KR102034380B1

KR102034380B1 - 가지형 폴리올가노실록산 및 이를 포함하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물

Info

Publication number: KR102034380B1
Application number: KR1020180045548A
Authority: KR
Inventors: 강호종; 유석화
Original assignee: 단국대학교 산학협력단
Priority date: 2018-04-19
Filing date: 2018-04-19
Publication date: 2019-10-18

Abstract

본 발명은 가지형 폴리올가노실록산, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 비닐 말단기를 갖는 폴리올가노실록산에 모노하이드라이드 말단기를 갖는 폴리디메틸실록산을 하이드로실릴화 반응시켜 가지형 폴리올가노실록산을 제조하고, 아크릴레이트 코팅 조성물에 이를 첨가하여 경도, 소수성 및 플렉서블 특성을 향상시킨 하드 코팅 조성물 및 하드 코팅막에 관한 것이다.

Description

가지형 폴리올가노실록산 및 이를 포함하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물{Branched polyorganosiloxane and Ultraviolet-curable hard coating composition comprising the same}

본 발명은 가지형 폴리올가노실록산, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 비닐 말단기를 갖는 폴리(비닐메틸-디메틸)실록산에 모노하이드라이드 말단기를 갖는 폴리디메틸실록산을 하이드로실릴화 반응시켜 가지형 폴리올가노실록산을 제조하고, 아크릴레이트 코팅 조성물에 이를 첨가하여 경도, 소수성 및 플렉서블 특성을 향상시킨 하드 코팅 조성물에 관한 것이다.

하드 코팅제로 사용되는 아크릴레이트 코팅액은 우수한 내마모성, 광학적 특성 등을 가지고 있지만 최근 디스플레이에 요구되는 고경도 하드 코팅 소재로는 제한성이 있으며 코팅된 필름은 유연성이 좋지 않아 특히 유연 디스플레이 적용에는 단점을 가지고 있다. 이를 보완하기 위해서 유기재료의 우수한 유연성과 성형성, 무기재료의 내마모성과 투명성을 모두 갖는 유무기 하이브리드 복합재료를 코팅제로 사용하는 방법이 사용되고 있다. 하지만 이러한 방법은 표면 고경도를 얻을 수는 있으나 무기물 특성에 의하여 오히려 휨성이 떨어지는 문제점을 보여준다. 이를 극복하기 위해서 최근 유연성을 가지면서 표면 경도는 유지하는 실리콘 화합물이 첨가된 하드 코팅 액에 대한 연구가 많이 이루어지고 있다.

하드 코팅 첨가제로 사용되는 실리콘 화합물은 주 골격이 무기 성분인 실록산(Si-O-Si)결합으로 되어 있어 유기 고분자에 비해 내열성, 내한성, 내마모성, 내화학성, 내후성, 높은 전기절연성 등의 우수한 특성을 가지며 주 골격에 두 가지의 유기 치환기를 도입하여 분자 사이의 가교 결합을 감소시킴으로써 유연성과 가공성을 동시에 향상시킨 분자구조 형태를 가지고 있다. 이들 유기 치환체의 종류에 따라 다양한 변성 실리콘화합물의 제조가 가능하며 두 치환체 모두 메틸 그룹으로 이루어진 polydimethylsiloxane(PDMS)가 가장 널리 사용되는 실리콘 화합물이다. 또한 하드 코팅 분야에서는 치환체에 바이닐 그룹을 갖는 poly(vinylmethyl-methyl)siloxane (PVMS)을 적용하여 아크릴레이트 코팅제와 광 가교를 유발시켜 실리콘이 갖는 유연성과 아크릴레이트의 우수한 표면 경도를 동시에 구현하는 연구가 진행되고 있다. 이 경우 실리콘이 갖는 탄성적인 성질에 의하여 휨성이 증가되며 실리콘과 아크릴레이트의 가교에 의하여 표면 경도 또한 증가됨을 확인할 수 있다. 하지만 유무기 하이브리드 코팅제와 같은 고경도 표면을 얻기에는 그 한계점이 있어 이에 대한 추가적인 연구가 요구되고 있다.

