KR102046200B1 - 에지라이트형 백라이트장치 및 광확산성 부재 - Google Patents

Abstract

본 발명의 에지라이트형 백라이트장치는 도광판, 도광판의 일단부에 배치된 광원 및 도광판의 광출사면 상에 광확산성 시트와 프리즘 시트를 순서대로 가지고 이루어지고, 상기 프리즘 시트의 굴절률이 1.60을 초과하며, 상기 도광판의 일단부를 따른 방향에 대해 직교하는 면에 있어서의 상기 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 광출사면의 법선방향에 대해 48~58°의 각도 범위 내에 있고, 상기 광확산성 시트의 광출사면의 출사광이 상기 출사광 분포의 피크의 각도 범위로부터 상기 법선방향에 대해 -90° 또는 90°의 출사 각도를 향함에 따라 점감한다. 이 에지라이트형 백라이트장치로는 고굴절률 프리즘 시트의 특성을 살린 높은 정면 휘도 및 확산성이 발휘된다.

Description

에지라이트형 백라이트장치 및 광확산성 부재{Edge light-type backlight device and light diffusion member}

본 발명은 일반적으로 액정표시장치 등에 사용되는 에지라이트형 백라이트장치에 관한 것으로, 종래의 백라이트장치와 비교하여 높은 정면 휘도 및 확산성이 발휘되는 백라이트장치에 관한 것이다.

최근 들어 컬러 액정표시장치가 노트형 PC, 데스크탑형 PC, 태블릿 단말, 스마트폰, 휴대전화, PDA, 카네비게이션 장치, PND, 게임 기기, 휴대 음악 플레이어 등 여러 분야에서 사용되고 있다. 컬러 액정표시장치는 액정 셀과 백라이트를 구비하고 있고, 백라이트의 구조로서는 광원을 확산판을 매개로 액정 셀의 바로 아래에 설치한 직하형의 구조, 또는 광원을 도광판의 측면에 설치한 에지라이트 방식의 구조 등이 알려져 있다.

이러한 백라이트에는 광원으로부터의 빛을 균일하게 하기 위해 도광판 또는 확산판의 광출사면 상에 광확산성 시트, 그 밖에 정면 휘도를 높이기 위해 프리즘 시트 등의 광학부재가 적층되어 있다(특허문헌 1).

특히 최근 들어 태블릿 단말, 스마트폰, 휴대전화 등의 분야에 있어서는 보다 고정세의 영상이 시인 가능한 환경하에 있다. 이러한 고정세의 영상을 시인 가능하게 하기 위해서 액정표시장치에 구비되는 액정 셀의 액정 화소가 점점 더 작아지는 경향에 있다. 액정 화소가 작은 액정표시장치의 경우는 액정의 개구율이 저하되게 되기 때문에, 종래에 비해 광원으로부터의 빛의 투과율이 심하게 저하되어, 정면 휘도가 부족한 것이 되어 버린다.

이러한 정면 휘도의 저하를 개선하기 위해 광학부재의 개량이 이루어지고 있다(특허문헌 2). 예를 들면 특허문헌 2에서는 프리즘 시트에 관해서 종래보다도 굴절률이 높은 설계로 함으로써 정면 휘도의 향상을 도모하고 있다.

일본국 특허공개 평9-127314호 공보(청구항 1, 단락번호 0034) 일본국 특허공표 제2008-503774호 공보

특허문헌 2에는 굴절률이 높은 프리즘 시트(이하, 「고굴절률 프리즘 시트」라고 하는 경우도 있다)와 그것을 사용한 디스플레이 디바이스가 개시되어 있지만, 고굴절률 프리즘 시트와 조합시키는 광확산성 시트에 관해서 구체적인 기재는 없다. 고굴절률 프리즘 시트는 프리즘 시트에 입사한 빛이 출사하는 출사각 특성이 종래의 프리즘 시트와 상이하기 때문에, 종래의 광확산성 시트를 단순하게 사용하는 것으로는 고굴절률 프리즘 시트의 출사각 특성을 충분히 유효하게 이용할 수 없어, 백라이트장치로서의 정면 휘도 및 확산성이 충분히 발휘되지 않게 된다.

이에 본 발명은 고굴절률 프리즘 시트의 특성에 적응한 높은 정면 휘도 및 확산성이 발휘되는 광확산성 시트를 사용한 에지라이트형 백라이트장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자는 전술한 문제점에 관해서 예의 검토한 결과, 광확산성 시트에 입사한 빛의 출사광의 출사광 분포의 피크가 특정 범위가 되도록 제어함으로써, 고굴절률 프리즘 시트와 병용했을 때에 에지라이트형 백라이트장치로서 높은 정면 휘도 및 확산성이 발휘되는 것을 발견하고 본 발명에 도달한 것이다.

즉, 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치는 도광판, 상기 도광판의 일단부에 배치된 광원 및 상기 도광판의 광출사면 상에 순서대로 배치된 광확산성 시트와 프리즘 시트를 가지고 이루어진 것으로서, 프리즘 시트의 굴절률이 1.60을 초과하는 것이며, 상기 도광판의 일단부를 따른 방향에 대해 직교하는 면에 있어서의 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 광출사면의 법선방향에 대해 +48~+58°의 각도 범위 내에 있고, 광확산성 시트의 광출사면의 출사광이 출사광 분포의 피크의 각도 범위로부터 법선방향에 대해 -90° 또는 +90°의 출사 각도를 향함에 따라 점감하는 것을 특징으로 하는 것이다.

또한 본 발명에 있어서 출사광의 각도는 도광판의 일단부를 따른 방향에 대해 직교하는 면에 있어서 광출사면의 법선방향을 0°로 했을 때, 법선방향보다도 광원이 배치되어 있는 쪽을 향하는 출사광의 각도를 「-」, 그 반대 측을 향하는 출사광의 각도를 「+」라 정의한다.

또한 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치는 바람직하게는 광확산성 시트가 투명 수지 필름의 한쪽 면에 확산층을 구비한 것으로, 상기 확산층이 바인더 수지 및 평균 입경 5 ㎛ 이하의 입자를 포함하고, 상기 입자의 함유 비율이 상기 바인더 수지 100 중량부에 대해 50~150 중량부인 것을 특징으로 하는 것이다.

또한 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치는 바람직하게는 상기 광확산성 시트가 상기 투명 수지 필름의 상기 확산층을 구비한 면과는 반대면에 백코트층을 구비한 것으로, 상기 백코트층이 나일론 수지 입자 및/또는 실리콘 수지 입자를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.

또한 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치는 바람직하게는 상기 광확산성 시트가 상기 투명 수지 필름의 상기 확산층을 구비한 면과는 반대면에 확산성 백코트층을 구비한 것으로, 상기 확산성 백코트층의 헤이즈가 상기 확산층의 헤이즈보다도 낮은 것을 특징으로 하는 것이다.

또한 본 발명에 있어서의 헤이즈란 JIS K7136：2000을 토대로 하는 헤이즈값을 말한다.

또한 본 발명의 광확산성 부재는 도광판과 상기 도광판의 일단부에 배치된 광원을 포함하여 구성되어 이루어지는 에지라이트형 백라이트장치의 상기 도광판 상에 배치되는 것으로, 프리즘 시트와 광확산성 시트를 포함하고, 상기 프리즘 시트의 굴절률이 1.60을 초과하며, 상기 도광판의 일단부를 따른 방향에 대해 직교하는 면에 있어서의 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 광출사면의 법선방향에 대해 +48~+58°의 각도 범위 내에 있고, 광확산성 시트의 광출사면의 출사광이 출사광 분포의 피크의 각도 범위로부터 법선방향에 대해 -90° 또는 +90°의 출사 각도를 향함에 따라 점감하는 것을 특징으로 하는 것이다.

본 발명에 의하면 종래의 에지라이트형 백라이트장치보다도 정면 휘도 및 확산성이 우수한 에지라이트형 백라이트장치가 제공된다.

또한 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치는 효율적으로 정면 휘도 및 확산성을 향상시킬 수 있기 때문에 액정표시장치의 저소비전력화에 이바지한다.

도 1은 본 발명에서 사용되는 프리즘 시트의 일실시형태를 나타내는 단면 확대도이다.
도 2는 광확산성 시트로부터의 출사광의 출사예를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치의 일실시형태를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 평가방법을 보충하는 참고도이다.

아래에 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치 및 광확산성 부재의 실시형태를 설명한다. 먼저 에지라이트형 백라이트장치에 사용되는 광확산성 부재에 대해서 설명한다.

본 발명의 광확산성 부재는 고굴절률의 프리즘 시트와 광확산성 시트를 포함하는 것으로, 도광판과 도광판의 일단부에 배치된 광원을 포함하여 구성되어 이루어지는 에지라이트형 백라이트장치에 있어서 도광판 상에 광확산성 시트, 프리즘 시트의 순서대로 배치된다.

본 발명의 광확산성 부재는 프리즘 시트의 굴절률이 1.60을 초과하는 것으로, 광원이 배치되는 도광판의 일단부를 따른 방향에 대해 직교하는 면에 있어서의 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 광출사면의 법선방향에 대해 +48°~+58°의 각도 범위 내에 있고, 광확산성 시트의 광출사면의 출사광이 출사광 분포의 피크의 각도 범위로부터 법선방향에 대해 -90° 또는 +90°의 출사 각도를 향함에 따라 점감한다.

아래에 광확산 부재(20)를 구성하는 각 요소, 프리즘 시트와 광확산성 시트에 대해서 설명한다.

본 발명의 프리즘 시트는 굴절률이 1.60을 초과하는 것을 사용한다. 일반적인 프리즘 시트의 굴절률은 1.50~1.60 정도인 것에 대해, 본 발명에서는 이것보다도 굴절률이 높은 것을 사용한다. 이와 같이 고굴절률의 것을 사용함으로써 도광판으로부터의 빛을 효율적으로 정면방향으로 쏘아 올릴 수 있을 뿐 아니라, 본 발명에서 사용하는 광확산성 시트와 조합시킴으로써 종래보다도 정면 휘도 및 확산성이 우수한 백라이트장치로 할 수 있다.

본 발명의 프리즘 시트는 한쪽 면에 단면이 대략 삼각 형상인 구조열이 복수 병렬하여 구성되어 있다. 이들 대략 삼각 형상의 구조열의 꼭지각은 80~105°의 범위 내인 것이 바람직하다. 대략 삼각 형상의 구조열의 형상은 피크가 첨예한 형상이어도, 구조열의 선단부에 약간의 R을 부여한 것이어도 상관없다. 도 1에 프리즘 시트의 일례를 나타낸다.

구조열의 피크 간 피치는 10~40 ㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. 또한 구조열의 피크 높이는 5~20 ㎛의 범위 내인 것이 바람직하다.

본 발명의 프리즘 시트의 구성으로서는 대략 삼각 형상의 구조열이 형성된 수지층 단층으로 이루어지는 것이어도 되고, 구조열이 형성된 수지층을 평탄한 지지체 상에 적층한 것이어도 된다.

후자의 경우, 지지체로서는 광학적 투명성이 높은 플라스틱 필름을 사용할 수 있고, 후술하는 광확산성 시트의 지지체로서 사용되는 것과 동일한 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 연신 가공, 특히 이축 연신된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 기계적 강도, 치수 안정성이 우수하기 때문에 적합하게 사용된다. 이러한 지지체는 플라즈마 처리, 코로나 방전 처리, 원자외선 조사 처리, 언더코팅 이(易)접착층의 형성 등의 이접착 처리가 실시된 것을 사용하는 것이 바람직하다.

또한 지지체의 굴절률을 향상시키기 위해 산화알루미늄, 산화지르코늄, 산화티탄, 산화주석, 산화안티몬, 실리카 등의 무기 나노 입자(입경이 1~100 ㎚ 정도인 무기 입자)를 반죽해 넣어 형성해도 상관없다.

지지체의 두께는 특별히 한정되지 않아 적용되는 재료에 대해 적절히 선택할 수 있지만, 일반적으로 25~500 ㎛이고, 바람직하게는 50~300 ㎛로 한다.

다음으로 단면이 대략 삼각 형상인 구조열이 구성되어 이루어지는 수지층은 주로 고분자 수지에 의해 구성된다. 고분자 수지로서는 전리방사선 경화성 수지, 열경화성 수지, 열가소성 수지 등을 들 수 있고, 후술하는 광확산성 시트의 확산층에 사용되는 바인더 수지로서 열거하는 것과 동일한 것이 사용된다.

본 발명의 프리즘 시트는 굴절률이 1.60을 초과하는 것이지만, 수지층 단체(單體)로서의 굴절률(지지체를 갖는 경우에는 지지체를 제외한 수지층의 굴절률)이 1.60을 초과하는 것이 바람직하다. 또한 광학적 투명성을 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 전술한 지지체 중에 첨가 가능한 무기 나노 입자와 동일한 무기 나노 입자를 함유 분산시켜 목적하는 굴절률로 조정하는 것도 가능하다. 이 경우, 무기 나노 입자는 수지층 전체 조성물 중 10 중량% 이하 함유시키는 것이 바람직하다.

수지층의 두께는 본 발명의 프리즘 시트를 수지층 단층으로 형성하는 경우에는 당해 층의 충분한 도막 강도나 평활성을 얻는 관점에서 25~300 ㎛로 하는 것이 바람직하다. 한편 수지층을 지지체 상에 형성하여 프리즘 시트로 하는 경우에는 1~10 ㎛로 하는 것이 바람직하다. 또한 여기서 말하는 수지층의 두께란 구조열이 형성되어 있지 않은 수지 부분만의 두께(도 1에 부호 p로 나타내는 부분)를 말한다.

본 발명의 프리즘 시트의 제조방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 목적하는 단면이 삼각 형상인 구조열이 형성되도록 특수 공구에 의해 수지층을 절삭하여 제조하는 절삭 가공 기술이나, 2P법(Photo-Polymer법), 2T법(Thermal-Transformation법)이나 엠보스 가공법 등과 같은 전사 부형 기술에 의해 형성할 수 있다. 전사 부형 기술에 관해서는, 예를 들면 전술한 바와 같은 수지층을 구성하는 고분자 수지 등을, 요구하는 수지층의 표면 형상과는 상보적인 형상을 갖는 틀 내에 충전하고, 형상 패턴을 전사 부형시킨 후, 당해 고분자 수지 등을 경화시켜 틀로부터 박리함으로써, 구조열이 부형된 수지층을 구비한 프리즘 시트가 얻어진다. 한편 지지체를 사용하는 경우에는 틀 내에 고분자 수지 등을 충전하고, 그 위에 지지체를 포개어 겹친 후, 당해 고분자 수지 등을 경화시켜 틀로부터 박리함으로써, 지지체 상에 구조열이 부형된 수지층을 구비한 프리즘 시트가 얻어진다. 또한 2P법에 의해 수지층의 구조열을 형성하는 경우에는 전리방사선 경화성 수지를 사용하고, 2T법이나 엠보스 가공법에 의해 수지층의 구조열을 형성하는 경우에는 열경화성 수지 또는 열가소성 수지를 사용한다.

다음으로 전술한 고굴절률 프리즘 시트와 조합시키는 광확산성 시트에 대해서 설명한다. 종래의 광확산성 시트는 도광판 및 광원으로 이루어지는 에지라이트형 백라이트에 삽입한 경우에, 광원이 배치되는 도광판의 일단부를 따른 방향에 대해 직교하는 면에 있어서 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 광출사면의 법선방향에 대해 대략 45°의 각도 범위 내가 되도록 설계되어 있다. 이러한 종래의 광확산성 시트를 정면방향으로 빛을 쏘아 올리는 효과가 높은 고굴절률 프리즘 시트와 조합시킨 경우에는, 충분한 정면 휘도나 확산성을 얻을 수 없다.

이에 대해 본 발명의 광확산성 시트는 전술한 직교면에 있어서의 출사광 분포의 피크가 광출사면의 법선방향에 대해 48°~58°의 각도 범위 내로 시프트하고 있다. 또한 출사광은 피크가 되는 각도 범위로부터 광출사면의 법선방향에 대해 -90° 또는 90°의 출사 각도를 향함에 따라 점감한다. 이러한 특정 출사각 특성을 갖는 광확산성 시트를 조합시킴으로써, 고굴절률 프리즘 시트의 특성인 광 지향성과의 상승효과에 의해 확산성을 유지하면서 종래보다도 정면 휘도가 우수한 백라이트장치로 할 수 있다.

본 발명의 광확산성 시트의 출사각 특성에 대해서 도 2를 참조하여 추가로 설명한다. 도 2(a)에 나타내는 바와 같이, 광확산성 시트(12) 상의 임의의 점(r)을 지나 광원(11)의 길이방향(A)(광원이 복수의 LED 소자를 배열한 것인 경우에는 그 배열방향)과 직교하는 단면(B)에 있어서, 점(r)으로부터 출사하는 빛(출사광)은 분산되어 서로 각도를 갖는다. 이 출사광의 각도 분포가 출사광 분포이다. 도 2(b)는 단면(B)을 나타낸 것이다. 이 단면(B)에 있어서 광확산성 시트의 광출사면에 대한 법선방향을 기준(0도)으로 하여, 법선방향과 출사광의 출사방향이 이루는 각도(θ)를 출사 각도로 하고 있다. 법선의 위치로부터 광원 안쪽(광원으로부터 멀어지는 쪽)으로 출사하는 빛의 출사 각도를 「+」, 광원 측으로 출사하는 빛을 「-」로 정의하여, 법선방향으로부터 각각 광출사면에 이르기까지를 0~+90° 또는 0~-90°로 하고 있다. 또한 본 발명의 광확산성 시트에 있어서 출사광 분포의 피크가 존재하는 각도 범위(+48°~+58°)를 도면 중 사선으로 나타내고 있다. 여기에서는 편의상 광확산성 시트(12)의 임의의 점(r)에만 착안하여 점(r)을 지나는 단면(B)을 규정하고, 그 단면에 있어서의 출사광의 각도를 설명했지만, 출사광 분포는 광확산성 시트(12)의 각 위치에서 동일한 출사광 분포가 된다.

다음으로 전술한 출사광 분포(출사각 특성)을 실현하기 위한 광확산성 시트의 구성에 대해서 설명한다. 광확산성 시트는 바인더 수지 및 확산제로서 입자를 포함하는 확산층을 구비한다. 광확산성 시트는 확산층 단층이어도 되고, 지지체 상에 확산층이 적층되어 이루어지는 것이어도 된다.

확산층의 바인더 수지로서는 전리방사선 경화성 수지, 열경화성 수지, 열가소성 수지 등을 들 수 있다.

전리방사선 경화성 수지로서는 전리방사선(자외선 또는 전자선)의 조사에 의해 가교경화할 수 있는 광중합성 프리폴리머를 사용할 수 있고, 이 광중합성 프리폴리머로서는 1분자 중에 2개 이상의 아크릴로일기를 갖고 가교경화함으로써 3차원 망목 구조가 되는 아크릴계 프리폴리머가 특히 바람직하게 사용된다. 이 아크릴계 프리폴리머로서는 우레탄아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 멜라민아크릴레이트, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. 또한 이들 아크릴계 프리폴리머는 단독으로도 사용 가능하지만, 가교경화성을 향상시켜 렌즈층의 경화를 보다 향상시키기 위해 광중합성 모노머를 첨가하는 것이 바람직하다.

광중합성 모노머로서는 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트 등의 단관능 아크릴 모노머, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 히드록시피발산에스테르네오펜틸글리콜디아크릴레이트 등의 2관능 아크릴 모노머, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 트리메틸프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 등의 다관능 아크릴 모노머 등의 1종 또는 2종 이상이 사용된다.

전술한 광중합성 프리폴리머 및 광중합성 모노머 외에 자외선 조사에 의해 경화시키는 경우에는 광중합개시제나 광중합촉진제 등의 첨가제를 사용하는 것이 바람직하다.

광중합개시제로서는 아세토페논, 벤조페논, 미힐러케톤, 벤조인, 벤질메틸케탈, 벤조일벤조에이트, α-아실옥심에스테르, 티옥산톤류 등을 들 수 있다.

또한 광중합촉진제는 경화시의 공기에 의한 중합 장애를 경감시켜 경화속도를 빠르게 할 수 있는 것으로, 예를 들면 p-디메틸아미노 안식향산 이소아밀에스테르, p-디메틸아미노 안식향산 에틸에스테르 등을 들 수 있다.

열경화성 수지로서는 실리콘계 수지, 페놀계 수지, 요소계 수지, 멜라민계 수지, 푸란계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 디알릴프탈레이트계 수지, 구아나민계 수지, 케톤계 수지, 아미노알키드계 수지, 우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 폴리카보네이트계 수지 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로도 사용 가능하지만, 가교성, 가교경화 도막의 경도를 보다 향상시키기 위해서는 경화제를 첨가하는 것이 바람직하다.

경화제로서는 폴리이소시아네이트, 아미노 수지, 에폭시 수지, 카르복실산 등의 화합물을 적합한 수지에 맞춰 적절히 사용할 수 있다.

열가소성 수지로서는 ABS 수지, 노르보르넨 수지, 실리콘계 수지, 나일론계 수지, 폴리아세탈계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 설폰계 수지, 이미드계 수지, 불소계 수지, 스티렌계 수지, 아크릴계 수지, 염화비닐계 수지, 초산비닐계 수지, 염화비닐-초산비닐 공중합체계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 나일론계 수지, 고무계 수지, 폴리비닐에테르, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌글리콜 등을 들 수 있다.

또한 이들 열경화성 수지 또는 열가소성 수지 중 수지층으로 했을 때의 도막 강도나 양호한 투명성이 얻어지는 관점에서, 아크릴계 수지의 열경화성 수지 또는 열가소성 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 이들 열경화성 수지 또는 열가소성 수지는 각각 열경화성 수지끼리 또는 열가소성 수지끼리를 복수 종 조합시킨 복합 수지로서 사용하는 것도 가능하다.

확산제로서 사용하는 입자로서는 실리카, 클레이, 탈크, 탄산칼슘, 황산칼슘, 황산바륨, 규산알루미늄, 산화티탄, 합성 제올라이트, 알루미나, 스멕타이트 등의 무기 입자 외에 스티렌 수지, 우레탄 수지, 나일론 수지, 벤조구아나민 수지, 실리콘 수지, 아크릴 수지 등의 수지 입자를 사용하는 것도 가능하다. 이들 중 휘도 성능을 향상시키는 관점에서 수지 입자를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 아크릴 수지로 이루어지는 수지 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 입자는 1종뿐 아니라 복수 종을 조합하여 사용하는 것도 가능하다. 또한 여기서 말하는 「무기 입자」란 전술한 「무기 나노 입자」와는 평균 입경의 점에서 상이한 것이다.

입자의 크기는 평균 입경이 1~10 ㎛인 것이 바람직하고, 특히 평균 입경이 1~5 ㎛인 것이 바람직하다. 이와 같이 확산층에 평균 입경이 비교적 낮은 입자를 포함시킴으로써, 본 발명의 광확산성 시트의 필수 성능인 특유의 출사각 특성(출사광 분포)을 발휘시키기 쉬워진다.

또한 입자의 형상은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 구형상 입자인 것이 바람직하다. 입자의 입경 분포의 변동 계수는 본 발명의 광확산성 시트의 전술한 목적하는 출사각 특성을 얻기 쉽게 하는 관점에서 5~55% 정도로 하는 것이 바람직하고, 10~30%로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한 전술한 입자의 평균 입경이나 입자경 분포의 변동 계수는 콜터 카운터법(중량 분포)에 의해 측정한 것이다.

바인더 수지에 대한 입자의 함유 비율은 필요로 하는 확산성을 발휘시키고 또한 전술한 목적하는 출사각 특성을 얻기 쉽게 하는 관점에서, 바인더 수지 100 중량부에 대해 50~150 중량부 함유시키는 것이 바람직하다. 추가적인 정면 휘도 향상의 관점에서는 50~120 중량부 함유시키는 것이 보다 바람직하다.

확산층 중에는 전술한 바인더 수지나 입자 외에 레벨링제·소포제 등의 계면활성제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 등의 첨가제를 첨가해도 된다.

확산층의 두께는 본 발명의 광확산성 시트를 확산층 단층으로 구성하는 경우에는 10~500 ㎛로 하는 것이 바람직하고, 10~250 ㎛로 하는 것이 보다 바람직하다. 두께를 10 ㎛ 이상으로 함으로써 도막 강도를 충분한 것으로 하고 또한 핸들링성을 양호한 것으로 할 수 있다. 한편 두께를 500 ㎛ 이하로 함으로써 확산층의 투명성을 양호한 것으로 할 수 있다. 또한 지지체 상에 확산층을 형성하는 경우에는, 광확산 성능을 발휘하면서 본 발명의 목적하는 출사각 특성을 얻기 쉽게 하는 관점에서 5~60 ㎛로 하는 것이 바람직하고, 7~30 ㎛로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한 확산층의 두께란 확산층 요철면의 볼록부 선단으로부터 요철면과는 반대면의 확산층 표면까지의 두께를 말한다.

확산층의 헤이즈는 75~90%, 바람직하게는 78~86%이다.

본 발명의 광확산성 시트가 지지체를 갖는 경우에는, 지지체는 광학적 투명성이 높은 플라스틱 필름이라면 특별히 제한되지 않고 사용할 수 있다. 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 트리아세틸셀룰로오스, 아크릴, 폴리염화비닐, 노르보르넨 화합물 등을 사용할 수 있다. 이 중 연신 가공, 특히 이축 연신 가공된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 기계적 강도나 치수 안정성이 우수한 점에서 바람직하다. 또한 확산층과의 접착성을 향상시키기 위해 표면에 코로나 방전 처리를 실시하거나 이접착층을 설치한 것도 적합하게 사용된다. 또한 지지체의 두께는 통상 10~400 ㎛ 정도인 것이 바람직하다.

또한 본 발명의 광확산성 시트 표면의 요철면과는 반대 측의 면에는 다른 부재와의 밀착을 방지하기 위해 미(微)매트 처리를 실시하거나, 광투과율을 향상시키기 위해 반사 방지 처리를 실시해도 된다. 더 나아가서는 상기와 같은 도포 건조방법에 의해 백코트층이나 대전 방지층이나 점착층을 설치해도 된다.

백코트층의 기본적인 기능은 대향하는 부재와의 밀착을 방지하는 것으로, 추가로 대향하는 부재로의 흠집 방지성이나 확산성을 겸비할 수 있다. 이러한 백코트층은 표면에 요철 형상을 갖는 것으로, 예를 들면 바인더 수지 및 입자 등을 포함하여 구성된다. 바인더 수지 및 입자는 전술한 광확산성 시트의 확산층에서 사용되는 바인더 수지 및 입자와 동일한 것을 사용할 수 있고, 백코트층에 부여하는 기능에 따라 적절한 재료, 적절한 양을 사용하는 것이 바람직하다.

예를 들면 밀착 방지성에 더하여 대향하는 부재로의 흠집 방지성도 겸용하는 백코트층의 경우에는, 확산층에서 열거된 것 중에서도 나일론 수지 입자 및/또는 실리콘 수지 입자가 하기의 관점에서 바람직하다. 이들 수지 입자는 단독뿐 아니라 적절히 조합하여 사용해도 된다. 또한 바인더 수지로서는 유리 전이 온도(Tg)가 15~100℃인 열경화형 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 백코트층 중에 있어서의 바인더 수지에 대한 입자의 함유 비율은 바인더 수지 100 중량부에 대해 0.1~2 중량부로 하는 것이 바람직하다.

흠집 방지성 중 백라이트장치 사용시에 광확산성 시트가 도광판에 밀착하여 당해 부재끼리가 서로 문질러짐으로써 발생하는 도광판의 마모 손상을 방지한다고 하는 관점에서는, 특히 나일론 수지 입자가 바람직하다. 나일론 수지 입자는 평균 입자경이 1~10 ㎛인 것이 바람직하다. 나일론 수지 비드를 열경화형 수지 100 중량부에 대해 0.5~2 중량부 함유시키는 것이 특히 바람직하다.

또한 백라이트장치를 손가락 등으로 가압했을 때에 광확산성 시트와 도광판이 밀착하여 일어날 수 있는 도광판의 흠집 발생(가압 손상)을 효과적으로 방지한다고 하는 관점에서는, 실리콘 수지 입자가 바람직하다. 실리콘 수지 입자는 평균 입자경이 1~10 ㎛인 것이 바람직하다. 실리콘 수지 입자는 실리콘 고무로 이루어지는 구형상 심부가 실리콘 수지막에 의해 덮인 이중 구조인 것이 특히 바람직하다. 가압시의 흠집 발생을 방지하기 위해 실리콘 수지 입자를 당해 열경화형 수지 100 중량부에 대해 0.1~2 중량부 함유시키는 것이 특히 바람직하다.

또한 백코트층에는 전술한 바와 같이 밀착 방지성에 더하여 확산성을 부여할 수 있다. 이 경우, 확산성 백코트층의 헤이즈는 정면 휘도를 유지하면서 광확산성을 향상시키는 관점에서 확산층의 헤이즈보다도 낮은 것으로 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는 헤이즈는 50%~70% 정도인 것이 바람직하다. 또한 확산성 백코트층 중에 있어서의 바인더 수지와 입자의 함유 비율에 관해서는, 확산층 중에 있어서의 바인더 수지와 입자의 함유 비율보다도 입자의 비율을 낮은 것으로 하는 것이 정면 휘도가 저하되는 것을 방지하는 관점에서 바람직하다.

백코트층의 두께는 일반적으로 1~6 ㎛로 하는 것이 바람직하다. 또한 필요에 따라 분산제, 대전방지제, 레벨링제 등의 첨가제를 적절히 함유시키는 것도 가능하다.

본 발명의 광확산성 시트는 전술한 바인더 수지나 입자 등의 재료를 적당한 용매에 용해시킨 확산층용 도포액이나, 필요에 따라 설치한 백코트층용 도포액 등을 종래부터 공지의 방법, 예를 들면 바 코터, 블레이드 코터, 스핀 코터, 롤 코터, 그라비아 코터, 플로우 코터, 다이 코터, 스프레이, 스크린 인쇄 등에 의해 지지체 상에 도포하고 건조함으로써 제작할 수 있다. 또한 확산층을 지지체 상에 형성한 것으로부터 당해 지지체를 박리 제거함으로써 확산층 단층으로 이루어지는 광확산성 시트로 하는 것도 가능하다.

다음으로 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치에 대해서 설명한다. 본 발명의 백라이트장치는 도광판과 도광판의 일단부에 배치된 광원을 포함하는 것이다. 또한 전술한 바와 같이 도광판의 광출사면 상에 광확산성 시트와 프리즘 시트를 순서대로 포함하여 구성되어 이루어진다. 광확산성 시트와 프리즘 시트로 구성되는 광확산 부재는 전술한 본 발명의 광확산 부재이다.

아래에 도면을 참조하여 본 발명의 에지라이트형 백라이트장치의 실시형태에 대해서 설명한다. 도 3에 에지라이트형 백라이트장치의 일실시형태를 나타낸다. 이 백라이트장치는 주된 구성으로서 도광판(10), 그 일단부에 배치된 광원(11) 및 도광판(10) 상에 배치된 광확산 부재(20)를 구비하고 있다. 광확산 부재(20)는 광확산성 시트(12) 및 프리즘 시트(13)로 이루어진다. 또한 도 3에서는 광확산성 시트(12) 및 프리즘 시트(13)는 각각 1매만 사용되고 있는 경우를 나타내고 있지만, 복수 매 포개어 사용해도 된다.

도광판(10)은 적어도 하나의 측면을 광입사면으로 하고, 이것과 대략 직교하는 한쪽 면을 광출사면으로 하도록 성형된 대략 평판 형상으로 이루어지는 것으로, 주로 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트나 비정질 올레핀계 수지 등의 고투명의 수지로부터 선택되는 매트릭스 수지로 이루어진다. 필요에 따라 매트릭스 수지와 굴절률이 상이한 수지 입자가 첨가되어 있어도 된다. 도광판의 각 면은 한결같은 평면이 아니라 복잡한 표면 형상을 하고 있는 것이어도 되고, 도트 패턴 등의 확산 인쇄가 설치되어 있어도 된다.

광원(11)은 도광판(10)의 적어도 일단부에 배치되는 것으로, 주로 냉음극관, LED 광원 등이 사용된다. 광원의 형상으로서는 점형상, 선형상, L자 형상의 것 등을 들 수 있다.

에지라이트형 백라이트장치에는 전술한 프리즘 시트, 광확산성 시트, 도광판 및 광원 외에 목적에 따라 반사판, 편광 필름, 전자파 차폐 필름 등이 구비된다.

본 발명의 백라이트장치는 도광판(10)과 도광판(10)의 일단부에 배치된 광원(11)을 구비한 것에 더하여, 도광판(10)의 광출사면 상에 전술한 본 발명의 광확산성 시트(12)와 프리즘 시트(13)를 순서대로 갖기 때문에, 종래의 백라이트장치에 비해 정면 휘도 및 광확산성과의 균형이 특히 우수한 것으로 할 수 있다. 또한 광원으로서 LED 광원, 특히 광도가 1,000~2,000 mcd 정도인 고휘도 LED 광원을 사용한 경우, 종래는 백라이트장치로서의 정면 휘도 및 광확산성과의 균형을 잡는 것이 곤란했지만, 본 발명의 프리즘 시트와 광확산성 시트를 조합시킴으로써 정면 휘도 및 광확산성의 균형이 우수한 것으로 할 수 있다.

실시예

아래에 실시예에 의해 본 발명을 추가적으로 설명한다. 또한 「부」, 「%」는 특별히 나타내지 않는 한, 중량 기준으로 한다.

1. 광확산성 시트의 제작

[실시예 1]

하기 처방의 확산층용 도포액을 혼합하여 교반한 후, 두께 25 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(루미러 T60：도레이사)으로 이루어지는 지지체 상에 건조 후의 두께가 6 ㎛가 되도록 바코팅법에 의해 도포, 건조하여 확산층을 형성하였다. 이어서 당해 지지체의 확산층이 형성된 면과는 반대면에 하기 처방의 백코트층용 도포액을 건조 후의 두께가 4 ㎛가 되도록 바코팅법에 의해 도포, 건조하여 백코트층을 형성하고 실시예 1의 광확산성 시트를 얻었다.

＜실시예 1의 확산층용 도포액＞

·아크릴폴리올 10부

(아크리딕 A-807：DIC사, 고형분 50%)

·이소시아네이트계 경화제 2부

(다케네이트 D110N：미츠이 화학사, 고형분 60%)

·폴리메틸메타크릴레이트 진구형상 입자 6부

(평균 입경 2 ㎛, 변동 계수 20%)

·희석 용제 25부

＜실시예 1의 백코트층용 도포액＞

·아크릴폴리올 10부

(아크리딕 A-807：DIC사, 고형분 50%)

·이소시아네이트계 경화제 2부

(다케네이트 D110N：미츠이 화학사, 고형분 60%)

·나일론 수지 입자 0.1부

(간츠펄 GPA-550：간츠 화성사, 평균 입경 5 ㎛)

·희석 용제 38부

[실시예 2]

실시예 1의 백코트층용 도포액 중 나일론 수지 입자를 실리콘 수지 입자(평균 입자경 2 ㎛)로 변경하고, 중량부를 0.06부로 변경한 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 2의 광확산성 시트를 얻었다.

[실시예 3]

실시예 1의 확산층용 도포액 중 아크릴폴리올을 아크릴폴리올(아크리딕 A-811：DIC사, 고형분 50%)로 변경한 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 3의 광확산성 시트를 얻었다.

[실시예 4]

실시예 2의 확산층용 도포액 중 폴리메틸메타크릴레이트 진구형상 입자를 폴리메틸메타크릴레이트 진구형상 입자(케미스노우 MX300：소켄 화학사, 평균 입경 3 ㎛, 변동 계수 8%)로 변경하고, 중량부를 5부로 한 이외는 실시예 2와 동일하게 하여 실시예 4의 광확산성 시트를 얻었다.

[실시예 5]

하기 처방의 확산층용 도포액을 혼합하여 교반한 후, 두께 25 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(루미러 T60：도레이사)으로 이루어지는 지지체 상에 건조 후의 두께가 6 ㎛가 되도록 바코팅법에 의해 도포, 건조하여 확산층을 형성하였다. 이어서 당해 지지체의 확산층이 형성된 면과는 반대면에 하기 처방의 확산성 백코트층용 도포액을 건조 후의 두께가 5 ㎛가 되도록 바코팅법에 의해 도포, 건조하여 확산성 백코트층을 형성하고 실시예 5의 광확산성 시트를 얻었다.

＜실시예 5의 확산층용 도포액＞

·아크릴폴리올 10부

(아크리딕 A-807：DIC사, 고형분 50%)

·이소시아네이트계 경화제 2부

(다케네이트 D110N：미츠이 화학사, 고형분 60%)

·폴리메틸메타크릴레이트 진구형상 입자 5부

(평균 입경 2 ㎛, 변동 계수 20%)

·희석 용제 25부

＜실시예 5의 확산성 백코트층용 도포액＞

·아크릴폴리올 10부

(아크리딕 A-807：DIC사, 고형분 50%)

·이소시아네이트계 경화제 2부

(다케네이트 D110N：미츠이 화학사, 고형분 60%)

·폴리메틸메타크릴레이트 진구형상 입자 2.5부

(평균 입경 2 ㎛, 변동 계수 20%)

·희석 용제 38부

[비교예 1]

실시예 2의 확산층용 도포액을 하기의 확산층용 도포액으로 변경하고, 확산층의 건조 후의 두께가 10 ㎛가 되도록 형성하는 이외는 실시예 2와 동일하게 하여 비교예 1의 광확산성 시트를 얻었다.

＜비교예 1의 확산층용 도포액＞

·아크릴폴리올 10부

(아크리딕 A-807：DIC사, 고형분 50%)

·이소시아네이트계 경화제 2부

(다케네이트 D110N：미츠이 화학사, 고형분 60%)

·폴리메틸메타크릴레이트 진구형상 입자 7부

(평균 입경 8 ㎛, 변동 계수 20%)

·희석 용제 32부

[비교예 2]

실시예 1의 확산층용 도포액을 하기의 확산층용 도포액으로 변경하고, 확산층의 건조 후의 두께가 11 ㎛가 되도록 형성하는 이외는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 2의 광확산성 시트를 얻었다.

＜비교예 2의 확산층용 도포액＞

·아크릴폴리올 10부

(아크리딕 A-807：DIC사, 고형분 50%)

·이소시아네이트계 경화제 2부

(다케네이트 D110N：미츠이 화학사, 고형분 60%)

·폴리메틸메타크릴레이트 진구형상 입자 9부

(평균 입경 8 ㎛, 변동 계수 30%)

·희석 용제 33부

2. 평가

(1) 광확산성 시트(프리즘 시트는 포함하지 않음)의 출사각 특성

실시예 1~5 및 비교예 1~2의 광확산성 시트를 4 인치의 에지라이트형 백라이트장치(광도 1,300 mcd의 LED 광원 8등, 두께 0.5 ㎜의 폴리카보네이트제의 도광판 내장)에 있어서, 당해 광확산성 시트의 백코트층(실시예 5에 대해서는 광확산성 백코트층)이 당해 백라이트장치의 도광판과 대향하도록 삽입하여, 실시예 1~5 및 비교예 1~2의 광확산성 시트를 사용한 백라이트장치를 제작하고, 당해 백라이트장치의 출사각 특성을 측정하였다. 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 이와 함께 각 시트의 가장 높은 조사량이었던 출사 각도를 표 1에 나타낸다.

3. 백라이트장치의 제작

이어서 전술한 백라이트장치의 당해 광확산성 시트의 확산층 상에, 두께 65 ㎛의 제1 프리즘 시트(TBEF2-GT：스미토모 쓰리엠사)를 당해 프리즘 시트의 프리즘면의 반대면이 향하도록 포개어 겹쳤다. 또한 이 제1 프리즘 시트의 프리즘면과 두께 68 ㎛의 제2 프리즘 시트(TBEF2-GM：스미토모 쓰리엠사)의 프리즘면의 반대면이 대향하도록 포개어 겹쳐, 실시예 1~5 및 비교예 1~2의 백라이트장치를 제작하였다. 또한 2매의 프리즘 시트는 구조열 각각의 능선이 직교하도록 배치하였다.

4. 평가

(1) 정면 휘도

실시예 1~5 및 비교예 1~2의 백라이트장치를 점등하고, 도 4에 나타내는 바와 같은 백라이트(5) 광출사면의 중앙 부근 P점의 정면 휘도를 측정하였다. 측정 결과를 표 2에 나타낸다(단위는 「cd/㎡」).

(2) 광확산성 (백라이트 전체에 있어서의 빛의 균일성)

또한 실시예 1~5 및 비교예 1~2의 백라이트장치에 대해서, 도 4에 나타내는 바와 같은 광원(11) 부근의 A~C점(모두 서로 이웃하는 2개의 광원(11) 간 상에 위치한다)에 있어서의 정면 휘도를 측정하였다. 이어서 PA점 간의 정면 휘도의 변위(A점의 정면 휘도를 P점의 정면 휘도로 나누었을 때의 비율), 동일하게 PB점 간의 정면 휘도의 변위, PC점 간의 정면 휘도의 변위를 산출하고, 당해 3개의 변위의 평균값(백라이트 전체에 있어서의 빛의 균일성)을 산출하였다. A~C점 및 P점에 있어서의 정면 휘도의 측정 결과를 표 2에, 또한 각 PA점 간, PB점 간, PC점 간의 변위 및 그의 평균값(백라이트 전체에 있어서의 빛의 균일성)의 산출 결과를 표 3에 나타낸다.

표 1의 결과로부터 명확한 바와 같이, 실시예 1~5의 광확산성 시트는 백라이트장치에 삽입했을 때에 도광판에 대한 광원의 배치방향에 대해서 직교하는 면에 있어서의 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 광출사면의 법선방향에 대해 48~58°의 각도 범위 내에 있고, 광확산성 시트의 광출사면의 출사광이 출사광 분포의 피크의 각도 범위로부터 법선방향에 대해 -90° 또는 90°의 출사 각도를 향함에 따라 점감하는 것이었다. 또한 표 2, 3에 나타내는 바와 같이, 실시예 1~5의 에지라이트형 백라이트장치는 이러한 출사각 특성을 갖는 광확산성 시트를 굴절률이 1.60을 초과하는 고굴절률 프리즘 시트와 조합시킨 것으로, 확산성이 우수하여 높은 정면 휘도를 갖는 것이었다.

또한 실시예 1~4의 광확산성 시트의 광확산층과 동일한 광확산층을 갖고 백코트층을 설치하지 않는 광확산성 시트를 제작하여 동일하게 출사각 특성을 측정한 결과, 실시예 1~4의 광확산성 시트와 거의 동일한 결과가 얻어졌다.

또한 실시예 1 및 3의 백라이트장치는 광확산성 시트의 백코트층에 나일론 수지 입자를 사용하는 것이었기 때문에 하기의 시험법에 의한 내마모 손상성이 우수한 것이었다.

＜내마모 손상성 시험＞

JIS-H8682-1：1999에 준거하여 마모시험기(NUS-ISO-1：스가 시험기사)를 사용하여 내마모성 시험을 행하였다. 내마모성 시험에서는 실시예 1 및 3의 광확산성 시트의 확산층면을 당해 시험기의 회전륜 상에 고정하고, 당해 광확산성 시트의 백코트층 상에 도광판과 동일한 소재인 두께 1 ㎜의 폴리카보네이트판을 배치하여, 300 gf의 하중으로 15 왕복시켰다. 이러한 시험 후, 폴리카보네이트판을 육안으로 관찰하였지만 당해 폴리카보네이트판에 흠집은 형성되어 있지 않았다.

또한 실시예 2 및 4의 백라이트장치는 광확산성 시트의 백코트층에 실리콘 수지 입자를 사용하는 것이었기 때문에 하기의 시험법에 따른 가압에 의한 흠집 발생 방지성이 우수한 것이었다.

＜가압에 의한 흠집 발생 방지성 시험＞

두께 1 ㎜의 폴리카보네이트판 상에 실시예 2 및 4의 광확산성 시트의 백코트층면을 밀착시켜 당해 광확산성 시트의 확산층 상으로부터 표면성 시험기(HEIDON-14：신토 과학사)를 사용하여 가압에 의한 흠집 발생 방지성 시험을 실시하였다. 시험에서는 당해 광확산성 시트의 확산층 상에 단면적이 1 ㎠인 하중 부재(소재)를 밀착시켜 1,500 g의 하중 무게로 10초간 가압하였다. 그 후 하중을 가한 개소의 폴리카보네이트판을 육안으로 관찰하였지만 특별히 움푹 파인 곳 등도 없고 폴리카보네이트판에 흠집은 발견할 수 없었다.

한편 비교예 1의 백라이트장치는 도광판에 대한 광원의 배치방향에 대해서 직교하는 방향에 있어서의 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 46.2°였기 때문에 정면 휘도가 부족하고 확산성도 낮은 것이었다.

또한 비교예 2의 백라이트장치는 도광판에 대한 광원의 배치방향에 대해서 직교하는 방향에 있어서의 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 39.4°였기 때문에 확산성은 양호했지만 정면 휘도가 특히 부족한 것이었다.

1…백라이트장치
10…도광판
11…광원
12…광확산성 시트
13…프리즘 시트
20…광확산성 부재

Claims (5)

1. 도광판, 상기 도광판의 일단부에 배치된 광원 및 상기 도광판의 광출사면 상에 광확산성 시트와 프리즘 시트를 순서대로 가지고 이루어지는 에지라이트형 백라이트장치로서,
   상기 프리즘 시트의 굴절률이 1.60을 초과하고,
   상기 도광판의 일단부를 따른 방향에 대해 직교하는 면에 있어서의 상기 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 되는 출사 각도가 광출사면의 법선방향에 대해 48°~58°의 각도 범위 내에 있으며,
   상기 광확산성 시트의 광출사면의 출사광이 상기 출사광 분포의 피크가 되는 출사 각도로부터 상기 법선방향에 대해 -90°및 90°의 출사 각도를 향함에 따라 점감하는 것을 특징으로 하는 에지라이트형 백라이트장치.
2. 제1항에 기재된 에지라이트형 백라이트장치로서,
   상기 광확산성 시트가 투명 수지 필름의 한쪽 면에 확산층을 구비한 것으로,
   상기 확산층이 바인더 수지 및 평균 입경 5 ㎛ 이하의 입자를 포함하고, 상기 입자의 함유 비율이 상기 바인더 수지 100 중량부에 대해 50~150 중량부인 것을 특징으로 하는 에지라이트형 백라이트장치.
3. 제1항 또는 제2항에 기재된 에지라이트형 백라이트장치로서,
   상기 광확산성 시트가 투명 수지 필름의 한쪽 면에 확산층을 구비하고, 상기 확산층을 구비한 면과는 반대면에 백코트층을 구비한 것으로,
   상기 백코트층이 나일론 수지 입자 및/또는 실리콘 수지 입자를 함유하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 에지라이트형 백라이트장치.
4. 제1항 또는 제2항에 기재된 에지라이트형 백라이트장치로서,
   상기 광확산성 시트가 투명 수지 필름의 한쪽 면에 확산층을 구비하고, 상기 확산층을 구비한 면과는 반대면에 확산성 백코트층을 구비한 것으로,
   상기 확산성 백코트층의 헤이즈가 상기 확산층의 헤이즈보다 낮은 것을 특징으로 하는 에지라이트형 백라이트장치.
5. 도광판과 상기 도광판의 일단부에 배치된 광원을 포함하여 구성되어 이루어지는 에지라이트형 백라이트장치의 상기 도광판 상에 배치되는 광확산성 부재로서,
   상기 광확산성 부재는 프리즘 시트와 광확산성 시트를 포함하고,
   상기 프리즘 시트의 굴절률이 1.60을 초과하며,
   상기 도광판의 일단부를 따른 방향에 대해 직교하는 면에 있어서의 상기 광확산성 시트의 광출사면의 출사광 분포의 피크가 되는 출사 각도가 광출사면의 법선방향에 대해 48°~58°의 각도 범위 내에 있고,
   상기 광확산성 시트의 광출사면의 출사광이 상기 출사광 분포의 피크가 되는 출사 각도로부터 상기 법선방향에 대해 -90°및 90°의 출사 각도를 향함에 따라 점감하는 것을 특징으로 하는 광확산성 부재.

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