의할 수 있다.
표시 소자(DEM)는 제1 전극(EL1), 발광층(EML), 및 제2 전극(EL2)을 포함한다. 표시 소자(DEM)는 제1 전극(EL1) 및 제2 전극(EL2) 사이의 전위차에 따라 발광층(EML)을 활성화시켜 광을 생성할 수 있다. 이에 따라, 발광 영역들(PXA)은 발광층(EML)이 배치된 영역과 대응될 수 있다.
한편, 제1 발광 영역(PXA1)과 제2 발광 영역(PXA2)은 서로 상이한 크기를 가질 수 있다. 본 실시예에서, 제2 발광 영역(PXA2)이 제1 발광 영역(PXA1) 보다 크게 도시되었다. 이는 상술한 바와 같이, 제1 발광 영역(PXA1)과 제2 발광 영역(PXA2) 각각에서 발하는 광의 컬러들이 서로 상이함에 따른 것으로, 상이한 컬러들마다 이에 적합한 향상된 광 효율 효과를 가져올 수 있다.
봉지층(EC)은 표시 소자(DEM)를 커버한다. 봉지층(EC)은 복수의 유기막 및/또는 무기막을 포함할 수 있다. 봉지층(EC)은 외부로부터 표시 소자(DEM)로의 수분 침투를 방지하고 표시 소자(DEM)를 보호한다. 또한, 봉지층(EC)은 표시 부재(DM)와 센싱 부재(SM) 사이에 배치되어 표시 부재(DM)와 센싱 부재(SM)를 전기적으로 분리시키는 역할을 할 수 있다.
센싱 부재(SM)는 봉지층(EC) 상에 배치된다. 다만, 이는 예시적으로 도시된 것이고, 센싱 부재(SM)는 봉지층(EC) 하측에 배치되거나, 센싱 부재(SM)와 봉지층(EC) 사이에 컬러 필터와 같은 미 도시된 부재가 개재될 수도 있다.
센싱 부재(SM)는 커버층(CVL)을 더 포함할 수 있다. 커버층(CVL)은 센싱 패턴들(SP1, SP2) 상에 배치되어 센싱 패턴들(SP1, SP2)을 보호한다. 커버층(CVL)은 절연 물질을 포함한다.
도 3b에 도시된 것과 같이, 제1 메쉬선(MSL1-B)과 제2 메쉬선(MSL2-B)은 각각 평면상에서 화소 정의막(PDL)에 중첩하도록 배치된다. 제1 메쉬선(MSL1-B)과 제2 메쉬선(MSL2-B)은 발광 영역들(PXA1, PXA2)과 중첩되지 않도록 배치된다.
이에 따라, 센싱 패턴들(SP1, SP2)이 전자 장치(EA)의 표시 특성에 미치는 영향을 감소시킬 수 있고, 메쉬선들(MSL1-B, MSL2-B)을 불투명한 물질로 구성할 수 있어, 센싱 패턴들(SP1, SP2)의 재료 선택 자유도가 클 수 있다.
한편, 본 실시예에서, 메쉬선들 각각은 부분적으로 단절된 형상을 가질 수 있다. 구체적으로, 도 3a에 도시된 것과 같이, 제1 메쉬선들(MSL1-A, MSL1-B) 각각은 부분적으로 단절된 제1 커팅부들(TS-CP1)을 포함한다. 제2 메쉬선들(MSL2-A, MSL2-B) 각각도 부분적으로 단절된 제2 커팅부들(TS-CP2)을 포함한다. 이에 따라, 도 3b에 도시된 것과 같이, 절개공간(CC)이 나타날 수 있다. 절개공간(CC)은 실질적으로 메쉬선이 제거되어 커팅부들이 정의되는 영역일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 센싱 패턴들(SP1, SP2)은 제1 커팅부들(TS-CP1) 및 제2 커팅부들(TS-CP2)과 같은 절개 공간(CC)을 구비함으로써, 센싱 패턴들(SP1, SP2) 내부와 센싱 패턴들(SP1, SP2) 경계 사이의 반사율 차이를 완화시킬 수 있다. 이에 따라, 외광 반사 등으로 인해 센싱 패턴들(SP1, SP2)이 구별되는 문제를 방지하여 시인성이 개선된 전자 장치(EA)가 제공될 수 있다.
다시 도 2를 참조하면, 구체적으로 도시하지 않았으나, 제1 터치 신호라인들(TSL1-1, TSL1-2, TSL1-3, TSL1-4) 이나 제2 터치 신호라인들(TSL2-1, TSL2-2, TSL2-3, TSL2-4) 역시 복수의 메쉬선들을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않고, 제1 터치 신호라인들(TSL1-1, TSL1-2, TSL1-3, TSL1-4) 이나 제2 터치 신호라인들(TSL2-1, TSL2-2, TSL2-3, TSL2-4)은 직선 형상의 도전 패턴으로 형성될 수도 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
도 4a는 도 2a에 도시된 일부 구성을 확대하여 도시한 평면도이다. 도 4b 및 도 4c는 도 4a의 일부 구성들을 도시한 평면도들이다. 용이한 설명을 위해 도 4b 및 도 4c에는 각각 다른 층상에 배치된 구성들을 도시하였다.
구체적으로, 도 4b에는 도 4a에 도시된 구성들 중 제1 층(A1)에 포함되는 구성들을 도시하였고, 도 4c에는 도 4b에 도시된 구성들 중 제1 층(A1) 상에 배치된 제2 층(A2)에 포함되는 구성들을 도시하였다. 이하, 도 4a 내지 도 4c를 참조하여 본 발명에 대해 설명한다. 한편, 도 1 내지 도 3b에서 설명한 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하고 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 4a에는 도 2에 도시된 영역 중 제1 센싱 패턴들(SP1)과 제2 센싱 패턴들(SP2)이 연결된 영역을 확대하여 도시하였다. 제1 센싱 패턴들(SP1)의 일부로서 제1 하측 센싱 패턴(SSP1_1)과 제1 상측 센싱 패턴(SSP1_2)이 예시적으로 도시되었고, 제2 센싱 패턴들(SP2)의 일부로서 제2 우측 센싱 패턴(SSP2_1)과 제2 좌측 센싱 패턴(SSP2_2)이 예시적으로 도시되었다.
제1 센싱 패턴들(SP1)과 제2 센싱 패턴들(SP2) 각각은 제4 방향(D4)을 따라 연장된 제1 메쉬선들(MSL1) 및 제5 방향(D5)을 따라 연장된 제2 메쉬선들(MSL2)을 포함한다. 한편, 설명의 편의를 위해 제1 메쉬선들(MSL1)과 제2 메쉬선들(MSL2)에 의해 정의되는 터치 개구부(TS-OP)는 서로 동일한 크기로 도시되었다.
본 실시예에서, 제1 연결부(CP1)는 제1 센싱 패턴들(SP1), 제2 센싱 패턴들(SP2), 및 제2 연결부(CP2)와 다른 층에 배치된다. 도 4a 및 도 4b를 참조하면, 제1 센싱 패턴들(SP1), 제2 센싱 패턴들(SP2), 및 제2 연결부(CP2)는 각각 메쉬 형상을 가지며 제1 층(A1)을 구성한다.
제2 연결부(CP2)은 제2 우측 센싱 패턴(SSP2_1)과 제2 좌측 센싱 패턴(SSP2_2)을 구성하는 메쉬선들(MSL1, MSL2) 중 일부가 연장되어 정의될 수 있다. 본 실시예에서, 제2 연결부(CP2)는 두 개의 터치 개구부(TS-OP)가 정의된 메쉬 형상을 가질 수 있으며, 제1 방향(D1)으로 연장된 형상을 가질 수 있다. 제1 하측 센싱 패턴(SSP1_1)과 제1 상측 센싱 패턴(SSP1_2)은 제2 연결부(CP2)를 사이에 두고 서로 이격된다.
한편, 제1 센싱 패턴들(SP1)과 제2 센싱 패턴들(SP2)은 상술한 바와 같이, 복수의 커팅부들(TS-CP)을 포함한다. 제1 하측 센싱 패턴(SSP1_1)과 제1 상측 센싱 패턴(SSP1_2) 각각에는 복수의 커팅부들(TS-CP)이 서로 이격되어 제1 메쉬선들(MSL1) 또는 제2 메쉬선들(MSL2) 각각에 구비된다. 마찬가지로, 제2 우측 센싱 패턴(SSP2_1)과 제2 좌측 센싱 패턴(SSP2_2) 각각에도 커팅부들(TS-CP)이 구비된다.
한편, 제2 우측 센싱 패턴(SSP2_1)과 제2 좌측 센싱 패턴(SSP2_2)에는 터치 개구부들(TS-OP)이 제거된 영역이 존재한다. 즉, 제1 메쉬선들(MSL1)과 제2 메쉬선들(MSL2)이 제거된 영역들이 제2 우측 센싱 패턴(SSP2_1)과 제2 좌측 센싱 패턴(SSP2_2)에 존재한다.
이는 후술하는 제1 연결부(CP1)와 제2 센싱 패턴들(SP2) 사이의 중첩을 방지하기 위함이다. 제2 우측 센싱 패턴(SSP2_1)과 제2 좌측 센싱 패턴(SSP2_2) 중 제1 연결부(CP1)와 중첩하는 영역의 메쉬선들을 제거함으로써, 제1 연결부(CP1)는 제2 센싱 패턴들(SP2)과 중첩하지 않을 수 있다. 이에 따라, 제1 연결부(CP1)와 제2 센싱 패턴들(SP2) 사이에 형성될 수 있는 기생 커패시터나 쇼트(short) 발생 문제를 방지할 수 있어 전자 장치의 신뢰성이 향상될 수 있다.
도 4a 및 도 4c를 참조하면, 제1 연결부(CP1)는 제1 센싱 패턴들(SP1)과 다른 층상에 배치된다. 본 실시예에서, 제1 연결부(CP1)는 제2 층(A2)을 구성한다.
이에 따라, 제1 연결부(CP1)는 컨택홀(CH)을 통해 제1 센싱 패턴들(SP1)에 접속된다. 서로 이격된 제1 하측 센싱 패턴(SSP1_1)과 제1 상측 센싱 패턴(SSP1_2)은 제1 연결부(CP1)를 통해 전기적으로 연결된다.
제1 연결부(CP1)는 평면상에서 제2 연결부(CP2)를 사이에 두고 제1 방향(D1)에서 서로 이격된 제1 연장부(EX1) 및 제2 연장부(EX2)를 포함한다. 제1 연장부들(EX1)과 제2 연장부들(EX2)은 서로 대칭될 수 있다.
