KR102140063B1 - Particle measuring device for wafer carrier - Google Patents

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KR102140063B1
KR102140063B1 KR1020200011107A KR20200011107A KR102140063B1 KR 102140063 B1 KR102140063 B1 KR 102140063B1 KR 1020200011107 A KR1020200011107 A KR 1020200011107A KR 20200011107 A KR20200011107 A KR 20200011107A KR 102140063 B1 KR102140063 B1 KR 102140063B1
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wafer carrier
sampling module
load port
particle
cover
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KR1020200011107A
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유승교
노태용
이현욱
전광수
김정도
최왕민
방주연
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주식회사 위드텍
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Abstract

The present invention relates to a particle measuring device (200) for measuring particles of a wafer carrier (100) and a particle measuring method. The particle measuring device (200) comprises a device body (210), a first sampling module (410), a second sampling module (420), a load port (220), a load port door (230), and a load port opener (240). When the wafer carrier (100) is mounted on a mounting unit (221) of the load port (220), the particle measuring device (200) is configured to be transported to the first sampling module (410), thereby performing accurate particle measurement in a cleaner environment.

Description

웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치{PARTICLE MEASURING DEVICE FOR WAFER CARRIER} Particle measuring device for wafer carrier {PARTICLE MEASURING DEVICE FOR WAFER CARRIER}

본 발명은 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치에 관한 것으로, 보다 상세히는 반도체 기판의 이송 및 저장을 위한 웨이퍼캐리어에 내재된 파티클을 측정하기 위한 파티클 측정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for measuring particles in a wafer carrier, and more particularly, to a particle measuring apparatus for measuring particles embedded in a wafer carrier for transfer and storage of a semiconductor substrate.

반도체 공정은, 반도체 기판(웨이퍼) 상에 집적 회로(Integrated circuit, IC)를 형성하기 위해 증착, 노광, 식각 및 세정 등 다수의 처리단계로 이루어진다. 이때 상기 반도체 기판은 다수의 처리단계를 거치기 위해 웨이퍼캐리어 상에 보관되어 이송된다. 이때 상기 웨이퍼캐리어는, FOUP(Front Opening Unified Pod), FOSB(Front Opening Shipping Box), SMIF(Standard Mechanical Interface Pod), RSP(Reticle SMIF Pods), MRP(Multiple Reticle SMIF Pod) 등으로 분류될 수 있다. The semiconductor process consists of a number of processing steps, such as deposition, exposure, etching and cleaning, to form an integrated circuit (IC) on a semiconductor substrate (wafer). At this time, the semiconductor substrate is stored and transferred on a wafer carrier to undergo a number of processing steps. In this case, the wafer carrier may be classified into Front Opening Unified Pod (FOUP), Front Opening Shipping Box (FOSB), Standard Mechanical Interface Pod (SMIF), Reticle SMIF Pods (RSP), Multiple Reticle SMIF Pod (MRP), etc. .

상기 웨이퍼캐리어는 웨이퍼를 외부 오염물로부터 보호하기 위해 밀폐된 상태로 이송되며, 일정한 처리단계를 수행하는 처리장치 상에 도달하면 상기 웨이퍼캐리어의 커버가 개방될 수 있다. 그리고 상기 웨이퍼캐리어의 내부는 임의의 화학 잔류물을 제거하기 위해 불활성 가스 등으로 정화될 수 있으며, 이에 대한 기술로는 한국공개특허공보 제10-2019-0046581호("기판 캐리어 퇴화 검출 및 수리", 이하 '선행문헌 1'이라 함.)에서 개시되어 있다.The wafer carrier is transferred in a closed state to protect the wafer from external contaminants, and the cover of the wafer carrier may be opened when it reaches the processing apparatus performing a certain processing step. And the inside of the wafer carrier can be purified with an inert gas or the like to remove any chemical residues, and the technology for this is Korean Patent Publication No. 10-2019-0046581 ("Substrate Carrier Degeneration Detection and Repair") , Hereinafter referred to as'prior literature 1'.

도 1을 참조하여 위 기술에 대해서 간략히 서술하자면 다음과 같다. 선행문헌 1은, 복수의 웨이퍼를 수용한 캐리어를 접수하는 단계(2)하고, 상기 캐리어 내부에 정화가스를 공급하는 단계(4), 상기 캐리어로부터 배기가스를 추출하는 단계(6)를 포함하되, 상기 캐리어의 환경을 모니터링 하는 단계(8)를 더 포함하여 구성된다. 이때 상기 캐리어의 환경을 모니터링 하는 단계(8)에서는 배기가스 내 입자 계수를 측정(8d)하거나, 입자 크기를 측정(8e)하도록 구성되며, 이를 통해 입자의 계수 및 크기가 설정 값을 초과하는지 여부를 판별하여 건전성을 평가하도록 마련된다.Referring briefly to the above description with reference to Figure 1 as follows. Prior document 1 includes the step (2) of receiving a carrier containing a plurality of wafers, the step of supplying purified gas into the carrier (4), and the step of extracting exhaust gas from the carrier (6). , Monitoring the environment of the carrier (8). At this time, in the step (8) of monitoring the environment of the carrier, it is configured to measure the particle count in the exhaust gas (8d) or to measure the particle size (8e), through which the particle count and size exceed the set value. It is provided to evaluate the soundness by discriminating.

이때 상기 캐리어로 정화가스를 공급하고 배기가스를 추출하는 과정은 한국공개특허공보 제10-2019-0067106호("기판 반출입 장치, 기판 처리 장치 및 기판 반송 용기의 제전 방법", 이하 '선행문헌 2'라 함.) 등의 장비를 통해 이루어질 수 있다. At this time, the process of supplying the purified gas to the carrier and extracting the exhaust gas is disclosed in Korean Patent Publication No. 10-2019-0067106 ("Substrate Carry-Out Device, Substrate Processing Device and Method for Eliminating Substrate Transport Container", hereinafter'Previous Document 2 '.).

도 2를 참조하여 위 기술에 대해서 간략히 서술하자면 다음과 같다. 선행문헌 2는, 본체(41) 및 덮개(42)로 이루어져 웨이퍼를 수용하는 캐리어(40)에 대해서, 덮개 개폐 기구(60)를 이용하여 상기 덮개(42)를 개방하고, 가스 공급 기구(70)를 이용하여 질소(N2)가스를 캐리어 본체(41) 내부에 공급하도록 구성된다. 이에 따라 상기 질소가스를 통해 상기 캐리어(40) 내면이 제전되어 파티클의 부착이 억제되거나, 파티클이 제거될 수 있다. 여기서 선행문헌 2는 배기구 측에 기중 파티클 측정기를 설치하고, 배출되는 가스에 포함되는 파티클의 양의 변화를 측정하도록 마련될 수 있다.The above technique will be briefly described with reference to FIG. 2. Prior Art Document 2, for a carrier 40 composed of a main body 41 and a cover 42 and receiving a wafer, opens the cover 42 using a cover opening and closing mechanism 60, and provides a gas supply mechanism 70. ) Is configured to supply nitrogen (N 2 ) gas into the carrier body 41. Accordingly, the inner surface of the carrier 40 is destaticized through the nitrogen gas, and adhesion of particles may be suppressed or particles may be removed. Here, the prior art document 2 may be provided to install an air particle meter on the exhaust side and measure a change in the amount of particles contained in the discharged gas.

이처럼 종래 기술들은 웨이퍼캐리어의 본체를 고정시킨 후, 해당 위치에서 커버를 개방하고 유로가 연결된 측정 모듈을 이동시켜 파티클 측정 공정이 이루어진다. 여기서 상기 웨이퍼캐리어의 본체가 일부 이동하긴 하지만, 결과적으로 파티클 측정 공정이 한 영역에서 이루어지기 때문에 측정 모듈의 이동은 필연적으로 발생이 되었다. 이에 따라 종래에는 상기 측정 모듈과 함께 이동할 수 있도록 유로가 유연한 튜브형으로 구성되어 반복 사용 시에 노화가 발생되는 위험성이 있었으며, 튜브형 유로의 마모로 인하여 파티클을 유발하는 문제점으로 이어졌다. 이와 더불어 측정 모듈 상에 잔여한 파티클로 인하여 복수의 웨이퍼캐리어에 대한 측정이 정확하지 않은 문제점 또한 발생되었다.As described above, in the related art, after fixing the main body of the wafer carrier, the particle measurement process is performed by opening the cover at the corresponding position and moving the measurement module connected to the flow path. Here, although the body of the wafer carrier is partially moved, as a result, since the particle measurement process is performed in one region, the movement of the measurement module inevitably occurs. Accordingly, in the related art, there is a risk that aging occurs during repeated use because the flow path is formed of a flexible tube type so that it can be moved together with the measurement module, leading to a problem of causing particles due to wear of the tube type flow path. In addition, due to particles remaining on the measurement module, a problem in which measurement of a plurality of wafer carriers is not accurate has also occurred.

한국공개특허공보 제10-2019-0046581호("기판 캐리어 퇴화 검출 및 수리") 2019.05.07. 공개Korean Patent Publication No. 10-2019-0046581 ("Substrate Carrier Degeneration Detection and Repair") 2019.05.07. open 한국공개특허공보 제10-2019-0067106호("기판 반출입 장치, 기판 처리 장치 및 기판 반송 용기의 제전 방법") 2019.06.14. 공개Korean Patent Publication No. 10-2019-0067106 ("Substrate carrying-in/out device, substrate processing device, and method for defrosting substrate transport container") 2019.06.14. open

본 발명은 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치에 관한 것으로, 본 발명의 목적은, 유체가 흐르는 관과 연결된 샘플링모듈은 고정되고, 로드포트 상에 놓여진 웨이퍼캐리어가 이동하여 파티클 측정이 이루어지도록 하는 파티클 측정 장치 및 파티클 측정 방법을 제공하는 것이다.The present invention relates to a particle measuring device of the wafer carrier, the object of the present invention, the sampling module connected to the tube through which the fluid flows is fixed, the particle measuring device that allows the wafer carrier placed on the load port to move to make particle measurement And to provide a particle measurement method.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 웨이퍼캐리어(100)의 파티클을 측정하기 위한 파티클 측정 장치(200)에 있어서, 장치 본체(210); 상기 장치 본체(210)의 내부에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제1샘플링모듈(410); 상기 장치 본체(210)의 외부에 배치되되 상기 웨이퍼캐리어(100)가 장착되는 안착부(221) 및 상기 안착부(221) 및 상기 제1샘플링모듈(410) 사이를 연결하는 가이드레일(222)을 포함하는 로드포트(220); 및 상기 가이드레일(222) 상에 배치되되 상기 장치 본체(210)의 내부를 밀폐하도록 개폐되는 로드포트 도어(230);를 포함하고, 유체가 흐르는 관과 연결된 상기 제1샘플링모듈(410)은 고정되되, 상기 로드포트 도어(230)가 개방되면, 웨이퍼캐리어(100)가 장착된 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 제1샘플링모듈(410)로 이동하는 것을 특징으로 할 수 있다.In order to achieve the above object, the present invention, the particle measuring device 200 for measuring the particles of the wafer carrier 100, the apparatus body 210; A first sampling module 410 disposed inside the apparatus main body 210 and having fluid injection and fluid suction; A guide rail 222 that is disposed outside the main body 210 and connects between the seating portion 221 on which the wafer carrier 100 is mounted, and the seating portion 221 and the first sampling module 410. Load port 220 comprising a; And a load port door 230 disposed on the guide rail 222 and opened and closed to seal the inside of the device body 210, wherein the first sampling module 410 connected to a pipe through which the fluid flows Fixed, characterized in that when the load port door 230 is opened, the seating portion 221 on which the wafer carrier 100 is mounted moves along the guide rail 222 to the first sampling module 410. can do.

또한, 본 발명은 상기 가이드레일(222) 상에 배치되되, 상기 로드포트 도어(230)와 제1샘플링모듈(410) 사이에 배치되는 로드포트 오프너(240);를 더 포함하고, 상기 웨이퍼캐리어(100)는 본체(110) 및 커버(120)로 구성되며, 상기 로드포트 오프너(240)는, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 결합되어 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)를 본체(110)로부터 분리하는 래치부(241) 및, 상기 래치부(241)를 이동시키는 반송부(242)를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the present invention is disposed on the guide rail 222, a load port opener 240 disposed between the load port door 230 and the first sampling module 410; further comprising, the wafer carrier 100 is composed of a main body 110 and a cover 120, the load port opener 240 is coupled to the cover 120 of the wafer carrier 100, the cover 120 of the wafer carrier 100 It may be characterized in that it comprises a latch unit 241 for separating) from the main body 110, and a transport unit 242 for moving the latch unit 241.

또한, 상기 래치부(241) 상에 상기 커버(120)가 장착되면, 상기 반송부(242)가 상기 커버(120) 및 래치부(241)를 일측으로 반송하는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, when the cover 120 is mounted on the latch part 241, the transport part 242 may transport the cover 120 and the latch part 241 to one side.

또한, 본 발명은 상기 로드포트 오프너(240)의 일측에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제2샘플링모듈(420);을 더 포함하며, 상기 제1샘플링모듈(410)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 파티클을 수집하고, 상기 제2샘플링모듈(420)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 커버(120)의 파티클을 수집하는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the present invention further includes a second sampling module 420 disposed on one side of the load port opener 240, and fluid injection and fluid suction are performed, wherein the first sampling module 410 is the wafer carrier. (100) Collect particles of the main body 110, the second sampling module 420 may be characterized in that collecting particles of the wafer carrier 100, the cover 120.

또한, 본 발명은 상기 제1샘플링모듈(410)과 파티클배출관(HP)으로 연결되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 내부로부터 배출되는 파티클의 입자 크기 또는 개수를 검출하는 제어연산부(500);를 더 포함할 수 있다.In addition, the present invention is connected to the first sampling module 410 and the particle discharge pipe (H P ), a control operation unit for detecting the particle size or number of particles discharged from the inside of the body 110 of the wafer carrier 100 (500); may further include.

또한, 본 발명은 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)과 파티클배출관(HP)으로 연결되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 및 커버(120)에서 배출되는 파티클의 입자 크기 또는 개수를 각각 검출하는 제어연산부(500);를 더 포함할 수도 있다.In addition, the present invention is connected to the first sampling module 410 and the second sampling module 420 and the particle discharge pipe (H P ), discharged from the body 110 and the cover 120 of the wafer carrier 100 It may further include; a control operation unit 500 for detecting the particle size or number of particles to be each.

또한, 상기 파티클 측정 장치(200)는, 복수의 로드포트(220) 및 복수의 제1샘플링모듈(410)을 포함하여 복수의 웨이퍼캐리어(100)에 대한 파티클 측정이 이루어지는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the particle measuring apparatus 200 may include a plurality of load ports 220 and a plurality of first sampling modules 410, characterized in that the particle measurement of the plurality of wafer carriers 100 is made. .

아울러, 상술한 파티클 측정 장치(200)를 이용한 본 발명의 파티클 측정 방법은, A) 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 웨이퍼캐리어(100)가 장착되는 단계; B-1) 상기 로드포트 도어(230)가 개방되는 단계; B-2) 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 로드포트 오프너(240)로 이송되는 단계; C-1) 상기 로드포트 오프너(240)의 래치부(241)가 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 결합되는 단계; C-2) 상기 반송부(242)가 상기 래치부(241) 및 커버(120)를 일측으로 반송하는 단계; C-3) 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 제1샘플링모듈(410)로 이송되는 단계; 및 D-1) 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110) 내부에 유체를 분사하되, 파티클이 포함된 유체를 흡입하는 단계;를 포함하며, 상기 C-3단계에서, 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 일면이 개방되어, 상기 제1샘플링모듈(410)이 상기 본체(110)의 내부에 배치되는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the particle measuring method of the present invention using the above-described particle measuring device 200, A) the wafer carrier 100 is mounted on the seating portion 221 of the load port 220; B-1) The load port door 230 is opened; B-2) The seating portion 221 is transferred along the guide rail 222 to the load port opener 240; C-1) The latch portion 241 of the load port opener 240 is coupled with the cover 120 of the wafer carrier 100; C-2) the conveying part 242 conveying the latch part 241 and the cover 120 to one side; C-3) The seating portion 221 is transferred along the guide rail 222 to the first sampling module 410; And D-1) injecting a fluid inside the wafer carrier 100 main body 110, and inhaling a fluid containing particles, wherein in step C-3, the wafer carrier 100 main body One surface of 110 may be opened, and the first sampling module 410 may be disposed inside the main body 110.

또한, 상기 파티클 측정 장치(200)는, 상기 로드포트 오프너(240)의 일측에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제2샘플링모듈(420);을 더 포함하며, 상기 파티클 측정 방법은 상기 C-2단계 이후, C-4) 상기 제2샘플링모듈(420)과 커버(120)가 서로 결합하는 단계; 및 D-2) 상기 웨이퍼캐리어(100) 커버(120)에 유체를 공급하되, 파티클이 포함된 유체를 흡입하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the particle measuring device 200, a second sampling module 420 is disposed on one side of the load port opener 240, the fluid injection and fluid suction is made; further comprising, the particle measurement method is the After step C-2, C-4) combining the second sampling module 420 and the cover 120 with each other; And D-2) supplying a fluid to the wafer carrier 100 cover 120, and inhaling the fluid containing particles.

상기와 같은 구성에 의한 본 발명의 파티클 측정 장치 및 파티클 측정 방법은, 측정부 및 유체가 흐르는 관이 고정되어 반복적으로 사용하여도 노화가 발생하는 것을 방지하여, 보다 장기간 사용 가능한 제품을 제공할 수 있는 장점이 있다.The particle measuring apparatus and the particle measuring method of the present invention according to the above configuration can prevent the aging from occurring even after repeated use because the measuring unit and the tube through which the fluid flows are fixed, thereby providing a product that can be used for a longer period of time. There is an advantage.

아울러, 본 발명은 종래 측정부가 이동하면서 발생되거나 잔여한 파티클로 인하여 복수의 웨이퍼캐리어에 대한 정확한 데이터를 검출할 수 없던 문제점을 극복하고, 각 웨이퍼캐리어에 대한 정확한 파티클 측정이 이루어질 수 있으므로 보다 신뢰성 있는 제품을 제공할 수 있는 장점이 있다.In addition, the present invention overcomes the problem that accurate data for a plurality of wafer carriers cannot be detected due to particles generated or remaining while the conventional measurement unit moves, and more accurate measurement of particles can be performed for each wafer carrier. It has the advantage of providing a product.

아울러, 본 발명은 장치 본체 내부를 FFU(Fan Filter Units) 등을 이용하여 파티클이 없는 공간을 유지하면서 측정이 이루어질 수 있어, 최적의 측정 성능을 구현할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, measurement can be performed while maintaining a particle-free space using FFU (Fan Filter Units) or the like inside the apparatus main body, thereby achieving optimal measurement performance.

도 1은 종래기술에 따른 기판 캐리어에서 공기 필터 열화를 검출하기 위한 플로차트.
도 2는 종래기술에 따른 캐리어 및 개폐 도어의 횡단면도.
도 3은 본 발명에 따른 파티클 측정 장치의 사시도.
도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어가 장착되는 것을 도시한 파티클 측정 장치의 사시도.
도 5는 본 발명에 따른 파티클 측정 장치의 정단면도.
도 6은 본 발명에 따른 로드포트 도어가 개방되는 것을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도.
도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어와 로드포트 오프너의 결합과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도.
도 8은 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어 커버의 반송 과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도.
도 9는 발명에 따른 웨이퍼캐리어에 대한 파티클 측정 과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도.1 is a flowchart for detecting air filter degradation in a substrate carrier according to the prior art.
Figure 2 is a cross-sectional view of the carrier and the opening and closing door according to the prior art.
3 is a perspective view of a particle measuring device according to the present invention.
4 is a perspective view of a particle measuring device showing that the wafer carrier according to the present invention is mounted.
5 is a front sectional view of a particle measuring device according to the present invention.
Figure 6 is a front cross-sectional view of the particle measuring device showing that the load port door is opened according to the present invention.
7 is a front cross-sectional view of a particle measuring device showing a process of bonding a wafer carrier and a load port opener according to the present invention.
8 is a front sectional view of a particle measuring device showing a process of conveying a wafer carrier cover according to the present invention.
9 is a front cross-sectional view of a particle measurement device showing a particle measurement process for the wafer carrier according to the invention.

이하 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 웨이퍼캐리어의 파티클 측정 장치를 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 도면들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서 본 발명은 이하 제시되는 도면들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 또한 명세서 전반에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, a particle measuring apparatus of a wafer carrier according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The drawings introduced below are provided as examples in order to sufficiently convey the spirit of the present invention to those skilled in the art. Therefore, the present invention is not limited to the drawings presented below and may be embodied in other forms. Also, the same reference numbers throughout the specification indicate the same components.

이때 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명 및 첨부 도면에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다.At this time, unless there are other definitions in the technical terms and scientific terms used, those having ordinary knowledge in the technical field to which this invention belongs have the meanings commonly understood, and the subject matter of the present invention is unnecessary in the following description and the accompanying drawings. Descriptions of well-known functions and configurations that may be blurred will be omitted.

도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 파티클 측정 장치에 관한 것으로, 도 3은 파티클 측정 장치의 사시도를, 도 4는 웨이퍼캐리어가 장착되는 것을 도시한 파티클 측정 장치의 사시도를 각각 나타낸다.3 and 4 relates to a particle measuring device according to the present invention, Figure 3 is a perspective view of a particle measuring device, Figure 4 is a perspective view of a particle measuring device showing that the wafer carrier is mounted, respectively.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 파티클 측정 장치(200)는 장치 본체(210), 로드포트(220) 및 로드포트 도어(230)를 포함할 수 있다. 그리고 파티클을 측정하기 위한 대상인 웨이퍼캐리어(100)는 본체(110) 및 커버(120)로 구성될 수 있다.3 and 4, the particle measuring device 200 of the present invention may include a device body 210, a load port 220 and a load port door 230. In addition, the wafer carrier 100, which is an object for measuring particles, may be composed of a main body 110 and a cover 120.

상기 장치 본체(210)는 내부가 FFU(Fan Filter Units) 등을 이용하여 청정공간으로 유지되도록 하며, 상기 로드포트 도어(230)는 상기 장치 본체(210)의 일면 상에 형성되어 개폐될 수 있다. 그리고 상기 로드포트(220)는 상기 장치 본체(210)의 외부 상에 설치될 수 있으며, 상기 로드포트(220)는 안착부(221) 및 가이드레일(222)을 포함할 수 있다. The device body 210 allows the inside to be maintained in a clean space using FFU (Fan Filter Units) and the like, and the load port door 230 is formed on one surface of the device body 210 to be opened and closed. . In addition, the load port 220 may be installed on the outside of the device body 210, and the load port 220 may include a seating portion 221 and a guide rail 222.

상기 로드포트(220)의 안착부(221)에는 반송로봇이나 로봇암 등 다양한 기구를 이용하여 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)가 장착될 수 있다. 그리고 상기 안착부(221)는 상기 로드포트 도어(230)가 개방되면 상기 장치 본체(210)의 내부로 인입될 수 있으며, 상기 안착부(221)는 가이드레일(222)의 안내를 통해 왕복 운동될 수 있다. 이에 따라 상기 가이드레일(222)은 일단이 외부로 노출되고 타단은 상기 장치 본체(210)로 연장되도록 형성되며, 상기 로드포트 도어(230)가 상기 가이드레일(222) 상에 위치할 수 있다. The main body 110 of the wafer carrier 100 may be mounted to the seating portion 221 of the load port 220 using various mechanisms such as a transport robot or a robot arm. And the seating portion 221 may be introduced into the interior of the device body 210 when the load port door 230 is opened, and the seating portion 221 reciprocates through the guide of the guide rail 222. Can be. Accordingly, the guide rail 222 is formed such that one end is exposed to the outside and the other end extends to the device body 210, and the load port door 230 can be located on the guide rail 222.

또한 본 발명의 파티클 측정 장치(200)는 복수의 웨이퍼캐리어(100)에 대한 측정공정이 한 번에 이루어지도록 폭 방향을 따라 복수의 로드포트(220) 및 로드포트 도어(230)가 배치될 수 있다. 아울러, 이하 서술하는 로드포트 오프너(240), 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420) 또한 폭 방향을 따라 복수 개가 배치될 수도 있다. 그리고 보다 명확한 설명을 위해 X축 방향을 전후 측 폭 방향으로, Y축 방향을 좌우측 길이 방향으로, Z축 방향을 상하 측 높이 방향으로 임의로 정의하여 설망한다.In addition, the particle measuring apparatus 200 of the present invention may be disposed a plurality of load ports 220 and load port doors 230 along the width direction so that the measurement process for a plurality of wafer carriers 100 is performed at one time. have. In addition, a plurality of load port openers 240, the first sampling module 410, and the second sampling module 420 described below may also be disposed along the width direction. In addition, for clarity, the X-axis direction is arbitrarily defined in the width direction in the front-rear direction, the Y-axis direction in the left-right length direction, and the Z-axis direction in the vertical direction in the vertical direction.

도 5는 본 발명에 따른 파티클 측정 장치에 관한 것으로, 도 5는 도 3의 A-A`선에 따른 파티클 측정 장치의 단면도를 나타낸다.Figure 5 relates to a particle measuring device according to the present invention, Figure 5 shows a cross-sectional view of the particle measuring device along the line A-A` in FIG.

도 5를 참조하면, 본 발명의 파티클 측정 장치(200)는 상기 로드포트 도어(230)를 기준으로 외부 및 내부가 임의로 구분될 수 있다. 그리고 상기 로드포트 도어(230)의 길이방향 일측에는 로드포트(220)가 배치될 수 있으며, 길이방향 타측에는 제1샘플링모듈(410)이 배치될 수 있다. 그리고 상기 제1샘플링모듈(410)은 파티클의 입자 크기 또는 개수 등을 센싱하는 제어연산부(500)와 유체관으로 연결될 수 있으며, 상기 유체관은 크게 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP)으로 나뉠 수 있다. 상기 유체공급관(HF)은 질소가스 등의 유체(F)가 공급되는 관으로 형성될 수 있으며, 상기 파티클배출관(HP)은 상기 제1샘플링모듈(410)을 통해 분사된 유체(F)가 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 내부에서 유동된 후에 파티클과 혼유하여 배출되는 관일 수 있다. 여기서 상기 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP)은 유연한 튜브형으로 구성될 수 있으며, 본 발명에서는 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)이 고정되기에 상기 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP)이 리기드(Rigid)한 터널 형태일 수도 있다. 그리고 상기 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP) 상에는 펌프 및 각종 밸브가 배치될 수도 있다. Referring to FIG. 5, the particle measurement apparatus 200 of the present invention may be arbitrarily divided into an exterior and an interior based on the load port door 230. In addition, a load port 220 may be disposed on one side in the longitudinal direction of the load port door 230, and a first sampling module 410 may be disposed on the other side in the longitudinal direction. In addition, the first sampling module 410 may be connected to the control operation unit 500 to sense the particle size or number of particles and the fluid pipe, and the fluid pipe is largely a fluid supply pipe H F and a particle discharge pipe H P ). The fluid supply pipe (H F ) may be formed of a pipe through which a fluid (F) such as nitrogen gas is supplied, and the particle discharge pipe (H P ) is a fluid (F) injected through the first sampling module 410. It may be a tube that is discharged by mixing with the particles after flowing in the body 110 of the wafer carrier 100. Here, the fluid supply pipe (H F ) and the particle discharge pipe (H P ) may be configured in a flexible tube type, and in the present invention, the first supply module 410 and the second sampling module 420 are fixed, so the fluid supply pipe (H F ) and particle discharge pipe (H P ) may be in the form of a rigid (Rigid) tunnel. In addition, a pump and various valves may be disposed on the fluid supply pipe H F and the particle discharge pipe H P.

상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)는 복수의 웨이퍼가 수용되도록 중공될 수 있으며, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)는 본체(110) 상에서 분리되면 해당 영역이 개방되도록 구성될 수 있다. 그리고 상기 웨이퍼캐리어(100)는 상기 커버(120)가 상기 로드포트 도어(230)와 대향하도록 상기 본체(110)가 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 장착될 수 있다. 그리고 도시되지는 않았으나, 상기 가이드레일(222)은 도면 상에서 좌우측 방향으로 연장될 수 있으며, 상기 로드포트도어(230), 로드포트 오프너(240) 및 제1측정부(410)가 순차적으로 배치될 수 있다. The body 110 of the wafer carrier 100 may be hollow to accommodate a plurality of wafers, and the cover 120 of the wafer carrier 100 may be configured to open a corresponding area when it is separated on the body 110. have. In addition, in the wafer carrier 100, the body 110 may be mounted on the seating portion 221 of the load port 220 so that the cover 120 faces the load port door 230. And although not shown, the guide rail 222 may extend in the left and right directions on the drawing, and the load port door 230, the load port opener 240, and the first measurement unit 410 may be sequentially arranged. Can.

상기 로드포트 오프너(240)는 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)에서 커버(120)를 분리할 수 있다. 그리고 본 발명으 상기 로드포트 오프너(240)와 커버(120)가 결합될 수 있으며, 상기 커버(120)와 결합된 상태에서 상기 로드포트 오프너(240)가 일측으로 반송될 수 있다. 도면 상에서는 상측으로 반송되는 구조로 도시되어 있으나, 하측으로 반송되거나 전후방향으로 반송되는 등 다양한 형태로 이루어질 수 있다. 또는 복수의 웨이퍼캐리어(100)가 전후방향으로 배치될 때에는 상기 로드포트 오프너(240)가 상측 또는 하측으로 구동될 수 있다. 여기서, 상기 로드포트 오프너(240)가 구동되는 방향, 도면 상에서는 상측에 제2샘플링모듈(420)가 고정 배치될 수 있다. 그리고 상기 제2샘플링모듈(420) 또한 유체공급관(HF) 및 파티클배출관(HP)으로 상기 제어연산부(500)와 연결될 수 있다. 이때 상기 제어연산부(500)는 하나의 제어 프로세서가 아닌, 유체를 보관하는 유체탱크, 프로세서, 파티클을 검출하는 센서, 유량센서 등이 서로 별개로 분리된 집합체일 수 있다. 이에 따라 상기 유체공급관(HF)은 유체탱크와 연결되고, 상기 파티클배출관(HP)은 별개의 탱크 또는 외부와 연결되되 관 상에 각종 센서들이 배치된 형태로 이루어질 수 있다. 그리고 상기 센서들은 상기 프로세서와 연결되어 측정데이터를 전송하도록 이루어질 수 있으며, 상기 제어연산부(500)에는 별도의 출력장치가 마련되어 데이터통신을 통해 전송되거나 디스플레이 되도록 구성될 수도 있다. 이때 상기 제어연산부(500)의 엔서는 발생된 파티클의 입자 크기, 파티클의 개수 등을 검출하여 수집할 수 있다.The load port opener 240 may separate the cover 120 from the main body 110 of the wafer carrier 100. And in the present invention, the load port opener 240 and the cover 120 may be combined, and in the state combined with the cover 120, the load port opener 240 may be conveyed to one side. Although shown in the figure as a structure conveyed to the upper side, it may be made in various forms such as being conveyed to the lower side or conveyed in the front-rear direction. Alternatively, when the plurality of wafer carriers 100 are disposed in the front-rear direction, the load port opener 240 may be driven upward or downward. Here, in the direction in which the load port opener 240 is driven, the second sampling module 420 may be fixedly disposed on the upper side in the drawing. In addition, the second sampling module 420 may also be connected to the control operation unit 500 through a fluid supply pipe H F and a particle discharge pipe H P. In this case, the control operation unit 500 may be a collection of fluid tanks for storing fluid, processors, sensors for detecting particles, flow sensors, and the like, separately from each other, rather than one control processor. Accordingly, the fluid supply pipe (H F ) is connected to the fluid tank, and the particle discharge pipe (H P ) is connected to a separate tank or the outside, but may be formed in a form in which various sensors are disposed on the pipe. In addition, the sensors may be connected to the processor to transmit measurement data, and a separate output device may be provided in the control operation unit 500 to be configured to be transmitted or displayed through data communication. In this case, the control unit 500 may detect and collect the particle size of the generated particles, the number of particles, and the like.

또한 상기 제1샘플링모듈(410)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 내부에서 파티클을 수집하고, 상기 제2샘플링모듈(420)은 도면 상에서는 좌측 면인 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)의 내측면에서 파티클을 수집할 수 있다. 그리고 상기 제1샘플링모듈(410)은 복수의 분사노즐이 형성되되, 복수의 상기 분사노즐은 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110) 내부의 서로 다른 면에 대해서 유체를 분사하도록 구성될 수 있다. 이에 따라 상기 제1샘플링모듈(410)은 상기 본체(110)의 내측 상면, 하면, 측면 등 각 면에 대해서 순차적으로 파티클이 수집되도록 제어될 수 있다.In addition, the first sampling module 410 collects particles inside the main body 110 of the wafer carrier 100, and the second sampling module 420 covers the wafer carrier 100, which is the left side in the drawing ( Particles may be collected on the inner side of 120). In addition, the first sampling module 410 is formed with a plurality of injection nozzles, and the plurality of injection nozzles may be configured to spray fluids on different surfaces inside the main body 110 of the wafer carrier 100. Accordingly, the first sampling module 410 may be controlled such that particles are sequentially collected for each surface such as an inner upper surface, a lower surface, and a side surface of the main body 110.

도 6 내지 도 9는 본 발명에 따른 파티클 측정 장치를 이용한 파티클 측정 방법에 관한 것으로, 도 6은 로드포트 도어가 개방되는 것을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도를, 도 7은 웨이퍼캐리어와 로드포트 오프너의 결합과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도를, 도 8은 웨이퍼캐리어 커버의 반송 과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도를, 도 9는 웨이퍼캐리어에 대한 파티클 측정 과정을 도시한 파티클 측정 장치의 정단면도를 각각 나타낸다.6 to 9 relates to a particle measuring method using a particle measuring device according to the present invention, Figure 6 is a front cross-sectional view of the particle measuring device showing that the load port door is opened, Figure 7 is a wafer carrier and a load port Fig. 8 is a front cross-sectional view of a particle measuring device showing a coupling process of an opener, Fig. 8 is a front cross-sectional view of a particle measuring device showing a conveying process of a wafer carrier cover, and Fig. 9 is a particle measuring process showing a particle measuring process for a wafer carrier. Each of the front sectional views of the device is shown.

먼저 도 6을 참조하면, 본 발명은 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 웨이퍼캐리어(100)가 장착될 수 있다. 그리고 상기 웨이퍼캐리어(100)가 장착된 후 상기 로드포트 도어(230)가 개방되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)가 상기 장치 본체(210) 내부로 들어가기 위한 입구가 형성될 수 있다. 이때 상기 제어연산부(500)는, 상기 웨이퍼캐리어(100)가 안착부(221) 상에 장착되는 것이 센싱되면 일정 시간 후 상기 로드포트 도어(230)가 개방되도록 제어할 수도 있다. Referring first to FIG. 6, the present invention may be equipped with a wafer carrier 100 on a seating portion 221 of the load port 220. In addition, after the wafer carrier 100 is mounted, the load port door 230 is opened, and an entrance for the wafer carrier 100 to enter the apparatus body 210 may be formed. In this case, the control operation unit 500 may control the load port door 230 to be opened after a certain time when it is sensed that the wafer carrier 100 is mounted on the seating unit 221.

이어 도 7을 참조하면, 상기 웨이퍼캐리어(100)와 안착부(221)는 상기 장치 본체(210) 내부로 반송될 수 있다. 그리고 상기 웨이퍼캐리어(100)는 본체(110)의 일측에 배치된 커버(120)가 상기 로드포트 오프너(240)와 접할 수 있다. 보다 상세히는 상기 로드포트 오프너(240)는 래치부(241) 및 반송부(242)를 포함할 수 있으며, 상기 래치부(241)는 상기 가이드레일(222) 상에 배치되되 상기 반송부(242)가 상기 래치부(241)를 상측으로 이동시킬 수 있다. 여기서, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)는 상기 래치부(241)와 결합되면서 상기 본체(110)와 분리될 수 있다. 이때 상기 제어연산부(500)는, 상기 로드포트 도어(230)가 개방되면 상기 가이드레일(222)을 작동시켜 상기 웨이퍼캐리어(100)와 안착부(221)가 반송되도록 제어할 수 있다.Subsequently, referring to FIG. 7, the wafer carrier 100 and the seating portion 221 may be transported into the apparatus body 210. In addition, the wafer carrier 100 may have a cover 120 disposed on one side of the main body 110 in contact with the load port opener 240. In more detail, the load port opener 240 may include a latch portion 241 and a transfer portion 242, and the latch portion 241 is disposed on the guide rail 222, but the transfer portion 242 ) May move the latch portion 241 upward. Here, the cover 120 of the wafer carrier 100 may be separated from the main body 110 while being engaged with the latch portion 241. In this case, when the load port door 230 is opened, the control operation unit 500 may operate the guide rail 222 to control the wafer carrier 100 and the seating unit 221 to be conveyed.

이어 도 8을 참조하면, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 상기 래치부(241)와의 결합이 완료되면, 상기 래치부(241)는 상기 반송부(242)를 통해 상기 커버(120)와 함께 상측으로 반송될 수 있다. 그리고 상기 래치부(241)에 결합된 상기 커버(120)는 상기 제2샘플링모듈(420)과 결합될 수 있다. 이에 따라 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)는 커버(120)가 배치된 측이 개방될 수 있다.Next, referring to FIG. 8, when the combination of the cover 120 of the wafer carrier 100 and the latch part 241 is completed, the latch part 241 is provided with the cover 120 through the transport part 242. ). In addition, the cover 120 coupled to the latch portion 241 may be coupled to the second sampling module 420. Accordingly, the body 110 of the wafer carrier 100 may have a side on which the cover 120 is disposed.

이어 도 9를 함께 참조하면, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110)는 가이드레일(222)을 따라 더 이동하여 상기 제1샘플링모듈(410)이 상기 본체(110) 내부에 배치될 수 있다. 아울러 상기 로드포트 도어(230)가 폐쇄되어 상기 장치 본체(210) 내부를 밀폐할 수 있다. 그리고 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)은 각각 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 및 커버(120)와 결합될 수 있다. 이어 유체공급관(HF)을 통해 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)로 유체(F)가 공급되어 파티클에 대한 샘플링이 이루어질 수 있다. 그리고 상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)은, 파티클이 혼유된 유체를 흡입하고 상기 파티클배출관(HP)을 통해 파티클 검출이 이루어지는 제어연산부(500)로 배출할 수 있다. 이에 따라 본 발명은 상기 웨이퍼캐리어(100)에 대한 정화 작업과 더불어, 공정 설비 내부나 외진 지역의 오염 상황을 수집된 파티클을 통해 간접측정 및 분석할 수 있으며, 보다 품질이 좋은 웨이퍼를 생산할 수 있는 기반을 제공할 수 있는 장점이 있다.Subsequently, referring to FIG. 9, the main body 110 of the wafer carrier 100 further moves along the guide rail 222 so that the first sampling module 410 may be disposed inside the main body 110. . In addition, the load port door 230 may be closed to seal the inside of the device body 210. In addition, the first sampling module 410 and the second sampling module 420 may be combined with the body 110 and the cover 120 of the wafer carrier 100, respectively. Subsequently, the fluid F is supplied to the first sampling module 410 and the second sampling module 420 through the fluid supply pipe H F to sample particles. In addition, the first sampling module 410 and the second sampling module 420 may suck the fluid mixed with particles and discharge them to the control operation unit 500 in which particle detection is performed through the particle discharge pipe H P. . Accordingly, the present invention, in addition to the purification operation for the wafer carrier 100, can be measured and analyzed indirectly through the collected particles of the pollution situation inside or outside the process facility, can produce a higher quality wafer It has the advantage of being able to provide a foundation.

이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 일 실시예에 한정되는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.As described above, in the present invention, specific matters such as specific components and the like have been described by a limited embodiment drawing, but this is provided only to help a more general understanding of the present invention, and the present invention is limited to the above-described one embodiment No, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains are capable of various modifications and variations from these descriptions.

따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술되는 특허 청구 범위뿐 아니라 이 특허 청구 범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Therefore, the spirit of the present invention is not limited to the described embodiments, and should not be determined, and all claims that are equivalent to or equivalent to the scope of the present invention as well as the scope of the claims described below belong to the scope of the spirit of the present invention. will be.

HF : 유체공급관 HP : 파티클배출관
100 : 웨이퍼캐리어
110 : 본체 120 : 커버
200 : 파티클 측정 장치
210 : 장치 본체 220 : 로드포트(Load Port)
221 : 안착부 222 : 가이드레일
230 : 로드포트 도어 240 : 로드포트 오프너
241 : 래치부 242 : 반송부
410 : 제1샘플링모듈 420 : 제2샘플링모듈
500 : 제어연산부H F : Fluid supply pipe H P : Particle discharge pipe
100: wafer carrier
110: body 120: cover
200: particle measuring device
210: device body 220: Load Port (Load Port)
221: seating portion 222: guide rail
230: Roadport door 240: Roadport opener
241: latch portion 242: conveying portion
410: first sampling module 420: second sampling module
500: control operation unit

Claims (9)

웨이퍼캐리어(100)의 파티클을 측정하기 위한 파티클 측정 장치(200)에 있어서,
장치 본체(210);
상기 장치 본체(210)의 내부에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제1샘플링모듈(410);
상기 장치 본체(210)의 외부에 배치되되 상기 웨이퍼캐리어(100)가 장착되는 안착부(221) 및 상기 안착부(221) 및 상기 제1샘플링모듈(410) 사이를 연결하는 가이드레일(222)을 포함하는 로드포트(220); 및
상기 가이드레일(222) 상에 배치되되 상기 장치 본체(210)의 내부를 밀폐하도록 개폐되는 로드포트 도어(230);
를 포함하고,
유체가 흐르는 관과 연결된 상기 제1샘플링모듈(410)은 고정되되,
상기 로드포트 도어(230)가 개방되면, 웨이퍼캐리어(100)가 장착된 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 제1샘플링모듈(410)로 이동하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
In the particle measuring apparatus 200 for measuring the particles of the wafer carrier 100,
The device body 210;
A first sampling module 410 disposed inside the apparatus main body 210 and having fluid injection and fluid suction;
A guide rail 222 that is disposed outside the main body 210 and connects between the seating portion 221 on which the wafer carrier 100 is mounted, and the seating portion 221 and the first sampling module 410. Load port 220 comprising a; And
A load port door 230 disposed on the guide rail 222 and opened and closed to seal the inside of the device body 210;
Including,
The first sampling module 410 connected to the pipe through which the fluid flows is fixed,
When the load port door 230 is opened, a particle measurement characterized in that the seating portion 221 on which the wafer carrier 100 is mounted moves along the guide rail 222 to the first sampling module 410. Device 200.
제1항에 있어서,
상기 가이드레일(222) 상에 배치되되, 상기 로드포트 도어(230)와 제1샘플링모듈(410) 사이에 배치되는 로드포트 오프너(240);
를 더 포함하고,
상기 웨이퍼캐리어(100)는 본체(110) 및 커버(120)로 구성되며,
상기 로드포트 오프너(240)는,
상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 결합되어 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)를 본체(110)로부터 분리하는 래치부(241) 및, 상기 래치부(241)를 이동시키는 반송부(242)를 포함하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
According to claim 1,
A load port opener 240 disposed on the guide rail 222 and disposed between the load port door 230 and the first sampling module 410;
Further comprising,
The wafer carrier 100 is composed of a body 110 and a cover 120,
The load port opener 240,
The latch unit 241 is coupled to the cover 120 of the wafer carrier 100 to separate the cover 120 of the wafer carrier 100 from the main body 110, and the transfer to move the latch unit 241 Particle measuring device 200, characterized in that it comprises a portion (242).
제2항에 있어서,
상기 래치부(241) 상에 상기 커버(120)가 장착되면,
상기 반송부(242)가 상기 커버(120) 및 래치부(241)를 일측으로 반송하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
According to claim 2,
When the cover 120 is mounted on the latch portion 241,
Particle measuring apparatus 200, characterized in that the conveying unit 242 conveys the cover 120 and the latch unit 241 to one side.
제3항에 있어서,
상기 로드포트 오프너(240)의 일측에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제2샘플링모듈(420);
을 더 포함하며,
상기 제1샘플링모듈(410)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 파티클을 수집하고,
상기 제2샘플링모듈(420)은 상기 웨이퍼캐리어(100) 커버(120)의 파티클을 수집하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
According to claim 3,
A second sampling module 420 disposed on one side of the load port opener 240 and performing fluid injection and fluid suction;
Further comprising,
The first sampling module 410 collects particles of the main body 110 of the wafer carrier 100,
The second sampling module 420 collects particles of the wafer carrier (100) cover (120) Particle measuring device (200).
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1샘플링모듈(410)과 파티클배출관(HP)으로 연결되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 내부로부터 배출되는 파티클의 입자 크기 또는 개수를 검출하는 제어연산부(500);
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
The method according to any one of claims 1 to 4,
A control operation unit 500 connected to the first sampling module 410 and a particle discharge pipe H P to detect particle size or number of particles discharged from the inside of the body 110 of the wafer carrier 100;
Particle measuring apparatus 200 further comprising a.
제4항에 있어서,
상기 제1샘플링모듈(410) 및 제2샘플링모듈(420)과 파티클배출관(HP)으로 연결되어, 상기 웨이퍼캐리어(100)의 본체(110) 및 커버(120)에서 배출되는 파티클의 입자 크기 또는 개수를 각각 검출하는 제어연산부(500);
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
According to claim 4,
Particle size of particles discharged from the body 110 and the cover 120 of the wafer carrier 100 by being connected to the first sampling module 410 and the second sampling module 420 and the particle discharge tube H P Or a control operation unit 500 for detecting the number of each;
Particle measuring apparatus 200 further comprising a.
제1항에 있어서,
상기 파티클 측정 장치(200)는,
복수의 로드포트(220) 및 복수의 제1샘플링모듈(410)을 포함하여 복수의 웨이퍼캐리어(100)에 대한 파티클 측정이 이루어지는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 장치(200).
According to claim 1,
The particle measuring device 200,
Particle measuring apparatus 200, characterized in that the particle measurement is performed on a plurality of wafer carriers 100, including a plurality of load ports 220 and a plurality of first sampling modules 410.
제2항의 파티클 측정 장치(200)를 이용한 파티클 측정 방법에 있어서,
A) 상기 로드포트(220)의 안착부(221) 상에 웨이퍼캐리어(100)가 장착되는 단계;
B-1) 상기 로드포트 도어(230)가 개방되는 단계;
B-2) 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 로드포트 오프너(240)로 이송되는 단계;
C-1) 상기 로드포트 오프너(240)의 래치부(241)가 상기 웨이퍼캐리어(100)의 커버(120)와 결합되는 단계;
C-2) 상기 반송부(242)가 상기 래치부(241) 및 커버(120)를 일측으로 반송하는 단계;
C-3) 상기 안착부(221)가 가이드레일(222)을 따라 상기 제1샘플링모듈(410)로 이송되는 단계; 및
D-1) 상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110) 내부에 유체를 분사하되, 파티클이 포함된 유체를 흡입하는 단계;
를 포함하며,
상기 C-3단계에서,
상기 웨이퍼캐리어(100) 본체(110)의 일면이 개방되어,
상기 제1샘플링모듈(410)이 상기 본체(110)의 내부에 배치되는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 방법.
In the particle measuring method using the particle measuring apparatus 200 of claim 2,
A) the wafer carrier 100 is mounted on the seating portion 221 of the load port 220;
B-1) The load port door 230 is opened;
B-2) The seating portion 221 is transferred along the guide rail 222 to the load port opener 240;
C-1) The latch portion 241 of the load port opener 240 is coupled with the cover 120 of the wafer carrier 100;
C-2) the conveying part 242 conveying the latch part 241 and the cover 120 to one side;
C-3) The seating portion 221 is transferred along the guide rail 222 to the first sampling module 410; And
D-1) spraying a fluid inside the main body 110 of the wafer carrier 100, and inhaling a fluid containing particles;
It includes,
In step C-3,
One surface of the main body 110 of the wafer carrier 100 is opened,
Particle measurement method characterized in that the first sampling module 410 is disposed inside the body (110).
제8항에 있어서,
상기 파티클 측정 장치(200)는,
상기 로드포트 오프너(240)의 일측에 배치되고, 유체 분사 및 유체 흡입이 이루어지는 제2샘플링모듈(420);을 더 포함하며,
상기 파티클 측정 방법은 상기 C-2단계 이후,
C-4) 상기 제2샘플링모듈(420)과 커버(120)가 서로 결합하는 단계; 및
D-2) 상기 웨이퍼캐리어(100) 커버(120)에 유체를 공급하되, 파티클이 포함된 유체를 흡입하는 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파티클 측정 방법.The method of claim 8,
The particle measuring device 200,
It is disposed on one side of the load port opener 240, the second sampling module 420 is made of fluid injection and fluid suction; further comprises,
The particle measurement method after the C-2 step,
C-4) the second sampling module 420 and the cover 120 are coupled to each other; And
D-2) supplying fluid to the cover 120 of the wafer carrier 100, and inhaling the fluid containing particles;
Particle measurement method characterized in that it further comprises.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150092170A (en) * 2012-11-30 2015-08-12 아딕슨 배큠 프로덕츠 Station and method for measuring particulate contamination of a transport chamber for conveying and atmospherically storing semiconductor substrates
KR101853298B1 (en) * 2016-11-02 2018-04-30 주식회사 아이에스티이 Apparatus of loading and unloading of carrier for cleaning and method of loading and unloading the carrier
KR20190035720A (en) * 2016-08-08 2019-04-03 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤 Load Port and Wafer Transfer Method
KR20190046581A (en) 2017-10-26 2019-05-07 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 Substrate carrier deterioration detection and repair
KR20190067106A (en) 2017-12-06 2019-06-14 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate carrying in and out apparatus, substrate processing apparatus and antistatic method of substrate conveying container

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150092170A (en) * 2012-11-30 2015-08-12 아딕슨 배큠 프로덕츠 Station and method for measuring particulate contamination of a transport chamber for conveying and atmospherically storing semiconductor substrates
KR20190035720A (en) * 2016-08-08 2019-04-03 신에쯔 한도타이 가부시키가이샤 Load Port and Wafer Transfer Method
KR101853298B1 (en) * 2016-11-02 2018-04-30 주식회사 아이에스티이 Apparatus of loading and unloading of carrier for cleaning and method of loading and unloading the carrier
KR20190046581A (en) 2017-10-26 2019-05-07 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 Substrate carrier deterioration detection and repair
KR20190067106A (en) 2017-12-06 2019-06-14 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate carrying in and out apparatus, substrate processing apparatus and antistatic method of substrate conveying container

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