KR102343282B1 - Grinding apparatus - Google Patents

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KR102343282B1
KR102343282B1 KR1020200005529A KR20200005529A KR102343282B1 KR 102343282 B1 KR102343282 B1 KR 102343282B1 KR 1020200005529 A KR1020200005529 A KR 1020200005529A KR 20200005529 A KR20200005529 A KR 20200005529A KR 102343282 B1 KR102343282 B1 KR 102343282B1
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Abstract

본 발명은 연마 장치에 관한 것이다. 본 발명은 강판을 연마하는 연마 유닛, 연마 유닛을 탄성 가압하는 가압 유닛, 가압 유닛을 수직 방향으로 이동시키는 수직 이동 유닛, 메인 프레임을 포함한다. 가압 유닛은 탄성에 의해 연마 유닛을 가압하면서 연마를 수행한다.
본 발명에 따르면 연마 유닛을 탄성에 의해 가압함으로써 능동적으로 연마를 수행할 수 있다.The present invention relates to a polishing apparatus. The present invention includes a polishing unit for polishing a steel plate, a pressing unit for elastically pressing the polishing unit, a vertical moving unit for moving the pressing unit in a vertical direction, and a main frame. The pressing unit performs polishing while pressing the polishing unit by elasticity.
According to the present invention, it is possible to actively perform polishing by pressing the polishing unit by elasticity.

Description

연마 장치 {Grinding apparatus}Grinding apparatus

본 발명은 연마 장치에 관한 것으로, 연마 헤드와, 일단이 연마 헤드에 연결되어 연마 헤드를 지지하고 회전시키는 연마 본체를 구비하는 연마 유닛, 연마 본체에 일단이 연결되어 연마 유닛을 탄성 가압하는 가압 유닛, 가압 유닛의 타단에 연결되며 가압 유닛을 수직 방향으로 이동시키는 수직 이동 유닛, 수직 이동 유닛의 타단에 연결되어 수직 이동 유닛을 지지 및 수평 이동시키는 메인 프레임을 포함하는 연마 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a polishing apparatus, the polishing unit comprising a polishing head, one end connected to the polishing head and a polishing body for supporting and rotating the polishing head, and a pressing unit having one end connected to the polishing body to elastically press the polishing unit , It relates to a polishing apparatus including a vertical moving unit connected to the other end of the pressing unit to move the pressing unit in a vertical direction, and a main frame connected to the other end of the vertical moving unit to support and horizontally move the vertical moving unit.

연마 작업은 유리, 철재, 석재 등 다양한 재질의 제품을 가공할 때 마감이 미흡하거나 평탄하지 못한 부분을 다듬는 작업이다. 숫돌과 연마제를 이용하여 표면이 남아 있는 흠이나 돌기 등을 제거한다. 연마 작업은 생산된 제품의 완성도와 직결되며, 다양한 재질의 그라인더와 장치를 통해 연마 작업을 수행하고 있다. Grinding is the work of refining the parts that are not finished or flat when processing products of various materials such as glass, iron, and stone. Remove any blemishes or bumps on the surface using a grindstone and abrasive. Grinding work is directly related to the completeness of the produced product, and grinding work is performed through grinders and devices of various materials.

하지만, 현재 연마 작업은 작업자가 육안으로 연마 대상물을 확인하며 연마를 수행하고 있어, 대부분 수작업으로 이루어지고 있는 실정이다. 연마 작업은 연마 과정 중에 장시간 진동에 노출되기 때문에, 특히 초보 작업자의 경우 장시간 연마 작업 진행시 손떨림 등의 증상이 나타나고 안전 문제가 발생할 수 있다. 따라서 수작업이 아닌 자동 장치에 의해 자동으로 연마가 수행될 수 있는 장치가 필요하다.However, in the current polishing operation, the operator is performing polishing while visually checking the object to be polished, and most of the polishing is done manually. Since the polishing operation is exposed to vibration for a long time during the polishing process, especially in the case of a novice worker, symptoms such as hand shake and safety problems may occur during the polishing operation for a long time. Therefore, there is a need for a device capable of automatically performing polishing by an automatic device rather than a manual operation.

또한, 배관이나 좁은 면적의 기판을 연마하는 장치에 대해서는 다양한 연마 장치가 개발되어 있는 반면, 강판과 같이 대면적을 연마하는 장치는 개발이 미흡한 실정이다. 따라서, 강판과 같은 대면적에서 연마를 수행할 수 있는 장치의 개발이 필요하다.In addition, various polishing apparatuses have been developed with respect to an apparatus for polishing a pipe or a substrate having a small area, whereas an apparatus for polishing a large area such as a steel sheet is insufficiently developed. Therefore, it is necessary to develop an apparatus capable of performing grinding on a large area such as a steel plate.

대한민국 등록특허 제10-1616643호(2016.04.22)Republic of Korea Patent Registration No. 10-1616643 (2016.04.22)

본 발명은 연마 헤드를 탄성에 의해 가압하여 연마 대상물을 능동적으로 연마할 수 있는 연마 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a polishing apparatus capable of actively polishing an object to be polished by pressing the polishing head by elasticity.

본 발명은 작업자가 원격으로 제어할 수 있으며, 대면적에서의 연마를 효율적으로 수행하는 연마 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a polishing apparatus that can be remotely controlled by an operator and that efficiently performs polishing on a large area.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치는 연마 유닛, 가압 유닛, 수직 이동 유닛, 메인 프레임을 포함한다. 연마 유닛은 헤드와, 일단이 연마 헤드에 연결되어 연마 헤드를 지지하고 연마 헤드를 회전시키는 연마 본체를 구비한다. 가압 유닛은 연마 유닛에 일단이 연결되어 연마 유닛을 가압한다. 수직 이동 유닛은 가압 유닛의 타단에 연결되며 가압 유닛을 수직 방향으로 이동시킨다. 메인 프레임은 수직 이동 유닛의 타단에 연결되어 수직 이동 유닛을 지지 및 수평 이동시킨다. A polishing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a polishing unit, a pressing unit, a vertical movement unit, and a main frame. The polishing unit includes a head and a polishing body having one end connected to the polishing head to support the polishing head and rotate the polishing head. One end of the pressing unit is connected to the polishing unit to press the polishing unit. The vertical movement unit is connected to the other end of the pressing unit and moves the pressing unit in a vertical direction. The main frame is connected to the other end of the vertical movement unit to support and horizontally move the vertical movement unit.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 가압 유닛은 제1 가압판, 제2 가압판, 제3 가압판, 적어도 하나의 스프링을 구비할 수 있다. 제2 가압판은 제1 가압판과 평행하게 소정 거리 이격되어 배치된다. 제3 가압판은 제1 및 제2 가압판의 측면과 연결되어 제1 및 제2 가압판을 지지하되, 제1 가압판을 수직 방향으로 이동가능하게 지지한다. 적어도 하나의 스프링이 제1 및 제2 가압판 사이에 개재된다.In the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the pressure unit may include a first pressure plate, a second pressure plate, a third pressure plate, and at least one spring. The second pressure plate is disposed parallel to the first pressure plate and spaced apart from each other by a predetermined distance. The third pressure plate is connected to the side surfaces of the first and second pressure plates to support the first and second pressure plates, but to movably support the first pressure plate in a vertical direction. At least one spring is interposed between the first and second pressure plates.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 스프링은 압축 스프링 또는 가스 스프링일 수 있다.In the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the spring may be a compression spring or a gas spring.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 가압 유닛은 스프링의 내측에 스프링의 최대 압축 길이보다 같거나 짧게 형성되고, 제1 가압판에 일단이 고정되는 지지축을 구비할 수 있다.In the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the pressing unit is formed on the inside of the spring equal to or shorter than the maximum compression length of the spring, and may include a support shaft having one end fixed to the first pressing plate.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치는 스프링의 하단에 로드셀이 구비될 수 있다.The polishing apparatus according to an embodiment of the present invention may be provided with a load cell at the lower end of the spring.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 연마 헤드는 원반 형태, 반구 형태, 원통 형태 중 하나일 수 있다.In the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the polishing head may have one of a disk shape, a hemispherical shape, and a cylindrical shape.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 연마 유닛은 스파크 방지 덮개를 더 포함할 수 있다.In the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the polishing unit may further include an anti-spark cover.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치는 연마 유닛과 이격되어 연마 유닛의 외측을 둘러싸는 집진 후드를 더 포함할 수 있다.The polishing apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a dust collecting hood that is spaced apart from the polishing unit and surrounds the outside of the polishing unit.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 메인 프레임의 상부에는 적어도 하나의 로드와, 로드의 양단과 끼움 결합하여 로드를 선형으로 이동시키는 한 쌍의 레일이 구비될 수 있다. 로드에는 수직 이동 유닛이 선형 이동 가능하도록 장착될 수 있다.In the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, at least one rod and a pair of rails may be provided on the upper portion of the main frame to linearly move the rod by fitting with both ends of the rod. The rod may be mounted such that the vertical movement unit is linearly movable.

본 발명의 실시 형태에 따르면, 스프링의 탄성에 의해 연마 대상물을 가압하므로, 연마 대상물의 표면을 보다 매끄럽게 마감할 수 있다. According to the embodiment of the present invention, since the object to be polished is pressed by the elasticity of the spring, the surface of the object to be polished can be finished more smoothly.

본 발명의 실시 형태에 따르면, 대면적의 강판에 대하여 원격으로 연마 대상을 탐지하고 연마함으로써, 연마 공정의 자동화를 구현할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, by remotely detecting and polishing a polishing object for a large-area steel sheet, automation of the polishing process can be realized.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치의 메인 프레임에서 XY 스테이지를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 가압 유닛의 동작을 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 가압 유닛의 동작을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에 의해 연마가 수행되는 것을 나타내는 도면이다.1 is a view schematically showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing the XY stage in the main frame of the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing the operation of the pressing unit in the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing the operation of the pressing unit in the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a view showing that polishing is performed by a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예를 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Since the present invention can apply various transformations and can have various embodiments, specific embodiments are illustrated and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 발명에서, '포함하다' 또는 '가지다' 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. The terms used in the present invention are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present invention, terms such as 'comprising' or 'having' are intended to designate that the features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification exist, and one or more other features It should be understood that this does not preclude the existence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 이 때, 첨부된 도면에서 동일한 구성 요소는 가능한 동일한 부호로 나타내고 있음에 유의한다. 또한, 본 발명의 요지를 흐리게 할 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략할 것이다. 마찬가지 이유로 첨부 도면에 있어서 일부 구성요소는 과장되거나 생략되거나 개략적으로 도시되었다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In this case, it should be noted that in the accompanying drawings, the same components are denoted by the same reference numerals as much as possible. In addition, detailed descriptions of well-known functions and configurations that may obscure the gist of the present invention will be omitted. For the same reason, some components are exaggerated, omitted, or schematically illustrated in the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치의 메인 프레임에서 XY 스테이지를 나타내는 도면이다.1 is a diagram schematically illustrating a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating an XY stage in a main frame of the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치(1000)는 연마 유닛(1100), 가압 유닛(1200), 수직 이동 유닛(1300), 메인 프레임(1400)을 포함한다. 연마 유닛(1100)은 연마 헤드(1110)와 연마 본체(1120)를 구비한다. 연마 헤드(1110)는 회전에 의해 강판이 매끄럽지 못한 곳, 흠집이 난 곳을 연마한다. 연마 헤드(1110)는 측면 연마가 가능하도록 소정의 두께로 형성된다. 연마 헤드(1110)는 연마 대상에 따라 다양한 재질로 형성될 수 있다. 본 실시예에서 연마 헤드(1110)는 숫돌로 형성될 수 있다.1 , the polishing apparatus 1000 according to an embodiment of the present invention includes a polishing unit 1100 , a pressing unit 1200 , a vertical movement unit 1300 , and a main frame 1400 . The polishing unit 1100 includes a polishing head 1110 and a polishing body 1120 . The polishing head 1110 grinds a place where the steel plate is not smooth or scratched by rotation. The polishing head 1110 is formed to a predetermined thickness to enable side polishing. The polishing head 1110 may be formed of various materials according to a polishing object. In this embodiment, the polishing head 1110 may be formed of a grindstone.

연마 헤드(1110)는 평면을 연마하기 좋도록 원반 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지는 않으며, 반구형, 원통형 등 다양한 형태로 형성될 수 있다. 연마 헤드가 원통형으로 형성되는 경우, 원통형의 경우 원판인 경우와 구동방향이 다르기 때문에, 회전 방향 전환을 위해 모터와의 사이에 연결 수단을 장착해서 사용할 수 있다.The polishing head 1110 may be formed in a disk shape to facilitate flat surface polishing, but is not limited thereto, and may be formed in various shapes such as a hemispherical shape, a cylindrical shape, and the like. When the polishing head is formed in a cylindrical shape, since the driving direction is different from that of the circular plate in the case of the cylindrical shape, a connecting means may be installed between the motor and the motor to change the rotation direction.

