KR102140063B1 - 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치 - Google Patents

웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102140063B1
KR102140063B1 KR1020200011107A KR20200011107A KR102140063B1 KR 102140063 B1 KR102140063 B1 KR 102140063B1 KR 1020200011107 A KR1020200011107 A KR 1020200011107A KR 20200011107 A KR20200011107 A KR 20200011107A KR 102140063 B1 KR102140063 B1 KR 102140063B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer carrier
sampling module
load port
particle
cover
Prior art date
Application number
KR1020200011107A
Other languages
English (en)
Inventor
유승교
노태용
이현욱
전광수
김정도
최왕민
방주연
Original Assignee
주식회사 위드텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 위드텍 filed Critical 주식회사 위드텍
Priority to KR1020200011107A priority Critical patent/KR102140063B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102140063B1 publication Critical patent/KR102140063B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
    • G01N15/02Investigating particle size or size distribution
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67389Closed carriers characterised by atmosphere control
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/30Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

본 발명은 웨이퍼캐리어(100)의 파티클을 측정하기 위한 파티클 측정 장치(200)에 있어서, 장치 본체(210), 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420), 로드포트(220), 로드포트 도어(230), 로드포트 오프너(240)를 포함하되, 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 웨이퍼캐리어(100)가 장착되면 상기 제1샘플링모듈(410)까지 반송하도록 구성되어, 보다 청정한 환경에서 정확한 파티클 측정이 이루어질 수 있는 파티클 측정 장치 및 파티클 측정 방법에 관한 것이다.

Description

웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치{PARTICLE MEASURING DEVICE FOR WAFER CARRIER}
본 발명은 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치에 관한 것으로, 보다 상세히는 반도체 기판의 이송 및 저장을 위한 웨이퍼캐리어에 내재된 파티클을 측정하기 위한 파티클 측정 장치에 관한 것이다.
반도체 공정은, 반도체 기판(웨이퍼) 상에 집적 회로(Integrated circuit, IC)를 형성하기 위해 증착, 노광, 식각 및 세정 등 다수의 처리단계로 이루어진다. 이때 상기 반도체 기판은 다수의 처리단계를 거치기 위해 웨이퍼캐리어 상에 보관되어 이송된다. 이때 상기 웨이퍼캐리어는, FOUP(Front Opening Unified Pod), FOSB(Front Opening Shipping Box), SMIF(Standard Mechanical Interface Pod), RSP(Reticle SMIF Pods), MRP(Multiple Reticle SMIF Pod) 등으로 분류될 수 있다.
상기 웨이퍼캐리어는 웨이퍼를 외부 오염물로부터 보호하기 위해 밀폐된 상태로 이송되며, 일정한 처리단계를 수행하는 처리장치 상에 도달하면 상기 웨이퍼캐리어의 커버가 개방될 수 있다. 그리고 상기 웨이퍼캐리어의 내부는 임의의 화학 잔류물을 제거하기 위해 불활성 가스 등으로 정화될 수 있으며, 이에 대한 기술로는 한국공개특허공보 제10-2019-0046581호("기판 캐리어 퇴화 검출 및 수리", 이하 '선행문헌 1'이라 함.)에서 개시되어 있다.
도 1을 참조하여 위 기술에 대해서 간략히 서술하자면 다음과 같다. 선행문헌 1은, 복수의 웨이퍼를 수용한 캐리어를 접수하는 단계(2)하고, 상기 캐리어 내부에 정화가스를 공급하는 단계(4), 상기 캐리어로부터 배기가스를 추출하는 단계(6)를 포함하되, 상기 캐리어의 환경을 모니터링 하는 단계(8)를 더 포함하여 구성된다. 이때 상기 캐리어의 환경을 모니터링 하는 단계(8)에서는 배기가스 내 입자 계수를 측정(8d)하거나, 입자 크기를 측정(8e)하도록 구성되며, 이를 통해 입자의 계수 및 크기가 설정 값을 초과하는지 여부를 판별하여 건전성을 평가하도록 마련된다.
이때 상기 캐리어로 정화가스를 공급하고 배기가스를 추출하는 과정은 한국공개특허공보 제10-2019-0067106호("기판 반출입 장치, 기판 처리 장치 및 기판 반송 용기의 제전 방법", 이하 '선행문헌 2'라 함.) 등의 장비를 통해 이루어질 수 있다.
도 2를 참조하여 위 기술에 대해서 간략히 서술하자면 다음과 같다. 선행문헌 2는, 본체(41) 및 덮개(42)로 이루어져 웨이퍼를 수용하는 캐리어(40)에 대해서, 덮개 개폐 기구(60)를 이용하여 상기 덮개(42)를 개방하고, 가스 공급 기구(70)를 이용하여 질소(N2)가스를 캐리어 본체(41) 내부에 공급하도록 구성된다. 이에 따라 상기 질소가스를 통해 상기 캐리어(40) 내면이 제전되어 파티클의 부착이 억제되거나, 파티클이 제거될 수 있다. 여기서 선행문헌 2는 배기구 측에 기중 파티클 측정기를 설치하고, 배출되는 가스에 포함되는 파티클의 양의 변화를 측정하도록 마련될 수 있다.
이처럼 종래 기술들은 웨이퍼캐리어의 본체를 고정시킨 후, 해당 위치에서 커버를 개방하고 유로가 연결된 측정 모듈을 이동시켜 파티클 측정 공정이 이루어진다. 여기서 상기 웨이퍼캐리어의 본체가 일부 이동하긴 하지만, 결과적으로 파티클 측정 공정이 한 영역에서 이루어지기 때문에 측정 모듈의 이동은 필연적으로 발생이 되었다. 이에 따라 종래에는 상기 측정 모듈과 함께 이동할 수 있도록 유로가 유연한 튜브형으로 구성되어 반복 사용 시에 노화가 발생되는 위험성이 있었으며, 튜브형 유로의 마모로 인하여 파티클을 유발하는 문제점으로 이어졌다. 이와 더불어 측정 모듈 상에 잔여한 파티클로 인하여 복수의 웨이퍼캐리어에 대한 측정이 정확하지 않은 문제점 또한 발생되었다.
한국공개특허공보 제10-2019-0046581호("기판 캐리어 퇴화 검출 및 수리") 2019.05.07. 공개 한국공개특허공보 제10-2019-0067106호("기판 반출입 장치, 기판 처리 장치 및 기판 반송 용기의 제전 방법") 2019.06.14. 공개
본 발명은 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치에 관한 것으로, 본 발명의 목적은, 유체가 흐르는 관과 연결된 샘플링모듈은 고정되고, 로드포트 상에 놓여진 웨이퍼캐리어가 이동하여 파티클 측정이 이루어지도록 하는 파티클 측정 장치 및 파티클 측정 방법을 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 웨이퍼캐리어(100)의 파티클을 측정하기 위한 파티클 측정 장치(200)에 있어서, 장치 본체(210); 상기 장치 본체(210)의 내부에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제1샘플링모듈(410); 상기 장치 본체(210)의 외부에 배치되되 상기 웨이퍼캐리어(100)가 장착되는 안착부(221) 및 상기 안착부(221) 및 상기 제1샘플링모듈(410) 사이를 연결하는 가이드레일(222)을 포함하는 로드포트(220); 및 상기 가이드레일(222) 상에 배치되되 상기 장치 본체(210)의 내부를 밀폐하도록 개폐되는 로드포트 도어(230);를 포함하고, 유체가 흐르는 관과 연결된 상기 제1샘플링모듈(410)은 고정되되, 상기 로드포트 도어(230)가 개방되면, 웨이퍼캐리어(100)가 장착된 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 제1샘플링모듈(410)로 이동하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 가이드레일(222) 상에 배치되되, 상기 로드포트 도어(230)와 제1샘플링모듈(410) 사이에 배치되는 로드포트 오프너(240);를 더 포함하고, 상기 웨이퍼캐리어(100)는 본체(110) 및 커버(120)로 구성되며, 상기 로드포트 오프너(240)는, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 결합되어 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)를 본체(110)로부터 분리하는 래치부(241) 및, 상기 래치부(241)를 이동시키는 반송부(242)를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 래치부(241) 상에 상기 커버(120)가 장착되면, 상기 반송부(242)가 상기 커버(120) 및 래치부(241)를 일측으로 반송하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 로드포트 오프너(240)의 일측에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제2샘플링모듈(420);을 더 포함하며, 상기 제1샘플링모듈(410)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 파티클을 수집하고, 상기 제2샘플링모듈(420)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 커버(120)의 파티클을 수집하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 제1샘플링모듈(410)과 파티클배출관(HP)으로 연결되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 내부로부터 배출되는 파티클의 입자 크기 또는 개수를 검출하는 제어연산부(500);를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)과 파티클배출관(HP)으로 연결되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 및 커버(120)에서 배출되는 파티클의 입자 크기 또는 개수를 각각 검출하는 제어연산부(500);를 더 포함할 수도 있다.
또한, 상기 파티클 측정 장치(200)는, 복수의 로드포트(220) 및 복수의 제1샘플링모듈(410)을 포함하여 복수의 웨이퍼캐리어(100)에 대한 파티클 측정이 이루어지는 것을 특징으로 할 수 있다.
아울러, 상술한 파티클 측정 장치(200)를 이용한 본 발명의 파티클 측정 방법은, A) 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 웨이퍼캐리어(100)가 장착되는 단계; B-1) 상기 로드포트 도어(230)가 개방되는 단계; B-2) 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 로드포트 오프너(240)로 이송되는 단계; C-1) 상기 로드포트 오프너(240)의 래치부(241)가 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 결합되는 단계; C-2) 상기 반송부(242)가 상기 래치부(241) 및 커버(120)를 일측으로 반송하는 단계; C-3) 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 제1샘플링모듈(410)로 이송되는 단계; 및 D-1) 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110) 내부에 유체를 분사하되, 파티클이 포함된 유체를 흡입하는 단계;를 포함하며, 상기 C-3단계에서, 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 일면이 개방되어, 상기 제1샘플링모듈(410)이 상기 본체(110)의 내부에 배치되는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 파티클 측정 장치(200)는, 상기 로드포트 오프너(240)의 일측에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제2샘플링모듈(420);을 더 포함하며, 상기 파티클 측정 방법은 상기 C-2단계 이후, C-4) 상기 제2샘플링모듈(420)과 커버(120)가 서로 결합하는 단계; 및 D-2) 상기 웨이퍼캐리어(100) 커버(120)에 유체를 공급하되, 파티클이 포함된 유체를 흡입하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
상기와 같은 구성에 의한 본 발명의 파티클 측정 장치 및 파티클 측정 방법은, 측정부 및 유체가 흐르는 관이 고정되어 반복적으로 사용하여도 노화가 발생하는 것을 방지하여, 보다 장기간 사용 가능한 제품을 제공할 수 있는 장점이 있다.
아울러, 본 발명은 종래 측정부가 이동하면서 발생되거나 잔여한 파티클로 인하여 복수의 웨이퍼캐리어에 대한 정확한 데이터를 검출할 수 없던 문제점을 극복하고, 각 웨이퍼캐리어에 대한 정확한 파티클 측정이 이루어질 수 있으므로 보다 신뢰성 있는 제품을 제공할 수 있는 장점이 있다.
아울러, 본 발명은 장치 본체 내부를 FFU(Fan Filter Units) 등을 이용하여 파티클이 없는 공간을 유지하면서 측정이 이루어질 수 있어, 최적의 측정 성능을 구현할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래기술에 따른 기판 캐리어에서 공기 필터 열화를 검출하기 위한 플로차트.
도 2는 종래기술에 따른 캐리어 및 개폐 도어의 횡단면도.
도 3은 본 발명에 따른 파티클 측정 장치의 사시도.
도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어가 장착되는 것을 도시한 파티클 측정 장치의 사시도.
도 5는 본 발명에 따른 파티클 측정 장치의 정단면도.
도 6은 본 발명에 따른 로드포트 도어가 개방되는 것을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도.
도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어와 로드포트 오프너의 결합과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도.
도 8은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 커버의 반송 과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도.
도 9는 발명에 따른 웨이퍼캐리어에 대한 파티클 측정 과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도.
이하 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치를 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 도면들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서 본 발명은 이하 제시되는 도면들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 또한 명세서 전반에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
이때 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명 및 첨부 도면에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.
도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 파티클 측정 장치에 관한 것으로, 도 3은 파티클 측정 장치의 사시도를, 도 4는 웨이퍼캐리어가 장착되는 것을 도시한 파티클 측정 장치의 사시도를 각각 나타낸다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 파티클 측정 장치(200)는 장치 본체(210), 로드포트(220) 및 로드포트 도어(230)를 포함할 수 있다. 그리고 파티클을 측정하기 위한 대상인 웨이퍼캐리어(100)는 본체(110) 및 커버(120)로 구성될 수 있다.
상기 장치 본체(210)는 내부가 FFU(Fan Filter Units) 등을 이용하여 청정공간으로 유지되도록 하며, 상기 로드포트 도어(230)는 상기 장치 본체(210)의 일면 상에 형성되어 개폐될 수 있다. 그리고 상기 로드포트(220)는 상기 장치 본체(210)의 외부 상에 설치될 수 있으며, 상기 로드포트(220)는 안착부(221) 및 가이드레일(222)을 포함할 수 있다.
상기 로드포트(220)의 안착부(221)에는 반송로봇이나 로봇암 등 다양한 기구를 이용하여 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)가 장착될 수 있다. 그리고 상기 안착부(221)는 상기 로드포트 도어(230)가 개방되면 상기 장치 본체(210)의 내부로 인입될 수 있으며, 상기 안착부(221)는 가이드레일(222)의 안내를 통해 왕복 운동될 수 있다. 이에 따라 상기 가이드레일(222)은 일단이 외부로 노출되고 타단은 상기 장치 본체(210)로 연장되도록 형성되며, 상기 로드포트 도어(230)가 상기 가이드레일(222) 상에 위치할 수 있다.
또한 본 발명의 파티클 측정 장치(200)는 복수의 웨이퍼캐리어(100)에 대한 측정공정이 한 번에 이루어지도록 폭 방향을 따라 복수의 로드포트(220) 및 로드포트 도어(230)가 배치될 수 있다. 아울러, 이하 서술하는 로드포트 오프너(240), 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420) 또한 폭 방향을 따라 복수 개가 배치될 수도 있다. 그리고 보다 명확한 설명을 위해 X축 방향을 전후 측 폭 방향으로, Y축 방향을 좌우측 길이 방향으로, Z축 방향을 상하 측 높이 방향으로 임의로 정의하여 설망한다.
도 5는 본 발명에 따른 파티클 측정 장치에 관한 것으로, 도 5는 도 3의 A-A`선에 따른 파티클 측정 장치의 단면도를 나타낸다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 파티클 측정 장치(200)는 상기 로드포트 도어(230)를 기준으로 외부 및 내부가 임의로 구분될 수 있다. 그리고 상기 로드포트 도어(230)의 길이방향 일측에는 로드포트(220)가 배치될 수 있으며, 길이방향 타측에는 제1샘플링모듈(410)이 배치될 수 있다. 그리고 상기 제1샘플링모듈(410)은 파티클의 입자 크기 또는 개수 등을 센싱하는 제어연산부(500)와 유체관으로 연결될 수 있으며, 상기 유체관은 크게 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP)으로 나뉠 수 있다. 상기 유체공급관(HF)은 질소가스 등의 유체(F)가 공급되는 관으로 형성될 수 있으며, 상기 파티클배출관(HP)은 상기 제1샘플링모듈(410)을 통해 분사된 유체(F)가 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 내부에서 유동된 후에 파티클과 혼유하여 배출되는 관일 수 있다. 여기서 상기 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP)은 유연한 튜브형으로 구성될 수 있으며, 본 발명에서는 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)이 고정되기에 상기 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP)이 리기드(Rigid)한 터널 형태일 수도 있다. 그리고 상기 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP) 상에는 펌프 및 각종 밸브가 배치될 수도 있다.
상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)는 복수의 웨이퍼가 수용되도록 중공될 수 있으며, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)는 본체(110) 상에서 분리되면 해당 영역이 개방되도록 구성될 수 있다. 그리고 상기 웨이퍼캐리어(100)는 상기 커버(120)가 상기 로드포트 도어(230)와 대향하도록 상기 본체(110)가 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 장착될 수 있다. 그리고 도시되지는 않았으나, 상기 가이드레일(222)은 도면 상에서 좌우측 방향으로 연장될 수 있으며, 상기 로드포트도어(230), 로드포트 오프너(240) 및 제1측정부(410)가 순차적으로 배치될 수 있다.
상기 로드포트 오프너(240)는 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)에서 커버(120)를 분리할 수 있다. 그리고 본 발명으 상기 로드포트 오프너(240)와 커버(120)가 결합될 수 있으며, 상기 커버(120)와 결합된 상태에서 상기 로드포트 오프너(240)가 일측으로 반송될 수 있다. 도면 상에서는 상측으로 반송되는 구조로 도시되어 있으나, 하측으로 반송되거나 전후방향으로 반송되는 등 다양한 형태로 이루어질 수 있다. 또는 복수의 웨이퍼캐리어(100)가 전후방향으로 배치될 때에는 상기 로드포트 오프너(240)가 상측 또는 하측으로 구동될 수 있다. 여기서, 상기 로드포트 오프너(240)가 구동되는 방향, 도면 상에서는 상측에 제2샘플링모듈(420)가 고정 배치될 수 있다. 그리고 상기 제2샘플링모듈(420) 또한 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP)으로 상기 제어연산부(500)와 연결될 수 있다. 이때 상기 제어연산부(500)는 하나의 제어 프로세서가 아닌, 유체를 보관하는 유체탱크, 프로세서, 파티클을 검출하는 센서, 유량센서 등이 서로 별개로 분리된 집합체일 수 있다. 이에 따라 상기 유체공급관(HF)은 유체탱크와 연결되고, 상기 파티클배출관(HP)은 별개의 탱크 또는 외부와 연결되되 관 상에 각종 센서들이 배치된 형태로 이루어질 수 있다. 그리고 상기 센서들은 상기 프로세서와 연결되어 측정데이터를 전송하도록 이루어질 수 있으며, 상기 제어연산부(500)에는 별도의 출력장치가 마련되어 데이터통신을 통해 전송되거나 디스플레이 되도록 구성될 수도 있다. 이때 상기 제어연산부(500)의 엔서는 발생된 파티클의 입자 크기, 파티클의 개수 등을 검출하여 수집할 수 있다.
또한 상기 제1샘플링모듈(410)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 내부에서 파티클을 수집하고, 상기 제2샘플링모듈(420)은 도면 상에서는 좌측 면인 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)의 내측면에서 파티클을 수집할 수 있다. 그리고 상기 제1샘플링모듈(410)은 복수의 분사노즐이 형성되되, 복수의 상기 분사노즐은 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110) 내부의 서로 다른 면에 대해서 유체를 분사하도록 구성될 수 있다. 이에 따라 상기 제1샘플링모듈(410)은 상기 본체(110)의 내측 상면, 하면, 측면 등 각 면에 대해서 순차적으로 파티클이 수집되도록 제어될 수 있다.
도 6 내지 도 9는 본 발명에 따른 파티클 측정 장치를 이용한 파티클 측정 방법에 관한 것으로, 도 6은 로드포트 도어가 개방되는 것을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도를, 도 7은 웨이퍼캐리어와 로드포트 오프너의 결합과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도를, 도 8은 웨이퍼캐리어 커버의 반송 과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도를, 도 9는 웨이퍼캐리어에 대한 파티클 측정 과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도를 각각 나타낸다.
먼저 도 6을 참조하면, 본 발명은 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 웨이퍼캐리어(100)가 장착될 수 있다. 그리고 상기 웨이퍼캐리어(100)가 장착된 후 상기 로드포트 도어(230)가 개방되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)가 상기 장치 본체(210) 내부로 들어가기 위한 입구가 형성될 수 있다. 이때 상기 제어연산부(500)는, 상기 웨이퍼캐리어(100)가 안착부(221) 상에 장착되는 것이 센싱되면 일정 시간 후 상기 로드포트 도어(230)가 개방되도록 제어할 수도 있다.
이어 도 7을 참조하면, 상기 웨이퍼캐리어(100)와 안착부(221)는 상기 장치 본체(210) 내부로 반송될 수 있다. 그리고 상기 웨이퍼캐리어(100)는 본체(110)의 일측에 배치된 커버(120)가 상기 로드포트 오프너(240)와 접할 수 있다. 보다 상세히는 상기 로드포트 오프너(240)는 래치부(241) 및 반송부(242)를 포함할 수 있으며, 상기 래치부(241)는 상기 가이드레일(222) 상에 배치되되 상기 반송부(242)가 상기 래치부(241)를 상측으로 이동시킬 수 있다. 여기서, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)는 상기 래치부(241)와 결합되면서 상기 본체(110)와 분리될 수 있다. 이때 상기 제어연산부(500)는, 상기 로드포트 도어(230)가 개방되면 상기 가이드레일(222)을 작동시켜 상기 웨이퍼캐리어(100)와 안착부(221)가 반송되도록 제어할 수 있다.
이어 도 8을 참조하면, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 상기 래치부(241)와의 결합이 완료되면, 상기 래치부(241)는 상기 반송부(242)를 통해 상기 커버(120)와 함께 상측으로 반송될 수 있다. 그리고 상기 래치부(241)에 결합된 상기 커버(120)는 상기 제2샘플링모듈(420)과 결합될 수 있다. 이에 따라 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)는 커버(120)가 배치된 측이 개방될 수 있다.
이어 도 9를 함께 참조하면, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)는 가이드레일(222)을 따라 더 이동하여 상기 제1샘플링모듈(410)이 상기 본체(110) 내부에 배치될 수 있다. 아울러 상기 로드포트 도어(230)가 폐쇄되어 상기 장치 본체(210) 내부를 밀폐할 수 있다. 그리고 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)은 각각 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 및 커버(120)와 결합될 수 있다. 이어 유체공급관(HF)을 통해 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)로 유체(F)가 공급되어 파티클에 대한 샘플링이 이루어질 수 있다. 그리고 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)은, 파티클이 혼유된 유체를 흡입하고 상기 파티클배출관(HP)을 통해 파티클 검출이 이루어지는 제어연산부(500)로 배출할 수 있다. 이에 따라 본 발명은 상기 웨이퍼캐리어(100)에 대한 정화 작업과 더불어, 공정 설비 내부나 외진 지역의 오염 상황을 수집된 파티클을 통해 간접측정 및 분석할 수 있으며, 보다 품질이 좋은 웨이퍼를 생산할 수 있는 기반을 제공할 수 있는 장점이 있다.
이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 일 실시예에 한정되는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술되는 특허 청구 범위뿐 아니라 이 특허 청구 범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
HF : 유체공급관 HP : 파티클배출관
100 : 웨이퍼캐리어
110 : 본체 120 : 커버
200 : 파티클 측정 장치
210 : 장치 본체 220 : 로드포트(Load Port)
221 : 안착부 222 : 가이드레일
230 : 로드포트 도어 240 : 로드포트 오프너
241 : 래치부 242 : 반송부
410 : 제1샘플링모듈 420 : 제2샘플링모듈
500 : 제어연산부

Claims (9)

  1. 웨이퍼캐리어(100)의 파티클을 측정하기 위한 파티클 측정 장치(200)에 있어서,
    장치 본체(210);
    상기 장치 본체(210)의 내부에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제1샘플링모듈(410);
    상기 장치 본체(210)의 외부에 배치되되 상기 웨이퍼캐리어(100)가 장착되는 안착부(221) 및 상기 안착부(221) 및 상기 제1샘플링모듈(410) 사이를 연결하는 가이드레일(222)을 포함하는 로드포트(220); 및
    상기 가이드레일(222) 상에 배치되되 상기 장치 본체(210)의 내부를 밀폐하도록 개폐되는 로드포트 도어(230);
    를 포함하고,
    유체가 흐르는 관과 연결된 상기 제1샘플링모듈(410)은 고정되되,
    상기 로드포트 도어(230)가 개방되면, 웨이퍼캐리어(100)가 장착된 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 제1샘플링모듈(410)로 이동하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가이드레일(222) 상에 배치되되, 상기 로드포트 도어(230)와 제1샘플링모듈(410) 사이에 배치되는 로드포트 오프너(240);
    를 더 포함하고,
    상기 웨이퍼캐리어(100)는 본체(110) 및 커버(120)로 구성되며,
    상기 로드포트 오프너(240)는,
    상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 결합되어 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)를 본체(110)로부터 분리하는 래치부(241) 및, 상기 래치부(241)를 이동시키는 반송부(242)를 포함하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
  3. 제2항에 있어서,
    상기 래치부(241) 상에 상기 커버(120)가 장착되면,
    상기 반송부(242)가 상기 커버(120) 및 래치부(241)를 일측으로 반송하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
  4. 제3항에 있어서,
    상기 로드포트 오프너(240)의 일측에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제2샘플링모듈(420);
    을 더 포함하며,
    상기 제1샘플링모듈(410)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 파티클을 수집하고,
    상기 제2샘플링모듈(420)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 커버(120)의 파티클을 수집하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1샘플링모듈(410)과 파티클배출관(HP)으로 연결되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 내부로부터 배출되는 파티클의 입자 크기 또는 개수를 검출하는 제어연산부(500);
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
  6. 제4항에 있어서,
    상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)과 파티클배출관(HP)으로 연결되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 및 커버(120)에서 배출되는 파티클의 입자 크기 또는 개수를 각각 검출하는 제어연산부(500);
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
  7. 제1항에 있어서,
    상기 파티클 측정 장치(200)는,
    복수의 로드포트(220) 및 복수의 제1샘플링모듈(410)을 포함하여 복수의 웨이퍼캐리어(100)에 대한 파티클 측정이 이루어지는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
  8. 제2항의 파티클 측정 장치(200)를 이용한 파티클 측정 방법에 있어서,
    A) 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 웨이퍼캐리어(100)가 장착되는 단계;
    B-1) 상기 로드포트 도어(230)가 개방되는 단계;
    B-2) 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 로드포트 오프너(240)로 이송되는 단계;
    C-1) 상기 로드포트 오프너(240)의 래치부(241)가 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 결합되는 단계;
    C-2) 상기 반송부(242)가 상기 래치부(241) 및 커버(120)를 일측으로 반송하는 단계;
    C-3) 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 제1샘플링모듈(410)로 이송되는 단계; 및
    D-1) 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110) 내부에 유체를 분사하되, 파티클이 포함된 유체를 흡입하는 단계;
    를 포함하며,
    상기 C-3단계에서,
    상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 일면이 개방되어,
    상기 제1샘플링모듈(410)이 상기 본체(110)의 내부에 배치되는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 파티클 측정 장치(200)는,
    상기 로드포트 오프너(240)의 일측에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제2샘플링모듈(420);을 더 포함하며,
    상기 파티클 측정 방법은 상기 C-2단계 이후,
    C-4) 상기 제2샘플링모듈(420)과 커버(120)가 서로 결합하는 단계; 및
    D-2) 상기 웨이퍼캐리어(100) 커버(120)에 유체를 공급하되, 파티클이 포함된 유체를 흡입하는 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 방법.
KR1020200011107A 2020-01-30 2020-01-30 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치 KR102140063B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200011107A KR102140063B1 (ko) 2020-01-30 2020-01-30 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200011107A KR102140063B1 (ko) 2020-01-30 2020-01-30 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102140063B1 true KR102140063B1 (ko) 2020-08-03

Family

ID=72042854

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200011107A KR102140063B1 (ko) 2020-01-30 2020-01-30 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102140063B1 (ko)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150092170A (ko) * 2012-11-30 2015-08-12 아딕슨 배큠 프로덕츠 반도체 기판을 대기압에서 이송하고 보관하기 위한 운반 캐리어의 입자 오염을 측정하는 스테이션 및 방법
KR101853298B1 (ko) * 2016-11-02 2018-04-30 주식회사 아이에스티이 세정을 위한 캐리어의 로딩 및 언로딩 장치 및 그 로딩 및 언로딩 방법
KR20190035720A (ko) * 2016-08-08 2019-04-03 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤 로드포트 및 웨이퍼 반송방법
KR20190046581A (ko) 2017-10-26 2019-05-07 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 기판 캐리어 퇴화 검출 및 수리
KR20190067106A (ko) 2017-12-06 2019-06-14 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 반출입 장치, 기판 처리 장치 및 기판 반송 용기의 제전 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150092170A (ko) * 2012-11-30 2015-08-12 아딕슨 배큠 프로덕츠 반도체 기판을 대기압에서 이송하고 보관하기 위한 운반 캐리어의 입자 오염을 측정하는 스테이션 및 방법
KR20190035720A (ko) * 2016-08-08 2019-04-03 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤 로드포트 및 웨이퍼 반송방법
KR101853298B1 (ko) * 2016-11-02 2018-04-30 주식회사 아이에스티이 세정을 위한 캐리어의 로딩 및 언로딩 장치 및 그 로딩 및 언로딩 방법
KR20190046581A (ko) 2017-10-26 2019-05-07 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 기판 캐리어 퇴화 검출 및 수리
KR20190067106A (ko) 2017-12-06 2019-06-14 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 반출입 장치, 기판 처리 장치 및 기판 반송 용기의 제전 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10304702B2 (en) Efem
KR100959388B1 (ko) 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 vpd유닛과 그도어개폐장치
US5745946A (en) Substrate processing system
KR100583726B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US9810617B2 (en) Station and method for measuring particle contamination of a transport carrier for conveying and storing semiconductor substrates at atmospheric pressure
US5727332A (en) Contamination control in substrate processing system
KR101271181B1 (ko) 운송 인클로저 오염도 측정장치 및 이를 이용한 오염도 측정방법
US20170170044A1 (en) Controling method for a wafer transportation part and a load port part on an efem
US20010041530A1 (en) Local clean method and local clean processing and treating apparatus
KR101641390B1 (ko) 반도체 기판을 이송하는데 사용되는 인클로저의 오염 측정을 위한 스테이션 및 방법
US20050274430A1 (en) Stocker for semiconductor substrates, storage method therefor and fabrication method for semiconductor device using the stocker
KR100396468B1 (ko) 공기 샘플링 캐리어와 공기 분석장치 및 방법
US10161033B2 (en) Method for cleaning load port of wafer processing apparatus
KR102140063B1 (ko) 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치
US9816974B2 (en) Station and method for measuring particle contamination of a transport carrier for conveying and storing semiconductor substrates at atmospheric pressure
US20040069409A1 (en) Front opening unified pod door opener with dust-proof device
KR100593424B1 (ko) 이중 도어 구조를 갖는 fims 로더
TW202127533A (zh) 化學液體供應系統、測試方法以及處理半導體晶圓的方法
KR102374274B1 (ko) 로드포트 및 웨이퍼 반송방법
KR20070001636A (ko) 센서가 장착된 도어와 이를 구비한 웨이퍼 처리 장치
US10872799B2 (en) Load port and method for carrying wafers
US20230200602A1 (en) Cleaning module, storage system, and cleaning method for storage apparatus
KR101674107B1 (ko) 기판용기 커버 개폐장치
KR200376772Y1 (ko) 이중 도어 구조를 갖는 fims 로더
US9704714B2 (en) Method for controlling surface charge on wafer surface in semiconductor fabrication

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant