KR102294888B1 - 커스터머 트레이 세정 장치 - Google Patents

커스터머 트레이 세정 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102294888B1
KR102294888B1 KR1020190142794A KR20190142794A KR102294888B1 KR 102294888 B1 KR102294888 B1 KR 102294888B1 KR 1020190142794 A KR1020190142794 A KR 1020190142794A KR 20190142794 A KR20190142794 A KR 20190142794A KR 102294888 B1 KR102294888 B1 KR 102294888B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
customer tray
unit
particles
cleaning
customer
Prior art date
Application number
KR1020190142794A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20210056110A (ko
Inventor
이혁주
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020190142794A priority Critical patent/KR102294888B1/ko
Publication of KR20210056110A publication Critical patent/KR20210056110A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102294888B1 publication Critical patent/KR102294888B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
    • B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
    • B08B1/04—
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B15/00—Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area
    • B08B15/04—Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area from a small area, e.g. a tool
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/04—Cleaning by suction, with or without auxiliary action
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 커스터머 트레이 세정 장치는, 반도체 소자들이 수납되는 커스터머 트레이를 고정하며, 상기 커스터머 트레이가 지면과 수직하는 수직 상태 또는 상기 지면과 평행하며 반전된 반전 상태를 이루도록 회전 가능한 고정 유닛 및 상기 고정 유닛의 일측에 배치되며, 상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태일 때 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이에 잔류하는 파티클을 세정하는 세정 유닛을 포함할 수 있다.