제1 연장부(EX1) 및 제2 연장부(EX2) 각각은 복수로 구비될 수 있다. 구체적으로, 제1 연장부(EX1)는 제1, 제2, 제3, 및 제4 서브 연장부들(EX1_1,EX1_2,EX1_3,EX1_4)을 포함한다. 제1 서브 연장부(EX1_1)와 제3 서브 연장부(EX1_3)는 서로 연결되어 하나의 제1 연장부(EX1)를 구성하고, 제2 서브 연장부(EX1_2)와 제4 서브 연장부(EX1_4)는 서로 연결되어 다른 하나의 제1 연장부(EX1)를 구성한다.
제2 연장부(EX2)는 제5, 제6, 제7, 및 제8 서브 연장부들(EX2_1,EX2_2,EX2_3,EX2_4)을 포함한다. 제5 서브 연장부(EX2_1)와 제7 서브 연장부(EX2_3)는 서로 연결되어 하나의 제2 연장부(EX2)를 구성하고, 제6 서브 연장부(EX2_2)와 제8 서브 연장부(EX2_4)는 서로 연결되어 다른 하나의 제2 연장부(EX2)를 구성한다.
제1 연장부들(EX1)과 제2 연장부들(EX2)은 각각 컨택홀(CH)을 통해 제1 센싱 패턴들(SP1)에 접속된다. 제1 센싱 패턴들(SP1)은 복수의 연장부들을 통해 연결됨에 따라, 전기적 신호 전달에 용이하여 노이즈 등의 발생이 감소될 수 있고, 향상된 터치 감도를 제공할 수 있다.
한편, 도 4d에 도시된 것과 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 연결부(CP1-1)는 제1 연장부(EX1-1) 및 제2 연장부(EX2-1)를 포함할 수 있다.
제1 연장부(EX1-1)는 도 4d에 도시된 제1, 제2, 제3, 및 제4 서브 연장부들(EX1_1,EX1_2,EX1_3,EX1_4) 각각에 대응되는 제1, 제2, 제3, 및 제4 서브 연장부들(EX1-1_1,EX1-1_2,EX1-1_3,EX1-1_4) 및 추가된 제1 및 제2 연결 연장부들(EX1-1_5, EX1-1_6)을 더 포함할 수 있다. 제1 연결 연장부(EX1-1_5)는 제4 방향(D4)으로 연장되어 제3 서브 연장부(EX1-1_3)와 제4 서브 연장부(EX1-1_4)를 연결하고, 제2 연결 연장부(EX1-1_6)는 제5 방향(D5)으로 연장되어 제1 서브 연장부(EX1-1_1)와 제2 서브 연장부(EX1-1_2)를 연결한다. 이에 따라, 제1 연장부(EX1-1)는 서로 연결된 단일의 전극 패턴일 수 있다.
제2 연장부(EX2-1)는 제2 방향(D2)을 따라 연장된 축을 중심으로 제1 연장부(EX1-1)와 선대칭 형상을 이룬다. 따라서, 제2 연장부(EX2-1)는 도 4c에 도시된 제5, 제6, 제7, 및 제8 서브 연장부들(EX2_1,EX2_2,EX2_3,EX2_4)에 각각 대응되는 제5, 제6, 제7, 및 제8 서브 연장부들(EX2-1_1,EX2-1_2,EX2-1_3,EX2-1_4), 및 이들을 연결하는 제3 및 제4 연결 연장부들(EX2-1_5, EX2-1_6)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 제2 연장부(EX2-1)는 서로 연결된 단일의 전극 패턴일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치는 다양한 형태의 전극 패턴들을 구비할 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴을 도시한 평면도이다. 도 5b 및 도 5c는 도 5a에 도시된 단위 메쉬 패턴의 일부들을 각각 도시한 평면도들이다.
도 5a에는 도 2a에 도시된 제1 센싱 패턴들(SP1: 도 2a 참조) 및 제2 센싱 패턴들(SP2: 도 2a 참조) 중 단위 메쉬 패턴(UN)에 대응되는 일부 영역을 도시하였다. 제1 센싱 패턴들(SP1) 및 제2 센싱 패턴들(SP2) 각각은 단위 메쉬 패턴(UN)이 연속적으로 배열된 형상을 가질 수 있다.
도 5a를 참조하면, 단위 메쉬 패턴(UN)은 8 개의 서로 교차하는 메쉬선들에 의해 정의될 수 있다. 구체적으로, 단위 메쉬 패턴(UN)은 각각이 제4 방향(D4)으로 연장된 제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14), 및 각각이 제5 방향(D5)으로 연장된 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24)에 의해 정의될 수 있다.
제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14)은 실질적으로 도 4a에 도시된 제1 메쉬선들(MSL1: 도 4a 참조) 중 일부와 대응될 수 있고, 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24)은 실질적으로 도 4a에 도시된 제2 메쉬선들(MSL2: 도 4a 참조) 중 일부와 대응될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴(UN)은 복수의 개구부들을 포함할 수 있다. 복수의 개구부들은 (2N+1)*(2N+1)(N은 자연수)의 개수로 구비될 수 있으며, 제4 방향(D4) 및 제5 방향(D5)에 의해 정의되는 매트릭스 형태로 배열될 수 있다.
예를 들어, 도 5a에 도시된 것과 같이, 단위 메쉬 패턴(UN)은 9 개의 개구부들을 포함할 수 있으며, 3*3의 매트릭스 배열을 가질 수 있다. 개구부들은 중심 개구부(OP10) 및 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)로 구성될 수 있다.
중심 개구부(OP10)는 단위 메쉬 패턴(UN)의 중심에 배치될 수 있다. 중심 개구부(OP10)는 제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14) 중 상대적으로 중심에 배치된 제2 메쉬선(MSL12)과 제3 메쉬선(MSL13), 및 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24) 중 상대적으로 중심에 배치된 제6 메쉬선(MSL22)과 제7 메쉬선(MSL23)의 교차에 의해 정의될 수 있다.
한편, 중심 개구부(OP10)를 정의하는 제2 메쉬선(MSL12), 제3 메쉬선(MSL13), 제6 메쉬선(MSL22), 및 제7 메쉬선(MSL23)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)을 정의할 수 있다. 도 5b에는 제1 서브 메쉬 패턴(10)을 별도로 도시하였다.
도 5a 및 도 5b에 도시된 것과 같이, 제1 서브 메쉬 패턴(10)은 중심 개구부(OP10)가 정의되는 패턴일 수 있다. 제1 서브 메쉬 패턴(10)은 마름모 형상을 가진다. 제2 메쉬선(MSL12), 제3 메쉬선(MSL13), 제6 메쉬선(MSL22), 및 제7 메쉬선(MSL23) 각각의 일부들은 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 네 변들과 대응될 수 있다.
이때, 제1 서브 메쉬 패턴(10)을 정의하는 제2 메쉬선(MSL12), 제3 메쉬선(MSL13), 제6 메쉬선(MSL22), 및 제7 메쉬선(MSL23)의 부분들은 절단된 부분을 구비하지 않는다. 이에 따라, 중심 개구부(OP10)는 인접하는 개구부들과 연결되지 않고 제2 메쉬선(MSL12), 제3 메쉬선(MSL13), 제6 메쉬선(MSL22), 및 제7 메쉬선(MSL23)에 의해 에워싸인 폐쇄적인 공간으로 정의될 수 있다.
다시 도 5a를 참조하면, 주변 개구부들(OP20_a, OP20_b, OP20_c)은 중심 개구부(OP10)의 가장자리를 따라 배치될 수 있다. 주변 개구부들(OP20_a, OP20_b, OP20_c)은 제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14) 및 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24)의 교차에 의해 정의될 수 있다.
한편, 주변 개구부들(OP20_a, OP20_b, OP20_c)을 정의하는 제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14) 및 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24)은 제2 서브 메쉬 패턴(20)을 정의할 수 있다. 용이한 설명을 위해 도 5c에는 제2 서브 메쉬 패턴(20)을 별도로 도시하였다.
도 5a 및 도 5c에 도시된 것과 같이, 제2 서브 메쉬 패턴(20)은 주변 개구부들(OP20_a, OP20_b, OP20_c)이 정의되는 패턴일 수 있다. 제2 서브 메쉬 패턴(20)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)을 에워싸는 사각 프레임 형상을 가진다. 제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14) 및 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24)은 제2 서브 메쉬 패턴(20)의 프레임 형상을 정의하는 변들과 대응될 수 있다.
구체적으로, 제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14) 중 상대적으로 외측에 배치된 제1 메쉬선(MSL11)과 제4 메쉬선(MSL14), 및 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24) 중 상대적으로 외측에 배치된 제5 메쉬선(MSL21)과 제8 메쉬선(MSL24)의 일부들은 프레임 형상의 외측 변과 대응될 수 있다. 제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14) 중 상대적으로 내측에 배치된 제2 메쉬선(MSL12)과 제3 메쉬선(MSL13), 및 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24) 중 상대적으로 내측에 배치된 제6 메쉬선(MSL22)과 제7 메쉬선(MSL23)의 일부들은 프레임 형상의 내측 변과 대응될 수 있다.
내측 변을 정의하는 네 개의 메쉬선들(MSL12, MSL13, MSL22, MSL23)은 내측 변을 정의하는 동시에 제2 서브 메쉬 패턴(20)의 사각 프레임 형상을 복수의 영역들로 구분할 수 있다. 이에 따라, 제1 내지 제4 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14) 과 제5 내지 제8 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24)은 제2 서브 메쉬 패턴(20)에 중심 개구부(OP10)를 에워싸는 형상으로 배열된 8 개의 주변 개구부들(OP20_a, OP20_b, OP20_c)을 정의할 수 있다.
한편, 제2 서브 메쉬 패턴(20)의 내측 변을 정의하는 네 개의 메쉬선들(MSL12, MSL13, MSL22, MSL23)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 네 변을 정의하는 네 개의 메쉬선들(MSL12, MSL13, MSL22, MSL23)일 수 있다. 즉, 내측 변을 정의하는 네 개의 메쉬선들(MSL12, MSL13, MSL22, MSL23)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)과 제2 서브 메쉬 패턴(20)에 공통적으로 포함될 수 있다. 이에 따라, 제2 서브 메쉬 패턴(20)은 단위 메쉬 패턴(UN)과 실질적으로 동일한 형상으로 도시되었다.
한편, 제2 서브 메쉬 패턴(20)은 복수의 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)을 포함할 수 있다. 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)은 각각 메쉬선의 일부를 단절시키는 가상의 라인들일 수 있다.