연마 본체(1120)의 내부에는 모터가 장착된다. 연마 본체(1120) 내부에서 연장되는 모터의 축은 연마 헤드(1110)의 중심과 연결된다. 연마 헤드(1110)는 연마 대상의 재질에 따라 교체되거나, 마모 정도에 따라 교체될 수 있다.A motor is mounted inside the polishing body 1120 . The shaft of the motor extending inside the polishing body 1120 is connected to the center of the polishing head 1110 . The polishing head 1110 may be replaced according to the material of the polishing object or may be replaced according to the degree of wear.

가압 유닛(1200)은 연마 본체(1120)의 타단에 연결된다. 가압 유닛(1200)은 연마 유닛(1100)을 탄성에 의해 가압한다. 연마 유닛(1100)은 가압 유닛(1200) 에 대하여 0~15˚ 기울어져 연결될 수 있다. 연마 유닛(1100)이 가압 유닛(1200)과 수직을 이루는 경우, 연마 헤드(1110)의 전체면으로 대상물이 연마된다. 한편, 연마 유닛(1100)이 가압 유닛(1200) 에 대하여 1˚ 이상 기울어진 경우에는, 연마 헤드(1110)는 연마 대상 표면에 대하여 소정 각도 기울어지기 때문에 연마 헤드(1110)의 측면에 의해 단차 등이 연마될 수 있다. 연마 유닛(1100)이 강판면에 대하여 기울어진 정도는 조절될 수 있다.The pressing unit 1200 is connected to the other end of the polishing body 1120 . The pressing unit 1200 presses the polishing unit 1100 by elasticity. The polishing unit 1100 may be connected at an angle of 0 to 15° with respect to the pressing unit 1200 . When the polishing unit 1100 is perpendicular to the pressure unit 1200 , the object is polished over the entire surface of the polishing head 1110 . On the other hand, when the polishing unit 1100 is inclined by 1° or more with respect to the pressing unit 1200, the polishing head 1110 is inclined at a predetermined angle with respect to the surface to be polished. This can be polished. The degree to which the polishing unit 1100 is inclined with respect to the surface of the steel plate may be adjusted.

메인 프레임(1400)은 수직 이동 유닛(1300)의 상단과 연결되어 수직 이동 유닛(1300)을 지지한다. 메인 프레임(1400)은 연마 대상인 강판면에 위치되어 연마 장치(1000)가 안정적으로 작동하도록 한다. 메인 프레임(1400)의 하단에는 연마 작업시 발생하는 진동에 의해 연마 장치(1000)가 움직이지 않도록 고무 재질이나 실리콘 재질로 피복되거나, 흡착판이 형성될 수도 있다. The main frame 1400 is connected to the upper end of the vertical movement unit 1300 to support the vertical movement unit 1300 . The main frame 1400 is positioned on the surface of the steel plate to be polished so that the polishing apparatus 1000 operates stably. The lower end of the main frame 1400 may be coated with a rubber material or a silicon material to prevent the polishing apparatus 1000 from moving due to vibrations generated during polishing, or a suction plate may be formed.

메인 프레임(1400)의 하단에는 전자석 또는 영구 자석으로 형성된 중량체가 장착될 수 있다. 연마를 위해서는 연마 헤드(1110)를 강판면을 향해 강한 압력으로 가압할 필요가 있다. 메인 프레임(1400) 하단에 자석으로 형성된 중량체가 장착됨에 따라, 메인 프레임(1400)이 강판 방향으로 자력에 의해 당겨지면서, 연마 헤드(1110)를 강판 방향으로 강하게 가압할 수 있다. A weight formed of an electromagnet or a permanent magnet may be mounted on the lower end of the main frame 1400 . For polishing, it is necessary to press the polishing head 1110 with a strong pressure toward the surface of the steel plate. As the weight body formed of magnets is mounted on the lower end of the main frame 1400 , the main frame 1400 is pulled by magnetic force in the direction of the steel plate, and the polishing head 1110 may be strongly pressed in the direction of the steel plate.

메인 프레임(1400)의 상단 내측에는 수직 이동 유닛(1300)을 수평 이동시키기 위한 XY 스테이지(1400')가 장착된다. XY 스테이지(1400')는 수직 이동 유닛(1300)과 연결되며, 수직 이동 유닛(1300)을 수평 방향, 즉 X축, Y축 방향으로 이동시킨다. 도 2에 도시된 바와 같이, XY 스테이지(1400')는 적어도 하나의 로드(1410)와 한 쌍의 레일(1420)을 구비한다. 적어도 하나의 로드(1410)에는 수직 이동 유닛(1300)이 장착된다. 수직 이동 유닛(1300)은 로드(1410)를 따라 선형으로, 즉 Y축 방향으로 이동한다. 본 실시예에서는 두 개의 로드(1410)를 구비한다.An XY stage 1400 ′ for horizontally moving the vertical movement unit 1300 is mounted inside the upper end of the main frame 1400 . The XY stage 1400 ′ is connected to the vertical movement unit 1300 , and moves the vertical movement unit 1300 in a horizontal direction, that is, in the X-axis and Y-axis directions. As shown in FIG. 2 , the XY stage 1400 ′ includes at least one rod 1410 and a pair of rails 1420 . The vertical movement unit 1300 is mounted on at least one rod 1410 . The vertical movement unit 1300 moves along the rod 1410 linearly, that is, in the Y-axis direction. In this embodiment, two rods 1410 are provided.