Description

커스터머 트레이 세정 장치{Customer tray cleaning device}
본 발명은 커스터머 트레이 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 소자가 수납된 커스터머 트레이에서 파티클을 제거하는 커스터머 트레이 세정 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자 및 상기 반도체 소자들을 포함하는 집적 회로들은 출하하기 전에 다양한 환경 조건 하에서 여러 가지 테스트 과정을 거친 후에 출하된다.
테스트 핸들러는 상기 반도체 소자 및 집적 회로 등을 테스트하는 장치이다. 상기 테스트 핸들러는 로딩용 스택커에 적재된 커스터머 트레이(customer tray)들의 반도체 소자들을 테스트 트레이로 수납한 후, 상기 반도체 소자들이 수납된 테스트 트레이를 테스트 사이트(test site)로 이송하여 상기 반도체 소자들에 대한 테스트를 수행한다. 상기 테스트 사이트에서는 테스트 트레이에 장착된 반도체 소자들의 리드 또는 볼 부분을 테스트헤드의 소켓에 전기적으로 접속시켜 소정의 전기적 테스트를 하게 된다. 상기 테스트 핸들러는 테스트가 완료된 테스트 트레이의 반도체 소자들을 분리하여 커스터머 트레이에 테스트 결과에 따라 분류 수납한 후, 상기 커스터머 트레이를 언로딩용 스택커에 적재한다.
상기 반도체 소자들이 수납된 테스트 트레이에는 이엠씨 가루 등과 같은 파티클이 존재한다. 상기 파티클로 인해 상기 반도체 소자들을 픽업하는 피커와 같은 상기 테스트 핸들러의 동작에 이상이 발생할 수 있다. 또한, 상기 파티클로 인해 상기 커스터머 트레이가 적재되는 스택커나 상기 테스트 핸들러의 내부가 오염될 수 있다.
본 발명은 커스터머 트레이 및 상기 커스터머 트레이의 수납된 반도체 소자들에 존재하는 파티클을 제거할 수 있는 커스터머 트레이 세정 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 커스터머 트레이 세정 장치는, 반도체 소자들이 수납되는 커스터머 트레이를 고정하며, 상기 커스터머 트레이가 지면과 수직하는 수직 상태 또는 상기 지면과 평행하며 반전된 반전 상태를 이루도록 회전 가능한 고정 유닛 및 상기 고정 유닛의 일측에 배치되며, 상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태일 때 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이에 잔류하는 파티클을 세정하는 세정 유닛을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 고정 유닛은, 상기 커스터머 트레이를 지지하는 스테이지와, 상기 스테이지 상에 구비되며 상기 커스터머 트레이를 고정하는 홀더 및 상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태를 이루도록 상기 스테이지를 회전시키는 제1 구동부를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 고정 유닛은, 상기 스테이지와 상기 커스터머 트레이 사이에 구비되며, 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태에서 상기 반도체 소자들이 상기 커스터머 트레이로부터 이탈하는 것을 방지하기 위해 상기 커스터머 트레이에 수납된 상기 반도체 소자들을 진공으로 흡착하는 흡착부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 세정 유닛은, 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이로부터 상기 파티클을 제거하는 제거부 및 상기 제거부와 인접하도록 배치되며, 상기 제거된 파티클을 흡입하는 흡입부를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 제거부는, 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이와 접촉하여 상기 파티클을 제거하는 브러시 및 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이로 에어를 분사하여 상기 파티클을 제거하는 에어 노즐 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 세정 유닛은, 상기 스테이지에 고정된 상기 커스터머 트레이를 향하는 측면이 개방된 중공 형상을 가지며, 내부에 상기 제거부 및 상기 흡입부를 수용하며, 상기 커스터머 트레이에서 상기 파티클 제거가 이루어지는 영역을 커버하는 커버부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 세정 유닛은, 상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태에서 상기 제거부 및 상기 흡입부를 상기 커스터머 트레이의 표면을 따라 이동시키는 제2 구동부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예들에 따르면, 상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태인 경우, 상기 제거된 파티클에 의해 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이가 재 오염되는 것을 방지하기 위해 상기 제거부 및 상기 흡입부가 상방에서 하방으로 이동하면서 상기 파티클을 제거할 수 있다.
본 발명에 따른 상기 커스터머 트레이 세정 장치는 상기 커스터머 트레이를 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태로 고정한 후, 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이에 잔류하는 파티클을 세정한다. 따라서, 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이로부터 상기 파티클을 용이하게 제거할 수 있다.
상기 커스터머 트레이 세정 장치는 상기 커스터머 트레이를 상기 수직 상태로 고정한 후, 기 제거부 및 상기 흡입부가 상방에서 하방으로 이동하면서 상기 파티클을 제거한다. 따라서, 상기 제거된 파티클이 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이를 재 오염시키는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 커스터머 트레이 세정 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 커스터머 트레이 세정 장치의 세정 동작을 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 커스터머 트레이 세정 장치의 다른 세정 동작을 설명하기 위한 단면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 제거부의 다른 예를 설명하기 위한 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 커스터머 트레이 세정 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 커스터머 트레이 세정 장치의 세정 동작을 설명하기 위한 단면도이고, 도 3은 도 1에 도시된 커스터머 트레이 세정 장치의 다른 세정 동작을 설명하기 위한 단면도이고, 도 4는 도 1에 도시된 제거부의 다른 예를 설명하기 위한 단면도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 상기 커스터머 트레이 세정 장치(100)는 반도체 소자(20)들이 수납되는 되는 커스터머 트레이(10)를 세정하기 위한 것으로, 고정 유닛(102)과 세정 유닛(104)을 포함할 수 있다.
상기 고정 유닛(102)은 상기 반도체 소자(20)들이 수납되는 되는 커스터머 트레이(10)를 고정하고, 상기 커스터머 트레이(10)가 지면과 수직하는 수직 상태 또는 상기 지면과 평행하면서 반전된 반전 상태를 이루도록 회전할 수 있다.
상기 세정 유닛(104)은 상기 고정 유닛(102)의 일측에 배치되며, 상기 고정 유닛(102)에 고정된 상기 커스터머 트레이(20)가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태일 때 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(20)에 잔류하는 파티클을 세정한다.
상기 고정 유닛(102)은 스테이지(110), 홀더(120), 흡착부(130) 및 제1 구동부(140)를 포함할 수 있다.
상기 스테이지(110)는 대략 평판 형태를 가지며, 상기 커스터머 트레이(10)를 지지한다.
상기 홀더(120)는 상기 스테이지(110)의 가장자리를 따라 구비되며, 상기 스테이지(110)에 지지된 상기 커스터머 트레이(10)를 고정한다.
예를 들면, 상기 홀더(120)는 상기 스테이지(110)의 상부면에 대해 평행한 방향으로 이동 가능하도록 구비된다. 상기 커스터머 트레이(10)가 상기 스테이지(110)에 지지된 상태에서 상기 홀더(120)가 상기 커스터머 트레이(10)를 향해 이동하여 상기 커스터머 트레이(10)의 상부면 가장자리를 가압할 수 있다. 따라서, 상기 홀더(120)는 상기 커스터머 트레이(10)를 상기 스테이지(110)에 고정한다. 그러므로, 상기 커스터머 트레이(10)가 상기 스테이지(110)로부터 이탈하는 것을 방지할 수 있다.
한편, 상기 홀더(120)가 상기 커스터머 트레이(10)를 상기 스테이지(110)에 고정한 상태에서 상기 홀더(120)가 상기 커스터머 트레이(10)에서 멀어지도록 이동하여 상기 커스터머 트레이(10)의 고정을 해제할 수 있다.
상기 흡착부(130)는 상기 스테이지(110)의 상부면에 구비된다. 즉, 상기 흡착부(130)는 상기 스테이지(110)와 상기 커스터머 트레이(10) 사이에 구비될 수 있다. 상기 흡착부(130)는 상기 커스터머 트레이(10)에 수납된 상기 반도체 소자(20)들을 진공으로 흡착한다.
구체적으로, 상기 커스터머 트레이(10)에서 상기 반도체 소자(20)들을 수납하는 공간의 저면을 관통하여 개구(12)들이 구비되고, 상기 흡착부(130)는 상기 개구(12)들로 상기 진공을 제공하여 상기 반도체 소자(20)들을 흡착할 수 있다.
상기 커스터머 트레이(10)가 상기 수직 상태이더라도 상기 흡착부(130)가 상기 반도체 소자(20)들을 흡착하므로, 상기 반도체 소자(20)들이 상기 커스터머 트레이(10)로부터 이탈하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 파티클을 제거하기 위해 상기 반도체 소자(20)들에 압력이 가해지더라도 상기 흡착부(130)가 상기 반도체 소자(20)들을 흡착하므로, 상기 반도체 소자(20)들이 상기 커스터머 트레이(10)로부터 이탈하는 것을 방지할 수 있다.
상기 제1 구동부(140)는 상기 스테이지(110)와 연결되며, 상기 스테이지(110)를 회전시킬 수 있다. 상기 스테이지(110)가 회전함에 따라 상기 스테이지(110)에 지지된 상기 커스터머 트레이(10)도 회전할 수 있다.
일 예로, 도 2와 같이 상기 제1 구동부(140)는 상기 커스터머 트레이(10)가 상기 스테이지(10)의 상부면에 위치하는 기준 상태에서 상기 스테이지(110)를 약 90도 회전시켜 상기 커스터머 트레이(10)를 상기 수직 상태로 전환할 수 있다.
다른 예로, 도 3과 같이 상기 제1 구동부(140)는 상기 기준 상태에서 상기 스테이지(110)를 약 180도 회전시켜 상기 커스터머 트레이(10)를 반전 상태로 전환할 수도 있다.
한편 도시되지는 않았지만, 상기 제1 구동부(140)는 상기 스테이지(110)를 다양한 각도로 회전시킬 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 구동부(140)는 상기 스테이지(110)를 약 90도와 약 180도 사이의 각도로 회전시킬 수 있다.
상기 제1 구동부(140)에 의해 상기 스테이지(110)가 회전할 때, 상기 세정 유닛(104)은 상기 스테이지(110)와 이격되어 배치될 수 있다. 따라서, 상기 세정 유닛(104)이 상기 스테이지(110)의 회전을 간섭하는 것을 방지할 수 있다.
상기 세정 유닛(104)은 제거부(150), 흡입부(160), 커버부(170) 및 제2 구동부(180)를 포함할 수 있다.
상기 제거부(150)는 상기 커스터머 트레이(10)가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태에서 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)로부터 상기 파티클을 제거할 수 있다.
한편, 상기 제거부(150)는 상기 커스터머 트레이(10)가 상기 기준 상태에서도 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)로부터 상기 파티클을 제거할 수 있다.
일 예로, 상기 제거부(150)는 도 1에 도시된 바와 같이 브러시일 수 있다. 상기 브러시는 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)와 접촉하여 상기 파티클을 제거할 수 있다. 상기 브러시는 상기 파티클의 제거 효율을 향상시키기 위해 회전할 수 있다.
다른 예로, 상기 제거부(150)는 도 4에 도시된 바와 같이 에어 노즐일 수 있다. 상기 에어 노즐은 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)로 에어를 분사하여 상기 파티클을 제거할 수 있다.
또 다른 예로 도시되지 않았지만, 상기 제거부(150)는 상기 브러시 및 상기 에어 노즐을 모두 포함할 수도 있다.
상기 흡입부(160)는 상기 제거부(150)와 인접하도록 배치되며, 상기 제거부(150)에 의해 제거된 파티클을 흡입할 수 있다. 따라서, 상기 흡입부(160)는 상기 파티클이 비산되는 것을 방지할 수 있다.
상기 커버부(170)는 상기 스테이지(110)에 고정된 상기 커스터머 트레이(10)를 향하는 측면이 개방된 중공의 구조물로, 상기 제거부(150) 및 상기 흡입부(160)를 수용하며, 상기 커스터머 트레이(10)에서 상기 파티클 제거가 이루어지는 영역을 커버한다. 따라서, 상기 파티클이 다른 영역으로 비산되는 것을 방지할 수 있다.
상기 제2 구동부(180)는 상기 커스터머 트레이(10)가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태에서 상기 제거부(150) 및 상기 흡입부(160)를 상기 커스터머 트레이(10)의 표면을 따라 이동시킬 수 있다.
상기 커스터머 트레이(10)가 상기 수직 상태인 경우, 상기 제2 구동부(180)에 의해 상기 제거부(150) 및 상기 흡입부(160)가 상방에서 하방으로 이동하면서 상기 파티클을 제거할 수 있다. 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)로부터 제거된 상기 파티클이 상기 흡입부(160)에 의해 흡입되지 않더라도 중력에 의해 자유 낙하한다. 따라서, 상기 파티클이 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)에서 상기 파티클의 제거가 완료된 부위로 재 공급되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)가 상기 파티클에 의해 재 오염되는 것을 방지할 수 있다.
상기 커스터머 트레이(10)가 상기 반전 상태인 경우, 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)로부터 제거된 상기 파티클이 상기 흡입부(160)에 의해 흡입되지 않더라도 중력에 의해 자유 낙하한다. 따라서, 상기 파티클이 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)에서 상기 파티클의 제거가 완료된 부위로 재 공급되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 반도체 소자(20) 및 상기 커스터머 트레이(10)가 상기 파티클에 의해 재 오염되는 것을 방지할 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 커스터머 트레이 세정 장치는 상기 커스터머 트레이를 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태로 고정한 후, 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이에 잔류하는 파티클을 세정한다. 따라서, 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이로부터 상기 파티클을 용이하게 제거할 수 있으며, 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이가 상기 제거된 파티클에 의해 재 오염되는 것을 방지할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100 : 커스터머 트레이 세정 장치 102 : 고정 유닛
104 : 세정 유닛 110 : 스테이지
120 : 홀더 130 : 흡착부
140 : 제1 구동부 150 : 제거부
160 : 흡입부 170 : 커버부
180 : 제2 구동부 10 : 커스터머 트레이
20 : 반도체 소자