커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d) 각각은 소정의 메쉬선을 사이에 두고 인접한 두 개의 개구부들 각각의 중심을 잇는 선분의 형상을 가질 수 있다. 커팅부(TS-CP)는 메쉬선들 중 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)과 중첩하는 부분에 정의된다. 도 5c에는 용이한 설명을 위해 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)을 진한 선으로 도시하였다.
본 실시예에서, 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)은 서로 이격되어 배치된다. 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)은 제2 서브 메쉬 패턴(20) 내에서 중심 개구부(OP10)를 에워싸는 방향으로 배열될 수 있다.
커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)의 하나 또는 일부(some)가 연장된 방향은 다른 하나 또는 다른 일부(others)가 연장된 방향과 서로 상이한 방향을 가질 수 있다. 예를 들어, 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)은 제5 방향(D5)으로 연장된 제1 커팅 라인(CT1_a)과 제3 커팅 라인(CT1_c), 및 제4 방향(D4)으로 연장된 제2 커팅 라인(CT1_b)과 제4 커팅 라인(CT1_d)을 포함할 수 있다.
커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)은 프레임 형상을 따라 배열될 수 있다. 또한, 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)은 각각이 제2 서브 메쉬 패턴(20) 내에서 인접하는 외측 변과 나란한 방향으로 연장되도록 배열될 수 있다.
이에 따라, 제1 메쉬선(MSL11) 및 제4 메쉬선(MSL14)에 의해 정의되는 외측 변들에 인접하는 제4 커팅 라인(CT1_d)과 제2 커팅 라인(CT1_b)은 제4 방향(D4)으로 연장된 형상을 가질 수 있다. 제5 메쉬선(MSL21) 및 제8 메쉬선(MSL24)에 의해 정의되는 외측 변들에 인접하는 제1 커팅 라인(CT1_a)과 제3 커팅 라인(CT1_c)은 제5 방향(D5)으로 연장된 형상을 가질 수 있다.
제1 내지 제4 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)은 제2 서브 메쉬 패턴(20) 내에서 복수의 개구부들로 구분하는 네 개의 메쉬선들(MSL12, MSL13, MSL22, MSL23)을 시계 방향을 따라 교번적으로 커팅하도록 배열된다.
구체적으로, 도 5c에 도시된 것과 같이, 제1 커팅 라인(CT1_a)은 제2 메쉬선(MSL12)을 커팅한다. 제2 커팅 라인(CT1_b)은 제3 메쉬선(MSL13)을 사이에 두고 제1 커팅 라인(CT1_a)으로부터 이격되며, 제6 메쉬선(MSL22)을 커팅한다. 제3 커팅 라인(CT1_c)은 제7 메쉬선(MSL23)을 사이에 두고 제2 커팅 라인(CT1_b)으로부터 이격되며, 제3 메쉬선(MSL13)을 커팅한다. 제4 커팅 라인(CT1_d)은 제2 메쉬선(MSL12)을 사이에 두고 제3 커팅 라인(CT1_c)으로부터 이격되며 제7 메쉬선(MSL23)을 커팅한다.
도 5a를 다시 참조하면, 이에 따라 단위 메쉬 패턴(UN)은 중심 개구부(OP10)를 에워싸는 복수의 주변 개구부들을 포함하며, 주변 개구부들 중 인접한 두 개의 주변 개구부들은 커팅부(TS-CP)를 통해 오픈될 수 있다. 주변 개구부들은 서로 인접하는 제1 내지 제3 개구부들(OP20_a, OP20_b, OP20_c)을 포함한다. 제1 내지 제3 개구부들(OP20_a, OP20_b, OP20_c) 중 제2 및 제3 개구부들(OP20_b, OP20_c)은 커팅부(TS-CP)를 통해 서로에게 오픈될 수 있다. 제2 및 제3 개구부들(OP20_b, OP20_c)을 연결하는 커팅부(TS-CP)는 도 5c에 도시된 제3 커팅 라인(CT1_c)에 의해 형성된 부분일 수 있다.
제1 내지 제3 개구부들(OP20_a, OP20_b, OP20_c) 중 제1 및 제2 개구부들(OP20_a, OP20_b)은 서로에게 오픈 되지 않는다. 제2 메쉬선(MSL12) 중 제1 및 제2 개구부들(OP20_a, OP20_b)을 구분하는 부분은 커팅 라인과 중첩하지 않는다. 다만, 제1 개구부(OP20_a)는 제1 커팅 라인(CT1_a)에 의해 형성된 커팅부를 통해 제7 메쉬선(MSL23)을 사이에 두고 인접하는 주변 개구부에 오픈될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴(UN)은 복수로 구비되어 제1 및 제2 센싱 패턴들(SP1, SP2) 각각을 구성할 수 있다. 커팅부(TS-CP)는 센싱 패턴들(SP1, SP2) 내에서의 시인성을 제어한다. 사용자는 산발적으로 정의된 커팅부(TS-CP)로 인해 센싱 패턴들(SP1, SP2) 각각의 경계와 센싱 패턴들(SP1, SP2) 내를 구분하기 어렵게 된다. 이에 따라, 센싱 패턴들(SP1, SP2)이 용이하게 시인되는 문제를 방지하여 전자 장치의 시인성이 개선될 수 있다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴을 도시한 평면도이다. 도 6b는 도 6a에 도시된 단위 메쉬 패턴의 일부를 도시한 평면도이다.
도 6a에는 도 2a에 도시된 제1 센싱 패턴들(SP1: 도 2a 참조) 및 제2 센싱 패턴들(SP2: 도 2a 참조) 중 단위 메쉬 패턴(UN-1)에 대응되는 일부 영역을 도시하였다. 제1 센싱 패턴들(SP1) 및 제2 센싱 패턴들(SP2) 각각은 단위 메쉬 패턴(UN-1)이 연속적으로 배열된 형상을 가질 수 있다.
도 6a를 참조하면, 단위 메쉬 패턴(UN-1)은 12 개의 서로 교차하는 메쉬선들에 의해 정의될 수 있다. 구체적으로, 단위 메쉬 패턴(UN-1)은 각각이 제4 방향(D4)으로 연장된 제1 내지 제6 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14, MSL15, MSL16), 및 각각이 제5 방향(D5)으로 연장된 제7 내지 제12 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24, MSL25, MSL26)에 의해 정의될 수 있다.
제1 내지 제6 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14, MSL15, MSL16)은 실질적으로 도 4a에 도시된 제1 메쉬선들(MSL1: 도 4a 참조) 중 일부와 대응될 수 있고, 제7 내지 제12 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24, MSL25, MSL26)은 실질적으로 도 4a에 도시된 제2 메쉬선들(MSL2: 도 4a 참조) 중 일부와 대응될 수 있다. 단위 메쉬 패턴(UN-1)은 제4 방향(D4) 및 제5 방향(D5)에 의해 정의되는 마름모 형상을 가질 수 있다.
단위 메쉬 패턴(UN-1)은 복수의 개구부들을 포함할 수 있다. 개구부들은 중심 개구부(OP11), 복수의 제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c), 및 복수의 제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c)로 구성될 수 있다.
중심 개구부(OP11)는 단위 메쉬 패턴(UN-1)의 중심에 배치될 수 있다. 중심 개구부(OP11)는 제1 내지 제6 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14, MSL15, MSL16) 중 상대적으로 중심에 배치된 제3 메쉬선(MSL13)과 제4 메쉬선(MSL14), 및 제7 내지 제12 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24, MSL25, MSL26) 중 상대적으로 중심에 배치된 제9 메쉬선(MSL23)과 제10 메쉬선(MSL24)의 교차에 의해 정의될 수 있다.
한편, 중심 개구부(OP11)를 정의하는 제3 메쉬선(MSL13), 제4 메쉬선(MSL14), 제9 메쉬선(MSL23), 및 제10 메쉬선(MSL24)은 소정의 서브 메쉬 패턴을 정의할 수 있다. 제3 메쉬선(MSL13), 제4 메쉬선(MSL14), 제9 메쉬선(MSL23), 및 제10 메쉬선(MSL24)에 의해 정의되는 서브 메쉬 패턴은 실질적으로 도 5b에 도시된 제1 서브 메쉬 패턴(10: 도 5b 참조)과 대응될 수 있으므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)은 중심 개구부(OP11)의 가장자리를 따라 배치될 수 있다. 제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)은 제1 내지 제6 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14, MSL15, MSL16) 중 제2 내지 제5 메쉬선들(MSL12, MSL13, MSL14, MSL15), 및 제7 내지 제12 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24, MSL25, MSL26) 중 제8 내지 제11 메쉬선들(MSL22, MSL23, MSL24, MSL25)의 교차에 의해 정의될 수 있다.
제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)은 중심 개구부(OP11)의 네 변들 및 네 꼭지점들 각각에 인접한다. 도 6a에는 제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c) 중 세 개의 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)을 예시적으로 점선 처리하여 도시하였다.
한편, 제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)을 정의하는 제2 내지 제5 메쉬선들(MSL12, MSL13, MSL14, MSL15) 및 제8 내지 제11 메쉬선들(MSL22, MSL23, MSL24, MSL25)은 소정의 서브 메쉬 패턴을 정의할 수 있다. 제2 내지 제5 메쉬선들(MSL12, MSL13, MSL14, MSL15) 및 제8 내지 제11 메쉬선들(MSL22, MSL23, MSL24, MSL25)에 의해 정의되는 서브 메쉬 패턴은 실질적으로 도 5c에 도시된 제2 서브 메쉬 패턴(20: 도 5b 참조)과 대응될 수 있으므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c)은 제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)의 가장자리를 따라 배치될 수 있다. 또한, 제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c)은 제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)이 포함된 서브 메쉬 패턴의 가장자리를 따라 배치될 수 있다.
제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c)은 제1 내지 제6 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14, MSL15, MSL16) 및 제7 내지 제12 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24, MSL25, MSL26)의 교차에 의해 정의될 수 있다. 용이한 설명을 위해 도 6b에 제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c)이 배치된 제3 서브 메쉬 패턴(30)을 별도로 도시하였다.
도 6a 및 도 6b에 도시된 것과 같이, 제3 서브 메쉬 패턴(30)은 제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c)이 정의되는 패턴일 수 있다. 제3 서브 메쉬 패턴(30)은 제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)이 정의된 서브 메쉬 패턴을 에워싸는 사각 프레임 형상을 가진다.
