KR102161058B1 - 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법 - Google Patents

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Abstract

광학검출장치 및 측정오차의 보정방법이 개시된다. 개시된 광학검출장치는 시료 카트리지의 검출챔버들을 스캔하여 측정하는 장치로서, 검출챔버들에 광들을 조사하는 광원들을 구비한 광원부; 및 검출챔버들에 조사된 광들을 검출하는 광검출기;를 포함하며, 광원들은 검출챔버들의 검체를 측정하는데 사용되는 주파장 광원들과, 측정오차를 보정하는데 사용되는 부파장 광원을 포함하며, 주파장 광원들과 부파장 광원은 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인을 따라 배열된다.

Description

광학검출장치 및 측정오차의 보정방법{Optical detection apparatus and method of compensating detection error}
본 발명은 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 스캔 방식의 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법에 관한 것이다.
환경 모니터링, 식품 검사, 의료 진단 등 다양한 분야에서 신속하고 정확한 현장검사의 필요성이 나날이 커지고 있다. 가령, 의료 진단에 있어서 일회용 카트리지를 사용하는 현장 검사(Point-of-care: POC) 혈액분석장치에 대한 의존도가 높아지고 있으며, 신속하고 정확한 혈액검사를 가능하게 하는 소형 POC 혈액 분석 장치에 대한 연구개발이 전 세계적으로 활발히 이루어지고 있다. 일 예로, 현장검사를 위한 랩온어칩(Lab-on-a-Chip) 기반 혈액 분석기에 있어서 소형화, 경량화, 다항목 동시검사 지원이 매우 중요한 요소이다. 따라서 랩온어칩 형태의 시료 카트리지에 다수의 검출챔버를 구비할 필요가 있고, 이러한 시료 카트리지에 대한 광학검출장치에 있어서도 다파장 검출 지원 및 스캔 기능이 요구된다.
이러한 현장검사를 위한 측정장치로 광학검출장치가 유용하다. 종래의 광학검출장치는 시료 카트리지를 스캔하는 광원부와 검출챔버에 조사된 광들을 검출하는 광검출기로 이루어진다. 다파장 검사를 위해 광원부에는 서로 다른 파장의 주파장 광원들이 마련될 수 있으며, 검출챔버의 검체특성, 이물, 및 기포 등에　의한 오차를 보정하기 위한 부파장 광원으로 사용된다. 가령, 종래의 광학검출장치의 광원부는 2개의 주파장 광원과 하나의 부파장 광원이 삼각형의 꼭지점 위치에 배치되어 있는바, 이들 광원들에 의해 조사되는 위치가 달라져 측정오차를 보정하는데 제한이 따른다.
상기와 같은 스캔 방식의 다파장 광학검출시 측정오차를 보정할 수 있는 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 광학검출장치는 시료 카트리지의 검출챔버들을 스캔하여 측정하는 장치로서, 상기 검출챔버들에 광들을 조사하는 광원들을 구비한 광원부; 및 상기 검출챔버들에 조사된 광들을 검출하는 광검출기;를 포함하며, 상기 광원들은 검출챔버들의 검체를 측정하는데 사용되는 주파장 광원들과, 측정오차를 보정하는데 사용되는 부파장 광원을 포함하며, 상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원은 상기 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인을 따라 배열된다.
상기 주파장 광원들은 복수의 라인들에 배열되고, 각 라인마다 상기 부파장 광원이 배치되어, 상기 복수의 라인들 중 어느 한 라인에 위치한 상기 주파장 광원들에서 조사된 광들에 의해 검출된 측정신호는 동일한 라인상에 위치한 상기 부파장 광원에서 조사된 광에 의해 검출된 측정신호로 보정될 수 있다.
상기 부파장 광원은 상기 라인의 중앙부에 위치하고 상기 주파장 광원들은 상기 부파장 광원의 양쪽에 위치할 수 있다.
상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원은 등간격으로 배치될 수 있다.
상기 시료 카트리지는 상기 검출챔버들이 하나 혹은 복수의 열로 직선 배열된 카드형 카트리지 형상을 가지며, 상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원이 배열된 라인은 하나 혹은 복수의 직선 라인일 수 있다.
상기 시료 카트리지는 상기 검출챔버들이 하나 혹은 복수의 열로 원주상에 배열된 디스크형 카트리지 형상을 가지며, 상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원이 배열된 라인은 하나 혹은 복수의 원호 라인일 수 있다.
상기 시료 카트리지의 검출챔버들은 제1 열로 배열된 제1 검출챔버들과 제2 열로 배열된 제2 검출챔버들을 포함하며, 상기 광원부는 상기 제1 검출챔버들에 광들을 조사하는 제1 광원들을 구비한 제1 광원 어레이와, 제2 열로 배열된 제2 검출챔버들에 광들을 조사하는 제2 광원들을 구비한 제2 광원 어레이를 포함하며, 상기 제1 광원들은 상기 제1 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인을 따라 배열되며, 상기 제2 광원들은 상기 제2 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인을 따라 배열될 수 있다.
상기 제1 광원 어레이가 상기 제1 열의 어느 한 제1 검출챔버의 중앙에 광들을 조사하도록 배치될 때, 상기 제2 광원 어레이는 상기 제2 열의 어느 한 제2 검출챔버의 중앙에서 벗어난 위치에 광들을 조사하도록 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 제1 열의 제1 검출챔버들의 검출과 상기 제2 열의 제2 검출챔버들의 검출은 시간차를 두고 행해질 수 있다.
