KR102312556B1 - Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method - Google Patents
Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- KR102312556B1 KR102312556B1 KR1020197016656A KR20197016656A KR102312556B1 KR 102312556 B1 KR102312556 B1 KR 102312556B1 KR 1020197016656 A KR1020197016656 A KR 1020197016656A KR 20197016656 A KR20197016656 A KR 20197016656A KR 102312556 B1 KR102312556 B1 KR 102312556B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- glass substrate
- housing
- air supply
- opening
- surface treatment
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 143
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 98
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims abstract description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 46
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 15
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 66
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 9
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 9
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 5
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002438 flame photometric detection Methods 0.000 description 3
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000007600 charging Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
- B65G49/064—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/311—Etching the insulating layers by chemical or physical means
- H01L21/31105—Etching inorganic layers
- H01L21/31111—Etching inorganic layers by chemical means
- H01L21/31116—Etching inorganic layers by chemical means by dry-etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2201/00—Indexing codes relating to handling devices, e.g. conveyors, characterised by the type of product or load being conveyed or handled
- B65G2201/02—Articles
- B65G2201/0214—Articles of special size, shape or weigh
- B65G2201/022—Flat
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
본 발명에 의한 유리 기판(P)의 제조 장치(10)는 유리 기판(P)을 소정의 방향(X1)으로 반송하는 반송 장치(11)와 표면 처리 장치(12)를 구비한다. 표면 처리 장치(12)는 하우징(14)과, 하우징(14) 중 한쪽의 주표면(P1)의 측으로 개구하고 있는 개구부(17)와, 개구부(17)에 대하여 분리가 가능하도록 부착되며, 한쪽의 주표면(P1)에 처리 가스(Ga)를 공급하기 위한 급기구(31)를 갖는 1 또는 복수의 급기 유닛(18)을 구비한다. 여기에서 급기 유닛(18)은 개구부(17) 중 유리 기판(P)의 반송 방향(X1)을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있다.The manufacturing apparatus 10 of the glass substrate P by this invention is equipped with the conveyance apparatus 11 and the surface treatment apparatus 12 which convey the glass substrate P in predetermined direction X1. The surface treatment device 12 is detachably attached to the housing 14, the opening 17 opened to the side of the main surface P1 of one of the housing 14, and the opening 17 so as to be detachable. One or a plurality of air supply units 18 having an air supply port 31 for supplying a process gas Ga to the main surface P1 of the . Here, the air supply unit 18 can be attached to the some position along the conveyance direction X1 of the glass substrate P among the opening parts 17.
Description
본 발명은 유리 기판의 제조 장치 및 제조 방법에 관한 것이며, 특히 유리 기판이 되는 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 대하여 처리 가스에 의한 표면 처리를 실시하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a glass substrate, and more particularly to an apparatus and method for performing surface treatment with a processing gas on one main surface of plate-shaped glass used as a glass substrate.
주지와 같이 최근의 화상 표시 장치에 대해서는 액정 디스플레이(LCD), 플라스마디스플레이(PDP), 필드 이미션 디스플레이(FED), 유기 EL 디스플레이(OLED) 등으로 대표되는 플랫 패널 디스플레이(이하, 간단히 FPD라고 한다)가 주류가 되어 있다. 이들 FPD에 대해서는 경량화가 추진되어 있는 점에서 FPD에 사용되는 유리 기판에 대해서도 박판화에 대한 요구가 높아지고 있다.As is well known, in recent image display devices, flat panel displays (hereinafter simply referred to as FPDs) represented by liquid crystal displays (LCDs), plasma displays (PDPs), field emission displays (FEDs), organic EL displays (OLEDs), etc. ) is the mainstream. Since weight reduction is being promoted about these FPDs, the request|requirement with respect to thickness reduction is increasing also about the glass substrate used for FPD.
상술한 유리 기판은, 예를 들면 각종 다운 드로우법으로 대표되는 판형상 유리의 성형 방법에 의해 띠상으로 성형한 판형상 유리(띠상 판유리)를 소정 치수로 절단하고, 절단한 판형상 유리의 폭 방향(띠상 판유리의 표리면(表裏面)에 평행하며, 또한 길이 방향에 직교하는 방향을 말한다. 이하, 동일) 양단 부분을 더 절단한 후 필요에 따라 각 절단면에 연마 가공을 실시하는 등에 의해 얻어진다.In the above-mentioned glass substrate, for example, a plate-shaped glass (band-shaped plate glass) formed in a band shape by a forming method of plate-shaped glass typified by various down-draw methods is cut to a predetermined size, and the cut plate-shaped glass width direction (It refers to the direction parallel to the front and back surfaces of the strip-shaped plate glass and perpendicular to the longitudinal direction. Hereinafter, the same) After further cutting both ends, it is obtained by subjecting each cut surface to a grinding process as necessary. .
그런데 이 종류의 유리 기판을 제조하는 것에 있어서는 그 제조 과정에 있어서의 정전기의 대전이 문제가 되는 경우가 있다. 즉, 절연체인 유리는 매우 대전하기 쉬운 성질을 갖고 있으며, 유리 기판의 제조 공정에 있어서, 예를 들면 재치대에 유리 기판을 재치하여 소정 가공을 실시할 때 유리 기판과 재치대의 접촉 박리에 의해 유리 기판이 대전하는 경우가 있다(이것을 박리 대전이라고 부르는 경우가 있다). 대전한 유리 기판에 도전성의 물체가 가까이 가면 방전이 발생하고, 이 방전에 의해 유리 기판의 표면상에 형성된 각종 소자나 전자 회로를 구성하는 전극선의 파손 또는 유리 기판 자체의 파손을 초래할 우려가 있다(이들을 절연 파괴 또는 정전 파괴라고 부르는 경우가 있다). 또한, 대전한 유리 기판은 재치대에 부착하기 쉽고, 이것을 무리하게 박리함으로써 유리 기판의 파손을 초래할 우려도 있다. 이들은 당연히 표시 불량의 원인이 되기 때문에 최대한 회피해야 할 사상이다.By the way, in manufacturing this kind of glass substrate, electrostatic charging in the manufacturing process may become a problem. That is, glass, which is an insulator, has a property of being very easy to charge, and in the manufacturing process of a glass substrate, for example, when a glass substrate is placed on a mounting table and predetermined processing is performed, the glass substrate and the glass substrate are separated by contact peeling of the mounting table. The substrate is sometimes charged (this is sometimes called peeling charging). When a conductive object comes close to a charged glass substrate, a discharge is generated, which may cause damage to the electrode wires constituting various elements or electronic circuits formed on the surface of the glass substrate or damage to the glass substrate itself. They are sometimes called dielectric breakdown or electrostatic breakdown). Moreover, a charged glass substrate is easy to adhere to a mounting table, and there exists a possibility of causing damage to a glass substrate by peeling this forcibly. These are events that should be avoided as much as possible because they naturally cause display defects.
상기 사상을 회피하기 위한 수단으로서, 예를 들면 유리 기판의 이면(재치대의 재치면과 접촉하는 측의 면)에 소정 처리 가스를 공급함으로써 이면에 표면 처리를 실시하고, 이에 따라 이면을 조면화하는 방법이 생각된다. 유리 기판과 재치대의 접촉 면적이 클수록 박리했을 때의 대전량이 증대하는 경향이 있는 점에서 재치대의 재치면과 접촉하는 유리 기판의 이면을 조면화함으로써 유리 기판과 재치대의 접촉 면적을 감소시켜서 박리 시의 대전 억제를 도모하는 것이 가능해지는 것으로 기대된다. 또한, 유리 기판의 접촉면(이면)이 평활할수록 재치면과 같은 평활면에 부착하기 쉬운 점을 감안하여 상술한 바와 같이 유리 기판의 이면을 조면화해서, 예를 들면 상기 이면의 표면 거칠기를 재치면의 표면 거칠기보다 크게 함으로써 유리 기판을 재치면에 부착하기 어렵게 할 수 있고, 이에 따라 박리 시의 유리 기판의 파손 방지가 가능해지는 것으로 기대된다.As a means for avoiding the above event, for example, by supplying a predetermined processing gas to the back surface of the glass substrate (the surface on the side in contact with the mounting surface of the mounting table), the back surface is subjected to surface treatment, thereby roughening the back surface. way is thought Since the amount of charge at the time of peeling tends to increase so that the contact area of a glass substrate and a mounting table is large, the contact area of a glass substrate and a mounting table is reduced by roughening the back surface of the glass substrate in contact with the mounting surface of a mounting table, and, at the time of peeling It is expected that it will become possible to achieve charge suppression. In addition, in view of the fact that the smoother the contact surface (rear surface) of the glass substrate is, the easier it is to adhere to a smooth surface such as a mounting surface. By making it larger than the surface roughness of can make it difficult to adhere a glass substrate to a mounting surface, it is expected that damage prevention of the glass substrate at the time of peeling will become possible by this.