제3 서브 메쉬 패턴(30)의 외형인 사각 프레임 형상은 제1 내지 제6 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14, MSL15, MSL16) 중 상대적으로 외측에 배치된 제1 메쉬선(MSL11), 제2 메쉬선(MSL12), 제5 메쉬선(MSL15), 제6 메쉬선(MSL16), 및 제7 내지 제12 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24, MSL25, MSL26) 중 상대적으로 외측에 배치된 제7 메쉬선(MSL21), 제8 메쉬선(MSL22), 제11 메쉬선(MSL25), 및 제12 메쉬선(MSL26)의 교차에 의해 정의될 수 있다.
구체적으로, 제2 메쉬선(MSL12), 제5 메쉬선(MSL15), 제8 메쉬선(MSL22), 및 제11 메쉬선(MSL25)의 일부들은 프레임 형상의 내측 변을 정의하고, 제1 메쉬선(MSL11), 제6 메쉬선(MSL16), 제7 메쉬선(MSL21), 및 제12 메쉬선(MSL26)의 일부들은 프레임 형상의 외측 변을 정의한다. 제2 메쉬선(MSL12), 제5 메쉬선(MSL15), 제8 메쉬선(MSL22), 및 제11 메쉬선(MSL25)은 제1 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP21_c)이 정의된 서브 메쉬 패턴의 외측 변을 공통으로 정의하는 메쉬선들일 수 있다.
제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c)은 제1 내지 제6 메쉬선들(MSL11, MSL12, MSL13, MSL14, MSL15, MSL16)과 제7 내지 제12 메쉬선들(MSL21, MSL22, MSL23, MSL24, MSL25, MSL26)이 제3 서브 메쉬 패턴(30)의 외형인 사각 프레임 형상과 교차함으로써 정의될 수 있다. 제3 서브 메쉬 패턴(30)에는 16 개의 제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c)이 정의될 수 있다.
한편, 제3 서브 메쉬 패턴(30)은 복수의 커팅 라인들(CT2_a, CT2_b, CT2_c, CT2_d, CT2_e, CT2_f, CT2_g, CT2_h)을 포함할 수 있다. 커팅 라인들(CT2_a, CT2_b, CT2_c, CT2_d, CT2_e, CT2_f, CT2_g, CT2_h)은 각각 메쉬선의 일부를 단절시키는 가상의 라인들로, 제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c) 중 소정의 메쉬선을 사이에 두고 인접하는 두 개의 개구부들 각각의 중심을 잇는 선분의 형상을 가질 수 있다.
커팅 라인들(CT2_a, CT2_b, CT2_c, CT2_d, CT2_e, CT2_f, CT2_g, CT2_h)은 인접하는 두 개의 개구부들이 서로 연결되도록 메쉬선을 절단하여 오픈 시킨다. 이에 따라, 제2 주변 개구부들(OP30_a, OP30_b, OP30_c) 중 일부 개구부들은 터치 커팅부(TS-CP)를 통해 서로 오픈될 수 있다.
커팅 라인들(CT2_a, CT2_b, CT2_c, CT2_d, CT2_e, CT2_f, CT2_g, CT2_h)은 프레임 형상을 따라 배열될 수 있다. 또한, 커팅 라인들(CT2_a, CT2_b, CT2_c, CT2_d, CT2_e, CT2_f, CT2_g, CT2_h)은 제3 서브 메쉬 패턴(30) 내에서 인접하는 외측 변과 나란한 방향으로 연장되도록 배열될 수 있다.
이에 따라, 제1 메쉬선(MSL11)과 제6 메쉬선(MSL16)에 의해 정의되는 외측 변에 인접하는 제1 커팅 라인(CT2_a), 제4 커팅 라인(CT2_d), 제5 커팅 라인(CT2_e), 및 제8 커팅 라인(CT2_h)은 제4 방향(D4)을 따라 연장된 형상을 가질 수 있다. 제7 메쉬선(MSL21)과 제12 메쉬선(MSL26)에 의해 정의되는 외측 변에 인접하는 제2 커팅 라인(CT2_b), 제3 커팅 라인(CT2_c), 제6 커팅 라인(CT2_f), 및 제7 커팅 라인(CT2_g)은 제5 방향(D5)을 따라 연장된 형상을 가질 수 있다.
커팅 라인들(CT2_a, CT2_b, CT2_c, CT2_d, CT2_e, CT2_f, CT2_g, CT2_h)은 실질적으로 도 5c에 도시된 제2 서브 패턴(20: 도 5c)에서의 커팅 라인들 배열과 대응되는 배열을 가질 수 있다. 따라서, 커팅 라인들(CT2_a, CT2_b, CT2_c, CT2_d, CT2_e, CT2_f, CT2_g, CT2_h)의 배열에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴(UN-1)은 25 개의 개구부들을 포함하는 크기로 구비될 수 있다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치는 다양한 크기의 메쉬 패턴들을 포함할 수 있으며, 어느 하나의 크기를 가진 단위 메쉬 패턴으로 한정되지 않는다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치는 복수의 단위 메쉬 패턴들(UN-1)을 포함함으로써, 시인성 개선 효과를 가질 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.
도 7a 내지 도 7f는 본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴과 관련된 평면도이다. 도 7a 및 도 7b는 본 발명의 일 실시예에 따른 단위 메쉬 패턴(UN-2)을 도시한 평면도이고, 도 7c는 도 7b에 도시된 커팅 라인들 중 일부 커팅 라인을 도시한 평면도이고, 도 7d 내지 도 7f는 도 7a 및 도 7b에 도시된 단위 메쉬 패턴(UN2)을 복수 개 포함하는 센싱 패턴의 일부를 도시한 평면도이다. 이하, 도 7a 내지 도 7f를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치에 대해 설명한다.
도 7a에는 도 2a에 도시된 제1 센싱 패턴들(SP1: 도 2a 참조) 및 제2 센싱 패턴들(SP2: 도 2a 참조) 중 단위 메쉬 패턴(UN-2)에 대응되는 일부 영역을 도시하였다. 제1 센싱 패턴들(SP1) 및 제2 센싱 패턴들(SP2) 각각은 단위 메쉬 패턴(UN-2)이 연속적으로 배열된 형상을 가질 수 있다.
도 7a을 참조하면, 단위 메쉬 패턴(UN-2)은 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)에 의해 정의되는 사각 형상의 영역에 의해 절단된 부분으로 도시되었다. 도 7a에 도시된 것과 같이, 단위 메쉬 패턴(UN-2)은 제4 방향(D4) 및 제5 방향(D5)에 의해 정의되는 마름모 형상이 아닌 형상으로도 구비될 수 있으며, 어느 하나의 형상으로 제한되지 않는다.
단위 메쉬 패턴(UN-2)은 16 개의 서로 교차하는 메쉬선들에 의해 정의될 수 있다. 구체적으로, 단위 메쉬 패턴(UN-2)은 각각이 제4 방향(D4)으로 연장된 8 개의 제1 메쉬선들(MSL1) 및 각각이 제5 방향(D5)으로 연장된 8 개의 제2 메쉬선들(MSL2)의 교차에 의해 정의될 수 있다.
단위 메쉬 패턴(UN-2)은 복수의 개구부들을 포함할 수 있다. 개구부들은 중심 개구부(OP12), 및 중심 개구부(OP12)의 외측에 배치되고, 인접한 개구부들에 오픈된 주변 개구부들을 포함한다. 주변 개구부들은 중심 개구부(OP12)의 가장자리를 따라 배치되는 제1 주변 개구부들, 및 제1 주변 개구부들이 정의되는 서브 메쉬 패턴의 가장자리를 따라 배치되는 제2 주변 개구부들을 포함할 수 있다.
중심 개구부(OP12)는 단위 메쉬 패턴(UN-2)의 중심에 배치될 수 있다. 중심 개구부(OP12)는 실질적으로 도 5b에 도시된 중심 개구부(OP10: 도 5b 참조)와 대응될 수 있으며, 도 7a에는 별도로 표시하지 않았으나, 제1 서브 메쉬 패턴(10: 도 5b 참조)은 단위 메쉬 패턴(UN-2)에 포함된 것으로 볼 수 있다.
중심 개구부(OP12)를 에워싸는 제1 주변 개구부들은 실질적으로 도 5a 및 도 5c에 도시된 주변 개구부들(OP21_a, OP21_b, OP_21c)과 대응될 수 있다. 따라서, 도 7a에는 별도로 표시하지 않았으나, 제1 주변 개구부들 및 제1 주변 개구부들이 정의된 제2 서브 메쉬 패턴(20: 도 5b 참조)은 단위 메쉬 패턴(UN-2)에 포함된 것으로 볼 수 있다.
상술한 바와 같이, 제1 주변 개구부들이 정의된 제2 서브 메쉬 패턴(20)은 복수의 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)을 포함할 수 있다. 도 7b에는 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)을 진한 선분들로 도시하였다. 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)이 정의된 커팅부들을 통해 제1 주변 개구부들은 인접하는 두 개의 제1 주변 개구부들은 서로 오픈될 수 있다.
제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)은 실질적으로 도 5c에 도시된 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)과 동일한 형상들을 가진다. 다만 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)은 도 5c에 도시된 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)과 배열 위치에 있어서 차이가 있을 수 있다.
예를 들어, 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)의 배열은 도 5c에 도시된 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d) 각각을 중심 개구부(OP10: 도 5a 참조)를 중심으로 반 시계 방향으로 한 칸씩 이동한 배열과 대응될 수 있다. 이에 따라, 도 7b에서는 도 5c에 도시된 제1 서브 메쉬 패턴(20)에서 커팅되지 않았던 메쉬선들과 대응되는 메쉬선들이 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)에 의해 커팅되는 것과 동일하게 도시되었다.
다만, 이는 예시적으로 도시된 것이고, 도 7b에 도시된 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)은 도 5c에 도시된 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d)과 동일한 위치에 배열될 수도 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
제2 주변 개구부들은 제1 주변 개구부들이 정의된 제2 서브 메쉬 패턴(20)의 가장자리를 따라 배치되는 개구부들일 수 있다. 도 7a에서는 용이한 설명을 위해 제2 주변 개구부들 중 제1 내지 제5 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e)을 점선으로 표시하였다. 다만, 이는 예시적으로 도시한 것이고, 제1 내지 제5 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e)에 대한 설명은 제2 주변 개구부들에 대해 공통적으로 적용될 수 있다.
제1 내지 제5 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e)은 중심 개구부(OP12)를 중심으로 반 시계 방향을 따라 순차적으로 배열된다. 한편, 제1 내지 제5 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e) 중 적어도 어느 하나는 단위 메쉬 패턴(UN-2) 내에서 일부만 도시될 수 있다.
