KR102009148B1 - 자외선 차단 기능이 우수한 점착 시트, 점착 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 - Google Patents
자외선 차단 기능이 우수한 점착 시트, 점착 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102009148B1 KR102009148B1 KR1020170111971A KR20170111971A KR102009148B1 KR 102009148 B1 KR102009148 B1 KR 102009148B1 KR 1020170111971 A KR1020170111971 A KR 1020170111971A KR 20170111971 A KR20170111971 A KR 20170111971A KR 102009148 B1 KR102009148 B1 KR 102009148B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- formula
- represented
- hydrogen
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title claims description 81
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title claims description 81
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims abstract description 53
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 43
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 35
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 249
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 84
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 62
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 62
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 53
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 44
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 37
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 37
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 37
- -1 nitro, hydroxy Chemical group 0.000 claims description 32
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 26
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 24
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 20
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 17
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 13
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 11
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 7
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011242 organic-inorganic particle Substances 0.000 claims description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 73
- 239000010408 film Substances 0.000 description 61
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 20
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 14
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000001840 matrix-assisted laser desorption--ionisation time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 2
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 2
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 2
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- 125000005874 benzothiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 125000003838 furazanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004625 phenanthrolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)* 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 125000001042 pteridinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=NC=CN=C12)* 0.000 description 2
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 125000001935 tetracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- ABADUMLIAZCWJD-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxole Chemical group C1OC=CO1 ABADUMLIAZCWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 241000282472 Canis lupus familiaris Species 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000905 alloy phase Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- GJGHHWKGMAKJQX-UHFFFAOYSA-N benzotrioxole Chemical group C1=CC=C2OOOC2=C1 GJGHHWKGMAKJQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 125000004988 dibenzothienyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002192 heptalenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004857 imidazopyridinyl group Chemical group N1C(=NC2=C1C=CC=N2)* 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001977 isobenzofuranyl group Chemical group C=1(OC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 125000001828 phenalenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- 125000004934 phenanthridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC=C3C=CC=CC3=C12)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/10—Adhesives in the form of films or foils without carriers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/023—Optical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/02—Non-macromolecular additives
- C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
- C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/208—Touch screens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
- C09J2301/408—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components additives as essential feature of the adhesive layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/05—Bonding or intermediate layer characterised by chemical composition, e.g. sealant or spacer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
- G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/40—OLEDs integrated with touch screens
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
본 발명은 가시광선 영역의 광에 대한 투과율 및 점착성은 저해하지 않으면서 자외선 영역의 광을 효과적으로 차단하는 점착 시트와, 바인더 수지 및 바인더 수지에 분산된 광흡수 염료를 포함하는 점착 조성물을 개시하며, 410 nm 이하 파장 영역의 광을 효과적으로 차단할 수 있으며, 다양한 종류의 디스플레이 장치에 적용 가능하다.
Description
본 발명은 자외선 차단 기능이 우수한 점착 시트, 점착 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.
최근 디스플레이 소자로 평판표시장치(Flat Panel Display)가 각광받고 있다. 이러한 평판표시장치에는 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel) 및 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Device) 등과 같은 디스플레이 장치가 있다.
그 중에서 유기 발광 표시 장치는 시야각이 넓고, 빠른 응답속도를 가지고 있어, 고화질의 디스플레이 구현이 가능하다. 특히, 마이크로캐비티(microcavity) 구조를 가지는 유기 발광 표시 장치는 상하 전극 사이의 광의 공진 효과를 이용하여 출력 효율을 높일 수 있고, 광의 색순도를 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 이러한 유기 발광 표시 장치는 기판, 기판상에 형성된 투광성의 제 1 전극, 제 1 전극 상에 형성된 유기물 레이어 및 유기물 레이어 상에 형성되며 반사율이 높은 제 2 전극을 포함한다. 통상적으로 기판은 유리 기판 또는 플라스틱 기판을 사용한다. 그리고 유기물층으로는 정공 주입층, 정공 수송층, 광 생성층, 정공 저지층 및 전자 수송층을 포함한다. 즉 제 1 전극과 제2 전극 사이에 복수의 유기물층이 적층됨에 따라, 다층 구조의 유기 발광 표시 장치가 제작된다.
그러나, 이러한 디스플레이 장치들은 자외선 영역의 광을 효과적으로 차단하지 못하는 문제가 있고, 이는 해당 장치의 시인성을 저하시키며, 특히 태양광이 조사되는 야외 사용 환경에서 장치의 내구성을 떨어뜨리는 원인으로 작용한다.
본 발명의 목적은 가시광선 영역의 광에 대한 투과율 및 점착성은 저해하지 않으면서 자외선 영역의 광을 효과적으로 차단하는 점착 시트와 점착 조성물을 제공하고자 한다.
본 발명의 다른 목적은 상기 점착 시트 또는 점착 조성물을 포함하는 디스플레이 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 목적을 해결하기 위하여,
본 발명은 일실시예에서,
점착성 바인더 수지 내에 광흡수 염료가 분산된 구조이며,
점착성 바인더 수지 100 중량부 기준으로, 광흡수 염료의 함량은 80 중량부 이하이고,
하기 조건 1 내지 2를 만족하며,
[조건 1]
405 nm 파장에 대한 광투과도는 5% 이하;
410 nm 파장에 대한 광투과도는 10% 이하; 및
420 nm 파장에 대한 광투과도는 60% 이하,
[조건 2]
430 nm 파장에 대한 광투과도는 75% 이상
트리아진계 자외선 흡수제인 제1광흡수 염료, 및 하기 화학식 2로 표시되는 제2 광흡수 염료를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착 시트:
[화학식 2]
화학식 2에서,
R1 내지 R3은 각각 독립적으로 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-a로 나타내며,
[화학식 2-a]
화학식 2-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
R4는 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-b로 나타내며,
[화학식 2-b]
화학식 2-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬기이고,
상기 화학식 2의 R1 내지 R4의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
또 다른 일실시예에서, 본 발명은,
바인더 수지; 및
상기 바인더 수지에 분산된 광흡수 염료를 포함하며,
상기 광흡수 염료는 트리아진계 자외선 흡수제인 제1광흡수 염료, 및 하기 화학식 2로 표시되는 제2 광흡수 염료를 포함하는 점착 조성물을 제공한다.
[화학식 2]
화학식 2에서,
R1 내지 R3은 각각 독립적으로 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-a로 나타내며,
[화학식 2-a]
화학식 2-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
R4는 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-b로 나타내며,
[화학식 2-b]
화학식 2-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬기이고,
상기 화학식 2의 R1 내지 R4의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
일실시예에서, 본 발명은 앞서 설명한 점착 조성물로 형성된 점착 시트를 제공한다.
또 다른 일실시예에서, 본 발명은 앞서 설명한 점착 조성물로 형성된 점착층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. 구체적으로는, 상기 디스플레이 장치는 디스플레이 패널; 편광 필름; 및 광투과성 윈도우층을 포함하며,
상기 점착층은,
디스플레이 패널과 편광 필름 사이;
편광 필름 내부; 및
편광 필름과 광투과성 윈도우층 사이
중 어느 하나 이상의 위치에 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 점착 조성물 및/또는 점착 시트는, 가시광선 영역의 광에 대한 광투과도 및 점착성능을 저하하지 않으면서, 410nm 이하 파장 영역의 광을 효과적으로 차단할 수 있으며, 다양한 종류의 디스플레이 장치에 적용 가능하다.
도 1은 발명의 하나의 실시예에 따른 점착 시트의 단면 구조를 나타낸 모식도이다.
도 2는 본 발명의 또 다른 하나의 실시예에 따른 점착 시트의 단면 구조를 나타낸 모식도이다.
도 3 및 4는 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 이형 필름이 부착된 점착 시트의 단면 구조를 나타낸 모식도이다.
도 5 내지 7은 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 단면 구조를 나타낸 모식도이다.
도 2는 본 발명의 또 다른 하나의 실시예에 따른 점착 시트의 단면 구조를 나타낸 모식도이다.
도 3 및 4는 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 이형 필름이 부착된 점착 시트의 단면 구조를 나타낸 모식도이다.
도 5 내지 7은 각각 본 발명의 하나의 실시예에 따른 디스플레이 장치의 단면 구조를 나타낸 모식도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 구체적인 내용에 상세하게 설명하고자 한다.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명에서, "포함한다", "가지다" 또는 "구성하다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또한, 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
나아가, 본 발명에서 "알킬기(alkyl group)"란 직쇄(linear) 또는 분지(branched) 형태의 포화 탄화수소로부터 유도된 치환기를 의미한다.
이때, 상기 "알킬기"로는 예를 들면, 메틸기(methyl group), 에틸기(ethyl group), n-프로필기(n-propyl group), 이소프로필기(iso-propyl group), n-부틸기(n-butyl group), sec-부틸기(sec-butyl group), t-부틸기(tert-butyl group), n-펜틸기(n-pentyl group), 1,1-디메틸프로필기(1,1-dimethylpropyl group), 1,2-디메틸프로필기(1,2-dimethylpropyl group), 2,2-디메틸프로필기(2,2-dimethylpropyl group), 1-에틸프로필기(1-ethylpropyl group), 2-에틸프로필기(2-ethylpropyl group), n-헥실기(n-hexyl group), 1-메틸-2-에틸프로필기(1-methyl-2-ethylpropyl group), 1-에틸-2-메틸프로필기(1-ethyl-2-methylpropyl group), 1,1,2-트리메틸프로필기(1,1,2-trimethylpropyl group), 1-프로필프로필기(1-propylpropyl group), 1-메틸부틸기(1-methylbutyl group), 2-메틸부틸기(2-methylbutyl group), 1,1-디메틸부틸기(1,1-dimethylbutyl group), 1,2-디메틸부틸기(1,2-dimethylbutyl group), 2,2-디메틸부틸기(2,2-dimethylbutyl group), 1,3-디메틸부틸기(1,3-dimethylbutyl group), 2,3-디메틸부틸기(2,3-dimethylbutyl group), 2-에틸부틸기(2-ethylbutyl group), 2-메틸펜틸기(2-methylpentyl group), 3-메틸펜틸기(3-methylpentyl group), n-옥틸기(n-octyl group), 2-에틸헥실기(2-ethylhexyl group) 등을 들 수 있다.
또한, 상기 "알킬기"는 1 내지 20의 탄소수, 예를 들어 1 내지 12의 탄소수, 1 내지 6의 탄소수, 또는 1 내지 4의 탄소수를 가질 수 있다.
아울러, 본 발명에서 "사이클로알킬기"란 단일고리(monocyclic)의 포화 탄화수소로부터 유도된 치환기를 의미한다.
상기 "사이클로알킬기(cycloalkyl group)"로는 예를 들면, 사이클로프로필기(cyclopropyl group), 사이클로부틸기(cyclobutyl group), 사이클로펜틸기(cyclopentyl group), 사이클로헥실기(cyclohexyl group), 사이클로헵틸기(cycloheptyl group), 사이클로옥틸기(cyclooctyl group) 등을 들 수 있다.
또한, 상기 "사이클로알킬기"는 3 내지 20의 탄소수, 예를 들어 3 내지 12의 탄소수, 또는 3 내지 6의 탄소수를 가질 수 있다.
나아가, 본 발명에서 "아릴기(aryl group)"란 방향족 탄화수소로부터 유도된 1가의 치환기를 의미한다.
이때, 상기 "아릴기"로는 예를 들면, 페닐기(phenyl group), 나프틸기(naphthyl group), 안트라세닐기(anthracenyl group), 페난트릴기(phenanthryl group) 나프타세닐기(naphthacenyl group), 피레닐기(pyrenyl group), 톨릴기(tolyl group), 바이페닐기(biphenyl group), 터페닐기(terphenyl group), 크리세닐기(chrycenyl group), 스파이로바이플루오레닐기(spirobifluorenyl group), 플루오란테닐기(fluoranthenyl group), 플루오레닐기(fluorenyl group), 페릴레닐기(perylenyl group), 인데닐기(indenyl group), 아줄레닐기(azulenyl group), 헵타레닐기(heptalenyl group), 페날레닐기(phenalenyl group), 페난트레닐기(phenanthrenyl group) 등을 들 수 있다.
또한, 상기 "아릴기"는 6 내지 30의 탄소수, 예를 들어, 6 내지 10의 탄소수, 6 내지 14의 탄소수, 6 내지 18의 탄소수, 또는 6 내지 12의 탄소수를 가질 수 있다.
이와 더불어, 본 발명에서, "헤테로아릴기(heteroaryl group)"란 단환 또는 축합환으로부터 유도된 "방향족 복소환"또는 "헤테로사이클릭"을 의미한다. 상기 "헤테로아릴기"는 헤테로 원자로서 질소(N), 황(S), 산소(O), 인(P), 셀레늄(Se) 및 규소(Si) 중에서 적어도 하나, 예를 들어 1개, 2개, 3개 또는 4개를 포함할 수 있다.
이때, 상기 "헤테로아릴기"로는 예를 들면, 피롤릴기(pyrrolyl group), 피리딜기(pyridyl group), 피리디닐기(pyridinyl group), 피리다지닐기(pyridazinyl group), 피리미디닐기(pyrimidinyl group), 피라지닐기(pyrazinyl group), 트리아졸릴기(triazolyl group), 테트라졸릴기(tetrazolyl group), 벤조트리아졸릴기(benzotriazolyl group), 피라졸릴기(pyrazolyl group), 이미다졸릴기(imidazolyl group), 벤즈이미다졸릴기(benzimidazolyl group), 인돌릴기(indolyl group), 인돌리닐기(indolinyl group), 이소인돌릴기(isoindolyl group), 인돌리지닐기(indolizinyl group), 푸리닐기(purinyl group), 인다졸릴기(indazolyl group), 퀴놀릴기(quinolyl group), 이소퀴놀리닐기(isoquinolinyl group), 퀴놀리지닐기(quinolizinyl group), 프탈라지닐기(phthalazinyl group), 나프틸리디닐기(naphthylidinyl group), 퀴녹살리닐기(quinoxalinyl group), 퀴나졸리닐기(quinazolinyl group), 신놀리닐기(cinnolinyl group), 프테리디닐기(pteridinyl group), 이미다조트리아지닐기(imidazotriazinyl group), 아크리디닐기(acridinyl group), 페난트리디닐기(phenanthridinyl group), 카바졸릴기(carbazolyl group), 카바졸리닐기(carbazolinyl group), 피리미디닐기(pyrimidinyl group), 페난트롤리닐기(phenanthrolinyl group), 페나지닐기(phenazinyl group), 이미다조피리디닐기(imidazopyridinyl group), 이미다조피리미디닐기(imidazopyrimidinyl group), 피라졸로피리디닐기(pyrazolopyridinyl group) 등을 포함하는 함질소 헤테로아릴기; 티에닐기(thienyl group), 벤조티에닐기(benzothienyl group), 디벤조티에닐기(dibenzothienyl group) 등을 포함하는 황 함유 헤테로아릴기; 퓨릴기(furyl group), 피라닐기(pyranyl group), 사이클로펜타피라닐기(cyclopentapyranyl group), 벤조퓨라닐기(benzofuranyl group), 이소벤조퓨라닐기(isobenzofuranyl group), 디벤조퓨라닐기(dibenzofuranyl group), 벤조디옥솔기(benzodioxole group), 벤조트리옥솔기(benzotrioxole group) 등을 포함하는 함산소 헤테로아릴기 등을 들 수 있다.
또한, 상기 "헤테로아릴기"의 구체적인 예로서는, 티아졸릴기(thiazolyl group), 이소티아졸릴기(isothiazolyl group), 벤조티아졸릴기(benzothiazolyl group), 벤조티아디아졸릴기(benzothiadiazolyl group), 페노티아지닐기(phenothiazinyl group), 이소옥사졸릴기(isoxazolyl group), 퓨라자닐기(furazanyl group), 페녹사지닐기(phenoxazinyl group), 옥사졸릴기(oxazolyl group), 벤조옥사졸릴기(benzoxazolyl group), 옥사다이아졸릴기(oxadiazolyl group), 피라졸로옥사졸릴기(pyrazoloxazolyl group), 이미다조티아졸릴기(imidazothiazolyl group), 티에노퓨라닐기(thienofuranyl group), 퓨로피롤릴기(furopyrrolyl group), 피리독사지닐기(pyridoxazinyl group) 등의 적어도 2개 이상의 헤테로 원자를 포함하는 화합물들을 들 수 있다.
나아가, 상기 "헤테로아릴기"는 2 내지 20의 탄소수, 예를 들어 4 내지 19의 탄소수, 4 내지 15의 탄소수 또는 5 내지 11의 탄소수를 가질 수 있다. 예를 들어, 헤테로 원자를 포함하면, 헤테로아릴기는 5 내지 21의 환원(ring member)을 가질 수 있다.
또한, 본 발명에서 "아랄킬기(aralkyl group)"는 말단 탄화수소의 수소 자리에 방향족 탄화수소로부터 유도된 1가의 치환기가 결합된 포화 탄화수소 치환기를 의미한다. 즉, "아랄킬기"는 사슬 말단이 아릴기로 치환된 알킬기를 나타내며, 그 예로서 벤질기(benzyl group), 펜에틸기(phenethyl group), 페닐프로필기(phenylpropyl group), 나프탈레닐메틸기(naphthalenylmethyl group), 나프탈레닐에틸기(naphthalenylethyl group) 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명에서 "점착"은 인접하는 기재와의 점착성이 있는 경우를 총칭하며, 점착성의 정도에 따라 점착 또는 접착의 경우를 모두 포함한다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명은 점착성 바인더 수지 내에 광흡수 염료가 분산된 구조의 점착 시트를 제공한다. 하나의 예에서, 상기 점착 시트는, 점착성 바인더 수지 100 중량부 기준으로, 광흡수 염료의 함량은 60 중량부 이하이고,
하기 조건 1 및 2를 만족한다.
[조건 1]
405 nm 파장에 대한 광투과도는 5% 이하;
410 nm 파장에 대한 광투과도는 10% 이하; 및
420 nm 파장에 대한 광투과도는 60% 이하,
[조건 2]
430 nm 파장에 대한 광투과도는 75% 이상.
구체적으로, 본 발명에 따른 점착 시트는 광흡수 염료를 포함하는 구조일 수 있다. 하나의 예에서, 본 발명에 따른 점착 시트는, 수지 매트릭스 및 상기 수지 매트릭스에 분산된 광흡수 염료를 포함하는 구조이다.
또한, 상기 점착 시트는 하기 조건 3을 만족할 수 있다.
[조건 3]
|T20% - T10%| < 5 (nm)
T20%은 405 내지 430 nm 파장 영역에서 광투과도가 20%인 지점의 파장값을 나타내고,
T10%은 405 내지 430 nm 파장 영역에서 광투과도가 10%인 지점의 파장값을 나타낸다.
본 발명에 따른 점착 시트는 위 조건 3을 통해 405 내지 430 nm 파장 영역에서 광흡수 스펙트럼의 기울기가 매우 가파른 것을 알 수 있다. 이를 통해, 405 nm 이하 파장 영역의 광은 효과적으로 차단하면서, 동시에 430 nm 이상의 파장 영역의 광에 대한 투과는 저해하지 않음을 알 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 점착 시트는, 410nm 이하 파장 영역의 광을 효과적으로 차단하게 된다. 이를 통해, 상기 점착 시트를 디스플레이 장치에 적용함으로써, 태양광 노출시 자외선 조사에 따른 변색 내지 색좌표 시프트(shift)에 따른 색온도의 변화를 방지 혹은 저감할 수 있다.
구체적으로는, 상기 점착 시트는 하기 조건 4 및 5를 만족할 수 있다.
[조건 4]
405 nm 이하 파장에 대한 광투과도는 평균 0.5% 이하;
410 nm 파장에 대한 광투과도는 5% 이하; 및
420 nm 파장에 대한 광투과도는 52% 이하
[조건 5]
430 nm 파장에 대한 광투과도는 78% 이상.
상기 점착 시트의 두께는 디스플레이 장치에 적용 가능한 범위라면 특별히 제한되지 않으나, 평균 5 내지 350㎛ 범위일 수 있다. 구체적으로, 상기 점착 시트의 두께는 평균 100 내지 300 ㎛ 범위 혹은 10 내지 30 ㎛ 일 수 있다. 한편, 점착 시트의 두께가 평균 10 내지 30 ㎛ 범위일 경우, 점착력이 적절하게 유지될 수 있다.
한편, 점착 시트의 두께가 평균 10 내지 30㎛의 범위일 때, 상기 점착 시트는 유리(glass)에 대한 점착력이 360gf/inch 이상일 수 있으며, 구체적으로, 점착 시트는 360 내지 500 gf/inch 범위 혹은 370 내지 450 gf/inch 범위일 수 있다.
혹은 본 발명의 일 실시예에 따른 16㎛ 점착 시트의 유리에 대한 점착력은 360 내지 500 gf/inch 범위 혹은 370 내지 450 gf/inch 범위일 수 있다.
점착 시트의 점착력이 상기 범위일 때, 충분한 비산방지 효과 및 공정 불량시 유리의 재할용을 위한 리워크 공정이 용이한 장점이 있다.
본 발명에 따른 점착 시트는, 점착 조성물을 필름 형태로 제조하거나, 혹은 대상 기판 상에 도포하여 제조한 경우를 모두 포함한다. 점착 조성물을 이용하여 필름을 제조하는 과정은 공지의 사항이므로, 구체적인 설명은 생략한다.
또한, 상기 점착 시트는, 점착 시트의 일면 또는 양면에 형성된 이형 필름을 더 포함할 수 있다. 이는 운반의 용이성, 공정 단계별로 이동의 용이성을 위한 것이다.
또한, 상기 점착 시트는 광학 필름을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 광학 필름으로는 편광 필름인 경우를 포함한다. 예를 들어, 이러한 점착 시트는 다양한 형태의 디스플레이 장치에 적용할 수 있다.
본 발명에 따른 점착 시트는 입자상 성분을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 점착층은, 평균 굴절률이 1.3 내지 2.1인 입자상 성분을 더 포함한다.
상기 편광 필름은, 편광자 및 위상차 필름을 포함하는 적층구조일 수 있다. 하나의 예로서, 상기 편광 필름은 편광자 및 위상차 필름 사이에 앞서 설명한 점착층 혹은 점착 시트를 포함할 수 있다. 상기 편광자는 예를 들어, TAC/PVA/TAC 구조일 수 있다. 또한, 상기 위상차 필름은 PC 또는 COP 또는 별도의 코팅층으로 형성된 구조일 수 있다. 예를 들어, 상기 위상차 필름은 λ/4 위상차 필름 또는 λ/2 위상차 필름일 수 있다.
본 발명에 따른 점착 시트는, 광흡수 염료를 혼합 사용함으로써, 자외선 영역의 광을 선택적으로 차단할 수 있음을 확인하였다.
예를 들어, 상기 점착 시트는 트리아진계 자외선 흡수제인 제1광흡수 염료, 및 하기 화학식 2로 표시되는 제2 광흡수 염료를 포함한다.
한편, 트리아진계 자외선 흡수제인 제1광흡수 염료는 하기 화학식 1로 표시될 수 있다.
[화학식 1]
화학식 1에서,
A1, A2 및 A3는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
A1, A2 및 A3 중 어느 하나 이상은 하기 화학식 1-a로 나타내고,
A1, A2 및 A3 중 어느 하나 이상은 하기 화학식 1-b로 나타내고,
[화학식 1-a]
화학식 1-a에서,
B1 내지 B5는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
[화학식 1-b]
화학식 1-b에서,
C1 내지 C3는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
X는 산소, 황 또는 질소 원자를 나타내고,
상기 화학식 1의 A1, A2 및 A3의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환되고,
[화학식 2]
화학식 2에서,
R1 내지 R3은 각각 독립적으로 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-a로 나타내며,
[화학식 2-a]
화학식 2-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
R4는 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-b로 나타내며,
[화학식 2-b]
화학식 2-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬기이고,
상기 화학식 2의 R1 내지 R4의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
보다 구체적으로, 상기 화학식 1로 나타내는 제1 광흡수 염료는 하기 화학식 3으로 표시된다.
[화학식 3]
화학식 3에서,
A2는 비치환되거나, 혹은 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기로 치환된 벤젠 구조를 나타내고,
A1은 하기 화학식 3-b로 나타내고,
[화학식 3-b]
화학식 3-b에서,
C1 내지 C3는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
X는 산소, 황 또는 질소 원자를 나타낸다.
또한, 상기 화학식 2로 나타내는 제2 광흡수 염료는 하기 화학식 4로 표시된다.
[화학식 4]
화학식 4에서,
R2는 시아노기이고,
R3은 수소이고,
Ra는 하기 화학식 4-a로 표시되고,
[화학식 4-a]
화학식 4-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
Rb는 하기 화학식 4-b로 표시되며,
[화학식 4-b]
화학식 4-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다.
상기 화학식 4의 R2, R3, Ra 및 Rb 의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
또한, 본 발명에 따른 점착 시트는, 태양광 노출에 따른 분광 투과율 변화를 최소화함으로써, 우수한 내광성을 구현할 수 있어 디스플레이 장치상에서의 색변화 즉 색온도 변화를 최소화 할 수 있다. 구체적으로는, 상기 점착 시트를 온도 85℃ 조건하에, 태양광 조사 조건에서 8 시간 노출후 태양광 차단 조건에서 8시간 노출하는 과정을 45회 반복하는 실험을 실시하고, 상기 실험 전 405nm 파장의 광에 대한 분광 투과율(To, %)과 실험 후 동일 파장의 광에 대한 분광 투과율(T1, %)의 차이를 산출하게 된다. 태양광 조사는 조도 700~900W/㎡ 의 제논램프를 사용하였다.
하나의 예로서, 상기 점착 시트는, 태양광 조사 실험시, 하기 조건 6을 만족한다.
[조건 6]
|T1-T0| ≤ 5 (%)
조건 6에서,
T0는 시료를 태양광 노출 실험 전 측정한 405nm 파장의 광에 대한 투과율을 나타내고,
T1은 시료를 태양광 노출 실험 후 측정한 405nm 파장의 광에 대한 투과율을 나타낸다.
구체적으로, 상기 조건 6에 따른 분광 투과율 변화량은 5% 이하, 3% 이하, 또는 1% 이하 범위인 것을 실험적으로 확인하였다.
또한, 본 발명은 점착 조성물을 제공하며, 하나의 실시예에서, 상기 점착 조성물은, 바인더 수지; 및 상기 바인더 수지에 분산된 광흡수 염료를 포함하며,
상기 광흡수 염료는 트리아진계 자외선 흡수제인 제1광흡수 염료, 및 하기 화학식 2로 표시되는 제1 광흡수 염료를 포함한다.
한편, 트리아진계 자외선 흡수제인 제1광흡수 염료는 하기 화학식 1로 표시될 수 있다.
[화학식 1]
화학식 1에서,
A1, A2 및 A3는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
A1, A2 및 A3 중 어느 하나 이상은 하기 화학식 1-a로 나타내고,
A1, A2 및 A3 중 어느 하나 이상은 하기 화학식 1-b로 나타내고,
[화학식 1-a]
화학식 1-a에서,
B1 내지 B5는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
[화학식 1-b]
화학식 1-b에서,
C1 내지 C3는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
X는 산소, 황 또는 질소 원자를 나타내고,
상기 화학식 1의 A1, A2 및 A3의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환되고,
[화학식 2]
화학식 2에서,
R1 내지 R3은 각각 독립적으로 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-a로 나타내며,
[화학식 2-a]
화학식 2-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
R4는 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-b로 나타내며,
[화학식 2-b]
화학식 2-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬기이고,
상기 화학식 2의 R1 내지 R4의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
또한, 상기 화학식 1로 나타내는 화합물은 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.
[화학식 3]
화학식 4에서,
A2는 비치환되거나, 혹은 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기로 치환된 벤젠 구조를 나타내고,
A1은 하기 화학식 3-b로 나타내고,
[화학식 3-b]
화학식 3-b에서,
C1 내지 C3는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
X는 산소, 황 또는 질소 원자를 나타낸다.
예를 들어, 상기 제1 광흡수 염료는 하기 화학식 2-1 내지 2-3의 구조 중 어느 하나 이상으로 나타낼 수 있다.
[화학식 2-1]
[화학식 2-2]
[화학식 2-3]
또한, 상기 화학식 2로 나타내는 제2 광흡수 염료는 하기 화학식 4로 표시될 수 있다.
[화학식 4]
화학식 4에서,
R2는 시아노기이고,
R3은 수소이고,
Ra는 하기 화학식 4-a로 표시되고,
[화학식 4-a]
화학식 4-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
Rb는 하기 화학식 4-b로 표시되며,
[화학식 4-b]
화학식 4-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다.
상기 화학식 4의 R2, R3, Ra 및 Rb 의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
예를 들어, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 R1 내지 R4는 하기 표 1과 같은 경우를 포함한다.
| No. | R1 | R2 | R3 | R4 |
| 1 |
 |
-H | -H |
 |
| 2 |
 |
-H | -H |
 |
| 3 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 4 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 5 |
 |
-H | -CN |
 |
| 6 |
 |
-H | -CN |
 |
| 7 |
 |
-CN | -H |
 |
| 8 |
 |
-CN | -H |
 |
| 9 |
 |
-H | -H |
 |
| 10 |
 |
-H | -H |
 |
| 11 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 12 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 13 |
 |
-H | -CN |
 |
| 14 |
 |
-H | -CN |
 |
| 15 |
 |
-CN | -H |
 |
| 16 |
 |
-CN | -H |
 |
| 17 |
 |
-H | -H |
 |
| 18 |
 |
-H | -H |
 |
| 19 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 20 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 21 |
 |
-H | -CN |
 |
| 22 |
 |
-H | -CN |
 |
| 23 |
 |
-CN | -H |
 |
| 24 |
 |
-CN | -H |
 |
| 25 |
 |
-H | -H |
 |
| 26 |
 |
-H | -H |
 |
| 27 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 28 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 29 |
 |
-H | -CN |
 |
| 30 |
 |
-H | -CN |
 |
| 31 |
 |
-CN | -H |
 |
| 32 |
 |
-CN | -H |
 |
| 33 |
 |
-H | -H |
 |
| 34 |
 |
-H | -H |
 |
| 35 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 36 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 37 |
 |
-H | -CN |
 |
| 38 |
 |
-H | -CN |
 |
| 39 |
 |
-CN | -H |
 |
| 40 |
 |
-CN | -H |
 |
| 41 |
 |
-H | -H |
 |
| 42 |
 |
-H | -H |
 |
| 43 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 44 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 45 |
 |
-H | -CN |
 |
| 46 |
 |
-H | -CN |
 |
| 47 |
 |
-CN | -H |
 |
| 48 |
 |
-CN | -H |
 |
| 49 |
 |
-H | -H |
 |
| 50 |
 |
-H | -H |
 |
| 51 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 52 |
 |
-CN | -CN |
 |
| 53 |
 |
-H | -CN |
 |
| 54 |
 |
-H | -CN |
 |
| 55 |
 |
-CN | -H |
 |
| 56 |
 |
-CN | -H |
 |
또 다른 하나의 실시예에서, 본 발명에 따른 점착 조성물은, 바인더 수지 100 중량부를 기준으로, 상기 바인더 수지에 분산된 광흡수 염료의 함량은 80 중량부 이하일 수 있다. 보다 구체적으로는, 상기 광흡수 염료의 함량은 30 내지 80 중량부, 40 내지 78 중량부, 혹은 45 내지 75 중량부 범위일 수 있다. 광흡수 염료의 함량을 상기 범위로 제어함으로써, 가시광선 영역의 광에 대한 투과율은 저해하지 않으면서, 자외선 영역의 광을 선택적이고 효과적으로 차단할 수 있다. 한편, 바인더 수지 100 중량부를 기준으로, 상기 바인더 수지에 분산된 광흡수 염료의 함량이 80 중량부를 초과하게 되면, 점착 시트의 점착력이 저하될 수 있으며, 광흡수 염료의 함량이 30 중량부 미만인 경우에는 400~430nm 범위의 투과율이 상승하여 자외선 영역의 광을 효과적으로 차단하지 못하는 문제가 발생할 수 있다.
하나의 실시예에서, 본원에 따른 제1 광흡수 염료 및 제2 광흡수 염료의 혼합 비율은, 1:3 내지 5:1 중량비 범위일 수 있다. 구체적으로, 제1 광흡수 염료 및 제2 광흡수 염료의 혼합 비율은 1:2 내지 4.4:1 중량비 범위일 수 있다. 상기 2종의 광흡수 염료의 함량을 상기 범위로 혼합함으로써, 가시광선 영역의 광에 대한 투과율은 저해하지 않으면서, 자외선 영역의 광을 선택적이고 효과적으로 차단할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 점착 조성물은 바인더 수지 내에 분산된 입자상 성분을 더 포함할 수 있다. 구체적으로 상기 입자상 성분은 평균 굴절률이 1.3 내지 2.1 범위, 또는 1.4 내지 1.6 범위일 수 있다. 상기 입자상 성분은 상기 굴절률을 갖는 경우라면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 금속 산화물, 금속 질화물 및 금속 산질화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 입자; 실리콘 및 아크릴 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 유기 입자; 및 상기 금속 입자를 구성하는 성분 및 유기 입자를 구성하는 성분을 함유하는 유-무기 입자 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
예를 들어, 상기 금속 입자는 Zr, Al, Fe, Cu, Ti, Au, Ag, Mg 및 Zn 중 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합이나 합금상일 수 있으며, 해당 금속의 산화물, 질화물 및/또는 산질화물을 포함한다. 예를 들어, 상기 유기 입자는 실리콘 입자 혹은 비드 형태의 아크릴 수지 입자일 수 있다. 또한, 상기 금속 입자를 구성하는 성분 및 유기 입자를 구성하는 성분을 함유하는 유-무기 입자를 배제하는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 입자상 성분은 ZrO2, TiO2, Al2O3, MgO, 및 SiO2 중 적어도 어느 하나 이상일 수 있고, 입자의 형상은 구형 또는 다양한 다각형의 형상일 수 있다.
상기 입자상 성분은, 예를 들어, 입자상 성분의 평균 입경이 0.1 내지 5 ㎛, 0.5 내지 3 ㎛, 3 내지 5 ㎛, 또는 2 내지 4 ㎛ 범위일 수 있다. 상기 입자상 성분의 평균 입경은, 굴절률 수치 내지 가시광선 영역의 투과도 저해 여부를 고려한 것이다.
상기 범위의 평균 입경을 갖는 입자상 성분을 포함하면, 미산란(Mie Scattering) 효과를 극대화하여 전방 산란시킬 수 있고, 이에 따라 특정 파장의 광 직진성을 감소시킬 수 있어 디스플레이 장치를 바라보는 각도에 따라 색상이 왜곡되어 보이게 되는 컬러 시프트 현상을 감소시킬 수 있다.
또한, 상기 입자상 성분과 바인더 수지의 굴절률 차이는 0.05 이상일 수 있다. 상기 입자상 성분과 바인더 수지의 굴절률 차이는, 구체적으로 0.05 내지 0.4, 0.07 내지 0.3, 또는 0.08 내지 0.15 범위일 수 있다. 상기 입자상 성분과 바인더 수지의 굴절률을 일정 수준 이상 차이가 나도록 설계함으로써, 가시광선 영역의 광투과도를 높이는 효과가 있다.
본 발명에 따른 점착 조성물에 포함된 바인더 수지는 점착성 수지라면 특별히 제한되지 않으며, 이들의 예로는 아크릴 수지, 고무 수지, 비닐 수지, 실리콘 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 우레탄 수지, 불소 수지, 에폭시 수지, 또는 상기 수지를 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 그 중에서, 내후성, 비용 및 점착제의 형태 자유도 측면에서, 아크릴 수지를 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은 앞서 설명한 점착 조성물로 형성된 점착층이나 점착 시트를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
하나의 예로서, 상기 디스플레이 장치는, 디스플레이 패널, 편광 필름, 터치 필름, 및 광투광성 윈도우층이 순차 적층된 구조이고,
상기 점착층은
디스플레이 패널과 편광 필름 사이;
편광 필름 내부;
편광 필름과 터치 필름 사이; 및
터치 필름과 광투과성 윈도우층 사이;
중 어느 하나 이상의 위치에 형성된 구조일 수 있다.
다른 하나의 예로서, 상기 디스플레이 장치는, 디스플레이 패널, 터치 필름, 편광 필름, 및 광투광성 윈도우층이 순차 적층된 구조이고,
상기 점착층은
디스플레이 패널과 터치 필름 사이;
터치 필름과 편광 필름 사이; 및
편광 필름 내부; 및
편광 필름과 광투과성 윈도우층 사이;
중 어느 하나 이상의 위치에 형성된 구조일 수 있다.
또 다른 하나의 예로서, 상기 디스플레이 장치는, 디스플레이 패널; 편광 필름; 터치 필름, 및 광투과성 윈도우층이 순차 적층된 구조이고,
상기 편광 필름은 편광자를 포함하는 다층 구조이고,
상기 점착층 혹은 점착 시트는, 편광자를 기준으로, 디스플레이 패널과 가까운 위치에 형성된 구조일 수 있다.
또 다른 하나의 예로서, 상기 디스플레이 장치는, 디스플레이 패널; 터치 필름, 편광 필름; 및 광투과성 윈도우층이 순차 적층된 구조이고,
상기 편광 필름은 편광자를 포함하는 다층 구조이고,
상기 점착층 혹은 점착 시트는, 편광자를 기준으로, 디스플레이 패널과 가까운 위치에 형성된 구조일 수 있다.
상기 편광 필름은 편광자 및 위상차 필름 등을 포함하는 다층 구조일 수 있다. 또한, 상기 점착층 혹은 점착 시트는, 편광자를 기준으로, 디스플레이 패널과 가까운 위치에 형성함으로써, 디스플레이 장치의 성능에는 영향을 미치지 않으면서, 자외선 영역의 광을 효율적으로 차단 가능하다. 여기서, "편광자를 기준으로, 디스플레이 패널과 가까운 위치"란, 편광자와 디스플레이 패널 사이를 의미한다. 상기 점착층 혹은 점착 시트는, 디스플레이 패널과 편광자 사이에 위치하며, 구체적으로는, 디스플레이 패널과 편광자 사이에 여러 광학층이 존재하는 경우에는, 각 층들 사이의 계면 중 어느 하나 이상에 위치할 수 있다.
또한, 상기 디스플레이 장치는, 예를 들어, OLED 장치일 수 있다. 최근 OLED 장치를 채용한 모바일 장치에 대한 수요가 증가하는 경향에 부합한 것이다. 본 발명에 따른 디스플레이 장치는 자외선 영역의 광에 대한 선택적인 차단이 가능하고, 태양광 노출에 따른 변색 내지 색온도 변화를 효과적으로 방지할 수 있다.
상기 디스플레이 장치는, 다양한 형태의 디스플레이 장치에 적용 가능하며, 예를 들어, TV, 모니터, 핸드폰, 네비게이션, 노트북 또는 테블릿 PC 등에 적용 가능하며, 구체적으로는 모바일 장치에 적용 가능하다. 또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 앞서 설명한 점착 조성물로 형성된 점착층, 점착 시트 혹은 적층 구조 등을 포함하는 경우들을 모두 포괄한다.
이하, 본 발명을 도면을 통해 보다 상세히 설명한다. 단, 하기 도면에 대한 설명은 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 그에 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 점착 시트(10)는 바인더 수지(11) 내에 광흡수 염료(12)가 분산된 구조이다. 도 2는 본 발명의 또 다른 하나의 실시예에 따른 점착 시트(20)로, 바인더 수지(21) 내에 광흡수 염료(22)와 입자상 성분(23)이 함께 분산된 구조이다. 여기서 상기 광흡수 염료(12, 22)는 1종 또는 2종 이상일 수 있다.
도 3은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 점착 시트(10)의 적층구조를 도시한 것으로, 광흡수 염료가 분산된 점착 시트(10)의 일면에 이형 필름(30)이 적층된 구조이다. 혹은 도 4에 도시된 바와 같이, 점착 시트(10)의 양면에 이형 필름(31, 32)이 적층된 구조도 포함한다. 본 발명에 따른 점착 시트를 적용하여 디스플레이 장치를 제조하는 과정에서, 공정 단계에 따라 점착 시트(10)의 일면 또는 양면에 형성된 이형 필름(30, 31, 32)을 제거할 수 있다.
도 5는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 디스플레이 장치(100)의 단면 구조를 나타낸 모식도이다. 도 5에서, 상기 디스플레이 장치(100)는 OLED 패널(110) 상에 편광 필름(120), 터치 필름(150), 점착층(130) 및 윈도우층(140)이 순차 적층된 구조이다. 상기 점착층(130)은 내부에 광흡수 염료가 분산된 구조이며, 별도로 표시하지 않았으나 입자상 성분이 함께 분산된 구조일 수 있다. 아울러, 터치 필름은(150)은 물체가 터치 필름에(150)에 접근하거나, 터치 필름(150)에 접촉하면 터치를 감지할 수 있다. 여기서, 접촉이란 사용자의 손과 같은 외부 물체가 터치 필름(150)에 직접적으로 닿는 경우뿐만 아니라 외부 물체가 터치 필름(150)에 접근하거나 접근한 상태에서 움직이는 경우도 포함한다.
도 6은 본 발명의 또 다른 하나의 실시예에 따른 디스플레이 장치(200)의 단면 구조를 나타낸 모식도이다. 도 6에서, 상기 디스플레이 장치(200)는 OLED 패널(210) 상에 제1 점착층(221), 편광 필름, 터치 필름(250), 제3 점착층(230) 및 윈도우층(240)이 순차 적층된 구조이다. 상기 윈도우층(240)은 광투과성의 플라스틱 혹은 유리 기판을 이용할 수 있다. 상기 편광 필름은 위상차 필름(222), 제2 점착층(223) 및 편광자(224)가 순차 적층된 구조이다. 정리하면, 도 6에 도시된 디스플레이 장치(200)는 OLED 패널(210)과 위상차 필름(222) 사이에 형성된 제1 점착층(221); 위상차 필름(222)과 편광자(224) 사이에 형성된 제2 점착층(223); 및 편광자(224)와 윈도우층(240) 사이에 형성된 제3 점착층(230)을 포함하며, 상기 제1 내지 제3 점착층(221, 223, 230) 중 어느 하나 이상은 내부에 분산된 광흡수 염료를 포함한다. 경우에 따라서는, 상기 제1 내지 제3 점착층(221, 223, 230) 중 어느 하나의 층이 광흡수 염료를 포함할 수 있고, 혹은 2개의 층이나 3개의 층 모두 광흡수 염료를 포함할 수 있다.
도 7은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 디스플레이 장치(300)의 단면 구조를 나타낸 모식도이다. 도 7에서, 상기 디스플레이 장치(300)는 OLED 패널(310) 상에 점착층(330), 편광 필름(320), 터치 필름(350) 및 윈도우층(340)이 순차 적층된 구조이다. 상기 점착층(330)은 내부에 광흡수 염료가 분산된 구조이며, 별도로 표시하지 않았으나 입자상 성분이 함께 분산된 구조일 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예 및 실험예에 의해 보다 상세히 설명한다.
단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예 및 실험예에 한정되는 것은 아니다.
제조예 1: 제1 광흡수 염료의 제조
제1 광흡수 염료로는 트리아진계 자외선 흡수제를 사용하였으며, 구체적으로, 하기 화학식 구조의 염료를 사용하였다.
제조예 2: 제2 광흡수 염료의 제조
[제조예 2-1]
250ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 속슬렛(soxhlet)을 장치한 후, 톨루엔(toluene, 24ml)을 주입하고, 화학식 A1(18.0g, 0.065mol) 및 화학식 B1(21.9g, 0.295mol)을 투입한다. 40℃로 가열 후, 황산(H2SO4, 1.2g)을 첨가하고 120℃로 승온하여 12시간 동안 환류시킨다. 반응혼합물에 에테르(ether, 41ml)와 소듐바이카보네이트 수용액(49ml)을 넣어 유기층을 분리를 한다. 유기층은 증류수로 세척하고 용매를 제거하여 목적화합물(화학식 C1, 17.8g, 수율: 82%)을 얻었다.
MALDI-TOF : m/z = 330.1368(C21H18N2O2 = 330.1).
[제조예 2-2]
250ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 속슬렛(soxhlet)을 장치한 후, 톨루엔(toluene, 26ml)을 주입하고, 화학식 A2(19.0g, 0.072mol) 및 화학식 B2(42.6g, 0.327mol)를 투입한다. 40℃로 가열 후, 황산(H2SO4, 1.4g)을 첨가하고 120℃로 승온하여 15시간 동안 환류시킨다. 반응혼합물에 에테르(ether, 44ml)와 소듐바이카보네이트 수용액(51ml)을 넣어 유기층을 분리를 한다. 유기층은 증류수로 세척하고 용매를 제거하여 목적화합물(화학식 C2, 20.9g, 수율: 80%)을 얻었다.
MALDI-TOF : m/z = 373.2253 (C21H31NO4 = 373.2).
[제조예 2-3]
250ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 속슬렛(soxhlet)을 장치한 후, 톨루엔(toluene, 27ml)을 주입하고, 화학식 A3(20.0g, 0.083mol) 및 화학식 B3(38.6g, 0.377mol)을 투입한다. 40℃로 가열 후, 황산(H2SO4, 1.6g)을 첨가하고 120℃로 승온하여 12시간 동안 환류시킨다. 반응혼합물에 에테르(ether, 46ml)와 소듐바이카보네이트 수용액(54ml)을 넣어 유기층을 분리를 한다. 유기층은 증류수로 세척하고 용매를 제거하여 목적화합물(화학식 C3, 23.0g, 수율: 85%)을 얻었다.
MALDI-TOF : m/z = 322.1933 (C22H26O2 = 322.2).
[제조예 2-4]
250ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 속슬렛(soxhlet)을 장치한 후, 톨루엔(toluene, 30ml)을 주입하고, 화학식 A4(22.0g, 0.111mol) 및 화학식 B1(37.0g, 0.499mol)을 투입한다. 40℃로 가열 후, 황산(H2SO4, 2.1g)을 첨가하고 120℃로 승온하여 10시간 동안 환류시킨다. 반응혼합물에 에테르(ether, 51ml)와 소듐바이카보네이트 수용액(59ml)을 넣어 유기층을 분리를 한다. 유기층은 증류수로 세척하고 용매를 제거하여 목적화합물(화학식 C4, 25.4g, 수율: 90%)을 얻었다.
MALDI-TOF : m/z = 254.1055 (C15H14N2O2 = 254.1).
[제조예 2-5]
250ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 속슬렛(soxhlet)을 장치한 후, 톨루엔(toluene, 34ml)을 주입하고, 화학식 A5(25.0g, 0.104mol) 및 화학식 B3(48.2g, 0.472mol)을 투입한다. 40℃로 가열 후, 황산(H2SO4, 2.0g)을 첨가하고 120℃로 승온하여 10시간 동안 환류시킨다. 반응혼합물에 에테르(ether, 58ml)와 소듐바이카보네이트 수용액(68ml)을 넣어 유기층을 분리를 한다. 유기층은 증류수로 세척하고 용매를 제거하여 목적화합물(화학식 C5, 29.8g, 수율: 88%)을 얻었다.
MALDI-TOF : m/z = 322.1165 (C15H18N2O6 = 322.1).
[제조예 2-6]
250ml 3구 둥근 바닥 플라스크에 속슬렛(soxhlet)을 장치한 후, 톨루엔(toluene, 30ml)을 주입하고, 화학식 A6(22.0g, 0.094mol) 및 화학식 B4(55.3g, 0.424mol)을 투입한다. 40℃로 가열 후, 황산(H2SO4, 1.8g)을 첨가하고 120℃로 승온하여 10시간 동안 환류시킨다. 반응혼합물에 에테르(ether, 51ml)와 소듐바이카보네이트 수용액(58ml)을 넣어 유기층을 분리를 한다. 유기층은 증류수로 세척하고 용매를 제거하여 목적화합물(화학식 C6, 27.1g, 수율: 83%)을 얻었다.
MALDI-TOF : m/z = 345.1940 (C20H27NO4 = 345.2).
실시예 1 내지 5: 점착 시트의 제조
광흡수 염료를 바인더 수지에 분산시켜 점착 조성물을 제조하였다. 광흡수 염료는 제조예 1에 따른 제1 광흡수 염료와 제조예 2-2에 따른 제2광흡수 염료를 혼합 사용하였고, 실시예 1 내지 5 의 시료에서 각 광흡수 염료의 함량을 변화시키면서 점착 조성물을 제조하였다. 제조된 점착 조성물을 투명 기판상에 도포하여 두께 16 ㎛의 점착 시트를 제조하였다.
비교예 1 및 2: 점착 시트의 제조
제1 광흡수 염료를 단독으로 사용하였다는 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 과정으로 점착 시트를 제조하였다.
비교예 3 내지 5: 점착 시트의 제조
제2 광흡수 염료를 단독으로 사용하였다는 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 과정으로 점착 시트를 제조하였다.
실시예 및 비교예에서 각 광흡수 염료와 바인더 수지의 함량의 비율은 아래 표 2와 같이 달리하여 점착 시트를 제조하였다.
| No. | 제1 광흡수 염료 함량(wt%) | 제2 광흡수 염료 함량(wt%) | 바인더 수지 함량(wt%) |
| 비교예 1 | 31 | - | 69 |
| 비교예 2 | 43 | - | 57 |
| 비교예 3 | - | 12 | 88 |
| 비교예 4 | - | 26 | 74 |
| 비교예 5 | - | 29 | 71 |
| 실시예 1 | 8 | 38 | 54 |
| 실시예 2 | 15 | 27 | 58 |
| 실시예 3 | 18 | 21 | 61 |
| 실시예 4 | 22 | 14 | 64 |
| 실시예 5 | 27 | 6 | 67 |
실험예 1: 점착 시트의 광투과도 및 점착력 측정
비교예 1 내지 5에서 제조된 점착 시트와 실시예 1 내지 5에서 제조된 점착 시트에 대해서, 405 내지 550nm 파장 영역의 광에 대한 투과도 및 점착력을 측정하였다.
한편, UTM 만능시험기를 이용하여 비교예 1 내지 5, 실시예 1 내지 5에서 제조된 점착시트의 점착력을 측정한 것으로, 해당 점착 시트에 PET Film를 라미네이션 한 후, 점착 시트면을 유리(glass)에 대해 속도 300m/min으로 라미네이션 하고 상온에서 30분 방치한 후 점착력을 측정하였다.
실험 결과는, 하기 표 3에 도시하였다.
| No. | 바인더 함량 (wt%) |
흡수제 함량(wt%) | 405 nm | 410 nm | 420 nm | 430 nm | 440 nm | 450 nm | 550 nm | 점착력 (gf/inch) |
|
| 제1 염료 | 제2 염료 | ||||||||||
| 비교예 1 | 69 | 31 | - | 7.6 | 28.9 | 69.4 | 90.8 | 97.3 | 99.2 | 100.6 | 410 |
| 비교예 2 | 55 | 45 | - | - | - | - | - | - | - | - | - |
| 비교예 3 | 88 | - | 12 | 7.5 | 30.9 | 80.7 | 96.2 | 99.4 | 100.1 | 100.5 | 399 |
| 비교예 4 | 74 | - | 26 | 0.4 | 7.3 | 60.4 | 91.2 | 98.4 | 100.1 | 100.8 | 376 |
| 비교예 5 | 71 | - | 29 | 0.1 | 4.3 | 52.6 | 87.8 | 96.9 | 99.0 | 100.0 | 350 |
| 실시예 1 | 54 | 8 | 38 | - | - | - | - | - | - | - | - |
| 실시예 2 | 58 | 15 | 27 | 0.1 | 3.5 | 40.5 | 78.3 | 91.5 | 96.1 | 99.3 | 446 |
| 실시예 3 | 61 | 18 | 21 | 0.3 | 4.1 | 42.6 | 81.1 | 92.7 | 96.8 | 99.5 | 435 |
| 실시예 4 | 64 | 22 | 14 | 0.2 | 3.8 | 45.2 | 82.4 | 93.5 | 97.9 | 99.2 | 413 |
| 실시예 5 | 67 | 27 | 6 | 0.1 | 3.9 | 51.9 | 87.6 | 96.8 | 99.1 | 100 | 376 |
표 3을 참조하면, 비교예 1에 따른 점착 시트는, 410 nm 파장의 광에 대한 투과도가 28.9%인 것을 알 수 있었으나, 비교예 2에 따른 점착 시트는 백탁현상이 발생하여 405 내지 550 nm 파장 영역의 광에 대한 투과도를 측정할 수 없었다.
아울러, 비교예 3 내지 5 에 따른 점착 시트는, 제2 광흡수 염료의 함량이 많아질수록 405 내지 420nm 의 파장 영역의 광에 대한 투과도가 낮아진 것을 확인하였다.
그러나, 염료의 함량이 많아질수록, 즉, 비교예 4와 5에서 저온 및 열충격 신뢰성 시험에서 제2 광흡수 염료가 결정화되는 문제와 점착력이 저하되는 것을 확인하였다.
아울러, 실시예 1 내지 5 에 따른 점착 시트는, 제2 광흡수 염료의 함량이 많아질수록 405 내지 420nm 의 파장 영역의 광에 대한 투과도가 낮아지며, 점착력이 증가한 것을 알 수 있다. 한편, 실시예 1에 따른 점착 시트는 백탁현상이 발생하여 405 내지 550 nm 파장 영역의 광에 대한 투과도를 측정할 수 없었다.
참고로, 비교예 2와 실시예 1에서 백탁현상이 나타난 이유는 바인더 수지 내에 함유하는 광흡수 염료의 함량이 많아져서 바인더와 광흡수 염료와의 상용성문제로 백탁현상이 나타난 것으로 판단된다.
실험예
2: 흡수제의 함량에 따른
색온도
변화량 측정
실시예 2 내지 5에서 제조된 점착 시트를 온도 85℃ 조건하에, 태양광 조사 조건(Xenon lamp 사용)에서 8시간 노출후 태양광 차단 조건에서 8시간 노출하는 과정을 45회 반복하는 실험을 실시하고, 태양광을 조사한 전 대비 태양광 조사 후의 색온도 변화량을 측정하였다.
실험 결과는, 하기 표 4에 도시하였다.
| No. | 시트 두께(㎛) | 함량(wt%) | 함량비 | 색온도 변화량 |
|||
| 바인더 수지 | 제1 염료 | 제2 염료 | 제1 염료 | 제2 염료 | |||
| 실시예 2 | 16 | 58 | 15 | 27 | 0.5 | 1.0 | +173K |
| 실시예 3 | 16 | 61 | 18 | 21 | 0.9 | 1.0 | +180K |
| 실시예 4 | 16 | 64 | 22 | 14 | 1.6 | 1.0 | +196K |
| 실시예 5 | 16 | 67 | 27 | 6 | 4.4 | 1.0 | +255K |
표 4를 참조하면, 제2 광흡수 염료(제2 염료)의 함량이 높을수록 태양광 조사 후의 색온도 변화량이 낮아지는 것을 알 수 있다. 이는 자외선 차단에 효과적인 것을 알 수 있다.
아울러, 실시예 2 내지 5에서 제조된 점착 시트를 405 내지 430 nm 파장 영역에서 광투과도가 20%인 지점의 파장값(T20%)을 측정하였으며, 405 내지 430 nm 파장 영역에서 광투과도가 10%인 지점의 파장값(T10%)을 측정하였다.
그 결과, 파장값의 차이(|T20% - T10%|)는 5nm 이하인 것을 확인하였다. 구체적으로, 1 내지 3nm 의 차이가 있었다.
10, 20: 점착 시트
11, 21: 바인더 수지
12, 22: 광흡수 염료
23: 입자상 성분
30, 31, 32: 이형 필름
100, 200, 300: 디스플레이 장치
110, 210, 310: OLED 패널
120, 320: 편광 필름
130, 330: 점착층
140, 240, 340: 윈도우층
150, 250, 350 : 터치 필름
221: 제1 점착층
223: 제2 점착층
230: 제3 점착층
222: 위상차 필름
224: 편광자
11, 21: 바인더 수지
12, 22: 광흡수 염료
23: 입자상 성분
30, 31, 32: 이형 필름
100, 200, 300: 디스플레이 장치
110, 210, 310: OLED 패널
120, 320: 편광 필름
130, 330: 점착층
140, 240, 340: 윈도우층
150, 250, 350 : 터치 필름
221: 제1 점착층
223: 제2 점착층
230: 제3 점착층
222: 위상차 필름
224: 편광자
Claims (17)
- 점착성 바인더 수지 내에 광흡수 염료가 분산된 구조이며,
점착성 바인더 수지 100 중량부 기준으로, 광흡수 염료의 함량은 80 중량부 이하이고,
하기 조건 1 및 2를 만족하며,
[조건 1]
405 nm 파장에 대한 광투과도는 5% 이하;
410 nm 파장에 대한 광투과도는 10% 이하; 및
420 nm 파장에 대한 광투과도는 60% 이하,
[조건 2]
430 nm 파장에 대한 광투과도는 75% 이상
하기 화학식 1로 표시되는 트리아진계 자외선 흡수제인 제1광흡수 염료, 및 하기 화학식 2로 표시되는 제2 광흡수 염료를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착 시트:
[화학식 1]
화학식 1에서,
A1, A2 및 A3는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기, 탄소수 6 내지 18의 아릴기, 하기 화학식 1-a 또는 화학식 1-b이고,
A1, A2 및 A3 중 어느 하나 이상은 하기 화학식 1-a로 나타내며,
A1, A2 및 A3 중 어느 하나 이상은 하기 화학식 1-b로 나타내고,
[화학식 1-a]
화학식 1-a에서,
B1 내지 B5는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이며,
[화학식 1-b]
화학식 1-b에서,
C1 내지 C3는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
X는 산소, 황 또는 질소 원자를 나타내며,
상기 화학식 1의 A1, A2 및 A3의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환되고;
[화학식 2]
화학식 2에서,
R1 내지 R3은 각각 독립적으로 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-a로 나타내며,
[화학식 2-a]
화학식 2-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
R4는 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-b로 나타내며,
[화학식 2-b]
화학식 2-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬기이고,
상기 화학식 2의 R1 내지 R4의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
- 삭제
- 제1항에 있어서,
하기 조건 3을 만족하는 점착 시트
[조건 3]
|T20% - T10%| < 5 (nm)
T20%은 405 내지 430 nm 파장 영역에서 광투과도가 20%인 지점의 파장값을 나타내고,
T10%은 405 내지 430 nm 파장 영역에서 광투과도가 10%인 지점의 파장값을 나타낸다.
- 바인더 수지; 및
상기 바인더 수지에 분산된 광흡수 염료를 포함하며,
상기 광흡수 염료는 하기 화학식 1로 표시되는 트리아진계 자외선 흡수제인 제1 광흡수 염료, 및 하기 화학식 2로 표시되는 제2 광흡수 염료를 포함하는 점착 조성물:
[화학식 1]
화학식 1에서,
A1, A2 및 A3는 각각 독립적으로, 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기, 탄소수 6 내지 18의 아릴기, 하기 화학식 1-a 또는 화학식 1-b이고,
A1, A2 및 A3 중 어느 하나 이상은 하기 화학식 1-a로 나타내며,
A1, A2 및 A3 중 어느 하나 이상은 하기 화학식 1-b로 나타내고,
[화학식 1-a]
화학식 1-a에서,
B1 내지 B5는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이며,
[화학식 1-b]
화학식 1-b에서,
C1 내지 C3는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
X는 산소, 황 또는 질소 원자를 나타내며,
상기 화학식 1의 A1, A2 및 A3의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환되고;
[화학식 2]
화학식 2에서,
R1 내지 R3은 각각 독립적으로 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-a로 나타내며,
[화학식 2-a]
화학식 2-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
R4는 수소, 시아노기 또는 하기 화학식 2-b로 나타내며,
[화학식 2-b]
화학식 2-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬기이고,
상기 화학식 2의 R1 내지 R4의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
- 삭제
- 제 4 항에 있어서,
제1 광흡수 염료는 하기 화학식 3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 점착 조성물:
[화학식 3]
화학식 3에서,
A2는 비치환되거나, 혹은 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기로 치환된 벤젠 구조를 나타내고,
A1은 하기 화학식 3-b로 나타내고,
[화학식 3-b]
화학식 3-b에서,
C1 내지 C3는 각각 독립적으로, 수소, 히드록시기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
X는 산소, 황 또는 질소 원자를 나타낸다.
- 제 4 항에 있어서,
상기 화학식 2로 나타내는 제2 광흡수 염료는 하기 화학식 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 점착 조성물:
[화학식 4]
화학식 4에서,
R2는 시아노기이고,
R3은 수소이고,
Ra는 하기 화학식 4-a로 표시되고,
[화학식 4-a]
화학식 4-a에서,
a1 내지 a5는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 사이클로알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 7 내지 20의 아랄킬기 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고,
Rb는 하기 화학식 4-b로 표시되며,
[화학식 4-b]
화학식 4-b에서,
a6는 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이며,
상기 화학식 4의 R2, R3, Ra 및 Rb 의 하나 이상의 수소는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알케닐기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴기, 탄소수 2 내지 20을 갖는 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴옥시기, 탄소수 6 내지 20을 갖는 아릴티오기, 탄소수 1 내지 6을 갖는 알콕시카르보닐기, 할로겐기, 시아노기, 니트로기, 하이드록시기 및 카르복시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나로 치환되거나 비치환된다.
- 제 4 항에 있어서,
바인더 수지 100 중량부를 기준으로,
상기 바인더 수지에 분산된 광흡수 염료의 함량은 30 내지 80 중량부 범위인 점착 조성물.
- 제 4 항에 있어서,
제1 광흡수 염료 및 제2 광흡수 염료의 혼합 비율은 1:3 내지 5:1 중량비 범위인 점착 조성물.
- 제 4 항에 있어서,
평균 굴절률이 1.3 내지 2.1 범위인 입자상 성분을 더 포함하는 점착 조성물.
- 제 10 항에 있어서,
입자상 성분은,
금속 산화물, 금속 질화물 및 금속 산질화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 입자;
실리콘 및 아크릴 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 유기 입자; 및
상기 금속 입자를 구성하는 성분 및 유기 입자를 구성하는 성분을 함유하는 유-무기 입자
중 어느 하나 이상을 포함하는 점착 조성물.
- 제 10 항에 있어서,
입자상 성분의 평균 입경은 0.1 내지 5 ㎛ 범위인 점착 조성물.
- 제 10 항에 있어서,
입자상 성분과 바인더 수지의 굴절률 차이는 0.05 이상인 점착 조성물.
- 제 4 항, 및 제 6 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 따른 점착 조성물로 형성된 점착층을 포함하는 디스플레이 장치.
- 제 14 항에 있어서,
상기 디스플레이 장치는, 디스플레이 패널, 편광 필름, 터치 필름, 및 광투광성 윈도우층이 순차 적층된 구조이고,
상기 점착층은
디스플레이 패널과 편광 필름 사이;
편광 필름 내부;
편광 필름과 터치 필름 사이; 및
터치 필름과 광투과성 윈도우층 사이;
중 어느 하나 이상의 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
- 제 14 항에 있어서,
상기 디스플레이 장치는, 디스플레이 패널, 터치 필름, 편광 필름, 및 광투광성 윈도우층이 순차 적층된 구조이고,
상기 점착층은
디스플레이 패널과 터치 필름 사이;
터치 필름과 편광 필름 사이; 및
편광 필름 내부; 및
편광 필름과 광투과성 윈도우층 사이;
중 어느 하나 이상의 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
- 제 14 항에 있어서,
상기 디스플레이 장치는 디스플레이 패널, 편광 필름, 터치 필름, 및 광투광성 윈도우층을 포함하며,
상기 편광 필름은 편광자를 포함하는 다층 구조이고,
상기 점착층은 디스플레이 패널과 편광자 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170111971A KR102009148B1 (ko) | 2017-09-01 | 2017-09-01 | 자외선 차단 기능이 우수한 점착 시트, 점착 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
| PCT/KR2018/009950 WO2019045433A1 (ko) | 2017-09-01 | 2018-08-29 | 자외선 차단 기능이 우수한 점착 시트, 점착 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
| US16/643,793 US11479697B2 (en) | 2017-09-01 | 2018-08-29 | Adhesive sheet having excellent ultraviolet blocking function, adhesive composition, and display device comprising same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170111971A KR102009148B1 (ko) | 2017-09-01 | 2017-09-01 | 자외선 차단 기능이 우수한 점착 시트, 점착 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20190025386A KR20190025386A (ko) | 2019-03-11 |
| KR102009148B1 true KR102009148B1 (ko) | 2019-08-12 |
Family
ID=65527666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020170111971A KR102009148B1 (ko) | 2017-09-01 | 2017-09-01 | 자외선 차단 기능이 우수한 점착 시트, 점착 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11479697B2 (ko) |
| KR (1) | KR102009148B1 (ko) |
| WO (1) | WO2019045433A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022131062A1 (ja) * | 2020-12-14 | 2022-06-23 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム、偏光板及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002053824A (ja) | 2000-06-02 | 2002-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 紫外線吸収粘着フイルム |
| JP2007284516A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 紫外線遮断性樹脂組成物及びその利用 |
| KR101766284B1 (ko) * | 2016-06-23 | 2017-08-08 | 주식회사 엘엠에스 | 자외선 차단 기능이 우수한 점착 조성물, 점착 시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5952013B2 (ja) | 2011-03-23 | 2016-07-13 | 三菱樹脂株式会社 | 画像表示装置用透明両面粘着シートおよび画像表示装置 |
| JP5945393B2 (ja) | 2011-09-30 | 2016-07-05 | 日東電工株式会社 | 粘着シート |
| KR20160038143A (ko) | 2014-09-29 | 2016-04-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 편광층을 포함하는 표시장치 |
| JP6498991B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-04-10 | リンテック株式会社 | 粘着シートおよび表示体 |
-
2017
- 2017-09-01 KR KR1020170111971A patent/KR102009148B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-08-29 US US16/643,793 patent/US11479697B2/en active Active
- 2018-08-29 WO PCT/KR2018/009950 patent/WO2019045433A1/ko active Application Filing
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002053824A (ja) | 2000-06-02 | 2002-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 紫外線吸収粘着フイルム |
| JP2007284516A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 紫外線遮断性樹脂組成物及びその利用 |
| KR101766284B1 (ko) * | 2016-06-23 | 2017-08-08 | 주식회사 엘엠에스 | 자외선 차단 기능이 우수한 점착 조성물, 점착 시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20190025386A (ko) | 2019-03-11 |
| US11479697B2 (en) | 2022-10-25 |
| US20200216721A1 (en) | 2020-07-09 |
| WO2019045433A1 (ko) | 2019-03-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101766284B1 (ko) | 자외선 차단 기능이 우수한 점착 조성물, 점착 시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 | |
| JP6183041B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
| JP6412316B2 (ja) | トリアジン環含有ポリマーを含む組成物 | |
| KR20180104727A (ko) | 근적외선 흡수 색소, 광학 필터 및 촬상 장치 | |
| JP7059729B2 (ja) | 光学フィルタ、近赤外線吸収色素および撮像装置 | |
| KR102096511B1 (ko) | 2종 이상의 염료를 포함하는 점착 조성물, 점착 시트, 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 | |
| TWI786350B (zh) | 光學疊層以及有機發光裝置 | |
| CN114981277B (zh) | 化合物和包含其的光学膜 | |
| US20200241185A1 (en) | Optical product and optical filter including same | |
| JP2021509136A (ja) | 粘着剤組成物及びその用途 | |
| KR102009148B1 (ko) | 자외선 차단 기능이 우수한 점착 시트, 점착 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 | |
| JP7336902B2 (ja) | 光学フィルタ及び表示装置 | |
| US10767030B2 (en) | Optical article and optical filter comprising same | |
| JP2019078816A (ja) | 光学フィルタおよび撮像装置 | |
| KR20220163974A (ko) | 화합물 | |
| WO2021095613A1 (ja) | 光学フィルタおよびこれを用いた指紋検出装置 | |
| KR20180038413A (ko) | 열반응성 조성물 | |
| JP7313217B2 (ja) | 化合物及びその製造方法 | |
| KR20200018917A (ko) | 색변환 필름, 이를 포함하는 편광판 및 디스플레이 장치 | |
| WO2020255927A1 (ja) | 光学フィルタ、撮像装置および光学センサー | |
| KR20230104524A (ko) | 접착 조성물 | |
| KR20220014454A (ko) | 표시 장치 및 표시 장치용 광 흡수제 | |
| JP2022025669A (ja) | 光学フィルタ | |
| KR20210071431A (ko) | 화합물, 점착제 조성물, 편광판 및 화상표시장치 | |
| KR20210077287A (ko) | 화합물, 점착제 조성물, 편광판 및 화상표시장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| AMND | Amendment | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| AMND | Amendment | ||
| X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
| GRNT | Written decision to grant |