한편, 한 쌍의 로드(1410)는 각각 양단이 한 쌍의 레일(1420) 부재에 이동 가능하도록 장착된다. 한 쌍의 로드(1410)는 레일(1420) 상을 선형 이동하며, 수직 이동 유닛(1300)을 X축 방향으로 이동시킨다. 수직 이동 유닛(1300)은 한 쌍의 로드(1410) 상에서 선형 이동함으로써 Y축 방향으로, 한 쌍의 로드(1410)가 레일(1420) 상을 선형 이동함으로써 X축 방향으로 이동할 수 있다. 수직 이동 유닛(1300)은 강판 위를 X축, Y축 방향으로 이동하면서, 연마 유닛(1100)이 직선 패턴, 지그재그 패턴, 원형 또는 타원형 패턴 등 다양한 패턴으로 연마를 수행할 수 있도록 한다. 작업자는 연마 유닛(1100) 및 수직 이동 유닛(1300)의 동작을 원격으로 제어할 수 있다.On the other hand, both ends of the pair of rods 1410 are mounted to be movable on the pair of rails 1420 members, respectively. The pair of rods 1410 linearly move on the rail 1420 and move the vertical movement unit 1300 in the X-axis direction. The vertical movement unit 1300 may move in the Y-axis direction by linearly moving on the pair of rods 1410 , and the pair of rods 1410 may move in the X-axis direction by linearly moving on the rail 1420 . The vertical movement unit 1300 enables the polishing unit 1100 to perform polishing in various patterns, such as a straight pattern, a zigzag pattern, a circular or oval pattern, while moving on the steel plate in the X-axis and Y-axis directions. An operator may remotely control operations of the polishing unit 1100 and the vertical movement unit 1300 .

메인 프레임(1400)의 내부에는 연마 상태를 확인할 수 있도록 카메라가 더 구비될 수 있다. 카메라는 적어도 하나가 장착될 수 있다. A camera may be further provided inside the main frame 1400 to check the polishing state. At least one camera may be mounted.

본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치(3000)는 메인 프레임(1400) 내측에 연마 유닛(1100)과 소정 간격 이격하여 배치된 집진 후드를 더 구비할 수 있다. 집진 후드는 연마 과정에서 발생하는 분진을 흡입한다. 집진 후드는 원통형으로 형성될 수 있으며, 흡입된 분진을 이동시키기 위한 튜브 등과 연결될 수 있다. 집진된 분진 등은 집진부에 수용되거나 바로 외부로 배출될 수 있다. 발생되는 분진을 흡입함으로써 더욱 선명한 연마 상태 영상을 획득할 수 있다. 연마 상태를 보다 정확하게 확인하기 위하여, 카메라가 집진 후드 내측에 장착될 수도 있다.The polishing apparatus 3000 according to an embodiment of the present invention may further include a dust collection hood disposed to be spaced apart from the polishing unit 1100 by a predetermined distance inside the main frame 1400 . The dust collection hood absorbs the dust generated during the grinding process. The dust collecting hood may be formed in a cylindrical shape, and may be connected to a tube for moving the inhaled dust. The dust collected may be accommodated in the dust collecting unit or may be directly discharged to the outside. By inhaling the generated dust, a clearer image of the polishing state can be obtained. In order to more accurately check the polishing state, a camera may be mounted inside the dust collecting hood.

다른 실시예에서는 집진 후드에 의해 흡입된 분진이 자석에 의해 부착될 수도 있다. 강판을 연마함으로써 철가루가 많이 발생하는바, 자석으로 철가루를 부착시켜 다른 곳으로 철가루가 튀거나 스파크가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 자석으로서 전자석을 이용하는 경우, 철가루 제거시 전자석에 작용하는 자력을 없애 쉽게 철가루를 제거할 수 있다. 영구 자석을 이용하는 경우에는 자석 커버를 사용하여, 커버 탈착에 의해 부착된 철가루를 용이하게 제거할 수 있다. In another embodiment, the dust sucked by the dust collection hood may be attached by a magnet. Since a lot of iron powder is generated by grinding the steel plate, it is possible to prevent the iron powder from splashing or sparking by attaching the iron powder to another place with a magnet. When an electromagnet is used as a magnet, the iron powder can be easily removed by removing the magnetic force acting on the electromagnet when removing the iron powder. In the case of using a permanent magnet, it is possible to easily remove the attached iron powder by detaching the cover using a magnetic cover.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치를 나타내는 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치를 나타내는 도면이다.3 is a diagram illustrating a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a diagram illustrating a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치(1000)는 연마 유닛(1100), 가압 유닛(1200), 수직 이동 유닛(1300), 메인 프레임(1400)을 포함한다. 연마 유닛(1100)은 연마 헤드(1110)와 연마 본체(1120)를 구비한다. 연마 헤드(1110)는 회전에 의해 강판이 매끄럽지 못한 곳, 흠집이 난 곳을 연마한다. 연마 헤드(1110)는 측면 연마가 가능하도록 소정의 두께로 형성된다. 연마 헤드(1110)는 연마 대상에 따라 다양한 재질로 형성될 수 있다. 본 실시예에서 연마 헤드(1110)는 숫돌로 형성될 수 있다. As shown in FIG. 3 , the polishing apparatus 1000 according to an embodiment of the present invention includes a polishing unit 1100 , a pressing unit 1200 , a vertical movement unit 1300 , and a main frame 1400 . The polishing unit 1100 includes a polishing head 1110 and a polishing body 1120 . The polishing head 1110 grinds a place where the steel plate is not smooth or scratched by rotation. The polishing head 1110 is formed to a predetermined thickness to enable side polishing. The polishing head 1110 may be formed of various materials according to a polishing object. In this embodiment, the polishing head 1110 may be formed of a grindstone.

연마 헤드(1110)는 평면을 연마하기 좋도록 원반 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지는 않으며, 반구형, 원통형 등 다양한 형태로 형성될 수 있다. 연마 헤드가 원통형으로 형성되는 경우, 원통형의 경우 원판인 경우와 구동방향이 다르기 때문에, 회전 방향 전환을 위해 모터와의 사이에 연결 수단을 장착해서 사용할 수 있다.The polishing head 1110 may be formed in a disk shape to facilitate flat surface polishing, but is not limited thereto, and may be formed in various shapes such as a hemispherical shape, a cylindrical shape, and the like. When the polishing head is formed in a cylindrical shape, since the driving direction is different from that of the circular plate in the case of the cylindrical shape, a connecting means may be installed between the motor and the motor to change the rotation direction.

연마 본체(1120)의 내부에는 모터가 장착된다. 연마 본체(1120) 내부에서 연장되는 모터의 축은 연마 헤드(1110)의 중심과 연결된다. 연마 헤드(1110)는 연마 대상의 재질에 따라 교체되거나, 마모 정도에 따라 교체될 수 있다.A motor is mounted inside the polishing body 1120 . The shaft of the motor extending inside the polishing body 1120 is connected to the center of the polishing head 1110 . The polishing head 1110 may be replaced according to the material of the polishing object or may be replaced according to the degree of wear.

연마 유닛(1100)은 연마 헤드(1110)의 일부를 덮도록 스파크 방지 덮개(1111)를 구비할 수 있다. 스파크 방지 덮개(1111)는 부채꼴 형상으로 형성될 수 있다. 스파크 방지 덮개(1111)의 중심각은 60~120˚일 수 있다. 본 실시예에서는 스파크 방지 덮개(1111)의 중심각이 90˚이나, 이에 한정하지는 않는다. 스파크 방지 덮개(1111) 는 연마 헤드(1110)와 연마 본체 사이에 장착될 수 있다. 스파크 방지 덮개(1111)에 의해 연마시 발생하는 철가루 등이 연마 본체(1120), 가압 유닛(1200) 등에 튀지 않도록 할 수 있다.The polishing unit 1100 may include a spark prevention cover 1111 to cover a portion of the polishing head 1110 . The spark prevention cover 1111 may be formed in a fan shape. The central angle of the anti-spark cover 1111 may be 60° to 120°. In the present embodiment, the central angle of the anti-spark cover 1111 is 90°, but is not limited thereto. The anti-spark cover 1111 may be mounted between the polishing head 1110 and the polishing body. By the spark prevention cover 1111 , iron powder generated during polishing may be prevented from splashing on the polishing body 1120 , the pressing unit 1200 , and the like.

가압 유닛(1200)은 연마 유닛(1100)에 연결된다. 가압 유닛(1200)은 연마 본체(1120)의 타단과 연결되어 연마 유닛(1100)을 탄성에 의해 가압한다. 가압 유닛(1200)은 하나 이상이 배치될 수 있다. The pressing unit 1200 is connected to the polishing unit 1100 . The pressing unit 1200 is connected to the other end of the polishing body 1120 to press the polishing unit 1100 by elasticity. One or more pressurization units 1200 may be disposed.

도 4에 도시된 바와 같이, 하나의 가압 유닛(1200)은 제1 가압판(1210), 제2 가압판(1220), 제3 가압판(1230), 적어도 하나의 스프링(1240)을 구비한다. 제1 가압판(1210)은 연마 본체(1120)에 접하여 연마 유닛(1100)을 가압한다. 제2 가압판(1220)은 제1 가압판(1210)과 평행하도록 이격되어 배치된다. 제3 가압판(1230)은 제1 및 제2 가압판(1210, 1220)의 측면과 수직으로 연결된다. As shown in FIG. 4 , one pressure unit 1200 includes a first pressure plate 1210 , a second pressure plate 1220 , a third pressure plate 1230 , and at least one spring 1240 . The first pressing plate 1210 presses the polishing unit 1100 in contact with the polishing body 1120 . The second pressure plate 1220 is spaced apart from the first pressure plate 1210 and is disposed. The third pressure plate 1230 is vertically connected to the side surfaces of the first and second pressure plates 1210 and 1220 .

제1 가압판(1210)은 제3 가압판(1230) 상에서 수직으로 이동 가능하도록 연결된다. 예를 들어, 제3 가압판(1230)에 홈이 형성되고 제1 가압판(1210)에 홈에 결합될 수 있는 T자형 돌기가 형성되어, 제1 가압판(1210)이 제3 가압판(1230)에 끼움 결합됨으로써, 제1 가압판(1210)이 제3 가압판(1230)의 상하 방향으로 이동할 수 있다. The first pressure plate 1210 is vertically movable on the third pressure plate 1230 . For example, a groove is formed in the third pressure plate 1230 and a T-shaped protrusion that can be coupled to the groove is formed in the first pressure plate 1210 , so that the first pressure plate 1210 is fitted to the third pressure plate 1230 . By being coupled, the first pressure plate 1210 may move in the vertical direction of the third pressure plate 1230 .

제2 가압판(1220)은 일측이 제3 가압판(1230)에 고정되는데, 제1 가압판(1210)과 소정 거리 이격된 위치에 고정된다. One side of the second pressure plate 1220 is fixed to the third pressure plate 1230 , and is fixed to a position spaced apart from the first pressure plate 1210 by a predetermined distance.

스프링(1240)은 제1 및 제2 가압판(1210, 1220) 사이에 개재된다. 제1 및 제2 가압판(1210, 1220)은 스프링(1240)에 의해 이격 간격이 유지된다. 스프링(1240)의 탄성 계수는 연마 대상에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 스프링(1240)은 연마 작업시 연마 유닛(1100)을 가압함과 동시에, 수직 방향의 진동을 흡수하여 연마 작업을 안정적으로 할 수 있도록 한다. 스프링(1240)은 복수 개가 구비될 수 있다. The spring 1240 is interposed between the first and second pressure plates 1210 and 1220 . The first and second pressure plates 1210 and 1220 are spaced apart from each other by a spring 1240 . The elastic modulus of the spring 1240 may be appropriately selected according to a polishing object. The spring 1240 pressurizes the polishing unit 1100 during the polishing operation and absorbs vibration in the vertical direction so that the polishing operation can be stably performed. A plurality of springs 1240 may be provided.

가압 유닛(1200)이 연마 동작시 진동에 의해 수평 방향으로 진동하는 것을 방지하기 위하여 스프링(1240) 내측으로 지지축(1241)이 구비될 수 있다. 지지축(1241)은 스프링(1240)의 최대 압축 길이보다 같거나 짧은 것이 바람직하다. 스프링(1240)은 연마 유닛(1200)의 가압시 압축되며, 지지축(1241)에 의해 가압 유닛(1200)이 연마 동작시 수평 방향으로 진동되는 것이 방지된다. A support shaft 1241 may be provided inside the spring 1240 to prevent the pressing unit 1200 from vibrating in the horizontal direction due to vibration during the polishing operation. The support shaft 1241 is preferably equal to or shorter than the maximum compression length of the spring 1240 . The spring 1240 is compressed when the polishing unit 1200 is pressed, and the pressing unit 1200 is prevented from being vibrated in the horizontal direction during the polishing operation by the support shaft 1241 .

가압 유닛(1200)은 하나 이상 구비될 수 있다. 가압 유닛(1200)이 복수 개 구비되는 경우, 각각의 가압 유닛(1200)이 수평 방향으로 소정 범위 내에서 틸팅되면서 연마 대상물에 대한 연마 헤드(1110)의 각도가 자유롭게 조절될 수 있다. 즉, 연마 대상물 표면에서 단차가 존재하는 지점에 연마 헤드(1110)를 밀착시킬 수 있으며, 단차를 효과적으로 연마할 수 있다. 본 실시예에서 스프링(1240)은 압축 스프링을 사용하였으나, 이에 한정하지는 않으며 가스 스프링 등이 사용될 수 있다. 가압 유닛(1200)이 복수개 구비되는 경우, 균일한 압력으로 연마 유닛(1100)을 가압할 수 있도록 동일한 각도 간격으로 이격시켜 배치할 수 있다. One or more pressurization units 1200 may be provided. When a plurality of pressure units 1200 are provided, the angle of the polishing head 1110 with respect to the object to be polished may be freely adjusted while each of the pressure units 1200 is tilted within a predetermined range in the horizontal direction. That is, the polishing head 1110 can be brought into close contact with the point where the step exists on the surface of the object to be polished, and the step can be effectively polished. In the present embodiment, the spring 1240 uses a compression spring, but is not limited thereto, and a gas spring or the like may be used. When a plurality of pressurizing units 1200 are provided, they may be spaced apart from each other at the same angular interval so as to pressurize the polishing unit 1100 with a uniform pressure.

한편, 도 4에 도시된 바와 같이, 연마 유닛(1100)은 가압 유닛(1200)에 대하여 0~15˚ 기울어져 배치된다. 연마 유닛(1100)이 가압 유닛(1200)과 수직을 이루는 경우, 연마 헤드(1110)의 전체면으로 대상물이 연마된다. 한편, 연마 유닛(1100)이 가압 유닛(1200) 에 대하여 1˚ 이상 기울어진 경우에는, 연마 헤드(1110)는 연마 대상 표면에 대하여 소정 각도 기울어지기 때문에, 연마 헤드(1110)의 하부면 및 측면에 의해 평면으로부터 돌출된 흠집이 연마될 수 있다. 연마 유닛(1100)이 강판면에 대하여 기울어진 정도는 조절될 수 있다. On the other hand, as shown in FIG. 4 , the polishing unit 1100 is disposed at an angle of 0 to 15° with respect to the pressing unit 1200 . When the polishing unit 1100 is perpendicular to the pressure unit 1200 , the object is polished over the entire surface of the polishing head 1110 . On the other hand, when the polishing unit 1100 is inclined by 1° or more with respect to the pressing unit 1200 , the polishing head 1110 is inclined at a predetermined angle with respect to the surface to be polished, so the lower surface and the side surface of the polishing head 1110 . The scratches protruding from the plane can be polished by the The degree to which the polishing unit 1100 is inclined with respect to the surface of the steel plate may be adjusted.

제1 가압판(1210)의 하단 또는 스프링(1240)의 하단에는 로드셀(1242)이 더 구비될 수 있다. 로드셀(1242)은 제1 가압판(1210)에 작용하는 힘을 측정하여 제어부로 전송한다. 제어부는 제1 가압판(1210)이 적정 압력으로 연마 유닛(1100)을 가압할 수 있도록, 가압 유닛(1200)을 수직 이동시켜 원하는 압력으로 가압할 수 있도록 제어한다. A load cell 1242 may be further provided at the lower end of the first pressure plate 1210 or at the lower end of the spring 1240 . The load cell 1242 measures the force acting on the first pressure plate 1210 and transmits it to the control unit. The control unit controls the first pressure plate 1210 to press the polishing unit 1100 to an appropriate pressure by vertically moving the pressure unit 1200 to pressurize the pressure unit 1200 to a desired pressure.

또한, 연마 작업에 의해 단차 또는 돌기가 제거되면 제1 가압판(1210) 또는 스프링(1240)에 인가되는 부하가 작아진다. 연마 장치(1000)의 제어부는 압력 센서(1242)에 의해 압력 부하를 감지하여 연마가 완료된 상태임을 확인할 수 있다. 연마 장치(1000)의 제어부는 연마가 완료된 것으로 판단하면, 연마 헤드(1110)의 회전을 정지시키고, 연마 작업 종료 또는 다른 연마 대상 지점으로 이동할 수 있다. In addition, when the step or protrusion is removed by the polishing operation, the load applied to the first pressure plate 1210 or the spring 1240 is reduced. The controller of the polishing apparatus 1000 may detect a pressure load by the pressure sensor 1242 to confirm that the polishing is completed. When it is determined that the polishing is completed, the controller of the polishing apparatus 1000 may stop the rotation of the polishing head 1110 and move to another polishing target point or to end the polishing operation.

본 실시예에서는 로드셀(1242)을 사용하나 이에 한정하지는 않으며, 제1 가압판(1210)에 작용하는 압력을 측정하기 위하여 압력 센서나 스프링 변위 센서를 사용할 수도 있다. 스프링 변위 센서는 스프링의 압축 정도를 측정하여 제1 가압판(1210)에 작용되는 압력을 측정한다. 측정된 스프링의 압축 길이는 제어부로 전송된다. In this embodiment, the load cell 1242 is used, but is not limited thereto, and a pressure sensor or a spring displacement sensor may be used to measure the pressure acting on the first pressure plate 1210 . The spring displacement sensor measures the pressure applied to the first pressure plate 1210 by measuring the degree of compression of the spring. The measured compression length of the spring is transmitted to the control unit.

수직 이동 유닛(1300)은 가압 유닛(1200)의 타단에 연결된다. 수직 이동 유닛(1300)은 가압 유닛(1200), 연마 유닛(1100)을 수직 방향으로 이동시킨다. 수직 이동 유닛(1300)은 가압 유닛(1200), 연마 유닛(1100)을 수직 방향으로 이동시켜, 가압 유닛(1200)이 연마 유닛(1100)을 가압한 상태로 가압 유닛(1200) 및 연마 유닛(1100)의 수직 위치를 고정시킨다. The vertical movement unit 1300 is connected to the other end of the pressing unit 1200 . The vertical movement unit 1300 moves the pressing unit 1200 and the polishing unit 1100 in a vertical direction. The vertical movement unit 1300 moves the pressing unit 1200 and the polishing unit 1100 in a vertical direction, and the pressing unit 1200 and the polishing unit ( 1100) to fix the vertical position.

연마가 필요한 지점에 연마 장치(1000)가 위치하면, 연마를 시작하기 위하여 수직 이동 유닛(1300)은 가압 유닛(1200) 및 연마 유닛(1100)을 하강시키고, 연마가 종료되면 가압 유닛(1200) 및 연마 유닛(1300)을 상승시킨다. 수직 이동 유닛(1300)은 유압 실린더일 수 있으나, 이에 한정하지 않는다. When the polishing apparatus 1000 is positioned at a point where polishing is required, the vertical movement unit 1300 lowers the pressing unit 1200 and the polishing unit 1100 to start polishing, and when the polishing is finished, the pressing unit 1200 and raising the polishing unit 1300 . The vertical movement unit 1300 may be a hydraulic cylinder, but is not limited thereto.

수직 이동 유닛(1300)에서 실린더는 복수개가 구비될 수 있다. 실린더가 복수 개 구비되는 경우, 각각의 실린더는 개별 제어할 수 있다. 각각의 실린더를 개별 제어함으로써, 연마 유닛(1100)의 기울어진 정도를 조절할 수 있다. 각각의 실린더는 각각 연결된 가압 유닛(1200)을 하방으로 이동시키는데, 가압 유닛(1200)의 이동 정도에 따라 연마 유닛(1100)의 기울어진 각도가 조절된다. 각각의 실린더가 가압 유닛(1200)을 동일한 거리만큼 이동시키면 연마 유닛(1100)은 강판과 평행하도록 접촉된다. 가압 유닛(1200)은 실린더와 동일 개수가 구비될 수 있다.In the vertical movement unit 1300, a plurality of cylinders may be provided. When a plurality of cylinders are provided, each cylinder can be individually controlled. By individually controlling each cylinder, the degree of inclination of the polishing unit 1100 can be adjusted. Each cylinder moves the connected pressing unit 1200 downward, and the inclined angle of the polishing unit 1100 is adjusted according to the degree of movement of the pressing unit 1200 . When each cylinder moves the pressing unit 1200 by the same distance, the polishing unit 1100 is in contact with the steel plate to be parallel. The pressurization unit 1200 may be provided with the same number as the cylinder.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 가압 유닛의 동작을 나타내는 도면이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에서 가압 유닛의 동작을 나타내는 도면이며, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마 장치에 의해 연마가 수행되는 것을 나타내는 도면이다.Figure 5 is a view showing the operation of the pressing unit in the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is a view showing the operation of the pressing unit in the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 7 is this It is a view showing that polishing is performed by the polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

다음으로, 연마 장치(1000)의 동작에 대해서 설명한다. Next, the operation of the polishing apparatus 1000 will be described.

작업자는 연마가 필요한 위치로 연마 장치(1000)를 위치시킨다. 연마 장치는 원격 제어될 수 있다. The operator positions the polishing apparatus 1000 to a position where polishing is required. The polishing apparatus may be remotely controlled.

도 5에 도시된 바와 같이, 연마를 시작하기 위하여 수직 이동 유닛(1300)은 가압 유닛(1200) 및 연마 유닛(1100)을 하강시킨다. 수직 이동 유닛(1300)은 가압 유닛(1200)을 하방으로 이동시킴에 따라, 제1 내지 제3 가압판(1210, 1220, 1230)이 하방으로 이동한다. 수직 이동 유닛(1300)은 연마 헤드(1110)의 하부면이 강판(100)을 소정 압력으로 가압할 때까지 가압 유닛(1200) 및 연마 유닛(1100)을 하강시킨다. 연마 헤드(1110)가 강판면에 접하면, 연마 유닛(1100)은 반작용에 의해 가압 유닛(1200)을 밀어낸다. 즉, 제2 가압판(1220) 및 제3 가압판(1230)은 하방으로 이동하지만, 제1 가압판(1210)은 연마 유닛(1100)이 밀어내는 반작용에 의해 상대적으로 제3 가압판(1230) 상에서 상방으로 이동한다. 이에 따라 제1 가압판 및 제2 가압판(1210, 1220) 사이에 개재된 스프링(1240)은 압축된다. As shown in FIG. 5 , the vertical movement unit 1300 lowers the pressing unit 1200 and the polishing unit 1100 to start polishing. As the vertical movement unit 1300 moves the pressing unit 1200 downward, the first to third pressing plates 1210 , 1220 , and 1230 move downward. The vertical movement unit 1300 lowers the pressing unit 1200 and the polishing unit 1100 until the lower surface of the polishing head 1110 presses the steel plate 100 to a predetermined pressure. When the polishing head 1110 is in contact with the steel plate surface, the polishing unit 1100 pushes the pressing unit 1200 by reaction. That is, the second pressure plate 1220 and the third pressure plate 1230 move downward, but the first pressure plate 1210 is relatively upwardly on the third pressure plate 1230 due to the reaction force pushed by the polishing unit 1100 . Move. Accordingly, the spring 1240 interposed between the first and second pressure plates 1210 and 1220 is compressed.

압축된 스프링(1240)은 복원력에 의해 제1 가압판(1210)을 밀어내고(도 5의 (b)), 이 밀어내는 힘에 의해 연마 유닛(1100)이 가압된다. 스프링(1240)은 연마 유닛(1100)이 연마 대상물의 단차 정도에 따라 능동적으로 가압할 수 있도록 한다. 본 발명에 따른 연마 장치(1000)는 연마 대상물을 스프링(1240)의 탄성에 의해 가압함에 따라, 연마 대상물을 과도하게 연마하는 일 없이 매끄러운 결과물을 얻을 수 있다.The compressed spring 1240 pushes the first pressing plate 1210 by a restoring force (FIG. 5 (b)), and the polishing unit 1100 is pressed by this pushing force. The spring 1240 allows the polishing unit 1100 to actively press the polishing object according to the step level of the object to be polished. As the polishing apparatus 1000 according to the present invention presses the object to be polished by the elasticity of the spring 1240 , a smooth result may be obtained without excessively polishing the object to be polished.

한편, 스프링(1240)의 내측으로 지지축(1241)을 구비하여 가압 유닛(1200)이 수평 방향으로 진동하는 것을 방지할 수 있다. 지지축(1241)은 스프링(1240)의 최대 압축 길이보다 같거나 짧은 것이 바람직하다. Meanwhile, it is possible to prevent the pressing unit 1200 from vibrating in the horizontal direction by providing the support shaft 1241 inside the spring 1240 . The support shaft 1241 is preferably equal to or shorter than the maximum compression length of the spring 1240 .

도 6에 도시된 바와 같이, 스프링은 압축 스프링이 아닌 가스 스프링 또는 유압 스프링으로 형성될 수 있다. 가스 스프링 또는 유압 스프링이 연마 대상물에 따라 소정의 복원력을 가지도록 설계할 수 있다. 6 , the spring may be formed of a gas spring or a hydraulic spring rather than a compression spring. A gas spring or a hydraulic spring may be designed to have a predetermined restoring force depending on the object to be polished.