본 실시예에서, 제4 개구부(OP31_d)는 단위 메쉬 패턴(UN-2) 내에서 불완전한 형태의 개구로 정의될 수 있다. 제4 개구부(OP31_d)는 교차하는 두 개의 메쉬선들(MSL1, MSL2)과 단위 메쉬 패턴(UN-2)의 사각 경계로 에워싸여 정의될 수 있다. 이에 따라, 제4 개구부(OP31_d)는 삼각형 형상을 가질 수 있다. 도시되지 않았으나, 제4 개구부(OP31_d)는 다른 단위 메쉬 패턴(UN-2)과 연결되어 하나의 사각 형상의 개구로 정의될 수 있다.
제1 내지 제5 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e)을 포함하는 제2 주변 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e: 이하 제2 주변 개구부들)은 소정의 서브 메쉬 패턴에 정의될 수 있으며, 제1 주변 개구부들이 정의된 서브 메쉬 패턴의 가장자리를 에워싸는 사각 프레임 형상을 가질 수 있다.
제2 주변 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e)이 정의된 서브 메쉬 패턴의 형상은 실질적으로 도 6b에 도시된 제3 서브 메쉬 패턴(30: 도 6b)과 대응될 수 있다. 다만, 서브 메쉬 패턴에 정의되는 커팅 라인들 및 이에 따라 형성된 커팅부의 형상이나 배열이 상이할 수 있다.
구체적으로, 도 7a 및 도 7b를 참조하면, 제2 주변 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e)이 정의된 서브 메쉬 패턴에는 복수의 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d)이 정의된다. 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d)은 진한 선분들의 조합으로 도시되었다.
제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d)은 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)과 상이한 형상을 가진다. 이에 따라, 단위 메쉬 패턴(UN-2)의 제2 주변 개구부들이 배치된 서브 메쉬 패턴에는 제1 주변 개구부들이 배치된 서브 메쉬 패턴에서와 상이한 커팅부 배열을 가진다.
도 7c에는 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d) 중 하나의 제2 커팅 라인(CT21_a)을 예시적으로 도시하였다. 도 7c에 도시된 것과 같이, 제2 커팅 라인(CT21_a)은 제1 내지 제3 부분들(P1, P2, P3)을 포함할 수 있다.
제1 내지 제3 부분들(P1, P2, P3) 각각은 인접하는 개구부들의 중심들을 잇는 선분일 수 있다. 이에 따라, 제1 내지 제3 부분들(P1, P2, P3) 각각은 실질적으로 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d) 각각과 동일한 형상을 가질 수 있다. 또한, 하나의 제2 커팅 라인(CT21_a)은 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d) 중 세 개의 커팅 라인들을 연결한 것과 대응될 수 있다.
제1 내지 제3 부분들(P1, P2, P3) 중 적어도 두 개의 부분들은 서로 상이한 방향으로 연장될 수 있다. 본 실시예에서, 제1 부분(P1)은 제2 부분(P2) 및 제3 부분(P3) 각각에 대하여 상이한 방향으로 연장된다. 제2 부분(P2)은 제1 부분(P1)과 제3 부분(P3)을 연결한다. 이에 따라, 제2 커팅 라인(CT21_a)은 일 측이 절곡된 "ㄱ"자 형상을 가진 것으로 도시될 수 있다.
다시 도 7a 및 도 7b를 참조하면, 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d)은 중심 개구부(OP12)를 중심으로 시계 방향을 따라 배열된다. 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d) 중 인접한 두 개는 하나의 메쉬선을 사이에 두고 서로 이격되어 배열된다.
이에 따라, 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d) 각각에 중첩하는 네 개의 제2 주변 개구부들 각각은 네 개의 제2 주변 개구부들 중 인접하는 제2 주변 개구부에 오픈될 수 있다. 본 실시예에서, 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d) 각각은 네 개의 제2 주변 개구부들을 오픈시킨다.
제2 주변 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e) 중 하나의 제2 커팅 라인(CT21_c)을 통해 제2 내지 제5 개구부들(OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e)이 오픈 되어 서로 연결될 수 있다. 제1 내지 제5 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e) 중 제1 개구부(OP31_a)는 다른 제2 커팅 라인(CT21_d)을 통해 인접한 다른 제2 주변 개구부들에 오픈되어 연결된다.
제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d)은 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)에 비해 상대적으로 긴 길이를 가짐으로써, 커팅부의 연속적인 배열을 유도할 수 있다. 이에 따라, 메쉬선 단절이 연속적으로 이루어져 형성되는 센서의 경계와 센서 내부에 형성되는 커팅부 사이의 유사성이 커질 수 있다. 따라서, 센서 경계와 센서 내부 사이의 광학적 구별이 어렵게 되어 전자 장치의 시인성이 개선될 수 있다.
한편, 단위 메쉬 패턴(UN-2)은 제2 주변 개구부들(OP31_a, OP31_b, OP31_c, OP31_d, OP31_e) 외측에 배치되는 제3 주변 개구부들을 더 포함할 수 있다. 본 실시예에서, 제3 주변 개구부들은 단위 메쉬 패턴(UN-2)의 사각 형상의 각 꼭지점들마다 배치된 마름모 형상을 가진 하나의 개구부와 삼각형 형상을 가진 세 개의 개구부들로 구성될 수 있다. 다만, 이는 예시적으로 도시한 것이고, 제3 주변 개구부들은 단위 메쉬 패턴(UN-2)의 크기 및 형상에 따라 다양한 배열을 가질 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
제3 주변 개구부들에는 더미 커팅 라인들(CT_D)이 정의될 수 있다. 더미 커팅 라인들(CT_D) 각각은 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d) 각각과 동일한 형상을 가질 수 있다. 또한, 더미 커팅 라인들(CT_D) 각각은 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d) 각각과 평행하게 배열될 수 있고, 동일한 메쉬 선들을 커팅하도록 배치될 수 있다.
예를 들어, 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d) 중 어느 하나의 제1 커팅 라인(예를 들어, CT11_b)에 의해 커팅되는 메쉬선(MSL1)은 연장된 다른 영역에서 제1 커팅 라인(CT11_b)에 평행하게 배치된 더미 커팅 라인(CT_D)에 의해 커팅된다. 한편, 이는 예시적으로 도시한 것이고, 본 발명의 일 실시예에 따른 유닛 메쉬 패턴(UN-2)은 다양한 형상 및 배열 관계를 가진 더미 커팅 라인들을 포함할 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
도 7d 내지 도 7f를 참조하면, 단위 메쉬 패턴(UN-2)이 복수 개로 구비될 때의 센싱 패턴을 볼 수 있다. 도 7d에는 제1 방향(D1)에서 서로 연결되도록 배치되는 두 개의 제1 단위 메쉬 패턴(UN-21) 및 제2 단위 메쉬 패턴(UN-22)을 예시적으로 도시하였다.
제1 단위 메쉬 패턴(UN-21) 및 제2 단위 메쉬 패턴(UN-22) 각각은 도 7a 및 도 7b에 도시된 단위 메쉬 패턴(UN-2)과 대응될 수 있다. 제1 단위 메쉬 패턴(UN-21) 및 제2 단위 메쉬 패턴(UN-22) 각각에 도시된 제1 커팅 라인들(CT11)은 도 7b에 도시된 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)과 대응되고, 제1 단위 메쉬 패턴(UN-21) 및 제2 단위 메쉬 패턴(UN-22) 각각에 도시된 제2 커팅 라인들(CT21)은 도 7b에 도시된 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d)과 대응될 수 있다.
이때, 제2 커팅 라인들(CT21)은 인접하는 단위 메쉬 패턴들의 연결 지점이 될 수 있다. 도 7d에 도시된 것과 같이, 제1 단위 메쉬 패턴(UN-21)의 제1 방향(D1) 측에서 제2 단위 메쉬 패턴(UN-22)이 인접하도록 배치됨에 따라, 제1 단위 메쉬 패턴(UN-21)의 제2 커팅 라인들(CT21) 중 제1 방향(D1) 측에 배치된 제2 커팅 라인이 제2 단위 메쉬 패턴(UN-22)의 제2 커팅 라인과 연결될 수 있다.
이에 따라, 제1 단위 메쉬 패턴(UN-21) 및 제2 단위 메쉬 패턴(UN-22)의 경계에서 두 개의 제2 커팅 라인들(CT21)은 서로 연결되어 새로운 하나의 조합 커팅 라인(CT-S)을 형성할 수 있다. 조합 커팅 라인(CT-S)은 제5 방향(D5)을 따라 연장되고 세 개의 개구부들을 오픈시키는 제1 라인 및 제4 방향(D4)을 따라 연장되고, 다섯 개의 개구부들을 오픈시키는 제2 라인이 교차하는 형상을 가진다.
도 7e 및 도 7f를 참조하면, 도 7d에 도시된 배열과 대응되도록 두 개 이상의 단위 메쉬 패턴들(UN-2)이 배열된 센싱 패턴들을 볼 수 있다. 도 7e에 도시된 것과 같이, 제1 커팅 라인들(CT11)은 각각 하나의 중심 개구부의 주위를 에워싸는 형태로 배열된 것을 볼 수 있다.
한편, 상술한 바와 같이, 제2 커팅 라인들(CT21: 도 7d 참조)은 인접하는 단위 메쉬 패턴들(UN-2)이 연결되는 연결지점으로 기능한다. 이에 따라, 복수의 단위 메쉬 패턴들(UN-2)이 연결된 센싱 패턴 내에서는 조합 커팅 라인(CT-S)으로 나타날 수 있다. 결과적으로, 센싱 패턴은 제1 커팅 라인들(CT11)과 조합 커팅 라인들(CT-S)에 의해 형성된 복수의 커팅부들을 포함하게 된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치는 다양한 커팅 라인들이 정의된 단위 메쉬 패턴들을 포함함으로써, 다양한 형상으로 배열된 커팅부들을 포함하는 센싱 패턴을 제공할 수 있다. 이에 따라, 전자 장치에 있어서, 센싱 패턴이 시인되는 문제를 효과적으로 방지할 수 있다.
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치의 제조방법을 도시한 평면도들이다. 도 8a 내지 도 8c에는 실질적으로 동일한 영역을 도시하였다. 도 8a 및 도 8b에는 메쉬선들과 구별되도록 커팅 라인들을 진한 선분들로 표시하였다. 또한, 도 8c에서는 센싱 패턴들이 용이하게 구별되도록 일부에 음영 처리를 하였다.
이하, 도 8a 내지 도 8c를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치의 제조방법에 대해 설명한다. 한편, 도 1 내지 도 7f에서 설명한 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하고 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 8a 및 도 8b에는 초기 메쉬 기판(IMS)의 일부 영역들을 각각 도시하였다. 본 발명의 일 실시예에 따른 초기 메쉬 기판(IMS)은 서로 교차하는 복수의 메쉬선들을 포함하고, 복수의 커팅 라인들을 포함할 수 있다. 상술한 바와 같이, 커팅 라인들은 메쉬선들을 부분적으로 단절시킨다. 이에 따라, 초기 메쉬 기판(IMS)의 메쉬선들은 실질적으로 단일의 도전 패턴일 수 있으며, 서로 전기적으로 통전될 수 있다.
도 8a에 도시된 것과 같이, 초기 메쉬 기판(IMS)을 제공한다. 초기 메쉬 기판(IMS)은 복수의 단위 메쉬 패턴들(UN10)을 포함할 수 있다. 단위 메쉬 패턴들(UN10)은 반복적이고 연속적으로 배열될 수 있다. 도 8a에는 복수의 단위 메쉬 패턴들(UN10) 중 하나의 단위 메쉬 패턴(UN10)을 표시하였다.
단위 메쉬 패턴(UN10)은 제1 서브 메쉬 패턴(10), 제2 서브 메쉬 패턴(20), 및 제3 서브 메쉬 패턴(30)을 포함할 수 있다. 제2 서브 메쉬 패턴(20)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 가장자리를 에워싸는 사각 프레임 형상을 가질 수 있고, 제3 서브 메쉬 패턴(30)은 제2 서브 메쉬 패턴(20)의 가장자리를 에워싸는 사각 프레임 형상을 가질 수 있다.
본 실시예에서, 단위 메쉬 패턴(UN10)은 실질적으로 도 6a에 도시된 단위 메쉬 패턴(UN-1)과 대응될 수 있다. 이에 따라, 제1 서브 메쉬 패턴(10)은 실질적으로 도 5b에 도시된 제1 서브 메쉬 패턴(10)과 대응되고, 제2 서브 메쉬 패턴(20)은 도 5c에 도시된 제2 서브 메쉬 패턴(20)과 대응되며, 제3 서브 메쉬 패턴(30)은 도 6b에 도시된 제3 서브 메쉬 패턴(30)과 대응될 수 있다.
마찬가지로, 도 8a 및 도 8b에 도시된 복수의 커팅 라인들은 도 5c에 도시된 커팅 라인들(CT1_a, CT1_b, CT1_c, CT1_d: 도 5c 참조), 및 도 6b에 도시된 커팅 라인들(CT2_a, CT2_b, CT2_c, CT2_d, CT2_e, CT2_f, CT2_g, CT2_h)과 대응될 수 있다. 이에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다.
이후, 도 8b에 도시된 것과 같이, 초기 메쉬 기판(IMS)에 경계 라인(BL)을 형성한다. 경계 라인(BL)은 커팅 라인들과의 구별을 위해 음영 처리하여 도시하였다. 경계 라인(BL)은 커팅 라인들 중 일부들이 연결되어 정의될 수 있다. 도 8b에는 단위 메쉬 패턴(UN10) 중 제2 서브 메쉬 패턴(20)의 커팅 라인들 중 일부를 연결하여 형성된 경계 라인(BL)이 예시적으로 도시되었다.
경계 라인(BL)을 따라 경계 라인(BL)에 중첩하는 메쉬선들을 추가로 절단시킴으로써, 도 8c에 도시된 것과 같이, 복수의 제1 센싱 패턴들(SP1-1) 및 복수의 제2 센싱 패턴들(SP2-1)이 형성될 수 있다. 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1)은 음영처리를 통해 서로 구분되도록 도시되었다. 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1)은 경계 라인(BL)에 의해 서로 이격되어 전기적으로 절연된다.
본 실시예에서, 경계 라인(BL)이 제2 서브 패턴(20)의 커팅 라인들을 지나는 대각선 형상으로 정의됨에 따라, 도 8c에 도시된 것과 같은 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1)이 형성된다. 한편, 이는 예시적으로 도시한 것이고, 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1)의 형상은 다양하게 구비도리 수 있으며, 경계 라인(BL)도 일직선이 아닌 지그재그 형상 등으로도 정의될 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1) 각각의 내부에는 복수의 커팅부들이 정의될 수 있다. 커팅부들은 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1) 사이의 경계 영역과 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1) 각각의 내부 사이의 광 반사율 차이를 감소시키는 광학적 보상 패턴으로 기능할 수 있다.
이에 따라, 사용자는 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1) 사이와 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1) 각각의 내부 사이의 이질감을 느끼기 어렵게 되고 실질적으로 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1)이 시인되는 문제가 개선될 수 있다.
한편, 도시되지 않았으나, 경계 라인(BL)은 복수로 구비될 수 있으며, 이에 따라 제1 센싱 패턴들(SP1-1)과 제2 센싱 패턴들(SP2-1) 사이에 소정의 더미 패턴들이 형성될 수도 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 더미 패턴들이 형성되더라도 초기 메쉬 기판을 통해 형성되므로, 커팅 라인들에 의해 형성된 커팅부들은 더미 패턴에도 정의되어 있을 수 있다.
이에 따라, 더미 패턴 내부, 더미 패턴과 센싱 패턴 사이, 및 센싱 패턴 내부는 실질적으로 동일한 규칙성을 가진 커팅 라인들에 의해 형성된 커팅부들을 포함할 수 있으므로, 별도의 광학적 보상을 위한 설계 작업이 없더라도 시인성 불량이 개선된 전자 장치를 용이하게 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치는 복수의 커팅 라인들이 정의된 초기 메쉬 기판(IMS)을 제공하여 커팅 라인들 중 필요한 커팅 라인들을 연결하여 경계 라인(BL)을 형성할 수 있다. 다양한 배열을 가지면서도 메쉬 선들의 연장 방향과 대응되는 커팅 라인들이 제공되므로, 조합에 따라 사용자가 필요로 하는 다양한 형상의 센싱 패턴들을 용이하게 형성할 수 있다.
또한, 초기 메쉬 기판(IMS)의 커팅 라인들 중 경계 라인(BL)에 속하지 않은 커팅 라인들은 센싱 패턴 내부에 잔존한다. 센싱 패턴 내부에 잔존하는 커팅 라인들은 광학 보상을 통해 경계에서의 광 반사율과 센싱 패턴 내부에서의 광 반사율을 유사하게 제어할 수 있다. 이에 따라, 경계 라인(BL)과 센싱 패턴 내부 사이의 구별이 용이하지 않게 되어 전자 장치의 시인성이 개선될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치 제조방법은 초기 메쉬 기판(IMS)을 제공함으로써, 경계 라인을 형성하는 공정만으로도 광학적 보상 패턴이 형성된 센서를 형성할 수 있다. 이에 따라, 광학 보상 패턴 설계 공정이 생략될 수 있어, 공정이 단순화되고 공정 비용이 절감될 수 있다.
도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치의 제조방법을 도시한 평면도이다. 도 9a 내지 도 9c에는 실질적으로 동일한 영역을 도시하였다. 도 9a 및 도 9b에는 메쉬선들과 구별되도록 커팅 라인들을 진한 선분들로 표시하였다. 또한, 도 9c에서는 센싱 패턴들이 용이하게 구별되도록 일부에 음영 처리를 하였다.
도 9a 및 도 9b에는 초기 메쉬 기판(IMS-1)의 일부 영역들을 각각 도시하였고, 도 9c에는 전자 장치의 일부 영역을 도시하였다. 이하, 도 9a 내지 도 9c를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치에 대해 설명한다. 한편, 도 1 내지 도 8c에서 설명한 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하고 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 9a에 도시된 것과 같이, 초기 메쉬 기판(IMS-1)을 제공한다. 초기 메쉬 기판(IMS-1)은 복수의 단위 메쉬 패턴들(UN20)을 포함할 수 있다. 단위 메쉬 패턴들(UN20)은 연속적으로 배열될 수 다. 도 9a에는 복수의 단위 메쉬 패턴들(UN20) 중 하나의 단위 메쉬 패턴(UN20)을 표시하였다.
단위 메쉬 패턴(UN20)은 제1 서브 메쉬 패턴(10), 제2 서브 메쉬 패턴(20-1), 및 제3 서브 메쉬 패턴(30-1)을 포함할 수 있다. 본 실시예에서, 단위 메쉬 패턴(UN20)은 도 7a에 도시된 단위 메쉬 패턴(UN-2)과 부분적으로 대응될 수 있다.
단위 메쉬 패턴(UN20)은 도 7a에 도시된 단위 메쉬 패턴(UN-2) 중 더미 커팅 라인들(CT_D)이 정의된 영역들을 제외하고 서로 대응될 수 있다. 이에 따라, 단위 메쉬 패턴(UN20)의 제2 서브 메쉬 패턴(20-1)에 정의된 제1 커팅 라인들(CT11)은 실질적으로 도 7b에 도시된 제1 커팅 라인들(CT11_a, CT11_b, CT11_c, CT11_d)과 대응될 수 있고, 제3 서브 메쉬 패턴(30-1)에 정의된 제2 커팅 라인들(CT21)은 실질적으로 도 7b에 도시된 제2 커팅 라인들(CT21_a, CT21_b, CT21_c, CT21_d)과 대응될 수 있다.
한편, 본 실시예에서, 단위 메쉬 패턴들은 하나의 단위 메쉬 패턴(UN20)의 경계를 정의하는 메쉬선들을 연결 지점으로 삼아 배열될 수 있다. 이에 따라, 단위 메쉬 패턴(UN20)이 도 7a에 도시된 단위 메쉬 패턴(UN-2)과 동일한 제1 내지 제3 서브 메쉬 패턴들(10, 20-1, 30-1)을 포함하더라도, 도 7d에 도시된 센싱 패턴과 상이한 초기 메쉬 기판이 형성될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치는 커팅 라인들의 형상이나 배열, 및 단위 메쉬 패턴의 배열을 통해 다양한 형상의 메쉬 패턴들을 제공할 수 있으며 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
이후, 도 9b 및 도 9c에 도시된 것과 같이, 초기 메쉬 기판(IMS-1)에 경계 라인(BL-1)을 형성하여 복수의 제1 센싱 패턴들(SP1-2) 및 복수의 제2 센싱 패턴들(SP2-2)을 형성한다. 상술한 바와 같이, 경계 라인(BL-1)은 커팅 라인들(CT11, CT21) 중 일부들을 연결하여 형성될 수 있으며, 본 실시예에서 경계 라인(BL-1)은 제3 서브 메쉬 패턴(30-1)에 정의된 제2 커팅 라인들(CT21) 중 일부를 따라 대각선 형상으로 형성될 수 있다.
한편, 이에 한정되지 않고, 경계 라인(BL-1)은 제1 커팅 라인들(CT11) 중 일부를 따라 형성되거나, 제1 커팅 라인들(CT11)의 일부와 제2 커팅 라인들(CT21)의 일부를 연결하는 라인으로도 형성될 수도 있다. 또한, 본 실시예에서는 용이한 설명을 위해 경계 라인(BL-1)을 대각선 형상으로 도시하였으나, 이 외에 지그 재그 형상 등의 다른 형상으로도 형성될 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
제1 센싱 패턴들(SP1-2) 및 제2 센싱 패턴들(SP2-2) 내부에는 잔존하는 커팅 라인들에 의해 형성된 복수의 커팅부들이 정의되어 있다. 따라서, 본 발명에 따르면 시인성 불량이 개선된 전자 장치를 용이하게 제공할 수 있다.
도 10a 내지 도 10c는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치 제조방법을 도시한 평면도들이다. 도 10a 내지 도 10c에는 서로 동일한 영역들을 도시하였다. 도 10a 및 도 10b에는 메쉬선들과 구별되도록 커팅 라인들을 진한 선분들로 표시하였다. 또한, 도 10c에서는 센싱 패턴들이 용이하게 구별되도록 일부에 음영 처리를 하였다.
도 10a 및 도 10b에는 초기 메쉬 기판(IMS-2)의 일부 영역들을 각각 도시하였고, 도 10c에는 전자 장치의 일부 영역을 도시하였다. 이하, 도 10a 내지 도 10c를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치에 대해 설명한다. 한편, 도 1 내지 도 9c에서 설명한 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하고 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 10a에 도시된 것과 같이, 초기 메쉬 기판(IMS-2)을 제공한다. 초기 메쉬 기판(IMS-2)은 연속적으로 배열된 복수의 단위 메쉬 패턴들을 포함할 수 있다. 단위 메쉬 패턴들 각각은 제1 서브 메쉬 패턴(10), 복수의 제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d), 및 복수의 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d)을 포함할 수 있다. 제1 서브 메쉬 패턴(10)은 도 5b에 도시된 제1 서브 메쉬 패턴(10)과 실질적으로 동일하므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d)과 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 가장자리를 에워싸도록 배치될 수 있다. 제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d)은 각각 마름모 형상의 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 네 변들에 인접하여 배치된다.
제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d) 각각은 세 개의 주변 개구부들을 포함할 수 있다. 제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d) 각각에는 제4 커팅 라인(CT4)이 정의된다.
제4 커팅 라인(CT4)은 세 개의 주변 개구부들의 중심들을 연결하는 직선일 수 있다. 제4 커팅 라인(CT4)은 세 개의 주변 개구부들을 오픈시킨다. 제4 커팅 라인(CT4)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 네 변들 중 인접하는 변에 직교하는 방향으로 연장되도록 배치될 수 있다.
제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d) 각각은 마름모 형상의 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 네 꼭지점들에 인접하여 배치된다. 각각이 마름모 형상을 가진 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)과 하나의 꼭지점을 통해 연결될 수 있다. 이에 따라, 제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d)과 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)을 에워싸며 교번하여 배치될 수 있다.
제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d)이 포함하는 주변 개구부들 수는 제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d) 각각에 포함된 주변 개구부들 수에 따라 달라질 수 있다. 제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d) 각각이 N개의 주변 개구부들을 포함하는 경우(N은 자연수), 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d) 각각은 N*N개의 주변 개구부들을 포함할 수 있으며, N*N의 매트릭스 형상으로 배열될 수 있다.
본 실시예에서, 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d) 각각은 3*3 매트릭스 형상으로 배열된 아홉 개의 주변 개구부들을 포함할 수 있다. 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d) 각각에는 제5 커팅 라인(CT5)이 정의된다.
제5 커팅 라인(CT5)은 주변 개구부들의 중심들을 연결하는 폐루프(closed-loop) 형상을 가질 수 있다. 본 실시예에서, 제5 커팅 라인(CT5)은 네 개의 주변 개구부들을 오픈시킨다. 제5 커팅 라인(CT5)에 중첩하는 주변 개구부들 각각은 인접하는 두 개의 개구부들 모두에 대해 오픈될 수 있다.
한편, 제5 커팅 라인(CT5)은 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d) 각각 내에서 다양한 위치에 배치될 수 있다. 본 실시예에서, 제5 커팅 라인(CT5)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)에 근접하도록 배치되었으나, 제1 서브 메쉬 패턴(10)으로부터 멀어지도록 배치될 수도 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
이후, 도 10b 및 도 10c에 도시된 것과 같이, 초기 메쉬 기판(IMS-2)에 경계 라인(BL-2)을 형성하여 복수의 제1 센싱 패턴들(SP1-3) 및 복수의 제2 센싱 패턴들(SP2-3)을 형성한다. 상술한 바와 같이, 경계 라인(BL-2)은 커팅 라인들(CT4, CT5) 중 일부들을 연결하여 형성될 수 있으며, 본 실시예에서 경계 라인(BL-2)은 제4 커팅 라인들(CT4) 중 일부를 따라 대각선 형상으로 형성된 것으로 도시되었다.
다만, 이에 한정되지 않고, 경계 라인(BL-2)은 제5 커팅 라인들(CT5) 중 일부를 따라 형성되거나, 제4 커팅 라인들(CT4)의 일부와 제5 커팅 라인들(CT5)의 일부를 연결하는 라인으로도 형성될 수도 있다. 또한, 본 실시예에서는 용이한 설명을 위해 경계 라인(BL-2)을 대각선 형상으로 도시하였으나, 이 외에 지그 재그 형상 등의 다른 형상으로도 형성될 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
제1 센싱 패턴들(SP1-3) 및 제2 센싱 패턴들(SP2-3) 내부에는 잔존하는 커팅 라인들에 의해 형성된 복수의 커팅부들이 정의되어 있다. 따라서, 본 발명에 따르면 시인성 불량이 개선된 전자 장치를 용이하게 제공할 수 있다.
도 11a 내지 도 11c는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치 제조방법을 도시한 평면도들이다. 도 11a 내지 도 11c에는 서로 동일한 영역들을 도시하였다. 도 11a 및 도 11b에는 메쉬선들과 구별되도록 커팅 라인들을 진한 선분들로 표시하였다. 또한, 도 11c에서는 센싱 패턴들이 용이하게 구별되도록 일부에 음영 처리를 하였다.
도 11a 및 도 11b에는 초기 메쉬 기판(IMS-3)의 일부 영역들을 각각 도시하였고, 도 11c에는 전자 장치의 일부 영역을 도시하였다. 이하, 도 11a 내지 도 11c를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치에 대해 설명한다. 한편, 도 1 내지 도 10c에서 설명한 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하고 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 11a에 도시된 것과 같이, 초기 메쉬 기판(IMS-3)을 제공한다. 초기 메쉬 기판(IMS-3)은 연속적으로 배열된 복수의 단위 메쉬 패턴들을 포함할 수 있다. 단위 메쉬 패턴들 각각은 제1 서브 메쉬 패턴(10), 복수의 제4 서브 메쉬 패턴들(41_a, 41_b, 41_c, 41_d), 및 복수의 제5 서브 메쉬 패턴들(51_a, 51_b, 51_c, 51_d)을 포함할 수 있다. 제1 서브 메쉬 패턴(10)은 도 5b에 도시된 제1 서브 메쉬 패턴(10)과 실질적으로 동일하므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
제4 서브 메쉬 패턴들(41_a, 41_b, 41_c, 41_d)과 제5 서브 메쉬 패턴들(51_a, 51_b, 51_c, 51_d)은 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 가장자리를 에워싸도록 배치될 수 있다. 제4 서브 메쉬 패턴들(41_a, 41_b, 41_c, 41_d)은 각각 마름모 형상의 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 네 변들에 인접하여 배치된다.
제4 서브 메쉬 패턴들(41_a, 41_b, 41_c, 41_d)은 실질적으로 도 10a에 도시된 제4 서브 메쉬 패턴들(40_a, 40_b, 40_c, 40_d: 도 10a 참조)에 각각 대응될 수 있다. 제4 서브 메쉬 패턴들(41_a, 41_b, 41_c, 41_d)에 정의된 제4 커팅 라인들(CT41)은 실질적으로, 도 10a에 도시된 제4 커팅 라인들(CT4: 도 10a 참조)에 대응될 수 있다. 따라서, 이에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다.
제5 서브 메쉬 패턴들(51_a, 51_b, 51_c, 51_d) 각각은 마름모 형상의 제1 서브 메쉬 패턴(10)의 네 꼭지점들에 인접하여 배치된다. 제5 서브 메쉬 패턴들(51_a, 51_b, 51_c, 51_d)의 형상 및 배열은 실질적으로 도 10a에 도시된 제5 서브 메쉬 패턴들(50_a, 50_b, 50_c, 50_d: 도 10a 참조)와 대응될 수 있다. 따라서, 이에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다.
제5 서브 메쉬 패턴들(51_a, 51_b, 51_c, 51_d)에는 제6 커팅 라인(CT51A) 및 제7 커팅 라인(CT51B)이 배치될 수 있다. 제6 커팅 라인(CT51A) 및 제7 커팅 라인(CT51B)은 각각 동일한 길이를 가진 직선 형상일 수 있고, 서로 교차할 수 있다. 이에 따라, 제6 커팅 라인(CT51A) 및 제7 커팅 라인(CT51B)은 "X"자 형상의 패턴을 형성할 수 있다.
제6 커팅 라인(CT51A) 및 제7 커팅 라인(CT51B) 각각은 제4 커팅 라인(CT41)과 동일한 길이 및 형상을 가진다. 이에 따라, 제6 커팅 라인(CT51A) 및 제7 커팅 라인(CT51B) 각각은 세 개의 주변 개구부들을 오픈시킨다. 본 실시예에서, 제6 커팅 라인(CT51A) 및 제7 커팅 라인(CT51B)은 5 개의 주변 개구부들을 오픈시키는 형상으로 배치되며, 5 개의 주변 개구부들 중 하나의 주변 개구부는 인접하는 네 개의 주변 개구부들 모두에 대해 오픈될 수 있다.
한편, 이는 예시적으로 도시한 것이고, 제6 커팅 라인(CT51A) 및 제7 커팅 라인(CT51B)의 형상 및 배열에 따라 제5 서브 메쉬 패턴들(51_a, 51_b, 51_c, 51_d)의 개구부들은 다양한 형태로 인접한 개구부들에 오픈될 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
이후, 도 11b 및 도 11c에 도시된 것과 같이, 초기 메쉬 기판(IMS-3)에 경계 라인(BL-3)을 형성하여 복수의 제1 센싱 패턴들(SP1-4) 및 복수의 제2 센싱 패턴들(SP2-4)을 형성한다. 상술한 바와 같이, 경계 라인(BL-3)은 커팅 라인들(CT41, CT51A, CT51B) 중 일부들을 연결하여 형성될 수 있으며, 본 실시예에서 경계 라인(BL-3)은 제4 커팅 라인들(CT41) 중 일부를 따라 대각선 형상으로 형성된 것으로 도시되었다.
다만, 이에 한정되지 않고, 경계 라인(BL-3)은 제6 커팅 라인들(CT51A) 또는 제7 커팅 라인들(CT51B) 중 일부를 따라 형성되거나, 제4 커팅 라인들(CT41)의 일부와 제6 커팅 라인들(CT51A) 또는 제7 커팅 라인들(CT51B)의 일부를 연결하는 라인으로도 형성될 수도 있다. 또한, 본 실시예에서는 용이한 설명을 위해 경계 라인(BL-3)을 대각선 형상으로 도시하였으나, 이 외에 지그 재그 형상 등의 다른 형상으로도 형성될 수 있으며, 어느 하나의 실시예로 한정되지 않는다.
제1 센싱 패턴들(SP1-4) 및 제2 센싱 패턴들(SP2-4) 내부에는 잔존하는 커팅 라인들에 의해 형성된 복수의 커팅부들이 정의되어 있다. 따라서, 본 발명에 따르면 시인성 불량이 개선된 전자 장치를 용이하게 제공할 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
EA: 전자 장치 DM: 표시 부재
SM: 센싱 부재 SP1, SP2: 제1 및 제2 센싱 패턴들
UN: 단위 메쉬 패턴 10: 제1 서브 메쉬 패턴

Claims (20)

  1. 복수의 표시 소자들을 포함하고, 평면상에서 상기 표시 소자들이 각각 배치된 복수의 발광 영역들 및 상기 발광 영역들에 인접한 주변 영역으로 구분되는 표시 부재; 및
    상기 표시 부재 상에 배치된 제1 센싱 패턴, 및 상기 표시 부재 상에 배치되고 상기 제1 센싱 패턴과 정전 용량적으로 결합된 제2 센싱 패턴을 포함하는 센싱 부재를 포함하고,
    상기 제1 센싱 패턴 및 상기 제2 센싱 패턴 각각은 상기 주변 영역에 배치되어 상기 발광 영역들 각각에 중첩하는 복수의 개구부들을 정의하는 복수의 메쉬선들을 포함하고,
    상기 제1 센싱 패턴 및 상기 제2 센싱 패턴 각각은 중심 개구부, 및 상기 중심 개구부를 에워싸는 복수의 주변 개구부들을 포함하는 단위 메쉬 패턴을 포함하고,
    상기 중심 개구부 및 상기 주변 개구부들은 상기 개구부들에 포함되고,
    상기 단위 메쉬 패턴에는 각각이 상기 복수의 주변 개구부들 중 인접하는 적어도 두 개의 개구부들을 서로 오픈시키는 복수의 커팅 라인들이 정의되고,
    상기 커팅 라인들은 상기 중심 개구부를 에워싸는 방향으로 배열되고,
    상기 제1 및 제2 센싱 패턴 각각의 내부에서, 상기 커팅 라인들에 의해 오픈된 상기 복수의 메쉬선들은 서로 전기적으로 연결되는 전자 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 커팅 라인들 각각은 상기 주변 개구부들 중 일부의 주변 개구부들의 중심들을 연결하여 정의되고, 상기 메쉬선들 중 상기 커팅 라인들에 중첩하는 부분들이 단절되어 상기 일부의 주변 개구부들을 오픈시키는 전자 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 단위 메쉬 패턴 내에서 상기 주변 개구부들은 단일의 중심 개구부를 에워싸는 형상으로 배열되고,
    상기 단위 메쉬 패턴은 상기 주변 개구부들이 연결된 형상과 대응되는 형상을 갖는 전자 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 단위 메쉬 패턴은,
    상기 중심 개구부가 정의되고 사각형 형상을 가진 중심 메쉬 패턴; 및
    상기 주변 개구부들이 정의되고, 상기 중심 메쉬 패턴을 에워싸는 프레임 형상을 가진 서브 메쉬 패턴을 포함하고,
    상기 커팅 라인들은 상기 서브 메쉬 패턴에 배치되어 상기 중심 메쉬 패턴을 중심으로 시계 방향 또는 반 시계 방향으로 이격되어 배열된 전자 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 서브 메쉬 패턴은,
    상기 중심 메쉬 패턴의 네 변들에 각각 인접하고, 제1 커팅 라인들이 정의된 제1 서브 메쉬 패턴들; 및
    상기 중심 메쉬 패턴의 네 꼭지점들에 각각 인접하고, 제2 커팅 라인들이 정의된 제2 서브 메쉬 패턴들을 포함하고,
    상기 제1 서브 메쉬 패턴들 각각에는 i개(단, i는 자연수)의 주변 개구부들이 정의되고
    상기 제2 서브 메쉬 패턴들 각각에는 i*i개의 주변 개구부들이 정의된 전자 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 제1 커팅 라인들 각각은 상기 중심 메쉬 패턴의 상기 네 변들 중 인접하는 변과 교차하는 방향으로 연장된 라인 형상을 갖는 전자 장치.
  7. 제5 항에 있어서,
    상기 제2 커팅 라인들 각각은 폐루프 형상을 갖는 전자 장치.
  8. 제5 항에 있어서,
    상기 제2 커팅 라인들 각각은 X자 형상을 갖는 전자 장치.
  9. 제4 항에 있어서,
    상기 서브 메쉬 패턴은,
    상기 중심 메쉬 패턴의 가장자리를 에워싸는 사각 프레임 형상을 갖고, 제1 커팅 라인들이 정의된 제1 서브 메쉬 패턴; 및
    상기 제1 서브 메쉬 패턴을 에워싸는 사각 프레임 형상을 갖고, 제2 커팅 라인들이 정의된 제2 서브 메쉬 패턴을 포함하고,
    상기 제1 커팅 라인들 각각은 직선 형상을 갖고,
    상기 제1 커팅 라인들 각각은 상기 중심 메쉬 패턴의 네 변들 중 인접하는 변과 나란한 방향으로 연장되도록 배열된 전자 장치.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 제2 커팅 라인들은 상기 제1 커팅 라인들과 동일한 형상을 갖고,
    상기 제2 커팅 라인들 각각은 상기 제1 서브 메쉬 패턴의 네 변들 중 인접하는 변과 나란한 방향으로 연장되도록 배열된 전자 장치.
  11. 제9 항에 있어서,
    상기 제2 커팅 라인들 각각은 절곡된 라인 형상을 갖고, 각각이 상기 제1 서브 메쉬 패턴의 네 꼭지점들에 인접하여 상기 네 꼭지점들을 감싸도록 배열된 전자 장치.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 단위 메쉬 패턴은 복수로 구비되고,
    상기 복수의 단위 메쉬 패턴들은 상기 단위 메쉬 패턴들의 최 외곽에 배치되는 메쉬 선들이 서로 중첩하도록 배열되는 전자 장치.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 단위 메쉬 패턴은 복수로 구비되고,
    상기 복수의 단위 메쉬 패턴들은 하나의 단위 메쉬 패턴의 상기 커팅 라인들 중 적어도 어느 하나가 상기 하나의 단위 메쉬 패턴에 인접한 다른 단위 메쉬 패턴의 상기 커팅 라인들 중 대응되는 것에 연결되도록 배열되는 전자 장치.
  14. 제1 방향을 따라 연장되고 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향을 따라 서로 평행하게 배열된 복수의 제1 메쉬선들 및 각각이 상기 제2 방향을 따라 연장되고 상기 제1 방향을 따라 서로 평행하게 배열된 복수의 제2 메쉬선들을 포함하고, 각각에 상기 제1 및 제2 메쉬선들의 일부들을 절단하는 복수의 커팅 라인들이 정의된 복수의 단위 메쉬 패턴들을 포함하는 초기 메쉬 기판을 제공하는 단계;
    상기 커팅 라인들 중 적어도 일부를 연결하는 경계 라인을 따라 커팅하여 복수의 센싱 패턴들을 형성하는 단계;
    상기 센싱 패턴들 상에 절연막을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 커팅 라인들은 상기 제1 방향 또는 상기 제2 방향을 따라 연장되고 인접하는 두 개구부들의 중심들을 연결하는 선분을 포함하고,
    각 센싱 패턴 내부에서, 상기 커팅 라인들에 의해 절단된 상기 복수의 제1 및 제2 메쉬선들은 서로 전기적으로 연결되는 전자 장치 제조방법.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 단위 메쉬 패턴은,
    중심 개구부가 정의된 중심 메쉬 패턴; 및
    상기 중심 개구부를 에워싸는 주변 개구부들이 정의된 서브 메쉬 패턴을 포함하고,
    상기 커팅 라인들은 상기 서브 메쉬 패턴에 정의되어 상기 주변 개구부들 중 적어도 두 개의 개구부들을 서로 오픈시키는 전자 장치 제조방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 커팅 라인들은 상기 중심 메쉬 패턴을 중심으로 시계 방향 또는 반 시계 방향으로 서로 이격되어 배열된 전자 장치 제조방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 커팅 라인들의 적어도 하나는 상기 제1 방향으로 연장된 제1 패턴 및 상기 제2 방향으로 연장되고 상기 제1 패턴과 교차하는 제2 패턴을 포함하는 교차 형상을 갖고,
    상기 제1 패턴과 상기 제2 패턴의 교차점은 상기 주변 개구부들 중 일 개구부의 중심인 전자 장치 제조방법.
  18. 제16 항에 있어서,
    상기 커팅 라인들의 적어도 하나는 폐루프 형상을 갖는 전자 장치 제조방법.
  19. 제14 항에 있어서,
    상기 경계 라인을 따라 상기 제1 및 제2 메쉬선들을 커팅하는 단계는 상기 적어도 일부의 커팅 라인들 사이에 배치된 메쉬선들을 커팅하는 단계를 포함하고,
    상기 적어도 일부의 커팅 라인들 각각은 상기 경계 라인에 전면적으로 중첩하는 전자 장치 제조방법.
  20. 제14 항에 있어서,
    상기 절연막 상에 상기 복수의 센싱 패턴들 중 일부를 연결하는 브릿지 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 절연막을 형성하는 단계는, 상기 센싱 패턴들을 커버하는 절연층을 형성하는 단계 및 상기 절연층에 컨택홀을 형성하는 단계를 포함하는 전자 장치 제조방법.
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