KR101978231B1 - 크로마틱 효과를 갖는 플레이트의 생성을 위한 프로그래밍가능 스테이션 및 플랜트 - Google Patents

Abstract

슬랩의 제조를 위한 혼합에서 착색 효과를 실현하기 위한 스테이션은 슬랩을 형성하기 위한 기본 혼합층을 갖는 임시 지지체(12)를 수용하기 위한 작업 표면(11)을 포함한다. 적어도 하나의 염료 디스펜싱 디바이스(17)는 작업 표면(11) 상에 수용된 임시 지지체 상의 기본 혼합층 상에 염료를 증착하도록 작업 표면(11)을 향해 방사된다. 상기 디바이스(17)는 작업 표면(11) 상측에 배치된 이동 수단(18, 118)에 의해 이동되고, 제어 시스템(19)은 염료가 방출되는 궤적을 따르도록 상기 디스펜싱 디바이스(17)의 변위를 제어하기 위한 이동 수단(18, 118)에 연결된다. 또한 상기 디바이스(17)는 작업 표면상의 혼합층과 기계적으로 상호 작용하기 위한 툴을 포함한다.

Description

크로마틱 효과를 갖는 플레이트의 생성을 위한 프로그래밍가능 스테이션 및 플랜트{PROGRAMMABLE STATION AND PLANT FOR THE PRODUCTION OF PLATES WITH CHROMATIC EFFECTS}

본 발명은 베이닝된(veined) 효과와 같은 착색 효과를 갖는 슬랩(slab)의 제조를 위한 프로그래밍가능 스테이션에 관한 것이다. 특히, 슬랩은 예를 들어, 인공 응집제(agglomerate) 또는 세라믹 재료로 이루어질 수 있다.

본 발명은 또한 착색 플랜트 및 방법에 관한 것이다.

본원에 언급된 슬랩은 통상적으로 기본 과립 재료(예를 들어, 돌 및/또는 돌-유사 또는 세라믹 재료) 및 바인더, 예를 들어, 시멘트 또는 적절한 경화성 합성 수지 또는 다른 유기 및/또는 무기 바인더를 포함하는 하나 이상의 출발 혼합물의 준비를 통해 제조된다.

베이닝(veining) 또는 유사한 효과의 생성을 위해, 종래 기술에서는 슬랩을 형성하기 위한 지지체 또는 몰드 상에 이미 배열된 혼합물의 표면 상에 염료를 퇴적시키는 것이 제안되어 왔다. 그러나, 이러한 방법을 통하면, 단지 매우 랜덤한 또는 단지 표면적인 베이닝된 효과만을 획득할 수 있다.

현재 결과를 개선하기 위해 바람직한 방법은 염료 디스펜서가 제공된 계량 공급기를 사용하는 것이다. 계량 공급기는 본질적으로 혼합물이 내부로 부어지는 호퍼(hopper)로 구성되며, 아래에 추출기 벨트가 배열되어, 혼합물이 상기 벨트의 단부에서 낙하하는 결과로, 혼합물이 유동되고 지지체 또는 몰드 상에서 부어지고 분배된다.

베이닝된 효과를 생성하기 위해, 착색제의 디스펜서가 추출기 벨트 위에 위치되어, 따라서 지지체 상에 또는 몰드 내부에 혼합물이 부어지기 전에, 하나 이상의 염료를 낙하 구역을 향해 통과하는 혼합물의 상단 상에 분배한다.

이러한 방식으로, 특히 몰드 내부의 재료의 진동 압축 또는 진동 압밀이 후속적으로 수행되는 경우에, 슬랩의 두께 내에서 적어도 소정의 거리 이상으로 확장되는 베이닝된 효과를 획득할 수 있다.

앞서 설명된 시스템은 효율적이지만, 여전히 다수의 단점을 갖는다.

실제로, 예를 들어, 염료의 분배는 여전히 전체적으로 랜덤이어서, 생성된 베이닝된 효과도 또한 랜덤이고 제어가능하지 않다.

결과적으로, 예를 들어, 특정 설계의 베이닝을 갖는 베이닝된 슬랩을 획득하는 것이 가능하지 않다.

또한, 이러한 시스템에 있어서, 벨트 상으로의 혼합물의 낙하 이동으로 인한 "스트립핑" 효과의 결과로, 오직 짧고 얇은 베인만이 형성된다.

따라서, 예를 들어, 슬랩의 나머지와 상이한 톤 또는 음영을 갖는 더 크거나 더 작은 구역 또는 영역이 존재하는 소위 스테인드(stained) 착색 효과를 획득하거나 또는 비교적 긴 베인, 예를 들어, 수 데시미터 내지 수 미터 범위의 길이를 갖는 베인을 획득하는 것이 가능하지 않다.

또한, 착색 효과는 단방향이고 벨트의 이동 방향으로 연장된다.

또한, 공지된 시스템에서, 색상을 변경하는 것은 길고 어려운 프로세스이고, 또한 플랜트의 긴 중단 시간을 초래한다. 따라서, 예를 들어, 동일한 슬랩 상에서 또는 심지어 단지 하나의 슬랩에서 다른 슬랩으로 색상을 변경하는 것이 가능하지 않다.

본 발명의 일반적인 목적은 선행 기술의 단점을 극복하고, 유리하게는 요구되는 대로 실질적으로 미리 정의될 수 있고 만족할만한 정밀도를 갖는 재생가능한 방식으로 베이닝과 같은 착색 효과를 갖는 슬랩을 생성하는 것이다.

다른 목적은 크기가 더 크거나 더 작은 슬랩의 일부 구역 또는 영역이 색상의 특정 음영을 갖는 "스테인드" 효과가 획득될 수 있는 슬랩을 획득하도록 관리하는 것이다.

다른 목적은 예를 들어 슬랩을 따라 수 데시미터 내지 수 미터까지 또한 연장될 수 있은 비교적 긴 베인을 획득할 수 있는 것이다.

다른 목적은, 예를 들어, 부엌의 조리대에서 또는 장식된 에지(edge)를 갖는 욕실 표면에서 또는 테이블에서와 같이 이러한 특성적 특징부가 근본적으로 중요하거나 어떠한 경우에도 바람직한 애플리케이션에서 슬랩을 또한 사용할 수 있기 위해, 베이닝 또는 착색 효과를 실질적으로 슬랩의 전체 두께를 수반하는 슬랩을 획득하는 것이다.

추가적인 목적은 간단하고 신속한 방식으로 하나의 염료를 다른 염료로 전달할 수 있도록 상이한 염료의 더 쉽고 빠른 관리를 행하는 것이다.

이러한 목적을 고려하여, 착안된 아이디어는, 본 발명에 따라, 슬랩의 생성을 위한 혼합물에서 착색 효과의 실현을 위한 스테이션을 제공하는 것으로서, 슬랩의 형성을 위한 기본 혼합층을 갖는 임시 지지체를 수용하도록 의도되는 작업 표면; 작업 표면 상에 수용된 임시 지지체 상의 기본 혼합층 상에 염료를 퇴적시키기 위해 작업 표면을 향해 염료를 방출하기 위한 적어도 하나의 염료 디스펜싱 디바이스; 작업 표면 위에서 디스펜싱 디바이스의 상대적 이동을 위한 이동 수단; 혼합층을 향해 염료가 방출되는 궤적을 따르도록 작업 표면 상에서 디스펜싱 디바이스의 변위를 제어하기 위해 이동 수단에 연결되는 제어 시스템; 이동 수단의 이동과 함께 이동가능하고, 혼합물에서 착색 효과를 달성하기 위해 디스펜싱 디바이스에 의해 방출되는 염료를 수용하거나 수용하려 의도된, 작업 표면 상에 수용되는 임시 지지체 상의 혼합층 영역과 기계적으로 상호작용하도록 의도되는 적어도 하나의 툴을 포함한다.

또한 본 발명에 따르면, 아이디어는 또한 착색 스테이션을 통해 슬랩 상에 착색 효과의 실현을 위한 방법을 제공하도록 착안되었고, 방법은, 슬랩의 형성을 위한 기본 혼합층을 갖는 임시 지지체를 작업 표면 상에서 지지하는 단계; 전자 제어 시스템의 제어 하에서, 디스펜싱 디바이스로 하여금, 착색 표면을 향해 염료를 방출하고 염료를 기본 혼합층에서 퇴적시키기 위해 착색 궤적을 따르게 하는 단계; 혼합층을 후속 경화 단계로 이동시키는 단계를 포함하고, 방법은 또한, 디스펜싱 디바이스가 착색 궤적을 따르는 동안, 염료를 수용하거나 수용하려 의도되는 혼합 영역이 디스펜싱 디바이스 상에 존재하는 툴의 기계적 작동에 종속되는 단계를 포함한다.

또한 본 발명에 따르면, 아이디어는 슬랩의 생성을 위한 플랜트를 제공하도록 착안되었고, 플랜트는, 스테이션들이 순차적으로 배열되는 전달 라인을 포함하고, 상기 스테이션들은, 상기 언급된 타입의 착색 효과의 실현을 위한 스테이션, 착색 효과를 갖는 혼합물의 진동 압축 또는 진동 압밀을 위한 스테이션, 및 착색 효과를 갖는 혼합물의 경화를 위한 스테이션을 포함한다.

종래 기술에 비해 본 발명의 혁신적인 원리 및 그 이점을 보다 명확하게 예시하기 위해, 이러한 원리를 적용한 실시예의 예가 첨부된 도면을 이용하여 아래에서 설명될 것이다. 도면에서:
도 1은 본 발명의 원리에 따른 스테이션의 제 1 실시예의 위에서 본 개략도를 도시한다.
도 2는 제 1 동작 조건인 도 1에 따른 스테이션의 개략적 측면도를 도시한다.
도 3은 도 2의 도면과 유사하지만 제 2 동작 조건인 스테이션을 갖는 개략적 측면도를 도시한다.
도 4는 도 1에 따른 스테이션의 개략적 종단면도를 도시한다.
도 5는 본 발명에 따른 스테이션의 염료 디스펜싱 디바이스의 개략적인 부분 전개된 측면도를 도시한다.
도 6은 도 5에 따른 디바이스의 개략적 정면도를 도시한다.
도 7은 제 1 툴이 장착된, 도 5에 따른 디바이스의 개략적 측면도를 도시한다.
도 8은 도 7에 따른 툴의 개략적 정면도를 도시한다.
도 9 및 도 10은 도 5 및 도 6의 도면과 유사하지만 제 2 툴이 장착된 개략도를 도시한다.
도 11은 본 발명의 원리에 따른 스테이션의 제 2 실시예의 위에서 본 개략도를 도시한다.
도 12는 도 11에 따른 스테이션의 개략적 단면도를 도시한다.
도 13은 도 11에 따른 스테이션을 갖는 본 발명에 따른 플랜트의 측방향 및 부분적 개략도를 도시한다.

도면을 참조하면, 도 1은 본 발명의 원리를 적용하는, 전반적으로 10으로 표기된 스테이션을 도시한다.

아래에서 명확해지는 바와 같이, 스테이션(10)은 예를 들어 인공 응집제 또는 세라믹 재료로 구성된 슬랩의 형성을 위한 혼합물의 질량체에서 착색 효과, 특히 베이닝된 효과의 생성을 위한 프로그래밍가능 로봇 머신이다.

유리하게는, 착색 효과는 분말 및/또는 액체 형태의 염료의 디스펜싱, 기계적 상호작용 및 혼합물의 후속 재응집을 통해 획득된다.

스테이션은 유리하게는, 본 기술분야의 당업자에게 명백한 바와 같이, 인공 응집제 또는 세라믹 재료의 슬랩의 생성을 위한 플랜트를 제공하기 위해 사용될 수 있다.

스테이션(10)은, 슬랩의 형성을 위해 기본 혼합층(28)을 그 위에 갖는 임시 몰드 지지체(12)를 수용, 즉, 바람직하게는 그 위의 레스팅을 지지하도록 의도된 작업 표면(11)을 포함한다. 작업 표면은 또한 적절한 벨트 콘베이어 시스템 또는 콘베이어 벤치의 일부를 형성할 수 있다.

임시 지지체는, 혼합물의 완전한 -측방향을 포함하는- 격납을 보장하기 위해 폐쇄된 측벽을 갖는 트레이형 콘테이너, 또는 또한 적절한 트레이 또는 지지 시트로서 실현되는 몰드의 형태일 수 있다(특히, 혼합물이 표면 상에 레스팅된 경우 그 형태를 유지하기에 충분할만큼 응집성인 경우).

혼합물의 에지를 형상화하기 위한 수단이 또한 제공된다. 이러한 수단은 예를 들어, 피라미드형 프로파일을 갖는 혼합물의 에지를 형상화하도록 혼합물의 4 개의 측면 에지 상에 작용하는 적절한 스러스터(thruster)(13, 14, 15, 16)의 형태로 도 2 및 도 4에서 볼 수 있다. 혼합물을 위한 유연한 지지체의 경우, 스러스터는 또한 지지체의 에지를 폴딩하도록 동작할 수 있고, 또한 지지체 내부의 혼합물의 측방향 포함의 추가적 기능 뿐만 아니라 형상화 기능을 제공할 수 있다.

혼합물은 특정 타입의 제품을 생성하기 위해 적절한 임의의 공지된 타입일 수 있다. 예를 들어, 기본 혼합물은 돌 및/또는 돌-유사 및/또는 세라믹 재료, 및 바인더 뿐만 아니라 임의의 첨가물을 포함할 수 있다. 일반적으로, 바인더는, 시멘트 또는 실리케이트와 같은 무기(inorganic) 성질일 수 있거나 또는 열 또는 촉매 작용에 의해 경화될 수 있는 합성 수지 및/또는 건조를 통해 고체화될 수 있는 라텍스와 같은 유기 성질일 수 있다.

스테이션(10)은 또한, 작업 표면 상에 배열된 기본 혼합층 내에 염료가 퇴적되도록 작업 표면(11)을 향해 염료를 방출하려 의도되는 적어도 하나의 염료 디스펜싱 디바이스(17)를 포함한다.

디바이스(17)는 아래에서 명백해지는 바와 같이, 디바이스를 공간적으로 위치시키기 위해, 예를 들어, 작업 표면과 평행한 적어도 2 개의 데카르트 축을 따른 몇몇 작업 축을 따라 작업 표면 위에서 상기 디바이스의 상대적 이동을 위한 전동식 이동 수단(18)에 의해 지지된다.

이러한 방식으로, 디바이스(17)는 이동 수단(18)에 연결된 (그 자체로 공지된, 예를 들어, 적절한 프로그래밍된 마이크로프로세서 유닛에 의해 형성되는) 전자 제어 시스템(19)의 제어 하에 상기 표면 위의 임의의 적절한 궤적을 따를 수 있다.

도 1에 도시된 실시예에서, 디스펜싱 디바이스 및 연관된 이동은 유리하게는 개수가 2 개이다.

이동 수단은 바람직하게는, 디스펜싱 디바이스가 손목에 장착되는, 그 자체로 공지된 인체형 아암 로봇(18)을 포함한다. 그 결과, 유리하게는, 작업 표면의 수직부에 대한 디스펜싱 디바이스의 기울기에 대해 제어된 축을 갖는 것이 또한 가능하다. 로봇은 바람직하게는 작업 표면(및 슬랩 형태의 혼합물을 갖는 지지체의 이론적인 도달 경로)의 대향 측면 상에 위치되고, 서로 대면한다.

착색된 효과의 생성을 위해 요구되는 시간의 2배를 초래할지라도 단일 아암이 또한 실현가능할 것이다.

도 2, 도 3 및 도 4 및 예를 들어, 도 5 내지 도 10에서 확대된 세부사항의 형태로 더 명백하게 볼 수 있는 바와 같이, 염료 디스펜싱 디바이스(15)는 유리하게는 분말 염료를 배출하기 위한 수단을 포함한다. 바람직하게는, 분말 배출 수단은 배출 호퍼이고, 특히, 20 및 21로 표시된 서로 나란히 배열되는 2 개의 호퍼이다. 유리하게는, 분말의 제어된 배출을 위한 대응하는 스파우트(spout) 또는 노즐(22, 23)이 디바이스의 중심을 향해 서로 근접하게 아래에 위치된다. 유리하게는, 2 개의 스파우트가 하부 작업 표면 상의 실질적으로 동일한 지점에서 배출을 수행하도록 디플렉터가 제공될 수 있다.

각각의 배출 스파우트는, 필요한 경우 분말 염료가 통과하도록 허용하기 위해 개방되는 (대응하는 액추에이터(24 또는 25)에 의해 제어되는) 연관된 폐쇄 밸브를 통해 조절될 수 있는 단면을 갖는다.

상이하게 착색된 분말 염료는 바람직하게는 각각의 호퍼 내로 부어진다.

디스펜싱 디바이스(17)는 유리하게는(대안적으로, 또는 바람직하게는 추가적으로) 작업 표면을 향해 액체 염료를 분사하기 위한 노즐을 포함한다. 바람직하게는, 노즐은, 획득될 수 있는 색상 효과를 증가시키기 위해 디바이스의 전면 및 후면 둘 모두 상에 제공된다. 도면은 유리하게는 2 개의 전면 노즐(26) 및 2 개의 후면 노즐(27)을 도시한다. 바람직하게는, 각 쌍의 노즐은 작업 표면의 대략 동일한 지점을 분사하도록 서로를 향해 기울어져 있고, 아래에서 명확해지는 이유 때문에, 전면 노즐의 배치 지점 및 후면 노즐의 배치 지점은 예를 들어, 도 7에서 볼 수 있는 바와 같이 디바이스의 종방향 라인을 따라, 즉, 바람직하게는 착색될 궤적을 따른 디바이스의 이동 방향과 동일한 방향을 따라 놓인다.

사용되는 착색제 또는 안료는 둘 모두 분말상, 즉, 분말 형태 및 액체 형태일 수 있다.

스테이션(10)은 또한 작업 표면을 향해 적절히 지향되고 또한 전동식 이동 수단(18)의 제어 하에 기본 작업 표면 상에서 혼합물과 기계적으로 상호작용하도록 의도된 툴을 포함한다. 툴은 다양한 타입일 수 있다. 특히, 툴은 유리하게는 염료 공급기 디바이스와 함께 이동하도록 그 위에 장착된다.

도면으로부터 알 수 있는 바와 같이, 액체 염료 분사 노즐은 바람직하게는 툴의 공급 방향에 대해 툴의 전면 및 후면 둘 모두에 배열된다. 노즐은 또한 유리하게는 툴에 의해 이동되는 궤적을 따라 혼합물 상으로의 분사를 수행하도록 배열된다.

도 5에서 명백히 볼 수 있는 바와 같이, 툴은 유리하게는 2 가지 타입의 툴, 즉, V-블레이드 또는 홈 가공 툴(39) 및 혼합기 툴(31)로부터 선택될 수 있다. 혼합기 툴은 작업 표면 상의 디스펜싱 디바이스의 이동 방향으로 연장되는 혼합물 홈에 형성되도록 의도된다. 이러한 홈은 디스펜싱 디바이스에 의해 방출되는 염료의 적어도 일부를 수용하도록 의도된다.

그 대신 혼합기 툴(31)은 아래에서 명백해지는 목적으로, 혼합물의 국부적인 기계적 혼합을 위한 작동을 적용하도록 의도된다.

유리하게는, 2 가지 타입의 툴은 디스펜싱 디바이스(17)의, 자체로 공지된 제어된 맞물림 지지체 또는 시트(32) 상에서 교대로 맞물릴 수 있다. 지지체는 유리하게는, 바람직하게는 수직 축(33)을 중심으로 커맨드에 따라 회전하도록 전동될 수 있다. 이는, 예를 들어, 혼합기 툴(31)이 축을 중심으로 회전하고, 이의 기계적 혼합 작동을 수행하도록 허용한다.

지지체(32)는 유리하게는, 가공 툴 또는 기구와 자동으로 맞물릴 수 있는 회전 스핀들 척일 수 있다.

(예를 들어, 도 7 및 도 9에 도시된 2 개의 상호 수직인 방향으로부터 볼 수 있는 바와 같이) 원하는 형상을 갖는 홈을 형성하도록 적절하게 형상화 및 포인팅되는 V-블레이드 또는 홈 가공 툴(30)은 커팅 에지가 디바이스의 공급 방향으로(도 7의 우측으로) 지향되어 일정하게 유지되게 할 것이다. 척이 존재하면, 이러한 척은 바람직하게는 고정적으로 유지될 수 있고, 툴(30)이 사용되는 경우 디스펜싱 디바이스 상에서 회전되지 않을 수 있는 한편, 디스펜싱 디바이스 전체는 이동 수단(18)을 통해 이동되고 회전되어, 실질적으로 표면 상의 디스펜싱 디바이스의 이동 궤적을 따라 지향되는 자신의 축의 배향(툴(30)의 작동 방향과 일치함)을 유지하여, 툴(30)을 갖는 홈을 형성하고 이러한 홈 내부로 염료의 도입을 허용한다. 특히, 디바이스(17)는 궤적을 따른 이동 방향으로 커팅 에지를 배향시킬 수 있도록 이동 수단의 수직축 제어된 회전 수단(35) 상에 자신의 지지체(34)로 고정된다.

툴(30)은 혼합물의 전체 두께 내에서 또한 연장될 수 있고 폭이 수 밀리미터인 홈을 트레이싱하는 역할을 한다. 이러한 홈은, 후속적으로 부어지거나(분말 염료의 경우) 분사되는(액체 염료의 경우) 염료가 혼합물 내부 깊이 침투하도록 허용한다.

이러한 방식으로, 예를 들어, 얇은 베인이 마감된 슬랩의 두께 전반에 걸쳐 형성된다.

V-블레이드 툴(30)이 사용되면, 바람직하게는 V-블레이드는 혼합물의 홈 및 뒤에서 트레이싱하고, 혼합물의 트레이싱된 홈을 따라, 액체 염료가 분사되거나 분말 염료가 부어져서, 상기 염료는 동일한 색상이거나 바람직하게는 상이한 색상이고 깊이 침투할 수 있다.

대신에, 혼합기 툴(31)은 바람직하게는 음식 혼합기와 같이 위스크(whisk) 또는 블레이드(blade)의 형태일 것이고, 예를 들어 몇몇 수직 로드(rod)(예를 들어 정사각형의 꼭지점에 배열된 4 개의 로드)를 포함하여, 회전 지지체 또는 척(32)을 이용하여 수직축(33)을 중심으로 자체적으로 회전한다. 이러한 툴은 두께의 대부분에 걸쳐 혼합물을 국부적으로 혼합하고, 따라서 상이한 색상 또는 음영을 갖는 구역 또는 영역을 생성하여 소위 스테인드 효과를 갖는 슬랩을 생성하는 역할을 한다.

인체형 아암의 손목은 또한 회전 척의 기울기를 수행하여, 혼합 툴의 형상 및 작업 표면 상에 위치된 혼합층 상에서 원하는 작동 방향에 따라, 축에 의해 수직 또는 수평 또는 기울어진 임의의 방향으로 동작할 수 있다.

혼합기 툴이 사용되는 경우, 액체 염료는 바람직하게는 혼합물의 표면 상에 미리 분사되고, 이에 후속하여 툴은 염료를 혼합물과 혼합하고, 최종적으로 동일한 색상 또는 바람직하게는 상이한 색상을 가질 수 있는 다른 액체 염료가 교반된 혼합물 상에 분사된다. 이러한 이유로, 전체 프로세스를 한 번에 수행할 수 있도록 툴의 전면 및 후면에 노즐을 상대적으로 배치하는 것이 유리하다.

이러한 방식으로, 슬랩의 표면 상 및 또한 질량체 내 둘 모두에 대해 매우 매력적인 장식 효과를 갖는 상이한 색상 또는 음영을 갖는 영역 또는 구역을 획득할 수 있다.

유리하게는, 예를 들어, 도 1에서 명백히 볼 수 있는 바와 같이, 스테이션(10)은, 적절한 공지된 전력 공급 수단을 통해, 필요하다면 압력 하에서 대응하는 파이프(41)를 통해 디바이스(17)의 분사 노즐에 연결된 복수의 액체 염료 탱크(40)를 포함한다.

바람직하게는 각각의 노즐은 상이한 색상을 포함하는 탱크에 의해 공급될 수 있다.

스테이션(10)은 또한 바람직하게는, 저장 콘테이너 또는 호퍼(43)가 존재하는, 배출 호퍼(20, 21)를 보충하기 위해 개괄적으로 42로 표시되는 구역을 포함하고, 저장 콘테이너 또는 호퍼(43)는 상기 저장 호퍼(43)의 디스펜싱 스파우트(44) 아래에서 이동 수단(18)에 의해 이동되는 배출 호퍼(20, 21)를 채울 수 있다.

이러한 방식으로, 디스펜싱 디바이스(17)의 호퍼(20, 21) 중 하나가 거의 비어 있고 따라서 분말 염료가 거의 다 소모된 경우(예를 들어, 전자 제어 시스템(19)에 연결된 디스펜싱 디바이스의 특수한 공지된 센서에 의해 검출된 조건), 대응하는 디스펜싱 디바이스는 요구된 분말 염료를 작은 배출 호퍼 내로 붓기 위해, (예를 들어, 도 4에 도시된) 배출 액추에이터(45)를 통해 동작되는 대응하는 저장 호퍼의 디스펜싱 스파우트(44) 아래에 제어 시스템에 의해 배치된다. 이러한 조건은 도 3 및 또한 도 4에 (파선으로) 개략적으로 도시된다.

저장 호퍼(43)에 의해 제공되는 보충 시스템(크기가 클 수 있고 또한 공지된 탑업 시스템에 의해 공급될 수 있음) 때문에, 스테이션은 매우 긴 자율성을 가질 수 있다.

도 1, 도 2 및 도 3에서 명백히 볼 수 있는 바와 같이, 바람직하게는 저장 호퍼(43)는, 가공되고 있는 슬랩을 이송하기 위해 시스템의 이동에 대해 상대적으로 상기 작업 표면의 상류 또는 하류에 배열되는, 작업 표면의 일측을 따라 배열된 크로스빔(46) 위에 배열된다. 즉, 크로스빔(46)은 슬랩의 이동을 가로지르는 표면의 일측을 따라 있을 수 있다.

도 3에서 명백히 볼 수 있는 바와 같이, 크로스빔(46)은 또한 표면 위로 충분히 상승되어 위치되어, 혼합층과 저장 호퍼(43) 사이의 간섭없이, 상기 호퍼(43) 아래에 있는 혼합물 콘베이어 시스템의, 스테이션(10) 내부 및 외부로의 임의의 이동을 허용한다.

유리하게는, 도 1, 도 2 및 도 3에서 명백히 볼 수 있는 바와 같이, 스테이션(10)에는 또한 바람직하게는 스테이션의 2 개의 (바람직하게는 종방향) 측면을 따라 배치된 툴-홀더 스토어(50)(예를 들어, 각각의 디스펜싱 디바이스에 대해 하나씩)가 제공될 수 있다.

각각의 스토어는 다양한 형상 및 크기의 회전 및 홈 가공 툴을 위한 다수의 스테이션을 가질 수 있다. 이동 시스템은 적절한 픽업 수단을 통해 선택된 툴을 스토어로부터 픽업하기 위해 이동할 수 있고, 그 다음, 원하는 혼합물 구역에서의 기계적 작동을 위해 이를 사용할 수 있다. 유리하게는, 염료 디스펜싱 디바이스 상에 직접 장착된 툴의 경우, 픽업 수단은 2 개의 디스펜싱 디바이스(17) 상에 존재하는 제어된 맞물림 시트(32)를 포함한다. 이러한 방식으로, 이동 수단(18)은, 디스펜싱 디바이스(17)에 존재하고(도 5 참조) 이러한 목적을 위해 공지된 방식으로 적절히 설계되는 제어된 맞물림 시트(32)로 인해 디스펜싱 디바이스(17) 내의 툴을 자동으로 교체할 수 있도록 디스펜싱 디바이스를 스토어(50)까지 멀리 이동시킬 수 있다.

유리하게는, 예를 들어, 도 2 및 도 3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 각각의 스토어(50)에는 내부에 포함된 툴을 보호하기 위한 힌지 덮개(51)가 제공될 수 있으며, 이러한 덮개는 덮개의 자동 개방 및 폐쇄를 위한 특수한 액추에이터(52)에 의해 동작될 수 있다.

디스펜싱 디바이스(17)에서 툴을 장착하거나 이를 교체하도록 요구되는 경우, 디스펜싱 디바이스는 개방된 툴-홀더 스토어(50)를 향해 이동하여, 로봇 아암은 디스펜싱 디바이스(17)의 시트 또는 척(32)에 장착된 임의의 툴을 스토어 내부에 다시 넣을 수 있고, 서로 맞물릴 수 있다. 로봇 아암이 디스펜싱 디바이스(17)를 통상적인 작업 구역을 향해 이동시키는 경우, 덮개(51)는 폐쇄될 수 있고, 따라서 스토어는 휴지 조건으로 리턴한다.

바람직하게는, 스토어(50)는 사용된 염료에 대한 세정액(예를 들어 적절한 용매 또는 세제)의 탱크(53)를 포함할 수 있고, 그 내부에서 스토어에 포함된 복수의 툴들 중의 툴은 이의 동작 단부 중 적어도 하나에 의해 휴지 위치로 침지된다. 이러한 방식으로, 퇴적된 툴은 침지되어 유지되고, 따라서 자동으로 세정될 수 있다.

더 양호한 세정을 위해, 툴이 액체에 침지된 동안 툴의 해제 전에 및/또는 맞물림 이후에 디스펜싱 디바이스(17)의 픽업 수단 또는 척 또는 시트(32)를 천천히 회전시키는 것이 또한 가능하다.

도 11, 도 12 및 도 13은 본 발명에 따른 스테이션의 가능한 구조적 변형을 도시한다. 개괄적으로 110으로 표기된 실시예의 이러한 변형은 이전의 실시예에 대해 설명된 엘리먼트와 실질적으로 유사한 엘리먼트(따라서 동일한 번호로 표시되고, 앞선 설명이 참조될 수 있기 때문에 추가로 설명되지 않음) 및 디스펜싱 디바이스를 이동시키기 위한 상이한 수단을 포함한다.

특히, 이러한 상이한 수단은 개괄적으로 118로 표기된 적어도 하나의 데카르트 로봇을 포함한다. 그 다음, 이러한 데카르트 로봇은 바람직하게는 작업 표면(11)의 대향하는 종방향 측면 상에 평행하게 배열된 2 개의 종방향 이동경로(61, 62)를 지지하는 프레임(60)(예를 들어, 작업 표면의 대향 측면 상의 직립 쌍에 의해 형성됨)을 포함한다.

그 다음, 이미 앞서 설명된 타입의 디스펜싱 디바이스(17)가 이동하는 크로스빔 또는 크로스 레일(63)은 2 개의 종방향 이동경로(61, 62)를 따라 슬라이딩하도록 동작된다. 유리하게는, 크로스 빔 또는 크로스 레일(63)은 개수가 2 개이고, 각각 연관된 디스펜싱 디바이스(17)를 지지한다.

따라서, 2 개의 빔(63)은 각각 작업 표면에 걸쳐 장착되는 갠트리(gantry) 구조를 형성하고, 혼합물로 채워진 몰드 또는 트레이 위에서 종방향으로 변위될 수 있다.

인체형 아암 로봇의 경우에서와 같이, 프로그래밍가능한 전자 제어 시스템(19)은 원하는 궤적을 따라 보간된 방식으로 디바이스(17)를 이동시키기 위해 데카르트 로봇 또는 로봇들(118)의 이동을 제어한다. 디바이스(17)는 빔(63)을 따라 이동하는 전동식 캐리지(64) 상에 장착되고, 유리하게는, 표면 상에 따라야 할 궤적에 대해 배향될 수 있도록 작업 표면에 대한 수직부를 중심으로 제어가능하게 회전가능하다. 디바이스(17)는 또한 작업 표면을 향해 제어된 방식으로 상승 또는 이동될 수 있도록 데카르트 로봇의 전동식 축(65)을 따라 수직으로 변위가능하다.

전술한 솔루션과 비교하여, 분말 염료를 포함하는 저장 호퍼(43)는 바람직하게는 상이하게 배치되고, 특히 이동경로(61, 62)에 평행한 작업 표면(11)의 하나의 종방향 측면을 따라 측방향으로 및 중앙 위치에 배치된다. 이는, 디스펜싱 디바이스(17)의 호퍼(44)의 용이한 충전을 가능하게 하고, 2 개의 이동가능한 빔(63) 사이의 간섭의 가능성을 감소시킨다.

또한, 2 개의 툴-홀더 스토어(50)는 선행 솔루션에 비해 상이하게 배치될 수 있다. 특히, 이들은 2 개의 이동가능한 빔(63) 사이의 간섭의 가능성을 또한 감소시키기 위해, 작업 표면의 동일한 종방향 측면 및 2 개의 대향 단부 상에(데카르트 이동 시스템에 의해 도달될 수 있는 위치에) 배치될 수 있다.

대신에 액체 염료를 위한 탱크(40)는 선행 솔루션에서와 동일한 방식으로 배치될 수 있다.

제 1 실시예의 인체형 로봇 아암(18)은 더 큰 이동 자유도를 허용하여, 분말 염료를 위한 저장 호퍼(43) 및 툴-홀더(50)를 가장 편리하거나 선호되는 곳에 배열하는 것을 가능하게 하지만, 제 2 실시예에 따른 데카르트-축 시스템에 있어서, 이러한 엘리먼트의 배치는 더 제한됨이 분명하다. 이러한 단점은 인체형 아암 로봇에 비해 데카르트 이동 시스템의 더 낮은 비용으로 상쇄될 수 있다.

두 경우 모두에서, 전자 제어 시스템(39)이 로봇 암 또는 데카르트 빔 사이의 충돌을 회피하는 기능적 로직을 가질 수 있다는 것은 당업자에 의해 상상될 수 있다.

두 타입 모두의 자동화된 이동에 있어서, 제어 시스템은 슬랩 상의 착색 효과 패턴에 대한 원하는 궤적을 수용 또는 계산할 수 있으며, 일단 슬랩의 형성을 위한 기본 혼합층을 갖는 임시 지지체가 작업 표면 상에 수용되면, 이는, 작업 표면을 향해 염료를 방출하여 이를 기본 혼합층 내에 퇴적시키는 디스펜싱 디바이스에 의해 착색 궤적을 따른다. 디바이스 상에 장착된 툴은 이미 앞서 설명된 바와 같이 홈 가공 및/또는 혼합에 의한 가공 동작을 수행할 수 있다.

일단 착색 효과가 트레이싱되면, 혼합층은 유리하게는 다음 압밀 또는 진동 압축 단계로 전달되고, 그 다음 플랜트의 특수한 경화 스테이션에서 경화 단계로 전달되며, 착색 효과의 실현을 위한 스테이션은 플랜트의 일부를 형성한다.

도 13에서 개략적으로 도시된 바와 같이, 본 발명의 원리를 적용하는 생성 플랜트는 명백하게, 자체로 공지된 스테이션이 순차적으로 배열되는, 예를 들어, 콘베이어 벨트 타입(스테이션(10 또는 110)의 동일한 작업 표면을 포함할 수 있음)의 전달 라인(54)을 포함하고, 스테이션은, 임지 지지체(또는 주조 스테이션) 상에 기본 혼합층을 형성하기 위한 스테이션(55), 착색 효과(10, 110)의 실현을 위한 스테이션(도면은 예를 들어, 스테이션(110)을 도시함), 착색 효과로 제공된 혼합물의 진동 압축 또는 진동 압밀을 위한 공지된 일련의 스테이션(56)을 포함하고, 적용된 착색 효과를 갖는 혼합물을 경화시키기 위한 공지된 스테이션(57)이 이에 포함되거나 후속될 수 있다.

예를 들어, 브리튼스톤(Bretonstone) 기술을 사용하는 생산 라인의 경우, 스테이션(10 또는 110)의 하류에는 진동 압축 스테이션이 존재할 것이고; 브리튼테라스톤(Bretonterastone) 기술을 사용하는 생산 라인의 경우, 하류에는 진동 압밀 스테이션이 존재할 것이다.

혼합물 진동 압축 단계는 유리하게는 진공 하에서 수행될 수 있다.

이러한 단계 동안, 혼합물은 특수한 프레스 내에서 주어진 시간 기간 동안 주어진 값의 진공을 겪고, 그 동안 미리 결정된 빈도의 진동 모션이 프레스에 적용된다.

그 다음, 이렇게 획득된 거친 슬랩은 사용된 바인더의 타입에 의존하는 경화 단계를 겪는다.

이 시점에서, 미리 정의된 목적이 어떻게 달성되었는지는 명백하다.

착색 효과를 생성하기 위한 스테이션은 제어 시스템에 의해 제어 및 관리되고, 마감된 슬랩 및 그에 따른 베이닝, 상이한 음영을 갖는 영역 등에서 실현될 패턴 또는 장식 효과를 따르는 것은 각각의 디바이스가 따라야 하는 경로 및 툴 및/또는 염료의 다양한 변화 둘 모두를 결정한다.

다양하게 프로그래밍된 경로 및 수행될 변경(툴 변경 및 염료 변경)을 최적화하고 특히 디스펜싱 디바이스의 이동 및 행해질 변경 횟수를 감소시킴으로써, 염료 디스펜싱 시간 및 그에 따른 슬랩 생성 시간을 감소시키는 것이 가능하다.

본 발명의 원리의 결과로서, 질량체 내에서 신속하고 효율적인 방식으로, 또한 큰 치수를 갖는(예를 들어, 수 미터의 측면 길이를 포함하는) 슬랩의 경우, 착색 효과를 갖는 슬랩을 획득하는 것이 가능하다. 특히, 몇몇 염료 및 툴을 효율적인 방식으로 사용하여, 슬랩 상의 임의의 지점에서 또는 상이한 슬랩 사이에서 하나의 염료로부터 다른 염료로 그리고 하나의 툴로부터 다른 툴로 간단하고 신속하게 전환하는 것이 가능하다.

본 발명에 따른 스테이션에 의해, 임의의 착색된 장식 효과를 설계함으로써 이러한 효과를 갖는 슬랩을 생성하는 것이 또한 가능하며, 그 다음, 적절하게 프로그래밍된 스테이션은 매우 정밀한 구역에서 베이닝 및 착색을 생성하여 원하는 슬랩을 획득할 수 있다.

특히, 특정 디스펜싱 디바이스로 인해, 콘테이너 또는 로딩 호퍼를 원하는 염료로 간단히 채우고 스테이션의 이동을 적절하게 프로그래밍함으로써 임의의 타입의 베이닝 또는 효과 및 임의의 염료를 갖는 슬랩을 생성하는 것이 가능하다. 색상을 변경하는 것은 간단하고 신속하며, 상이한 슬랩 상에서 또는 심지어 동일한 슬랩 상에서 수행될 수 있다. 따라서, 동일한 슬랩 상에 상이한 음영 및 색상을 갖는 베이닝, 색상 효과 또는 영역을 갖는 슬랩을 용이하게 생성하는 것이 가능하다.

본 발명에 따른 스테이션에 의해, 슬랩의 두께 전반에 걸쳐 실질적으로 베이닝 또는 색상 효과를 갖는 슬랩을 획득하는 것이 용이한데, 이는, 염료가 혼합물에 형성된 홈에 직접 부어지거나 특수한 툴을 통해 혼합되기 때문이다. 또한, 본 발명에 따른 퇴적 시스템을 사용하여, 후속하는 진동 압밀 또는 진동 압축 단계를 통해, 원하는 패턴을 제어불가능한 방식으로 변경함이 없이, 혼합물의 전체 두께에 영향을 미치도록 착색의 훨씬 더 깊은 침투를 용이하게 획득할 수 있음이 발견되었다.

한편, 특정 음영이 있는 더 크거나 더 작은 구역 또는 영역을 갖는 "스테인드" 효과를 갖는 슬랩을 획득할 수 있다.

본 발명에 따른 스테이션으로 달성될 수 있는 퇴적 정밀도로 인해, 모든 슬랩이 정확히 동일한 베이닝 또는 색상 효과를 가지며 따라서 실질적으로 서로 동일하도록 몇몇 슬랩 상에 동일한 효과의 반복을 획득하는 것, 또는 2 개의 슬랩이 표면 상에 서로의 거울상인 베이닝 효과를 가져서 예를 들어, 베이닝을 갖는 동일한 자연석의 2 개의 절단면과 유사한 소위 거울 효과를 생성하는 것이 가능하다. 예를 들어 거울상 설계에 의한 슬랩은 블록의 톱질로부터 획득된 천연 대리석의 전형적인 "개방 스테인(open stain)" 효과를 생성하기 위해 서로 나란히 놓일 수 있다.

따라서, 본 발명에 따른 스테이션, 플랜트 및 생성 방법의 유연성은 상당한데, 이는, 다양한 장식 특성을 갖는 슬랩이 획득될 수 있고, 특히 모두 동일한 장식 특성을 갖는 슬랩 또는 각각 상이한 장식 특성을 갖는 슬랩이 획득될 수 있기 때문이다.

명백하게, 본 발명의 혁신적인 원리를 적용하는 실시예의 상기 설명은 이러한 혁신적인 원리의 예로서 제공되며, 따라서 본 명세서에서 청구된 권리의 범위를 제한하는 것으로 간주되어서는 안 된다. 예를 들어, 이동 수단은, 착색될 혼합층에 대한 원하는 정밀도 및 배치 자유도를 갖는다면, 도시된 것과 상이한 다른 적절한 공지된 타입일 수 있다. 또한, 디스펜싱 디바이스는 대응하는 수의 이동 수단을 갖는 상이한 수(예를 들어, 단지 하나 또는 둘 초과)로 구성될 수 있다.

특히, 로봇식 아암의 경우, 단일 아암 또는 2 개 초과의 아암이 제공될 수 있지만, 2 개의 암의 사용은 제한된 가공 시간을 보장하여, 이와 달리 2 개 초과의 아암이 존재했다면 증가했을 제조 비용 및 아암 사이의 충돌의 위험을 방지하기 위해 필요한 동작 복잡도를 허용가능한 레벨로 유지한다.

유사하게, 데카르트-축 이동 수단을 갖는 스테이션의 경우, 디스펜싱 디바이스가 각각 제공되는 단일 빔 또는 3 개 이상의 빔을 또한 고안하는 것이 가능하다.

또한, 툴은 도면에 도시된 것과 상이할 수 있다.

이동 수단은 또한 오직 혼합물의 표면에 평행한 평면에서 염료 디스펜서의 이동만을 제공할 수 있지만, 이들이 평면을 향한 또는 그로부터 멀어지는 추가적인 이동을 또한 제공할 수 있으면 유리하다는 것이 발견되었다. 이러한 추가적인 이동은, 저장 호퍼 및/또는 툴-홀더 스토어에 도달하는 것을 더 용이하게 할 뿐만 아니라, 저장소에 더 쉽게 접근할 수 있을 뿐만 아니라, 툴의 작용 및/또는 염료의 디스펜싱 동안 혼합물로부터의 염료 디스펜싱 디바이스의 거리를 변경하기 위해 사용될 수 있다. 즉, 가공 동안 디스펜싱 디바이스가 따르는 궤적은 유리하게는 단지 하나의 평면에서가 아니라 혼합물 위의 디스펜싱 디바이스의 높이에서의 변화를 갖는 3차원 공간에서의 궤적일 수 있다. 이는, 예를 들어 디바이스 상에 장착된 툴에 의해 생성되는 염료의 확산 정도 및/또는 홈의 폭 및 깊이 및/또는 혼합 작용의 동적 변화를 허용할 수 있다. 또한, 이동 수단은 툴 및 염료 디스펜서에 대한 별개의 이동을 포함할 수 있다.

Claims (21)

1. 슬랩의 생성을 위한 혼합물에서 착색 효과의 실현을 위한 스테이션(10, 110)으로서,
   슬랩의 형성을 위한 기본 혼합층을 갖는 임시 지지체(12)를 수용하도록 의도되는 작업 표면(11);
   상기 작업 표면(11) 상에 수용된 상기 임시 지지체 상의 기본 혼합층 상에 염료를 퇴적시키기 위해 상기 작업 표면(11)을 향해 상기 염료를 방출하기 위한 적어도 하나의 염료 디스펜싱 디바이스(17);
   상기 작업 표면(11) 위에서 상기 디스펜싱 디바이스(17)의 상대적 이동을 위한 이동 수단(18, 118);
   상기 혼합층을 향해 염료가 방출되는 궤적을 따르도록 상기 작업 표면(11) 상에서 상기 디스펜싱 디바이스(17)의 변위를 제어하기 위해 상기 이동 수단(18, 118)에 연결되는 제어 시스템(19);
   상기 이동 수단(18, 118)과 함께 이동가능하고, 상기 혼합물에서 착색 효과를 달성하기 위해 상기 디스펜싱 디바이스(17)에 의해 방출되는 염료를 수용하거나 수용하려 의도된, 상기 작업 표면 상에 수용되는 상기 임시 지지체 상의 상기 혼합층 영역과 기계적으로 상호작용하도록 의도되는 적어도 하나의 툴(30, 31); 및
   복수의 툴(30, 31)을 위한 적어도 하나의 스토어(50) 및 상기 스토어로부터 선택된 툴의 제어된 픽업을 위한 수단(32);을 포함하는,
   스테이션.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 툴(30, 31)은 상기 염료 디스펜싱 디바이스(17)와 함께 이동하도록 상기 염료 디스펜싱 디바이스(17) 상에 지지되는,
   스테이션.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 염료 디스펜싱 디바이스(17)는 분말 염료를 배출하기 위한 호퍼(20, 21)를 포함하는,
   스테이션.
4. 제 3 항에 있어서,
   상기 배출 호퍼는 개수가 2 개인,
   스테이션.
5. 제 3 항에 있어서,
   상기 배출 호퍼(20, 21)를 보충하기 위한 구역(42)을 포함하고, 상기 구역(42)에는 저장 호퍼(43)가 존재하고, 상기 저장 호퍼(43)는 상기 저장 호퍼의 디스펜싱 스파우트(44) 하의 상기 이동 수단(18, 118)에 의해 운반되는 상기 배출 호퍼(20, 21)로의 커맨드에 따라 배출을 수행하는,
   스테이션.
6. 제 1 항에 있어서,
   상기 염료 디스펜싱 디바이스(17)는 액체 염료를 분사하기 위한 노즐(26, 27)을 포함하는,
   스테이션.
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 툴은, 상기 작업 표면 상에서 상기 디스펜싱 디바이스의 이동 방향으로 상기 혼합물에 홈을 형성하도록 의도되는 홈 가공 툴(30)이고, 상기 홈은 상기 디스펜싱 디바이스(17)에 의해 방출되는 염료를 수용하도록 의도되는,
   스테이션.
8. 제 1 항에 있어서,
   상기 툴은 전동식 회전 지지체(32) 상에 장착된 혼합기 툴(31)인,
   스테이션.
9. 삭제
10. 제 1 항에 있어서,
    상기 픽업 수단은 맞물린 툴을 회전시키도록 가동되는 맞물림 시트(32)를 포함하는,
    스테이션.
11. 제 1 항에 있어서,
    상기 스토어(30)는, 상기 복수의 툴 중의 툴이 툴의 동작 단부 중 적어도 하나에 의해 침지되는 액체를 세정하는 탱크(53)를 포함하는,
    스테이션.
12. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동 수단은 인체형 로봇 아암(18)을 포함하는,
    스테이션.
13. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동 수단은 데카르트 로봇(118)을 포함하는,
    스테이션.
14. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동 수단은 개수가 2 개이고, 각각 자기 자신의 디스펜싱 디바이스 또는 자기 자신의 툴을 갖는,
    스테이션.
15. 제 1 항 내지 제 8 항 및 제 10 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 스테이션을 통해 슬랩 상에 착색 효과의 실현을 위한 방법으로서,
    상기 슬랩의 형성을 위한 기본 혼합층을 갖는 임시 지지체를 상기 작업 표면 상에서 수용하는 단계; 상기 제어 시스템을 통해, 염료 방출 디스펜싱 디바이스로 하여금, 상기 기본 혼합층에서 염료를 퇴적시키는 궤적을 따르게 하는 단계; 상기 기본 혼합층을, 상기 염료를 수용하거나 수용하려 의도되는 영역에서 상기 툴의 기계적 작동에 종속시키는 단계; 상기 혼합층을 후속 압밀 단계 및 그 후의 경화 단계로 전달하는 단계를 포함하는,
    방법.
16. 제 15 항에 있어서,
    상기 툴을 통해 상기 기본 혼합층에서 홈을 생성하는 단계, 및 상기 디스펜싱 디바이스로부터의 염료를 상기 홈에 진입하도록 방출하는 단계를 포함하는,
    방법.
17. 제 15 항에 있어서,
    상기 디스펜싱 디바이스로부터 상기 염료를 수용한 혼합물의 구역을 혼합하는 작동을 상기 툴을 통해 생성하는 단계를 포함하는,
    방법.
18. 슬랩의 생성을 위한 플랜트로서,
    스테이션들이 순차적으로 배열되는 전달 라인(54)을 포함하고, 상기 스테이션들은, 임시 지지체 상에 기본 혼합층의 형성을 위한 스테이션(55), 제 1 항 내지 제 8 항 및 제 10 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 착색 효과의 실현을 위한 스테이션(18, 118), 상기 착색 효과를 갖는 상기 혼합물의 진동 압축 또는 진동 압밀을 위한 스테이션(56), 및 상기 착색 효과를 갖는 상기 혼합물의 경화를 위한 스테이션(57)을 포함하는, 플랜트.
19. 제 1 항 내지 제 8 항 및 제 10 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 스테이션에 의해 획득되는 슬랩.
20. 제 15 항에 따른 방법에 의해 획득되는 슬랩.
21. 제 18 항에 따른 플랜트에 의해 획득되는 슬랩.
    

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