도 7에 도시된 바와 같이, 연마 장치(1000)를 연마 대상 위치로 위치시켜 연마를 시작한다. 연마 헤드(1110)는 강판(100)에 대하여 기울어져 위치한다. 연마 헤드(1110)의 상승된 부분이 단차 형성 위치에 근접하여 연마를 수행한다. 강판에 형성된 단차(110)는 연마 헤드(1110)의 측면 및 하면에 의해 연마된다. 스파크 방지 덮개(1111)는 연마 과정에서 발생하는 스파크가 연마 장치(1000)로 튀는 것을 방지한다. As shown in FIG. 7 , the polishing apparatus 1000 is positioned at a position to be polished to start polishing. The polishing head 1110 is inclined with respect to the steel plate 100 . The raised portion of the polishing head 1110 approaches the step formation position to perform polishing. The step 110 formed on the steel plate is polished by the side and lower surfaces of the polishing head 1110 . The spark prevention cover 1111 prevents sparks generated during the polishing process from splashing into the polishing apparatus 1000 .

이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.In the above, an embodiment of the present invention has been described, but those of ordinary skill in the art can add, change, delete or add components within the scope that does not depart from the spirit of the present invention described in the claims. It will be possible to variously modify and change the present invention by, etc., which will also be included within the scope of the present invention.

1000 : 연마 장치 1100 : 연마 유닛
1110 : 연마 헤드 1111 : 스파크 방지 덮개
1120 : 연마 본체 1200 : 가압 유닛
1210 : 제1 가압판 1220 : 제2 가압판
1230 : 제3 가압판 1240 : 스프링
1241 : 지지축 1300 : 수직 이동 유닛 1000: polishing device 1100: polishing unit
1110: abrasive head 1111: spark protection cover
1120: polishing body 1200: pressing unit
1210: first pressure plate 1220: second pressure plate
1230: third pressure plate 1240: spring
1241: support shaft 1300: vertical movement unit

Claims (9)

연마 헤드와, 일단이 상기 연마 헤드에 연결되어 상기 연마 헤드를 지지하고 회전시키는 연마 본체를 구비하는 연마 유닛;
상기 연마 본체에 일단이 연결되어, 상기 연마 유닛을 탄성 가압하는 가압 유닛;
상기 가압 유닛의 타단에 연결되며, 상기 가압 유닛을 수직 방향으로 이동시키는 수직 이동 유닛;
상기 수직 이동 유닛의 타단에 연결되어 수직 이동 유닛을 지지 및 수평 이동시키고, 하단에 전자석으로 형성된 중량체가 장착된 메인 프레임; 및
상기 연마 유닛과 이격되어 상기 연마 유닛의 외측을 둘러싸는 집진 후드;를 포함하고,
상기 연마 유닛은 중심각이 60~120°인 부채꼴 형상의 스파크 방지 덮개를 더 구비하고,
상기 집진 후드에 의해 흡입된 분진은 자석 커버가 구비된 자석에 의해 부착되며,
상기 가압 유닛은
제1 가압판,
상기 제1 가압판과 평행하게 소정 거리 이격되어 배치된 제2 가압판,
상기 제1 및 제2 가압판의 측면과 연결되어 상기 제1 및 제2 가압판을 지지하되, 상기 제1 가압판을 수직 방향으로 이동가능하게 지지하는 제3 가압판, 및
제1 및 제2 가압판 사이에 개재되는 적어도 하나의 스프링을 구비하고,
상기 스프링의 내측에는 지지축이 구비되되, 상기 지지축은 상기 스프링의 압축 길이보다 같거나 짧게 형성되고, 상기 제1 가압판에 일단이 고정되며,
상기 스프링의 하단에는 로드셀이 구비되어, 제어부가 상기 로드셀에 의해 압력 부하를 감지하여 연마 완료 상태를 확인하는 것을 특징으로 하는 연마 장치.a polishing unit including a polishing head and a polishing body having one end connected to the polishing head to support and rotate the polishing head;
a pressing unit having one end connected to the polishing body and elastically pressing the polishing unit;
a vertical moving unit connected to the other end of the pressurizing unit and moving the pressurizing unit in a vertical direction;
a main frame connected to the other end of the vertical movement unit to support and horizontally move the vertical movement unit, and to which a weight body formed of an electromagnet is mounted at the bottom; and
and a dust collection hood spaced apart from the polishing unit and surrounding the outside of the polishing unit;
The polishing unit further includes a spark prevention cover of a sector shape having a central angle of 60 to 120°,
The dust sucked by the dust collection hood is attached by a magnet equipped with a magnetic cover,
The pressurization unit is
a first platen;
a second pressure plate disposed parallel to the first pressure plate and spaced apart from each other by a predetermined distance;
a third pressure plate connected to the side surfaces of the first and second pressure plates to support the first and second pressure plates, the third pressure plate movably supporting the first pressure plate in a vertical direction; and
and at least one spring interposed between the first and second pressure plates,
A support shaft is provided inside the spring, the support shaft is formed to be equal to or shorter than the compression length of the spring, and one end is fixed to the first pressing plate,
A load cell is provided at the lower end of the spring, and the control unit detects a pressure load by the load cell to confirm the polishing completion state. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 스프링은 압축 스프링 또는 가스 스프링인 것을 특징으로 하는 연마 장치.According to claim 1,
The spring is a compression spring or a gas spring. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 연마 헤드는 원반 형태, 반구 형태, 원통 형태 중 하나인 것을 특징으로 하는 연마 장치.According to claim 1,
The polishing head is a polishing apparatus, characterized in that one of a disk shape, a hemispherical shape, a cylindrical shape. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 메인 프레임의 상부에는
적어도 하나의 로드, 및
상기 로드의 양단과 끼움 결합하여, 상기 로드를 선형으로 이동시키는 한 쌍의 레일이 구비되며,
상기 로드에는 상기 수직 이동 유닛이 선형 이동 가능하도록 장착되는 것을 특징으로 하는 연마 장치.According to claim 1,
On the upper part of the main frame
at least one rod, and
A pair of rails that are fitted with both ends of the rod to linearly move the rod are provided,
Polishing apparatus, characterized in that the vertical movement unit is mounted to be linearly movable on the rod.
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