KR102322671B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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박태현
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세메스 주식회사
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Abstract

기판 처리 장치는 기판으로 약액을 분사하도록 구비되는 헤드; 및 상기 약액을 분사하는 상기 헤드의 분사면에 접촉하는 구조로 상기 헤드의 분사면을 세정하도록 구비되는 세정 블레이드를 포함한다. 상기 세정 블레이드는 상기 헤드의 분사면으로 세정액을 플로우시킬 수 있도록 유로(uro)를 구비하고, 상기 세정 블레이드의 단부는 상기 헤드의 분사면으로 플로우되는 세정액이 상기 세정 블레이드의 표면을 따라 아래로 흘러내릴 수 있는 구조를 갖도록 구비된다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for fabricating integrated circuit}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 기판으로 약액을 분사하도록 구비되는 헤드 및 헤드의 분사면을 세정하도록 구비되는 세정 블레이드를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이 소자 중에서 액정 표시 소자의 제조에서는 잉크젯 방식으로 기판 상에 약액을 도포하는 기판 처리 장치를 사용한다. 그리고 상기 기판 처리 장치는 주로 기판으로 약액을 분사하도록 구비되는 헤드 및 상기 헤드의 분사면을 세정하도록 구비되는 세정 블레이드를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 헤드를 사용하여 상기 기판으로 약액을 계속적으로 분사할 경우에는 상기 헤드의 분사면에 상기 약액이 잔류하게 되고, 그 결과 상기 기판으로 약액이 균일하게 공급되지 못함에 따라 상기 약액의 분사로 도포되는 박막의 균일도가 저하될 수 있다.
그러므로 상기 기판 처리 장치의 경우에는 상기 헤드의 분사면에 잔류하는 상기 약액을 원활하게 제거할 수 있도록 상기 세정 블레이드를 구비하는 것이다. 상기 세정 블레이드를 사용한 상기 헤드의 분사면에 대한 세정은 상기 세정 블레이드를 상기 헤드의 분사면과 접촉시킴에 의해 이루어진다. 따라서 상기 헤드의 분사면과 접촉하는 상기 세정 블레이드는 상기 헤드의 분사면에 가해지는 손상을 어느 정도 감소시키기 위하여 세정액에 젖어있는 상태를 유지할 필요가 있다.
상기 기판 처리 장치의 경우에는 상기 헤드의 분사면을 세정할 때에는 상기 헤드의 분사면을 향하도록 배치되고, 상기 세정 블레이드를 세정액에 젖어있는 상태를 유지할 때에는 상기 세정액이 수용되는 배스에 침지하도록 배치된다. 이에, 상기 세정 블레이드는 캠(cam) 및 모터 등과 연결되어 상기 헤드의 분사면과 상기 배스 사이를 회전하는 배치를 갖도록 구비될 수 있다.
따라서 종래의 기판 처리 장치는 세정 블레이드의 회전을 위한 부재를 포함하기 때문에 복잡한 구조를 가지는 문제점이 있고, 배스의 구성으로 인하여 약액의 소모량이 높음과 더불어 안전 사고의 위험이 높은 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 간단한 구조를 가짐에도 불구하고 헤드의 분사면과 접촉하는 세정 블레이드가 항상 젖어있는 상태를 유지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판으로 약액을 분사하도록 구비되는 헤드; 및 상기 약액을 분사하는 상기 헤드의 분사면에 접촉하는 구조로 상기 헤드의 분사면을 세정하도록 구비되는 세정 블레이드를 포함하고, 상기 세정 블레이드는 상기 헤드의 분사면으로 세정액을 플로우시킬 수 있도록 유로(uro)를 구비하고, 상기 세정 블레이드의 단부는 상기 헤드의 분사면으로 플로우되는 세정액이 상기 세정 블레이드의 표면을 따라 아래로 흘러내릴 수 있는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서, 상기 세정 블레이드의 단부는 테이퍼 구조 또는 라운딩 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서, 상기 세정 블레이드의 표면을 따라 아래로 흘러내리는 상기 세정액을 수집하는 수집부를 더 포함할 수 있다.
언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서, 상기 수집부 및 상기 세정 블레이드의 유로를 연결시키는 연결부를 더 포함할 수 있다.
언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에서, 상기 연결부에는 상기 수집부로부터 상기 세정 블레이드의 유로로 상기 세정액을 공급할 수 있도록 구비되는 펌프, 및 상기 수집부로부터 상기 세정 블레이드의 유로로 공급되는 상기 세정액에 잔류하는 잔류물을 필터링할 수 있도록 구비되는 필터를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 세정 블레이드에 헤드의 분사면으로 세정액을 플로우시킬 수 있도록 유로를 구비한다. 이에, 본 발명의 기판 처리 장치는 간단한 구조를 가짐에도 불구하고 헤드의 분사면과 접촉하는 세정 블레이드가 항상 젖어있는 상태를 유지할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 기판 처리 장치는 간단한 구조를 가짐에 따라 그 사용에 따른 효율성의 향상을 기대할 수 있다. 또한, 약액을 저장하는 배스를 생략함으로써 약액의 소모량을 줄임에 따라 약액의 과다 사용으로 인한 단점을 해결할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.
도 1 및 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도들이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
본 발명의 기판 처리 장치는 액정 토출부, 기판 이송부, 로딩부, 언로딩부, 액정 공급부, 제어부 등을 포함한다.
상기 액정 토출부와 상기 기판 이송부는 예를 들어 X축 방향으로 일렬로 배치되고, 서로 간에 인접하게 위치할 수 있다. 상기 액정 토출부를 중심으로 상기 기판 이송부와 마주하는 위치에는 상기 액정 공급부와 상기 제어부가 배치된다.
상기 액정 공급부와 상기 제어부는 상기 X축 방향과 수직하는 Y축 방향으로 일렬 배치될 수 있다. 상기 기판 이송부를 중심으로 상기 액정 토출부와 마주하는 위치에 상기 로딩부와 상기 언로딩부가 배치된다. 상기 로딩부와 상기 언로딩부는 상기 Y축 방향으로 일렬 배치될 수 있다.
여기서, 상기 X축 방향은 상기 액정 토출부와 상기 기판 이송부의 배열 방향이고, 상기 Y축 방향은 수평면 상에서 상기 X축에 수직한 방향임을 알 수 있다. 그리고 후술하는 Z축 방향은 상기 X축 방향과 Y축 방향에 수직한 방향이다.
그리고 액정이 도포될 기판은 상기 로딩부로 반입된다. 상기 기판 이송부는 상기 로딩부에 반입된 기판을 상기 액정 토출부로 이송한다. 상기 액정 토출부는 상기 액정 공급부로부터 상기 액정을 공급받고, 액적을 토출하는 잉크젯 방식으로 상기 기판 상에 상기 액정을 토출한다. 상기 액정 토출이 완료되면 상기 기판 이송부는 상기 액정 토출부로부터 상기 언로딩부로 기판을 이송한다. 상기 액정이 도포된 기판은 상기 언로딩부로부터 반출된다. 상기 제어부는 상기 액정 토출부, 상기 기판 이송부, 상기 로딩부, 상기 언로딩부, 상기 액정 공급부 등의 전반적인 동작을 제어한다.
본 발명의 기판 처리 장치에서, 상기 액정 토출부는 베이스, 기판 지지 부재, 갠트리, 갠트리 이동 유닛, 헤드 유닛, 헤드 이동 유닛, 처리액 공급 유닛, 제어 유닛, 액정 토출량 측정 유닛, 노즐 검사 유닛, 헤드 세정 유닛 등을 포함한다.
상기 기판 지지 부재는 상기 베이스의 상면에 배치된다. 상기 베이스는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 상기 기판 지지 부재는 상기 기판이 놓이는 지지 플레이트를 가진다. 상기 지지 플레이트는 사각 형상일 수 있다. 상기 지지 플레이트의 하면에는 상기 회전 구동 부재가 연결된다. 상기 회전 구동 부재는 회전 모터일 수 있다. 상기 회전 구동 부재는 상기 지지 플레이트에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 상기 지지 플레이트를 회전시킬 수 있다.
상기 지지 플레이트가 상기 회전 구동 부재에 의해 회전되면 상기 기판은 상기 지지 플레이트의 회전에 의해 회전될 수 있다. 상기 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 상기 Y축 방향을 향하는 경우 상기 회전 구동 부재는 셀의 장변 방향이 상기 X축 방향을 향하도록 상기 기판을 회전시킬 수 있다.
상기 지지 플레이트와 상기 회전 구동 부재는 상기 직선 구동 부재에 의해 상기 X축 방향으로 직선 이동될 수 있다. 상기 직선 구동 부재는 슬라이더와 가이드 부재를 포함한다. 상기 회전 구동 부재는 슬라이더의 상면에 설치된다. 상기 가이드 부재는 상기 베이스의 상면 중심부에 상기 X축 방향으로 길게 연장된다. 상기 슬라이더에는 리니어 모터가 내장될 수 있으며, 그리고 상기 슬라이더는 상기 리니어 모터에 의해 상기 가이드 부재를 따라 상기 X축 방향으로 직선 이동된다.
상기 갠트리는 상기 지지 플레이트가 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 상기 갠트리는 상기 베이스의 상면으로부터 윗 방향으로 이격 배치된다. 상기 갠트리는 길이 방향이 상기 Y축 방향을 향하도록 배치된다.
상기 헤드 유닛은 상기 헤드 이동 유닛에 의해 상기 갠트리에 결합된다. 상기 헤드 유닛은 상기 헤드 이동 유닛에 의해 상기 갠트리의 길이 방향, 즉 상기 Y축 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 상기 Z축 방향으로 직선 이동될 수 있다.
상기 갠트리 이동 유닛은 상기 갠트리를 상기 X축 방향으로 직선 이동시키거나, 상기 갠트리의 길이 방향이 상기 X축 방향에 경사진 방향을 향하도록 상기 갠트리를 회전시킬 수 있다. 상기 갠트리의 회전에 의해 상기 헤드 유닛은 상기 기판에 약액인 상기 액적을 토출한다.
그리고 본 발명의 기판 처리 장치에서 상기 헤드 유닛은 복수개로 구비될 수 있다. 예를 들러 상기 헤드 유닛 3개가 구비될 경우 상기 헤드 유닛은 상기 Y축 방향으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 상기 갠트리에 결합될 수 있다.
후술하지만, 상기 헤드 유닛의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들이 제공된다. 예를 들어, 각각의 상기 헤드 유닛들에는 128 개 또는 256 개의 노즐들이 제공될 수 있다. 상기 노즐들은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 상기 노즐들은 ㎍ 단위의 양으로 액정을 토출할 수 있다.
각각의 상기 헤드 유닛에는 상기 노즐들에 대응하는 수만큼의 압전 소자가 제공될 수 있으며, 상기 노즐들의 액적 토출량은 압전 소자들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.
상기 헤드 이동 유닛은 상기 헤드 유닛에 각각 제공될 수 있다. 언급한 바와 같이, 상기 헤드 유닛이 3개가 구비되면 상기 헤드 이동 유닛 또한 사익 헤드 유닛의 수에 대응하도록 3 개가 구비될 수 있다. 이와 달리, 상기 헤드 이동 유닛(500)은 1 개 제공될 수 있으며, 이 경우에는 상기 헤드 유닛은 개별 이동이 아니라 일체로 이동될 수 있다. 상기 헤드 이동 유닛은 상기 헤드 유닛을 상기 갠트리의 길이 방향, 즉 상기 Y축 방향으로 직선 이동시키거나, 상기 Z축 방향으로 직선 이동시킬 수 있다.
상기 처리액 공급 유닛은 상기 헤드 이동 유닛에 설치되고, 상기 헤드 유닛에 공급하는 처리액이 저장된다. 상기 처리액 공급 유닛은 상기 제어부의 제어에 따라 처리액을 상기 헤드 유닛으로 공급한다. 상기 처리액 공급 유닛은 상기 헤드 유닛으로 일정한 양의 처리액을 공급하기 위해 내부에 처리액을 일정한 양으로 유지하여 저장한다.
상기 제어부는 상기 헤드 이동 유닛에 설치되어 상기 헤드 유닛으로의 액정 공급, 압력 제어 그리고 토출량 제어 등의 동작을 제어한다.
상기 액정 토출량 측정 유닛은 상기 헤드 유닛의 액정 토출량을 측정한다. 구체적으로, 상기 액정 토출량 측정 유닛은 상기 헤드 유닛 마다 전부의 상기 노즐들로부터 토출되는 액정량을 측정한다. 상기 헤드 유닛의 액정 토출량 측정을 통해 상기 헤드 유닛의 노즐들의 이상 유무를 거시적으로 확인할 수 있다. 즉, 상기 헤드 유닛의 액정 토출량이 기준치를 벗어나면 상기 노즐들 중 적어도 하나에 이상이 있음을 알 수 있다.
상기 헤드 유닛은 상기 갠트리 이동 유닛과 상기 헤드 이동 유닛에 의해 상기 X축 방향과 제 상기 Y축 방향으로 이동되어 상기 액정 토출량 측정 유닛의 상부에 위치할 수 있다. 상기 헤드 이동 유닛은 상기 헤드 유닛을 상기 Z축 방향으로 이동시켜 상기 헤드 유닛과 상기 액정 토출량 측정 유닛과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.
상기 노즐 검사 유닛은 광학 검사를 통해 상기 헤드 유닛에 제공된 개별 노즐의 이상 유무를 확인한다. 상기 액정 토출량 측정 유닛에서 거시적인 노즐의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 노즐에 이상이 있는 것으로 판단된 경우 상기 노즐 검사 유닛은 개별 노즐의 이상 유무를 확인하면서 상기 노즐들에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.
상기 노즐 검사 유닛은 상기 베이스 상의 상기 기판 지지 부재의 일측에 배치될 수 있다. 상기 헤드 유닛은 상기 갠트리 이동 유닛과 상기 헤드 이동 유닛에 의해 상기 X축 방향과 상기 Y축 방향으로 이동되어 상기 노즐 검사 유닛의 상부에 위치할 수 있다. 상기 헤드 이동 유닛은 상기 헤드 유닛을 상기 Z축 방향으로 이동시켜 상기 헤드 유닛과 상기 노즐 검사 유닛과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.
상기 헤드 세정 유닛은 상기 배이스 상의 상기 기판 지지 부재 일측에 배치될 수 있다. 상기 약액을 분사한 상기 헤드 유닛을 세정하도록 구비될 수 있고, 특히 상기 세정 헤드 유닛은 접속식 방식으로 상기 헤드 유닛을 세정하도록 구비될 수 있다.
이하에서는 도면들을 참조하여 상기 헤드 유닛과 헤드 유닛을 세정하는 상기 헤드 세정 유닛에 대하여 설명하기로 한다. 특히, 이하에서는 상기 헤드 유닛을 헤드로 표현하기로 하고, 상기 헤드 세정 유닛을 그 구조적 특징에 따라 세정 블레이드로 표현하기로 한다.
도 1 및 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 개략적인 구성도들이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 기판 처리 장치는 언급한 헤드(11), 및 세정 블레이드(13)를 구비할 수 있다.
상기 헤드(11)는 기판으로 약액을 분사하도록 구비된다. 이때, 상기 헤드(11)를 통하여 분사되는 약액은 주로 잉크젯 방식으로 분사되는 액적을 포함할 수 있다.
상기 세정 블레이드(13)는 언급한 바와 같이 상기 헤드(11)를 세정하기 위한 것으로써, 특히 상기 약액을 분사하는 상기 헤드(11)의 분사면에 접촉하는 구조로 상기 헤드(11)의 분사면을 세정하도록 구비될 수 있다. 여기서, 상기 헤드(11)의 분사면을 세정하지 않을 경우 상기 헤드(11)를 통한 상기 약액의 분사시 불량이 발생할 수 있기 때문에 상기 세정 블레이드(13)를 사용하여 상기 헤드(11)의 분사면을 세정하는 것이다.
여기서, 상기 세정 블레이드(13)는 상기 헤드(11)의 분사면에 접촉하는 구조를 가지기 때문에 상기 세정 블레이드(13)는 젖어있는 상태를 유지할 필요가 있다. 다시 말해, 상기 세정 블레이드(13)가 젖어있는 상태를 유지하지 않을 경우에는 상기 세정 블레이드(13)와 접촉하는 상기 헤드(11)의 분사면이 손상되는 상황 등이 발생할 수 있기 때문에 언급한 바와 같이 상기 세정 블레이드(13)를 젖어있는 상태로 만드는 것이다.
따라서 본 발명에서는 상기 세정 블레이드(13)를 젖어있는 상태로 만들기 위하여 상기 세정 블레이드(13)에 세정액을 플로우시킬 수 있는 유로(uro)(17)를 구비시킨다. 즉, 상기 세정 블레이드(13)의 몸체(15) 내부로부터 상기 세정 블레이드(13)의 표면으로 상기 세정액을 플로우시킬 수 있도록 상기 유로(17)를 구비하는 것이다. 다시 말해, 상기 헤드(11)의 분사면으로 상기 세정액을 플로우시킬 수 있도록 상기 유로(17)를 구비하는 것이다. 이에, 본 발명에서는 상기 유로(17)를 통하여 상기 헤드(11)의 분사면으로 상기 세정액을 플로우시킴으로써 상기 세정 블레이드(13)를 젖어있는 상태로 만들 수 있을 뿐만 아니라 나아가 상기 세정 블레이드(13)와 상기 헤드(11)의 분사면 사이에 상기 세정액을 플로우시킴으로써 상기 헤드(11)의 분사면에 대한 세정을 보다 원활하게 수행할 수 있다.
그리고 상기 세정 블레이드(13)의 단부, 즉 상기 헤드(11)의 분사면과 접촉하는 상기 세정 블레이드(13)의 단부를 상기 세정액이 상기 세정 블레이드(13)를 따라 용이하게 외부로 흘러내릴 수 있도록 테이퍼 구조 또는 라운딩 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
또한 본 발명에서의 기판 처리 장치는 상기 세정 블레이드(13)의 표면을 따라 아래로 흘러내리는 상기 세정액을 수집하는 수집부(23)를 더 포함할 수 있다. 아울러 본 발명의 기판 처리 장치는 상기 수집부(23) 및 상기 세정 블레이드(13)의 유로(17)를 연결시키는 연결부(21)를 더 포함할 수 있다. 그리고 상기 연결부(21)에는 상기 수집부(23)로부터 상기 세정 블레이드(13)의 유로(17)로 상기 세정액을 공급할 수 있도록 구비되는 펌프(29), 및 상기 수집부(23)로부터 상기 세정 블레이드(13)의 유로(17)로 공급되는 상기 세정액에 잔류하는 잔류물을 필터링할 수 있도록 구비되는 필터(25)를 더 포함할 수 있다.
이와 같이 본 발명의 기판 처리 장치는 수집부(23), 연결부(21), 펌프(29) 및 필터(25) 등을 더 구비함으로써 상기 세정액의 재사용이 가능하다. 이에, 본 발명의 기판 처리 장치는 상기 세정액을 플로우시키는 구조를 가짐에도 불구하고 상기 세정액의 사용량을 최소화할 수 있다.
그리고 본 발명의 기판 처리 장치의 경우에는 상기 헤드를 세정할 때 뿐만 아니라 상기 세정 블레이드(13) 자체를 세정할 때에도 상기 세정액을 플로우시킬 수 있다. 즉, 상기 헤드의 세정 전,후 또는 세정시 모두에 선택하여 상기 세정액의 플로우를 시킬 수 있는 것이다.
본 발명의 기판 처리 장치는 세정 블레이드를 젖어있는 상태를 유지하도록 세정액을 플로우시키는 유로를 세정 블레이드에 구비함으로써 기존의 모터, 캠, 배스 등과 같은 별도 부재들을 생략할 수 있다.
따라서 본 발명의 기판 처리 장치는 구조적 단순화를 달성할 수 있고, 그 결과 기판 처리 장치를 사용한 공정에서의 생산성 향상을 기대할 수 있을 뿐만 아니라 유지 보수에 따른 효율성의 향상도 기대할 수 있다. 또한 세정액의 사용을 최소화함에 따른 공정 신뢰도의 향상까지도 기대할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 헤드 13 : 세정 블레이드
15 : 몸체 17 : 유로
21 : 연결부 23 : 수집부
25 : 필터 29 : 펌프

Claims (6)

  1. 기판으로 약액을 분사하도록 구비되는 헤드; 및
    상기 약액을 분사하는 상기 헤드의 분사면에 접촉하는 구조로 상기 헤드의 분사면을 세정하도록 구비되는 세정 블레이드를 포함하고,
    상기 헤드의 분사면을 세정할 때 상기 접촉이 이루어지는 상기 세정 블레이드와 상기 헤드의 분사면 사이에 세정액이 플로우되도록 함과 아울러 상기 접촉이 이루어짐에 따라 상기 세정 블레이드로부터 상기 헤드의 분사면에 가해지는 손상을 감소시킬 수 있게 상기 세정 블레이드와 상기 헤드의 분사면 사이에 플로우되는 상기 세정액에 의해 상기 세정 블레이드가 항상 젖어있는 상태를 유지하도록 하고, 그리고 상기 헤드의 분사면을 세정할 때 뿐만 아니라 상기 세정 블레이드 자체를 세정할 때에도 상기 세정액이 상기 세정 블레이드의 표면을 따라 흘러내도록 할 수 있게 상기 세정 블레이드는 상기 헤드의 분사면으로 세정액을 플로우시킬 수 있도록 유로(uro)를 구비하고, 상기 세정 블레이드의 단부는 상기 헤드의 분사면으로 플로우되는 세정액이 상기 세정 블레이드의 표면을 따라 아래로 흘러내릴 수 있는 구조를 갖도록 구비되고, 그리고
    상기 세정 블레이드의 표면을 따라 아래로 흘러내리는 상기 세정액을 수집하는 수집부;
    상기 수집부 및 상기 세정 블레이드의 유로를 연결시키는 연결부를 더 포함하되,
    상기 연결부에는 상기 수집부로부터 상기 세정 블레이드의 유로로 상기 세정액을 공급할 수 있도록 구비되는 펌프, 및 상기 수집부로부터 상기 세정 블레이드의 유로로 공급되는 상기 세정액에 잔류하는 잔류물을 필터링할 수 있도록 구비되는 필터를 더 포함함으로써, 상기 헤드의 분사면을 세정할 때 뿐만 아니라 상기 세정 블레이드 자체를 세정할 때에도 상기 세정액의 재사용을 통하여 상기 세정액의 사용량을 상대적으로 절감할 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 세정 블레이드의 단부는 테이퍼 구조 또는 라운딩 구조를 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 세정 블레이드의 유로는 몸체 내부로부터 상기 헤드의 분사면에 접촉하는 상기 몸체 단부로 상기 세정액을 플로우시킬 수 있도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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