여기에서 상기와 같은 표면 처리를 가능하게 하는 구성으로서, 예를 들면 하기 특허문헌 1에는 유리 기판을 재치한 상태로 소정의 방향으로 반송하는 반송 수단과, 불화 수소 가스를 포함하는 처리 가스를 반송 경로상의 유리 기판의 한쪽의 주표면(이면이 되는 측의 주표면)을 향해서 공급하고, 또한 공급한 처리 가스를 배기계로 배출하는 인젝터를 구비한 표면 처리 장치가 기재되어 있다. 여기에서 인젝터에는 불화 수소 가스원과 접속되는 제 1 슬릿이 유리 기판의 반송 방향 소정 위치에 설치됨과 아울러, 캐리어 가스원과 접속되는 제 2 슬릿이 제 1 슬릿의 상기 반송 방향 양측의 소정 위치에 설치되어 있다. 또한, 배기계와 접속되는 제 3 슬릿이 제 2 슬릿의 상기 반송 방향 양측의 소정 위치에 더 설치되어 있다.Here, as a structure that enables the surface treatment as described above, for example, in Patent Document 1 below, a conveying means for conveying a glass substrate in a predetermined direction and a conveying path for conveying a processing gas containing hydrogen fluoride gas A surface treatment apparatus provided with an injector for supplying toward one main surface (the main surface on the side serving as a back surface) of an upper glass substrate and discharging the supplied processing gas to an exhaust system is described. Here, in the injector, a first slit connected to the hydrogen fluoride gas source is provided at a predetermined position in the conveyance direction of the glass substrate, and a second slit connected to the carrier gas source is provided at a predetermined position on both sides of the first slit in the conveyance direction. has been In addition, a third slit connected to the exhaust system is further provided at predetermined positions on both sides of the second slit in the conveying direction.
이와 같이 처리 가스에 의한 표면 처리를 실시할 경우 표면 처리의 결과(처리 후의 표면 품질)는 반송 수단에 의한 유리 기판의 반송 속도는 물론이고, 처리 가스의 종류나 공급량, 공급 위치에 의해서도 크게 좌우된다. 그 때문에 실제로 상술한 표면 처리를 실시할 때에는 처리 대상이 되는 유리 기판의 재질, 사이즈, 제조 라인의 구성 등에 따라 유리 기판의 반송 속도나 처리 가스의 종류, 공급량, 및 공급 위치(특허문헌 1에서 말하면 제 1 및 제 2 슬릿의 위치) 등을 적당히 설정하는 것이 필요하다. 그런데 특허문헌 1에 기재된 표면 처리 장치이면 처리 가스를 공급하는 제 1 슬릿 및 제 2 슬릿이 미리 소정 위치에 고정되어 있기 때문에 유리 기판의 종류(재질, 두께, 반송 방향 치수 등)에 따라 처리 가스의 공급 위치를 변경할 수 없다. 이러면 제조 대상이 되는 유리 기판을 변경했을 경우 양질인 표면 처리를 실시하는 것은 어렵다.When the surface treatment is performed with the processing gas in this way, the result of the surface treatment (surface quality after treatment) is greatly influenced by the type, supply amount, and supply position of the processing gas as well as the conveyance speed of the glass substrate by the conveying means. . Therefore, when actually performing the above-mentioned surface treatment, depending on the material, size, configuration of a production line, etc. of the glass substrate to be treated, the conveyance speed of the glass substrate, the type of processing gas, the supply amount, and the supply position (as in Patent Document 1) It is necessary to appropriately set the positions of the first and second slits). By the way, in the case of the surface treatment apparatus described in Patent Document 1, since the first slit and the second slit for supplying the processing gas are fixed at predetermined positions in advance, the amount of the processing gas depends on the type of the glass substrate (material, thickness, transport direction dimension, etc.). The supply location cannot be changed. In such a case, when the glass substrate used as a manufacture object is changed, it is difficult to perform a quality surface treatment.
이상의 사정을 감안하여 유리 기판이 되는 판형상 유리의 종류에 의하지 않고, 상기 판형상 유리에 대하여 양질인 표면 처리를 실시하는 것을 본 발명에 의해 해결해야 할 기술적 과제로 한다.In view of the above circumstances, it is a technical problem to be solved by the present invention to perform a high-quality surface treatment on the plate-shaped glass irrespective of the type of the plate-shaped glass used as the glass substrate.
상기 과제의 해결은 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치에 의해 달성된다. 즉, 이 제조 장치는 유리 기판이 되는 판형상 유리를 소정의 방향으로 반송하는 반송 장치와, 반송 장치로 반송되고 있는 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 처리 가스를 공급해서 소정의 표면 처리를 실시하는 표면 처리 장치를 구비한 유리 기판의 제조 장치에 있어서, 표면 처리 장치는 하우징과, 하우징 중 한쪽의 주표면의 측으로 개구하고 있는 개구부와, 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 부착되며, 한쪽의 주표면에 처리 가스를 공급하기 위한 급기구를 갖는 1 또는 복수의 급기 유닛을 구비하고, 급기 유닛은 개구부 중 판형상 유리의 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있는 점으로서 특징지어진다.The solution of the said subject is achieved by the manufacturing apparatus of the glass substrate by this invention. That is, this manufacturing apparatus performs a predetermined surface treatment by supplying a processing gas to one main surface of a conveying apparatus which conveys the plate-shaped glass used as a glass substrate in a predetermined direction, and the plate-shaped glass conveyed by the conveying apparatus. An apparatus for manufacturing a glass substrate having a surface treatment apparatus comprising: a housing; an opening opening to the side of one main surface of the housing; One or a plurality of air supply units having an air supply port for supplying a process gas to the air supply unit are provided, and the air supply units are characterized in that the air supply units can be attached to a plurality of positions along the conveyance direction of the plate-shaped glass among the openings.
이와 같이 본 발명에서는 반송되고 있는 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 처리 가스를 공급하기 위한 급기구를 갖는 부재를 유닛화하고, 판형상 유리의 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 했다. 이와 같이 구성함으로써 급기 유닛의 부착 위치를 변경하는 것만으로 용이하게 급기구의 반송 방향 위치를 조정할 수 있다. 따라서, 반송되는 판형상 유리의 종류를 변경할 필요가 발생한 경우이어도 용이하게 최적인 처리 조건을 설정할 수 있고, 이에 따라 양질인 표면 처리를 판형상 유리에 실시하는 것이 가능해진다. 또는 동일 종류의 판형상 유리이어도 생산 상황이나 제조 라인의 다른 부분의 구성에 따라 반송 속도를 변경할 수도 있지만, 그러한 경우에 있어서도 급기 유닛의 부착 위치를 변경함으로써 처리 가스의 공급 위치를 포함시킨 공급 조건을 용이하게 설정할 수 있어 양질인 표면 처리를 실시하는 것이 가능해진다.As described above, in the present invention, a member having an air supply port for supplying a processing gas to one main surface of the plate-shaped glass being conveyed is unitized, and can be attached at a plurality of positions along the conveying direction of the plate-shaped glass. By comprising in this way, the conveyance direction position of an air supply port can be easily adjusted only by changing the attachment position of an air supply unit. Therefore, even when it is necessary to change the kind of plate-shaped glass to be conveyed, optimal processing conditions can be set easily and it becomes possible to give high-quality surface treatment to plate-shaped glass by this. Alternatively, even for the same type of plate-shaped glass, the conveying speed may be changed according to the production situation or the configuration of other parts of the production line. It can be set easily and it becomes possible to give a high quality surface treatment.
또한, 본 발명에서는 표면 처리 장치의 하우징에 개구부를 형성함과 아울러, 이 개구부에 상기 구성의 급기 유닛을 부착하도록 했으므로 급기 유닛의, 예를 들면 배관계를 포함하는 대부분을 하우징의 내부 공간에 배치할 수 있다. 이에 따라 표면 처리 장치를 필요 이상으로 대형화시키는 일 없이 제조 라인에 장착할 수 있다. 또한, 하우징 내부의 대부분을 공동(空洞)으로 할 수 있으므로 급기 유닛의 부착 위치가 변경되거나 또는 추가되었을 경우이어도 다른 부재와의 간섭이 문제가 될 우려도 없다.In addition, in the present invention, since an opening is formed in the housing of the surface treatment device and the air supply unit having the above configuration is attached to the opening, most of the air supply unit, for example, including the piping system, can be arranged in the inner space of the housing. can Accordingly, it is possible to mount the surface treatment apparatus on a production line without making the surface treatment apparatus larger than necessary. In addition, since most of the inside of the housing can be made hollow, there is no fear that interference with other members becomes a problem even when the attachment position of the air supply unit is changed or added.
또한, 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치는 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 부착되며, 처리 가스의 배기를 행하는 배기 유닛을 더 구비하고, 배기 유닛은 개구부 중 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있는 것이어도 좋다.Further, the apparatus for manufacturing a glass substrate according to the present invention is detachably attached to the opening and further includes an exhaust unit for evacuating the process gas, the exhaust unit being attachable to a plurality of positions along the conveying direction among the openings. It may be something that is supposed to be done.
상기 구성에 의하면 배기 유닛의 부착 위치를 변경하는 것만으로 처리 가스의 배기구에 대해서도 용이하게 그 반송 방향 위치를 조정할 수 있다. 배기구의 위치는 급기구의 위치와 마찬가지로 한쪽의 주표면에 면하는 공간에 있어서의 처리 가스의 흐름에 영향을 부여하는 요소이기 때문에 상술한 바와 같이 배기구의 위치를 조정함으로써 최적인 처리 조건을 설정할 수 있다. 따라서, 용이하게 처리 가스에 의한 판형상 유리의 처리 조건을 다시 설정할 수 있고, 이것에 의해서도 양질인 표면 처리를 판형상 유리에 실시하는 것이 가능해진다.According to the above configuration, it is possible to easily adjust the position in the conveying direction of the exhaust port of the process gas only by changing the attachment position of the exhaust unit. Since the position of the exhaust port is a factor that affects the flow of the process gas in the space facing one main surface, similar to the position of the air supply port, the optimal processing conditions can be set by adjusting the position of the exhaust port as described above. have. Therefore, the processing conditions of the plate-shaped glass by the processing gas can be easily set again, and it becomes possible also by this to give high-quality surface treatment to the plate-shaped glass.
