KR102227042B1 - Driving Method of Diagnostic System - Google Patents

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KR102227042B1
KR102227042B1 KR1020180162238A KR20180162238A KR102227042B1 KR 102227042 B1 KR102227042 B1 KR 102227042B1 KR 1020180162238 A KR1020180162238 A KR 1020180162238A KR 20180162238 A KR20180162238 A KR 20180162238A KR 102227042 B1 KR102227042 B1 KR 102227042B1
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김희준
송규정
육종석
김성준
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프리시젼바이오 주식회사
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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B10/00—Other methods or instruments for diagnosis, e.g. instruments for taking a cell sample, for biopsy, for vaccination diagnosis; Sex determination; Ovulation-period determination; Throat striking implements

Abstract

본 발명은 버퍼액을 버퍼웰에 투입하는 단계; 상기 버퍼액을 상기 리액션웰에 투입하는 단계; 및 상기 리액션웰 내에서 반응결과물을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 반응 결과물을 형성하는 단계는, 히팅 커버의 히팅 공간 내에 상기 리액션웰을 수용하는 것, 및 상기 히팅 커버를 가열하여 상기 리액션웰 내의 온도를 상승시키는 것을 포함한다.The present invention comprises the steps of injecting a buffer solution into a buffer well; Adding the buffer solution to the reaction well; And forming a reaction product in the reaction well. The forming of the reaction product includes accommodating the reaction well in a heating space of a heating cover, and heating the heating cover to increase a temperature in the reaction well.

Description

진단 시스템의 구동방법 {Driving Method of Diagnostic System}Driving Method of Diagnostic System

본 발명은 진단 시스템의 구동방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 접합체와 반응체를 반응시켜 진단을 수행하는 진단 시스템의 구동방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of driving a diagnostic system. More specifically, the present invention relates to a method of driving a diagnostic system for performing diagnosis by reacting a conjugate and a reactant.

최근의 예방 및 맞춤의학(personalized medicine) 시대에 발맞춰 체외진단 산업이 각광받고 있다. 상기 체외진단 산업은, 당뇨병, 콜레스테롤, 암 여부 등과 같은 각종 질병을 피 한 방울, 소변 등으로 확인할 수 있는 분야로서, 사용자가 집에서 또는 휴대하면서 각종 질병을 확인할 수 있는 체외진단 기기가 개발되고 있다.In keeping with the recent era of prevention and personalized medicine, the in vitro diagnostic industry is in the spotlight. The in vitro diagnostic industry is a field in which various diseases such as diabetes, cholesterol, cancer, etc. can be checked with a drop of blood, urine, etc., and in vitro diagnostic devices that enable users to check various diseases at home or while carrying are being developed. .

체외진단 기기의 개발에 있어 핵심 경쟁력은 표적물질과 반응하는 바이오 물질(항원, 항체, 유전자, 효소 등)을 개발하는 생명공학기술과 이를 측정하기 위한 기기를 개발하는 정보기술의 융합이다. 세계적인 체외진단 기업은 대부분 이와 같은 기술 융합을 통해 막대한 매출과 순이익을 창출하는 등 고부가가치의 지식기반 산업을 이끌어 가고 있다.The core competitiveness in the development of in vitro diagnostic devices is the fusion of biotechnology that develops biomaterials (antigens, antibodies, genes, enzymes, etc.) that react with target substances and information technology that develops devices to measure them. Most of the world's in vitro diagnostic companies are leading high value-added knowledge-based industries by generating enormous sales and net profits through such technology convergence.

본 발명은 접합체와 반응체의 효과적인 반응을 유도할 수 있는 진단 시스템의 구동방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method of driving a diagnostic system capable of inducing an effective reaction between a conjugate and a reactant.

본 발명은 버퍼액을 버퍼웰에 투입하는 단계; 상기 버퍼액을 상기 리액션웰에 투입하는 단계; 및 상기 리액션웰 내에서 반응결과물을 형성하는 단계를 포함하되, 상기 반응 결과물을 형성하는 단계는, 히팅 커버의 히팅 공간 내에 상기 리액션웰을 수용하는 것, 및 상기 히팅 커버를 가열하여 상기 리액션웰 내의 온도를 상승시키는 것을 포함하는 진단 시스템의 구동방법을 제공한다.The present invention comprises the steps of injecting a buffer solution into a buffer well; Adding the buffer solution to the reaction well; And forming a reaction product in the reaction well, wherein the forming of the reaction product includes accommodating the reaction well in a heating space of a heating cover, and heating the heating cover to It provides a method of driving a diagnostic system comprising raising the temperature.

상기 반응 결과물을 형성하는 단계는, 상기 히팅 커버와 연결되는 히팅판을 가열하는 것을 더 포함할 수 있다.Forming the reaction product may further include heating a heating plate connected to the heating cover.

상기 반응 결과물을 형성하는 단계는, 히터를 이용하여 상기 히팅 커버 및 상기 히팅판을 가열하는 것을 더 포함할 수 있다.Forming the reaction product may further include heating the heating cover and the heating plate using a heater.

상기 버퍼액을 버퍼웰에 투입하는 단계는, 상기 버퍼액을 포함하고, 상기 버퍼웰 내에 제공되는 버퍼용기를 가압부로 가압하는 것을 포함할 수 있다.Injecting the buffer solution into the buffer well may include pressurizing a buffer container containing the buffer solution and provided in the buffer well with a pressurizing unit.

상기 버퍼웰은 그의 내측벽에서 돌출되는 제1 돌기를 포함하고, 상기 버퍼용기는 그의 외측벽에서 돌출되는 제2 돌기를 포함하고, 상기 제1 돌기는 상기 제2 돌기를 지지할 수 있다.The buffer well may include a first protrusion protruding from an inner wall thereof, the buffer container may include a second protrusion protruding from an outer wall thereof, and the first protrusion may support the second protrusion.

상기 버퍼액을 버퍼웰에 투입하는 단계는, 버퍼용기의 분리막을 파쇄부와 접촉시켜, 상기 분리막을 파쇄하는 것을 더 포함할 수 있다.Injecting the buffer solution into the buffer well may further include crushing the separation membrane by bringing the separation membrane of the buffer container into contact with the crushing portion.

상기 리액션웰 내에서 방사되는 광을 획득하는 계측 단계를 더 포함할 수 있다.It may further include a measuring step of acquiring the light radiated in the reaction well.

상기 리액션웰 내에서, 상기 반응 결과물을 제외한 이물질들을 제거하는 세정 단계를 더 포함할 수 있다.In the reaction well, a cleaning step of removing foreign substances other than the reaction product may be further included.

상기 세정 단계는, 상기 리액션웰 내에 상기 버퍼액을 채우는 것, 및 상기 리액션웰 내의 상기 버퍼액을 제거하는 것을 포함할 수 있다.The washing step may include filling the buffer solution in the reaction well and removing the buffer solution in the reaction well.

상기 히팅 커버는 상하로 이동할 수 있다.The heating cover can move up and down.

본 발명에 따른 진단 시스템의 구동방법은, 히팅 커버로 리액션웰 내의 온도를 상승시킴에 따라 리액션웰 내의 접합체와 반응체가 효과적으로 반응할 수 있다.In the method of driving the diagnostic system according to the present invention, the conjugate and the reactant in the reaction well can react effectively as the temperature in the reaction well is increased with the heating cover.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템에서 케이스의 내부를 설명하기 위한 사시도이다.
도 3a는 카트리지의 사시도이다.
도 3b는 카트리지의 분해 사시도이다.
도 3c는 도 3a의 A-A'선에 따른 단면도이다.
도 3d는 도 3c의 B영역의 확대도이다.
도 3e는 도 3c의 C영역의 확대도이다.
도 3f는 도 3a의 B-B'선에 따른 단면도이다.
도 3g는 카트리지 본체의 개략적인 평면도이다.
도 3h는 카트리지 본체의 파쇄부를 설명하기 위한 사시도이다.
도 3i는 카트리지의 리액션웰 내부를 설명하기 위한 단면도이다.
도 4a는 카트리지 구동부의 사시도이다.
도 4b는 카트리지 구동부의 분해 사시도이다.
도 4c는 도 4a의 A-A'선에 따른 단면도이다.
도 5a는 지지부와 연결된 구성요소들을 설명하기 위한 사시도이다.
도 5b는 액션부를 위에서 본 사시도이다.
도 5c는 액션부를 아래에서 본 사시도이다.
도 5d는 도 5b의 A-A'선에 따른 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템의 구동방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 7, 8a, 8b, 8c, 8d, 9a, 9b, 9c, 10a, 10b, 10c, 11a, 11b, 11c 및 12는 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템의 구동방법을 설명하기 위한 도면들이다.1 is a perspective view of a diagnostic system according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view illustrating an interior of a case in a diagnostic system according to an embodiment of the present invention.
3A is a perspective view of the cartridge.
3B is an exploded perspective view of the cartridge.
3C is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 3A.
3D is an enlarged view of area B of FIG. 3C.
3E is an enlarged view of area C of FIG. 3C.
3F is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 3A.
3G is a schematic plan view of the cartridge body.
3H is a perspective view for explaining a crushed portion of the cartridge body.
3I is a cross-sectional view for explaining the inside of the reaction well of the cartridge.
4A is a perspective view of the cartridge driving unit.
4B is an exploded perspective view of the cartridge driving unit.
4C is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 4A.
5A is a perspective view illustrating components connected to the support.
5B is a perspective view of the action unit viewed from above.
5C is a perspective view of the action unit viewed from below.
5D is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 5B.
6 is a flowchart illustrating a method of driving a diagnostic system according to an embodiment of the present invention.
7, 8a, 8b, 8c, 8d, 9a, 9b, 9c, 10a, 10b, 10c, 11a, 11b, 11c, and 12 are views for explaining a method of driving a diagnostic system according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in a variety of different forms. It is provided to completely inform the scope of the invention to the possessor, and the invention is only defined by the scope of the claims. The same reference numerals refer to the same constituent elements throughout the entire specification.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 장치는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 장치의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 이하 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다.The terms used in the present specification are for describing exemplary embodiments and are not intended to limit the present invention. In this specification, the singular form also includes the plural form unless specifically stated in the phrase. As used in the specification,'comprises' and/or'comprising' refers to the presence of one or more other components, steps, actions and/or devices, and/or the recited component, step, action and/or device. Or does not preclude additions. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템의 사시도이다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템에서 케이스의 내부를 설명하기 위한 사시도이다.1 is a perspective view of a diagnostic system according to an embodiment of the present invention. 2 is a perspective view illustrating an interior of a case in a diagnostic system according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템은 케이스(100), 제1 트랜스퍼(200), 카트리지(300), 카트리지 구동부(400), 지지부(500), 액션부(600), 펌프(700), 계측부(800) 및 제2 트랜스퍼(900)를 포함할 수 있다. 1 and 2, the diagnostic system according to an embodiment of the present invention includes a case 100, a first transfer 200, a cartridge 300, a cartridge driving unit 400, a support unit 500, and an action unit ( 600), a pump 700, a measurement unit 800, and a second transfer 900 may be included.

케이스(100)는 그의 내부에 빈 공간을 포함할 수 있다. 케이스(100)의 빈 공간 내에 제1 트랜스퍼(200), 카트리지 구동부(400), 지지부(500), 액션부(600), 펌프(700), 계측부(800) 및 제2 트랜스퍼(900)가 제공될 수 있다.The case 100 may include an empty space therein. A first transfer 200, a cartridge driving part 400, a support part 500, an action part 600, a pump 700, a measuring part 800, and a second transfer part 900 are provided in the empty space of the case 100 Can be.

케이스(100)는 카트리지 개구(110)를 포함할 수 있다. 카트리지 개구(110)를 통해, 카트리지(300)의 상부가 케이스(100)의 외부로 노출될 수 있다.The case 100 may include a cartridge opening 110. Through the cartridge opening 110, the upper portion of the cartridge 300 may be exposed to the outside of the case 100.

제1 트랜스퍼(200)는 케이스(100)의 바닥면(120) 상에 제공될 수 있다. 제1 트랜스퍼(200)는 구동 롤러(210), 회전 롤러(220), 벨트(230), 레일(240) 및 이송판(250)을 포함할 수 있다. 케이스(100)의 바닥면(120) 상에 구동 롤러(210) 및 회전 롤러(220)가 제공될 수 있다. 구동 롤러(210) 및 회전 롤러(220)는 제1 방향(D1)으로 서로 이격될 수 있다. 제1 방향(D1)은 케이스(100)의 바닥면(120)과 평행하는 방향일 수 있다. 구동 롤러(210)는 동력원을 포함하여 자체적으로 회전할 수 있다. 구동 롤러(210) 및 회전 롤러(220)에 벨트(230)가 걸릴 수 있다. 구동 롤러(210)가 회전하면서, 구동 롤러(210) 및 벨트(230)의 마찰력에 의해, 벨트(230)가 회전할 수 있다. 벨트(230)가 회전하면서, 벨트(230)와 회전 롤러(220)의 마찰력에 의해, 회전 롤러(220)가 회전할 수 있다.The first transfer 200 may be provided on the bottom surface 120 of the case 100. The first transfer 200 may include a driving roller 210, a rotation roller 220, a belt 230, a rail 240, and a transfer plate 250. A driving roller 210 and a rotating roller 220 may be provided on the bottom surface 120 of the case 100. The driving roller 210 and the rotating roller 220 may be spaced apart from each other in the first direction D1. The first direction D1 may be a direction parallel to the bottom surface 120 of the case 100. The driving roller 210 may rotate by itself, including a power source. The belt 230 may be hung on the drive roller 210 and the rotation roller 220. As the driving roller 210 rotates, the belt 230 may rotate due to the frictional force of the driving roller 210 and the belt 230. As the belt 230 rotates, the rotation roller 220 may rotate by the frictional force between the belt 230 and the rotation roller 220.

케이스(100)의 바닥면(120) 상에 레일(240)이 배치될 수 있다. 레일(240)은 제1 방향(D1)으로 연장할 수 있다. 레일(240) 상에 이송판(250)이 배치될 수 있다. 이송판(250)은 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로 이동 가능하도록 레일(240)과 연결될 수 있다. 제2 방향(D2)은 제1 방향(D1)에 대향하는 방향일 수 있다. 이송판(250)은 벨트(230)와 연결될 수 있다. 벨트(230)의 회전에 따라, 이송판(250)이 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로 이동할 수 있다. The rail 240 may be disposed on the bottom surface 120 of the case 100. The rail 240 may extend in the first direction D1. The transfer plate 250 may be disposed on the rail 240. The transfer plate 250 may be connected to the rail 240 so as to be movable in the first direction D1 and the second direction D2. The second direction D2 may be a direction opposite to the first direction D1. The transfer plate 250 may be connected to the belt 230. As the belt 230 rotates, the transfer plate 250 may move in the first direction D1 and the second direction D2.

제1 트랜스퍼(200)의 이송판(250) 상에 카트리지 구동부(400)가 제공될 수 있다. 제1 트랜스퍼(200)는 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로 카트리지 구동부(400)를 이동시킬 수 있다.The cartridge driving unit 400 may be provided on the transfer plate 250 of the first transfer 200. The first transfer 200 may move the cartridge driving unit 400 in the first direction D1 and the second direction D2.

카트리지 구동부(400) 상에 카트리지(300)가 제공될 수 있다. 카트리지 구동부(400)의 이동에 따라, 카트리지(300)가 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로 이동할 수 있다. 카트리지 구동부(400)는 카트리지(300)를 구동시킬 수 있다.The cartridge 300 may be provided on the cartridge driving unit 400. As the cartridge driver 400 moves, the cartridge 300 may move in the first direction D1 and the second direction D2. The cartridge driver 400 may drive the cartridge 300.

지지부(500)는 케이스(100)의 바닥면(120) 상에 제공될 수 있다. 지지부(500)는 지지대들(510) 및 지지판(520)을 포함할 수 있다. 지지대들(510)은 케이스(100)의 바닥면(120)에 수직하는 제3 방향(D3)으로 연장할 수 있다. 지지대들(510)은 원기둥의 형태를 가질 수 있다. 일 예로, 4개의 지지대들(510)이 제공될 수 있다. 지지대들(510)에 의해 지지판(520)이 지지될 수 있다. 지지판(520)은 평평한 판의 형태를 가질 수 있다. 지지판(520)의 상면 및 하면은 케이스(100)의 바닥면(120)과 평행할 수 있다. The support part 500 may be provided on the bottom surface 120 of the case 100. The support part 500 may include supports 510 and a support plate 520. The supports 510 may extend in a third direction D3 perpendicular to the bottom surface 120 of the case 100. The supports 510 may have a cylindrical shape. For example, four supports 510 may be provided. The support plate 520 may be supported by the supports 510. The support plate 520 may have a flat plate shape. The upper and lower surfaces of the support plate 520 may be parallel to the bottom surface 120 of the case 100.

지지부(500)의 지지판(520) 및 케이스(100)의 바닥면(120) 사이에 액션부(600)가 제공될 수 있다. An action part 600 may be provided between the support plate 520 of the support part 500 and the bottom surface 120 of the case 100.

지지부(500)의 지지판(520) 상에 펌프(700), 계측부(800) 및 제2 트랜스퍼(900)가 제공될 수 있다.A pump 700, a measurement unit 800, and a second transfer 900 may be provided on the support plate 520 of the support part 500.

도 3a는 카트리지의 사시도이다. 도 3b는 카트리지의 분해 사시도이다. 도 3c는 도 3a의 A-A'선에 따른 단면도이다. 도 3d는 도 3c의 B영역의 확대도이다. 도 3e는 도 3c의 C영역의 확대도이다. 도 3f는 도 3a의 B-B'선에 따른 단면도이다. 도 3g는 카트리지 본체의 개략적인 평면도이다. 도 3h는 카트리지 본체의 파쇄부를 설명하기 위한 사시도이다. 도 3i는 카트리지의 리액션웰 내부를 설명하기 위한 단면도이다.3A is a perspective view of the cartridge. 3B is an exploded perspective view of the cartridge. 3C is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 3A. 3D is an enlarged view of area B of FIG. 3C. 3E is an enlarged view of area C of FIG. 3C. 3F is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 3A. 3G is a schematic plan view of the cartridge body. 3H is a perspective view for explaining a crushed portion of the cartridge body. 3I is a cross-sectional view for explaining the inside of the reaction well of the cartridge.

도 3a, 3b, 3c, 3d, 3e, 3f, 3g, 3h 및 3i를 참조하면, 카트리지(300)는 카트리지 본체(310), 커버(320), 밸브(330) 및 버퍼용기(340)를 포함할 수 있다.3a, 3b, 3c, 3d, 3e, 3f, 3g, 3h and 3i, the cartridge 300 includes a cartridge body 310, a cover 320, a valve 330, and a buffer container 340 can do.

카트리지 본체(310)는 베이스(311), 버퍼웰(buffer well, 312), 리액션웰(reaction well, 313), 웨이스트웰(waste well, 314), 연결부(315), 파쇄부(316), 제1 자석(317), 제2 자석들(318a), 제1 접합체들(318b), 발광체들(318c) 및 제2 접합체들(318d)을 포함할 수 있다. The cartridge body 310 includes a base 311, a buffer well 312, a reaction well 313, a waste well 314, a connection part 315, a crushing part 316, and It may include one magnet 317, second magnets 318a, first bonding bodies 318b, luminous bodies 318c, and second bonding bodies 318d.

베이스(311)는 평평한 판의 형태를 가질 수 있다. 베이스(311)의 상면은 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)과 평행할 수 있다. 베이스(311) 상에 버퍼웰(312), 리액션웰(313), 웨이스트웰(314), 연결부(315), 파쇄부(316), 제1 자석(317), 제2 자석들(318a), 제1 접합체들(318b), 발광체들(318c) 및 제2 접합체들(318d)이 제공될 수 있다. The base 311 may have a flat plate shape. The upper surface of the base 311 may be parallel to the first direction D1 and the second direction D2. On the base 311, the buffer well 312, the reaction well 313, the waste well 314, the connection part 315, the crushing part 316, the first magnet 317, the second magnets 318a, First conjugates 318b, light emitters 318c, and second conjugates 318d may be provided.

버퍼웰(312)은 내부가 빈 원통의 형태를 가질 수 있다. 버퍼웰(312)은 베이스(311)에서 제3 방향(D3)으로 돌출할 수 있다. 버퍼웰(312)은 제1 돌기(312a)를 포함할 수 있다. 제1 돌기(312a)는 버퍼웰(312)의 내측벽(312b)에서 버퍼웰(312)의 내측 방향으로 돌출할 수 있다. 평면적 관점에서, 제1 돌기(312a)는 버퍼웰(312)의 내측벽(312b)을 따라 원형으로 제공될 수 있다.The buffer well 312 may have a cylindrical shape with an empty inside. The buffer well 312 may protrude from the base 311 in the third direction D3. The buffer well 312 may include a first protrusion 312a. The first protrusion 312a may protrude from the inner wall 312b of the buffer well 312 in the inner direction of the buffer well 312. From a plan view, the first protrusion 312a may be provided in a circular shape along the inner wall 312b of the buffer well 312.

리액션웰(313)은 내부가 빈 원통의 형태를 가질 수 있다. 리액션웰(313)은 베이스(311)에서 제3 방향(D3)으로 돌출할 수 있다. 리액션웰(313)의 높이는 버퍼웰(312)의 높이보다 낮을 수 있다. 여기에서, 리액션웰(313)의 높이는 베이스(311)에서 리액션웰(313)의 최상부까지의 최단 거리를 의미할 수 있고, 버퍼웰(312)의 높이는 베이스(311)에서 버퍼웰(312)의 최상부까지의 최단 거리를 의미할 수 있다.The reaction well 313 may have a cylindrical shape with an empty inside. The reaction well 313 may protrude from the base 311 in the third direction D3. The height of the reaction well 313 may be lower than the height of the buffer well 312. Here, the height of the reaction well 313 may mean the shortest distance from the base 311 to the top of the reaction well 313, and the height of the buffer well 312 is the height of the buffer well 312 from the base 311 It can mean the shortest distance to the top.

웨이스트웰(314)은 내부가 빈 원통의 형태를 가질 수 있다. 웨이스트웰(314)은 베이스(311)에서 제3 방향(D3)으로 돌출할 수 있다. 웨이스트웰(314)의 높이는 버퍼웰(312)의 높이보다 낮을 수 있다. The waste well 314 may have a cylindrical shape with an empty inside. The waste well 314 may protrude from the base 311 in the third direction D3. The height of the waste well 314 may be lower than the height of the buffer well 312.

버퍼웰(312) 및 리액션웰(313) 사이에 연결부(315)가 배치될 수 있다. 연결부(315)를 통해 버퍼웰(312), 리액션웰(313) 및 웨이스트웰(314)이 서로 연결될 수 있다. 평면적 관점에서, 버퍼웰(312), 리액션웰(313), 웨이스트웰(314) 및 연결부(315)는 전체적으로 T자형 구조를 가질 수 있다. 버퍼웰(312), 연결부(315) 및 리액션웰(313)은 제5 방향(D5)으로 배열될 수 있다. 제5 방향(D5)은 베이스(311)의 상면에 평행하면서, 제1 방향(D1)과 수직하는 방향일 수 있다. 연결부(315) 및 웨이스트웰(314)은 제1 방향(D1)으로 배열될 수 있다.A connection part 315 may be disposed between the buffer well 312 and the reaction well 313. The buffer well 312, the reaction well 313, and the waste well 314 may be connected to each other through the connection part 315. From a plan view, the buffer well 312, the reaction well 313, the waste well 314, and the connection part 315 may have a T-shaped structure as a whole. The buffer well 312, the connection part 315, and the reaction well 313 may be arranged in the fifth direction D5. The fifth direction D5 may be a direction parallel to the upper surface of the base 311 and perpendicular to the first direction D1. The connection part 315 and the waste well 314 may be arranged in the first direction D1.

평면적 관점에서, 연결부(315)는 버퍼웰(312), 리액션웰(313) 및 웨이스트웰(314)에 의해 둘러싸일 수 있다. 연결부(315)는 밸브 삽입부(315a), 제1 연결관(315b), 제2 연결관(315c), 제3 연결관(315d) 및 밸브 지지부(315e)를 포함할 수 있다. 밸브 삽입부(315a)는 내부가 빈 원통의 형태를 가질 수 있다. 밸브 삽입부(315a)는 베이스(311)에서 제3 방향(D3)으로 돌출할 수 있다. 밸브 삽입부(315a)의 높이는 리액션웰(313)의 높이보다 낮을 수 있다. 밸브 삽입부(315a)의 내부에 밸브(330)가 삽입될 수 있다. 제1 내지 제3 연결관들(315a, 315b, 315c)은 내부가 빈 관의 형태를 가질 수 있다. 제1 연결관(315b)에 의해, 밸브 삽입부(315a)의 내부와 버퍼웰(312)의 내부가 연결될 수 있다. 제2 연결관(315c)에 의해, 밸브 삽입부(315a) 내부와 리액션웰(313)의 내부가 연결될 수 있다. 제3 연결관(315d)에 의해, 밸브 삽입부(315a) 내부와 웨이스트웰(314)의 내부가 연결될 수 있다. 제1 및 제2 연결관들(315b, 315c)은 서로 평행할 수 있다. 제3 연결관(315d)은 제1 및 제2 연결관들(315b, 315c)과 수직할 수 있다. 밸브 지지부(315e)는 밸브 삽입부(315a) 아래에 배치될 수 있다. 밸브 지지부(315e)는 평면적으로 원형일 수 있다. 밸브 지지부(315e)는 베이스(311)에서 제4 방향(D4)으로 돌출할 수 있다. 밸브 지지부(315e)는 지지부 개구(315e1)를 포함할 수 있다. 밸브 삽입부(315a) 내의 공간은, 밸브 지지부(315e)의 지지부 개구(315e1)를 통해 베이스(311) 아래의 공간과 연통될 수 있다.In plan view, the connection part 315 may be surrounded by the buffer well 312, the reaction well 313 and the waste well 314. The connection part 315 may include a valve insertion part 315a, a first connection pipe 315b, a second connection pipe 315c, a third connection pipe 315d, and a valve support part 315e. The valve insertion part 315a may have a cylindrical shape with an empty inside. The valve insertion part 315a may protrude from the base 311 in the third direction D3. The height of the valve insertion part 315a may be lower than the height of the reaction well 313. The valve 330 may be inserted into the valve insertion part 315a. The first to third connecting pipes 315a, 315b, and 315c may have a shape of an empty pipe. The inside of the valve insertion part 315a and the inside of the buffer well 312 may be connected by the first connector 315b. The inside of the valve insertion part 315a and the inside of the reaction well 313 may be connected by the second connection pipe 315c. The inside of the valve insertion part 315a and the inside of the wastewell 314 may be connected by the third connection pipe 315d. The first and second connecting pipes 315b and 315c may be parallel to each other. The third connection pipe 315d may be perpendicular to the first and second connection pipes 315b and 315c. The valve support part 315e may be disposed under the valve insertion part 315a. The valve support part 315e may be planarly circular. The valve support part 315e may protrude from the base 311 in the fourth direction D4. The valve support part 315e may include a support part opening 315e1. The space within the valve insertion part 315a may communicate with the space under the base 311 through the support part opening 315e1 of the valve support part 315e.

버퍼웰(312) 내부에 파쇄부(316)가 제공될 수 있다. 평면적 관점에서, 파쇄부(316)는 버퍼웰(312)의 중심에 배치될 수 있다. 파쇄부(316)는 메인벽(316a) 및 돌출부(316b)를 포함할 수 있다. A crushing part 316 may be provided inside the buffer well 312. From a plan view, the crushing portion 316 may be disposed at the center of the buffer well 312. The crushing portion 316 may include a main wall 316a and a protruding portion 316b.

메인벽(316a)은 베이스(311)에서 제3 방향(D3)으로 돌출할 수 있다. 메인벽(316a)에 의해, 메인벽(316a) 내의 제1 공간(SP1)이 정의될 수 있다. 평면적 관점에서, 제1 공간(SP1)은 메인벽(316a)에 의해 둘러싸일 수 있다. 평면적 관점에서, 메인벽(316a)은 원의 형태를 가질 수 있다. The main wall 316a may protrude from the base 311 in the third direction D3. The first space SP1 in the main wall 316a may be defined by the main wall 316a. From a plan view, the first space SP1 may be surrounded by the main wall 316a. From a plan view, the main wall 316a may have a circular shape.

메인벽(316a)은 제1 상면(316a1), 제2 상면(316a2), 유입개구(316a3), 제1 홈(316a4), 제2 홈(316a5), 제3 홈(316a6), 제1 유출개구(316a7) 및 제2 유출개구(316a8)를 포함할 수 있다.The main wall 316a has a first upper surface 316a1, a second upper surface 316a2, an inlet opening 316a3, a first groove 316a4, a second groove 316a5, a third groove 316a6, and a first outflow. It may include an opening (316a7) and a second outlet opening (316a8).

평면적 관점에서, 메인벽(316a)의 제1 및 제2 상면들(316a1, 316a2)은 원호의 형태를 가질 수 있다. 도 3d에 따른 단면적 관점에서, 메인벽(316a)의 제1 및 제2 상면들(316a1, 316a2)은 베이스(311)의 상면에 대하여 기울기를 가질 수 있다. 다시 말하면, 메인벽(316a)의 제1 상면(316a1)의 최상부(316a1t)와 최하부(316a1b)는 제3 방향(D3) 및 제5 방향(D5)으로 서로 이격될 수 있고, 메인벽(316a)의 제2 상면(316a2)의 최상부(316a2t)와 최하부316a2b)는 제3 방향(D3) 및 제5 방향(D5)으로 서로 이격될 수 있다.From a plan view, the first and second upper surfaces 316a1 and 316a2 of the main wall 316a may have an arc shape. 3D, the first and second upper surfaces 316a1 and 316a2 of the main wall 316a may have an inclination with respect to the upper surface of the base 311. In other words, the uppermost portion 316a1t and the lowermost portion 316a1b of the first upper surface 316a1 of the main wall 316a may be spaced apart from each other in the third direction D3 and the fifth direction D5, and the main wall 316a ), the uppermost portion 316a2t and the lowermost portion 316a2b of the second upper surface 316a2 may be spaced apart from each other in the third direction D3 and the fifth direction D5.

유입개구(316a3)는 제1 공간(SP1)과 수직적으로 중첩되는 개구일 수 있다. 유입개구(316a3)는 제1 및 제2 상면들(316a1, 316a2) 사이에 제공될 수 있다. The inlet opening 316a3 may be an opening vertically overlapping the first space SP1. The inlet opening 316a3 may be provided between the first and second upper surfaces 316a1 and 316a2.

제1 내지 제3 홈들(316a4, 316a5, 316a6)은 메인벽(316a)이 제1 및 제2 상면들(316a1, 316a2)에서 베이스(311) 방향으로 함몰되어 정의될 수 있다. 제1 홈(316a4)은 제1 상면(316a1)의 최상부(316a1t) 및 제2 상면(316a2)의 최상부(316a2t) 사이에 제공될 수 있다. 제2 및 제3 홈들(316a5, 316a6)은 제1 상면(316a1)의 최하부(316a1b) 및 제2 상면(316a2)의 최하부(316a2b) 사이에 제공될 수 있다.The first to third grooves 316a4, 316a5, and 316a6 may be defined such that the main wall 316a is recessed from the first and second upper surfaces 316a1 and 316a2 in the direction of the base 311. The first groove 316a4 may be provided between the uppermost portion 316a1t of the first upper surface 316a1 and the uppermost portion 316a2t of the second upper surface 316a2. The second and third grooves 316a5 and 316a6 may be provided between the lowermost portion 316a1b of the first upper surface 316a1 and the lowermost portion 316a2b of the second upper surface 316a2.

제1 유출개구(316a7)는 메인벽(316a) 및 베이스(311)에 의해 정의될 수 있다. 제1 유출개구(316a7)는 제1 홈(316a4) 아래에 제공될 수 있다. 제2 유출개구(316a8)는 메인벽(316a) 및 베이스(311)에 의해 정의될 수 있다. 제2 유출개구(316a8)는 제2 및 제3 홈들(316a5, 316a6) 아래에 제공될 수 있다.The first outlet opening 316a7 may be defined by the main wall 316a and the base 311. The first outlet opening 316a7 may be provided under the first groove 316a4. The second outlet opening 316a8 may be defined by the main wall 316a and the base 311. The second outlet opening 316a8 may be provided under the second and third grooves 316a5 and 316a6.

돌출부(316b)는 메인벽(316a)의 제2 및 제3 홈들(316a5, 316a6) 사이에 제공될 수 있다. 돌출부(316b)는 메인벽(316a)의 제2 유출개구(316a8) 위에 제공될 수 있다. 메인벽(316a)은 제2 및 제3 홈들(316a5, 316a6)과 제2 유출개구(316a8) 사이에 제공되는 개재부(316a9)를 더 포함할 수 있다. 돌출부(316b)는 상기 개재부(316a9)와 연결될 수 있다. 돌출부(316b)는 제3 방향(D3)으로 연장할 수 있다. 도 3d에 따른 단면적 관점에서, 돌출부(316b)의 상면(316b1)은 베이스(311)의 상면에 대하여 기울기를 가질 수 있다. The protrusion 316b may be provided between the second and third grooves 316a5 and 316a6 of the main wall 316a. The protrusion 316b may be provided on the second outlet opening 316a8 of the main wall 316a. The main wall 316a may further include an intervening portion 316a9 provided between the second and third grooves 316a5 and 316a6 and the second outlet opening 316a8. The protrusion 316b may be connected to the intervening portion 316a9. The protrusion 316b may extend in the third direction D3. In view of the cross-sectional area according to FIG. 3D, the upper surface 316b1 of the protrusion 316b may have an inclination with respect to the upper surface of the base 311.

돌출부(316b)의 상면(316b1)의 최상부(316b1h)는 메인벽(316a)의 제1 상면(316a1)의 최하부(316a1b) 및 제2 상면(316a2)의 최하부(316a2b)보다 높은 레벨에 위치할 수 있다. 다시 말하면, 돌출부(316b)의 상면(316b1)의 최상부(316b1h)와 베이스(311) 사이의 최단거리는 메인벽(316a)의 제1 상면(316a1)의 최하부(316a1b)와 베이스(311) 사이의 최단거리 및 제2 상면(316a2)의 최하부(316a2b)와 베이스(311) 사이의 최단거리보다 클 수 있다. 돌출부(316b)의 상면(316b1)의 최상부(316b1h)는 메인벽(316a)의 제1 상면(316a1)의 최상부(316a1t) 및 제2 상면(316a2)의 최상부(316a2t)보다 낮은 레벨에 위치할 수 있다. 다시 말하면, 돌출부(316b)의 상면(316b1)의 최상부(316b1h)와 베이스(311) 사이의 최단거리는 메인벽(316a)의 제1 상면(316a1)의 최상부(316a1t)와 베이스(311) 사이의 최단거리 및 제2 상면(316a2)의 최상부(316a2t)와 베이스(311) 사이의 최단거리보다 작을 수 있다. 돌출부(316b)는 메인벽(316a)의 내측면(316a10)에서, 메인벽(316a)의 내측 방향으로 돌출할 수 있다. The uppermost portion 316b1h of the upper surface 316b1 of the protrusion 316b is located at a level higher than the lowermost portion 316a1b of the first upper surface 316a1 of the main wall 316a and the lowermost portion 316a2b of the second upper surface 316a2. I can. In other words, the shortest distance between the uppermost portion 316b1h of the upper surface 316b1 of the protrusion 316b and the base 311 is between the lowermost portion 316a1b and the base 311 of the first upper surface 316a1 of the main wall 316a. It may be greater than the shortest distance and the shortest distance between the base 311 and the lowermost portion 316a2b of the second upper surface 316a2. The uppermost portion 316b1h of the upper surface 316b1 of the protrusion 316b is located at a level lower than the uppermost portion 316a1t of the first upper surface 316a1 of the main wall 316a and the uppermost portion 316a2t of the second upper surface 316a2. I can. In other words, the shortest distance between the uppermost portion 316b1h of the upper surface 316b1 of the protrusion 316b and the base 311 is between the uppermost portion 316a1t of the first upper surface 316a1 of the main wall 316a and the base 311 It may be smaller than the shortest distance and the shortest distance between the uppermost portion 316a2t of the second upper surface 316a2 and the base 311. The protrusion 316b may protrude in the inner direction of the main wall 316a from the inner surface 316a10 of the main wall 316a.

리액션웰(313) 내에는 제1 자석(317), 제2 자석들(318a), 제1 접합체들(318b), 발광체들(318c) 및 제2 접합체들(318d)이 제공될 수 있다. 제1 및 제2 자석들(317, 318a) 사이에 작용하는 자기력에 의해, 제1 및 제2 자석들(317, 318a)은 서로 끌어당길 수 있다. 제1 자석(317), 제2 자석들(318a), 제1 접합체들(318b), 발광체들(318c) 및 제2 접합체들(318d) 각각은 작용기를 포함할 수 있다. 제2 자석들(318a) 및 발광체들(318c)은 표면처리에 의해 작용기를 포함할 수 있다. 제1 접합체(318b)의 작용기와 제2 자석(318a)의 작용기가 접합되어, 제1 접합체(318b)는 제2 자석(318a)과 연결될 수 있다. 제2 접합체(318d)의 작용기와 발광체(318c)의 작용기가 접합되어, 제2 접합체(318d)는 발광체(318c)와 연결될 수 있다.In the reaction well 313, a first magnet 317, second magnets 318a, first assemblies 318b, light emitters 318c, and second assemblies 318d may be provided. By the magnetic force acting between the first and second magnets 317 and 318a, the first and second magnets 317 and 318a may attract each other. Each of the first magnet 317, the second magnets 318a, the first bonding bodies 318b, the luminous bodies 318c, and the second bonding bodies 318d may include a functional group. The second magnets 318a and the light emitters 318c may include functional groups by surface treatment. Since the functional group of the first bonding body 318b and the functional group of the second magnet 318a are bonded, the first bonding body 318b may be connected to the second magnet 318a. The functional group of the second conjugate 318d and the functional group of the light emitter 318c are joined, so that the second conjugate 318d may be connected to the light emitter 318c.

제1 자석(317)은 베이스(311) 및 윈도우(454)를 사이에 두고 제3 자석(450)과 이격될 수 있다. 이에 대하여는 후술한다. The first magnet 317 may be spaced apart from the third magnet 450 with the base 311 and the window 454 interposed therebetween. This will be described later.

커버(320)는 제1 개구벽(321) 및 제2 개구벽(322)을 포함할 수 있다. The cover 320 may include a first opening wall 321 and a second opening wall 322.

제1 개구벽(321)은 커버(320)의 상면(323)에서 제4 방향(D4)으로 돌출할 수 있다. 제1 개구벽(321)은 내부가 빈 원통의 형태를 가질 수 있다. 제1 개구벽(321)에 의해 제1 커버개구(321a)가 정의될 수 있다. 제1 커버개구(321a) 내에 카트리지 본체(310)의 리액션웰(313)이 제공될 수 있다. 리액션웰(313)이 제1 개구벽(321)에 의해 평면적으로 둘러싸일 수 있다. 제1 커버개구(321a)에 의해, 리액션웰(313)이 커버(320)의 외부로 개방될 수 있다. 다시 말하면, 제1 커버개구(321a)에 의해 리액션웰(313)이 노출될 수 있다.The first opening wall 321 may protrude in the fourth direction D4 from the upper surface 323 of the cover 320. The first opening wall 321 may have a cylindrical shape with an empty inside. The first cover opening 321a may be defined by the first opening wall 321. The reaction well 313 of the cartridge body 310 may be provided in the first cover opening 321a. The reaction well 313 may be surrounded in a plane by the first opening wall 321. The reaction well 313 may be opened to the outside of the cover 320 by the first cover opening 321a. In other words, the reaction well 313 may be exposed through the first cover opening 321a.

제2 개구벽(322)은 커버(320)의 상면(323)에서 제3 방향(D3)으로 돌출할 수 있다. 제2 개구벽(322)은 내부가 빈 원통의 형태를 가질 수 있다. 제2 개구벽(322)에 의해 제2 커버개구(322a)가 정의될 수 있다. 카트리지 본체(310)의 버퍼웰(312)의 상부가 제2 개구벽(322)에 의해 평면적으로 둘러싸일 수 있다.The second opening wall 322 may protrude in the third direction D3 from the upper surface 323 of the cover 320. The second opening wall 322 may have a cylindrical shape with an empty inside. The second cover opening 322a may be defined by the second opening wall 322. The upper portion of the buffer well 312 of the cartridge body 310 may be surrounded in a plane by the second opening wall 322.

커버(320)에 의해, 카트리지 본체(310)의 연결부(315)의 밸브 삽입부(315a) 및 웨이스트웰(314)이 덮일 수 있다.By the cover 320, the valve insertion portion 315a and the waste well 314 of the connection portion 315 of the cartridge body 310 may be covered.

밸브(330)는 밸브 본체(331) 및 밸브 돌출부(332)를 포함할 수 있다. 밸브 본체(331)는 원통의 형태를 가질 수 있다. 밸브 돌출부(332)는 밸브 본체(331)에서 제4 방향(D4)으로 돌출할 수 있다. 밸브 돌출부(332)는 평면적으로 십자의 형태를 가질 수 있다. 밸브 본체(331)는 카트리지 본체(310)의 연결부(315)의 밸브 삽입부(315a) 내에 삽입될 수 있다. 밸브 본체(331)는 밸브 삽입부(315a) 내에서 회전 가능할 수 있다. 밸브 돌출부(332)는 밸브 지지부(315e)의 지지부 개구(315e1)를 통해 밸브 지지부(315e) 아래로 돌출할 수 있다. The valve 330 may include a valve body 331 and a valve protrusion 332. The valve body 331 may have a cylindrical shape. The valve protrusion 332 may protrude from the valve body 331 in the fourth direction D4. The valve protrusion 332 may have a cross shape in plan view. The valve body 331 may be inserted into the valve insertion part 315a of the connection part 315 of the cartridge body 310. The valve body 331 may be rotatable within the valve insertion part 315a. The valve protrusion 332 may protrude below the valve support 315e through the support opening 315e1 of the valve support 315e.

밸브 본체(331)는 제1 연결로(331a), 제2 연결로(331b) 및 제3 연결로(331c)를 포함할 수 있다. 제1 내지 제3 연결로들(331a, 331b, 331c)은 서로 연결될 수 있다. 제1 및 제2 연결로들(331a,331b)은 서로 평행하게 연결될 수 있다. 제3 연결로(331c)와 제1 및 제2 연결로들(331a,331b)은 서로 수직하게 연결될 수 있다. 제1 내지 제3 연결로들(331a, 331b, 331c)은 밸브 본체(331)를 관통할 수 있다. 평면적 관점에서, 제1 내지 제3 연결로들(331a, 331b, 331c)은 T자형 구조를 가질 수 있다. 밸브 본체(331)가 회전함에 따라, 제1 내지 제3 연결로들(331a, 331b, 331c)이 회전할 수 있다. 상기 제1 내지 제3 연결로들(331a, 331b, 331c)과 카트리지 본체(310)의 연결부(315)의 제1 내지 제3 연결관들(315b, 315c, 315d)은 동일한 평면 상에 제공될 수 있다. The valve body 331 may include a first connection path 331a, a second connection path 331b, and a third connection path 331c. The first to third connection paths 331a, 331b, and 331c may be connected to each other. The first and second connection paths 331a and 331b may be connected in parallel with each other. The third connection path 331c and the first and second connection paths 331a and 331b may be vertically connected to each other. The first to third connection paths 331a, 331b, and 331c may pass through the valve body 331. From a plan view, the first to third connection paths 331a, 331b, and 331c may have a T-shaped structure. As the valve body 331 rotates, the first to third connection paths 331a, 331b, and 331c may rotate. The first to third connecting passages 331a, 331b, 331c and the first to third connecting pipes 315b, 315c, 315d of the connecting portion 315 of the cartridge body 310 may be provided on the same plane. have.

버퍼용기(340)는 버퍼용기 본체(341), 제2 돌기(342), 제1 분리막(343) 및 제2 분리막(344)을 포함할 수 있다.The buffer container 340 may include a buffer container body 341, a second protrusion 342, a first separator 343 and a second separator 344.

버퍼용기 본체(341)는 내부가 빈 원통의 형태를 가질 수 있다. 버퍼용기 본체(341)의 내부 공간은 제1 분리막(343) 및 제2 분리막(344)에 의해 외부와 분리될 수 있다. 제1 분리막(343)은 버퍼용기 본체(341)의 아래쪽 개구를 막을 수 있다. 제2 분리막(344)은 버퍼용기 본체(341)의 위쪽 개구를 막을 수 있다. 버퍼용기 본체(341)의 내부에는 버퍼액(BL)이 수용될 수 있다. 제2 돌기(342)는 버퍼용기 본체(341)의 외측벽(341a)에서 외측 방향으로 돌출할 수 있다. 평면적 관점에서, 제2 돌기(342)는 버퍼용기 본체(341)의 외측벽(341a)을 따라 원형으로 제공될 수 있다. 제2 돌기(342)는 탄성이 상대적으로 좋은 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제2 돌기(342)는 플라스틱을 포함할 수 있다.The buffer container body 341 may have a cylindrical shape with an empty inside. The inner space of the buffer container body 341 may be separated from the outside by the first separation membrane 343 and the second separation membrane 344. The first separation membrane 343 may block the lower opening of the buffer container body 341. The second separation membrane 344 may block an upper opening of the buffer container body 341. The buffer solution BL may be accommodated in the buffer container body 341. The second protrusion 342 may protrude outward from the outer wall 341a of the buffer container body 341. From a plan view, the second protrusion 342 may be provided in a circular shape along the outer wall 341a of the buffer container body 341. The second protrusion 342 may include a material having relatively good elasticity. For example, the second protrusion 342 may include plastic.

버퍼용기(340)는 버퍼웰(312) 내에 수용될 수 있다. 버퍼용기(340)의 제2 돌기(342)가 버퍼웰(312)의 제1 돌기(312a) 상에 배치될 수 있다. 버퍼웰(312)의 제1 돌기(312a)에 의해, 버퍼용기(340)의 제2 돌기(342)가 지지될 수 있다. 이에 따라, 버퍼용기(340)가 카트리지 본체(310)의 파쇄부(316) 위에 배치될 수 있다. 다시 말하면, 버퍼용기(340)가 베이스(311)와 이격될 수 있다.The buffer container 340 may be accommodated in the buffer well 312. The second protrusion 342 of the buffer container 340 may be disposed on the first protrusion 312a of the buffer well 312. The second protrusion 342 of the buffer container 340 may be supported by the first protrusion 312a of the buffer well 312. Accordingly, the buffer container 340 may be disposed on the crushing portion 316 of the cartridge body 310. In other words, the buffer container 340 may be spaced apart from the base 311.

도 4a는 카트리지 구동부의 사시도이다. 도 4b는 카트리지 구동부의 분해 사시도이다. 도 4c는 도 4a의 A-A'선에 따른 단면도이다.4A is a perspective view of the cartridge driving unit. 4B is an exploded perspective view of the cartridge driving unit. 4C is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 4A.

도 4a, 4b 및 4c를 참조하면, 카트리지 구동부(400)는 밸브구동모터(410), 자석구동모터(420), 조인트(430), 자석 수용부(440), 제3 자석(450) 및 구동부 케이스(460)를 포함할 수 있다.4A, 4B and 4C, the cartridge driving unit 400 includes a valve driving motor 410, a magnet driving motor 420, a joint 430, a magnet receiving unit 440, a third magnet 450 and a driving unit. It may include a case 460.

구동부 케이스(460)는 그 내부에 빈 공간을 포함할 수 있다. 밸브구동모터(410), 자석구동모터(420), 조인트(430), 자석 수용부(440) 및 제3 자석(450)은 구동부 케이스(460) 내부의 빈 공간에 배치될 수 있다.The driving part case 460 may include an empty space therein. The valve driving motor 410, the magnet driving motor 420, the joint 430, the magnet receiving part 440, and the third magnet 450 may be disposed in an empty space inside the driving part case 460.

밸브구동모터(410)는 제1 회전축(411)을 포함할 수 있다. 제1 회전축(411)은 밸브구동모터(410)의 상면(412)에서 제3 방향(D3)으로 돌출할 수 있다. 밸브구동모터(410)의 동작에 따라, 제1 회전축(411)이 회전할 수 있다. The valve driving motor 410 may include a first rotation shaft 411. The first rotation shaft 411 may protrude in a third direction D3 from the upper surface 412 of the valve driving motor 410. According to the operation of the valve driving motor 410, the first rotation shaft 411 may rotate.

밸브구동모터(410)의 제1 회전축(411)과 조인트(430)가 연결될 수 있다. 조인트(430)는 그의 하부에 제1 결합구(431)를 포함할 수 있고, 그의 상부에 제2 결합구(432)를 포함할 수 있다. 조인트(430)의 제1 결합구(431)에 밸브구동모터(410)의 제1 회전축(411)이 삽입될 수 있다. 밸브구동모터(410)의 제1 회전축(411)의 회전에 따라, 조인트(430)가 회전할 수 있다. 제2 결합구(432)는 평면적으로 십자의 형태를 가질 수 있다. 조인트(430)의 제2 결합구(432)에 밸브(330)의 밸브 돌출부(332)가 삽입될 수 있다, 조인트(430)의 제2 결합구(432)는 밸브(330)의 밸브 돌출부(332)가 삽입될 수 있도록, 밸브 돌출부(332)에 대응되는 형태를 가질 수 있다. 조인트(430)의 회전에 따라, 밸브 돌출부(332)가 회전할 수 있고, 밸브(330) 전체가 회전할 수 있다.The first rotation shaft 411 and the joint 430 of the valve driving motor 410 may be connected. The joint 430 may include a first coupling hole 431 at a lower portion thereof, and a second coupling hole 432 at an upper portion thereof. The first rotation shaft 411 of the valve driving motor 410 may be inserted into the first coupling hole 431 of the joint 430. As the first rotation shaft 411 of the valve driving motor 410 rotates, the joint 430 may rotate. The second coupler 432 may have a cross shape in plan view. The valve protrusion 332 of the valve 330 may be inserted into the second coupling port 432 of the joint 430, and the second coupling port 432 of the joint 430 is a valve protrusion of the valve 330 ( It may have a shape corresponding to the valve protrusion 332 so that the 332 can be inserted. As the joint 430 rotates, the valve protrusion 332 may rotate, and the entire valve 330 may rotate.

밸브구동모터(410)의 상면(412) 상에 자석구동모터(420)가 제공될 수 있다. 자석구동모터(420)는 제2 회전축(421)을 포함할 수 있다. 제2 회전축(421)은 자석구동모터(420)의 상면(422) 상에서 제3 방향(D3)으로 돌출할 수 있다. 자석구동모터(420)의 동작에 따라, 제2 회전축(421)이 회전할 수 있다.A magnet driving motor 420 may be provided on the upper surface 412 of the valve driving motor 410. The magnet driving motor 420 may include a second rotation shaft 421. The second rotation shaft 421 may protrude in the third direction D3 on the upper surface 422 of the magnet driving motor 420. According to the operation of the magnet driving motor 420, the second rotation shaft 421 may rotate.

자석구동모터(420)의 제2 회전축(421)과 자석 수용부(440)가 연결될 수 있다. 자석 수용부(440)는 그의 하부에 제3 결합구(441)를 포함할 수 있고, 그의 상부에 자석 수용 공간(442)을 포함할 수 있다. 자석 수용부(440)의 제3 결합구(441)에 제2 회전축(421)이 삽입될 수 있다. 제2 회전축(421)의 회전에 따라, 자석 수용부(440)가 회전할 수 있다. 자석 수용 공간(442) 내에 제3 자석(450)이 제공될 수 있다. 제3 자석(450)은 자석 수용부(440)에 고정될 수 있다. 자석 수용부(440)의 회전에 따라, 제3 자석(450)은 회전할 수 있다. The second rotation shaft 421 of the magnet driving motor 420 and the magnet receiving portion 440 may be connected. The magnet accommodating portion 440 may include a third coupling hole 441 at a lower portion thereof, and may include a magnet accommodating space 442 at an upper portion thereof. The second rotation shaft 421 may be inserted into the third coupler 441 of the magnet receiving part 440. As the second rotation shaft 421 rotates, the magnet accommodating portion 440 may rotate. A third magnet 450 may be provided in the magnet accommodation space 442. The third magnet 450 may be fixed to the magnet receiving portion 440. As the magnet receiving portion 440 rotates, the third magnet 450 may rotate.

구동부 케이스(460)는 카트리지 홈(461), 밸브 개구(462), 자석 개구(463) 및 윈도우(464)를 포함할 수 있다. 카트리지 홈(461)은 구동부 케이스(460)의 상면에 제공될 수 있다. 카트리지 홈(461)은 구동부 케이스(460)의 상면에서 케이스(100)의 바닥면(120) 방향으로 함몰될 수 있다. 카트리지 홈(461)에는 카트리지(300)의 하부가 삽입될 수 있다. 밸브 개구(462), 자석 개구(463) 및 윈도우(464)는 카트리지 홈(461) 내에 배치될 수 있다.The driving part case 460 may include a cartridge groove 461, a valve opening 462, a magnet opening 463, and a window 464. The cartridge groove 461 may be provided on the upper surface of the driving part case 460. The cartridge groove 461 may be depressed from the upper surface of the driving part case 460 toward the bottom surface 120 of the case 100. The lower portion of the cartridge 300 may be inserted into the cartridge groove 461. The valve opening 462, the magnet opening 463 and the window 464 may be disposed within the cartridge groove 461.

밸브 개구(462)에 의해, 조인트(430)의 제2 결합구(432)가 구동부 케이스(460) 외부로 노출될 수 있다. 카트리지(300)의 밸브(330)의 밸브 돌출부(332)가 밸브 개구(462)를 통해 조인트(430)의 제2 결합구(432)로 삽입될 수 있다. Through the valve opening 462, the second coupling port 432 of the joint 430 may be exposed to the outside of the driving part case 460. The valve protrusion 332 of the valve 330 of the cartridge 300 may be inserted into the second coupling port 432 of the joint 430 through the valve opening 462.

자석 개구(463)는 윈도우(464)에 의해 덮힐 수 있다. 윈도우(464)는 투명할 수 있다. 윈도우(464) 아래에 제3 자석(450)이 배치될 수 있다. 윈도우(464)를 통해, 제3 자석(450)이 시각적으로 구동부 케이스(460) 외부로 노출될 수 있다. 윈도우(464) 위에 카트리지 본체(310)의 리액션웰(313)이 배치될 수 있다. The magnet opening 463 can be covered by a window 464. Window 464 may be transparent. A third magnet 450 may be disposed under the window 464. Through the window 464, the third magnet 450 may be visually exposed to the outside of the driving part case 460. The reaction well 313 of the cartridge body 310 may be disposed on the window 464.

도 5a는 지지부와 연결된 구성요소들을 설명하기 위한 사시도이다. 도 5b는 액션부를 위에서 본 사시도이다. 도 5c는 액션부를 아래에서 본 사시도이다. 도 5d는 도 5b의 A-A'선에 따른 단면도이다.5A is a perspective view illustrating components connected to the support. 5B is a perspective view of the action unit viewed from above. 5C is a perspective view of the action unit viewed from below. 5D is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 5B.

도 5a, 5b, 5c 및 5d를 참조하면, 액션부(600)는 액션판(610), 히터(620), 히팅판(630), 히팅판 고정부들(640), 히팅 커버(650), 가압부(660), 바킹들(670), 스프링들(680) 및 노즐(690)을 포함할 수 있다.5A, 5B, 5C and 5D, the action part 600 includes an action plate 610, a heater 620, a heating plate 630, a heating plate fixing parts 640, a heating cover 650, It may include a pressing unit 660, barkings 670, springs 680 and a nozzle 690.

액션판(610)은 평평한 판의 형태를 가질 수 있다. 액션판(610)은 상하로(즉, 제3 방향(D3) 및 제4 방향(D4)으로) 이동할 수 있다. 액션판(610)은 복수개의 외측 개구들(611)을 포함할 수 있다. 지지부(500)의 지지대들(510)이 외측 개구들(611) 각각을 관통할 수 있다. 지지대(510)와 외측 개구(611) 사이에 바킹(670)이 제공될 수 있다. 바킹(670)은 탄성이 상대적으로 좋은 물질을 포함할 수 있다. 일 예로, 4개의 바킹들(670)이 제공될 수 있다.The action plate 610 may have a flat plate shape. The action plate 610 may move vertically (that is, in the third direction D3 and the fourth direction D4). The action plate 610 may include a plurality of outer openings 611. The supports 510 of the support part 500 may pass through each of the outer openings 611. A barking 670 may be provided between the support 510 and the outer opening 611. The barking 670 may include a material having relatively good elasticity. For example, four barkings 670 may be provided.

액션판(610)은 그의 중심부에 내측 개구(612)를 포함할 수 있다. 노즐(690)의 일 부분이 내측 개구(612) 내에 제공되어, 노즐(690)이 고정될 수 있다. The action plate 610 may include an inner opening 612 in the center thereof. A portion of the nozzle 690 is provided in the inner opening 612 so that the nozzle 690 may be fixed.

액션판(610) 아래에 히팅판(630)이 배치될 수 있다. 히팅판(630)과 액션판(610) 사이에 히팅판 고정부들(640)이 배치될 수 있다. 히팅판 고정부들(640)에 의해, 히팅판(630)이 액션판(610) 아래에 고정될 수 있다. 일 예로, 4개의 히팅판 고정부들(640)이 제공될 수 있다. 일 예로, 히팅판(630)은 알루미늄, 구리 또는 철 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. A heating plate 630 may be disposed under the action plate 610. Heating plate fixing parts 640 may be disposed between the heating plate 630 and the action plate 610. The heating plate 630 may be fixed under the action plate 610 by the heating plate fixing parts 640. For example, four heating plate fixing parts 640 may be provided. For example, the heating plate 630 may include at least one of aluminum, copper, or iron.

히팅판(630)은 히팅판 개구(631)를 포함할 수 있다. 히팅판 개구(631) 내에 히팅 커버(650)의 일 부분이 제공되어, 히팅 커버(650)가 히팅판(630)에 고정될 수 있다. 히팅 커버(650)는 히팅판(630)에서 제4 방향(D4)으로 돌출할 수 있다. 히팅 커버(650)는 내부가 빈 원통의 형태를 가질 수 있다. 히팅 커버(650) 내에 히팅 공간(HS)이 제공될 수 있다. 히팅 공간(HS)은 카트리지(300)의 카트리지 본체(310)의 리액션웰(313)이 수용될 수 있는 크기를 가질 수 있다. 일 예로, 히팅 커버(650)는 알루미늄, 구리 또는 철 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The heating plate 630 may include a heating plate opening 631. A portion of the heating cover 650 is provided in the heating plate opening 631 so that the heating cover 650 may be fixed to the heating plate 630. The heating cover 650 may protrude from the heating plate 630 in the fourth direction D4. The heating cover 650 may have a cylindrical shape with an empty inside. A heating space HS may be provided in the heating cover 650. The heating space HS may have a size in which the reaction well 313 of the cartridge body 310 of the cartridge 300 can be accommodated. For example, the heating cover 650 may include at least one of aluminum, copper, or iron.

액션판(610)과 히팅판(630) 사이 및 액션판(610)과 히팅 커버(650) 사이에 히터(620)가 배치될 수 있다. 히터(620)는 외부로부터 전력을 공급받아 열을 발생시킬 수 있다. 일 예로, 히터(620)는 실리콘, 알루미늄, 구리, 세라믹, 니켈크롬 및 탄소섬유 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 다른 예로, 히터(620)는 펠티어 소자를 포함할 수 있다. 히터(620)에서 발생한 열은 히팅판(630) 및 히팅 커버(650)로 전달될 수 있다.A heater 620 may be disposed between the action plate 610 and the heating plate 630 and between the action plate 610 and the heating cover 650. The heater 620 may generate heat by receiving power from the outside. For example, the heater 620 may include at least one of silicon, aluminum, copper, ceramic, nickel chromium, and carbon fiber. As another example, the heater 620 may include a Peltier element. Heat generated from the heater 620 may be transferred to the heating plate 630 and the heating cover 650.

가압부(660)는 액션판(610)에서 제4 방향(D4)으로 돌출할 수 있다. 가압부(660)는 원통의 형태를 가질 수 있다. 가압부(660)의 직경은, 카트리지(300)의 커버(320)의 제2 커버개구(322a)의 직경보다 작을 수 있다. 다시 말하면, 가압부(660)는 상기 제2 커버개구(322a)를 통과할 수 있다. 가압부(660)는 액션판(610)이 아래로(즉, 제4 방향(D4)으로) 이동함에 따라, 상기 제2 커버개구(322a)를 통과하여 버퍼용기(340)를 가압할 수 있다.The pressing part 660 may protrude from the action plate 610 in the fourth direction D4. The pressing part 660 may have a cylindrical shape. The diameter of the pressing portion 660 may be smaller than the diameter of the second cover opening 322a of the cover 320 of the cartridge 300. In other words, the pressing part 660 may pass through the second cover opening 322a. As the action plate 610 moves downward (ie, in the fourth direction D4), the pressing unit 660 may press the buffer container 340 through the second cover opening 322a. .

스프링들(680)은 액션판(610)과 지지부(500)의 지지판(520) 사이에 제공될 수 있다. 스프링들(680)은 액션판(610)의 각각의 외측 개구들(611) 상에 제공될 수 있다. 일 예로, 4개의 스프링들(680)이 제공될 수 있다. 지지부(500)의 지지대(510)가 스프링(680)을 관통할 수 있다. 스프링(680)은 액션판(610)의 상승(즉, 제3 방향(D3)으로의 이동)에 따라 압축될 수 있다.The springs 680 may be provided between the action plate 610 and the support plate 520 of the support part 500. Springs 680 may be provided on each of the outer openings 611 of the action plate 610. For example, four springs 680 may be provided. The support 510 of the support part 500 may pass through the spring 680. The spring 680 may be compressed according to the rise of the action plate 610 (ie, movement in the third direction D3).

노즐(690)은 인렛부(691) 및 아웃렛부(692)를 포함할 수 있다. 인렛부(691)는 상부(691a) 및 하부(691b)를 포함할 수 있다. 인렛부(691)의 상부(691a)는 액션판(610)의 내측 개구(612) 내에 제공될 수 있다. 인렛부(691)의 하부(691b)의 폭은 인렛부(691)의 상부(691a)의 폭보다 클 수 있다. 인렛부(691)의 하부(691b)에 의해, 아웃렛부(692)를 수용할 수 있는 공간이 정의될 수 있다. 인렛부(691)의 하부(691b) 내에, 아웃렛부(692)가 제공될 수 있다. 인렛부(691)는 인렛 개구(691c)를 포함할 수 있고, 아웃렛부(692)는 아웃렛 개구(692a)를 포함할 수 있다. 인렛 개구(691c) 및 아웃렛 개구(692a)는 서로 연결될 수 있다.The nozzle 690 may include an inlet portion 691 and an outlet portion 692. The inlet portion 691 may include an upper portion 691a and a lower portion 691b. The upper portion 691a of the inlet portion 691 may be provided in the inner opening 612 of the action plate 610. The width of the lower portion 691b of the inlet portion 691 may be larger than the width of the upper portion 691a of the inlet portion 691. A space capable of accommodating the outlet portion 692 may be defined by the lower portion 691b of the inlet portion 691. An outlet portion 692 may be provided in the lower portion 691b of the inlet portion 691. The inlet portion 691 may include an inlet opening 691c, and the outlet portion 692 may include an outlet opening 692a. The inlet opening 691c and the outlet opening 692a may be connected to each other.

펌프(700)는 공기압 펌프일 수 있다. 펌프(700)는 압력 조절부(710) 및 연결튜브(720)를 포함할 수 있다. 압력 조절부(710)는 지지부(500)의 지지판(520) 상에 제공될 수 있다. 압력 조절부(710)는 공기를 흡입 또는 배출할 수 있다. 연결튜브(720)에 의해 압력 조절부(710)가 액션부(600)의 노즐(690)의 인렛부(691)와 연결될 수 있다. 연결튜브(720)는 지지부(500)의 지지판(520)을 관통할 수 있다. 압력 조절부(710) 및 연결튜브(720)와 연결됨으로써, 노즐(690)은 아웃렛부(692)를 통해 공기를 흡입 또는 배출할 수 있다.The pump 700 may be a pneumatic pump. The pump 700 may include a pressure control unit 710 and a connection tube 720. The pressure control part 710 may be provided on the support plate 520 of the support part 500. The pressure control unit 710 may suck or discharge air. The pressure control part 710 may be connected to the inlet part 691 of the nozzle 690 of the action part 600 by the connection tube 720. The connection tube 720 may pass through the support plate 520 of the support part 500. By being connected to the pressure control unit 710 and the connection tube 720, the nozzle 690 may suck or discharge air through the outlet unit 692.

계측부(800)는 지지부(500)의 지지판(520)의 측벽과 연결될 수 있다. The measurement unit 800 may be connected to a sidewall of the support plate 520 of the support unit 500.

일 예로, 계측부(800)는 광원, 광 센서 및 프로세서를 포함할 수 있다. 이 경우, 계측부(800)는 광원에서 형광체로 광을 조사하고, 형광체에서 방사되는 광을 광 센서로 획득한 후, 프로세서를 이용하여 획득된 광을 분석할 수 있다.For example, the measurement unit 800 may include a light source, an optical sensor, and a processor. In this case, the measurement unit 800 may irradiate light from a light source to a phosphor, acquire light emitted from the phosphor through an optical sensor, and then analyze the acquired light using a processor.

다른 예로, 계측부(800)는 광 센서 및 프로세서를 포함할 수 있다. 이 경우, 계측부(800)는 자체 발광체에서 방사되는 광을 광 센서로 획득한 후, 프로세서를 이용하여 획득된 광을 분석할 수 있다.As another example, the measurement unit 800 may include an optical sensor and a processor. In this case, the measurement unit 800 may acquire light emitted from the self-luminous body with an optical sensor, and then analyze the acquired light using a processor.

계측부(800)는 카트리지 본체(310)의 리액션웰(313) 내에서 방사되는 광을 획득할 수 있다. 상기 리액션웰(313) 내에서 방사되는 광은, 카트리지(300)의 커버(320)의 제1 커버개구(321a)를 통해 카트리지(300) 외부로 방사될 수 있다.The measurement unit 800 may acquire light radiated from the reaction well 313 of the cartridge body 310. Light radiated from the reaction well 313 may be radiated to the outside of the cartridge 300 through the first cover opening 321a of the cover 320 of the cartridge 300.

제2 트랜스퍼(900)는 동력부(910), 휠(920) 및 와이어(930)를 포함할 수 있다. 동력부(910)는 지지부(500)의 지지판(520) 상에 배치될 수 있다. 동력부(910)는 휠(920)과 연결될 수 있다. 동력부(910)의 구동에 의해, 휠(920)이 회전할 수 있다. 휠(920)의 회전에 따라, 와이어(930)가 휠(920)에 감기거나 휠(920)에서 풀릴 수 있다. 와이어(930)는 지지부(500)의 지지판(520)을 관통하여, 액션부(600)의 액션판(610)과 연결될 수 있다. 와이어(930)가 휠(920)에 감기면, 액션판(610)이 위로(즉, 제3 방향(D3)으로) 상승할 수 있다. 액션판(610)의 상승에 따라, 액션부(600)의 스프링들(680)이 압축될 수 있다. 와이어(930)가 휠(920)에서 풀리면, 압축된 스프링들(680)의 탄성력에 의해, 액션판(610)이 아래로(즉, 제4 방향(D4)으로) 하강할 수 있다.The second transfer 900 may include a power unit 910, a wheel 920, and a wire 930. The power unit 910 may be disposed on the support plate 520 of the support unit 500. The power unit 910 may be connected to the wheel 920. By driving the power unit 910, the wheel 920 may rotate. According to the rotation of the wheel 920, the wire 930 may be wound around the wheel 920 or released from the wheel 920. The wire 930 may pass through the support plate 520 of the support part 500 and may be connected to the action plate 610 of the action part 600. When the wire 930 is wound around the wheel 920, the action plate 610 may rise upward (ie, in the third direction D3). As the action plate 610 rises, the springs 680 of the action part 600 may be compressed. When the wire 930 is released from the wheel 920, the action plate 610 may descend downward (ie, in the fourth direction D4) due to the elastic force of the compressed springs 680.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템의 구동방법을 설명하기 위한 순서도이다.6 is a flowchart illustrating a method of driving a diagnostic system according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템의 구동방법은 시료를 리액션웰에 투입하는 단계(S100), 버퍼액을 버퍼웰에 투입하는 단계(S200), 버퍼액을 리액션웰에 투입하는 단계(S300), 반응 결과물을 형성하는 단계(S400), 버퍼액을 리액션웰에서 제거하는 단계(S500), 세정 단계(S600) 및 계측 단계(S700)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6, in the method of driving the diagnostic system according to an embodiment of the present invention, the step of injecting a sample into the reaction well (S100), the step of injecting a buffer liquid into the buffer well (S200), and the buffer liquid into the reaction well. Injecting (S300), forming a reaction product (S400), removing the buffer solution from the reaction well (S500), washing step (S600), and may include a measurement step (S700).

도 7, 8a, 8b, 8c, 8d, 9a, 9b, 9c, 10a, 10b, 10c, 11a, 11b, 11c 및 12는 본 발명의 실시예에 따른 진단 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면들이다.7, 8a, 8b, 8c, 8d, 9a, 9b, 9c, 10a, 10b, 10c, 11a, 11b, 11c, and 12 are diagrams for explaining the operation of a diagnostic system according to an embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 시료를 리액션웰에 투입하는 단계(S100)에서, 카트리지 본체(310)의 리액션웰(313) 내에 시료(SA)를 투입할 수 있다. 일 예로, 상기 시료(SA)는 혈액일 수 있다. 상기 시료(SA)는 반응체들(RM)을 포함할 수 있다, 상기 반응체들(RM)은 리액션웰(313) 내의 제1 접합체들(318b) 및 제2 접합체들(318d)와 반응하여, 제1 접합체들(318b) 및 제2 접합체들(318d)과 결합하는 물질일 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 접합체들(318b) 및 제2 접합체들(318d)과 반응체들(RM)은 항원 항체 반응을 할 수 있다. 다른 예를 들면, 상기 제1 접합체들(318b) 및 제2 접합체들(318d)과 반응체들(RM)은 Streptavidin-Biotin 반응을 할 수 있다.Referring to FIG. 7, in the step S100 of injecting the sample into the reaction well, the sample SA may be injected into the reaction well 313 of the cartridge body 310. For example, the sample SA may be blood. The sample SA may include reactants RM. The reactants RM react with the first conjugates 318b and the second conjugates 318d in the reaction well 313 , It may be a material that combines with the first conjugates 318b and the second conjugates 318d. For example, the first conjugates 318b and the second conjugates 318d and the reactants RM may react with an antigen antibody. For another example, the first conjugates 318b and the second conjugates 318d and the reactants RM may react with Streptavidin-Biotin.

도 8a, 8b, 8c 및 8d를 참조하면, 버퍼액을 버퍼웰에 투입하는 단계(S200)에서, 버퍼용기(340) 내의 버퍼액(BL)을 카트리지 본체(310)의 버퍼웰(312)로 투입할 수 있다. 8A, 8B, 8C, and 8D, in the step (S200) of adding the buffer solution to the buffer well, the buffer solution BL in the buffer container 340 is transferred to the buffer well 312 of the cartridge body 310. You can put it in.

제1 트랜스퍼(200)의 이송판(250)을 이용하여, 카트리지(300)의 버퍼용기(340)가 액션부(600)의 가압부(660) 아래에 배치되도록 카트리지(300)를 이송시킬 수 있다. 카트리지(300)의 버퍼용기(340)가 액션부(600)의 가압부(660) 아래에 배치되면, 액션부(600)의 액션판(610)을 하강시켜, 가압부(660)로 버퍼용기(340)를 가압할 수 있다. 가압부(660)는 카트리지(300)의 커버(320)의 제2 커버개구(322a)를 통과하여, 버퍼용기(340)를 가압할 수 있다.By using the transfer plate 250 of the first transfer 200, the cartridge 300 can be transferred so that the buffer container 340 of the cartridge 300 is disposed under the pressing part 660 of the action part 600. have. When the buffer container 340 of the cartridge 300 is disposed under the pressing part 660 of the action part 600, the action plate 610 of the action part 600 is lowered, and the buffer container You can pressurize 340. The pressing unit 660 may press the buffer container 340 by passing through the second cover opening 322a of the cover 320 of the cartridge 300.

가압부(660)가 버퍼용기(340)를 가압함에 따라, 버퍼용기(340)가 하강할 수 있다. 더욱 상세하게는, 가압부(660)가 버퍼용기(340)를 가압하면, 버퍼용기(340)의 제2 돌기(342)가 버퍼웰(312)의 제1 돌기(312a)를 넘어, 버퍼용기(340)가 하강할 수 있다(도 3e 참조).As the pressing unit 660 presses the buffer container 340, the buffer container 340 may descend. More specifically, when the pressing unit 660 presses the buffer container 340, the second protrusion 342 of the buffer container 340 crosses the first protrusion 312a of the buffer well 312, and the buffer container 340 may descend (see FIG. 3E).

도 8c를 참조하면, 버퍼용기(340)의 하강에 따라, 버퍼용기(340)의 제1 분리막(343)과 파쇄부(316)의 메인벽(316a)의 제1 및 제2 상면들(316a1, 316a2)이 접촉할 수 있다. 상기 제1 분리막(343)과 상기 메인벽(316a)의 제1 및 제2 상면들(316a1, 316a2)이 접촉함에 따라, 제1 분리막(343)이 파쇄될 수 있다. 제1 분리막(343)의 파쇄된 부분(343a)은 메인벽(316a)의 제1 및 제2 상면들(316a1)과 접할 수 있다. 제1 분리막(343)의 파쇄된 부분(343a)은 메인벽(316a)의 제1 및 제2 상면들(316a1)을 따라 연장할 수 있다. 제1 분리막(343)의 파쇄된 부분(343a)은 메인벽(316a)의 유입개구(316a3)를 덮을 수 있다. Referring to FIG. 8C, as the buffer container 340 descends, the first separation membrane 343 of the buffer container 340 and the first and second upper surfaces 316a1 of the main wall 316a of the crushing portion 316 , 316a2) may contact. As the first separation membrane 343 and the first and second upper surfaces 316a1 and 316a2 of the main wall 316a contact each other, the first separation membrane 343 may be crushed. The crushed portion 343a of the first separator 343 may contact the first and second upper surfaces 316a1 of the main wall 316a. The shredded portion 343a of the first separation membrane 343 may extend along the first and second upper surfaces 316a1 of the main wall 316a. The crushed portion 343a of the first separation membrane 343 may cover the inlet opening 316a3 of the main wall 316a.

제1 분리막(343)이 파쇄되어, 메인벽(316a)의 제1 홈(316a4)과 버퍼용기(340) 안쪽이 연결될 수 있다. 버퍼용기(340) 내의 버퍼액(BL)이 메인벽(316a)의 제1 홈(316a4)을 통해 메인벽(316a)의 제1 공간(SP1) 내로 유입될 수 있다.The first separation membrane 343 may be crushed so that the first groove 316a4 of the main wall 316a and the inside of the buffer container 340 may be connected. The buffer solution BL in the buffer container 340 may flow into the first space SP1 of the main wall 316a through the first groove 316a4 of the main wall 316a.

도 8d를 참조하면, 버퍼용기(340)의 하강에 따라, 버퍼용기(340)의 제1 분리막(343)과 파쇄부(316)의 돌출부(316b)가 접촉할 수 있다. 돌출부(316b)와 접촉함에 따라, 제1 분리막(343)의 파쇄된 부분(343a)은 메인벽(316a)의 제1 및 제2 상면들(316a1, 316a2)과 이격될 수 있다. 다시 말하면, 메인벽(316a)의 유입개구(316a3)가 개방될 수있다. 버퍼용기(340) 내의 버퍼액(BL)이 메인벽(316a)의 유입개구(316a3)를 통해 제1 공간(SP1) 내로 유입될 수 있다. Referring to FIG. 8D, as the buffer container 340 descends, the first separation membrane 343 of the buffer container 340 and the protrusion 316b of the crushing part 316 may come into contact with each other. As the protrusion 316b comes into contact, the crushed portion 343a of the first separation membrane 343 may be spaced apart from the first and second upper surfaces 316a1 and 316a2 of the main wall 316a. In other words, the inlet opening 316a3 of the main wall 316a may be opened. The buffer solution BL in the buffer container 340 may flow into the first space SP1 through the inlet opening 316a3 of the main wall 316a.

제1 공간(SP1) 내로 유입된 버퍼액(BL)은 제2 및 제3 홈들(316a5, 316a6, 도 3h 참조)과 제1 및 제2 유출개구(316a7, 316a8)를 통해 메인벽(316a) 외부로 유출될 수 있다.The buffer solution BL introduced into the first space SP1 is the main wall 316a through the second and third grooves 316a5 and 316a6 (refer to FIG. 3H) and the first and second outlet openings 316a7 and 316a8. It may leak to the outside.

다시 도 8a, 8b, 8c 및 8d를 참조하면, 버퍼웰(312) 내로 유입된 버퍼액(BL)은 밸브(330)에 의해 차단되어, 버퍼웰(312)에서 리액션웰(313) 및 웨이스트웰(314)로 이동하지 않을 수 있다.Referring back to FIGS. 8A, 8B, 8C, and 8D, the buffer solution BL flowing into the buffer well 312 is blocked by the valve 330, and the reaction well 313 and the waste well in the buffer well 312 May not go to (314).

도 9a, 9b 및 9c를 참조하면, 버퍼액을 리액션웰에 투입하는 단계(S300)에서, 버퍼웰(312) 내의 버퍼액(BL)을 리액션웰(313)로 투입할 수 있다. Referring to FIGS. 9A, 9B and 9C, in the step S300 of introducing the buffer solution into the reaction well, the buffer solution BL in the buffer well 312 may be injected into the reaction well 313.

제1 트랜스퍼(200)의 이송판(250)의 이동에 따라, 카트리지(300)의 리액션웰(313)이 액션부(600)의 노즐(690) 아래에 배치될 수 있다.As the transfer plate 250 of the first transfer 200 moves, the reaction well 313 of the cartridge 300 may be disposed under the nozzle 690 of the action unit 600.

이어서, 밸브(330)가 회전할 수 있다. 카트리지 구동부(400)의 밸브구동모터(410)의 제1 회전축(411)이 회전함에 따라, 밸브(330)가 회전할 수 있다. 밸브(330)의 회전에 따라, 밸브 본체(331)의 제2 연결로(331b)가 연결부(315)의 제1 연결관(315b)과 연결될 수 있고, 밸브 본체(331)의 제1 연결로(331a)가 연결부(315)의 제2 연결관(315c)과 연결될 수 있다.Subsequently, the valve 330 may rotate. As the first rotation shaft 411 of the valve driving motor 410 of the cartridge driving unit 400 rotates, the valve 330 may rotate. As the valve 330 rotates, the second connection path 331b of the valve body 331 may be connected to the first connection pipe 315b of the connection part 315, and the first connection path of the valve body 331 (331a) may be connected to the second connection pipe (315c) of the connection portion (315).

액션부(600)가 하강하여, 노즐(690)과 리액션웰(313)이 연결될 수 있다. 노즐(690)의 아웃렛부(692)와 리액션웰(313)의 상면(313a)이 접하면서, 노즐(690)이 리액션웰(313)의 내부를 덮을 수 있다. 노즐(690)의 인렛부(691)의 인렛 개구(691c) 및 아웃렛부(692)의 아웃렛 개구(692a)는 리액션웰(313) 내의 공간과 연통될 수 있다. 펌프(700)의 압력 조절부(710)의 구동에 따라, 노즐(690)은 리액션웰(313) 내의 공기를 흡입할 수 있다. 노즐(690)에 의해 리액션웰(313) 내의 공기가 흡입됨에 따라, 버퍼액(BL)이 버퍼웰(312)에서 리액션웰(313)로 이동할 수 있다. 노즐(690)의 공기흡입량에 따라, 버퍼액(BL)의 이동량이 조절될 수 있다. 버퍼액(BL)이 리액션웰(313) 내로 이동함에 따라, 리액션웰(313) 내에 버퍼액(BL)이 채워질 수 있다. 리액션웰(313) 내의 시료(SA)는 버퍼액(BL)에 의해 희석될 수 있고, 반응체들(RM)은 버퍼액(BL) 내에 남아 있을 수 있다.As the action part 600 descends, the nozzle 690 and the reaction well 313 may be connected. While the outlet portion 692 of the nozzle 690 and the upper surface 313a of the reaction well 313 are in contact with each other, the nozzle 690 may cover the inside of the reaction well 313. The inlet opening 691c of the inlet portion 691 of the nozzle 690 and the outlet opening 692a of the outlet portion 692 may communicate with a space in the reaction well 313. As the pressure control unit 710 of the pump 700 is driven, the nozzle 690 may suck air in the reaction well 313. As air in the reaction well 313 is sucked by the nozzle 690, the buffer solution BL may move from the buffer well 312 to the reaction well 313. The amount of movement of the buffer solution BL may be adjusted according to the amount of air intake of the nozzle 690. As the buffer solution BL moves into the reaction well 313, the buffer solution BL may be filled in the reaction well 313. The sample SA in the reaction well 313 may be diluted with the buffer solution BL, and the reactants RM may remain in the buffer solution BL.

도 10a, 10b 및 10c를 참조하면, 반응 결과물을 형성하는 단계(S400)에서, 제1 및 제2 접합체들(318b, 318d)과 반응체(RM)를 반응시켜, 반응 결과물(RR)을 형성할 수 있다. 10A, 10B and 10C, in the step of forming a reaction product (S400), the first and second conjugates 318b and 318d and the reactant RM are reacted to form a reaction product RR. can do.

제1 연결관(315b)과 제2 연결관(315c)이 연결되지 않도록, 밸브(330)를 회전시킬 수 있다. 버퍼웰(312) 내의 버퍼액(BL)은 밸브(330)에 의해 차단되어, 리액션웰(313) 또는 웨이스트웰(314)로 이동하지 못할 수 있다. 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)은 밸브(330)에 의해 차단되어, 버퍼웰(312) 또는 웨이스트웰(314)로 이동하지 못할 수 있다. The valve 330 may be rotated so that the first connector 315b and the second connector 315c are not connected. The buffer solution BL in the buffer well 312 may be blocked by the valve 330 and may not move to the reaction well 313 or the waste well 314. The buffer solution BL in the reaction well 313 may be blocked by the valve 330 and may not move to the buffer well 312 or the waste well 314.

제1 트랜스퍼(200)의 이송판(250)을 이용하여, 카트리지(300)의 리액션웰(313)이 액션부(600)의 히팅 커버(650) 아래에 배치되도록 카트리지(300)를 이동시킬 수 있다. 액션부(600)가 하강하여, 히팅 커버(650)로 리액션웰(313)을 덮을 수 있다. 히팅 커버(650)의 히팅 공간(HS) 내에 리액션웰(313)이 수용될 수 있다. 액션부(600)의 히터(620)를 이용하여, 히팅 커버(650)를 가열할 수 있다. 액션부(600)의 히팅판(630)은 히팅 커버(650)와 함께 가열됨으로써, 가열된 히팅 커버(650)의 온도를 상대적으로 오래 유지시키는 역할을 할 수 있다. 히팅 커버(650)를 가열함에 따라, 히팅 커버(650)에 의해 리액션웰(313) 내의 온도가 상승할 수 있다. 리액션웰(313) 내의 온도는 제1 및 제2 접합체들(318b, 318d)와 반응체들(RM)이 반응할 수 있는 온도까지 상승할 수 있다.Using the transfer plate 250 of the first transfer 200, the cartridge 300 can be moved so that the reaction well 313 of the cartridge 300 is disposed under the heating cover 650 of the action unit 600. have. The action part 600 may descend to cover the reaction well 313 with the heating cover 650. The reaction well 313 may be accommodated in the heating space HS of the heating cover 650. The heating cover 650 may be heated by using the heater 620 of the action unit 600. The heating plate 630 of the action unit 600 is heated together with the heating cover 650, and thus may serve to maintain the temperature of the heated heating cover 650 for a relatively long time. As the heating cover 650 is heated, the temperature in the reaction well 313 may increase due to the heating cover 650. The temperature in the reaction well 313 may rise to a temperature at which the first and second conjugates 318b and 318d and the reactants RM can react.

카트리지 구동부(400)의 자석구동모터(420)의 구동에 따라, 제3 자석(450)이 회전할 수 있다. 제3 자석(450)의 회전에 따라, 제1 자석(317)이 회전할 수 있다. 제1 자석(317)의 회전에 따라, 제2 자석들(318a)이 제1 자석(317)에서 떨어질 수 있다. 제1 자석(317)의 회전에 따라, 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)이 교반될 수 있다.As the magnet driving motor 420 of the cartridge driving unit 400 is driven, the third magnet 450 may rotate. As the third magnet 450 rotates, the first magnet 317 may rotate. As the first magnet 317 rotates, the second magnets 318a may be separated from the first magnet 317. As the first magnet 317 rotates, the buffer solution BL in the reaction well 313 may be stirred.

리액션웰(313) 내의 온도가 상승하고, 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)이 교반됨에 따라, 리액션웰(313) 내의 제1 및 제2 접합체들(318b, 318d)과 반응체들(RM)이 반응할 수 있다. 다시 말하면, 제1 및 제2 접합체들(318b, 318d)은 반응체들(RM)과 서로 연결될 수 있다. 제1 및 제2 접합체들(318b, 318d)과 반응체들(RM)의 반응에 따라, 제2 자석(318a), 제1 및 제2 접합체들(318b, 318d), 반응체(RM) 및 발광체(318c)를 포함하는 반응 결과물(RR)이 형성될 수 있다.As the temperature in the reaction well 313 rises and the buffer solution BL in the reaction well 313 is agitated, the first and second conjugates 318b and 318d in the reaction well 313 and the reactants ( RM) can react. In other words, the first and second conjugates 318b and 318d may be connected to the reactants RM. According to the reaction of the first and second conjugates 318b and 318d and the reactants RM, the second magnet 318a, the first and second conjugates 318b and 318d, the reactant RM and A reaction product RR including the light-emitting body 318c may be formed.

도 11a, 11b 및 11c를 참조하면, 버퍼액을 리액션웰에서 제거하는 단계(S500)에서, 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)을 웨이스트웰(314)로 이동시킬 수 있다.Referring to FIGS. 11A, 11B and 11C, in the step S500 of removing the buffer solution from the reaction well, the buffer solution BL in the reaction well 313 may be moved to the waste well 314.

제1 트랜스퍼(200)의 이송판(250)의 이동에 따라, 카트리지(300)의 리액션웰(313)이 액션부(600)의 노즐(690) 아래에 배치될 수 있다.As the transfer plate 250 of the first transfer 200 moves, the reaction well 313 of the cartridge 300 may be disposed under the nozzle 690 of the action unit 600.

이어서, 밸브(330)가 회전할 수 있다. 밸브(330)의 회전에 따라, 밸브 본체(331)의 제1 연결로(331a)가 연결부(315)의 제3 연결관(315d)과 연결될 수 있고, 밸브 본체(331)의 제3 연결로(331c)가 연결부(315)의 제2 연결관(315c)과 연결될 수 있다. Subsequently, the valve 330 may rotate. As the valve 330 rotates, the first connection path 331a of the valve body 331 may be connected to the third connection pipe 315d of the connection part 315, and the third connection path of the valve body 331 (331c) may be connected to the second connection pipe (315c) of the connection portion 315.

액션부(600)가 하강하여, 노즐(690)과 리액션웰(313)이 연결될 수 있다. 펌프(700)의 압력 조절부(710)의 구동에 따라, 노즐(690)은 리액션웰(313) 내로 공기를 배출할 수 있다. 노즐(690)에 의해 리액션웰(313) 내로 공기가 배출됨에 따라, 버퍼액(BL)이 리액션웰(313)에서 웨이스트웰(314)로 이동할 수 있다. 노즐(690)의 공기배출량에 따라, 버퍼액(BL)의 이동량이 조절될 수 있다. 버퍼액(BL)이 웨이스트웰(314) 내로 이동함에 따라, 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)이 제거될 수 있다. 반응 결과물들(RR)의 제2 자석들(318a)은 제1 자석(317)에 붙을 수 있다. 버퍼액(BL)이 웨이스트웰(314)로 이동하는 경우, 제2 자석들(318a)이 제1 자석(317)에 붙음에 따라, 반응 결과물들(RR)은 버퍼액(BL)과 함께 이동하지 않을 수 있다. 다시 말하면, 반응 결과물들(RR)은 리액션웰(313) 내에 남아 있을 수 있다. 반응 결과물들(RR)을 제외한 나머지 물질들(예를 들면, 제2 자석(318a)과 연결되지 못한 발광체(318c) 및 제2 접합체(318d))은 버퍼액(BL)의 이동과 함께 웨이스트웰(314)로 이동할 수 있다.As the action part 600 descends, the nozzle 690 and the reaction well 313 may be connected. As the pressure control unit 710 of the pump 700 is driven, the nozzle 690 may discharge air into the reaction well 313. As air is discharged into the reaction well 313 by the nozzle 690, the buffer solution BL may move from the reaction well 313 to the waste well 314. The amount of movement of the buffer solution BL may be adjusted according to the amount of air discharged from the nozzle 690. As the buffer solution BL moves into the waste well 314, the buffer solution BL in the reaction well 313 may be removed. The second magnets 318a of the reaction products RR may be attached to the first magnet 317. When the buffer solution BL moves to the waste well 314, as the second magnets 318a are attached to the first magnet 317, the reaction products RR move together with the buffer solution BL. I can't. In other words, the reaction products RR may remain in the reaction well 313. Materials other than the reaction products RR (e.g., the light-emitting body 318c and the second conjugate 318d that are not connected to the second magnet 318a) are waste wells with the movement of the buffer solution BL. You can move to (314).

이어서, 세정 단계(S600)을 진행할 수 있다. 세정 단계(S600)는, 도 8a, 8b 및 8c에서 설명한 것과 같이 리액션웰(313) 내에 버퍼액(BL)을 채우는 것, 도 9a, 9b 및 9c에서 설명한 것과 같이 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)을 교반하는 것, 도 10a, 10b 및 10c에서 설명한 것과 같이 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)을 제거하는 것을 포함할 수 있다.Subsequently, the cleaning step (S600) may be performed. The cleaning step (S600) is to fill the buffer solution BL in the reaction well 313 as described in FIGS. 8A, 8B, and 8C, and the buffer solution in the reaction well 313 as described in FIGS. 9A, 9B and 9C. Stirring (BL) may include removing the buffer solution BL in the reaction well 313 as described with reference to FIGS. 10A, 10B and 10C.

상기 세정 단계(S600)에 의해, 반응 결과물(RR)을 제외한 이물질들이 리액션웰(313) 내에서 제거될 수 있다. 이에 따라, 반응 결과물들(RR)의 측정이 상대적으로 정확하게 이루어질 수 있다.By the cleaning step (S600), foreign substances other than the reaction product (RR) may be removed in the reaction well (313). Accordingly, the measurement of the reaction products RR can be made relatively accurately.

도 12를 참조하면, 계측 단계(S700)에서, 리액션웰(313) 내의 발광체(318c)에 의한 광을 계측할 수 있다.Referring to FIG. 12, in the measurement step S700, light by the light emitting body 318c in the reaction well 313 may be measured.

제1 트랜스퍼(200)의 이송판(250)을 이용하여, 카트리지(300)의 리액션웰(313)을 계측부(800) 아래로 이동시킬 수 있다. 이어서, 도 8a, 8b 및 8c에서 설명한 것과 같이 리액션웰(313) 내에 버퍼액(BL)을 채우고, 도 9a, 9b 및 9c에서 설명한 것과 같이 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)을 교반할 수 있다. 리액션웰(313) 내의 버퍼액(BL)을 교반하자마자, 계측부(800)를 이용하여 발광체(318c)에서 방사되는 광을 획득할 수 있다. 획득된 광을 분석하여, 시료(SA)가 특정 반응체(RM)를 가지고 있는지 진단할 수 있다. 발광체(318c)는 제2 자석(318a)과 연결되어야 리액션웰(313) 내에 남아 있을 수 있으므로, 시료(SA)가 제1 및 제2 접합체들(318b, 318d)와 반응하는 반응체(RM)를 가지고 있어야만 발광체(318c)가 리액션웰(313) 내에 남아 있을 수 있고, 발광체(318c)에서 방사되는 광을 계측부(800)로 획득할 수 있다.Using the transfer plate 250 of the first transfer 200, the reaction well 313 of the cartridge 300 may be moved below the measurement unit 800. Next, the buffer solution BL is filled in the reaction well 313 as described in FIGS. 8A, 8B and 8C, and the buffer solution BL in the reaction well 313 is stirred as described in FIGS. 9A, 9B and 9C. I can. As soon as the buffer solution BL in the reaction well 313 is stirred, light emitted from the light emitter 318c may be obtained using the measurement unit 800. By analyzing the acquired light, it can be diagnosed whether the sample SA has a specific reactant RM. Since the luminous body 318c must be connected to the second magnet 318a to remain in the reaction well 313, the sample SA reacts with the first and second conjugates 318b and 318d. Only when the luminous body 318c can remain in the reaction well 313 and the light emitted from the luminous body 318c can be obtained by the measurement unit 800.

이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예에는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.In the above, embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features. You can understand that there is. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not limiting.

100: 케이스
300: 카트리지
400: 카트리지 구동부
600: 액션부100: case
300: cartridge
400: cartridge drive unit
600: action unit

Claims (11)

버퍼액을 버퍼웰에 투입하는 단계;
상기 버퍼액을 리액션웰에 투입하는 단계;
상기 리액션웰 내에서 반응결과물을 형성하는 단계; 및
상기 리액션웰 내에서 방사되는 광을 획득하는 계측 단계; 를 포함하되,
상기 버퍼액을 버퍼웰이 투입하는 단계는:
제1 트랜스퍼가 상기 버퍼웰을 수평 방향으로 이동시키는 것; 및
제2 트랜스퍼가 액션부를 하강시켜, 상기 버퍼웰 내에 제공되는 버퍼용기를 상기 액션부의 가압부로 가압하는 것; 을 포함하고,
상기 버퍼액을 리액션웰에 투입하는 단계는:
노즐에 의해 상기 리액션웰로부터 공기가 배출되는 것; 을 포함하며,
상기 반응 결과물을 형성하는 단계는:
상기 제1 트랜스퍼가 상기 리액션웰을 수평 방향으로 이동시키는 것;
히팅 커버의 히팅 공간 내에 상기 리액션웰을 수용하는 것: 및
상기 히팅 커버를 가열하여 상기 리액션웰 내의 온도를 상승시키는 것; 을 포함하고,
상기 리액션웰 내에서 방사되는 광을 획득하는 계측 단계는:
상기 제1 트랜스퍼가 상기 리액션웰을 수평 방향으로 이동시켜 상기 리액션웰을 계측부 밑에 배치하는 것을 포함하는 진단 시스템의 구동방법.

Adding a buffer solution to the buffer well;
Injecting the buffer solution into a reaction well;
Forming a reaction product in the reaction well; And
A measurement step of acquiring light radiated from the reaction well; Including,
The step of injecting the buffer solution into the buffer well is:
A first transfer moving the buffer well in a horizontal direction; And
A second transfer lowering the action part to pressurize the buffer container provided in the buffer well with the pressing part of the action part; Including,
Injecting the buffer solution into the reaction well:
Air being discharged from the reaction well by a nozzle; Including,
The step of forming the reaction product is:
The first transfer moving the reaction well in a horizontal direction;
Accommodating the reaction well in a heating space of a heating cover: and
Heating the heating cover to increase a temperature in the reaction well; Including,
The measuring step of acquiring the light emitted in the reaction well is:
And the first transfer moves the reaction well in a horizontal direction to place the reaction well under a measurement unit.

 제1 항에 있어서,
상기 반응 결과물을 형성하는 단계는,
상기 히팅 커버와 연결되는 히팅판을 가열하는 것을 더 포함하는 진단 시스템의 구동방법.
The method of claim 1,
The step of forming the reaction product,
The method of driving a diagnostic system further comprising heating a heating plate connected to the heating cover.
 제2 항에 있어서,
상기 반응 결과물을 형성하는 단계는,
히터를 이용하여 상기 히팅 커버 및 상기 히팅판을 가열하는 것을 더 포함하는 진단 시스템의 구동방법.


The method of claim 2,
The step of forming the reaction product,
The method of driving a diagnostic system further comprising heating the heating cover and the heating plate using a heater.


 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 버퍼웰은 그의 내측벽에서 돌출되는 제1 돌기를 포함하고,
상기 버퍼용기는 그의 외측벽에서 돌출되는 제2 돌기를 포함하고,
상기 제1 돌기는 상기 제2 돌기를 지지하는 진단 시스템의 구동방법.
The method of claim 1,
The buffer well includes a first protrusion protruding from an inner wall thereof,
The buffer container includes a second protrusion protruding from an outer wall thereof,
The method of driving a diagnostic system in which the first protrusion supports the second protrusion.
 제1 항에 있어서,
상기 버퍼액을 버퍼웰에 투입하는 단계는,
버퍼용기의 분리막을 파쇄부와 접촉시켜, 상기 분리막을 파쇄하는 것을 더 포함하는 진단 시스템의 구동방법.

The method of claim 1,
Injecting the buffer solution into the buffer well,
The method of driving a diagnostic system further comprising crushing the separation membrane by bringing the separation membrane of the buffer container into contact with the shredding unit.

 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 리액션웰 내에서, 상기 반응 결과물을 제외한 이물질들을 제거하는 세정 단계를 더 포함하는 진단 시스템의 구동방법.
The method of claim 1,
A method of driving a diagnostic system further comprising a cleaning step of removing foreign substances other than the reaction product in the reaction well.
 제8 항에 있어서,
상기 세정 단계는,
상기 리액션웰 내에 상기 버퍼액을 채우는 것, 및 상기 리액션웰 내의 상기 버퍼액을 제거하는 것을 포함하는 진단 시스템의 구동방법.
The method of claim 8,
The cleaning step,
Filling the buffer solution in the reaction well, and removing the buffer solution in the reaction well.
 제1 항에 있어서,
상기 히팅 커버는 상하로 이동할 수 있는 진단 시스템의 구동방법.The method of claim 1,
The heating cover is a driving method of a diagnostic system that can move up and down. 제1 항에 있어서
상기 리액션웰 내에는 제1 자석이 배치되고, 상기 리액션웰 하부에는 제2 자석이 결합되며,
상기 리액션웰 내에서 반응 결과물을 형성하는 단계는:
자석구동모터가 상기 제2 자석을 회전시키는 것;
상기 제1 자석이 상기 제2 자석에 의해 회전되는 것; 및
상기 제2 자석의 회전에 의해 상기 리액션웰 내에서 반응 결과물이 형성되는 것; 을 포함하는 진단 시스템의 구동방법.

The method of claim 1
A first magnet is disposed in the reaction well, and a second magnet is coupled to a lower portion of the reaction well,
Forming a reaction product in the reaction well comprises:
A magnet driving motor rotating the second magnet;
The first magnet being rotated by the second magnet; And
A reaction product is formed in the reaction well by the rotation of the second magnet; Driving method of a diagnostic system comprising a.
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