Claims (8)

  1. 반도체 소자들이 수납되는 커스터머 트레이를 고정하며, 상기 커스터머 트레이가 지면과 수직하는 수직 상태 또는 상기 지면과 평행하며 반전된 반전 상태를 이루도록 회전 가능한 고정 유닛; 및
    상기 고정 유닛의 일측에 배치되며, 상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태일 때 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이에 잔류하는 파티클을 세정하는 세정 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 커스터머 트레이 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 고정 유닛은,
    상기 커스터머 트레이를 지지하는 스테이지;
    상기 스테이지 상에 구비되며 상기 커스터머 트레이를 고정하는 홀더; 및
    상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태를 이루도록 상기 스테이지를 회전시키는 제1 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 커스터머 트레이 세정 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 고정 유닛은, 상기 스테이지와 상기 커스터머 트레이 사이에 구비되며, 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태에서 상기 반도체 소자들이 상기 커스터머 트레이로부터 이탈하는 것을 방지하기 위해 상기 커스터머 트레이에 수납된 상기 반도체 소자들을 진공으로 흡착하는 흡착부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 커스터머 트레이 세정 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 세정 유닛은,
    상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이로부터 상기 파티클을 제거하는 제거부; 및
    상기 제거부와 인접하도록 배치되며, 상기 제거된 파티클을 흡입하는 흡입부를 포함하는 것을 특징으로 하는 커스터머 트레이 세정 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제거부는, 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이와 접촉하여 상기 파티클을 제거하는 브러시 및 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이로 에어를 분사하여 상기 파티클을 제거하는 에어 노즐 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 커스터머 트레이 세정 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 세정 유닛은, 상기 고정 유닛에 고정된 상기 커스터머 트레이를 향하는 측면이 개방된 중공 형상을 가지며, 내부에 상기 제거부 및 상기 흡입부를 수용하며, 상기 커스터머 트레이에서 상기 파티클 제거가 이루어지는 영역을 커버하는 커버부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 커스터머 트레이 세정 장치.
  7. 제4항에 있어서, 상기 세정 유닛은, 상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태 또는 상기 반전 상태에서 상기 제거부 및 상기 흡입부를 상기 커스터머 트레이의 표면을 따라 이동시키는 제2 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 커스터머 트레이 세정 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 커스터머 트레이가 상기 수직 상태인 경우, 상기 제거된 파티클에 의해 상기 반도체 소자 및 상기 커스터머 트레이가 재 오염되는 것을 방지하기 위해 상기 제거부 및 상기 흡입부가 상방에서 하방으로 이동하면서 상기 파티클을 제거하는 것을 특징으로 하는 커스터머 트레이 세정 장치.
KR1020190142794A 2019-11-08 2019-11-08 커스터머 트레이 세정 장치 KR102294888B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190142794A KR102294888B1 (ko) 2019-11-08 2019-11-08 커스터머 트레이 세정 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190142794A KR102294888B1 (ko) 2019-11-08 2019-11-08 커스터머 트레이 세정 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210056110A KR20210056110A (ko) 2021-05-18
KR102294888B1 true KR102294888B1 (ko) 2021-08-27

Family

ID=76158895

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190142794A KR102294888B1 (ko) 2019-11-08 2019-11-08 커스터머 트레이 세정 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102294888B1 (ko)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010001049A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Sharp Corp ガラス基板反転装置およびこれを用いたガラス基板反転方法
KR101327499B1 (ko) * 2007-08-20 2013-11-08 세메스 주식회사 트레이 세정 방법 및 장치

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100917023B1 (ko) * 2007-08-20 2009-09-10 세크론 주식회사 트레이 세정 방법 및 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101327499B1 (ko) * 2007-08-20 2013-11-08 세메스 주식회사 트레이 세정 방법 및 장치
JP2010001049A (ja) * 2008-06-20 2010-01-07 Sharp Corp ガラス基板反転装置およびこれを用いたガラス基板反転方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210056110A (ko) 2021-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4939376B2 (ja) 基板処理装置
JP2010127943A (ja) 搭載盤上のピン素子、または電気インタフェース・レセプタクル（ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｉｎｔｅｒｆａｃｅｒｅｃｅｐｔａｃｌｅ）のＴＣＣ清掃装置（ｔｅｓｔｃｅｌｌｃｏｎｄｉｔｉｏｎｅｒ（ＴＣＣ）ｓｕｒｒｏｇａｔｅｃｌｅａｎｉｎｇｄｅｖｉｃｅ）と清掃方法
TW201620063A (zh) 半導體條帶硏磨機
KR20020049954A (ko) 반도체 패키지장치 절단용 핸들러 시스템
TWI575637B (zh) 乾燥裝置及其所適用的半導體條帶硏磨機
KR102294888B1 (ko) 커스터머 트레이 세정 장치
CN109473376A (zh) 切断装置以及半导体封装的搬送方法
KR102573015B1 (ko) 기판 처리 방법, 기판 처리 장치 및 기억 매체
CN113212943B (zh) 用于精密器件包装的自清洁真空释放吸附盒及自清洁方法
JP2002353169A (ja) ワーク搬送装置及びダイシング装置
JP7071818B2 (ja) 基板処理システム
KR102129023B1 (ko) 인쇄회로기판용 표면세척장치 및 표면세척방법
KR102166782B1 (ko) 반도체 스트립 그라인더 시스템
KR20070041889A (ko) 턴 테이블을 이용한 프레임 절단 및 반도체 패키지 분류설비
JP4287090B2 (ja) 樹脂封止済基板の切断用治具
CN114551276A (zh) 半导体条带切割及分类设备、封装体干燥装置及搬运装置
KR20110071617A (ko) 테스트 셀 컨디셔너 대용 청소 장치
TWI788107B (zh) 半導體條帶切割及分類設備、封裝體乾燥裝置及搬運裝置
KR101935451B1 (ko) 진공 흡착장치
KR20150076752A (ko) 반도체 패키지 건조 장치
KR102324564B1 (ko) 기판 세정 장치
KR20030070743A (ko) 반도체 팩키지의 검사 및, 분류 방법과 장치
KR20190143019A (ko) 반도체 패키지 드라이 장치
KR102610004B1 (ko) 반도체 스트립 절단 및 분류 설비에서 패키지 건조 장치
KR102582493B1 (ko) 세정 장치 및 기판 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant