KR102218383B1 - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

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KR102218383B1
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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 제 1 하우징, 상기 제 1 하우징 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛, 그리고 상기 지지 유닛 상의 기판 상에 박막 형성 공정을 수행하는 박막 형성부재를 포함하되, 상기 박막 형성부재는 잉크젯 방식으로 박막을 형성할 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE}
본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.
최근에 음극선관(cathode ray tube)과 같은 종래의 표시소자의 단점을 해결하는 액정표시장치(liquid crystal display device), 유기 전계발광 장치(organic electroluminescence device) 또는 PDP(plasma display panel)등과 같은 평판형 표시장치(flat panel display device)가 주목받고 있다.
액정 표시장치는 자체발광소자가 아니라 수광소자이기 때문에 밝기, 콘트라스트, 시야각 및 대면적화 등에 한계가 있고, PDP는 자체발광소자이기는 하지만, 다른 평판형 표시장치에 비해 무게가 무겁고, 소비전력이 높을뿐만 아니라 제조 방법이 복잡하다는 문제점이 있다.
반면에, 유기 전계발광 표시장치는 자체발광소자이기 때문에 시야각, 콘트라스트 등이 우수하고, 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량, 박형이 가능하고, 소비 전력 측면에서도 유리하다. 또한, 직류 저전압 구동이 가능하고 응답속도가 빠르며 전부 고체이기 때문에 외부 충격에 강하고 사용 온도 범위도 넓을 뿐만 아니라 제조 방법이 단순하고 저렴하다는 장점을 가지고 있다.
그러나, 열 저항성이 낮은 재료인 유기화합물로 형성된 유기박막들은 수분에 의해 열화되기 쉽고, 유기박막들 상에 형성된 음전극은 산화로 인해 성능이 저하되는 특성이 있다. 따라서 유기박막들에 수분이나 산소 등이 침투하지 않도록 봉지하여야 한다. 종래에는, 봉지 공정을 위해 기상증착 방식을 이용하였으나, 이러한 경우 다양한 영역에 막을 형성하기 위해서는 그만큼의 마스크가 준비되어야 한다. 또한, 박막 형성 과정 중 이송 장치에 의해 기판이 이송될 때 외력 등에 의한 박막의 균일도 저하가 발생한다.
본 발명의 실시예들은 기판 이송 과정에서의 외력에 상관없이, 기판을 이송할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한, 본 발명의 실시예들은 박막의 균일도를 확보할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명의 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 제 1 하우징, 상기 제 1 하우징 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛, 그리고 상기 지지 유닛 상의 기판 상에 박막 형성 공정을 수행하는 박막 형성부재를 포함하되, 상기 박막 형성부재는 잉크젯 방식으로 박막을 형성할 수 있다.
상기 박막 형성부재는, 상기 기판으로 상기 처리액을 토출하는 복수 개의 노즐, 상기 복수 개의 노즐에 상기 처리액을 공급하는 노즐 헤드, 그리고 상기 노즐 유닛과 상기 지지 유닛의 상대 위치가 변경되도록 상기 노즐 유닛 또는 상기 지지 유닛을 이동시키는 이동 유닛을 더 포함할 수 있다.
상기 기판 처리 장치는 상기 박막 형성 공정이 완료된 상기 기판에 대해 경화 공정을 진행하고, 상기 경화 공정은 상기 제 1 하우징과 인접하게 배치된 제 2 하우징에서 진행될 수 있다.
상기 기판 처리 장치는 기판을 흡착하는 캐리어를 더 포함하되, 상기 캐리어는 상기 박막 형성 공정 및 상기 경화 공정까지 상기 기판을 부착한 상태로 이송할 수 있다.
상기 캐리어는, 상기 기판을 흡착하는 흡착판 및 상기 캐리어를 상기 제 1 하우징과 상기 제 2 하우징 사이를 이송하는 이송로봇에 흡착시키는 부착부를 포함할 수 있다.
상기 흡착판은 다공성 세라믹 재질로 제공될 수 있다.
상기 기판 처리 장치는, 상기 캐리어로 상기 기판이 로드 또는 상기 캐리어에서 상기 기판이 언로딩되도록 제어하는 로딩/언로딩 유닛 및 상기 캐리어와 상기 기판이 흡착되도록 조립하는 조립 유닛을 더 포함할 수 있다.
상기 캐리어는 상기 흡착판에 흡착되는 기판의 위치를 조정하는 위치 조정 장치를 더 포함할 수 있다.
상기 기판은 전계 발광 소자상기 기판은 전계발광소자일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 이송 과정에서의 외력에 상관없이, 기판을 이송할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 박막의 균일도를 확보할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 2 및 도 3은 도 1의 제 1 하우징의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 4는 캐리어를 보여주는 도면이다.
도 5는 도 4의 캐리어의 후면도이다.
도 6 및 도 7은 캐리어에 기판이 로딩/언로딩될 때를 보여주는 도면들이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 도면이다.
기판 처리 장치(1)는 제 1 하우징(10), 제 2 하우징(20), 그리고 이송 로봇(30)을 포함한다. 기판 처리 장치(1)는 기판에 대해 박막 봉지 공정을 진행한다. 제 1 하우징(10)은 박막 형성 공정을 진행한다. 제 2 하우징(20)은 제 1 하우징(10)에 인접하게 배치된다. 제 2 하우징(20)은 박막이 형성된 기판에 대해 경화 공정을 수행한다. 이송 로봇(30)은 제 1 하우징(10) 및 제 2 하우징(20) 사이에서 기판을 이송한다. 선택적으로, 제 1 하우징(10)과 제 2 하우징(20) 사이에는 박막 형성 공정 후 경화 공정을 진행하기 전에 대기 공정을 수행하는 제 3 하우징(미도시됨)이 제공될 수 있다.
도 2 및 도 3은 도 1의 제 1 하우징(10)의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
제 1 하우징(10)은 베이스(B), 지지 유닛(110), 박막 형성부재(200), 액 토출량 측정 유닛(300), 검사 유닛(400), 그리고 세정 유닛(500)을 포함한다.
제 1 하우징(10)은 기판에 대해 박막을 형성하는 공정을 수행하는 공간을 제공한다.
지지 유닛(110)은 베이스(B)의 상면에 배치된다. 베이스(B)는 일정한 두께를 가지는 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 지지 유닛(110)는 캐리어(150)가 놓이는 지지판(120)을 가진다. 지지판(120)은 사각형 형상의 판일 수 있다. 지지판(120)의 하면에는 회전 구동 부재(130)가 연결된다. 회전 구동 부재(130)는 회전 모터일 수 있다. 회전 구동 부재(130)는 지지판(100)에 수직한 회전 중심 축을 중심으로 지지판(120)을 회전시킨다.
지지판(120)이 회전 구동 부재(130)에 의해 회전되면, 기판(S)은 지지판(120)의 회전에 의해 회전될 수 있다. 액정이 도포될 기판에 형성된 셀의 장변 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하는 경우, 회전 구동 부재(130)는 셀의 장변 방향이 제 1 방향(Ⅰ)을 향하도록 기판을 회전시킬 수 있다.
지지판(120)과 회전 구동 부재(130)는 직선 구동 부재(130)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동될 수 있다. 직선 구동 부재(130)는 슬라이더(132)와 가이드 부재(134)를 포함한다. 회전 구동 부재(130)는 슬라이더(132)의 상면에 설치된다. 가이드 부재(134)는 베이스(B)의 상면 중심부에 제 1 방향(Ⅰ)으로 길게 연장된다. 슬라이더(132)에는 리니어 모터(미도시)가 내장될 수 있으며, 슬라이더(132)는 리니어 모터(미도시)에 의해 가이드 부재(134)를 따라 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동된다.
도 4는 캐리어(150)를 보여주는 도면이다. 도 5는 도 4의 캐리어(150)의 후면도이다. 도 6 및 도 7은 캐리어(150)에 기판이 로딩/언로딩될 때를 보여주는 도면들이다.
캐리어(150)는 기판을 흡착한다. 캐리어(150)는 기판을 흡착한 상태로, 기판에 대해 박막 형성 공정 및 경화 공정을 수행할 수 있도록 기판을 이송한다. 캐리어(150)는 프레임(152), 흡착판(154), 핀 홀(156), 그리고 부착패드(157)를 가진다. 프레임(152)은 흡착판(154)을 감싼다. 흡착판(154)은 캐리어(150)의 상부에 배치된다. 흡착판(154)은 다공성 세라믹 재질로 제공된다. 흡착판(154)에는 핀 홀(156)들이 포함될 수 있다. 부착패드(157)는 캐리어(150)의 후면에 부착된다. 부착패드(157)는 캐리어(150)를 이송 로봇(30)에 부착시킨다. 세라믹 재질은 충분한 강성을 가져, 이송시의 외력으로부터 기판의 평편도를 유지할 수 있다. 캐리어(150)는 흡착력을 균일하게 제공할 수 있고, 이로 인한 기판 변형을 최소화할 수 있다. 또한, 기판 상에 박막이 형성된 후 경화 전까지, 박막의 두께를 균일하게 유지할 수 있다. 이와 달리, 흡착판(154)은 정전척으로 제공될 수 있다. 또한, 캐리어(150)는 위치 조정 장치(158)를 포함할 수 있다. 캐리어(150)는 흡착판(154) 상에 기판이 흡착되면, 위치 조정 장치(158)로 기판의 위치를 조정한다. 일 예로, 위치 조정 장치(158)는 캐리어(150)의 후면부에서 연장되게 제공되어, 대응되는 이송 로봇 상의 홀에 끼워지도록 제공될 수 있다. 위치 조정 장치(158)는 기판 탈부착시, 기판의 모서리부분을 이동시켜 기판이 일정한 위치에 위치될 수 있도록 조절할 수 있다. 또한, 캐리어(150)는 영구 자석(156)을 포함할 수 있다. 이송 로봇(30)이 선형 모터를 동력원으로 제공하는 경우, 고정자에는 코일이 제공되고, 캐리어(150)는 영구 자석(156)을 이용하여 챔버 개폐 구간을 통과하고 장거리 이송이 가능하다.
또한, 기판 처리 장치는 로딩/언로딩 유닛(160), 조립 유닛(170)을 더 포함할 수 있다. 로딩/언로딩 유닛(160)은 기판을 캐리어(150)로 로딩하거나 기판을 캐리어(150)에서 언로딩한다. 조립 유닛(170)은 기판이 캐리어(150)에 로딩되면, 기판과 캐리어(150)를 조립한다. 기판이 캐리어(150)의 일정 위치에 조립되어, 기판은 캐리어(150)에 부착된 상태로 공정이 진행될 수 있다.
박막 형성부재(200)는 노즐 유닛(210), 이동 유닛(230), 그리고 제어기(250)를 포함한다.
이동 유닛(210)은 갠트리(211), 그리고 갠트리 이동 부재(213)를 포함한다.
갠트리(211)는 지지판(120)이 이동되는 경로의 상부에 제공된다. 갠트리(211)는 베이스(B)의 상면으로부터 위방향으로 이격 배치된다. 갠트리(211)는 길이 방향이 제 2 방향(Ⅱ)을 향하도록 배치된다. 노즐 헤드(231)는 헤드 이동 부재(233)에 의해 갠트리(211)에 결합된다. 노즐 헤드(231)는 헤드 이동 부재(233)에 의해 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동하고, 또한 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동될 수 있다.
갠트리 이동 부재(213)는 갠트리(211)를 제 1 방향(Ⅰ)으로 직선 이동시키거나, 갠트리(211)의 길이 방향이 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향을 향하도록 갠트리(211)를 회전시킬 수 있다. 갠트리(211)의 회전에 의해, 노즐 헤드(231) 제 1 방향(Ⅰ)에 경사진 방향으로 정렬될 수 있다. 선택적으로, 갠트리 이동 부재(213)에는 흡수기(isolator)가 제공될 수 있다. 이로 인해, 갠트리(211)의 이동에 따라 무게 중심이 변하여도, 기판 처리 장치가 수평을 유지할 수 있다. 또한, 흡수기는 기판 처리 장치가 자체적 및 외부에서 발생하는 진동을 흡수하고, 이에 따른 파티클 발생을 방지할 수 있다.
노즐 유닛(230)은 노즐 헤드(231), 헤드 이동 부재(233), 그리고 처리액 저장부(235)를 포함한다.
노즐 헤드(231)는 기판(S)에 처리액의 액적을 토출한다. 노즐 헤드(231)는 복수 개 제공될 수 있다. 본 실시 예에서는 3 개의 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)가 제공된 예를 들어 설명하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 노즐 헤드(231)는 제 2 방향(Ⅱ)으로 일렬로 나란하게 배열될 수 있으며, 갠트리(211)에 결합된다.
일 예에 의하면, 노즐 헤드(231)의 저면에는 액정의 액적을 토출하는 복수 개의 노즐들(미도시)이 제공될 수 있다. 노즐들(미도시)은 일정 피치의 간격으로 일렬로 배치될 수 있다. 각각의 노즐 헤드(231)에는 노즐들(미도시)에 대응하는 수만큼의 압전 소자(미도시)가 제공될 수 있으며, 노즐(미도시)의 액적 토출량은 압전 소자(미도시)들에 인가되는 전압의 제어에 의해 각기 독립적으로 조절될 수 있다.
헤드 이동 부재(233)는 노즐 헤드(231)에 각각 제공될 수 있다. 본 실시 예의 경우, 3 개의 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)가 제공된 예를 들어 설명하므로, 헤드 이동 부재(233) 또한 노즐 헤드의 수에 대응하도록 3 개가 제공될 수 있다. 이와 달리 헤드 이동 부재(233)는 1 개 제공될 수 있으며, 이 경우 노즐 헤드(231)는 개별 이동이 아니라 일체로 이동될 수 있다. 헤드 이동 부재(233)는 노즐 헤드(231)를 갠트리의 길이 방향, 즉 제 2 방향(Ⅱ)으로 직선 이동시키거나, 제 3 방향(Ⅲ)으로 직선 이동시킬 수 있다.
처리액 저장부(235)는 헤드 이동 부재(233)에 설치되고, 노즐 헤드(231)에 공급하는 처리액이 저장된다. 처리액 저장부(235)는 제어기(250)의 제어에 따라 처리액을 노즐 헤드(231)로 공급한다. 처리액 저장부(235)는 노즐 헤드(231)로 일정한 양의 처리액을 공급하기 위해 내부에 처리액을 일정한 양으로 유지하여 저장한다.
제어기(250)는 헤드 이동 부재(233)에 설치되어 노즐 헤드(231)로의 처리액 공급, 처리액 저장부(235)의 압력, 각 노즐의 토출량, 그리고 이동 유닛(210)의 이동 방향, 이동 속도 등을 제어할 수 있다. 일 예에 의하면, 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)에 제공되는 각 노즐(미도시)마다 처리액 토출량을 조절할 수 있다. 제어기(250)는 공정 중에 일부 또는 전부의 노즐(미도시)의 토출량을 조절할 수 있다. 기판은 전계발광소자로 제공된다. 일 예로, 기판은 유기발광소자일 수 있다. 기판(S) 내부에는 각각 상이한 면적을 가지고, 처리액이 토출되는 복수개의 셀이 제공될 수 있다. 기판(S) 내부에 제공되는 복수개의 셀은 기판 처리 공정마다 상이한 개수, 크기 및 위치에 제공될 수 있다. 제어기(250)는 기판 처리 공정에 따라 셀의 개수, 크기, 위치, 처리액의 토출량, 토출 위치, 이동 유닛(210)의 이동속도, 이동방향 등의 정보를 제공받고, 제공된 정보에 따라 박막 형성부재(200)를 제어할 수 있다.
액 토출량 측정 유닛(300)은 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)의 액정 토출량을 측정한다. 구체적으로, 액 토출량 측정 유닛(300)은 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)마다 전부의 노즐(미도시)로부터 토출되는 액정 량을 측정한다. 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)의 액정 토출량 측정을 통해, 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)의 노즐(미도시)의 이상 유무를 거시적으로 확인할 수 있다.
노즐 헤드(231a, 231b, 231c)는 갠트리 이동 부재(213)와 헤드 이동 부재(233)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 액 토출량 측정 유닛(300)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 부재(233)는 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)를 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)와 액 토출량 측정 유닛(300)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.
검사 유닛(400)은 광학 검사를 통해 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)에 제공된 개별 액 토출구의 이상 유무를 확인한다. 액 토출량 측정 유닛(300)에서 거시적인 액 토출구의 이상 유무를 확인한 결과, 불특정의 액 토출구에 이상이 있는 것으로 판단된 경우, 검사 유닛(400)은 개별 액 토출구의 이상 유무를 확인하면서 액 토출구에 대한 전수 검사를 진행할 수 있다.
검사 유닛(400)은 베이스(B) 상의 지지 유닛(110) 일측에 배치될 수 있다. 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)는 갠트리 이동 부재(213)과 헤드 이동 부재(233)에 의해 제 1 방향(Ⅰ)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 이동되어 검사 유닛(400)의 상부에 위치할 수 있다. 헤드 이동 부재(233)는 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)를 제 3 방향(Ⅲ)으로 이동시켜 노즐 헤드(231a, 231b, 231c)와 검사 유닛(400)과의 상하 방향 거리를 조절할 수 있다.
세정 유닛(500)은 베이스(B) 상의 지지 유닛(110) 일측에 배치될 수 있다. 일 예에 의하면, 세정 유닛(500)은 검사 유닛(400)과 제 2 방향(Ⅱ)으로 나란히 위치할 수 있다. 세정 유닛(500)은 액을 분사한 노즐 헤드(231)를 세정한다.
이하, 상술한 기판 처리 장치를 이용하여 기판을 처리하는 과정을 설명한다. 먼저, 기판이 캐리어(150) 상에 로딩된다. 캐리어(150)의 흡착판(154)에 기판이 흡착되면, 조립 유닛(170)이 캐리어(150)와 기판을 조립한다. 이 후, 위치 조정 장치(158)는 흡착판(154) 상의 기판의 위치를 조정한다. 캐리어(150)는 제 1 하우징(10)의 지지판(110) 상으로 이송된다. 박막 형성부재는 캐리어(150) 상의 기판에 박막을 형성한다. 일 예로, 유기막을 형성할 수 있다. 기판 상에 액적이 도포되면, 캐리어(150)는 막의 두께 균일도 향상을 위해 대기한다. 이 후, 이송 로봇(30)은 캐리어(150) 상의 기판을 제 2 하우징(20)으로 이송한다. 제 2 하우징(20)에서는 자외선을 이용하여 경화 공정이 이루어진다. 경화 공정이 완료되면, 로딩/언로딩 유닛(160)은 캐리어(150) 상에서 기판을 언로딩한다. 이러한 공정이 진행되는 동안, 기판은 캐리어(150) 상에 흡착되고, 캐리어(150) 자체가 이송되므로, 기판은 외부로부터 외력 및 충돌에 의한 박막 두께 균일도 저하를 방지할 수 있다. 또한, 로딩, 프린팅, 레벨링, 그리고 경화 장치가 포함되는 기판 처리 장치의 경우, 각 공정 챔버 간의 반송 메커니즘이 상이하게 제공되는 경우에도 기판을 안정적으로 이송할 수 있다. 일 예로, 기판 처리 장치가 리니어 모터(Linear Motor)를 포함하는 이송 메커니즘 및 센서부를 포함하는 이송 메커니즘(LMS;Multiple Position Sensors)을 포함하는 경우에도, 기판은 캐리어에 흡착되어 외력에 관계없이 안정적으로 이송될 수 있다. 이와 달리, 복수 개의 다양한 이송 메커니즘을 포함하는 기판 처리 장치 내에서도 기판은 안정적으로 이송될 수 있다.
이상에서, 상술한 기판 처리 장치는 제 1 하우징 및 제 2 하우징을 포함하는 기판 처리 장치로 설명하였다. 그러나, 이와 달리, 기판 처리 장치는 셋 이상의 다양한 챔버를 갖는 기판 처리 장치일 수 있다. 또한, 셋 이상의 다양한 챔버를 갖는 기판 처리 장치의 경우, 인라인 형태의 기판 처리 장치 및 클러스터 형태의 기판 처리 장치 모두에 적용될 수 있다. 또한, 상술한 기판 처리 장치는 캐리어가 이송 로봇에 의해 이송되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 이와 달리, 캐리어는 이송 레일 등에 의해 이송될 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
1: 기판 처리 장치 10: 제 1 하우징
20: 제 2 하우징 30: 이송 로봇
100: 하우징 110: 지지 유닛
150: 캐리어 200: 박막 형성부재
210: 이동 유닛 230: 노즐 유닛
250: 제어기 300: 액 토출량 측정 유닛
400: 검사 유닛 500: 세정 유닛

Claims (14)

  1. 기판 처리 장치에 있어서,
    제 1 하우징;
    상기 제 1 하우징과 인접하게 배치되는 제 2 하우징;
    상기 제 1 하우징 내에서 기판을 지지하는 지지 유닛;
    상기 제 1 하우징 내에 배치되고 상기 지지 유닛 상의 기판 상에 박막 형성 공정을 수행하는 박막 형성부재;
    상기 기판을 흡착하는 캐리어; 및
    상기 캐리어를 상기 제 1 하우징과 상기 제 2 하우징 사이로 이송하는 이송 로봇을 포함하고,
    상기 박막 형성부재는 잉크젯 방식으로 박막을 형성하고,
    상기 제 2 하우징에서는 상기 박막 형성 공정이 완료된 상기 기판에 대해 경화 공정이 진행되고,
    상기 기판은 상기 캐리어의 상기 흡착판에 부착된 상태로 상기 이송 로봇에 의해 상기 제 1 하우징 및 상기 제 2 하우징까지 이동되는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 박막 형성부재는,
    상기 기판으로 처리액을 토출하는 복수 개의 노즐;
    상기 복수 개의 노즐에 상기 처리액을 공급하는 노즐 헤드; 그리고
    상기 노즐과 상기 지지 유닛의 상대 위치가 변경되도록 상기 노즐 또는 상기 지지 유닛을 이동시키는 이동 유닛을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 캐리어는,
    상기 기판을 흡착하는 흡착판; 및
    상기 캐리어를 상기 이송로봇에 흡착시키는 부착부를 포함하는 기판 처리 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 흡착판은 다공성 세라믹 재질로 제공되는 기판 처리 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는,
    상기 캐리어로 상기 기판이 로드 또는 상기 캐리어에서 상기 기판이 언로딩되도록 제어하는 로딩/언로딩 유닛; 및
    상기 캐리어와 상기 기판이 흡착되도록 조립하는 조립 유닛을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 캐리어는 상기 흡착판에 흡착되는 기판의 위치를 조정하는 위치 조정 장치를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제 1 항 내지 제 4 항, 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판은 전계 발광 소자인 기판 처리 장치.
  10. 기판 상에 박막을 봉지하는 기판 처리 방법에 있어서,
    제 1 하우징 내에서 기판 상에 박막을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 하우징에 인접하게 배치되는 제 2 하우징 내에서 상기 박막이 형성된 기판을 경화하는 단계를 포함하되,
    상기 박막은 잉크젯 방식으로 형성되고,
    상기 기판은 상기 기판을 흡착하는 캐리어에 부착된 상태로 이송 로봇에 의해 이동되어 상기 박막을 형성하는 단계 및 상기 기판을 경화하는 단계를 수행하는 기판 처리 방법.
  11. 삭제
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 박막을 형성하는 단계 전에, 상기 기판이 상기 캐리어에 부착된 상태로 상기 제 1 하우징에 반입되는 단계를 더 포함하는 기판 처리 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 흡착판은 다공성 세라믹 재질로 제공되는 기판 처리 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 캐리어는 상기 흡착판에 흡착되면, 상기 흡착판 상의 상기 기판의 위치를 조정하는 조정 단계를 더 포함하는 기판 처리 방법.
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