또한, 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치는 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 부착되며, 개구부를 막는 더미 유닛을 더 구비하고, 더미 유닛은 개구부 중 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있는 것이어도 좋다.Further, the apparatus for manufacturing a glass substrate according to the present invention is detachably attached to the opening and further includes a dummy unit for blocking the opening, wherein the dummy unit is attachable to a plurality of positions along the conveying direction among the openings. it may be good
상기 구성에 의하면 하우징의 개구부에 위치 또는 복수의 급기 유닛과, 필요에 따라 배기 유닛을 부착했을 때 개구부의 나머지의 부분을 더미 유닛으로 막을 수 있다. 이에 따라 급기 유닛의 부착 위치를 용이하게 조정할 수 있다. 또한, 더미 유닛으로 개구부를 완전히 막을 수 있으므로 급기 유닛 등이 어떤 배치를 취한 경우에도 처리 가스의 흐름을 저해하는 일 없이 양질인 표면 처리를 용이하게 실시하는 것이 가능해진다. 또한, 유닛화함으로써 급기 유닛과 치수를 공통화해서 용이하게 급기 유닛과 더미 유닛의 위치를 치환할 수 있다. 따라서, 재조합이 신속하게 행해진다.According to the above configuration, when a position or a plurality of air supply units and, if necessary, an exhaust unit are attached to the opening of the housing, the remaining portion of the opening can be blocked with a dummy unit. Accordingly, the attachment position of the air supply unit can be easily adjusted. In addition, since the opening can be completely blocked by the dummy unit, it becomes possible to easily perform high-quality surface treatment without impeding the flow of the processing gas even when the air supply unit or the like is arranged in any arrangement. In addition, by unitizing the air supply unit and the common size, the positions of the air supply unit and the dummy unit can be easily replaced. Therefore, recombination is performed quickly.
또한, 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치는 급기 유닛이 개구부에 부착된 상태로 한쪽의 주표면과의 사이에 소정 극간을 형성하는 극간 형성면을 갖는 것이어도 좋다. 배기 유닛이나 더미 유닛을 더 구비할 경우, 이들 배기 유닛이나 더미 유닛에 대해서도 극간 형성면을 갖는 것이어도 좋다.Moreover, the manufacturing apparatus of the glass substrate by this invention may have a gap formation surface which forms a predetermined gap between one main surface in the state with which the air supply unit was attached to the opening part. When an exhaust unit or a dummy unit is further provided, the exhaust unit or the dummy unit may also have a gap forming surface.
이와 같이 개구부에 부착되는 각 유닛에 극간 형성면을 형성함으로써 각 유닛의 부착 위치에 상관없이 한쪽의 주표면과의 사이에 소정 극간을 형성할 수 있다. 이에 따라 처리 가스의 흐름에 영향을 부여하는 극간의 크기, 형상을 항상 조정할 수 있으므로 양질인 표면 처리를 보다 안정적으로 실시하는 것이 가능해진다.By forming the gap forming surface on each unit attached to the opening in this way, it is possible to form a predetermined gap with one main surface regardless of the attachment position of each unit. Thereby, since the size and shape of the poles that affect the flow of the processing gas can always be adjusted, it becomes possible to more stably perform high-quality surface treatment.
또한, 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치는 급기 유닛이 개구부에 부착된 상태로 반송 장치에 의해 반송되고 있는 판형상 유리의 상기 한쪽의 주표면을 지지하는 롤러를 갖는 것이어도 좋다. 배기 유닛이나 더미 유닛을 더 구비할 경우, 이들 배기 유닛이나 더미 유닛에 대해서도 한쪽의 주표면을 지지하는 롤러를 갖는 것이어도 좋다.Moreover, the manufacturing apparatus of the glass substrate by this invention may have a roller which supports the said one main surface of the plate-shaped glass conveyed by the conveying apparatus in the state which the air supply unit adhered to the opening part. When the exhaust unit or the dummy unit is further provided, the exhaust unit or the dummy unit may also have a roller supporting one main surface thereof.
이와 같이 판형상 유리의 한쪽의 주표면을 지지하는 롤러를 각 유닛에 설치함으로써 이들 롤러를 반송 장치의 구성 요소로서 표면 처리 장치 중에 장착할 수 있다. 이에 따라 판형상 유리가 반송 방향으로 큰 치수를 갖는 경우이어도 표면 처리 장치를 통과하고 있는 부분을 확실하게 지지하여 각 유닛과의 사이에 소정 극간을 형성하는 것이 가능해진다. 따라서, 이것에 의해서도 양질인 표면 처리를 안정적으로 실시하는 것이 가능해진다.By providing in each unit the rollers supporting one main surface of the plate-shaped glass in this way, these rollers can be mounted in the surface treatment apparatus as a component of the conveying apparatus. Thereby, even if it is a case where the plate-shaped glass has a large dimension in a conveyance direction, it becomes possible to support the part which is passing through the surface treatment apparatus reliably, and to form a predetermined clearance gap between each unit. Therefore, it becomes possible also by this to perform quality surface treatment stably.
또한, 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치는 급기 유닛이 개구부에 대해서 감합하여 부착되고, 이에 따라 하우징의 내부 공간을 밀폐하고 있는 것이어도 좋다. 배기 유닛이나 폐쇄 유닛을 더 구비할 경우, 이들 배기 유닛이나 더미 유닛에 대해서도 개구부에 대해서 감합하여 부착되고, 이에 따라 하우징의 내부 공간을 밀폐하고 있는 것이어도 좋다.Moreover, as for the manufacturing apparatus of the glass substrate by this invention, an air supply unit fits with respect to an opening part, and it attaches, and what is sealing the internal space of a housing by this may be sufficient. When an exhaust unit or a closing unit is further provided, the exhaust unit or the dummy unit may also be fitted and attached to the opening, thereby sealing the inner space of the housing.
이와 같이 구성함으로써 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 각 유닛이 부착되는 구성을 취할 경우이어도 하우징의 내부 공간을 확실하게 밀폐할 수 있다. 이에 따라 극간에 있어서의 처리 가스의 흐름을 저해하는 사태를 가급적으로 회피하여 표면 처리를 안정적으로 실시할 수 있다. 또한, 후술과 같이 하우징의 내부 공간을 배기 유닛과 연결해서 배기계를 구성할 경우에는 하우징의 내부 공간을 밀폐함으로써 소요의 배기 성능을 확보할 수 있다.By configuring in this way, even in a case where each unit is attached so as to be detachable from the opening, the inner space of the housing can be securely sealed. Thereby, the situation which inhibits the flow of the process gas in the gap can be avoided as much as possible, and the surface treatment can be performed stably. In addition, as described later, when the exhaust system is configured by connecting the internal space of the housing to the exhaust unit, the required exhaust performance can be secured by sealing the internal space of the housing.
또한, 배기 유닛을 구비할 경우, 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치는 배기 유닛에 한쪽의 주표면과 배기 유닛 사이의 공간과 하우징의 내부 공간을 연결하는 제 1 배기구가 형성되어 하우징의 내부 공간은 처리 가스용의 스크러버와 연결되어 있는 것이어도 좋다.In addition, when an exhaust unit is provided, the apparatus for manufacturing a glass substrate according to the present invention is formed with a first exhaust port connecting the space between the main surface and the exhaust unit on one side of the exhaust unit and the internal space of the housing, so that the internal space of the housing What is connected with the scrubber for silver processing gas may be sufficient.
이와 같이 하우징의 내부 공간을 처리 가스용의 스크러버와 연결한 구성을 취함으로써 배기 유닛의 부착 위치에 상관없이 처리 가스의 배기계를 보다 간소하게 구성할 수 있다. 또한, 배기되는 가스에는 처리 가스뿐만 아니라 외기(통상, 공기)도 포함되기 때문에 가령 처리 가스가 포함되어 있었다고 해도 그 농도는 급기 시점에 비해 낮다. 따라서, 내식성을 그 정도 고려하는 일 없이 하우징의 내부 공간에서 배기 유닛으로부터 스크러버에 도달하는 배기계를 구성할 수 있다.By adopting the configuration in which the inner space of the housing is connected to the scrubber for the processing gas in this way, the exhaust system for the processing gas can be configured more simply regardless of the attachment position of the exhaust unit. In addition, since the exhaust gas includes not only the process gas but also outside air (usually, air), even if the process gas is included, the concentration thereof is lower than at the time of supplying air. Accordingly, it is possible to constitute an exhaust system reaching the scrubber from the exhaust unit in the inner space of the housing without considering the corrosion resistance to that extent.
또한, 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치는 하우징 중 판형상 유리의 반송 방향 양단부에 한쪽의 주표면과 하우징 사이의 공간과 하우징의 내부 공간을 연결하는 제 2 배기구가 형성되어 하우징의 내부 공간은 처리 가스용의 스크러버와 연결되어 있는 것이어도 좋다.In addition, in the apparatus for manufacturing a glass substrate according to the present invention, a second exhaust port is formed at both ends of the housing in the conveyance direction of the plate-shaped glass, which connects the space between one main surface and the housing and the inner space of the housing, so that the inner space of the housing is What is connected with the scrubber for processing gas may be sufficient.
급기구와 배기구의 위치 관계에 대해서 검토한 결과, 1 또는 복수의 급기구가 판형상 유리의 반송 방향 중앙측에 배치될 때에 2개의 배기구가 판형상 유리의 반송 방향 양단부에 배치되는 구성을 취했을 경우에 균등한 처리 가스의 흐름이 판형상 유리의 반송 방향 전역(표면 처리 장치에 의한 반송 방향의 처리 영역의 전역)에 걸쳐 형성되는 것이 판명되었다. 따라서, 하우징 중 판형상 유리의 반송 방향 양단부에 한쪽의 주표면과 하우징 사이의 공간과 하우징의 내부 공간을 연결하는 제 2 배기구를 형성함으로써 처리 가스의 장치 외로의 유출을 방지하면서 판형상 유리와의 사이에서 양호한 처리 가스의 흐름을 형성하는 것이 가능해진다. 이들 제 2 배출구는 모두 하우징에 고정된 상태로 할 수 있는 점에서 단 교체(각 유닛의 치환)에 영향을 미치지 않고 완료된다.As a result of examining the positional relationship between the air supply port and the exhaust port, when one or more air supply ports are arranged on the center side in the conveying direction of the plate-shaped glass, when two exhaust ports are arranged at both ends of the plate-shaped glass in the conveying direction, It became clear that the flow of the process gas equivalent to was formed over the whole conveyance direction (the whole area of the processing area|region of the conveyance direction by a surface treatment apparatus) of plate-shaped glass. Therefore, by forming a second exhaust port connecting the space between one main surface and the housing and the inner space of the housing at both ends of the housing in the conveying direction of the plate-shaped glass to prevent the outflow of the processing gas to the outside of the device, the process gas is separated from the plate-shaped glass. It becomes possible to form a good flow of process gas between them. These second outlets are all completed without affecting the stage replacement (replacement of each unit) in that they can all remain fixed to the housing.
또한, 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 장치는 급기 유닛이 하우징에 부착된 연통관의 일단과 접속되고, 연통관의 타단측은 플렉시블 호스를 통해 하우징의 외부에 위치하는 처리 가스 발생 장치와 접속되어 있는 것이어도 좋다.Further, in the apparatus for manufacturing a glass substrate according to the present invention, the air supply unit is connected to one end of a communication pipe attached to the housing, and the other end of the communication pipe is connected to a processing gas generator located outside the housing through a flexible hose. good.
이와 같이 구성함으로써 통상 하우징의 근방에 설치되는 처리 가스 발생 장치를 고정한 채로 급기 유닛의 위치 교체에 용이하며, 또한 신속하게 대응할 수 있다. 따라서, 단 교체가 단시간으로 완료되는 메리트를 향수할 수 있다.By configuring in this way, it is possible to easily and quickly change the position of the air supply unit while the processing gas generator normally installed in the vicinity of the housing is fixed. Therefore, it is possible to enjoy the advantage that the stage replacement is completed in a short time.
또한, 상기 과제의 해결은 본 발명에 의한 유리 기판의 제조 방법에 의해서도 달성된다. 즉, 이 제조 방법은 유리 기판이 되는 판형상 유리를 소정의 방향으로 반송하는 반송 공정과, 소정의 방향으로 반송되고 있는 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 소정의 표면 처리를 실시하는 표면 처리 공정을 구비한 유리 기판의 제조 방법에 있어서, 표면 처리 공정은 표면 처리 장치에 의해 소정의 방향으로 반송되고 있는 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 처리 가스를 공급함으로써 행해지고, 표면 처리 장치는 하우징과, 하우징 중 한쪽의 주표면의 측으로 개구하고 있는 개구부와, 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 부착되며, 한쪽의 주표면에 처리 가스를 공급하기 위한 급기구를 갖는 1 또는 복수의 급기 유닛을 구비하고, 급기 유닛은 개구부 중 판형상 유리의 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있는 점으로서 특징지어진다.Moreover, the solution of the said subject is achieved also with the manufacturing method of the glass substrate by this invention. That is, in this manufacturing method, the conveyance process of conveying the plate-shaped glass used as a glass substrate in a predetermined direction, and the surface treatment process of giving predetermined surface treatment to one main surface of the plate-shaped glass conveyed in a predetermined direction In the method of manufacturing a glass substrate having One or a plurality of air supply units having an opening opening to the side of one main surface of the housing, and detachably attached to the opening, and an air supply port for supplying a process gas to one main surface, The unit is characterized as a point capable of being attached to a plurality of positions along the conveyance direction of the plate-shaped glass among the openings.
본 발명에 의한 제조 방법에 의하면 상술한 본 발명에 의한 제조 장치와 마찬가지로 급기 유닛의 부착 위치를 변경하는 것만으로 용이하게 급기구의 반송 방향 위치를 조정할 수 있다. 따라서, 반송되는 판형상 유리의 종류를 변경할 필요가 발생했을 경우이어도 용이하게 최적인 처리 조건을 설정할 수 있고, 이에 따라 양질인 표면 처리를 판형상 유리에 실시하는 것이 가능해진다. 또는 동일 종류의 판형상 유리이어도 생산 상황이나 제조 라인의 다른 부분의 구성에 따라 반송 속도를 변경할 수도 있지만, 그러한 경우에 있어서도 처리 가스의 공급 위치를 포함시킨 공급 조건을 용이하게 설정할 수 있어 양질인 표면 처리를 실시하는 것이 가능해진다.According to the manufacturing method by this invention, similarly to the manufacturing apparatus by this invention mentioned above, just by changing the attachment position of an air supply unit, the conveyance direction position of an air supply port can be easily adjusted. Therefore, even when it is necessary to change the kind of plate-shaped glass to be conveyed, optimal processing conditions can be set easily and it becomes possible to give high-quality surface treatment to plate-shaped glass by this. Alternatively, even for the same type of plate-shaped glass, the conveying speed can be changed according to the production situation or the configuration of other parts of the production line. It becomes possible to perform a process.
또한, 본 발명에서는 표면 처리 장치의 하우징에 개구부를 형성함과 아울러, 이 개구부에 상기 구성의 급기 유닛을 부착하도록 했으므로 급기 유닛의, 예를 들면 배관계를 포함하는 대부분을 하우징의 내부 공간에 배치할 수 있다. 이에 따라 표면 처리 장치를 필요 이상으로 대형화시키는 일 없이 제조 라인에 장착할 수 있다. 또한, 하우징 내부의 대부분을 공동으로 할 수 있으므로 급기 유닛의 부착 위치가 변경되거나 또는 추가되었을 경우이어도 다른 부재와의 간섭이 문제가 될 우려도 없다.In addition, in the present invention, since an opening is formed in the housing of the surface treatment device and the air supply unit having the above configuration is attached to the opening, most of the air supply unit, for example, including the piping system, can be arranged in the inner space of the housing. can Accordingly, it is possible to mount the surface treatment apparatus on a production line without making the surface treatment apparatus larger than necessary. In addition, since most of the interior of the housing can be shared, there is no fear of interference with other members even when the attachment position of the air supply unit is changed or added.
(발명의 효과)(Effects of the Invention)
이상에 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면 유리 기판이 되는 판형상 유리의 종류에 의하지 않고, 상기 판형상 유리에 대하여 양질인 표면 처리를 실시하는 것이 가능해진다. As described above, according to the present invention, it becomes possible to perform a high-quality surface treatment on the plate-shaped glass regardless of the type of the plate-shaped glass used as the glass substrate.
도 1은 본 발명의 제 1 실시형태에 의한 유리 기판의 제조 장치의 단면도이다.
도 2는 도 1에 나타내는 표면 처리 장치의 요부 평면도이다.
도 3은 도 1에 나타내는 표면 처리 장치의 각 유닛을 분리한 상태에 있어서의 요부 평면도이다.
도 4는 도 2에 나타내는 표면 처리 장치의 요부 A-A 단면도이다.
도 5는 도 2에 나타내는 급기 유닛을 화살표(B)의 방향으로부터 본 단면도이다.
도 6은 도 5에 나타내는 급기 유닛의 C-C 단면도이다.
도 7은 도 2에 나타내는 배기 유닛을 화살표(D)의 방향으로부터 본 단면도이다.
도 8은 도 1에 나타내는 표면 처리 장치를 사용한 표면 처리의 일례를 설명하기 위한 요부 확대도이다.
도 9는 본 발명의 제 2 실시형태에 의한 유리 기판의 제조 장치의 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing of the manufacturing apparatus of the glass substrate by 1st Embodiment of this invention.
FIG. 2 is a plan view of essential parts of the surface treatment apparatus shown in FIG. 1 .
It is a principal part plan view in the state which isolate|separated each unit of the surface treatment apparatus shown in FIG.
FIG. 4 is a sectional view along main part AA of the surface treatment apparatus shown in FIG. 2 .
It is sectional drawing which looked at the air supply unit shown in FIG. 2 from the direction of the arrow B.
It is CC sectional drawing of the air supply unit shown in FIG.
FIG. 7 is a cross-sectional view of the exhaust unit shown in FIG. 2 as viewed from the direction of the arrow D. FIG.
FIG. 8 is an enlarged view of essential parts for explaining an example of surface treatment using the surface treatment apparatus shown in FIG. 1 .
It is sectional drawing of the manufacturing apparatus of the glass substrate by 2nd Embodiment of this invention.
이하, 본 발명의 제 1 실시형태를 도 1~도 8을 참조해서 설명한다. 또한, 본 실시형태에서는 판형상 유리로서 성형한 띠상 판유리로부터 소정 치수로 잘라낸 유리 기판의 이면에 표면 처리를 실시할 경우를 예로 들어서 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, 1st Embodiment of this invention is described with reference to FIGS. In addition, in this embodiment, the case where surface treatment is given to the back surface of the glass substrate cut out to the predetermined dimension from the strip|belt-shaped plate glass shape|molded as plate-shaped glass is mentioned as an example, and it demonstrates.
도 1은 본 발명의 제 1 실시형태에 의한 유리 기판의 제조 장치(10)의 일실시형태를 나타내고 있다. 이 제조 장치(10)는 유리 기판(P)을 소정의 방향(X1)으로 반송하기 위한 반송 장치(11)와, 반송 장치(11)에 의해 반송되고 있는 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)(도 1에서 말하면 하면)에 소정의 표면 처리를 실시하는 표면 처리 장치(12)와, 반송 장치(11) 및 표면 처리 장치(12)를 수용하는 처리조(13)를 구비한다.1 : has shown one Embodiment of the
이 중 표면 처리 장치(12)는 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)에 처리 가스(Ga)를 공급해서 소정의 표면 처리를 실시하기 위한 것이며, 하우징(14)과, 하우징(14)과의 사이에 유리 기판(P)의 삽입 통과로(15)를 형성하는 헤드부(16)와, 하우징(14) 중 삽입 통과로(15)에 면하는 측(본 실시형태에서는 상측)에 형성되는 개구부(17)와, 개구부(17)에 부착되는 급기 유닛(18)을 주로 구비한다. 본 실시형태에서는 표면 처리 장치(12)는 급기 유닛(18)과 함께 개구부(17)에 부착되는 배기 유닛(19)과 더미 유닛(20a, 20b)을 더 구비하고 있다. 이하, 각 구성 요소의 상세를 설명한다.Among these, the
하우징(14)은 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이 상자형상을 이루는 것이며, 하우징(14)의 상측(유리 기판(P)에 면하는 측)에는 유리 기판(P)의 반송 방향(X1)의 대략 전역에 걸쳐 개구부(17)가 형성되어 있다. 여기에서 개구부(17)는 급기 유닛(18)과 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)이 접촉하는 저부(21)와, 저부(21)의 폭 방향(유리 기판(P)의 반송 방향(X1)에 직교하는 방향을 말한다. 이하, 본 명세서에 있어서 동일) 양측에 위치하는 측벽부(22)와, 저부(21)에 형성되어 하우징(14)의 내부 공간(23)을 하우징(14)의 외부 공간(24)(여기에서는 하우징(14)의 외부 공간으로서 처리조(13)의 내부 공간을 말하는 것으로 한다), 특히 삽입 통과로(15)측의 공간에 연결시켜지는 연통 구멍(25)을 갖는다. 본 실시형태에서는 도 3에 나타내는 바와 같이 연통 구멍(25)의 주위에 O링 등의 실링 부재(26)가 배치되어 있으며, 저부(21) 상에 급기 유닛(18)과 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)을 재치한 상태로는 연통 구멍(25)이 막힘과 아울러, 하우징(14)의 내부 공간(23)이 외부 공간(24)에 대하여 실링된 상태가 된다(도 4를 참조).The
또한, 하우징(14)의 유리 기판(P)의 반송 방향(X1) 양단부에 배기구 형성 부재(27)가 부착되어 있으며, 하우징(14)과 배기구 형성 부재(27) 사이에 폭 방향으로 연장되는 슬릿형상의 배기구(28)가 형성되어 있다(도 2를 참조). 이 배기구(28)는 하우징(14)의 반송 방향(X1) 양단부에 형성된 연통 구멍(29)(도 1을 참조)을 통해 내부 공간(23)에 연결되어 있으며, 후술하는 스크러버(30)(도 1을 참조)에 의한 배기를 가능하게 하고 있다.Further, exhaust
이어서, 급기 유닛(18), 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)의 설명을 행한다.Next, the
급기 유닛(18)과 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)은 각각 하우징(14)의 개구부(17)에 대하여 분리가 가능하도록 부착되며, 있다. 본 실시형태에서는 2개의 급기 유닛(18)과 1개의 배기 유닛(19), 및 5개의 더미 유닛(20a, 20b)이 개구부(17)의 반송 방향(X1)을 따른 소정 위치에 각각 부착되어 있다(도 1을 참조). 상세하게 설명하면 개구부(17) 중 반송 방향(X1)의 가장 상류측으로부터 더미 유닛(20b), 급기 유닛(18), 더미 유닛(20a), 더미 유닛(20a), 더미 유닛(20a), 급기 유닛(18), 배기 유닛(19), 더미 유닛(20a)의 순서로 배치되어 있다. 여기에서 도 2에 나타내는 바와 같이 각 유닛(18~20a)의 반송 방향 치수(C1~C3)는(가장 상류측의 더미 유닛(20b)을 제외하고) 동일하며, 또한 폭 방향 치수(W1~W3)도 동일하다. 이 경우, 배기구 형성 부재(27)를 제외하는 하우징(14)의 반송 방향 치수(L)(도 3을 참조)는 개구부(17)에 부착되는 급기 유닛(18), 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)의 반송 방향 치수(C1~C3)의 총합(도 2를 참조)과 동일하게 되어 있다. 또한, 각 유닛(18~20a, 20b)은 서로 반송 방향(X1)에서 접촉한 상태로 개구부(17)에 부착되어 있다(도 1을 참조). 이에 따라 급기 유닛(18)과 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a)은 개구부(17)의 반송 방향(X1)을 따른 복수의 위치(도시 예에서는 가장 상류측을 제외하는 7개의 위치)에 대하여 임의로 부착 가능하게 되어 있다.The
또한, 개구부(17)의 폭 방향 양측에 위치하는 측벽부(22)의 내측면(22a, 22a) 사이의 거리(T)(도 3을 참조)는 동일하게 개구부(17)에 부착되는 급기 유닛(18), 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)의 폭 방향 치수(W1~W3)(도 2를 참조)로 각각 동일하다. 이에 따라 각 유닛(18~20a, 20b)은 개구부(17)에 대하여, 예를 들면 인로 감합하여 부착된 상태에 있다(도 2 및 도 4를 참조). 이상의 부착 실시형태에 의해 하우징(14)의 내부 공간(23)은 외부 공간(24)에 대하여 밀폐된 상태에 있다.In addition, the distance T (refer to FIG. 3) between the
이 중 급기 유닛(18)은 도 1 및 도 5에 나타내는 바와 같이 유리 기판(P)의 삽입 통과로(15)를 향해 개구하고, 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)을 향해 처리 가스(Ga)를 공급하기 위한 급기구(31)와, 처리 가스 발생 장치(32)(도 1을 참조)에서 발생시킨 처리 가스(Ga)를 급기구(31)에 도입하는 도입부(33)를 갖는다. 여기에서 급기구(31)는, 예를 들면 도 2에 나타내는 바와 같이 폭 방향으로 연장되는 슬릿형상을 이루고 있으며, 이 슬릿형상을 이루는 급기구(31)의 폭 방향 전역에 걸쳐 처리 가스(Ga)를 균등하게 도입할 수 있도록 도입부(33)는 소정 형태의 도입로(34)를 갖는다. 도입부(33)의 일부는 하우징(14)의 연통 구멍(25)을 통해 내부 공간(23)에 위치하고 있다.As shown in FIGS. 1 and 5, the
도 6은 처리 가스(Ga)의 도입로(34)의 일형태를 나타내고 있다. 이 도면에 나타내는 도입로(34)는 처리 가스 발생 장치(32)측으로부터 급기구(31)측을 향해 다단으로 분기된 형태를 이루고 있으며, 이에 따라 급기구(31)의 폭 방향(도 6에서 말하면 좌우측 방향) 전역에 걸쳐 최대한 균등하게 처리 가스(Ga)를 도입할 수 있도록 하고 있다. 본 실시형태에서는 2개의 도입로(34)가 형성되어 있으며, 각 도입로(34)의 급기구(31)와는 반대측의 단부(34a)에 연통관(35)(도 5 중 2점 쇄선으로 나타내고 있다)의 일단이 접속되어 있다. 또한, 이때 도 5에 나타내는 바와 같이 단부(34a)의 내주에 O링 등의 실링 부재(36)를 설치해도 좋다. 연통관(35)은 도 1에 나타내는 바와 같이 하우징(14)의 개구부(17)와 반대측의 부분에 형성된 복수의 관부착부(37)(도 3을 참조) 중 급기 유닛(18)의 하방에 위치하는 관부착부(37)에만 부착되어 있다. 연통관(35)의 타단에는 플렉시블 호스(38)를 통해 처리 가스 발생 장치(32)가 접속되어 있다. 연통관(35)이 부착되어 있지 않는 관부착부(37)에는 덮개(39)가 부착되어 있다. 이에 따라 급기 유닛(18)의 부착 위치에 관계없이 설치 고정된 상태의 처리 가스 발생 장치(32)에 급기 유닛(18)을 접속 가능하게 하고 있다.6 shows one form of the
배기 유닛(19)은 도 7에 나타내는 바와 같이 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)을 향해 공급된 처리 가스(Ga)의 배기를 행하기 위한 배기구(40)를 갖는다. 이 배기구(40)는 하우징(14)의 외부 공간(24), 특히 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)과 배기 유닛(19) 사이의 공간을 하우징(14)의 내부 공간(23)에 연결하는 것이며, 본 실시형태에서는 폭 방향으로 연장되는 슬릿형상을 이루고 있다(도 2를 참조).As shown in FIG. 7 , the
또한, 하우징(14)의 내부 공간(23)은, 예를 들면 하우징(14)의 하부에 형성된 연통 구멍(41)을 통해 스크러버(30)와 연결되어 있다(도 1을 참조). 이에 따라 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)을 향해 공급된 처리 가스(Ga)는 배기 유닛(19)의 배기구(40) 및 하우징(14)의 내부 공간(23)을 통해 스크러버(30)에 인입되도록 되어 있다.In addition, the
또한, 본 실시형태에서는 배기 유닛(19)의 배기구(40)에 추가하여 하우징(14)의 반송 방향 양단에 배기구(28)가 형성되어 있으며, 이 배기구(28)는 하우징(14)의 내부 공간(23)에 연결되어 있다(도 1을 참조). 이에 따라 삽입 통과로(15)의 반송 방향 양단에 있어서 처리 가스(Ga) 또는 외기가 배기구(28) 및 하우징(14)의 내부 공간(23)을 통해 스크러버(30)에 인입되도록 되어 있다.Further, in this embodiment, in addition to the
더미 유닛(20a, 20b)은 개구부(17)에 부착된 급기 유닛(18)과 배기 유닛(19)의 극간을 메워서 개구부(17)를 막는 목적으로 부착되어 있다. 그 때문에 더미 유닛(20a, 20b)은 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)측의 공간에 대하여 급배기를 행하기 위한 기능을 갖고 있지 않다.The
또한, 본 실시형태에서는 급기 유닛(18)과 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)은 모두 개구부(17)에 부착된 상태이며, 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)과의 사이에 소정 극간(42)을 형성하는 극간 형성면(43a~43c)을 갖고 있다(도 8을 참조). 이때 급기 유닛(18)의 극간 형성면(43a)은 급기구(31)의 근방 부분을 그 주위의 부분보다 삽입 통과로(15)의 측으로 돌출시킨 형태를 취하고 있다. 이 경우, 한쪽의 주표면(P1)과 극간 형성면(43a)의 극간(42)은 급기구(31)의 근방 부분에서 가장 작아진다.In addition, in this embodiment, the
또한, 본 실시형태에서는 급기 유닛(18)과 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)은 모두 개구부(17)에 부착된 상태이며, 반송 장치(11)에 의해 반송되고 있는 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)을 지지하는 지지 롤러(44a~44c)를 갖는다. 이에 따라 유리 기판(P)은 반송 장치(11)의 지지 롤러(45)(도 1을 참조)와, 각 유닛(18~20a, 20b)에 설치된 지지 롤러(44a~44c)로 지지되면서 소정의 방향(X1)으로 반송되도록 되어 있다.In addition, in this embodiment, the
또한, 본 실시형태에서는 급기 유닛(18)과 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a, 20b)은 모두 히터(46a~46c)를 갖고 있다(도 8을 참조). 이에 따라 개구부(17)에 부착된 상태로 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)과의 사이의 극간(42)을 흐르는 처리 가스(Ga)의 온도를 조정 가능하게 하고 있다.Moreover, in this embodiment, the
표면 처리의 대상이 되는 유리 기판(P)에는, 예를 들면 오버플로우 다운드로우법으로 대표되는 다운 드로우법이나 플로트법 등의 공지의 수단에 의해 띠상으로 성형한 판형상 유리(띠상 판유리)를 소정 길이 방향 치수로 절단한 후 필요에 따라 2변 또는 4변의 연마 가공을 실시한 것이 사용된다. 또한, 유리 기판(P)의 치수에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 반송 방향(X1)을 따른 방향의 치수는 표면 처리 장치(12)의 반송 방향 치수(실질적으로 하우징(14)의 반송 방향 치수(L))보다 큰 것이 바람직하다.To the glass substrate P to be subjected to the surface treatment, for example, a plate-shaped glass (band-shaped plate glass) formed into a band by a known means such as a down-draw method or a float method typified by an overflow down-draw method is prescribed. After cutting in the longitudinal dimension, the ones subjected to grinding on two or four sides as needed are used. In addition, although there is no restriction|limiting in particular about the dimension of the glass substrate P, For example, the dimension of the direction along the conveyance direction X1 is the conveyance direction dimension of the surface treatment apparatus 12 (substantially conveyance direction of the housing 14). It is preferably larger than the dimension L).
이상의 구성을 이루는 표면 처리 장치(12)에 의하면, 예를 들면 이하와 같은 처리 가스(Ga)의 흐름을 만들어 내어 한쪽의 주표면(P1)에 소정의 표면 처리를 실시할 수 있다. 즉, 도 8에 나타내는 바와 같이 유리 기판(P)이 반송 장치(11)에 의해 표면 처리 장치(12)의 내부(삽입 통과로(15))에 도입된 상태에 있어서 처리 가스 발생 장치(32)에 의해 소정 처리 가스(Ga), 예를 들면 불화 수소 가스를 질소 가스 등의 캐리어 가스에 혼합하여 이루어지는 처리 가스(Ga)를 발생시킨다. 그리고 이 처리 가스(Ga)를 플렉시블 호스(38), 연통관(35), 및 도입로(34)를 통해 급기구(31)로부터 한쪽의 주표면(P1)과의 극간(42)에 공급한다. 또한, 스크러버(30)에 의해 하우징(14)의 내부 공간(23)에 대하여 인입력을 작용시켜서 내부 공간(23)과 연결되는 각 배기구(28, 40)(도 8을 참조)를 통해 극간(42)에 공급된 처리 가스(Ga)의 배기를 행한다. 이에 따라 극간(42)이 처리 가스(Ga)로 채워짐과 아울러, 극간(42) 내에 처리 가스(Ga)의 소정 흐름이 형성된다. 또한, 극간(42)의 반송 방향(X1) 양단에 배치된 배기구(28)(도 1을 참조)에 의해 극간(42)의 외측, 즉 표면 처리 장치(12)의 외측으로의 처리 가스(Ga)의 누출이 가급적으로 방지된다. 물론 도시는 생략하지만, 처리조(13)에 어떠한 배기 수단을 설치해서 처리조(13)의 내부 공간에 대하여 소정 배기 처리를 실시하도록 해도 좋다.According to the
이와 같이 해서 처리 가스(Ga)의 공급을 계속하면서 삽입 통과로(15)에 유리 기판(P)을 도입해 가고, 삽입 통과로(15)를 유리 기판(P)이 통과해냄으로써 한쪽의 주표면(P1)으로의 처리 가스(Ga)에 의한 표면 처리가 완료된다. 그리고 이 처리에 의해 한쪽의 주표면(P1)의 조면화가 도모되는 한편, 다른 쪽의 주표면(P2)(도 8에서 말하면 상면)의 표면 성상 및 표면 정밀도는 유지된다. 일례로서, 상기 조면화를 표면 거칠기 Ra의 변화로 설명하면, 상기 표면 처리의 전후에서 한쪽의 주표면(P1)의 표면 거칠기 Ra[㎚]가 0.1㎚ 이상이며, 또한 1.8㎚ 이하의 범위에서 향상(여기에서는 증가)하도록, 보다 바람직하게는 0.1㎚ 이상이며, 또한 0.8㎚ 이하의 범위에서 향상하도록 처리 가스(Ga)에 의한 한쪽의 주표면(P1)으로의 표면 처리 조건이 설정되는 것이 좋다. 상기 범위에서 한쪽의 주표면(P1)의 표면 거칠기 Ra가 향상됨으로써 표면 처리 이후의 제조 공정에 있어서 유리 기판(P)이 실질적으로 문제가 되는 레벨의 대전이 발생하는 사태를 회피하는 것이 가능해진다. 또한, 여기에서 말하는 표면 거칠기 Ra[㎚]는 JIS R 1683:2007을 준용하는 방법으로 측정함으로써 얻어진 값을 말한다.In this way, the glass substrate P is introduced into the
이와 같이 본 발명의 제 1 실시형태에 의한 제조 장치(10)에 있어서는 반송 장치(11)에서 반송되고 있는 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)에 처리 가스(Ga)를 공급하기 위한 급기구(31)를 갖는 부재를 유닛화하여 유리 기판(P)의 반송 방향(X1)을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 했다. 이와 같이 구성함으로써 급기 유닛(18)의 부착 위치를 변경하는 것만으로 용이하게 급기구(31)의 반송 방향(X1)의 위치를 조정할 수 있다. 따라서, 반송되는 유리 기판(P)의 종류를 변경할 필요가 발생했을 경우이어도 용이하게 최적인 처리 조건을 설정할 수 있고, 이에 따라 양질인 표면 처리를 유리 기판(P)에 실시하는 것이 가능해진다. 또는 동일 종류의 유리 기판(P)이어도 생산 상황이나 제조 라인의 다른 부분의 구성에 따라 반송 장치(11)에 의한 반송 속도를 변경할 수도 있지만, 그러한 경우에 있어서도 처리 가스(Ga)의 공급 위치를 포함시킨 공급 조건을 용이하게 설정할 수 있어 양질인 표면 처리를 실시하는 것이 가능해진다.Thus, in the
또한, 본 실시형태에서는 그 하우징(14)에 개구부(17)를 형성함과 아울러, 이 개구부(17)에 상기 구성의 급기 유닛(18)을 부착하도록 했으므로 급기 유닛의 도입로(34)를 포함하는 대부분을 하우징(14)의 내부 공간(23)에 배치할 수 있다. 이에 따라 표면 처리 장치(12)를 필요 이상으로 대형화시키는 일 없이 제조 라인에 장착할 수 있다. 또한, 하우징(14) 내부의 대부분을 공동으로 할 수 있으므로 급기 유닛(18)의 부착 위치가 변경되거나 또는 추가된 경우이어도 다른 부재와의 간섭이 문제가 될 우려도 없다.In addition, in this embodiment, since the
또한, 본 실시형태에서는 배기구(28, 40)를 하우징(14)의 내부 공간(23)과 연결함과 아울러, 이 내부 공간(23)을 스크러버(30)에 연결하도록 했다. 이와 같이 하우징(14)의 내부 공간(23)을 배기계의 일부로서 구성함으로써 배기 유닛(19)의 부착 위치를 변경하는 것만으로 용이하게 배기구(40)를 스크러버(30)에 연결할 수 있다. 또한, 내부 공간(23)을 배기계의 일부로 함으로써 급기 유닛(18)의 부착 위치를 변경할 경우이어도 급기계와 배기계가 간섭할 우려는 없다. 따라서, 급기 유닛(18)과 연통관(35)의 부착 위치를 변경하는 것만으로 용이하게 급기구(31)의 위치를 변경하는 것이 가능해진다.In addition, in this embodiment, while connecting the
이상, 본 발명의 제 1 실시형태에 의한 유리 기판(P)의 제조 장치(10) 및 제조 방법을 설명했지만, 이들 제조 장치(10) 및 제조 방법은 당연히 본 발명의 범위 내에 있어서 임의의 형태를 채용할 수 있다. As mentioned above, although the
예를 들면, 제 1 실시형태에서는 2개의 급기 유닛(18)과 1개의 배기 유닛(19), 및 5개의 더미 유닛(20a, 20b)을 개구부(17)에 부착한 경우를 예시했지만, 물론 급기 유닛(18)의 위치뿐만 아니라 수를 변경하는 것도 가능하다. 도 9는 그 일례(본 발명의 제 2 실시형태)에 의한 유리 기판(P)의 제조 장치(50)의 단면도를 나타내고 있다. 도 9에 나타내는 바와 같이 이 제조 장치(50)는 제 1 실시형태와 마찬가지로 반송 장치(11)와, 표면 처리 장치(51)와, 처리조(13)를 구비하는 한편, 표면 처리 장치(51)의 구성이 제 1 실시형태에 의한 표면 처리 장치(12)와 상이하다. 구체적으로는 이 표면 처리 장치(51)는 3개의 급기 유닛(18)과, 5개의 더미 유닛(20a, 20b)을 하우징(14)의 개구부(17)에 부착해서 이루어진다. 제 1 실시형태와의 비교에서 말하면 상류측(도 1 및 도 9에서 말하면 좌측)으로부터 4번째의 더미 유닛(20a)을 급기 유닛(18)으로 치환함과 아울러, 상류측으로부터 7번째의 배기 유닛(19)을 더미 유닛(20a)으로 치환한 형태를 이루고 있다.For example, in the first embodiment, the case where two
이와 같이 급기 유닛(18)의 수를 증가시킴으로써 급기 유닛(18)(급기구(31)) 1개당 부담하는 한쪽의 주표면(P1)의 처리 면적을 작게 할 수 있다. 따라서, 예를 들면 급기구(31, 31) 사이에 처리 가스(Ga)가 정체해서 그 농도가 저하되어 있는 영역을 최대한 발생시키는 일 없이 균등하며, 또한 충분한 질의 표면 처리를 한쪽의 주표면(P1)에 실시할 수 있다. 또한, 본 실시형태와 같이 하우징(14)의 반송 방향(X1)의 양단에 한 쌍의 배기구(28)를 배치한 형태를 취하는 것이면 도 9에 나타내는 바와 같이 배기 유닛(19)의 수를 0으로 한 구성을 취했다고 해도 처리 가스(Ga)의 표면 처리 장치(51) 외로의 누출을 가급적으로 방지할 수 있기 때문에 특별히 문제는 없다.Thus, by increasing the number of
또한, 이상의 설명에서는 개구부(17)로서 1개의 반송 방향(X1)으로 연속된 공간이 저부(21) 상에 존재하고 있는 경우를 예시했지만, 물론 이외의 구성을 취하는 것도 가능하다. 예를 들면, 상기 실시형태와 같이 급기 유닛(18)과 배기 유닛(19), 및 더미 유닛(20a)의 반송 방향 치수(C1~C3)와 폭 방향 치수(W1~W3)가 모두 동일할 경우에는 폭 방향으로 연장되는 구획벽(도시는 생략)을 한 쌍의 측벽부(22, 22)를 연결하도록 설치하고, 이들 구획벽과 측벽부(22, 22)로 구획되는 복수의 유닛 수용부(도시는 생략)에 각 유닛(18~20a)을 선택 배치하도록 해도 상관없다.In addition, in the above description, although the case where the space continuous in one conveyance direction X1 existed on the
또한, 상기 실시형태에서는 각 배기구(28, 40)는 하우징(14)의 내부 공간(23)을 통해 스크러버(30)에 연결된 구성을 이루고 있지만, 물론 이외의 구성을 취하는 것도 가능하다. 예를 들면, 하우징(14)의 측부에 형성한 연통 구멍(29)과 하우징(14)의 저부에 형성한 연통 구멍(41)을 소정 배관으로 접속함으로써 배기구(28)와 스크러버(30)를 연결하도록 해도 좋다. 이 경우, 하우징(14)의 내부는 공동이 아니어도 좋고, 각 유닛(18~20a)과의 간섭을 회피할 수 있는 한에 있어서 임의의 구조를 취하는 것이 가능하다.In addition, although each
또한, 이상의 설명에서는 띠상 판유리로부터 잘라낸 유리 기판(P)의 한쪽의 주표면(P1)에 대하여 소정의 표면 처리를 실시하는 경우를 설명했지만, 물론 띠상 판유리의 어느 한쪽의 주표면에 본 발명을 적용하는 것도 가능하다. 즉, 도시는 생략 하지만 띠상으로 성형하여 폭 방향으로 절단한 후 그 길이 방향 일단 또는 양단을 권취한 유리 필름 표리 한쪽의 면에만 표면 처리를 실시할 경우에도 상술한 구성에 의한 표면 처리를 적합하게 실시하는 것이 가능하다.In addition, in the above description, although the case where predetermined surface treatment was performed with respect to one main surface P1 of the glass substrate P cut out from the strip|belt-shaped plate glass was demonstrated, of course, this invention is applied to either main surface of the strip-shaped plate glass It is also possible to That is, although not shown, the surface treatment according to the above-described configuration is suitably performed even when surface treatment is performed on only one side of the front and back sides of the glass film wound on one end or both ends in the longitudinal direction after being formed into a band and cut in the width direction. it is possible to do
Claims (10)
상기 반송 장치로 반송되고 있는 상기 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 처리 가스를 공급해서 소정의 표면 처리를 실시하는 표면 처리 장치를 구비한 유리 기판의 제조 장치에 있어서,
상기 표면 처리 장치는 하우징과,
상기 하우징 중 상기 한쪽의 주표면의 측으로 개구하고 있는 개구부와,
상기 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 부착되며, 상기 한쪽의 주표면에 상기 처리 가스를 공급하기 위한 급기구를 갖는 1 또는 복수의 급기 유닛을 구비하고,
상기 급기 유닛은 상기 개구부 중 상기 판형상 유리의 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 장치.A conveying apparatus which conveys the plate-shaped glass used as a glass substrate in a predetermined direction;
An apparatus for manufacturing a glass substrate provided with a surface treatment apparatus for performing predetermined surface treatment by supplying a processing gas to one main surface of the plate-shaped glass being conveyed by the conveying apparatus,
The surface treatment device includes a housing,
an opening opening to the side of the main surface of the one of the housing;
One or a plurality of air supply units are detachably attached to the opening and have an air supply port for supplying the process gas to the one main surface;
The said air supply unit is attachable to the some position along the conveyance direction of the said plate-shaped glass among the said opening parts, The manufacturing apparatus of the glass substrate characterized by the above-mentioned.
상기 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 부착되며, 상기 처리 가스의 배기를 행하는 배기 유닛을 더 구비하고, 상기 배기 유닛은 상기 개구부 중 상기 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있는 유리 기판의 제조 장치.The method of claim 1,
Manufacturing of a glass substrate detachably attached to the opening and further comprising an exhaust unit for evacuating the processing gas, wherein the exhaust unit is attachable to a plurality of positions in the opening along the conveyance direction Device.
상기 배기 유닛에는 상기 한쪽의 주표면과 상기 배기 유닛 사이의 공간과 상기 하우징의 내부 공간을 연결하는 제 1 배기구가 형성되고, 상기 하우징의 내부 공간은 상기 처리 가스용의 스크러버와 연결되어 있는 유리 기판의 제조 장치.3. The method of claim 2,
The exhaust unit is formed with a first exhaust port connecting the space between the one main surface and the exhaust unit and the inner space of the housing, and the inner space of the housing is a glass substrate connected to the scrubber for the processing gas. of manufacturing equipment.
상기 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 부착되며, 상기 개구부를 막는 더미 유닛을 더 구비하고, 상기 더미 유닛은 상기 개구부 중 상기 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있는 유리 기판의 제조 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The apparatus for manufacturing a glass substrate further comprising a dummy unit detachably attached to the opening and blocking the opening, wherein the dummy unit is attachable to a plurality of positions in the opening along the conveying direction.
상기 급기 유닛은 상기 개구부에 부착된 상태로 상기 한쪽의 주표면과의 사이에 소정 극간을 형성하는 극간 형성면을 갖는 유리 기판의 제조 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The said air supply unit is attached to the said opening part, The manufacturing apparatus of the glass substrate which has a clearance gap forming surface which forms a predetermined clearance gap between the said one main surface.
상기 급기 유닛은 상기 개구부에 부착된 상태로 상기 반송 장치에 의해 반송되고 있는 상기 판형상 유리의 상기 한쪽의 주표면을 지지하는 롤러를 갖는 유리 기판의 제조 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The said air supply unit is a manufacturing apparatus of the glass substrate which has a roller which supports the said one main surface of the said plate-shaped glass conveyed by the said conveying apparatus in the state attached to the said opening part.
상기 급기 유닛은 상기 개구부에 대해서 감합하여 부착되고, 이에 따라 상기 하우징의 내부 공간을 밀폐하고 있는 유리 기판의 제조 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The air supply unit is fitted and attached to the opening, thereby sealing the inner space of the housing.
상기 하우징 중 상기 판형상 유리의 반송 방향 양단부에 상기 한쪽의 주표면과 상기 하우징 사이의 공간과 상기 하우징의 내부 공간을 연결하는 제 2 배기구가 형성되고, 상기 하우징의 내부 공간은 상기 처리 가스용의 스크러버와 연결되어 있는 유리 기판의 제조 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A second exhaust port connecting the space between the one main surface and the housing and the inner space of the housing is formed at both ends of the housing in the conveying direction of the plate-shaped glass, and the inner space of the housing is for the processing gas. A device for manufacturing a glass substrate connected to a scrubber.
상기 급기 유닛은 상기 하우징에 부착된 연통관의 일단측과 접속되고, 상기 연통관의 타단측은 플렉시블 호스를 통해 상기 하우징의 외부에 위치하는 처리 가스 발생 장치와 접속되어 있는 유리 기판의 제조 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The air supply unit is connected to one end side of a communication pipe attached to the housing, and the other end side of the communication pipe is connected to a processing gas generator located outside the housing through a flexible hose.
상기 소정의 방향으로 반송되고 있는 상기 판형상 유리의 한쪽의 주표면에 소정의 표면 처리를 실시하는 표면 처리 공정을 구비한 유리 기판의 제조 방법에 있어서,
상기 표면 처리 공정은 표면 처리 장치에 의해 상기 소정의 방향으로 반송되고 있는 상기 판형상 유리의 상기 한쪽의 주표면에 처리 가스를 공급함으로써 행해지고,
상기 표면 처리 장치는 하우징과,
상기 하우징 중 상기 한쪽의 주표면의 측으로 개구하고 있는 개구부와,
상기 개구부에 대해서 분리가 가능하도록 부착되며, 상기 한쪽의 주표면에 상기 처리 가스를 공급하기 위한 급기구를 갖는 1 또는 복수의 급기 유닛을 구비하고,
상기 급기 유닛은 상기 개구부 중 상기 판형상 유리의 반송 방향을 따른 복수의 위치에 부착 가능하게 되어 있는 것을 특징으로 하는 유리 기판의 제조 방법.
A conveying process of conveying the plate-shaped glass used as a glass substrate in a predetermined direction;
In the manufacturing method of the glass substrate provided with the surface treatment process of giving predetermined surface treatment to one main surface of the said plate-shaped glass conveyed in the said predetermined direction,
The surface treatment step is performed by supplying a treatment gas to the one major surface of the plate-shaped glass being conveyed in the predetermined direction by a surface treatment device,
The surface treatment device includes a housing,
an opening opening to the side of the main surface of the one of the housing;
One or a plurality of air supply units are detachably attached to the opening and have an air supply port for supplying the process gas to the one main surface;
The said air supply unit is attachable to the some position along the conveyance direction of the said plate-shaped glass among the said opening parts, The manufacturing method of the glass substrate characterized by the above-mentioned.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2016-223248 | 2016-11-16 | ||
JP2016223248A JP6665760B2 (en) | 2016-11-16 | 2016-11-16 | Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method |
PCT/JP2017/037958 WO2018092506A1 (en) | 2016-11-16 | 2017-10-20 | Production device and production method for glass substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190084098A KR20190084098A (en) | 2019-07-15 |
KR102312556B1 true KR102312556B1 (en) | 2021-10-14 |
Family
ID=62146441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197016656A KR102312556B1 (en) | 2016-11-16 | 2017-10-20 | Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6665760B2 (en) |
KR (1) | KR102312556B1 (en) |
CN (1) | CN109963820B (en) |
TW (1) | TWI722251B (en) |
WO (1) | WO2018092506A1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022539831A (en) | 2019-07-11 | 2022-09-13 | グッド ティー セルズ、 インコーポレイテッド | Composition for prevention, improvement or treatment of immune checkpoint inhibitor-resistant cancer |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014080331A (en) | 2012-10-17 | 2014-05-08 | Asahi Glass Co Ltd | Method for producing anti-reflective glass |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4045592B2 (en) * | 2002-08-22 | 2008-02-13 | 三菱マテリアル株式会社 | Silicon electrode plate for plasma etching |
JP4381160B2 (en) * | 2003-07-16 | 2009-12-09 | 積水化学工業株式会社 | Surface treatment equipment |
JP4312001B2 (en) * | 2003-07-28 | 2009-08-12 | リアライズ・アドバンストテクノロジ株式会社 | Substrate support device and substrate removal method |
JP4398262B2 (en) * | 2004-01-08 | 2010-01-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Substrate processing equipment |
WO2007077765A1 (en) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Stage apparatus and plasma processing apparatus |
JP5235293B2 (en) * | 2006-10-02 | 2013-07-10 | 東京エレクトロン株式会社 | Process gas supply mechanism, process gas supply method, and gas processing apparatus |
JP5444599B2 (en) * | 2007-09-28 | 2014-03-19 | 東京エレクトロン株式会社 | Gas supply apparatus and film forming apparatus |
CN102473627B (en) * | 2009-07-23 | 2014-11-05 | 夏普株式会社 | Wet etching apparatus and wet etching method |
JP5874393B2 (en) * | 2011-12-28 | 2016-03-02 | 日本電気硝子株式会社 | Glass plate processing apparatus and processing method thereof |
JP5865095B2 (en) * | 2012-01-30 | 2016-02-17 | 住友精密工業株式会社 | Etching device |
JP6048817B2 (en) * | 2012-12-27 | 2016-12-21 | 日本電気硝子株式会社 | Sheet glass surface treatment apparatus and surface treatment method |
JP2016064926A (en) * | 2013-02-07 | 2016-04-28 | 旭硝子株式会社 | Glass manufacturing method |
WO2014123089A1 (en) * | 2013-02-07 | 2014-08-14 | 旭硝子株式会社 | Glass manufacturing method |
EP3053888B1 (en) * | 2013-09-30 | 2021-02-17 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for producing glass sheet |
KR101413626B1 (en) * | 2013-12-31 | 2014-08-06 | 김호권 | Manufacturing Apparatus and Process of Glass Plate using Chemical Reinforcement |
US10358381B2 (en) * | 2014-01-31 | 2019-07-23 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for producing glass sheet, and glass sheet |
KR102135740B1 (en) * | 2014-02-27 | 2020-07-20 | 주식회사 원익아이피에스 | Substrate process apparatus |
KR102368126B1 (en) * | 2014-04-16 | 2022-02-25 | 에이지씨 가부시키가이샤 | Etching apparatus, etching method, substrate manufacturing method, and substrate |
-
2016
- 2016-11-16 JP JP2016223248A patent/JP6665760B2/en active Active
-
2017
- 2017-10-20 WO PCT/JP2017/037958 patent/WO2018092506A1/en active Application Filing
- 2017-10-20 KR KR1020197016656A patent/KR102312556B1/en active IP Right Grant
- 2017-10-20 CN CN201780070959.4A patent/CN109963820B/en active Active
- 2017-10-31 TW TW106137517A patent/TWI722251B/en active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014080331A (en) | 2012-10-17 | 2014-05-08 | Asahi Glass Co Ltd | Method for producing anti-reflective glass |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109963820B (en) | 2021-12-31 |
TW201829339A (en) | 2018-08-16 |
TWI722251B (en) | 2021-03-21 |
JP6665760B2 (en) | 2020-03-13 |
WO2018092506A1 (en) | 2018-05-24 |
KR20190084098A (en) | 2019-07-15 |
JP2018080079A (en) | 2018-05-24 |
CN109963820A (en) | 2019-07-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6048817B2 (en) | Sheet glass surface treatment apparatus and surface treatment method | |
US8978718B2 (en) | Purge device and load port apparatus including the same | |
KR101708938B1 (en) | Film deposition method | |
JP6129497B2 (en) | Continuous plating equipment | |
KR102312556B1 (en) | Glass substrate manufacturing apparatus and manufacturing method | |
KR102215965B1 (en) | Apparatus for injection gas and apparatus for processing substrate including the same | |
KR20180062104A (en) | Substrate drying apparatus | |
KR20190085206A (en) | Plasma processing device | |
JP6270176B2 (en) | Sheet glass surface treatment apparatus and surface treatment method | |
KR20150133076A (en) | Thin film deposition in-line system | |
US20190185998A1 (en) | Plasma atomic layer deposition apparatus and atomic layer deposition method | |
KR20130125161A (en) | Substrate treating apparatus and method for carrying in substrate | |
JP4656580B2 (en) | Coating device | |
JP5076667B2 (en) | Plasma processing equipment | |
JP2008174826A (en) | Plasma cvd system | |
JP7286477B2 (en) | Thin film forming equipment | |
KR101892139B1 (en) | Substrate treating apparatus and mask | |
KR101398585B1 (en) | Plasma etching apparatus and baffle | |
KR101786800B1 (en) | Apparatus for transferring substrate | |
JP2014218716A (en) | Thin film deposition system | |
KR20160133890A (en) | Substrate deposition system | |
KR20210019471A (en) | Apparatus for injection gas and apparatus for processing substrate including the same | |
KR20160056160A (en) | Depostion apparatus | |
KR102144849B1 (en) | Deposition apparatus for flat panel display device | |
KR101439781B1 (en) | Glass discharge coating device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |