KR102220037B1 - 덴드리머고분자 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본발명은 덴드리머고분자 제조방법에 관한 것으로, 액상타입 베이스 폴리머 원료에 첨가제를 첨가하여 덴드리머고분자를 제조하는 것으로,
본발명은 무기첨가제(GF, MF, CB)등의 첨가가 되어도 수지흐름도 변화가 없고, 사출시 기포발생이 없으며, 사출후 사출품 표면에 내마모성이 우수하면서 분진발생이 없고 표면이 깨끗하며, 백점 현상이 없고, 치수안정성 우수하며, 내열성이 우수하다는 현저한 효과가 있다.
본발명은 무기첨가제(GF, MF, CB)등의 첨가가 되어도 수지흐름도 변화가 없고, 사출시 기포발생이 없으며, 사출후 사출품 표면에 내마모성이 우수하면서 분진발생이 없고 표면이 깨끗하며, 백점 현상이 없고, 치수안정성 우수하며, 내열성이 우수하다는 현저한 효과가 있다.
Description
본발명은 덴드리머고분자 제조방법에 관한 것으로,보다 상세하게는 무기첨가제(GF, MF, CB)등의 첨가가 되어도 수지흐름도 변화가 없고, 사출시 기포발생이 없으며, 사출후 사출품 표면에 내마모성이 우수하면서 분진발생이 없고 표면이 깨끗하며, 백점 현상이 없고, 치수안정성 우수하며, 내열성이 우수한 덴드리머고분자 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, LCP는 현재 카메라모듈쪽에 적용하는 원료중에 가장 효율성이 양호한 재료임은 분명하다.LCP원료로 많이적용하는 분야가 커넥터분야인데,상당한 물량이 사용된다.하지만,그 커넥터를 사출하는 원료로 카메라모듈을 사출하면 모두 불량이 발생한다.여기에 특화기술이 필요하며,그중 가장 뛰어난 기술을 보유한 나라가 일본이며, 그중 폴리프라스틱에서 거의 독점을 하다시피하고 있다. 여기에 대체소재로 떠올랐던 것이 구라레이의 나일론 9T 원료이다.하지만,이러한 LCP도 문제점을 많이 가지고 있다. 1. 분진 다량발생 2. 백점발생3. 내충격성 4. 기타 .나일론은 수분흡수가 빨라 기포가 다량발생한다.현재도 진행형이며,이를 잡기 위해서 일본의 폴리플라스틱,구라레이 미국의 셀라니스 등 대형기업들이 원료개발을 지속적으로 연구개발 적용을 하고 있는 중이다.
LCP원료의 최대 잇점은 원료의 흐름성이다.그 어떤 원료도 LCP의 흐름성에 따라갈수가 없다.흐름성을 따라가더라도 물성을 또 따라갈려면 전혀 테크니컬한 물성이 나타나지 않는다.이러한 이유로, 일본에서 LCP를 전세계 카메라모듈쪽은 거의 독점을 하다시피하고 있는 이유중 하나다. 이를 보완하여, 일례로서 종래기술인 등록특허공보 등록번호 10-1247885호에는 공액계 고분자 (A)와 덴드리머 (B)를 포함하고, 상기 덴드리머 (B)는 하기 화학식 VIII로 표시되고, 3가 방향환, 복소환 또는 축합환의 분지 구조를 가지며, 삼중항 여기 상태로부터의 발광을 나타내는 것인, 고분자 재료.
<화학식 VIII>
식 중, CORE는 (Z1+Z2)가의 원자 또는 원자단을 나타내고, Z1 및 Z2는 1 이상의 정수를 나타내고, D1 및 D2는 각각 독립적으로 가지상(dendritic) 구조를 나타내고, D1및 D2가 복수개 존재하는 경우, 이들은 동일하거나 상이할 수 있고, D1 및 D2중 하나 이상은 헤테로 원자를 포함할 수도 있는 방향환을 포함하는 공액계인 것이 공개되어 있다.
또한 등록특허공보 등록번호 10-1284997호에는 투명 지지체; 및, 반투명 수지 및 응고성 실리카 입자를 함유하는 하나 이상의 하드 코트층을 포함하고, 표면헤이즈 값이 0 내지 5 % 이고, 내부 헤이즈 값이 0 내지 5 % 이며, Sm 값이 50 내지 200 ㎛ 인 광학필름으로서, 응고성 실리카 입자의 2차 입자 크기를 하드 코트층의 두께로 나누어 수득된 값이 0.3 내지 0.6이고, 하드 코트층이 제공된 면의 광학 필름의 최외곽 층이, 저굴절률층에 인접한 층의 굴절률 보다 더 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층이며, 상기 저굴절률층이, 저굴절률층의 두께의 35% 이상 70% 이하의 평균 입자 크기를 갖는 하나 이상의 중공(hollow) 실리카 미세 입자를 함유하는, 광학 필름이 공개되어 있다.
그러나 상기 종래기술들은 분진이 다량발생하고 백점이 발생하며 내충격성 및 내열성이 약하고 기타 . 나일론의 경우에는 수분흡수가 빨라 기포가 다량발생하는 단점이 있었다.
따라서 본발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 본발명은 무기첨가제(GF, MF, CB)등의 첨가가 되어도 수지흐름도 변화가 없고, 사출시 기포발생이 없으며, 사출후 사출품 표면에 내마모성이 우수하면서 분진발생이 없고 표면이 깨끗하며, 백점 현상이 없고, 치수안정성 우수하며, 내열성이 우수한 덴드리머고분자 제조방법을 제공하고자 하는 것이다.
또한 본발명은 이러한 LCP 의 기본물성인1. 흐름성을 LCP와 동등이상의 수준으로 높이고, 내충격성은 기존 LCP대비 10배이상 우수하고 수분함유량이 없는 것으로, 기존의 LCP와 나일론이 지니는 단점을 모두 보완작업하여 새로운품질의 제품을 제공하고자 하는 것이다.
본발명은 덴드리머고분자 제조방법에 관한 것으로, 액상타입 베이스 폴리머 원료에 첨가제를 첨가하여 덴드리머고분자를 제조하는 것을 특징으로 한다.
따라서 본발명은 무기첨가제(GF, MF, CB)등의 첨가가 되어도 수지흐름도 변화가 없고, 사출시 기포발생이 없으며, 사출후 사출품 표면에 내마모성이 우수하면서 분진발생이 없고 표면이 깨끗하며, 백점 현상이 없고, 치수안정성 우수하며, 내열성이 우수하다는 현저한 효과가 있다.
도 1은 본발명의 덴드리머고분자 제조방법의 선형 고분자형성도
도 2는 본발명의 초가지화 고분자형성도
도 3은 본발명의 덴드리머 고분자형성도
도 2는 본발명의 초가지화 고분자형성도
도 3은 본발명의 덴드리머 고분자형성도
본발명은 덴드리머고분자 제조방법에 관한 것으로, 액상타입 베이스 폴리머 원료에 첨가제를 첨가하여 덴드리머고분자를 제조하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 베이스 폴리머는 단계별로 첨가제를 첨가함에 따라 선형고분자 ,초가지화고분자,덴드리머고분자로이어지면서 덴드리머고분자가 형성이 되어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 첨가제는 무기첨가제인 것을 특징으로 한다.
본발명을 첨부도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본발명의 나일론 덴드리머고분자 제조방법의 선형 고분자형성도, 도 2는 본발명의 초가지화 고분자형성도, 도 3은 본발명의 덴드리머 고분자형성도이다.
본발명은 액정고분자(LCP)와 나일론(POLYAMIDE-9T)를 대체하는 신소재의 제조방법 및 그에 대한 원료 그리고 수지흐름성을 증대시키는 제조방법에 관한 것이다.물성을 보완하기위해서 폴리머를 배열시킬 때 덴드리틱폴리머로 판상 적층구조형식으로 함으로써 분자들의 말단그룹이 외부로 유출되어 액정의 성질을 유도하는 것이다.
이러한 덴드리머형 고분자는 기하학적인 측면에서의 공간제약으로 조밀한 구형의 거대분자를 형성하는 고분자를 말하지만, 이의 대표적인 특징으로는 뒤엉킴현상이 발생하지 않고 무작위적인 가지화 과정에서도 큰 분산도를 가지며 높은 분자량의 선형 중합체가 가능해진다.선형고분자,초가지화고분자,덴드리머고분자 순서로 이어지면서 덴드리머고분자가 형성이 되어진다.이의 구조가 형성이 되어지면,원료의 물성은 기본이 지닌 물성을 뛰어넘어 정밀고속사출이 가능한 상태의 형태를 이룰 수가 있다.
삭제
구체적으로 PA-66 BASE로 한다. 추가적으로 내후성보전을 위해서 PET도연결할 수 있다.
첨가제 는 GF, MF, RUBBER이다.
구체적으로 GF, MF, RUBBER를 밀러로 밤바리 작업을 선행후 이를 가압형식으로 사이드피딩으로 첨가제를 투입한다.
1. 1차적 초가지화 고분자형성
2. 2차적 덴드리머 고분자형성 (발산적 방식)
내열성이 우수하다(230도 이상)
가장 중요한 연속 고속사출성형이 이루어진다.
사출불량율은 3% 이내로 한다.
본발명을 실시례에 의해 운료물질을 나일론으로 하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
첨가량/순서는 첨가량은 각사이 물질에 선형, 가지화(액상타입 투입 , 총혼합물중 2~5WT% )
초가지화~>덴드리머(액상+파우더타입, 나일론액상 포함 총혼합물중 3~6 WT%)
출발물질 (선형) ~>초가지화 : 나일론액상 포함 혼합물중 MF 20~30중량% , TEMP 270~280도 , Annealing 48h~72h
초가지화~>덴드리머구조 : 상기 이전 공정에서 MF가 함유된 나일론액상을 포함하는 총혼합물중 GF 10~20중량%, TEMP 260~270도, Annealing 48h~72h
절대값의 온도조절및 아닐링시간 필요하다. 기포감쇄도 필수이다.
따라서 본발명은 무기첨가제(GF, MF, CB)등의 첨가가 되어도 수지흐름도 변화가 없고, 사출시 기포발생이 없으며, 사출후 사출품 표면에 내마모성이 우수하면서 분진발생이 없고 표면이 깨끗하며, 백점 현상이 없고, 치수안정성 우수하며, 내열성이 우수하다는 현저한 효과가 있다.
Claims (3)
- 액상타입 베이스 폴리머 원료에 첨가제를 첨가하여 덴드리머고분자를 제조하는 것으로, 상기 베이스 폴리머 원료는 POM, PA, PET, 또는 PP인 것이며, 상기 나일론은 단계별로 첨가제를 첨가함에 따라 선형고분자 ,초가지화고분자,덴드리머고분자로 이어지면서 덴드리머고분자가 형성이 되어지는 것을 특징으로 하는 덴드리머 고분자 제조방법에 있어서,
첨가제로 GF 및 MF를 밀러로 밤바리 작업을 선행후 이를 가압형식으로 사이드피딩으로 투입하는 것으로,
선형고분자에서 초가지화의 제조공정은 나일론액상 포함 혼합물중 MF 20~30중량% , TEMP 270~280℃, Annealing 시간 48h~72h이며, 초가지화로부터 덴드리머 고분자 구조의 제조공정은 상기 MF 를 함유하는 나일론액상을 포함하는 총혼합물중 GF 10~20중량%, TEMP 260~270℃, Annealing 시간 48h~72h인 것을 특징으로 하는 덴드리머 고분자 제조방법 - 삭제
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KR20140127299A (ko) * | 2012-02-03 | 2014-11-03 | 커먼웰쓰 사이언티픽 앤드 인더스트리얼 리서치 오가니제이션 | 가지형 폴리머 |
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