상기 제1 광원 어레이의 주파장과 상기 제2 광원 어레이의 주파장은 서로 다른 대역일 수 있다.
상기 광검출기는 상기 검출챔버들을 사이에 두고 상기 광원부와 대향되게 배치되어 상기 검출챔버들을 투과한 광들의 흡수도를 측정할 수 있다.
상기 측정오차는 검출챔버 내의 검체 특성, 이물, 및 기포 중 적어도 어느 하나에 의한 오차일 수 있다.
상기 광원부에서 출사된 광들의 광속을 제한하는 개구를 구비하는 광속제한부재가 더 마련될 수 있다. 상기 개구는 상기 광원부보다 검출챔버 쪽에 더 가깝도록 배치될 수 있다. 상기 개구는 상기 검출챔버의 어느 하나의 검출챔버의 사이즈보다 작은 사이즈를 가질 수 있다.
상기 주파장 광원들의 측정결과는 동일한 지점에서의 상기 부파장 광원의 측정결과를 이용하여 보정될 수 있다.
상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원의 구동 타이밍에 시간차를 주어 상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원의 조사위치의 차이를 보상할 수 있다.
상기 주파장 광원들의 파장대역은 검체 농도에 따라 광학특성의 차이를 보이는 대역이고, 상기 부파장 광원의 파장대역은 검체 농도와 무관하게 일정한 광학특성을 보이는 대역일 수 있다.
상기 주파장 광원들의 파장대역은 서로 다를 수 있다.
상기 광원들은 펄스 구동되며, 상기 광검출기는 상기 광원들의 펄스 구동에 동기되어 시간 분할 방식으로 상기 검출챔버들에 조사된 광들을 검출할 수 있다.
상기 광원들은 발광다이오드 혹은 레이저 다이오드일 수 있다.
상기 광원부는 광량 모니터링 및 보정을 수행하기 위한 모니터링 포토 다이오드를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따른 측정오차의 보정방법은 검출챔버들을 순차적으로 스캔하여 측정하는 광학검출장치의 측정오차를 보정하는 방법으로서, 검출챔버들의 검체를 측정하는데 사용되는 주파장 광원들과, 측정오차를 보정하는데 사용되는 부파장 광원을 상기 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인상에 배치하는 단계; 상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원이 상기 검출챔버들에 광들을 조사하는 단계; 광검출기가 상기 검출챔버들에 조사된 광들을 검출하는 단계; 및 상기 주파장 광원들에서 조사된 광들에 의해 검출된 측정신호를 상기 주파장 광원들이 배열된 라인상에 위치한 상기 부파장 광원에서 조사된 광에 의해 검출된 측정신호로 보정하는 단계;를 포함한다.
상기 주파장 광원들을 복수의 라인들에 배치하고, 각 라인마다 상기 부파장 광원을 배치하며, 상기 복수의 라인들 중 어느 한 라인에 위치한 상기 주파장 광원들에서 조사된 광들에 의해 검출된 측정신호는 동일한 라인상에 위치한 상기 부파장 광원에서 조사된 광에 의해 검출된 측정신호로 보정할 수 있다.
상기 주파장 광원들 및 상기 부파장 광원의 조사위치의 차이를 보상하는 단계가 더 포함될 수 있다. 상기 주파장 광원들 및 상기 부파장 광원의 조사위치의 차이는 상기 주파장 광원들 및 상기 부파장 광원의 구동 타이밍에 시간차를 두어 보상할 수 있다.
일 실시예에 의한 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법은 복수의 파장의 광원들을 집적된 어레이형태로 배치함으로써 광원부의 소형화와 다파장 검사가 동시에 가능하다.
일 실시예에 의한 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법은 작은 랩온어칩 카트리지에 검출챔버들을 촘촘하게 2차원 어레이 형태로 배치함으로써 다항목 동시검사를 제공할 수 있다.
일 실시예에 의한 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법은 주파장 광원들과 부파장 광원의 배치를 스캔 라인을 따라 정렬하여 검체특성, 이물, 및 기포 등에 오차 보정을 정확하게 할 수 있도록 한다.
일 실시예에 의한 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법은 소형화, 경량화, 다항목 동시검사 지원이 가능한 소형 임상 화학 검사기, 예를 들어 랩온어칩 기반 POC 혈액 분석기에 활용 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학검출장치의 개략적인 구성을 도시한다.
도 2는 도 1의 광학검출장치의 광원부를 도시한다.
도 3은 도 1의 광학검출장치의 시료 카트리지를 도시한다.
도 4는 도 1의 광원부의 배치와 스캔 라인의 관계를 도시한다.
도 5는 도 2의 광원부에서 조사된 광들이 시료 카트리지의 검출챔버에 맺힌 빔 스폿들을 도시한다.
도 6a 및 도 6b는 도 2의 광원부에서 조사된 광들에 의한 검출신호들의 보정을 설명하는 도면이다.
도 7a 내지 도 7d은 도 1의 광학검출장치에 채용될 수 있는 광원부의 변형례들을 도시한다.
도 8은 또 다른 실시예에 따른 광학검출장치의 시료 카트리지를 도시한다.
도 9는 도 8의 시료 카트리지에 상응하는 광학검출장치의 광원부를 도시한다.
도 10은 도 9의 광원부의 배치와 스캔 라인의 관계를 도시한다.
도 11은 또 다른 실시예에 따른 광학검출장치를 개략적으로 도시한다.
도 12는 도 11의 광학검출장치의 시료 카트리지를 도시한다.
도 13은 도 11의 광학검출장치의 광원부를 도시한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 각 구성요소의 크기나 두께는 설명의 명료성을 위하여 과장되어 있을 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학검출장치(100)의 개략적인 구성을 도시하며, 도 2는 도 1의 광학검출장치(100)의 시료 카트리지(190)를 도시하며, 도 3은 도 1의 광학검출장치(100)의 광원부(110)를 도시한다.
도 1을 참조하면, 본 실시예의 광학검출장치(100)는 시료 카트리지(190)에 광을 스캔하는 광원부(110)와, 시료 카트리지(190)를 통과한 광을 검출하는 광검출기(130)와, 광원부(110)와 광검출기(130)를 제어하는 제어부(150)를 포함한다. 광원부(110)와 광검출기(130)는 서로 대향되게 배치되며, 그 사이에 시료 카트리지(190)가 삽입된다. 광원부(110) 및 광검출기(130)는 미도시된 구동장치에 의하여 함께 이동하면서 시료 카트리지(190)를 스캔한다. 즉, 광원부(110) 및 광검출기(130)는 일체로 기구적 구동을 하는 광학스캐닝부(140)를 구성한다. 다른 실시예로, 광원부(110) 및 광검출기(130)가 고정된 상태로 시료 카트리지(190)가 이동되면서 스캔될 수도 있다.
도 2를 참조하면, 광원부(110)는 시료 카트리지(190)에 광(L)을 조사하는 유닛으로서, 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)을 포함할 수 있다. 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112)과, 제1 부파장 광원(115)은 광원부(110)의 실장면(119)상에서 스캔 라인(199)을 따라 직선 라인상에 제1 열로 배열된다. 스캔 라인(199)은 광원부(110)가 시료 카트리지(190)를 스캔하는 라인으로서, 직선일 수 있다. 제1 부파장 광원(115)은 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112)의 사이에 배치될 수 있다. 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112) 및 제1 부파장 광원(115)은 제1 열 상에서 등간격으로 배치될 수 있다. 마찬가지로, 제3 및 제4 주파장 광원(113, 114)과, 제2 부파장 광원(116) 역시 광원부(110)의 실장면(119)상에서 스캔 라인(199)을 따라 직선 라인상에 제2 열로 배열되며, 제2 부파장 광원(116)은 제3 및 제4 주파장 광원(113, 114)의 사이에 배치될 수 있다. 제3 및 제4 주파장 광원(113, 114) 및 제2 부파장 광원(116) 역시 제2 열 상에서 등간격으로 배치될 수 있다. 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112)과, 제1 부파장 광원(115)이 배열된 제1 열과 제3 및 제4 주파장 광원(113, 114)과, 제2 부파장 광원(116)이 배열된 제2 열은 서로 평행하다. 도 2에는 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)이 2열 3행으로 열을 맞추어 배치된 구성을 도시하고 있으나, 이에 한정되지 않는다. 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)이 엇갈리게 2열로 배치될 수도 있다.
제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)으로 선폭이 넓은 광원과 특정 파장대역의 광만을 투과시키는 대역통과(band pass) 광학필터의 조합이 사용될 수 있다. 대역통과 광학필터 대신에 광학격자에 기반한 스펙트로미터가 사용될 수도 있다. 다른 예로서, 필터나 스펙트로미터없이 해당 파장대역의 광을 방출하는 선폭이 좁은 광원이 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)에 사용될 수도 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)은 발광다이오드(Light emitting diode, LED)나 레이저 다이오드(Laser diode, LD)일 수 있다.
제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)은 하나로 모듈로 패키징될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)이 LED칩이나 LD칩인 경우, COB(Chip-on-Board) 형태로 패키징되거나 TO CAN 형태로 패키징되어 광원부(110)를 구성할 수 있다.
제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)은 시료 카트리지(190)의 시약반응을 분석하는데 사용된다. 가령, 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)은 시료 카트리지(190)의 검체농도에 따라 광학특성의 차이를 보이거나 시료 카트리지(190)의 시약반응에 따라 흡광도 변화가 발생되는 파장대역의 광을 방출한다. 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)의 파장대역은 서로 다른 대역을 가져, 시료 카트리지(190)에 담긴 검체에 대해 복수의 파장에 대한 광학특성를 동시에 측정함으로써 다항목 동시검사를 제공할 수 있다. 다른 예로서, 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114) 전부 혹은 일부의 파장대역이 서로 같을 수도 있다.
제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)은 시료 카트리지(190)의 검체농도와 무관하게 일정한 광학특성을 보이거나 시료 카트리지(190)의 시약반응에 따른 흡광도 변화가 없는 파장대역의 광을 방출한다. 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)의 파장대역은 같거나 혹은 서로 다를 수 있다. 제1 부파장 광원(115)은 제1 부파장 광원(115)이 속한 열에 위치한 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112)과 관련된 측정 결과에서 발생되는 오차를 보정하는데 사용된다. 마찬가지로, 제2 부파장 광원(116)은 제2 부파장 광원(116)이 속한 열에 위치한 제3 및 제4 주파장 광원(113, 114)과 관련된 측정 결과에서 발생되는 오차를 보정하는데 사용된다.
광원부(110)에는 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)의 광출력을 모니터링하는 광량검출센서(118)를 더 포함할 수 있다. 광량검출센서(118)는 포토다이오드일 수 있다. 이러한 광량검출센서(118)는 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)이 하나로 모듈로 패키징되는 경우, 함께 패키징될 수 있다.
다시 도 1을 참조하면, 광검출기(130)는 시료 카트리지(190)에 조사된 광(L)을 검출하는 유닛이다. 이러한 광검출기(130)는 포토다이오드, 이미지센서와 같은 수광소자일 수 있다.
광학스캐닝부(140)는 광원부(110)와 시료 카트리지(190) 사이에 개재되는 광속제한부재(120)를 더 포함할 수 있다. 광속제한부재(120)는 하나의 개구(aperture)(121)를 포함한다. 광속제한부재(120)의 개구(121)는 시료 카트리지(190)의 검출챔버(192)의 사이즈보다 작은 사이즈를 갖는다. 나아가, 광속제한부재(120)의 개구(121)는 핀홀(pinhole)일 수 있다. 광속제한부재(120)의 개구(121)는 광원부(110)보다 시료 카트리지(190)에 좀 더 가깝게 배치될 수 있다. 광속제한부재(120)는 광원부(110)의 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)에서 출사된 광들(L)이 시료 카트리지(190)의 어느 한 검출챔버(192)에만 조사될 수 있도록 한다. 광속제한부재(120)의 개구(121)가 핀홀과 같이 작은 경우, 별도의 렌즈 없이도 광원부(110)에서 방출된 광들(L)은 서로 분리된 상태로 시료 카트리지의 검출챔버(192)에 조사된다.
도 3을 참조하면, 시료 카트리지(190)는 평판형 케이스(191)의 일측에 복수의 검출챔버(192)들이 배열된 카드형 카트리지 형상의 랩온어칩일 수 있다. 검출챔버(192)들에는 시료(즉, 검체)가 담긴다. 복수의 검출챔버(192)들은 일직선상으로 배열될 수 있다. 또한, 시료 카트리지(190)는 유체형태의 시료를 미세유로를 통해 검출챔버(192)들에 가두는 미세유로장치를 채용할 수 있다. 본 실시예의 광학검출장치(100)는 환경 모니터링, 식품 검사, 의료 진단 등 다양한 분야에 사용될 수 있으며, 사용분야에 따라 시료는 달라질 수 있다. 예를 들어 시료는 혈액과 같은 유체일 수 있다.
본 실시예의 광학검출장치(100)는 시료 카트리지(190)가 고정된 상태에서 미도시된 구동장치에 의하여 광원부(110)와 광검출기(130)가 시료 카트리지(190)의 복수의 검출챔버(192)들이 배열된 방향으로, 즉 스캔 라인(199)을 따라, 이동하면서 복수의 검출챔버(192)들을 순차적으로 스캔한다. 다른 예로, 광학검출부(110)가 고정된 상태에서 시료 카트리지(190)가 이동하여 시료 카트리지(190)의 복수의 검출챔버(192)들이 광학검출부(110)의 광원부(110)가 조사되는 조사영역을 순차적으로 지나가도록 구성될 수도 있을 것이다. 어느 경우에나, 복수의 검출챔버(192)들이 배열된 직선은 광원부(110)이 복수의 검출챔버(192)들을 스캔하는 스캔 라인(199)으로 이해될 수 있다.
도 4, 도 5, 도 6a 및 도 6b를 참조하여 본 실시예의 광학검출장치(100)에서의 측정오차의 보정방법을 설명한다.
도 4는 본 실시예의 광학검출장치(100)에서 광원부(110)의 배치와 스캔 라인(199)의 관계를 도시한다. 도 5는 광원부(110)에서 조사된 광들(L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2)이 동시에 조사되었을 때 시료 카트리지(190)의 검출챔버(192)에 맺히는 빔 스폿들을 도시한다. 도 6a 및 도 6b는 광원부(110)에서 조사된 광들에 의한 검출신호들의 보정을 설명하는 도면이다. 참조기호 L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2는 각각 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)에서 방출된 광을 나타낸다.
시료 카트리지(190)가 광학검출장치(100)에 삽입되면, 도 4에 도시되듯이 광원부(110)는 시료 카트리지(190)의 검출챔버(192)들이 배열된 방향을 따라 이동하면서 구동되어 광들(L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2)을 방출한다. 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)에서 방출된 광들(L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2)은 광속제한부재(120)의 개구(121)를 거쳐 시료 카트리지(190)의 어느 한 검출챔버(192)에 조사되고, 검출챔버(192)를 통과한 광들(L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2)은 광검출기(130)로 입사된다. 전술한 바와 같이 광학스캐닝부(140)(또는 시료 카트리지(190))가 스캔 라인(199)을 따라 이동하면서, 시료 카트리지(190)의 복수의 검출챔버(192)들은 순차적으로 스캔된다. 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)은 펄스 형태로 시간 분할 방식으로 구동되고 구동 펄스에 동기되어 광검출기(130)가 검출함으로써 광들(L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2)의 검출신호가 서로 분리될 수 있다.
만일 제1 내지 제4 주파장 광원(111, 112, 113, 114)과, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)가 동시에 구동된다면, 도 5에 도시되듯이 광속제한부재(도 1의 120)의 개구(121)를 통과한 광들(L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2)은 하나의 검출챔버(192)상에서 서로 다른 위치에 조사되어 스폿이 맺힌다. 따라서, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)에 의한 보정에 앞서서 검출챔버(192)에 조사되는 광들(L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2)의 조사위치를 보상할 필요가 있다.
도 6a는 제1 열의 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112) 및 제1 부파장 광원(115)에서 조사되는 광들(L1, L2, Lc1)의 조사위치를 보상하기 전의 광검출기(130)에 의해 검출된 스캔데이터이며, 제1 열의 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112) 및 제1 부파장 광원(115)에서 조사되는 광들(L1, L2, Lc1)의 조사위치를 보상한 후의 광검출기(130)에 의해 검출된 스캔데이터이다. 도 6a에서 볼 수 있듯이, 제1 열의 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112) 및 제1 부파장 광원(115)에서 방출된 광들(L1, L2, Lc1)은 조사위치가 서로 다른 바, 광원부(110)의 이동을 고려할 때, 스캔 라인(199)상의 위치차는 Δt의 시간차로 환산될 수 있다. 따라서, 제1 열의 중간에 위치한 제1 부파장 광원(115)의 구동시점을 기준으로, 제1 주파장 광원(111)의 구동시점에 +Δt를 부가하여 Δt만큼 느리게 구동하고, 제2 주파장 광원(112)의 구동시점에 -Δt만큼 감하여 Δt만큼 빠르게 구동함으로써, 도 6b에 도시되듯이 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112) 및 제1 부파장 광원(115)에서 방출된 광들(L1, L2, Lc1)의 스캔 데이터를 시간축 상에서 정확하게 중첩시킬 수 있다. 한편, 검출챔버(192)의 검체특성, 이물, 및 기포 등에　의해 검출신호에는 오차가 발생될 수 있다. 제1 부파장 광원(115)은 시료 카트리지(190)의 검체농도와 무관하게 일정한 광학특성을 보이거나 시료 카트리지(190)의 시약반응에 따른 흡광도 변화가 없는 파장대역의 광(Lc1)을 방출하므로, 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112)의 광들(L1, L2)에 의한 검출신호에 대해 제1 부파장 광원(115)의 광(Lc1)에 의한 검출신호의 차를 구하면 검출챔버(192)의 검체특성, 이물, 및 기포 등에　의한 오차가 제거될 수 있다. 즉, 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112) 및 제1 부파장 광원(115)의 구동 타이밍에 오프셋을 주어 조사위치의 보상을 함으로써 제1 열의 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112) 및 제1 부파장 광원(115)에서 방출된 광들(L1, L2, Lc1)이 동일 위치에서 검출챔버(192)를 조사하도록 하고, 나아가 제1 부파장 광원(115)의 검출신호를 이용하여 제1 및 제2 주파장 광원(111, 112)의 검출신호에 들어 있는 검출챔버(192)의 검체특성, 이물, 및 기포 등에　의한 오차를 보정한다. 마찬가지로, 제2 열의 제3 및 제4 주파장 광원(113, 114) 및 제2 부파장 광원(116)의 구동 타이밍에 오프셋을 주어 조사 위치를 동일위치로 한 뒤 제2 부파장 광원(116)을 이용하여 제2 열의 제3 및 제4 주파장 광원(113, 114)에서 조사된 광들(L3, L4)의 검출신호에서의 오차를 보정한다.
본 실시예에서 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)은 제1 및 제2 열에서 중간에 위치한 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 가령, 제1 및 제2 부파장 광원(115, 116)은 제1 및 제2 열에서 맨앞 혹은 맨뒤에 위치할 수도 있다.
전술한 실시예는 광원부(110)의 광원들이 2열 배열되며 각 열마다 2개씩의 주파장 광원이 배열된 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 도 7a 내지 도 7d는 광원부(110)의 다양한 변형예들을 도시한다. 도 7a 내지 도 7d에 도시되듯이, 광원부(110)의 실장면(119) 상에서 주파장 광원들(S1)과 부파장 광원(S0)은 스캔 라인(199)을 따라 1열 혹은 복수열로 배치될 수 있으며, 복수열인 경우 2차원 행렬 형태로 배치될 수 있다. 주파장 광원들(S1)과 부파장 광원(S0)은 각 열에서 등간격으로 배치된다. 주파장 광원들(S1)과 부파장 광원(S0)이 복수열로 배치되는 경우, 각 열마다 하나의 부파장 광원(S0)이 배치된다. 이때 부파장 광원(S0)은 각 열마다 중앙에 배치되고, 주파장 광원들(S1)은 부파장 광원(S0)의 양쪽에 배치될 수 있다. 부파장 광원(S0)은 각 열에서 중앙 이외의 다른 위치에 배치될 수도 있음은 물론이다. 또한, 주파장 광원들(S1)은 모두 다른 파장대역을 갖거나 혹은 적어도 일부가 같은 대역의 파장대역을 가질 수도 있다. 주파장 광원들(S1)의 개수는 본 실시예를 한정하지 않는다. 본 실시예는 부파장 광원(S0)이 각 열마다 하나씩 배치된 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 두 개 이상 배치되는 경우를 배제하지 않는다. 광량 모니터링 및 보정을 위해 광량검출센서(118)가 추가적으로 구비될 수 있다.
도 8은 또 다른 실시예에 따른 광학검출장치의 시료 카트리지(290)를 도시하며, 도 9는 도 8의 시료 카트리지에 상응하는 광학검출장치의 광원부(210)를 도시하며, 도 10은 도 9의 광원부(210)의 배치와 스캔 라인(299)의 관계를 도시한다.
도 8을 참조하면, 시료 카트리지(290)는 평판형 케이스(291)의 일측에 제1 및 제2 검출챔버(292, 293)들이 2열로 배열된 카드형 카트리지 형상의 랩온어칩일 수 있다. 케이스(291)의 타측에는 시료가 주입되는 삽입부(295)가 마련될 수 있다. 제1 열의 제1 검출챔버(292)들과 제2 열의 제2 검출챔버(293)들은 서로 평행하게 일직선으로 배열된다. 또한, 제1 및 제2 검출챔버(292, 293)들은 각각의 열에서 등간격으로 배열될 수 있다. 나아가, 제1 열의 제1 검출챔버(292)들과 제2 열의 제2 검출챔버(293)들은 서로 엇갈리게 배열될 수 있다. 후술하는 바와 같이 제1 검출챔버(292)들의 제1 열의 라인은 제1 스캔 라인(298)에 해당되며, 제2 검출챔버(293)들의 제2 열의 라인은 제2 스캔 라인(299)에 해당된다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 광원부(210)는 상기 시료 카트리지(290)의 제1 및 제2 검출챔버(292, 293)들의 2열에 대응하여, 제1 및 제2 광원 어레이(210A, 210B)를 포함한다. 광원부(210)의 제1 및 제2 광원 어레이(210A, 210B) 각각은 도 1 내지 도 7을 참조하여 설명한 광학검출장치에서의 광원부(110) 혹은 이의 변형례들일 수 있다. 즉, 제1 및 제2 광원 어레이(210A, 210B) 각각에 있어서 주파장 광원들은 제1 및 제2 스캔 라인(298, 299)을 따라 1열 혹은 복수열로 배열되며, 각 열마다 하나의 부파장 광원이 배치된다. 제1의 광원 어레이(210A)의 주파장 광원들과 제2 광원 어레이(210A, 210B)의 주파장 광원들은 서로 동일한 파장대역 혹은 다른 파장대역의 광을 방출할 수 있다. 제1 및 제2 광원 어레이(210A, 210B) 각각은 COB , TO CAN, 그밖의 공지의 형태로 패키징되어 있을 수 있다.
제1 광원 어레이(210A)는 제1 스캔 라인(298)을 따라 이동하면서 제1 검출챔버(292)들을 스캔하는데 사용되며, 제2 광원 어레이(210B)는 제2 스캔 라인(299)을 따라 이동하면서 제2 검출챔버(293)들을 스캔하는데 사용된다. 제1 광원 어레이(210A)가 제1 검출챔버(292)의 중앙에 광들을 조사하도록 배치할 때 제2 광원 어레이(210B)는 제2 검출챔버(293)의 중앙에서 벗어난 위치에 광들을 조사하도록 배치될 수 있으며, 이 경우 제1 열의 제1 검출챔버(292)들의 검출신호와 제2 열의 제2 검출챔버(293)들은 검출신호는 시간차를 두고 검출될 수 있다.
본 실시예의 광학검출장치에는 미도시된 광검출기가 광원부(210)의 제1 및 제2 광원 어레이(210A, 210B) 각각에 대응하여 하나씩 마련될 수 있다. 본 실시예의 광학검출장치는 시료 카트리지(290)의 제1 및 제2 검출챔버(292, 293)들의 2열 배열에 대응되는 제1 및 제2 스캔 라인(298, 299)을 갖는다는 점을 제외하고는 도 1 내지 도 7을 참조하여 설명한 광학검출장치와 실질적으로 동일하므로 반복되는 설명은 생략한다.
도 8 내지 도 10을 참조하여 설명한 실시예는 2개의 스캔 라인을 갖는 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 3개 이상의 스캔 라인을 갖는 경우에도 그대로 적용될 수 있음은 물론이다.
도 11은 또 다른 실시예에 따른 광학검출장치(300)을 개략적으로 도시하며, 도 12는 도 11의 광학검출장치(300)의 시료 카트리지(390)를 도시하며, 도 13은 도 11의 광학검출장치(300)의 광원부(310)를 도시한다.
도 11을 참조하면, 본 실시예의 광학검출장치(300)는 시료 카트리지(390)에 광을 스캔하는 광원부(310)와, 시료 카트리지(390)를 통과한 광을 검출하는 광검출기(330)와, 시료 카트리지(390)를 구동하는 구동부(340)와, 광원부(310), 광검출기(330) 및 구동부(340)를 제어하는 제어부(350)를 포함한다. 광원부(310)와 시료 카트리지(390) 사이에는 광속제한부재(320)가 추가적으로 개재될 수 있다.
광원부(310)와 광검출기(330)는 서로 대향되게 배치되며, 그 사이에 시료 카트리지(390)가 삽입된다. , 광원부(310)와 광검출기(330)가 고정된 상태로 시료 카트리지(390)가 회전하면서 스캔된다.
도 12를 참조하면, 시료 카트리지(390)는 디스크형 기판(391)의 가장자리 쪽에 복수의 검출챔버(392)들이 원주상에 배열된 디스크형 카트리지 형상의 랩온어씨디(Lab-on-a-CD)일 수 있다. 또한, 시료 카트리지(390)는 유체형태의 시료를 미세유로를 통해 검출챔버(392)들에 가두는 미세유로장치를 채용할 수 있다. 검출챔버(392)들에는 시료가 담긴다. 시료 카트리지(390)가 광원부(310)와 광검출기(330) 사이에 삽입된 상태로 회전하게 되면, 시료 카트리지(390)의 검출챔버(392)들이 광원부(310)와 광검출기(330) 사이를 지나가면서 스캔된다. 따라서, 복수의 검출챔버(392)들이 배열된 원주 라인은 광원부(310)가 복수의 검출챔버(392)들을 스캔하는 스캔 라인(399)으로 이해될 수 있다.
도 13을 참조하면, 광원부(310)는 시료 카트리지(390)에 광을 조사하는 유닛으로서, 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)과, 부파장 광원(315)을 포함할 수 있다. 광원부(310)에는 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)과, 부파장 광원(315)의 광출력을 모니터링하는 광량검출센서(318)를 더 포함할 수 있다.
제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)과, 부파장 광원(315)은 광원부(310)의 실장면(319)상에서 스캔 라인(399)을 따라 일 열로 배열된다. 스캔 라인(399)은 광원부(310)가 시료 카트리지(390)를 스캔하는 라인으로서 원호와 같은 곡선 라인일 수 있다. 스캔 라인(399)의 곡률이 충분히 작다면 스캔 라인(399)은 직선으로 간주될 수도 있다. 부파장 광원(315)은 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)의 사이에 배치될 수 있다. 바람직하게는 부파장 광원(315)은 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)의 중앙, 즉 제1 및 제2 주파장 광원(311, 312)과 제3 및 제4 주파장 광원(313, 314) 사이에 배치될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)과, 부파장 광원(315)은 스캔 라인을 따라 등간격으로 배치될 수 있다. 본 실시예의 광원부(310)는 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)과, 부파장 광원(315)가 일 열로 배열된 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 복수열로 배열될 수 있음은 물론이다.
제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)은 시료 카트리지(190)의 시약반응에 따라 흡광도 변화가 발생되는 파장대역의 광을 방출하며 시료 카트리지(390)의 시약반응을 분석하는데 사용된다. 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)의 파장대역은 서로 다른 대역을 가지거나 혹은 적어도 일부의 파장대역이 서로 같을 수 있다. 부파장 광원(315)은 시료 카트리지(390)의 시약반응에 따른 흡광도 변화가 없는 파장대역의 광을 방출하며 측정 결과에서 발생되는 오차를 보정하는데 사용된다. 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)과, 부파장 광원(315)은 동일한 스캔 라인(399) 상에 배열되므로, 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314)과, 부파장 광원(315)의 구동에 시간차를 둠으로써 시료 카트리지(390)의 어느 한 검출챔버(392)의 동일 위치에 광들이 조사될 수 있도록 할 수 있으며, 상기 조사위치에서의 검체특성, 이물, 및 기포 등에　의한 검출신호의 오차는 부파장 광원(315)에 의해 제거될 수 있다.
본 실시예는 시료 카트리지(390)의 검출챔버(392)들이 원주상에 하나의 열로 배열되어 하나의 스캔 라인(399)을 형성하고, 이에 대응되어 제1 내지 제4 주파장 광원(311, 312, 313, 314) 및 부파장 광원(315)이 하나의 원호 라인으로 배열된 경우를 예로 들어 설명하고 있으나 이에 한정되지 않는다. 도 8 내지 도 10을 참조하여 설명한 실시예와 유사하게 시료 카트리지의 검출챔버들이 원주상에 복수열로 배열되어 복수의 스캔 라인을 형성하고, 이에 대응되어 주파장 광원들과 부파장 광원이 복수의 원호 라인으로 배열될 수 있다.
전술한 실시예들은 시료 카트리지(190, 290, 390)의 검출챔버(192, 292, 293, 392)들을 통과한 광들을 측정하는 방식을 예로 들어 설명하고 있으나, 검출챔버(192, 292, 293, 392)들에서 반사된 광들을 측정하는 방식에도 동일한 방식으로 적용될 수 있음은 당업자라면 이해할 수 있을 것이다.전술한 본 발명인 광학검출장치 및 측정오차의 보정방법은 이해를 돕기 위하여 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
100, 300 : 광학검출장치 110, 210, 310 : 광원부
111, 112, 113, 114, 311, 312, 313, 314, S1 : 주파장 광원
115, 116, 315, S0 : 부파장 광원 118, 318 : 광량검출센서
119, 319 : 실장면 120, 320 : 광속제한부재
121 : 개구 130, 330 : 광검출기
150, 350 : 제어부 190, 290, 390 : 시료 카트리지
192, 292, 293, 392 : 검출챔버 199, 298, 299, 399 : 스캔 라인
210A, 210B : 광원 어레이 340 : 구동부
L, L1, L2, L3, L4, Lc1, Lc2 : 광

Claims (26)

  1. 시료 카트리지의 검출챔버들을 스캔하여 측정하는 광학검출장치에 있어서,
    상기 검출챔버들에 광들을 조사하는 광원들을 구비한 광원부; 및
    상기 검출챔버들에 조사된 광들을 검출하는 광검출기;를 포함하며,
    상기 광원들은 검출챔버들의 검체를 측정하는데 사용되는 주파장 광원들과, 측정오차를 보정하는데 사용되는 부파장 광원을 포함하며,
    상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원은 상기 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인을 따라 배열되는 광학검출장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들은 복수의 라인들에 배열되고, 각 라인마다 상기 부파장 광원이 배치되어,
    상기 복수의 라인들 중 어느 한 라인에 위치한 상기 주파장 광원들에서 조사된 광들에 의해 검출된 측정신호는 동일한 라인상에 위치한 상기 부파장 광원에서 조사된 광에 의해 검출된 측정신호로 보정되는 광학검출장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 부파장 광원은 상기 라인의 중앙부에 위치하고 상기 주파장 광원들은 상기 부파장 광원의 양쪽에 위치하는 광학검출장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원은 등간격으로 배치되는 광학검출장치.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 시료 카트리지는 상기 검출챔버들이 하나 혹은 복수의 열로 직선 배열된 카드형 카트리지 형상을 가지며,
    상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원이 배열된 라인은 하나 혹은 복수의 직선 라인인 광학검출장치.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 시료 카트리지는 상기 검출챔버들이 하나 혹은 복수의 열로 원주상에 배열된 디스크형 카트리지 형상을 가지며,
    상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원이 배열된 라인은 하나 혹은 복수의 원호 라인인 광학검출장치.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 시료 카트리지의 검출챔버들은 제1 열로 배열된 제1 검출챔버들과 제2 열로 배열된 제2 검출챔버들을 포함하며,
    상기 광원부는 상기 제1 검출챔버들에 광들을 조사하는 제1 광원들을 구비한 제1 광원 어레이와, 제2 열로 배열된 제2 검출챔버들에 광들을 조사하는 제2 광원들을 구비한 제2 광원 어레이를 포함하며,
    상기 제1 광원들은 상기 제1 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인을 따라 배열되며,
    상기 제2 광원들은 상기 제2 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인을 따라 배열되는 광학검출장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 제1 광원 어레이가 상기 제1 열의 어느 한 제1 검출챔버의 중앙에 광들을 조사하도록 배치될 때, 상기 제2 광원 어레이는 상기 제2 열의 어느 한 제2 검출챔버의 중앙에서 벗어난 위치에 광들을 조사하도록 배치되는 광학검출장치.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 제1 열의 제1 검출챔버들의 검출과 상기 제2 열의 제2 검출챔버들의 검출은 시간차를 두고 행해지는 광학검출장치.
  10. 제7 항에 있어서,
    상기 제1 광원 어레이의 주파장과 상기 제2 광원 어레이의 주파장은 서로 다른 대역인 광학검출장치.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 광검출기는 상기 검출챔버들을 사이에 두고 상기 광원부와 대향되게 배치되어 상기 검출챔버들을 투과한 광들의 흡수도를 측정하는 광학검출장치.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 측정오차는 검출챔버 내의 검체 특성, 이물, 및 기포 중 적어도 어느 하나에 의한 오차인 광학검출장치.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 광원부에서 출사된 광들의 광속을 제한하는 개구를 구비하는 광속제한부재를 더 포함하는 광학검출장치.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 개구는 상기 광원부보다 상기 검출챔버 쪽에 더 가깝도록 배치되는 광학검출장치.
  15. 제13 항에 있어서,
    상기 개구는 상기 검출챔버의 어느 하나의 검출챔버의 사이즈보다 작은 사이즈를 갖는 광학검출장치.
  16. 제1 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들의 측정결과는 동일한 지점에서의 상기 부파장 광원의 측정결과를 이용하여 보정되는 광학검출장치.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원의 구동 타이밍에 시간차를 주어 상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원의 조사위치의 차이를 보상하는 광학검출장치.
  18. 제1 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들의 파장대역은 검체 농도에 따라 광학특성의 차이를 보이는 대역이고, 상기 부파장 광원의 파장대역은 검체 농도와 무관하게 일정한 광학특성을 보이는 대역인 광학검출장치.
  19. 제1 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들의 파장대역은 서로 다른 광학검출장치.
  20. 제1 항에 있어서,
    상기 광원들은 펄스 구동되며, 상기 광검출기는 상기 광원들의 펄스 구동에 동기되어 시간 분할 방식으로 상기 검출챔버들에 조사된 광들을 검출하는 광학검출장치.
  21. 제1 항에 있어서,
    상기 광원들은 발광다이오드 혹은 레이저 다이오드인 광학검출장치.
  22. 제1 항에 있어서,
    상기 광원부는 광량 모니터링 및 보정을 수행하기 위한 모니터링 포토 다이오드를 더 포함하는 광학검출장치.
  23. 검출챔버들을 순차적으로 스캔하여 측정하는 광학검출장치의 측정오차를 보정하는 방법에 있어서,
    검출챔버들의 검체를 측정하는데 사용되는 주파장 광원들과, 측정오차를 보정하는데 사용되는 부파장 광원을 상기 검출챔버들을 스캔하는 스캔 라인과 평행한 라인상에 배치하는 단계;
    상기 주파장 광원들과 상기 부파장 광원이 상기 검출챔버들에 광들을 조사하는 단계;
    광검출기가 상기 검출챔버들에 조사된 광들을 검출하는 단계; 및
    상기 주파장 광원들에서 조사된 광들에 의해 검출된 측정신호를 상기 주파장 광원들이 배열된 라인상에 위치한 상기 부파장 광원에서 조사된 광에 의해 검출된 측정신호로 보정하는 단계;를 포함하는 측정신호의 보정방법.
  24. 제23 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들을 복수의 라인들에 배치하고, 각 라인마다 상기 부파장 광원을 배치하며,
    상기 복수의 라인들 중 어느 한 라인에 위치한 상기 주파장 광원들에서 조사된 광들에 의해 검출된 측정신호는 동일한 라인상에 위치한 상기 부파장 광원에서 조사된 광에 의해 검출된 측정신호로 보정하는 측정신호의 보정방법.
  25. 제23 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들 및 상기 부파장 광원의 조사위치의 차이를 보상하는 단계를 더 포함하는 측정신호의 보정방법.
  26. 제25 항에 있어서,
    상기 주파장 광원들 및 상기 부파장 광원의 조사위치의 차이는 상기 주파장 광원들 및 상기 부파장 광원의 구동 타이밍에 시간차를 두어 보상하는 측정신호의 보정방법.
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