한편 한국공개특허 제10-2007-0056922호, 제10-2014-0004568호 및 한국등록특허 제10-1818487호 등에 실록산 수지를 포함하는 하드 코팅 수지 조성물이 개시되어 있으나, 경도와 가공성 등의 특성이 충분히 구현될 수 없어서 실제 산업적으로 적용하는 데는 한계가 있다.

대한민국 공개특허공보 제10-2007-0056922호 대한민국 공개특허공보 제10-2014-0004568호 대한민국 등록특허공보 제10-1818487호

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 실리콘의 특성을 유지하면서 가공성과 유연성이 우수한 신규한 가지형 폴리올가노실록산 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.

또한 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 아크릴레이트 코팅 조성물에 가지형 폴리올가노실록산을 첨가한 자외선 경화형 하드 코팅 조성물 및 상기 조성물을 이용하여 경도와 휨성이 향상된 하드 코팅막을 제공하는 것이다.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 비닐 말단기를 갖는 폴리(비닐메틸-디메틸)실록산에 모노하이드라이드 말단기를 갖는 폴리디메틸실록산을 하이드로실릴화(hydrosilylation) 반응시켜 제조된 가지형 폴리올가노실록산 및 이의 제조 방법을 제공한다.

또한 본 발명은 가지형 폴리올가노실록산, 아크릴레이트 모노머, 광개시제 및 용제를 포함하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물 및 이를 자외선 경화시켜 형성한 하드 코팅막을 제공한다.

본 발명에 따른 폴리올가노실록산은 폴리디메틸실록산 가지가 결합된 구조를 가지기 때문에, 이를 통해 아크릴레이트와 반응 정도를 결정하는 바이닐기의 양을 조절할 수 있으며, 동시에 분자량을 조절하여 원하는 물성의 코팅 박막을 얻을 수 있다는 장점이 있다. 또한 본 발명에 따른 가지형 폴리올가노실록산을 포함하는 아크릴레이트 하드 코팅 조성물을 자외선 경화시켜 얻어지는 코팅막은 실리콘 소재가 갖는 탄성, 내후성, 가공 특성 및 광학적 특성을 유지하면서 표면 경도, 소수성 및 휨성(flexibility)이 향상되어 플렉서블 디스플레이 보호용 필름 등으로 사용하기에 적합하다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따라 가지형 폴리올가노실록산(BVPVMS)을 합성하는 과정을 보여주는 모식도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따라 합성된 가지형 폴리올가노실록산(BVPVMS)의 1H-NMR 스펙트럼과 FT-IR 스펙트럼이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따라 반응 온도와 시간 그리고 촉매의 양을 변화시키면서 가지결합된(branched) 비닐기의 양 변화를 시간에 따라 나타낸 그래프이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따라 VPVMS에 존재하는 비닐기 대비 H-PDMS의 H 비를 2~100%까지 넣어 반응시킨 BVPVMS의 1H-NMR 스펙트럼으로부터 반응 시간에 따라 감소한 H-PDMS H 피크(4.7 ppm) 크기의 백분율을 보여주는 그래프이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따라 합성된 가지형 폴리올가노실록산(BVPVMS)의 분자량과 수득율의 측정 결과를 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 가지형 폴리올가노실록산(BVPVMS)을 포함하는 아크릴레이트 코팅액으로 제조된 코팅막의 표면 경도를 측정한 결과를 보여주는 그래프이다.
도 7은 발명의 실시예에 따른 가지형 폴리올가노실록산(BVPVMS)을 첨가한 코팅 막의 접촉각을 측정한 결과를 보여주는 그래프이다.

실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.

본 발명에 따른 가지형 폴리올가노실록산의 제조 방법은 하기 [화학식 1]로 표현되는 비닐 말단기를 갖는 폴리(비닐메틸-디메틸)실록산에 하기 [화학식 2]으로 표현되는 모노하이드라이드 말단기를 갖는 폴리디메틸실록산을 하이드로실릴화(hydrosilylation) 반응시켜 수행되는 것을 특징이다.

[화학식 1]

[화학식 2]

상기 식에서, m은 0 내지 520의 정수이며, n은 5 내지 166의 정수이고, p는 11 내지 13의 정수이다.

본 발명에 따른 하이드로실릴화 반응은 Pt, Pd, Rh으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택된 촉매 하에 수행될 수 있으며, 이중에서 Pt를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 사용되는 Pt 촉매의 함량은 0.6 내지 2.0 중량%가 적절하지만, 생성물에 미치는 영향이나 경제성을 고려할 때, 약 0.6 중량% 정도로 사용하는 것이 바람직하다.

또한 하이드로실릴화 반응은 50 내지 70℃의 온도 범위에서, 12 내지 72 시간동안 수행하는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 가지형 폴리올가노실록산을 제조 과정에서, 각 단계의 반응 온도와 시간 범위는 필요한 분자량 등에 따라 적절히 조절할 수 있으며, 특별히 이에 제한되는 것은 아니지만, 각각의 반응이 상기 온도 및 시간 범위 미만의 조건 하에서 수행될 경우 고분자 합성을 위한 반응이 충분히 진행되지 않으며, 상기 범위를 초과하는 온도 및 시간 조건 하에서 수행될 경우에는 장시간 반응에 따른 공정 효율 감소로 인해 비용 증가 문제가 발생할 수 있으므로 각 조건 범위에서 수행되는 것이 바람직하다.

이와 같이, 비닐 말단기를 갖는 폴리(비닐메틸-디메틸)실록산에 모노하이드라이드 말단기를 갖는 폴리디메틸실록산을 하이드로실릴화(hydrosilylation) 반응시키면 가지형 폴리올가노실록산이 생성되며, 생성된 고분자의 중량평균분자량은 7,000 내지 180,000 범위이다.

한편 본 발명에 따른 자외선 경화형 하드 코팅 조성물은 상기 제조 방법에 의해 제조된 가지형 폴리올가노실록산, 아크릴레이트 모노머, 광개시제 및 용제를 포함하며, 구체적으로 상기 가지형 폴리올가노실록산 2.5 내지 20 중량%, 아크릴레이트 모노머 30 내지 70 중량%, 광개시제 0.5 내지 2.0 중량% 및 용제 30 내지 70 중량%를 포함하는 것이 경도 및 유연성이 우수한 하드 코팅막을 형성하기에 적절하다.

본 발명에서 사용가능한 아크릴레이트 모노머로는 예를 들어, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트로 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있으나, 이에 특별히 제한되는 것은 아니며, 통상 아크릴레이트 코팅액에 사용되는 모노머는 어느 것이나 사용가능하다.

또한 본 발명에서 사용가능한 광개시제는 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐메탄-1-1온, 아니솔메틸에테르, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, α-히드록시케톤, 4-페녹시디클로로아세톤, 4-t-부틸디클로로아세토페논, 2-메틸-2-히드록시프로피오페논, 1-[4-(2-히드록시에틸)페닐]-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-페닐-1,1-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)-옥심, 벤조인, 벤질, 벤조페논, 벤조일벤조산, 3,3`-메틸-4-메톡시벤조페논, 폴리비닐벤조페논, α-히드록시시클로헥실벤조페논, 벤질메틸케탈, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤, 도데실티오크산톤 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있으나, 이에 특별히 제한되는 것은 아니며, 통상 아크릴레이트 광경화에 사용되는 개시제는 어느 것이나 사용가능하다.

본 발명에 따라 상기 하드 코팅 조성물을 자외선 경화시켜 제조된 하드 코팅막의 표면 경도는 연필 경도로 1H 내지 3H인 것이 특징이며, 코팅막의 접촉각은 71 내지 95°로서 소수성이 증가된다. 또한 본 발명에 따른 하드 코팅막은 유연성이 뛰어나기 때문에 플렉서블 디스플레이용 하드 코팅 필름 등의 제품에 적용할 수 있을 것으로 예상된다.

이하 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위해 예시적으로 제시된 것으로서 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.

실시예 1: 가지형 폴리올가노실록산의 합성

250ml 3구 플라스크에 교반기, 온도계, 환류냉각기 및 질소유입구를 장착하였고, 1,3,5,7-테트라비닐-1,3,5,7-테트라메틸사이클로테트라실록산(D4^vi,me)과 1,3-디비닐테트라메틸디실록산(VMS)의 비율을 변화시켜 가해주고, 반응물 대비 0.3wt%의 촉매를 첨가한 후, 120℃, 질소기류 하에 2시간 동안 반응시켰다. 그 후 중화제인 트리스(2-클로로에틸) 포스페이트를 촉매 대비 6wt%를 첨가하여 중화하였고, 생성물을 감압 진공 증발기로 진공증류시킴으로써 미 반응물을 제거하여 비닐 말단기를 갖는 폴리(비닐메틸-디메틸)실록산(VPVMS)을 제조하였다.

그 다음, 환류냉각기, 질소유입구, 온도계, 교반기를 설치한 250ml 3구 플라스크에 상기에서 제조한 VPVMS와 모노하이드라이드 말단기를 갖는 폴리디메틸실록산(H-PDMS)의 비율을 변화시켜 넣고, 반응물 대비 0.6%의 촉매를 가해주고 톨루엔을 반응물의 5배로 넣어준 뒤 70℃, 질소기류 하에 72시간 동안 반응시켰다. 반응 후 감압 진공 증발기로 진공증류시킴으로써 톨루엔을 제거하여 가지형 폴리(비닐메틸-디메틸)실록산(BVPVMS)을 제조하였다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따라 가지형 폴리올가노실록산(BVPVMS)을 합성하는 과정을 보여주는 모식도이다. 도 2는 합성된 BVPVMS의 1H-NMR 스펙트럼과 FT-IR 스펙트럼을 보여준다. 반응 전 5.6 ~ 6.2ppm에서 실록산에 결합된 바이닐(Si-CH=CH₂)의 H 피크의 감소와 4.7ppm 부근의 H-PDMS의 H 피크가 반응 시간에 따라 감소하여 사라지는 것을 확인하여 합성이 잘 진행되었음을 알 수 있었다. 또한 1615-1590cm^-1에서 바이닐(Si-CH=CH₂)피크가, 958cm^- ¹와 3056cm^-1에서 C-H(Si-CH=CH²)피크가 반응이 진행됨에 따라 감소하고 사라지는 것을 확인하여 합성이 잘 되었음을 알 수 있었다.

도 3은 BVPVMS의 최적의 합성 조건을 확인하기 위해 반응 온도와 시간 그리고 촉매의 양을 달리하여 합성하여 branch된 vinyl의 양 변화를 시간에 따라 나타낸 그래프이다. 이 그래프에서 보는 바와 같이 시간과 온도 조건에 따른 반응의 결과 50℃, 60℃, 70℃의 온도조건에 상관없이 72시간이 되면 VPVMS에 존재하는 vinyl이 모두 반응하였고 반응 온도는 큰 차이가 없었다. 촉매의 양은 0.6wt% 이상에서 모두 반응이 잘 진행되었지만 너무 많은 촉매의 투입은 생성물의 물성에 미치는 영향을 고려하여 0.6 wt%가 적합하다고 판단하였다.

도 4는 VPVMS에 존재하는 바이닐기 대비 H-PDMS의 H 비를 2~100%까지 넣어 반응시킨 BVPVMS의 1H-NMR 스펙트럼으로부터 반응 시간에 따라 감소한 H-PDMS H 피크(4.7 ppm) 크기의 백분율을 보여주는 그래프이다. 이 그래프에서 보는 바와 같이 사용한 VPVMS 분자량에 관계없이 가해진 H-PDMS의 H 피크가 완전히 사라지는 즉, H-PDMS가 VPVMS의 바이닐과 모두 반응하는데 72시간이 소요됨을 알 수 있었다. 또한 VPVMS의 반응 가능한 바이닐에 따라 첨가한 H-PDMS의 양이 많아질수록 VPVMS의 반응이 빨리 일어남을 알 수 있었다. 이러한 결과로부터 VPVMS와 H-PDMS를 72시간 동안 반응시키면 첨가된 H-PDMS 양에 의하여 아크릴레이크 코팅제와 광가교할 수 있는 BVPVMS에 존재하는 바이닐기 수를 조절할 수 있으며 동시에 가지로 결합된 PDMS의 수와 BVPVMS 분자량을 함께 조절할 수 있음을 알 수 있다.

도 5는 GPC로 측정된 합성된 BVPVMS 분자량과 수득율의 측정 결과를 나타내는 그래프이다. 이 그래프에서 보는 바와 같이 반응된 H-PDMS의 양이 증가될수록 즉, 첨가된 H-PDMS가 더 많이 VPVMS 바이닐기와 반응할수록 VPVMS 주사슬에 가지가 많이 생성되어 분자량이 증가하였으며 반응 가능한 사이트(site)의 증가에 의하여 수득율 또한 증가됨을 알 수 있다. 한편 하이드로실릴화(hydrosilylation) 반응에 사용한 VPVMS 분자량이 증가됨에 따라 BVPVMS의 수득율이 낮아지는 결과를 나타냈다.

실시예 2: 가지형 폴리올가노실록산을 포함하는 하드 코팅 조성물의 제조

실시예 1에서 제조한 VPVMS와 BVPVMS를 미원사의 M600 (Dipentaerythritol Hexaacrylate)에 첨가하여 코팅 액을 제조하였다. 상온에서 M600 1.876g, VPVMS (BVPVMS) 0.1g(전체 코팅 액의 5wt%), BYK-UV3570 0.004g(전체 코팅 액의 0.2wt%), Irgacure 184 0.02g (전체 코팅액의 1wt%)과 고체 상태인 광 개시제의 분산 및 코팅 막의 두께를 조절하기 위해 MEK 2g을 넣고 혼합하여 코팅 액을 제조하였다.

실시예 3: 자외선 조사에 의한 하드 코팅 막의 제조

실시예 2에서 제조한 코팅 액을 PET 필름 (SKC사의 두께 100μm의 필름) 위에 도포하여 wire bar(#9)를 이용하여 20μm의 두께로 코팅하였다. 그 후 80℃ 환류 건조기에 1분간 건조하여 용매(MEK)를 제거(코팅두께 10μm)하고 진용사의 UV Curing System을 이용하여 UV광원은 2 level의 383mW/cm2의 일정한 세기로, 벨트속도는 3m/min 으로 설정하여 경화하였다.

도 6에 합성된 BVPVMS 5 wt%를 아크릴레이트 코팅 액에 첨가하여 하드 코팅 액을 제조하고 이를 PET 필름 위에 일정한 두께로 도포한 후 자외선 경화로 코팅 막을 얻어 표면 경도를 측정한 결과를 나타내었다. 실록산 화합물의 첨가 없이 아크릴레이트(M600)만으로 코팅한 표면은 1H 표면 경도를 나타내는 반면, 바이닐기를 함유한 VPVMS를 첨가한 경우 VPVMS의 분자량에 관계없이 2H로 표면 경도가 증가되며 BVPVMS의 경우, 분자량이 크고 가지의 수가 VPVMS 전체 바이닐기의 20%이상 일 때 형성된 가지에 의하여 표면 경도 증가에 영향을 주어 표면 경도가 3H로 증가됨을 알 수 있다.

도 7은 BVPVMS를 첨가한 코팅 막의 접촉각을 측정한 결과를 보여주는 그래프이다. 접촉각 측정은 Surface Electro Optics사의 contact angle 측정기(Phoenix 300)를 이용하여 측정하였다. 코팅 막 표면에 contact angle 측정기를 이용하여 증류수 방울을 떨어뜨리고 카메라를 통해 접촉각을 측정하였다. 이 그래프에서 보는 바와 같이 아크릴레이트 코팅 막의 경우 접촉각이 71˚정도였으며, BVPVMS를 첨가했을 때 95˚까지 증가됨을 확인하였다.

하기 [표 1]은 두께 8μm, 16μm의 코팅 막의 유연성을 측정한 결과를 보여준다. 이 결과에서 보는 바와 같이 아크릴레이트 코팅 액의 경우 유연성이 좋지 않아 깨지는 단점이 있다. 이러한 단점을 보완하기 위해 BVPVMS를 첨가하여 실리콘의 장점인 유연성을 나타나게 하였다. 직경이 8mm인 봉에 감아서 측정하였을 때는 모든 코팅 표면에서 크랙(crack)이 나타나지 않았다. 반면 두께 8μm의 코팅 막을 직경이 5mm 봉에 감아서 측정하였을 때는 아무것도 첨가하지 않고 코팅한 표면에서만 크랙이 발생하였으며 BVPVMS를 첨가하여 코팅한 표면에서는 크랙이 발생하지 않았다. 또한 두께 16μm의 코팅 막을 직경이 5mm 봉에 감아서 측정하였을 때는 첨가한 실록산의 분자량과 가지의 양이 증가할수록 크랙이 발생하지 않았다. 결과적으로 첨가제로 사용한 BVPVMS의 실록산 결합과 가지의 영향으로 인해 유연성이 증가하였음을 알 수 있었다.

Claims

가지형 폴리올가노실록산, 아크릴레이트 모노머, 광개시제 및 용제를 포함하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물로서, 상기 가지형 폴리올가노실록산은 하기 [화학식 1]로 표현되는 비닐 말단기를 갖는 폴리(비닐메틸-디메틸)실록산과 하기 [화학식 2]로 표현되는 모노하이드라이드 말단기를 갖는 폴리디메틸실록산을 하이드로실릴화(hydrosilylation) 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물:
[화학식 1]

[화학식 2]

상기 식에서,
m은 0 내지 520의 정수이며, n은 5 내지 166의 정수이고, p는 11 내지 13의 정수이다.
제1항에 있어서,
상기 하이드로실릴화 반응은 Pt, Pd, Rh으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택된 촉매 하에 수행되는 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물.
제2항에 있어서,
상기 촉매는 Pt 인 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물.
제3항에 있어서,
상기 Pt 촉매의 함량은 0.6 내지 2.0 중량%인 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물.
제1항에 있어서,
상기 하이드로실릴화 반응은 50 내지 70℃의 온도 범위에서, 12 내지 72 시간동안 수행되는 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물.
삭제
제1항에 있어서,
상기 가지형 폴리올가노실록산의 중량평균분자량은 7,000 내지 180,000인 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물.
삭제
제1항에 있어서,
가지형 폴리올가노실록산 2.5 내지 20 중량%, 아크릴레이트 모노머 30 내지 70 중량%, 광개시제 0.5 내지 2.0 중량% 및 잔량의 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물.
제1항에 있어서,
상기 아크릴레이트 모노머는 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 페닐아크릴레이트 및 벤질아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물.
제1항에 있어서,
상기 광개시제는 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐메탄-1-1온, 아니솔메틸에테르, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, α-히드록시케톤, 4-페녹시디클로로아세톤, 4-t-부틸디클로로아세토페논, 2-메틸-2-히드록시프로피오페논, 1-[4-(2-히드록시에틸)페닐]-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-페닐-1,1-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)-옥심, 벤조인, 벤질, 벤조페논, 벤조일벤조산, 3,3`-메틸-4-메톡시벤조페논, 폴리비닐벤조페논, α-히드록시시클로헥실벤조페논, 벤질메틸케탈, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 이소프로필티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 및 도데실티오크산톤으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 자외선 경화형 하드 코팅 조성물.
제1항에 따른 하드 코팅 조성물이 자외선 경화되어 형성된 것을 특징으로 하는 하드 코팅막.
제12항에 있어서,
코팅막의 표면 경도는 연필 경도로 1H 내지 3H인 것을 특징으로 하는 하드 코팅막.
제12항에 있어서,
코팅막의 접촉각은 71 내지 95˚인 것을 특징으로 하는 하드 코팅막.
제12항에 있어서,
플렉서블 디스플레이용 하드 코팅 필름에 적용되는 것을 특징으로 하는 하드 코팅막.