KR102218811B1 - Mold-release film - Google Patents

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구라시키 보세키 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 내열 치수 안정성 및 내컬성이 충분히 우수한 폴리스타이렌계 이형 필름을 제공한다. 본 발명은, 신디오택틱 폴리스타이렌계 수지를 함유하는 2축 배향 폴리스타이렌계 필름으로 이루어지는 이형 필름으로서, 적어도 편면이 매트 가공되어 이루어지고, 당해 이형 필름의 컬률이 80% 이하인 것을 특징으로 하는 이형 필름에 관한 것이다.The present invention provides a polystyrene release film sufficiently excellent in heat resistance dimensional stability and curl resistance. The present invention is a release film comprising a biaxially oriented polystyrene film containing a syndiotactic polystyrene resin, wherein at least one side is mat-processed, and the release film has a curl rate of 80% or less. About.

Description

이형 필름{MOLD-RELEASE FILM}Release film {MOLD-RELEASE FILM}

본 발명은 이형 필름, 특히 전사성이 우수한 폴리스타이렌계 이형 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film, particularly a polystyrene-based release film excellent in transferability.

프린트 기판, 세라믹 전자 부품, 반도체 패키지, 렌즈 부품, 열경화성 수지 제품, 열가소성 수지 제품, 화장판 등을 제조할 때, 성형 금형이나 성형 롤과 피성형 재료가 융착되지 않도록, 그 사이에 플라스틱 필름을 이형 필름으로서 개재시키는 경우가 있다. 또한, 열경화성 수지, 열가소성 수지, 세라믹, 금속 등의 박막층의 형성 공정이나 소정의 처리 공정에 있어서, 그 박막층의 지지나 보호를 목적으로 해서 플라스틱 필름에 박막층을 적층하고, 최종적으로는 플라스틱 필름을 이형 필름으로서 박리·제거하는 경우도 있다. 이와 같이 플라스틱 필름의 용도는 다방면에 걸쳐 있다.When manufacturing printed circuit boards, ceramic electronic parts, semiconductor packages, lens parts, thermosetting resin products, thermoplastic resin products, decorative plates, etc., a plastic film is released between the molds or rolls to prevent fusion of the material to be molded. It may be interposed as a film. In addition, in the process of forming a thin film layer such as a thermosetting resin, thermoplastic resin, ceramic, or metal, or in a predetermined treatment process, for the purpose of supporting or protecting the thin film layer, a thin film layer is laminated on a plastic film, and the plastic film is finally released. It may peel and remove as a film. As such, the use of plastic films spans many fields.

플라스틱 필름에는 일반적으로 열이 부여되는 경우가 많고, 보다 높은 온도가 부여되는 경우가 증가하고 있다. 더욱이 근년의 고성능화 요구에 수반하여, 플라스틱 필름에 요구되는 내열성은 엄격해지고 있다. 구체적으로는, 예컨대 플라스틱 필름을 이형 필름으로서 프레스 성형 시의 융착 방지를 위해 금형과 피성형 재료 사이에 개재시켜 사용하는 경우, 플라스틱 필름은 통상, 연신 처리되어 있으므로, 열에 의해 플라스틱 필름에 치수 변동(열수축)이 일어나면, 당해 필름이 금형 성형면의 요철에 충분히 추종하지 않아, 금형 성형면에 의한 양호한 부형(付形)이 행해지지 않는다. 이 때문에, 당해 필름에는 특히 양호한 내열 치수 안정성이 요구되고 있다.In general, heat is applied to a plastic film in many cases, and a higher temperature is increasingly applied. Moreover, with the recent demand for higher performance, the heat resistance required for plastic films has become strict. Specifically, for example, when a plastic film is used as a release film as a release film interposed between a mold and a material to be molded in order to prevent fusion during press molding, since the plastic film is usually stretched, dimensional variation ( When heat shrinkage) occurs, the film does not sufficiently follow the irregularities of the mold-forming surface, and good shaping by the mold-forming surface is not performed. For this reason, particularly favorable heat-resistant dimensional stability is required for the film.

치수 안정성이 우수한 플라스틱 필름의 일례로서, 신디오택틱 폴리스타이렌계 필름이 알려져 있다. 예컨대, 특허문헌 1에는, 신디오택틱 폴리스타이렌계 필름으로 이루어지는 미연신 비결정의 필름에 대하여, 특정한 축차 2축 연신을 행하는 것에 의해, 세로 방향과 가로 방향에서의 기계적 강도나 열수축률의 밸런스가 우수한 신디오택틱 폴리스타이렌계 필름을 제조하는 기술이 개시되어 있다.As an example of a plastic film excellent in dimensional stability, a syndiotactic polystyrene film is known. For example, Patent Document 1 discloses that a non-stretched amorphous film made of a syndiotactic polystyrene film is stretched with excellent balance of mechanical strength and thermal contraction rate in the longitudinal and transverse directions by performing specific sequential biaxial stretching. A technology for producing a diotactic polystyrene-based film is disclosed.

한편, 이형 필름에는, 이형성을 더 향상시키기 위해, 또한/또는 성형체에 광택 제거성을 부여하기 위해, 매트 가공과 같은 표면 가공을 행할 것이 요구되고 있다. 매트 가공은 필름에 장력을 걸면서, 원하는 표면 형상을 구비한 금속 또는 고무 등으로 이루어지는 형(型)으로 열 및 압력을 부여하는 것에 의해, 필름 표면에 미세한 요철을 형성하는 가공 처리이다. 피성형 재료의 성형에 있어서, 매트 가공을 행한 이형 필름을 이용하는 것에 의해, 이형 필름이 표면에 갖는 미세한 요철을 성형체에 전사시킬 수 있고, 결과로서 당해 성형체에 광택 제거성을 부여할 수 있다.On the other hand, in order to further improve the releasability of the mold release film and/or to impart gloss removal properties to the molded article, it is required to perform surface treatment such as matting. The mat processing is a processing treatment for forming fine irregularities on the film surface by applying heat and pressure in a mold made of metal or rubber having a desired surface shape while applying tension to the film. In the molding of the material to be molded, by using the mold release film subjected to the matting process, the fine irregularities on the surface of the mold release film can be transferred to the molded article, and as a result, the gloss removal property can be imparted to the molded article.

일본 특허공개 평9-201873호 공보Japanese Patent Laid-Open No. Hei 9-201873

그러나, 상기의 신디오택틱 폴리스타이렌계 필름에 대하여 매트 가공을 행하면, 얻어지는 이형 필름에 있어서, 필름이 단부로부터 저절로 감긴 상태가 되는 컬(curl) 현상이 발생했다. 특히 컬이 큰 이형 필름, 바꾸어 말하면 컬률이 높은 이형 필름은, 금형과 피성형 재료 사이로의 설치 시에 생산상의 불편함을 초래할 뿐만 아니라, 당해 컬을 충분히 늘이면서 이형 필름을 개재시키는 것이 곤란하여, 단부에 절곡(折曲)이 생겼다. 이 때문에, 성형체에, 이형 필름의 단부 꺾임에 기인하는 줄무늬 형상의 모양이 발생하고, 결과적으로 필름 표면의 미세 요철 형상의 전사 불량이 생긴다. 또한 이형 필름이 내열 치수 안정성이 뒤떨어지면, 성형체에, 필름 표면의 미세 요철 형상을 정확(精確)하게 전사하지 못하여, 전사가 충분한 곳과 전사가 모자란 곳에서 짙고 옅음이 생기는 것과 같은, 이른바 얼룩이 생긴다.However, when mat processing was performed on the syndiotactic polystyrene-based film, a curl phenomenon occurred in which the film was spontaneously wound from the end in the mold release film obtained. Particularly, a release film having a large curl, in other words, a release film having a high curl rate, not only causes inconvenience in production at the time of installation between the mold and the material to be molded, but also makes it difficult to interpose the release film while sufficiently extending the curl. There is a bend at the end. For this reason, in the molded article, a stripe-like pattern due to the edge bending of the release film is generated, and as a result, a transfer defect of the fine irregularities on the film surface occurs. In addition, if the release film is inferior in heat-resistant dimensional stability, it is not possible to accurately transfer the fine irregularities on the surface of the film to the molded body, and so-called stains such as dark and thinness occur in places where transfer is sufficient and where transfer is insufficient. .

본 발명은, 내열 치수 안정성 및 내컬성이 충분히 우수한 폴리스타이렌계 이형 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 즉, 본 발명은, 금형 성형면의 요철에 충분히 추종함과 더불어, 매트 가공에 의한 컬 현상의 발생을 충분히 방지하는 것에 의해, 금형 성형면에 의한 성형체로의 부형 및 이형 필름 표면의 성형체로의 전사를 정밀도 좋게 달성하는 폴리스타이렌계 이형 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a polystyrene-based mold release film sufficiently excellent in heat resistance dimensional stability and curl resistance. In other words, the present invention sufficiently follows the irregularities of the mold forming surface and sufficiently prevents the occurrence of curling caused by the mat processing, thereby forming the molded body by the mold forming surface and the molded body of the mold release film surface. It is an object of the present invention to provide a polystyrene release film that achieves high precision transfer.

본 발명은, 신디오택틱 폴리스타이렌계 수지를 함유하는 2축 배향 폴리스타이렌계 필름으로 이루어지는 이형 필름으로서, 적어도 편면이 매트 가공되어 이루어지고, 당해 이형 필름의 컬률이 80% 이하인 것을 특징으로 하는 이형 필름에 관한 것이다.The present invention is a release film comprising a biaxially oriented polystyrene film containing a syndiotactic polystyrene resin, wherein at least one side is mat-processed, and the release film has a curl rate of 80% or less. About.

본 명세서 중, 내열 치수 안정성이란, 필름을 가열하더라도 필름의 수축이 충분히 방지되는 필름 특성을 의미하는 것으로 한다.In the present specification, the term "heat-resistant dimensional stability" refers to film properties in which shrinkage of the film is sufficiently prevented even when the film is heated.

내컬성이란, 필름을 매트 가공하더라도 컬 현상의 발생이 충분히 방지되는 필름 특성을 의미하는 것으로 한다.The curl resistance refers to a film property in which the occurrence of curling is sufficiently prevented even if the film is matted.

본 발명의 이형 필름은 내열 치수 안정성이 충분히 우수하다.The release film of the present invention is sufficiently excellent in heat-resistant dimensional stability.

본 발명의 이형 필름은 또한 내컬성이 충분히 우수하다.The release film of the present invention is also sufficiently excellent in curl resistance.

본 발명의 이형 필름은 표면의 미세 요철 형상의 성형체로의 전사를 충분히 정밀도 좋게 달성할 수 있다.The release film of the present invention can achieve sufficiently high precision transfer to a molded article having a fine uneven shape on the surface.

도 1은 본 발명의 이형 필름을 사용할 때의 사용 방법을 설명하기 위한 개략 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of use when using the release film of the present invention.

본 발명에 따른 폴리스타이렌계 이형 필름(이하, 간단히 「PS계 이형 필름」이라고 함)은 신디오택틱 폴리스타이렌계 수지를 함유하는 2축 배향 필름이다. 2축 배향이란, 당해 필름을 구성하는 폴리머 분자가 당해 필름의 면내 방향에 있어서, 주로, 서로 상이한 2방향, 바람직하게는 대략 직각을 이루는 2방향으로 배향되어 있는 것을 의미하는 것이며, 예컨대 후술하는 동시 2축 연신에 의해 달성할 수 있다.The polystyrene-based release film (hereinafter, simply referred to as “PS-based release film”) according to the present invention is a biaxially oriented film containing a syndiotactic polystyrene-based resin. Biaxial orientation means that the polymer molecules constituting the film are mainly oriented in two directions different from each other, preferably in two directions forming an approximately right angle, for example, as described later. It can be achieved by biaxial stretching.

<신디오택틱 폴리스타이렌계 수지><Syndiotactic polystyrene resin>

본 발명의 PS계 이형 필름에 함유되는 신디오택틱 폴리스타이렌계 수지(이하, 간단히 「SPS계 수지」라고 함)는, 이른바 신디오택틱 구조를 갖는 스타이렌계 폴리머이다. 신디오택틱 구조란, 입체 화학 구조가 신디오택틱 구조, 즉 탄소-탄소 결합으로 형성되는 주쇄에 대하여 측쇄인 페닐기 또는 치환 페닐기가 교대로 반대 방향에 위치하는 입체 구조를 의미하는 것이다.The syndiotactic polystyrene resin contained in the PS-based release film of the present invention (hereinafter, simply referred to as “SPS-based resin”) is a styrene-based polymer having a so-called syndiotactic structure. The syndiotactic structure refers to a three-dimensional structure in which a stereochemical structure is a syndiotactic structure, that is, a phenyl group or a substituted phenyl group, which is a side chain, are alternately positioned in opposite directions to the main chain formed by a carbon-carbon bond.

SPS계 수지의 택티시티(입체 규칙성)는 동위체 탄소에 의한 핵자기 공명법(13C-NMR법)에 의해 정량할 수 있다. 13C-NMR법에 의해 측정되는 SPS계 수지의 택티시티는 연속하는 복수개의 구성 단위의 존재 비율, 예컨대 2개인 경우에는 다이아드, 3개인 경우에는 트라이아드, 5개인 경우에는 펜타드에 의해서 나타낼 수 있다. 본 발명에 있어서의 SPS계 수지는, 통상, 라세미 다이아드로 75% 이상, 바람직하게는 85% 이상, 또는 라세미 트라이아드로 60% 이상, 바람직하게는 75% 이상, 또는 라세미 펜타드로 30% 이상, 바람직하게는 50% 이상의 신디오택티시티를 갖는 스타이렌계 폴리머이다.The tacticity (stereoregularity) of the SPS-based resin can be quantified by the nuclear magnetic resonance method ( 13 C-NMR method) using isotope carbon. The tacticity of the SPS-based resin measured by the 13 C-NMR method is expressed by the ratio of the existence of a plurality of consecutive constituent units, e.g., a diamond for two, a triad for three, and a pentad for five. I can. The SPS-based resin in the present invention is usually 75% or more, preferably 85% or more, or 60% or more, preferably 75% or more with racemic diamond, or 30 with racemic pentad. % Or more, preferably 50% or more of syndiotacticity.

SPS계 수지로서의 스타이렌계 폴리머의 종류로서는, 폴리스타이렌, 폴리(알킬스타이렌), 폴리(아릴스타이렌), 폴리(할로겐화 스타이렌), 폴리(할로겐화 알킬스타이렌), 폴리(알콕시스타이렌), 폴리(바이닐벤조산 에스터), 이들의 수소화 중합체 등 및 이들의 혼합물, 또는 이들을 주성분으로 하는 공중합체를 들 수 있다.Examples of styrene polymers as SPS resins include polystyrene, poly(alkylstyrene), poly(arylstyrene), poly(halogenated styrene), poly(halogenated alkylstyrene), poly(alkoxystyrene), and poly (Vinylbenzoic acid ester), hydrogenated polymers thereof, and mixtures thereof, or copolymers containing these as a main component.

폴리(알킬스타이렌)으로서는, 폴리(메틸스타이렌), 폴리(에틸스타이렌), 폴리(아이소프로필스타이렌), 폴리(터셔리뷰틸스타이렌), 폴리(바이닐스타이렌) 등을 들 수 있다.Examples of poly(alkylstyrene) include poly(methylstyrene), poly(ethylstyrene), poly(isopropylstyrene), poly(tertiary styrene), and poly(vinylstyrene). .

폴리(아릴스타이렌)으로서는, 폴리(페닐스타이렌), 폴리(바이닐나프탈렌) 등을 들 수 있다.As poly(aryl styrene), poly(phenyl styrene), poly(vinyl naphthalene), etc. are mentioned.

폴리(할로겐화 스타이렌)으로서는, 폴리(클로로스타이렌), 폴리(브로모스타이렌), 폴리(플루오로스타이렌) 등을 들 수 있다.As poly(halogenated styrene), poly(chlorostyrene), poly(bromostyrene), poly(fluorostyrene), etc. are mentioned.

폴리(할로겐화 알킬스타이렌)으로서는, 폴리(클로로메틸스타이렌) 등을 들 수 있다.Examples of the poly(halogenated alkyl styrene) include poly(chloromethyl styrene).

폴리(알콕시스타이렌)으로서는, 폴리(메톡시스타이렌), 폴리(에톡시스타이렌) 등을 들 수 있다.As poly(alkoxystyrene), poly(methoxystyrene), poly(ethoxystyrene), etc. are mentioned.

본 발명에 따른 PS계 이형 필름을 구성하는 SPS계 수지의 중량 평균 분자량은 10,000∼3,000,000, 바람직하게는 30,000∼1,500,000, 특히 바람직하게는 50,000∼500,000이다. SPS계 수지의 유리전이온도는 60∼140℃, 바람직하게는 70∼130℃이다. SPS계 수지의 융점은 200∼320℃, 바람직하게는 220∼280℃이다.The weight average molecular weight of the SPS-based resin constituting the PS-based release film according to the present invention is 10,000 to 3,000,000, preferably 30,000 to 1,500,000, and particularly preferably 50,000 to 500,000. The glass transition temperature of the SPS-based resin is 60 to 140°C, preferably 70 to 130°C. The melting point of the SPS-based resin is 200 to 320°C, preferably 220 to 280°C.

SPS계 수지는 시판품으로서 입수할 수도 있고, 공지의 방법에 의해서 제조할 수도 있다.The SPS-based resin can be obtained as a commercial item, or can be produced by a known method.

예컨대 이데미쓰코산(주)사제 「더렉」(142ZE, 300ZC, 130ZC, 90ZC) 등으로서 입수할 수 있다.For example, it can be obtained as "The Lec" (142ZE, 300ZC, 130ZC, 90ZC) manufactured by Idemitsu Kosan Corporation.

PS계 이형 필름 중, SPS계 수지는 상기한 범위 내에서, 택티시티(라세미 다이아드, 라세미 트라이아드 또는 라세미 펜타드), 종류, 유리전이온도 및/또는 융점이 상이한 2종류 이상의 SPS계 수지가 함유되어도 된다.Among the PS-based release films, SPS-based resins are two or more SPSs with different tacticity (racemic diamond, racemic triad, or racemic pentad), type, glass transition temperature and/or melting point within the above range. System resin may be contained.

본 발명의 PS계 이형 필름은, 내열 치수 안정성, 내컬성, 내열 변형성, 제막성 및 내열 강도 안정성 등에 악영향을 주지 않는 범위에서, 상기 SPS계 수지 이외에, 다른 폴리머를 함유해도 된다.The PS-based release film of the present invention may contain other polymers other than the SPS-based resin as long as it does not adversely affect the heat resistance dimensional stability, curl resistance, heat deformability, film forming property, and heat strength stability.

다른 폴리머의 구체예로서는, 예컨대, 상기 SPS계 수지 이외의 폴리스타이렌계 수지, 스타이렌-뷰타다이엔 블록 공중합체(SBR), 수소 첨가 스타이렌-뷰타다이엔-스타이렌 블록 공중합체(SEBS) 등의 폴리스타이렌계 합성 고무; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리뷰틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리트라이메틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스터 수지; 폴리페닐렌설파이트; 폴리아릴레이트; 폴리에터설폰; 폴리페닐렌에터 등을 들 수 있다.Specific examples of other polymers include, for example, polystyrene resins other than the SPS resin, styrene-butadiene block copolymer (SBR), hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (SEBS), etc. Polystyrene synthetic rubber; Polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), and polytrimethylene terephthalate; Polyphenylene sulfite; Polyarylate; Polyethersulfone; Polyphenylene ether, etc. are mentioned.

상기 SPS계 수지 이외의 폴리스타이렌계 수지란, 이른바 아이소택틱 폴리스타이렌계 수지 및 어택틱 폴리스타이렌계 수지를 포함하여 의미하는 것이다.Polystyrene resins other than the SPS-based resin are meant to include so-called isotactic polystyrene-based resins and atactic polystyrene-based resins.

PS계 이형 필름 중의 전량에 대한 SPS계 수지의 함유 비율은, 내열 치수 안정성의 가일층의 향상의 관점에서, 60중량% 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80중량% 이상이며, 가장 바람직하게는 95중량% 이상이다. 2종류 이상의 SPS계 수지가 함유되는 경우, 그들의 합계 비율이 상기 범위 내이면 된다.The content ratio of the SPS-based resin to the total amount in the PS-based release film is preferably 60% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and most preferably 95 from the viewpoint of further improvement of heat-resistant dimensional stability. It is not less than% by weight. When two or more types of SPS-based resins are contained, the total ratio of them may be within the above range.

<다른 첨가제><Other additives>

본 발명의 PS계 이형 필름은 활제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 대전 방지제, 무기 필러, 착색제, 결정핵제, 난연제 등의 첨가제를 함유해도 된다. 본 발명의 PS계 이형 필름은 특히, 활제 및 산화 방지제를 더 함유하는 것이 바람직하다.The PS release film of the present invention may contain additives such as a lubricant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antistatic agent, an inorganic filler, a colorant, a nucleating agent, and a flame retardant. It is particularly preferable that the PS-based release film of the present invention further contains a lubricant and an antioxidant.

활제로서는, 예컨대 탄화수소 수지, 지방산, 지방산 아마이드, 지방산 에스터, 지방 알코올, 지방산과 다가 알코올의 부분 에스터, 복합계 활제 등을 들 수 있다. 활제를 포함하는 것에 의해, 본 발명의 이형 필름의 이형성을 더 향상시킬 수 있다.Examples of the lubricant include hydrocarbon resins, fatty acids, fatty acid amides, fatty acid esters, fatty alcohols, partial esters of fatty acids and polyhydric alcohols, and composite lubricants. By including a lubricant, the releasability of the release film of the present invention can be further improved.

활제의 함유 비율은, 이형 필름의 이형성의 관점에서, PS계 필름 중의 SPS계 수지에 대하여 0.01∼3.0중량%, 특히 0.02∼1.0중량%가 바람직하다. 2종류 이상의 활제가 함유되는 경우에는 그들의 합계량이 상기 범위 내이면 된다.The content ratio of the lubricant is preferably 0.01 to 3.0% by weight, particularly preferably 0.02 to 1.0% by weight, based on the SPS resin in the PS-based film from the viewpoint of the releasability of the release film. When two or more types of lubricants are contained, the total amount of them may be within the above range.

산화 방지제로서는, PS계 이형 필름의 분야에서 황변 방지를 목적으로 해서 사용되는 산화 방지제가 사용 가능하며, 예컨대 페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등을 들 수 있다. 내열 치수 안정성 및 내컬성의 가일층의 향상의 관점에서는, 산화 방지제는 적어도 페놀계 산화 방지제를 포함하는 것이 바람직하다. 산화 방지제, 특히 페놀계 산화 방지제를 함유시키는 것에 의해, 내열 치수 안정성 및 내컬성을 더 향상시킬 수 있다.As the antioxidant, an antioxidant used for the purpose of preventing yellowing in the field of PS-based release films can be used, and examples thereof include phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and sulfur-based antioxidants. From the viewpoint of further improvement of heat resistance dimensional stability and curl resistance, it is preferable that the antioxidant contains at least a phenolic antioxidant. By containing an antioxidant, especially a phenolic antioxidant, heat resistance dimensional stability and curl resistance can be further improved.

페놀계 산화 방지제는 페놀 골격을 함유하는 유기 화합물이며, 종래부터 PS계 필름의 분야에서 페놀계 산화 방지제로서 사용되고 있는 페놀 골격 함유 유기 화합물을 사용할 수 있다. 페놀계 산화 방지제는 시판품으로서 입수할 수 있다.The phenolic antioxidant is an organic compound containing a phenolic skeleton, and a phenolic skeleton-containing organic compound conventionally used as a phenolic antioxidant in the field of PS-based films can be used. A phenolic antioxidant can be obtained as a commercial item.

페놀계 산화 방지제의 시판품으로서, 예컨대 스밀라이저 GA-80(스미토모화학사제), 아데카스타브 AO-60, 아데카스타브 AO-80, 아데카스타브 AO-330(모두 ADEKA사제), 일가녹스 245(BASF사제), 사이아녹스 1790(CYTEC사제) 등을 들 수 있다.As a commercial product of a phenolic antioxidant, for example, Smilizer GA-80 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Adecastav AO-60, Adecastav AO-80, Adecastav AO-330 (all made by ADEKA), Ilganox 245 ( BASF), Cyanox 1790 (CYTEC), etc. are mentioned.

인계 산화 방지제는 인 원자를 함유하는 유기 화합물이며, 종래부터 PS계 필름의 분야에서 인계 산화 방지제로서 사용되고 있는 인 원자 함유 유기 화합물을 사용할 수 있다. 인계 산화 방지제는 시판품으로서 입수할 수 있다.The phosphorus antioxidant is an organic compound containing a phosphorus atom, and a phosphorus atom-containing organic compound conventionally used as a phosphorus antioxidant in the field of PS-based films can be used. The phosphorus antioxidant can be obtained as a commercial item.

인계 산화 방지제의 시판품으로서, 예컨대 스밀라이저 GP(스미토모화학사제), 아데카스타브 PEP-36(ADEKA사제), Irgafos 38, Irgafos 168(모두 BASF사제) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available phosphorus antioxidants include Smilizer GP (manufactured by Sumitomo Chemical), Adecastab PEP-36 (manufactured by ADEKA), Irgafos 38, Irgafos 168 (all manufactured by BASF), and the like.

황계 산화 방지제는 황 원자를 함유하는 유기 화합물이며, 종래부터 PS계 필름의 분야에서 황계 산화 방지제로서 사용되고 있는 황 원자 함유 유기 화합물을 사용할 수 있다. 황계 산화 방지제는 시판품으로서 입수할 수 있다.The sulfur-based antioxidant is an organic compound containing a sulfur atom, and a sulfur-atom-containing organic compound conventionally used as a sulfur-based antioxidant in the field of PS-based films can be used. The sulfur-based antioxidant can be obtained as a commercial item.

황계 산화 방지제의 시판품으로서, 예컨대 스밀라이저 MB(스미토모화학사제), 아데카스타브 AO-412S(ADEKA사제) 등을 들 수 있다.As commercially available products of sulfur-based antioxidants, for example, Smilizer MB (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Adecastab AO-412S (manufactured by ADEKA), and the like can be mentioned.

산화 방지제의 함유 비율은, 내열 치수 안정성 및 내컬성의 관점에서, PS계 필름 중의 SPS계 수지에 대하여 0.01∼3.0중량%, 특히 0.02∼1.0중량%가 바람직하다. 2종류 이상의 산화 방지제가 함유되는 경우에는 그들의 합계량이 상기 범위 내이면 된다. 특히 페놀계 산화 방지제의 함유 비율은, 내열 치수 안정성 및 내컬성의 가일층의 향상의 관점에서, 상기 범위 내인 것이 바람직하다.The content ratio of the antioxidant is preferably 0.01 to 3.0% by weight, particularly preferably 0.02 to 1.0% by weight, based on the SPS resin in the PS-based film from the viewpoint of heat resistance dimensional stability and curl resistance. When two or more types of antioxidants are contained, the total amount of them may be within the above range. Particularly, the content ratio of the phenolic antioxidant is preferably within the above range from the viewpoint of further improvement in heat resistance dimensional stability and curl resistance.

<PS계 이형 필름의 제조 방법><Production method of PS-based release film>

본 발명의 PS계 이형 필름은 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다.The PS-type release film of the present invention can be produced by the following method.

예컨대, 상기 SPS 및 소망에 따라 함유되는 다른 폴리머 및 첨가제를 소정의 비율로 혼합하고, 용융·혼련하여 전구체 필름(미연신 필름)을 제조한 후, 얻어진 전구체 필름을 동시 2축 연신 처리 및 매트 가공에 순차적으로 제공한다.For example, after mixing the SPS and other polymers and additives contained as desired in a predetermined ratio, melting and kneading to prepare a precursor film (unstretched film), the obtained precursor film is simultaneously biaxially stretched and matted. It is provided sequentially.

(전구체 필름의 제조)(Preparation of precursor film)

전구체 필름의 제조 방법은 공지의 방법을 채용할 수 있다. 예컨대, 원하는 성분으로 이루어지는 혼합물을 압출기에 의해 용융·혼련하고, 혼련물을 T 다이로부터 압출한 후, 냉각하면 된다.A known method can be adopted as a method for producing the precursor film. For example, a mixture comprising a desired component may be melted and kneaded by an extruder, and the kneaded product may be extruded from a T-die and then cooled.

전구체 필름의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예컨대 20∼2000μm이고, 바람직하게는 30∼1000μm이다.The thickness of the precursor film is not particularly limited, and is, for example, 20 to 2000 μm, preferably 30 to 1000 μm.

(2축 연신 처리)(Biaxial stretching treatment)

2축 연신 처리 공정에서는 통상, 동시 2축 연신 처리를 행한 후, 열고정 처리를 행한다. 이와 같은 2축 연신 처리 공정에 의해서, 필름의 유리전이온도를 상승시키거나, 열팽창률을 감소시키거나, 열수축률의 절대값을 감소시키거나 할 수 있다.In the biaxial stretching treatment step, usually, after simultaneous biaxial stretching treatment is performed, heat setting treatment is performed. By such a biaxial stretching treatment process, the glass transition temperature of the film can be increased, the thermal expansion coefficient can be reduced, or the absolute value of the thermal contraction rate can be decreased.

2축 연신 처리는 MD 방향 및 TD 방향에 대하여 연신을 행한다. 연신 방식은 축차 2축 연신 방식과 동시 2축 연신 방식이 있지만, 동시 2축 연신 방식을 행한다. 동시 2축 연신 대신에, MD 방향 또는 TD 방향 중 한쪽의 방향으로 연신을 행한 후, 다른 쪽의 방향으로 연신을 행하는 축차 2축 연신을 행하면, 처음에 연신을 행한 방향의 열팽창률의 감소폭이 작아지고, 또한 열수축률도 나빠져 내열 치수 안정성이 저하된다. 2축 연신 대신에, 1축 연신을 행하면, 연신되어 있지 않은 방향의 열팽창률이 감소하지 않아, 내열 치수 안정성이 저하된다. 본 명세서 중, MD 방향이란, 이른바 흐름 방향으로서, 압출기로부터의 전구체 필름의 인취 방향(세로 방향)을 의미하는 것으로 한다. TD 방향이란, 이른바 폭 방향으로서, 당해 MD 방향에 대한 직교 방향을 의미하는 것으로 한다.In the biaxial stretching treatment, stretching is performed in the MD direction and the TD direction. The stretching method includes a sequential biaxial stretching method and a simultaneous biaxial stretching method, but a simultaneous biaxial stretching method is performed. If instead of simultaneous biaxial stretching, stretching is performed in one direction in the MD direction or the TD direction, then sequential biaxial stretching in which stretching is performed in the other direction is performed, the decrease in the coefficient of thermal expansion in the direction in which the stretching was initially performed is small. In addition, the thermal contraction rate is also deteriorated, and the heat-resistant dimensional stability is deteriorated. When uniaxial stretching is performed instead of biaxial stretching, the coefficient of thermal expansion in the unstretched direction does not decrease, and heat-resistant dimensional stability decreases. In this specification, the MD direction is a so-called flow direction, and shall mean the take-up direction (vertical direction) of the precursor film from the extruder. The TD direction is a so-called width direction and means a direction orthogonal to the MD direction.

2축 연신을 행함에 있어서, 연신 배율, 연신 온도 및 연신 속도는 본 발명의 목적이 달성되는 한 특별히 제한되는 것은 아니지만, 이하의 범위가 바람직하다. 열수축률이 한층 더 향상되기 때문이다.In performing biaxial stretching, the stretching ratio, stretching temperature, and stretching speed are not particularly limited as long as the object of the present invention is achieved, but the following ranges are preferable. This is because the heat shrinkage rate is further improved.

연신 배율은 MD 방향 및 TD 방향 모두 2.0배 이상의 파단이 일어나지 않는 범위 내이며, 특히 2.0∼5.0배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2.2∼4.0배이다. MD 방향 및 TD 방향의 연신 배율은 근사한 것이 바람직하다. 구체적으로는, MD 방향의 연신 배율을 PMD, TD 방향의 연신 배율을 PTD로 했을 때, 「PTD-PMD」는 -0.6∼+0.6이 바람직하고, 보다 바람직하게는 -0.3∼+0.3이다. 한편, MD 방향의 연신 배율은 연신 직전의 MD 방향 길이에 기초하는 배율이다. TD 방향의 연신 배율은 연신 직전의 TD 방향 길이에 기초하는 배율이다.The draw ratio is within a range in which no fracture of 2.0 times or more occurs in both the MD direction and the TD direction, particularly preferably 2.0 to 5.0 times, and more preferably 2.2 to 4.0 times. It is preferable that the draw ratios in the MD direction and the TD direction are approximate. Specifically, when the draw ratio in the MD direction is P MD and the draw ratio in the TD direction is P TD , "P TD -P MD " is preferably -0.6 to +0.6, more preferably -0.3 to + 0.3. On the other hand, the stretching ratio in the MD direction is a magnification based on the length in the MD direction just before stretching. The stretching ratio in the TD direction is a magnification based on the length in the TD direction just before stretching.

연신 온도는, 당해 필름을 구성하는 SPS계 수지의 유리전이온도를 TgP(℃)로 했을 때, TgP 이상 TgP+30℃ 이하이며, 내열 치수 안정성의 가일층의 향상의 관점에서 바람직하게는 TgP℃ 이상 TgP+25℃ 이하이다. 연신 온도가 지나치게 낮아도, 지나치게 높아도, 내열 치수 안정성이 저하된다. 한편, 연신 온도는 연신을 행하는 분위기 온도이다. SPS계 수지가 2종류 이상의 폴리머로 이루어지는 경우, SPS계 수지의 TgP는 각 폴리머의 유리전이온도에 당해 폴리머의 함유 비율을 곱한 값의 합이다.The stretching temperature is Tg P or more and Tg P +30° C. or less, when the glass transition temperature of the SPS-based resin constituting the film is Tg P (° C.), and from the viewpoint of further improvement of heat-resistant dimensional stability, preferably Tg P ℃ or more and Tg P +25 ℃ or less. Even if the stretching temperature is too low or too high, heat-resistant dimensional stability decreases. On the other hand, the stretching temperature is an atmosphere temperature for stretching. When the SPS-based resin is composed of two or more types of polymers, the Tg P of the SPS-based resin is the sum of the glass transition temperature of each polymer multiplied by the content ratio of the polymer.

연신 속도는 MD 방향 및 TD 방향 모두 50∼10000%/분이며, 바람직하게는 100∼5000%/분, 보다 바람직하게는 100∼3000%/분이다.The stretching speed is 50 to 10000%/min in both the MD direction and the TD direction, preferably 100 to 5000%/min, more preferably 100 to 3000%/min.

연신 속도란, {(연신 후 치수/연신 전 치수)-1}×100(%)/연신 시간으로 산출되는 값이다.The stretching speed is a value calculated as {(dimension after stretching/dimension before stretching) -1}×100 (%)/stretch time.

열고정 처리는, 연신 필름을 연신 온도 이상의 온도에서 유지하는 것에 의해, 폴리머 분자의 배향을 고정하는 처리이다. 열고정 처리 온도는, 당해 필름을 구성하는 SPS계 수지의 유리전이온도를 TgP(℃), 융점을 TmP(℃)로 했을 때, TgP+70℃ 이상 TmP 이하이며, 내열 치수 안정성의 가일층의 향상의 관점에서 바람직하게는 TgP+75℃ 이상 TmP-20℃ 이하이다. 열고정 처리 온도가 지나치게 낮아도, 지나치게 높아도, 열수축률이 높아져, 내열 치수 안정성이 저하된다. 한편, 열고정 처리 온도는 필름 유지를 행하는 분위기 온도이다. SPS계 수지가 2종류 이상의 폴리머로 이루어지는 경우, SPS계 수지의 TmP는 각 폴리머의 융점에 당해 폴리머의 함유 비율을 곱한 값의 합이다.The heat setting treatment is a treatment of fixing the orientation of polymer molecules by holding the stretched film at a temperature equal to or higher than the stretching temperature. The heat setting treatment temperature is Tg P +70°C or more and Tm P or less when the glass transition temperature of the SPS-based resin constituting the film is Tg P (°C) and the melting point is Tm P (°C), and heat-resistant dimensional stability From the viewpoint of further improvement of, it is preferably Tg P +75°C or more and Tm P -20°C or less. Even if the heat setting treatment temperature is too low or too high, the heat shrinkage rate increases, and the heat-resistant dimensional stability decreases. On the other hand, the heat setting treatment temperature is an atmosphere temperature for holding the film. When the SPS resin consists of two or more types of polymers, the Tm P of the SPS resin is the sum of the melting point of each polymer multiplied by the content ratio of the polymer.

열고정 처리는, 2축 연신 처리 시의 장력을 유지한 채로 열고정 처리를 행하는 긴장식 열고정 처리를 실시해도 되고, 당해 처리와 동시에 당해 장력을 이완시켜 열고정 처리를 행하는 이완식 열고정 처리를 실시해도 되며, 또는 당해 장력을 유지하여 열고정 처리(제 1 열고정 처리)를 행한 후, 당해 장력을 이완시켜 열고정 처리(제 2 열고정 처리)를 행하는 복합식 열고정 처리를 실시해도 된다. 바람직하게는 이완식 열고정 처리를 실시한다. 열고정 처리를 상기 어느 방식으로 실시함에 있어서도, 열고정 처리 온도는 상기 범위 내로 설정된다.The heat setting treatment may be a tension type heat setting treatment in which heat setting treatment is performed while maintaining the tension at the time of the biaxial stretching treatment, or a relaxation heat setting treatment in which heat setting treatment is performed by relaxing the tension at the same time as the treatment. It may be carried out, or after heat setting treatment (first heat setting treatment) is performed by maintaining the tension, and then a composite heat setting treatment in which heat setting treatment (second heat setting treatment) is performed by relaxing the tension may be performed. Preferably, a relaxation heat setting treatment is performed. In performing the heat setting treatment by any of the above methods, the heat setting treatment temperature is set within the above range.

열고정 처리를 상기한 이완식 또는 복합식으로 행하는 경우, 열수축률의 절대값의 저감, 내열 치수 안정성의 가일층의 향상, 필름의 평탄성의 관점에서, 이완 배율은 MD 방향 및 TD 방향 모두 0.8∼1.00배가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.85∼1.00배, 가장 바람직하게는 0.90∼0.98배이다. MD 방향 및 TD 방향의 이완 배율은 근사한 것이 바람직하다. 구체적으로는, MD 방향의 이완 배율을 QMD, TD 방향의 이완 배율을 QTD로 했을 때, 「QTD-QMD」는 -0.1∼+0.1이 바람직하고, 보다 바람직하게는 -0.05∼+0.05이며, 가장 바람직하게는 -0.02∼+0.02이다. 한편, MD 방향의 이완 배율은 연신 직후의 MD 방향 길이에 기초하는 배율이다. TD 방향의 이완 배율은 연신 직후의 TD 방향 길이에 기초하는 배율이다.In the case of performing the heat setting treatment by the above-described relaxation method or combination method, from the viewpoint of reduction of the absolute value of the thermal contraction rate, further improvement of heat-resistant dimensional stability, and flatness of the film, the relaxation factor is preferably 0.8 to 1.00 times in both the MD direction and the TD direction. And more preferably 0.85 to 1.00 times, most preferably 0.90 to 0.98 times. It is preferable that the relaxation magnification in the MD direction and the TD direction are approximate. Specifically, when the relaxation factor in the MD direction is Q MD and the relaxation factor in the TD direction is Q TD , "Q TD -Q MD " is preferably -0.1 to +0.1, more preferably -0.05 to + 0.05, and most preferably -0.02 to +0.02. On the other hand, the relaxation ratio in the MD direction is a magnification based on the length in the MD direction immediately after stretching. The relaxation ratio in the TD direction is a magnification based on the length in the TD direction immediately after stretching.

(매트 가공)(Matte processing)

매트 가공이란, 필름에 대하여, 장력을 부여하면서, 원하는 표면 형상을 구비한 1조의 형 사이에서 열 및 압력을 부여하는 것에 의해, 필름 표면에 형의 표면 형상을 전사시켜, 광택 제거를 위한 미세한 요철을 형성하는 처리이다. 매트 가공되는 필름은 상기한 방법으로 2축 연신 처리 공정을 거친 필름이다. 본 발명에 있어서, 이형 필름을 특정 조건에서 매트 가공하는 것에 의해, 컬 현상을 충분히 방지할 수 있고, 또한 당해 이형 필름을 이용하여 행하는 프레스 성형 시에 있어서, 이형 필름의 이형성을 더 향상시키면서, 성형체에 이형 필름 표면에 갖는 미세 요철 형상을 정밀도 좋게 전사시킬 수 있다.Matting processing means that the surface shape of the mold is transferred to the film surface by applying heat and pressure between a set of molds having a desired surface shape while applying tension to the film, and fine irregularities for removing gloss. It is a treatment to form. The film to be matted is a film that has undergone a biaxial stretching treatment process in the above-described method. In the present invention, by subjecting the release film to mat processing under specific conditions, curling can be sufficiently prevented, and at the time of press molding performed using the release film, while further improving the releasability of the release film, the molded article In addition, it is possible to accurately transfer the fine uneven shape on the surface of the release film.

1조의 형 사이에서 열 및 압력을 부여하는 방법으로서는, 가열된 2장의 평판상의 상하 금형에 의해 프레스하는 금형 프레스법, 2본의 열롤 사이에서 프레스하면서 통과시키는 롤 프레스법 등을 이용할 수 있다. 1조의 형으로서, 1장의 평판상 금형과 1본의 롤을 조합하여 사용할 수도 있다. 형은, 당해 형의 표면 형상을 필름에 전사시킬 수 있는 한, 각종 재료로 구성되어 있어도 되고, 예컨대 금속으로 이루어져 있어도 되고, 고무로 이루어져 있어도 되고, 또는 필름과의 접촉면을 갖는 표면 부분만이 금속 또는 고무로 이루어져 있어도 된다. 이하, 상기 금형 프레스법 또는 롤 프레스법을 행하는 실시태양에 대해서 설명하지만, 상기 금형 프레스법 또는 롤 프레스법에 있어서 금형 또는 롤에 의해 필름을 가열하는 대신에, 금형 또는 롤에 의한 프레스의 직전에 필름 자체를 직접, IR 히터 등으로 가열해도 된다.As a method of applying heat and pressure between a set of dies, a die pressing method in which two heated flat plate-shaped upper and lower dies are used, and a roll pressing method in which pressing is passed between two hot rolls can be used. As a set of molds, one flat mold and one roll may be used in combination. The mold may be made of various materials as long as the surface shape of the mold can be transferred to the film, for example, may be made of metal, may be made of rubber, or only the surface portion having a contact surface with the film is metal. Alternatively, it may be made of rubber. Hereinafter, an embodiment in which the above mold press method or roll press method is performed will be described, but instead of heating the film with a mold or roll in the above mold press method or roll press method, immediately before pressing with a mold or roll The film itself may be heated directly with an IR heater or the like.

매트 가공은 필름의 적어도 편면에 행해지고, 내컬성의 관점에서 바람직하게는 필름의 양면에 행해진다. 매트 가공이 필름의 양면에 행해진다는 것은, 1조의 형 중 양쪽의 형으로서 후술하는 광택 제거성을 갖는 형을 사용한다는 것을 의미한다. 이에 의해, 필름의 양면에 광택 제거성이 부여된다. 매트 가공이 필름의 편면에 행해진다는 것은, 1조의 형 중의 한쪽의 형으로서 후술하는 광택 제거성을 갖는 형을 사용하고, 또한 다른 쪽의 형으로서 광택 제거성을 갖지 않는 형을 사용한다는 것을 의미한다. 이에 의해, 필름의 편면에만 광택 제거성이 부여된다.The mat processing is performed on at least one side of the film, and preferably on both sides of the film from the viewpoint of curl resistance. That mat processing is performed on both sides of the film means that a mold having luster removal properties described later is used as both molds of a set of molds. Thereby, gloss removal property is imparted to both surfaces of the film. The fact that the matting process is performed on one side of the film means that one of the molds in the set is a mold having a gloss removal property described later, and a mold having no gloss removal property as the other mold is used. . Thereby, gloss removal property is imparted only to one side of the film.

매트 가공 조건으로서는 이하의 조건이 채용된다.As mat processing conditions, the following conditions are adopted.

1조의 형 중 적어도 한쪽, 바람직하게는 양쪽의 형으로서 광택 제거성을 갖는 형을 사용한다. 광택 제거성을 갖는 형이란, 매트 가공된 필름면이 후술하는 표면 거칠기(Ra)를 갖도록, 필름과의 접촉면에 표면 거칠기를 부여받은 형이다. 그와 같은 형은, 필름과의 접촉면의 표면 거칠기가, 매트 가공된 필름면이 갖는 후술의 표면 거칠기(Ra)와 동일하거나, 또는 당해 표면 거칠기보다 큰 값이다.As at least one of the molds in a set, preferably both molds, a mold having gloss removal properties is used. The mold having gloss removal property is a mold in which surface roughness is given to the contact surface with the film so that the matted film surface has a surface roughness (Ra) described later. In such a type, the surface roughness of the contact surface with the film is the same as the surface roughness (Ra) described later that the mat-processed film surface has, or is a value larger than the surface roughness.

1조의 형이 필름의 양면에 부여하는 온도를 각각 독립적으로 100℃∼250℃, 바람직하게는 120℃∼220℃로 한다.The temperature applied by one set of molds to both sides of the film is independently 100°C to 250°C, preferably 120°C to 220°C.

프레스 압력은, 금형 프레스법의 경우, 0.5∼300kgf/cm2, 바람직하게는 1∼200kgf/cm2이다. 롤 프레스법의 경우에는 0.1∼500kgf/cm, 바람직하게는 1∼100kgf/cm이다.A press pressure is, in the case of a mold press method, 0.5~300kgf / cm 2, preferably 1~200kgf / cm 2. In the case of the roll press method, it is 0.1 to 500 kgf/cm, preferably 1 to 100 kgf/cm.

필름의 장력은 통상 1∼300N, 바람직하게는 10∼200N이다. 당해 장력은 1m 폭의 필름에 부여되는 장력이다. 특히 롤 프레스법을 채용하는 경우에 있어서 필름 속도는 통상 0.1∼10m/분, 바람직하게는 0.2∼5m/분이다.The tension of the film is usually 1 to 300 N, preferably 10 to 200 N. This tension is a tension applied to a 1 m wide film. In particular, in the case of employing the roll press method, the film speed is usually 0.1 to 10 m/min, preferably 0.2 to 5 m/min.

매트 가공 조건으로서, 형의 표면 거칠기, 필름의 처리 온도, 프레스 압력 및 필름 장력을 각각 상기의 범위 내로 하면서, 그들의 값을 조정하는 것에 의해, 컬률을 제어할 수 있다.As the mat processing conditions, the curling rate can be controlled by adjusting these values while making the surface roughness of the mold, the treatment temperature of the film, the press pressure, and the film tension within the above ranges, respectively.

예컨대, 1조의 형이 필름에 부여하는 표면 거칠기의 차 및/또는 온도차를 작게 하는 것에 의해, 컬률을 저감할 수 있다. 구체적으로는, 1조의 형이 필름에 부여하는 표면 거칠기의 차, 즉 매트 가공된 필름의 양면에 있어서의 표면 거칠기의 차를 후술하는 범위 내로 하는 것에 의해, 컬률을 한층 더 유효하게 저감할 수 있다. 1조의 형이 필름 양면에 부여하는 온도의 차, 예컨대 상형과 하형의 설정 온도차를, 특히 30℃ 이하, 바람직하게는 20℃ 이하, 보다 바람직하게는 10℃ 이하로 하는 것에 의해, 컬률을 한층 더 유효하게 저감할 수 있다.For example, the curling rate can be reduced by reducing the difference in surface roughness and/or the temperature difference that a set of molds impart to the film. Specifically, by making the difference in surface roughness imparted to the film by one set of molds, that is, the difference in surface roughness on both sides of the matted film, within the range described later, the curling rate can be further effectively reduced. . The curling rate is further increased by making the difference in temperature that a set of molds impart to both sides of the film, for example, the set temperature difference between the upper mold and the lower mold, particularly 30°C or less, preferably 20°C or less, and more preferably 10°C or less. It can be effectively reduced.

또한 예컨대, 프레스압 및/또는 필름 장력을 작게 하는 것에 의해, 컬률을 저감할 수 있다. 구체적으로는, 금형 프레스법의 경우, 프레스 압력을 특히 1∼100kgf/cm2, 바람직하게는 1∼50kgf/cm2로 하는 것에 의해, 컬률을 한층 더 유효하게 저감할 수 있다. 필름의 장력을 특히 10∼100N, 바람직하게는 10∼50N으로 하는 것에 의해, 컬률을 한층 더 유효하게 저감할 수 있다.Further, for example, by reducing the press pressure and/or the film tension, the curling rate can be reduced. Specifically, in the case of the die press method, the curling rate can be further effectively reduced by setting the press pressure to be particularly 1 to 100 kgf/cm 2 , preferably 1 to 50 kgf/cm 2 . When the tension of the film is particularly 10 to 100 N, preferably 10 to 50 N, the curling rate can be further effectively reduced.

<PS계 이형 필름><PS-based release film>

본 발명의 PS계 이형 필름의 컬률은 80% 이하, 바람직하게는 60% 이하, 보다 바람직하게는 30% 이하이다. 컬률이 지나치게 크면, 프레스 성형 시에 있어서 단부에 절곡이 생겨, 성형체에, 당해 단부 꺾임에 기인하는 줄무늬 형상의 모양이 발생하여, 그 주변에 있어서 이형 필름의 표면 형상이 충분히 전사되지 않는다.The curl rate of the PS-based release film of the present invention is 80% or less, preferably 60% or less, and more preferably 30% or less. If the curling rate is too large, bending occurs at the end portion during press molding, and a stripe-like pattern caused by the edge bending occurs in the molded body, and the surface shape of the release film is not sufficiently transferred around it.

본 명세서 중, 컬률은, 시험편(200mm×200mm)을 분위기 온도 180℃에서 30분간 방치했을 때에, 컬이 발생하는 것에 의해 감소하는 투영 면적의 비율이며, 구체적으로는 후술하는 방법에 의해 측정된다. 컬률이 높을수록 필름의 휨이 크고, 컬률이 낮을수록 필름의 휨이 작은 것을 의미한다. 시험편의 투영 면적은, 당해 시험편을 재치한 직상으로부터 사진 촬영을 행하여, 그 화상으로부터 산출할 수 있다.In the present specification, the curling rate is the ratio of the projected area that decreases due to the occurrence of curls when the test piece (200 mm x 200 mm) is left at an ambient temperature of 180°C for 30 minutes, and is specifically measured by a method described later. The higher the curling rate, the greater the warpage of the film, and the lower the curling rate, the smaller the warpage of the film. The projected area of the test piece can be calculated from the image by taking a picture from the direct image on which the test piece was placed.

본 발명의 PS계 이형 필름은 통상, 180℃에서의 열수축률의 절대값이 8% 이하이며, 바람직하게는 6% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하이다. 열수축률의 절대값은 MD 방향 및 TD 방향 중 어느 방향에 대해서도 상기 범위 내이다. 열수축률의 절대값이 지나치게 크면, 내열 치수 안정성이 저하되어, 프레스 성형용 이형 필름으로서 사용된 경우 금형의 성형면을 충분히 부형할 수 없다.The PS-type release film of the present invention usually has an absolute value of the thermal contraction rate at 180°C of 8% or less, preferably 6% or less, and more preferably 3% or less. The absolute value of the thermal contraction rate is within the above range in either the MD direction or the TD direction. If the absolute value of the thermal contraction rate is too large, the heat-resistant dimensional stability decreases, and when used as a release film for press molding, the molded surface of the mold cannot be sufficiently molded.

본 명세서 중, 열수축률은, 시험편(200mm×200mm)을 분위기 온도 180℃에서 30분간 방치했을 때의 MD 방향 및 TD 방향의 각 방향에 있어서의 열수축률이며, 구체적으로는 후술하는 방법에 의해 측정된다. 열수축률의 값은 양의 값이 수축을 의미하고, 음의 값이 팽창을 의미한다.In the present specification, the thermal contraction rate is the thermal contraction rate in each direction in the MD direction and the TD direction when the test piece (200 mm × 200 mm) is left at an ambient temperature of 180° C. for 30 minutes, and specifically measured by a method described later. do. As for the value of the thermal contraction rate, a positive value means contraction, and a negative value means expansion.

본 발명의 PS계 이형 필름은, 적어도 편면이 매트 가공되어 있고, 결과로서 0.5μm 이상 8.0μm 이하, 특히 0.6μm 이상 5.0μm 이하의 표면 거칠기(Ra)를 갖는 것이 바람직하다. 본 발명의 PS계 이형 필름은, 내컬성의 관점에서, 바람직하게는 양면이 매트 가공되어 있고, 결과로서 각각의 면이 독립적으로 상기 범위 내의 표면 거칠기(Ra)를 갖는다. 내컬성의 관점에서, 가장 바람직한 실시태양에 있어서, 양면에 있어서의 표면 거칠기의 차는 1.5μm 이하, 바람직하게는 1.0μm 이하, 보다 바람직하게는 0.5μm 이하이다. 본 발명에 있어서의 필름의 표면 거칠기는 JIS B-0601:1994에 의해 측정된 값을 나타내고 있다.It is preferable that at least one side of the PS-type release film of the present invention is matted, and as a result, has a surface roughness (Ra) of 0.5 μm or more and 8.0 μm or less, particularly 0.6 μm or more and 5.0 μm or less. From the viewpoint of curl resistance, the PS release film of the present invention is preferably mat-processed on both sides, and as a result, each surface independently has a surface roughness (Ra) within the above range. From the viewpoint of curl resistance, in the most preferred embodiment, the difference in surface roughness on both sides is 1.5 μm or less, preferably 1.0 μm or less, and more preferably 0.5 μm or less. The surface roughness of the film in the present invention represents a value measured according to JIS B-0601:1994.

본 발명의 PS계 이형 필름의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예컨대 10∼150μm이고, 바람직하게는 25∼75μm이며, 특히 바람직하게는 35∼60μm이다.The thickness of the PS-based release film of the present invention is not particularly limited, and is, for example, 10 to 150 µm, preferably 25 to 75 µm, and particularly preferably 35 to 60 µm.

본 발명의 PS계 이형 필름은, 특히 전사성을 필요로 하는 이형 필름(전사 필름)으로서 유용하다.The PS-based release film of the present invention is particularly useful as a release film (transfer film) requiring transferability.

구체적으로는, 본 발명의 PS계 이형 필름을 이형 필름으로서 사용하는 경우, 프레스 성형 시에 있어서 당해 필름을 금형과 피성형 재료 사이에 개재시키는 것에 의해, 금형과 피성형 재료의 융착을 방지하면서도, 당해 필름의 표면 형상을 정밀도 좋게 전사시킬 수 있다. 더욱이 본 발명의 이형 필름은 치수 변동이 충분히 방지되므로, 예컨대 금형 성형면에 깊이 1mm의 요철이 있는 경우라도, 당해 성형면을 정밀도 좋게 부형할 수 있다.Specifically, when using the PS-based release film of the present invention as a release film, by interposing the film between the mold and the material to be molded during press molding, while preventing the fusion of the mold and the material to be molded, The surface shape of the film can be transferred with high precision. Furthermore, since the dimensional variation of the mold release film of the present invention is sufficiently prevented, for example, even when there are irregularities having a depth of 1 mm on the mold molding surface, the molded surface can be accurately shaped.

피성형 재료를 구성하는 플라스틱의 종류는 특별히 제한되지 않고, 예컨대 에폭시 수지, 페놀 수지, 실리콘 수지, 멜라민 수지, 요소 수지, 알카이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리에스터 수지, 폴리우레테인 수지, 아크릴 수지 등이 사용 가능하다.The type of plastic constituting the material to be molded is not particularly limited, and for example, epoxy resin, phenol resin, silicone resin, melamine resin, urea resin, alkyd resin, polyimide resin, polyester resin, polyurethane resin, acrylic resin Etc. can be used.

본 발명의 PS계 이형 필름을 이용하여 프레스 성형할 때의 금형 온도, 압력 및 처리 시간은 플라스틱 성형의 분야에서 공지된 조건이 사용 가능하다. 예컨대, 프레스 시의 금형 온도는 통상 80∼200℃이다. 프레스압은 통상 1∼150kg/cm2이다. 프레스 시간은 통상 0.5∼60분간이다.The mold temperature, pressure, and treatment time when press-molding using the PS-based release film of the present invention may be conditions known in the field of plastic molding. For example, the mold temperature during pressing is usually 80 to 200°C. The press pressure is usually 1 to 150 kg/cm 2 . Press time is usually 0.5 to 60 minutes.

실시예Example

실시예 1∼5/비교예 1∼2Examples 1 to 5/Comparative Examples 1 to 2

하기 성분의 혼합물을 압출기에 의해 수지 온도 280℃에서 T 다이로부터 압출한 후, 냉각하여, 미연신 필름(전구체 필름)을 얻었다. 미연신 필름을, 후술하는 조건에서 연신 공정에 제공했다. 연신 공정은 연신 처리 및 열고정 처리로 이루어지고, 열고정 처리는 소정의 온도 및 이완 배율로 이완식 열고정 처리를 행했다. 한편, 연신 처리는 동시 2축 연신이다.The mixture of the following components was extruded from the T die at a resin temperature of 280°C by an extruder, and then cooled to obtain an unstretched film (precursor film). The unstretched film was applied to the stretching process under the conditions described later. The stretching process consisted of a stretching treatment and a heat setting treatment, and the heat setting treatment performed a relaxation-type heat setting treatment at a predetermined temperature and relaxation ratio. On the other hand, the stretching treatment is simultaneous biaxial stretching.

혼합물 성분으로서, 실시예 및 비교예 모두, 신디오택틱 폴리스타이렌 수지, 산화 방지제 및 활제를 사용했다.As the mixture component, in both the Examples and Comparative Examples, a syndiotactic polystyrene resin, an antioxidant and a lubricant were used.

신디오택틱 폴리스타이렌 수지는 「더렉 142ZE」(이데미쓰코산(주)사제, 유리전이온도 95℃, 융점 247℃)를 사용했다.Syndiotactic polystyrene resin used "Therec 142ZE" (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd., a glass transition temperature of 95°C and a melting point of 247°C).

산화 방지제는 페놀계 산화 방지제를 사용하고, 활제는 아마이드계 활제를 사용했다.As the antioxidant, a phenolic antioxidant was used, and as the lubricant, an amide lubricant was used.

그의 배합 비율은, 신디오택틱 폴리스타이렌 수지 100중량부에 대하여, 아데카스타브 AO-60을 0.2중량부, 활제를 0.2중량부로 했다.The blending ratio thereof was 0.2 parts by weight of adecastab AO-60 and 0.2 parts by weight of the lubricant based on 100 parts by weight of the syndiotactic polystyrene resin.

연신 조건으로서는, 실시예 및 비교예 모두 이하와 같다.As the stretching conditions, both Examples and Comparative Examples are as follows.

연신 배율은 3.3×3.4배(MD×TD)The draw ratio is 3.3×3.4 times (MD×TD)

연신 온도: 115℃Stretching temperature: 115℃

연신 속도: 500%/분Drawing speed: 500%/min

열고정 온도: 215℃Heat setting temperature: 215℃

이완 배율: 0.92×0.92(MD×TD)Relaxation magnification: 0.92×0.92 (MD×TD)

상기에서 얻어진 연신 필름을 1m 폭으로 커팅하고, 그 후 2장의 평판상 금형으로 프레스를 행하는 것에 의해 매트 가공을 행하여, 이형 필름을 얻었다. 가공 조건(금형의 표면 거칠기, 금형 온도, 프레스 압력, 필름 장력)은 표 1에 기재된 대로이다. 한편, 2장의 금형 중, 상형은 금형 자체에 소정의 표면 거칠기를 부여한 것을 사용하고, 하형은 소정의 표면 거칠기를 부여한 실리콘 고무층을 금형 표면에 부여한 것을 사용했다.The stretched film obtained above was cut to a width of 1 m, and then mat processing was performed by pressing with two flat molds to obtain a release film. The processing conditions (the surface roughness of the mold, the mold temperature, the press pressure, and the film tension) are as described in Table 1. On the other hand, of the two molds, the upper mold was used in which a predetermined surface roughness was applied to the mold itself, and the lower mold was used in which a silicone rubber layer provided with a predetermined surface roughness was applied to the mold surface.

평가evaluation

각 실시예/비교예에서 얻어진 매트 가공 완료된 이형 필름을 이하에 나타내는 항목에 대하여 평가했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 한편, 구체적인 평가 방법은 이하와 같다.The mat-processed release film obtained in each Example/Comparative Example was evaluated about the items shown below. The results are shown in Table 1. On the other hand, a specific evaluation method is as follows.

컬률Curl rate

200mm×200mm로 커팅한 필름을, 180℃의 분위기로 설정된 열풍 순환식 오븐 내에서 한 구석을 지지한 매달음 상태로 30분간 방치한 후, 취출하여 평평한 면에 두고, 직상으로부터 보았을 때의 컬된 부분의 면적(mm2)을 측정했다. 이 면적에 기초하여, 하기 식으로부터 컬률(%)을 산출했다.The film cut into 200mm×200mm is allowed to stand for 30 minutes in a hanging state supporting one corner in a hot air circulation oven set in an atmosphere of 180°C, then take it out, place it on a flat surface, and the curled part as viewed from the top The area (mm 2 ) of was measured. Based on this area, the curling rate (%) was calculated from the following formula.

컬률(%) = (컬된 부분의 면적)/(가열 후의 필름의 총면적)×100Curl rate (%) = (area of curled part)/(total area of film after heating) × 100

한편, 가열 후의 필름의 총면적은 필름이 컬된 경우, 컬된 필름을 잡아늘여 측정한다.On the other hand, the total area of the film after heating is measured by stretching the curled film when the film is curled.

표면 거칠기Surface roughness

필름의 표면 거칠기는 JIS B-0601:1994에 준거하여 측정한 산술 평균 높이(Ra)이다. 상면은 매트 가공 시에 상형과 접촉하는 필름면이며, 하면은 하형과 접촉하는 필름면이다.The surface roughness of the film is the arithmetic mean height (Ra) measured according to JIS B-0601:1994. The upper surface is a film surface in contact with the upper mold during mat processing, and the lower surface is a film surface in contact with the lower mold.

열수축률Heat shrinkage

우선, 길이 150mm의 2본의 직선을 각각, MD 방향 및 TD 방향에 대하여 평행하게, 또한 서로 중점에서 교차하도록, 시험편(필름; 200mm×200mm) 상에 그렸다. 이 시험편을 표준 상태(온도 23℃×습도 50%)에 2시간 방치하고, 그 후 시험 전의 직선의 길이를 측정했다. 계속해서 180℃의 분위기로 설정된 열풍 순환식 오븐 내에서 한 구석을 지지한 매달음 상태로 30분간 방치한 후, 취출하여, 표준 상태에 2시간 방치 냉각했다. 그 후 각 방향의 직선의 길이를 측정하여, 시험 전의 길이로부터의 변화량을 구하고, 당해 시험 전의 길이에 대한 변화량의 비율로서 열수축률을 구했다. 열수축률에 대하여 양의 값은 수축한 것을 의미한다. 한편, 열수축률의 절대값이 3% 이하이면 매우 바람직한 레벨(◎), 6% 이하이면 바람직한 레벨(○), 8% 이하이면 실용상 문제없는 레벨(△), 8% 초과이면 실용상 문제있는 레벨(×)이다.First, two straight lines having a length of 150 mm were drawn on a test piece (film; 200 mm×200 mm) so as to intersect each other in parallel with each other in the MD direction and the TD direction. This test piece was allowed to stand for 2 hours in a standard condition (temperature 23°C x humidity 50%), and then the length of the straight line before the test was measured. Subsequently, after leaving for 30 minutes in a suspended state in which one corner was supported in a hot air circulation type oven set in an atmosphere of 180°C, it was taken out and left to cool in a standard state for 2 hours. Thereafter, the length of the straight line in each direction was measured, the amount of change from the length before the test was obtained, and the thermal contraction rate was determined as a ratio of the amount of change to the length before the test. A positive value for heat shrinkage means shrinkage. On the other hand, if the absolute value of the thermal contraction rate is 3% or less, it is a very desirable level (◎), if it is 6% or less, it is a desirable level (○), if it is less than 8%, it is a practically no problem level (△), and if it exceeds 8%, there is a problem in practical use. It is the level (x).

이형 필름 평가Release film evaluation

에폭시 수지 플레이크를 열프레스 성형함에 있어서, 실시예 1∼5, 비교예 1 및 비교예 2의 각각에서 얻어진 전사 필름(전사성을 갖는 이형 필름)을 이용했다. 상세하게는 도 1에 나타내는 바와 같이, 에폭시 수지 플레이크(1)를 상하 금형(2, 3)에 의해 열프레스 성형함에 있어서, 플레이크(1)와 금형(2, 3) 사이에 상기 전사 필름(4)을 개재시켰다. 전사 필름(4)은 금형보다 외측에서 파지하여 고정했다. 한편, 상기 전사 필름(4)은, 실리콘 고무층에 의해 거칠기를 부여한 면이 상하 금형(2, 3)측이 되도록 배치했다. 프레스 시에 있어서, 금형(2, 3)의 접근은 스페이서(5)에 의해 제한되었다. 프레스 조건은 다음과 같았다. 금형(2, 3)의 온도; 180℃, 프레스압; 100kg/cm2, 스페이서 두께; 0.5mm, 프레스 시간; 10분간, 오목부의 깊이(볼록부의 높이); 1mm.In hot press molding of the epoxy resin flakes, the transfer films (release films having transfer properties) obtained in each of Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 and 2 were used. Specifically, as shown in Fig. 1, in hot press molding the epoxy resin flake 1 by the upper and lower molds 2, 3, the transfer film 4 between the flakes 1 and the molds 2, 3 ) Was interposed. The transfer film 4 was held and fixed outside the mold. On the other hand, the said transfer film 4 was arrange|positioned so that the surface to which roughness was imparted by the silicone rubber layer might be the side of the upper and lower molds 2 and 3. In pressing, access to the molds 2 and 3 was limited by the spacer 5. Press conditions were as follows. The temperature of the molds 2 and 3; 180°C, press pressure; 100 kg/cm 2 , spacer thickness; 0.5 mm, press time; 10 minutes, the depth of the concave portion (height of the convex portion); 1mm.

프레스 성형 후, 성형체를 취출하고, 방치 냉각한 후, 필름(4)을 성형체로부터 박리했다. 성형체의 표면에 전사된 전사면을 육안으로 관찰하여, 전사성에 대해 평가했다.After press molding, the molded body was taken out and left to cool, and then the film 4 was peeled from the molded body. The transfer surface transferred to the surface of the molded article was visually observed, and the transferability was evaluated.

◎; 에폭시 성형체의 전사면에는, 줄무늬 형상의 모양이나 얼룩이 없고, 전사 필름의 표면이 그대로 양호하게 전사되어 있었다;◎; On the transfer surface of the epoxy molded body, there were no stripes or unevenness, and the surface of the transfer film was transferred satisfactorily as it is;

○; 에폭시 성형체의 전사면에는, 거의 줄무늬 형상의 모양이나 얼룩이 없고, 전사 필름의 표면이 거의 전사되어 있었다;○; On the transfer surface of the epoxy molded body, there were almost no stripes or unevenness, and the surface of the transfer film was almost transferred;

△; 에폭시 성형체의 전사면에는, 약간 줄무늬 형상의 모양이나 얼룩이 있고, 전사 필름의 표면의 전사가 조금 불충분했다(실용상 문제 없음);△; On the transfer surface of the epoxy molded body, there were slightly striped patterns and unevenness, and the transfer of the surface of the transfer film was slightly insufficient (no problem in practical use);

×; 에폭시 성형체의 전사면에 절곡된 전사 필름이 단차가 되어서 전사되어, 실용상 문제가 있는 전사성이었다.×; The transfer film bent on the transfer surface of the epoxy molded body was transferred as a step difference, and transferability was problematic in practical use.

Figure 112016004042427-pct00001
Figure 112016004042427-pct00001

본 발명의 이형 필름은, 내열 치수 안정성이 충분히 우수하고, 양호한 컬률을 가지며, 성형성(추종성) 및 이형성이 우수함과 더불어, 성형체에 양호한 광택 제거성을 부여할 수 있다. 한편, 이형 필름의 사용법에는 롤상인 채로 사용하는 방법(롤 투 롤 방식)과, 길이 방향으로도 재단하여 1장인 것으로 해서 사용하는 방법(매엽(枚葉) 방식)이 있으며, 특히 매엽 방식에서 이용하는 경우에 내컬성은 보다 문제가 된다. 본 발명의 이형 필름은 그와 같은 매엽 방식에서 이용되는 이형 필름으로서 보다 유용하다.The mold release film of the present invention is sufficiently excellent in heat resistance dimensional stability, has a good curl rate, is excellent in moldability (trackability) and releasability, and can impart good gloss removal properties to a molded article. On the other hand, there are two types of use of the release film in the form of a roll (roll-to-roll method), and a method of cutting it in the lengthwise direction and using it as a single sheet (sheet-fed method). In this case, curl resistance becomes more problematic. The release film of the present invention is more useful as a release film used in such a sheet-fed method.

본 발명의 이형 필름은, 프린트 기판, 세라믹 전자 부품, 반도체 패키지, 렌즈 부품, 열경화성 수지 제품, 열가소성 수지 제품, 화장판 등을 제조할 때, 평판상 금형이나 성형 롤 등의 형과 피성형 재료 사이에 개재시키는 이형 필름으로서 유용하다. 또한, 본 발명의 이형 필름은, 이른바 전사 필름이며, 당해 필름의 표면에 설치된 매트조(調)를 피성형 재료의 표면에 전사하는 필름으로서 유용하다. 또한, 본 발명의 이형 필름은, 열경화성 수지, 열가소성 수지, 세라믹, 금속 등의 박막층의 형성 공정이나 소정의 처리 공정에 있어서, 박막층의 지지나 보호를 목적으로 해서 적층하고, 최종적으로는 박리·제거되는 공정 필름으로서 유용하다.The release film of the present invention is used in manufacturing a printed circuit board, ceramic electronic component, semiconductor package, lens component, thermosetting resin product, thermoplastic resin product, decorative plate, etc., between a mold such as a flat mold or a forming roll and a material to be molded. It is useful as a release film to be interposed in the. In addition, the release film of the present invention is a so-called transfer film, and is useful as a film for transferring a mat nail provided on the surface of the film to the surface of a material to be molded. In addition, the release film of the present invention is laminated for the purpose of supporting or protecting the thin film layer in a process for forming a thin film layer such as a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a ceramic, or a metal, or a predetermined processing step, and finally peeling and removing. It is useful as a process film to become.

Claims (6)

신디오택틱 폴리스타이렌계 수지 및 페놀계 산화 방지제를 함유하는 2축 배향 폴리스타이렌계 필름으로 이루어지는 이형 필름으로서,
적어도 편면이 매트 가공되어 이루어지고,
당해 이형 필름의 컬률이 80% 이하인
것을 특징으로 하는 이형 필름.A release film comprising a biaxially oriented polystyrene film containing a syndiotactic polystyrene resin and a phenolic antioxidant,
At least one side is made by mat processing,
The release film has a curl rate of 80% or less
Release film, characterized in that. 제 1 항에 있어서,
상기 컬률이 60% 이하인 것을 특징으로 하는 이형 필름.The method of claim 1,
The release film, characterized in that the curling rate is 60% or less. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 신디오택틱 폴리스타이렌계 수지가 신디오택틱 폴리스타이렌인 이형 필름.The method according to claim 1 or 2,
The release film wherein the syndiotactic polystyrene resin is syndiotactic polystyrene. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 2축 배향 폴리스타이렌계 필름이, 신디오택틱 폴리스타이렌계 수지 및 페놀계 산화 방지제를 함유하는 전구체 필름을, 동시 2축 연신 처리 및 매트 가공에 제공하여 이루어지는 필름인 이형 필름.The method according to claim 1 or 2,
The release film wherein the biaxially oriented polystyrene film is a film obtained by providing a precursor film containing a syndiotactic polystyrene resin and a phenolic antioxidant for simultaneous biaxial stretching treatment and mat processing. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 이형 필름의 열수축률이 8% 이하인 것을 특징으로 하는 이형 필름.The method according to claim 1 or 2,
A release film, characterized in that the heat shrinkage of the release film is 8% or less. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 페놀계 산화 방지제는, 상기 신디오택틱 폴리스타이렌계 수지에 대하여 0.01∼3.0중량%로 함유되는 이형 필름.The method according to claim 1 or 2,
The phenolic antioxidant is contained in an amount of 0.01 to 3.0% by weight based on the syndiotactic polystyrene resin.
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