KR101968256B1

KR101968256B1 - Vacuum Film Deposition System

Info

Publication number: KR101968256B1
Application number: KR1020137004774A
Authority: KR
Inventors: 하야토 아마쿠
Original assignee: 신메이와 인더스트리즈,리미티드
Priority date: 2011-08-30
Filing date: 2011-08-30
Publication date: 2019-04-12
Also published as: JPWO2013030872A1; KR20140053803A; CN103097569B; CN103097569A; WO2013030872A1; JP5816189B2

Abstract

본 발명의 진공 성막 장치(100)는, 진공 상태에서 복수의 기재(20)를 성막하는 진공 성막 장치로서, 기재를 지지하기 위한 복수의 기재 홀더(23)와, 복수의 기재 홀더(23)를 지지하며 반송하는 기재 유닛(2)과, 이 기재 유닛(2)을 반입 및 반출하기 위한 반입구(10), 및 이 반입구(10)를 개폐하기 위한 반입구 도어(11)를 갖는, 진공 상태를 형성하기 위한 진공조(1)를 구비한다. 기재 유닛(2)은, 복수의 기재 홀더(23)를, 진공조(1)에 대한 반송방향으로 직렬로 배치하도록 지지하고 있고, 반입구(10)가 기재 유닛(2)의 치수에 따라 형성되어 있다. 이에 따라, 진공 성막 장치(100)는 수분의 배기에 필요한 시간을 감소시켜 성막 처리에 소요되는 시간을 억제할 수가 있다.A vacuum film forming apparatus (100) of the present invention is a vacuum film forming apparatus for forming a plurality of substrates (20) in a vacuum state, comprising a plurality of substrate holders (23) for holding substrates, a plurality of substrate holders (2) for holding and transporting the substrate unit (2), a semi-entry opening (10) for loading and unloading the substrate unit (2), and a semi-entry door (11) for opening and closing the semi-entry opening And a vacuum tank (1) for forming a state. The substrate unit 2 supports a plurality of substrate holders 23 so as to be arranged in series in the conveying direction with respect to the vacuum chamber 1 and the inlet 10 is formed according to the dimensions of the base unit 2 . Thus, the vacuum film forming apparatus 100 can reduce the time required for film formation by reducing the time required for exhausting water.

Description

진공 성막 장치{Vacuum Film Deposition System}[0001] Vacuum Film Deposition System [

본 발명은, 진공 상태에서 복수의 기재(基材)를 성막하는 진공 성막 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a vacuum film forming apparatus for forming a plurality of substrates (substrates) in a vacuum state.

최근, 박막을 응용한 각종 제품이 제조되고 있다. 박막을 응용한 제품으로서는, 예를 들면 자동차용 라이트에 이용되는 리플렉터(reflector)를 들 수 있다. 진공 성막 장치가 구비하는 진공조 내에 기재를 지지하고, 증착원 등의 성막 유닛을 동작시켜 기재에 박막을 형성함에 따라 이 리플렉터를 제조할 수가 있다. 보다 구체적으로는, 리플렉터는, 그 기재 상에 광을 반사시키는 반사막과, 이 반사막을 보호하기 위한 보호막이 적층되어 제조된다. 이와 같이 금속재(예를 들면, 알루미늄)로 이루어지는 반사막에 보호막을 적층시킴에 따라 반사막의 경년 열화를 억제할 수가 있다.BACKGROUND ART In recent years, various products using thin films have been produced. As a product to which a thin film is applied, for example, a reflector used for automobile lights can be mentioned. The reflector can be manufactured by supporting a substrate in a vacuum chamber provided in a vacuum deposition apparatus and forming a thin film on the substrate by operating a deposition unit such as an evaporation source. More specifically, the reflector is manufactured by laminating a reflective film for reflecting light on the substrate and a protective film for protecting the reflective film. By laminating a protective film on a reflective film made of a metal material (for example, aluminum) in this way, deterioration of the reflective film over time can be suppressed.

이와 같은 리플렉터의 제조에 이용되는 진공 성막 장치로서, 진공조의 도어(door)의 내면 측에 성막 유닛 및 기재 지지구를 구비하고, 이 도어를 닫으면 진공조의 내측 공간에서 이 성막 유닛 및 기재 지지구가 배치되도록 구성되어 있는 것이 개시되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1, 특허문헌 2).As a vacuum film forming apparatus used for manufacturing such a reflector, a film forming unit and a substrate holder are provided on the inner surface side of a door of a vacuum chamber. When the door is closed, the film forming unit and the substrate holder (For example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

예를 들면, 특허문헌 1, 특허문헌 2에 개시된 진공 성막 장치는, 1개의 진공조에 좌우 대칭의 도어를 설치하고, 이 도어에 기재 지지구 등을 장착한 구조로서, 한 쪽의 도어를 닫고 그 도어에 설치된 기재에 대하여 성막 처리를 실시하고 있는 동안에, 다른 쪽의 도어에서 기재의 탈착 등을 행할 수가 있다.
For example, the vacuum film forming apparatus disclosed in Patent Documents 1 and 2 has a structure in which right and left symmetrical doors are provided in one vacuum chamber, and a substrate support or the like is mounted on the door. It is possible to attach and detach the base material from the other door while the film forming process is being performed on the base material provided on the door.

국제공개 제2009/084408호 공보International Publication No. 2009/084408 일본 특허 제4246570호 공보Japanese Patent No. 4246570

하지만, 상술한 종래 기술은, 성막 처리에 소요되는 시간이 길어진다는 문제가 있다.However, the above-described conventional technique has a problem that the time required for the film forming process is long.

보다 구체적으로는, 특허문헌 1, 특허문헌 2의 진공 성막 장치는, 한 쪽의 도어(제1 도어)를 닫고 그 도어에 설치된 기재에 대하여 성막 처리를 실시하고 있는 동안(배치(batch) 처리 시간인 수 분 동안), 다른 쪽의 도어(제2 도어)는 진공조 밖의 공기(외기)에 노출된 상태가 된다.More specifically, in the vacuum film forming apparatuses of Patent Document 1 and Patent Document 2, while one of the doors (first door) is closed and the film forming process is performed on the substrate provided on the door (batch process time (The second door) is exposed to air (outside air) outside the vacuum chamber.

여기서, 진공 성막 장치를 가동시켜, 예를 들면 상술한 바와 같은 리플렉터의 제조를 행하면, 도어에서 진공조 내벽의 일부를 형성하는 측의 면(진공조 내벽 측면), 즉 기재가 설치된 측의 면은, 성막 물질로 덮이게 된다. 이 도어의 진공조 내벽 측면이 성막 물질로 덮이면 수분을 상당히 흡착하기 쉬운 상태가 되고, 이 면이 외기에 노출된 시간에 따라 수분 흡착량이 증가한다. 이와 같이 도어의 진공조 내벽 측면에 수분이 흡착하면, 수분의 배기에 시간이 필요하게 되어 배치 처리 시간은 길어져버린다.Here, when the vacuum film forming apparatus is operated and the above-described reflector is manufactured, for example, the surface of the door on which the part of the inner wall of the vacuum chamber is formed (the inner surface of the vacuum vessel inner wall) , And is covered with a film forming material. When the inner surface of the vacuum chamber of the door is covered with the film forming material, moisture is easily adsorbed, and the amount of moisture adsorbed increases with time when the surface is exposed to the outside air. When the moisture is adsorbed on the side surface of the inner wall of the vacuum chamber of the door in this manner, it takes time to drain water and the batch processing time becomes long.

따라서 수분의 흡착량을 억제하기 위해서는, 성막 물질로 덮인 도어의 진공조 내벽 측면이 외기에 노출되는 시간을 작게 할 필요가 있다.Therefore, in order to suppress the adsorption amount of moisture, it is necessary to reduce the time during which the inner wall surface of the vacuum chamber of the door covered with the film forming material is exposed to the outside air.

하지만, 특허문헌1, 특허문헌2의 진공 성막 장치에서는, 제1 도어를 닫고 성막 처리를 행하고 있는 동안, 제2 도어는 외기에 노출되게 되어 수분이 흡착하게 된다. 그리고 제1 도어에 설치된 기재에 대한 성막 처리가 종료되면, 이 도어를 열고 성막된 기재의 착탈 등을 행함과 아울러 제2 도어를 닫고 이 도어에 설치된 기재의 성막 처리를 행한다. 이때, 제2 도어에는 많은 수분이 흡착하고 있기 때문에, 성막 처리 시간이 한 층 더 길어진다.However, in the vacuum film forming apparatuses of Patent Document 1 and Patent Document 2, while the first door is closed and the film forming process is performed, the second door is exposed to the outside air, and moisture is adsorbed. When the film-forming process for the base material provided on the first door is completed, the door is opened to attach and detach the base material, the second door is closed, and the base material provided on the door is formed. At this time, since much moisture is adsorbed on the second door, the film forming time becomes longer.

또, 도어의 표면적은 기재의 지그(jig)의 치수, 및 도어에 배치하는 기재 수 등에 의존하지만, 표면적이 커지면 커질수록 수분 흡착량이 증가하게 된다.The surface area of the door depends on the dimensions of the jig of the base material and the number of base materials disposed on the door. However, as the surface area increases, the amount of water adsorption increases.

이와 같이, 특허문헌1, 특허문헌2에 개시된 진공 성막 장치에서는, 도어에 기재 등을 배치하는 구성이기 때문에, 배치 처리 시간인 수 분 동안은 한 쪽의 도어가 외기에 노출되어 수분 흡착량이 증가한다. 또, 기재를 효율 좋게 배치하기 위하여, 도어의 표면적은 커지고, 결과적으로 수분 흡착량이 커진다.As described above, in the vacuum film forming apparatus disclosed in Patent Documents 1 and 2, since the base material or the like is arranged on the door, one door is exposed to the outside air for several minutes, which is the batch processing time, . Further, in order to efficiently dispose the base material, the surface area of the door becomes large, and as a result, the moisture adsorption amount becomes large.

따라서 특허문헌 1, 특허문헌 2에 개시된 진공 성막 장치에서는, 흡착한 수분을 배기하는 시간이 필요하게 되어 성막 처리에 소요되는 시간이 길어진다.Therefore, in the vacuum film forming apparatus disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, it takes time to exhaust the adsorbed moisture, and the time required for the film forming process becomes longer.

본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은 수분의 배기에 필요한 시간을 감소시켜 성막 처리에 소요되는 시간을 억제할 수 있는 진공 성막 장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a vacuum film forming apparatus capable of reducing the time required for film formation by reducing the time required for moisture exhaustion.

본 발명에 따른 진공 성막 장치는, 상기한 과제를 해결하기 위하여, 진공 상태에서 복수의 기재를 성막하는 진공 성막 장치로서, 상기 기재를 지지하기 위한 복수의 지지부와, 상기 복수의 지지부를 지지하며 반송하는 반송 유닛과, 상기 반송 유닛을 반입 및 반출하기 위한 개구부, 및 그 개구부를 개폐하기 위한 도어부를 갖는, 진공 상태를 형성하기 위한 진공조를 구비하고, 상기 반송 유닛은 상기 복수의 지지부를 상기 진공조에 대한 반송방향으로 직렬로 배치하도록 지지하고 있고, 상기 개구부가 상기 반송 유닛의 치수에 따라 형성되어 있다.A vacuum film forming apparatus according to the present invention is a vacuum film forming apparatus for forming a plurality of substrates in a vacuum state in order to solve the above-described problems. The vacuum film forming apparatus includes a plurality of support portions for supporting the substrate, And a vacuum tank for forming a vacuum state, the vacuum tank having an opening for loading and unloading the transfer unit, and a door for opening and closing the opening, the transfer unit comprising: And the openings are formed in accordance with the dimensions of the transport unit.

여기서, 기재란 성막 대상이 되는 구성 부재로서, 예를 들면 특정 형상으로 형성된 성형체 등을 들 수가 있다.Here, as a constituent member to be an object of film formation, for example, a molded body formed in a specific shape can be exemplified.

상기한 구성에 따르면, 진공조는 개구부 및 도어부를 구비하기 때문에, 이 개구부를 통하여 지지부를 지지한 반송 유닛을 이 진공조에 반입하기도 하고 진공조로부터 반출하기도 할 수가 있다.According to the above-described configuration, since the vacuum tank has the opening and the door, the transport unit supporting the support through the opening can be carried into the vacuum tank or removed from the vacuum tank.

또, 반송 유닛은 복수의 지지부를 반송방향으로 직렬로 배치하며 지지하고 있기 때문에, 이 반송 유닛의 치수는 지지하고 있는 각 지지부의 치수에 의존하게 된다. 즉, 반송 유닛을 반송방향에 대하 수직으로 잘라내었을 때의 단면적은, 1개의 지지부 치수에 따른 것이 된다.Further, since the conveying unit supports and supports a plurality of support portions in series in the conveying direction, the dimension of the conveying unit depends on the dimensions of the respective supporting portions supported. That is, the cross sectional area when the transport unit is cut vertically with respect to the transport direction depends on the size of one support portion.

여기서, 개구부의 개구 치수는 반송 유닛의 치수에 따라 형성되어 있다. 요컨대, 개구부의 개구 치수는 반송 유닛에 지지된 1개의 지지부가 진공조에 넣고 꺼낼 수 있는 치수이고, 더 구체적으로는, 반송 유닛을 반송방향에 대하여 수직으로 잘라내었을 때의 단면적이 된다.Here, the opening dimension of the opening portion is formed in accordance with the dimension of the transport unit. In other words, the opening dimension of the opening is a dimension that one supporting portion supported by the transporting unit can be put in and taken out of the vacuum tank, and more specifically, it is a sectional area when the transporting unit is cut perpendicularly to the transporting direction.

또, 이 개구부를 개폐하기 위한 도어부의 치수도, 개구부의 개구 치수에 맞추어 가능한 한 작게 할 수가 있다. 즉 도어부의 표면적을 가능한 한 작게 할 수가 있다.Further, the dimension of the door portion for opening and closing the opening portion can be made as small as possible in accordance with the opening dimension of the opening portion. That is, the surface area of the door portion can be made as small as possible.

그런데, 도어부의 진공조 내벽 측면은, 기재의 성막 처리 때에 생기는 성막 물질로 덮여 수분을 상당히 흡착하기 쉬운 상태가 된다.However, the inner surface of the inner wall of the vacuum chamber of the door portion is covered with a film forming material produced during the film forming process of the base material, and becomes in a state in which moisture can be easily adsorbed.

본 발명에 따른 진공 성막 장치에서는, 도어부의 진공조 내벽 측면이 외기에 노출되는 시간은, 반송 유닛을 진공조에 넣고 빼는 동안뿐이다. 즉, 특허문헌 1, 특허문헌 2에 개시된 진공 성막 장치와 같이, 성막 처리 시간 동안에, 도어부(도어)가 외기에 노출되는 것과 같은 상태가 되지 않아 수분 흡착량을 감소시킬 수가 있다.In the vacuum film forming apparatus according to the present invention, the time during which the inner wall surface side of the vacuum chamber of the door portion is exposed to the outside air is only during the loading and unloading of the conveying unit into the vacuum chamber. That is, as in the vacuum film forming apparatus disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, the state of the door portion (door) is not exposed to the outside air during the film forming process time, and the amount of water adsorption can be reduced.

또한, 상기한 바와 같이 도어부의 표면적을 가능한 한 작게 할 수 있기 때문에, 도어부에 흡착하는 수분량을 감소시킬 수가 있다.Further, as described above, since the surface area of the door portion can be made as small as possible, the amount of water adsorbed on the door portion can be reduced.

이와 같이 본 발명에 따른 진공 성막 장치에서는, 도어부에 흡착하는 수분량을 억제할 수가 있다.As described above, in the vacuum film forming apparatus according to the present invention, the amount of moisture adsorbed on the door portion can be suppressed.

따라서 본 발명에 따른 진공 성막 장치는, 수분의 배기에 필요한 시간을 감소시켜 성막 처리에 소요되는 시간을 억제할 수 있다는 효과가 있다.Therefore, the vacuum film forming apparatus according to the present invention has the effect of reducing the time required for moisture exhaustion, thereby suppressing the time required for the film forming process.

또, 본 발명에 따른 진공 성막 장치는, 상기한 구성에 있어서, 상기 반송 유닛이 성막 재료를 가열 증발시켜 상기 지지부에 지지된 기재에 막을 형성하기 위한 1개 이상의 증착원을 구비하고, 상기 지지부 및 상기 증착원은 상기 반송방향으로 직렬로 배치되며, 또한 상기 지지부들 사이에 상기 증착원이 배치되도록 구성되어 있어도 좋다.The vacuum film forming apparatus according to the present invention is characterized in that in the above configuration, the transport unit includes at least one evaporation source for evaporating the film forming material to form a film on the substrate supported by the supporting section, The evaporation sources may be arranged in series in the transport direction, and the evaporation sources may be disposed between the supports.

상기한 구성에 따르면, 복수의 지지부가 반송방향으로 직렬로 배치되어 있기 때문에, 지지부를 반송 유닛에서 반송방향으로 직렬로 배치시킬 수가 있다. 또, 지지부들 사이에는 증착원이 구비되어 있기 때문에, 진공 상태를 형성하는 진공조 내에, 증착원을 사이에 둔 지지부들에 지지된 기재를 증착법에 의해 성막할 수가 있다.According to the above configuration, since the plurality of support portions are arranged in series in the transport direction, the support portions can be arranged in series in the transport direction in the transport unit. Further, since the evaporation source is provided between the supporting portions, the base material supported on the supporting portions sandwiching the evaporation source can be formed in the vacuum chamber forming the vacuum state by the evaporation method.

또, 본 발명에 따른 진공 성막 장치는, 상기한 구성에 있어서, 상기 지지부가 기재를 회전 가능하게 지지하도록 구성되어 있어도 좋다.In the vacuum film forming apparatus according to the present invention, in the above configuration, the supporting portion may be configured to support the substrate in a rotatable manner.

상기한 구성에 따르면, 지지부가 기재를 회전 가능하게 지지하기 때문에, 성막 처리 시에 기재를 회전시켜 전체적으로 균일하게 성막 처리를 할 수가 있다.According to the above configuration, since the supporting portion supports the base material in a rotatable manner, the base material can be rotated during the film-forming process to uniformly perform the entire film-forming process.

또, 본 발명에 따른 진공 성막 장치는, 상기한 구성에 있어서, 상기 반송 유닛을 재치하고, 수평면에 있어서 상기 반송방향과는 다른 방향으로 그 반송 유닛을 이동 가능하게 하는 이동 테이블을 구비하고 있어도 좋다.The vacuum film forming apparatus according to the present invention may be provided with a moving table for mounting the conveying unit and moving the conveying unit in a direction different from the conveying direction on the horizontal plane .

상기한 구성에 따르면, 이동 테이블을 구비하고 있기 때문에, 이 이동 테이블에 의해 반송 유닛을 다른 장소로 이동시킴과 아울러 새로운 반송 유닛을 진공조의 앞으로 이동시켜 진공조에 반송할 수가 있다. 즉, 진공조에 반입하는 반송 유닛의 절환을 효율 좋게 행할 수가 있다.According to the above configuration, since the moving table is provided, the moving unit can be moved to another place by the moving table, and the new carrying unit can be moved to the vacuum chamber and transported to the vacuum chamber. That is, switching of the conveying unit to be carried into the vacuum tank can be performed efficiently.

또, 본 발명에 따른 진공 성막 장치는, 상기한 구성에 있어서, 상기 도어부가 상기 개구부에 대하여 좌우로 이동하여 그 개구부를 개폐하도록 구성되어 있어도 좋다.In the vacuum film forming apparatus according to the present invention, the door may be configured so that the door moves left and right relative to the opening to open and close the opening.

또, 본 발명에 따른 진공 성막 장치는, 상기한 구성에 있어서, 상기 도어부는 한 쪽의 측부가 상기 진공조와 힌지에 의해 접합되어 있고, 그 힌지를 축으로 호(弧)를 그리며 상기 개구부를 개폐하도록 구성되어 있어도 좋다.
The vacuum film forming apparatus according to the present invention is characterized in that, in the above-described configuration, the door portion is formed by joining one side portion by the vacuum tank and the hinge, drawing an arc around the hinge, .

본 발명은 이상에서 설명한 바와 같이 구성되어 수분의 배기에 필요한 시간을 감소시켜 성막 처리에 소요되는 시간을 억제할 수 있는 효과가 있다.
The present invention is configured as described above to reduce the time required for exhausting moisture, thereby suppressing the time required for film formation.

도 1은 본 실시예에 따른 진공 성막 장치의 개략 구성의 일 예를 나타내는 조감도이다.
도 2는 본 실시예에 따른 진공 성막 장치에서의 진공 배기 처리에 관한 구성의 일 예를 나타내는 블록도이다.
도 3은 본 실시예에 따른 진공 성막 장치에서의 진공 배기 처리에 관한 구성의 일 예를 나타내는 블록도이다.
도 4는 본 실시예의 변형예에 따른 기재 유닛에서의 기재의 배치의 일 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 본 실시예의 변형예에 따른 기재 유닛에서의 기재의 배치의 일 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.Fig. 1 is a bird's-eye view showing an example of a schematic configuration of a vacuum film forming apparatus according to the present embodiment.
Fig. 2 is a block diagram showing an example of a configuration relating to vacuum evacuation processing in the vacuum film forming apparatus according to the present embodiment.
Fig. 3 is a block diagram showing an example of a configuration relating to a vacuum exhaust process in the vacuum film forming apparatus according to the present embodiment.
4 is a diagram schematically showing an example of the arrangement of the base material in the base unit according to the modified example of this embodiment.
5 is a diagram schematically showing an example of the arrangement of the base material in the base unit according to the modified example of this embodiment.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를, 도면을 참조하여 설명한다. 한편, 이하에서는 모든 도면에 걸쳐 동일하거나 대응하는 구성 부재에는 동일한 참조부호를 부여하고 그 설명에 대해서는 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the same or corresponding constituent members are denoted by the same reference numerals throughout the drawings, and a description thereof will be omitted.

(진공 성막 장치의 구성)(Configuration of vacuum film forming apparatus)

먼저, 도 1을 참조하여 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)의 구성에 대하여 설명한다. 도 1은 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)의 개략 구성의 일 예를 나타내는 조감도이다.First, the structure of the vacuum deposition apparatus 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. Fig. 1 is a bird's-eye view showing an example of a schematic configuration of a vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment.

본 실시예에서는, 헤드라이트(head light)의 리플렉터(reflector)를 구성하는 수지 성형체를 기재(20)로서 사용하고, 진공 중에 이 기재(20)의 표면에 알루미늄 증착막으로 이루어지는 반사막과, 합성수지로 이루어지는 보호막을 차례로 성막하는 배치식(batch type) 성막 장치를 예로 들어서 설명한다.In this embodiment, a resin molding constituting a reflector of a head light is used as a base material 20, and a reflective film made of an aluminum evaporated film on the surface of the base material 20 in vacuum, A batch type film forming apparatus for sequentially forming a protective film is described as an example.

도 1에 도시된 바와 같이, 진공 성막 장치(100)는, 진공조(1), 기재 유닛(반송 유닛)(2), 배기 유닛(4), 공통 베이스(base)(5), 및 반송 베이스(6)를 구비하여 이루어지는 구성이다.1, the vacuum film forming apparatus 100 includes a vacuum tank 1, a base unit (transfer unit) 2, an exhaust unit 4, a common base 5, (6).

진공조(1)는, 그 내부에 주위의 압력보다 낮은 상태(진공)를 형성하기 위한 기밀한 용기로서, 본 실시예에서는 대략 직육면체를 하고 있다. 하지만, 진공조(1)의 형상은 이와 같은 직육면체에 한정되는 것이 아니고, 소망하는 진공 상태를 형성할 수 있는 형상이면 좋다. 또, 진공조(1)는 기재 유닛(2)을 넣고 꺼낼 수 있도록 반입구(개구부)(10), 및 이 반입구(10)의 개폐를 행하기 위한 반입구 도어(도어부)(11)를 갖고 있다. 본 실시예에서는, 반입구 도어(11)는 미닫이로 되어 있고, 반입구(10)에 대하여 좌우로 슬라이드 함으로써 개폐를 행할 수 있다. 또, 반입구 도어(11)를 닫았을 때, 반입구(10)와 반입구 도어(11)의 접촉부에 밀폐성을 확보하도록, 이 접촉부에 씰(seal) 부재(미도시)가 장착되어 있다.The vacuum tank 1 is an airtight container for forming a state (vacuum) lower than the ambient pressure inside the vacuum tank 1. In this embodiment, the vacuum tank 1 has a substantially rectangular parallelepiped. However, the shape of the vacuum chamber 1 is not limited to such a rectangular parallelepiped, but may be a shape capable of forming a desired vacuum state. The vacuum chamber 1 is provided with a return opening 10 for allowing the substrate unit 2 to be taken out and a withdrawal opening door 11 for opening and closing the withdrawal opening 10, . In the present embodiment, the inlet door 11 is a sliding door, and can be opened and closed by sliding it to the left and right with respect to the inlet 10. A seal member (not shown) is attached to the contact portion so as to ensure the hermeticity at the contact portion between the entrance 10 and the entrance door 11 when the entrance door 11 is closed.

한편, 반입구 도어(11)는 미닫이지만, 이에 한정되는 것이 아니고, 반입구 도어(11)의 한 쪽 측부가 진공조(1)와 힌지(hinge)에 의해 접합되고, 이 힌지를 축으로 하여 호를 그리도록 하며 개폐할 수 있는 여닫이이어도 좋다.On the other hand, the entrance door 11 is a sliding door but is not limited thereto. One side of the entrance door 11 is joined to the vacuum chamber 1 by a hinge, It is also possible to open and close the door to draw an arc.

본 실시예에서는, 진공조(1)에서 반입구(10)가 설치되어 있는 측을 정면, 그에 대향하는 면을 배면, 정면과 접하는 좌우의 면을 각각 좌측면, 우측면, 및 상부의 면을 상면이라고 부르는 것으로 한다.In the present embodiment, the side on which the inlet 10 is provided in the vacuum tank 1 is referred to as a front side, the side opposite to the side facing the front side is referred to as a left side, the side on the right side, .

아울러, 진공조(1)는, 도 1에 도시된 바와 같이 그 외관 형상에 있어서 좌측면에 플라즈마 방전 전극(12)을 구비하고 있다. 이 플라즈마 방전 전극(12)은 진공조(1) 내에 배치된 기재(20)에 대하여 플라즈마 중합에 의해 성막을 행할 때에, 플라즈마를 방전시키기 위한 전극이다.In addition, the vacuum tank 1 is provided with a plasma discharge electrode 12 on the left side in its external shape as shown in Fig. The plasma discharge electrode 12 is an electrode for discharging plasma when a film is formed by plasma polymerization on the substrate 20 disposed in the vacuum chamber 1. [

배기 유닛(4)은 진공조(1)의 내부를 진공 배기하기 위한 유닛으로서, 보조 진공 펌프(루트 펌프(root pump)(31) 및 오일 회전 펌프(32))와 고진공 펌프(오일 확산 펌프(33) 및 콜드 트랩(cold trap)(34))를 구비하여 이루어지는 구성이다. 또, 이러한 각종 펌프와 진공조(1) 사이에서의 공기 유통을 제어하기 위하여 메인 밸브(main valve)(13), 러핑 밸브(roughing valve)(14), 포어라인 밸브(pore-line valve)(15), 벤트 밸브(vent valve)(16), 및 게이트 밸브(gate valve)(17)를 구비하고 있다. 한편, 도 1에서는, 게이트 밸브(17) 및 콜드 트랩(34)에 대해서는, 지면의 사정상 도시되어 있지 않다. 진공 배기 처리에 관계되는 진공조(1)와 이 배기 유닛(4), 및 도 1에 있어서 진공조(1)의 상면에 설치된 메인 밸브(13)를 포함한 다른 밸브에 대한 설명은 후술한다.The exhaust unit 4 is a unit for evacuating the interior of the vacuum chamber 1 and includes an auxiliary vacuum pump (a root pump 31 and an oil rotation pump 32) and a high vacuum pump 33 and a cold trap 34). A main valve 13, a roughing valve 14 and a pore-line valve (not shown) are provided to control the air circulation between the various pumps and the vacuum tank 1 15, a vent valve 16, and a gate valve 17 as shown in FIG. On the other hand, in Fig. 1, the gate valve 17 and the cold trap 34 are not shown on the ground. Other valves including the vacuum tank 1 related to the vacuum exhaust process, the exhaust unit 4 and the main valve 13 provided on the upper surface of the vacuum tank 1 in Fig. 1 will be described later.

한편, 상술한 진공조(1) 및 배기 유닛(4)은 공통 베이스(5)에 의해 함께 지지되어 있다.On the other hand, the vacuum tank 1 and the exhaust unit 4 described above are supported together by a common base 5.

기재 유닛(2)은, 기재 홀더(지지부)(23)를 통하여 기재(20)를 지지하는 것으로서, 반송 베이스(6) 상에 설치된 이동 테이블(25)에 재치되고, 이 이동 테이블(25)과 함께 이동하기도 하고, 또는 이동 테이블(25) 상에 설치된 레일(rail)(제2 레일(52)) 상을 이동하기도 할 수가 있다.The base unit 2 supports the base material 20 via a substrate holder (support portion) 23 and is mounted on a moving table 25 provided on the carrier base 6, Or may move on a rail (second rail 52) provided on the moving table 25.

즉, 반송 베이스(6) 면 상에서, 기재 유닛(2)의 진공조(1)로의 반송방향에 대하여 수직이 되는 방향(교환 방향)으로 제1 레일(51)이 설치되어 있다. 그리고 이 제1 레일(51)에 안내되어 이동 테이블(25)이 이동함으로써 이동 테이블(25) 상에 재치된 기재 유닛(2)을 교환 방향, 즉 반입구(10)에 대하여 좌우로 이동시킬 수가 있다.That is, the first rail 51 is provided on the transport base 6 surface in a direction perpendicular to the transport direction of the base unit 2 to the vacuum tank 1 (exchange direction). The moving table 25 is moved by the first rail 51 so that the substrate unit 2 placed on the moving table 25 can be moved in the exchanging direction, have.

또한, 이동 테이블(25)에는 반송방향(반입방향 혹은 반출방향)을 따라 제2 레일(52)이 설치되어 있다. 또, 진공조(1)의 내부에도 이 제2 레일(52)과 이어지도록 레일이 설치되어 있고, 기재 유닛(2)은, 이 제2 레일(52)과, 진공조(1) 내의 레일(진공조 레일(53)) 상을 이동함으로써 진공조(1)에 넣고 뺄 수 있다.The moving table 25 is provided with a second rail 52 along the carrying direction (carrying direction or carrying-out direction). A rail is also provided inside the vacuum chamber 1 so as to be connected to the second rail 52. The base unit 2 is connected to the second rail 52 and a rail The vacuum chamber 1 and the vacuum chamber 1 by moving them on the vacuum chamber 1 and the vacuum chamber 1.

또한, 본 실시예에서는, 이동 테이블(25)은 반송방향에 대하여 수직이 되는 방향으로 이동하는 구성이지만, 이동방향은 이에 한정되지 아니 하고, 이동 테이블(25) 상에 재치된 다른 기재 유닛(2)을 각각 교대로 진공조(1)에 반입 및 반출 가능하도록 반송방향과는 다른 방향으로 이동할 수 있으면 좋다.In this embodiment, the moving table 25 is configured so as to move in a direction perpendicular to the carrying direction, but the moving direction is not limited to this, and may be different from that of the other substrate units 2 Can be moved in a direction different from the conveying direction so that they can be carried in and out of the vacuum chamber 1 alternately.

상기한 바와 같이 이동 가능한 기재 유닛(2)은, 도 1에 도시된 바와 같이 기재(20)를 지지하는 기재 홀더(지지부)(23), 기재 홀더(23)들 사이에 배치된 증착원(21), 기재 홀더(23) 및 증착원(21)을 지지하는 지지 베이스(24)를 구비하고 있다.As described above, the movable substrate unit 2 includes a substrate holder (support portion) 23 for supporting the substrate 20 as shown in Fig. 1, an evaporation source 21 ), A substrate holder (23), and a support base (24) for supporting the evaporation source (21).

기재 홀더(23)는, 지지 베이스(24)에서 연직방향, 상향으로 연장된 봉 형상의 축부를 갖고 있고, 이 축부에 기재(20)를 장착할 수 있도록 이루어져 있다. 본 실시예에서는, 도 1에 도시된 바와 같이, 1개의 기재 홀더(23)에 의해 2개의 기재(20)를 고정할 수 있도록 구성되어 있다. 또, 기재 유닛(2)이 진공조(1) 내의 적절한 위치에 배치되면, 미도시된 구동 모터에 전력이 공급되어 기재 홀더(23)의 축부를 중심으로 기재(20)를 회전(자전)시킬 수가 있다.The base material holder 23 has a rod-like shaft portion extending in the vertical direction and upward direction in the support base 24, and is capable of mounting the base material 20 on the shaft portion. In this embodiment, as shown in Fig. 1, the two base materials 20 can be fixed by one base material holder 23. When the substrate unit 2 is disposed at a proper position in the vacuum chamber 1, electric power is supplied to the drive motor (not shown) to rotate the substrate 20 about the shaft portion of the substrate holder 23 There is a number.

증착원(21)은, 진공 중에서 성막 재료(증착 재료)를 가열 증발시키고 이것을 기재(20)에 부착시키는 것이다. 증착원(21)은, 지지 베이스(24)에서 연직방향, 상향으로 연장된 2개의 증착용 저항 가열 전극(28)과, 이 연직방향으로 일정 간격으로 증착용 저항 가열 전극(28)들 사이를 가교하는, 증착 재료를 증발시키기 위한 필라멘트(filament)(27)로 구성되어 있다. 본 실시예에서는, 증착 재료로서 알루미늄 또는 그 합금이 사용되지만, 이에 한정되지 아니 한다.The evaporation source 21 is for evaporating the evaporation material (evaporation material) in a vacuum and attaching the evaporation material to the substrate 20. The evaporation source 21 has two evaporation resistance heating electrodes 28 extending in the vertical direction and upward direction in the support base 24 and a pair of evaporation resistance heating electrodes 28 extending in the vertical direction at regular intervals between the evaporation resistance heating electrodes 28 And a filament 27 for evaporating the evaporation material to be crosslinked. In this embodiment, aluminum or an alloy thereof is used as an evaporation material, but not limited thereto.

지지 베이스(24)는, 기재 홀더(23) 및 증착원(21)을 지지하여 고정함과 아울러 이동 테이블(25)에 설치된 제2 레일(52), 및 진공조(1) 내에 설치된 진공조 레일(53)에 안내되어 이동할 수가 있다. 즉, 지지 베이스(24)의 측부에는 제2 레일(52) 및 진공조 레일(53)의 폭에 대응한 복수의 차륜이 설치되어 있고, 이 차륜에 의해 제2 레일(52) 및 진공조 레일(53) 상을 이동할 수가 있다. 이로써, 기재 유닛(2)은 반송방향으로 진공조(1)에 들어가기도 하고 나오기도 할 수가 있다.The support base 24 supports and fixes the substrate holder 23 and the evaporation source 21 as well as a second rail 52 provided on the moving table 25 and a second rail 52 provided on the vacuum table 1, (53). That is, a plurality of wheels corresponding to the widths of the second rail 52 and the vacuum rail 53 are provided on the side of the support base 24. By this wheel, the second rail 52 and the vacuum- (53). Thus, the base unit 2 can enter the vacuum chamber 1 in the carrying direction or come out.

(진공 성막 장치에 있어서 진공 배기 처리에 관한 구성)(Configuration related to vacuum exhaust process in vacuum film forming apparatus)

본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)는, 진공 상태로 만든 진공조(1) 내에서 기재(20)에 알루미늄막, 보호막 등을 성막하도록 구성되어 있다. 그래서 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)는, 진공조(1) 내에 기재(20)가 배치되면, 이 진공조(1) 안을 진공으로 만들도록 진공 배기 처리를 행하도록 구성되어 있다. 이하에, 이 진공 배기 처리에 관계되는 구성에 대하여 도 2, 도 3을 참조하여 설명한다. 도 2, 도 3은 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)에 있어서 진공 배기 처리에 관한 구성의 일 예를 나타내는 블록도이다.The vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment is configured to form an aluminum film, a protective film, or the like on the substrate 20 in a vacuum chamber 1 made in a vacuum state. Thus, the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment is configured such that, when the substrate 20 is disposed in the vacuum chamber 1, the vacuum chamber 1 is evacuated so as to make the inside of the vacuum chamber 1 vacuum. Hereinafter, the structure related to this vacuum evacuation treatment will be described with reference to Figs. 2 and 3. Fig. Figs. 2 and 3 are block diagrams showing an example of a configuration relating to vacuum evacuation processing in the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 배기 유닛(4)은, 보조 진공 펌프(루트 펌프(31) 및 오일 회전 펌프(32))와 고진공 펌프(오일 확산 펌프(33) 및 콜드 트랩(34))를 구비하여 이루어지는 구성이다. 또, 이러한 각종 펌프와 진공조(1) 사이에서의 공기 유통을 제어하기 위하여 메인 밸브(13), 러핑 밸브(14), 포어라인 밸브(15), 벤트 밸브(16), 및 게이트 밸브(17)를 구비한다. 2 and 3, the exhaust unit 4 includes an auxiliary vacuum pump (a root pump 31 and an oil rotation pump 32) and a high vacuum pump (an oil diffusion pump 33 and a cold trap 34 )). The main valve 13, the roughing valve 14, the foreline valve 15, the vent valve 16, and the gate valve 17 (not shown) are provided for controlling the air circulation between the various pumps and the vacuum tank 1. [ .

보다 구체적으로는, 메인 밸브(13)는, 진공조(1)와 오일 확산 밸브(33)의 배기구 사이에 형성된 배기 통로에 설치되어 있고, 이 배기 통로의 개폐를 제어한다. 러핑 밸브(14)는, 러프 펌핑 배기를 행할 때에 진공조(1)와 보조 진공 펌프(루트 펌프(31) 및 오일 회전 펌프(32)) 사이의 배관의 개폐를 제어한다. 또, 포어라인 밸브(15)는, 오일 확산 펌프(33)와 보조 진공 펌프(특히 루트 펌프(31)) 사이의 배관의 개폐를 제어한다. 벤트 밸브(16)는, 진공조(1)와 외기가 연통하도록 설치된 배관의 개폐를 제어한다. 게이트 밸브(17)는, 진공조(1)와 콜드 트랩(34) 사이의 배관의 개폐를 제어한다.More specifically, the main valve 13 is provided in an exhaust passage formed between the vacuum tank 1 and the exhaust port of the oil diffusion valve 33, and controls the opening and closing of the exhaust passage. The roughing valve 14 controls the opening and closing of the pipe between the vacuum tank 1 and the auxiliary vacuum pump (the root pump 31 and the oil rotation pump 32) when performing the rough pumping exhaust. The foreline valve 15 controls the opening and closing of the pipe between the oil diffusion pump 33 and the auxiliary vacuum pump (particularly, the root pump 31). The vent valve 16 controls the opening and closing of a pipe provided so that the vacuum tank 1 and the outside air communicate with each other. The gate valve 17 controls the opening and closing of the pipe between the vacuum tank 1 and the cold trap 34.

본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)에서는, 진공조(1) 안을 대기압에서부터 고진공까지 배기하기 위하여, 러프 펌핑 배기와 고진공 배기로 나누어 단계적으로 배기하도록 구성되어 있다.In the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment, in order to exhaust the inside of the vacuum chamber 1 from the atmospheric pressure to the high vacuum, it is configured to be divided into rough pumping exhaust and high vacuum exhaust stepwise.

먼저, 오일 회전 펌프(32) 및 루트 펌프(31)의 보조 진공 펌프를 연속 운전시킴에 따라 대기압에서 고진공 펌프의 작동 압력이 될 때까지 배기한다. 한편, 오일 회전 펌프(32)는, 로터(rotor)가 1회전하는 동안에 오일로 씰(seal)된 공간을 배출하도록 구성된 진공 펌프이다. 또, 루트 펌프(31)는, 진공조(1)와 오일 회전 펌프(32) 사이에 설치되어 부스터 펌프(booster pump)로서 기능하는 것이다.First, the auxiliary rotary pump of the oil rotary pump 32 and the auxiliary rotary pump 31 is continuously operated to discharge the air from the atmospheric pressure to the working pressure of the high vacuum pump. On the other hand, the oil rotary pump 32 is a vacuum pump configured to discharge a space sealed with oil during one rotation of the rotor. The root pump 31 is provided between the vacuum tank 1 and the oil rotary pump 32 and functions as a booster pump.

이 러프 펌핑 배기의 단계에서는, 메인 밸브(13), 포어라인 밸브(15), 벤트 밸브(16), 및 게이트 밸브(17)가 폐쇄되고, 러핑 밸브(14)만이 개방 상태가 된다. 그리고 오일 회전 펌프(32)와 루트 펌프(31)에 의해 진공조(1) 안이 대기압에서 고진공 펌프의 작동 압력이 될 때까지 배기(러프 펌핑 배기)가 행해진다.In this stage of the rough pumping exhaust, the main valve 13, the foreline valve 15, the vent valve 16, and the gate valve 17 are closed, and only the roughing valve 14 is opened. (Rough pumping exhaust) is performed by the oil rotary pump 32 and the root pump 31 until the inside of the vacuum tank 1 becomes the operating pressure of the high vacuum pump at atmospheric pressure.

진공조(1) 안이 고진공 펌프의 작동 압력이 되면, 도 3에 나타내는 바와 같이 개방 상태이었던 러핑 밸브(14)가 폐쇄되고, 대신에 메인 밸브(13), 포어라인 밸브(15), 및 게이트 밸브(17)를 개방한다. 이에 따라, 진공조(1)와 오일 확산 펌프(33)가 연통됨과 아울러 오일 확산 펌프(33)와 보조 진공 펌프(루트 펌프(31) 및 오일 회전 펌프(32))가 연통된다. 또한, 진공조(1)와 콜드 트랩(34)이 연통된다.When the inside of the vacuum tank 1 becomes the operating pressure of the high vacuum pump, the roughing valve 14 which was in the open state is closed as shown in Fig. 3, and the main valve 13, the foreline valve 15, (17) is opened. As a result, the vacuum tank 1 and the oil diffusion pump 33 are communicated with each other and the oil diffusion pump 33 and the auxiliary vacuum pump (the root pump 31 and the oil rotation pump 32) are communicated with each other. Further, the vacuum tank 1 and the cold trap 34 are communicated with each other.

그리고 오일 확산 펌프(33), 보조 진공 펌프(루트 펌프(31) 및 오일 회전 펌프(32)), 및 콜드 트랩(34)을 연속 운전시킴에 따라 소정의 진공 대역까지 진공 배기된다. 또한, 오일 확산 펌프(33)는, 오일을 가열하여 증기로 만들고, 이 증기를 좁은 간극으로부터 분사함에 따라 오일 분자가 기체 분자를 함께 갖고 가버림으로써 동작한다. 또, 콜드 트랩(34)은, 진공조(1) 안에 존재하는 수증기를 포집하는 것이다.Then, the oil is evacuated to a predetermined vacuum band by continuously operating the oil diffusion pump 33, the auxiliary vacuum pump (the root pump 31 and the oil rotation pump 32), and the cold trap 34. Further, the oil diffusion pump 33 operates by heating the oil to make it into steam, and by discharging the vapor from the narrow gap, the oil molecules together with the gas molecules. The cold trap 34 collects the water vapor present in the vacuum chamber 1.

진공조(1) 안이 소정의 진공도에 이르면, 기재(20)에 대한 성막 처리가 행해진다. 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)에서는, 기재(20)에 대한 반사막의 형성에는 진공증착법이 이용된다. 즉, 기재 홀더(23) 사이에 배치된 증착원(21)을 이용하여 기재 홀더(23)에 고정되어 있는 기재(20)에 반사막을 형성한다. 한편, 이때 기재(20)는, 진공조(1) 안에서 기재 홀더(23)의 축부를 중심으로 하여 자전하고 있고, 이에 따라 기재(20)의 표면에 균일하게 반사막이 형성된다.When the inside of the vacuum chamber 1 reaches a predetermined degree of vacuum, a film forming process is performed on the base material 20. [ In the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment, a vacuum evaporation method is used for forming the reflective film for the substrate 20. [ That is, the reflective film is formed on the substrate 20 fixed to the substrate holder 23 by using the evaporation source 21 disposed between the substrate holder 23. At this time, the substrate 20 rotates about the shaft portion of the substrate holder 23 in the vacuum chamber 1, and a reflective film is uniformly formed on the surface of the substrate 20.

반사막의 형성 후에, 이 반사막 위에 보호막이 형성된다. 이 보호막 형성공정에서는, 플라즈마 중합법에 의해 기재(20)의 표면에 수지막이 형성된다. 이때에도 기재(20)는, 진공조(1) 안에서 자전함으로써 기재(20)의 표면에 균일하게 보호막(수지막)이 형성된다.After the formation of the reflective film, a protective film is formed on the reflective film. In this protective film forming step, a resin film is formed on the surface of the substrate 20 by a plasma polymerization method. At this time, the substrate 20 is uniformly formed with a protective film (resin film) on the surface of the base material 20 by being rotated in the vacuum chamber 1.

이와 같이, 기재(20)에 대한 소정의 성막 처리가 종료되면, 메인 밸브(13), 포어라인 밸브(15), 및 게이트 밸브(17)가 폐쇄되고, 벤트 밸브(16)가 개방된다. 이에 따라, 진공조(1) 안의 압력을 대기압으로 되돌릴 수가 있다.Thus, when the predetermined film forming process for the substrate 20 is completed, the main valve 13, the foreline valve 15, and the gate valve 17 are closed and the vent valve 16 is opened. Thus, the pressure in the vacuum chamber 1 can be returned to the atmospheric pressure.

그 후에, 반입구 도어(11)를 개방하고, 처리 완료된 기재 유닛(2)을 진공조(1)에서 반출한 후, 별도로 준비하고 있던 기재 유닛(2)을 그 대신에 반입한다. 이와 같이 하여 반입구 도어(11)의 개폐에 따라 기재 유닛(2)의 교환을 행한다.Thereafter, the semi-entry door 11 is opened, the processed substrate unit 2 is taken out of the vacuum chamber 1, and then the separately prepared substrate unit 2 is carried into it. The base unit 2 is exchanged in accordance with the opening and closing of the inlet door 11 in this way.

(기재 유닛의 반입 및 반출 처리) (Carrying-in and carrying-out processing of the base unit)

다음으로, 도 1을 다시 참조하며 상술한 기재 유닛(2)에 대한 반입 및 반출 처리에 관한 구성에 대하여 설명한다.Next, referring to Fig. 1 again, a description will be given of the constitution relating to the carrying-in and carrying-out processing for the base unit 2 described above.

기재 유닛(2)에서는, 진공조(1) 쪽으로의 반송방향을 따라 2개의 기재 홀더(23)가 증착원(21)을 사이에 두고 각각 직렬로 배치되어 있다. 이 기재 유닛(2)은, 상술한 바와 같이 이동 테이블(25)에 설치된 제2 레일(52)에 재치되어 있고, 이 제2 레일(52)에 안내되어 진공조(1)에 대하여 넣고 꺼낼 수 있도록 구성되어 있다. 이에 따라, 작업자는, 진공조(1)에 기재 유닛(2)을 반입하기도 하고 진공조(1)에 격납되어 있는 기재 유닛(2)을 반출하기도 할 수가 있다.In the substrate unit 2, two substrate holders 23 are arranged in series along the conveying direction toward the vacuum chamber 1 with the evaporation source 21 interposed therebetween. The substrate unit 2 is placed on a second rail 52 provided on the moving table 25 and guided by the second rail 52 to be inserted into and removed from the vacuum tank 1 . Accordingly, the operator can carry the base unit 2 into the vacuum chamber 1 or take out the base unit 2 stored in the vacuum chamber 1. [0052]

또, 이동 테이블(25)은, 반송 베이스(6)에 설치된 제1 레일(51) 상에 재치되어 있다. 이 제1 레일(51)은 제2 레일(52)과는 수평면에 있어서 대략 수직이 되는 방향으로 연장되도록 설치되어 있다. 따라서 이동 테이블(25)은, 반송방향에 대하여 대략 수직이 되는 방향(교환 방향)으로 반송 베이스(6)의 면 상을 이동할 수가 있다.The moving table 25 is placed on the first rail 51 provided on the transport base 6. The first rail 51 is provided so as to extend in a direction substantially perpendicular to the second rail 52 in a horizontal plane. Therefore, the moving table 25 can move on the surface of the transport base 6 in a direction (exchange direction) that is substantially perpendicular to the transport direction.

여기서, 본 실시예에서는, 반송 베이스(6)의 면 상에 이동 테이블(25)이 설치되어 있고, 이동 테이블(25)에 2개의 기재 유닛(2)이 각각 재치되어 있다. 이 때문에, 2개의 기재 유닛(2) 중에서, 한 쪽을 반입구(10)에 대응하는 위치에 오도록 교환방향으로 슬라이드시킨다. 그리고 그 후에, 반송방향을 따라 진공조(1) 안으로 이 슬라이드된 기재 유닛(2)을 반입할 수가 있다.Here, in this embodiment, the moving table 25 is provided on the surface of the transport base 6, and the two base units 2 are placed on the moving table 25, respectively. For this reason, one of the two base units 2 is slid in the exchange direction so as to come to a position corresponding to the inlet 10. Thereafter, the slide-type base material unit 2 can be carried into the vacuum chamber 1 along the carrying direction.

아울러, 성막 처리 후의 기재 유닛(2)을 진공조(1)에서부터 이동 테이블(25) 상의 소정 위치까지 이동시키고, 그 후 성막 처리가 미처리된 기재 유닛(2)이 반입구(10)에 대응하는 위치가 되도록 반송 베이스(6)에서 교환방향으로 이동 테이블(25)을 슬라이드시킨다.The substrate unit 2 after the film forming process is moved from the vacuum chamber 1 to a predetermined position on the moving table 25 so that the substrate unit 2 that has not yet undergone the film forming process is moved to a position corresponding to the inlet 10 The moving table 25 is slid in the exchanging direction in the transport base 6.

이와 같이 구성함으로써 한 쪽의 기재 유닛(2)에 대하여 성막 처리를 한창 실시하고 있는 도중에, 다른 쪽의 성막 처리 후의 기재 유닛(2)으로부터 기재(20)를 떼어 내고, 성막 처리가 미처리된 새로운 기재(20)를 갈아 끼울 수가 있다.By doing so, the substrate 20 is removed from the substrate unit 2 after the other film forming process while the film forming process is being performed on one of the substrate units 2, and a new substrate (20).

여기서, 기재 유닛(2)에서는, 2개의 기재 홀더(23)가 진공조(1)에 대한 반송방향을 따라 증착원(21)을 사이에 두고 각각 배치되어 있다. 즉, 기재 홀더(23), 증착원(21), 기재 홀더(23)의 순서로, 반송방향으로 직렬로 배치되어 있다.Here, in the base unit 2, two substrate holders 23 are disposed along the conveying direction with respect to the vacuum chamber 1 with the evaporation source 21 therebetween. That is, the substrate holder 23, the evaporation source 21, and the substrate holder 23 are arranged in series in the transport direction in this order.

이 때문에, 기재 유닛(2)을 평면에서 보았을 때, 반송방향이 길이가 되고, 반송방향에 대하여 수직방향이 되는 기재 유닛(2)의 폭은 기재 홀더(23)가 가진 치수에 따른 것이 된다.Therefore, when the base unit 2 is viewed from the plane, the width of the base unit 2, which has a length in the carrying direction and is perpendicular to the carrying direction, depends on the dimensions of the base holder 23.

이 때문에, 반입구(10)의 개구 폭(개구 치수)은, 기재 유닛(2)의 기재 홀더(23)의 치수 폭에 따른 것으로 하면 좋고, 예를 들면, 상술한 특허문헌1, 특허문헌2와 같이, 진공조(1)에서 기재 유닛(2)과 대향하는 측의 면 전체를 개구시킬 필요가 없다.Therefore, the opening width (opening dimension) of the inlet 10 may be determined according to the dimensional width of the substrate holder 23 of the base unit 2, and for example, in Patent Documents 1 and 2 It is not necessary to open the entire surface of the side facing the base unit 2 in the vacuum chamber 1 as shown in Fig.

따라서, 이 반입구(10)를 닫는 반입구 도어(11)의 표면적도 진공조(1)에 있어서 기재 유닛(2)과 대향하는 측의 면 전체를 반입구(10)로서 개구시킨 구성과 비교하여 작게 할 수가 있다.Therefore, the surface area of the semi-entry door 11 that closes the semi-entry opening 10 is comparable to the configuration in which the entire surface of the side of the vacuum chamber 1 opposite to the base unit 2 is opened as the semi-entry opening 10 .

요컨대, 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)에서는, 반입구 도어(11)의 표면적을 작게 할 수 있어 반입구 도어(11)의 이면(진공조 내벽 측면)에 수분이 흡착하는 양을 감소시킬 수가 있다.In other words, in the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment, the surface area of the inlet door 11 can be reduced, and the amount of moisture adsorbed on the back surface (the inner surface of the vacuum vessel) of the inlet door 11 can be reduced You can.

또, 반입구 도어(11)의 이면이 외기에 접촉하는 시간은, 기재 유닛(2)의 반입 및 반출에 소요되는 시간뿐이다. 즉, 특허문헌 1, 특허문헌 2와 같이, 한 쪽의 도어에 구비된 기재(20)의 성막 처리를 실시하고 있는 동안에, 다른 쪽의 도어가 계속 외기에 노출되는 구성과 비교하여, 반입구 도어(11)가 외기에 노출되고 있는 시간은 작아진다. 이 때문에, 반입구 도어(11)에 수분이 흡착하는 양을 감소시킬 수가 있다.The time when the back surface of the entrance door 11 comes into contact with the outside air is only the time required for loading and unloading the base unit 2. In comparison with the configuration in which the other door is continuously exposed to the outside air while the film forming process of the base material 20 provided in one door is performed as in Patent Documents 1 and 2, The time during which the air conditioner 11 is exposed to the outside air becomes small. Therefore, the amount of moisture adsorbed to the inlet door 11 can be reduced.

또, 본 실시예에서는, 도 1에 도시된 바와 같이 기재 유닛(2)을 진공조(1)에 대하여 반입 및 반출할 때, 반입구 도어(11)가 반입구(10)에 대하여 좌측으로 이동하도록 구성되어 있다. 이 때문에, 진공조(1)의 좌측 측면에는, 이 반입구 도어(11)가 이동할 수 있도록, 그 반입구 도어(11)의 폭만큼 공간을 확보해두는 것이 필요하게 된다.In this embodiment, as shown in Fig. 1, when the base unit 2 is carried in and out of the vacuum tank 1, the inlet door 11 is moved to the left with respect to the inlet 10 . Therefore, it is necessary to secure a space in the left side surface of the vacuum chamber 1 by the width of the semi-entry door 11 so that the semi-entry door 11 can move.

하지만, 상술한 예를 들면, 특허문헌 1, 특허문헌 2와 같이, 진공조(1)에 있어서 기재 유닛(2)과 대향하는 측의 면 전체를 개구시키는 구성과 비교하여, 반입구 도어(11)의 이동을 위하여 미리 확보해야할 공간은 작아진다.However, as compared with the configuration in which the entire surface of the vacuum tank 1 opposite to the base unit 2 is opened as in the case of the above-described Patent Documents 1 and 2, The space to be secured in advance is reduced.

더욱 구체적으로는, 반입구 도어(11)의 폭이 진공조(1)의 폭의 약 절반이라고 하면, 동일한 설치면적에 있어서, 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)와, 이것과 같은 사이즈이며 특허문헌1, 특허문헌2와 같은 구성의 도어를 가진 진공 성막 장치를 설치하였을 경우, 전자의 쪽이 약 1.5배 수량의 장치를 설치할 수가 있다.More specifically, assuming that the width of the inlet door 11 is about half the width of the vacuum chamber 1, the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment and the same size And a vacuum film forming apparatus having a door as shown in Patent Document 1 and Patent Document 2 is provided, a device of about 1.5 times the number of electrons can be installed.

또한, 도 1에 도시된 바와 같이 진공조(1)의 반입구(10)가 진공조(1)의 정면의 좌 절반 부분에 형성되어 있는 구성의 경우, 반입구 도어(11)를 정면 우측으로 슬라이드시키도록 하면, 반입구 도어(11)의 이동을 위하여 미리 확보해야할 스페이스는 더욱 작아진다.1, when the inlet 10 of the vacuum chamber 1 is formed in the left half portion of the front surface of the vacuum chamber 1, the inlet door 11 is moved to the front right side The space to be secured in advance for the movement of the entrance door 11 is further reduced.

이와 같이 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)에서는, 반입구 도어(11)의 이동을 위하여 미리 확보해야할 공간을 감소시킬 수 있기 때문에, 그 설치 장소의 자유도를 높일 수가 있다. 또한, 특허문헌1, 특허문헌2에 개시한 진공 성막 장치보다 밀집하여 배치할 수가 있다.As described above, in the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment, since the space to be secured in advance for moving the inlet door 11 can be reduced, the degree of freedom of the installation site can be increased. In addition, the vacuum deposition apparatus disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2 can be arranged more compactly than the vacuum deposition apparatus.

또, 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)에서는, 반입구 도어(11)의 개폐 기구에 관한 구성, 및 기재 유닛(2)의 이동에 관한 구성이 상술한 바와 같이 매우 단순한 기구이기 때문에, 기재(20)의 성막 처리를 용이하게 자동화할 수도 있다.In the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment, since the structure related to the opening and closing mechanism of the inlet door 11 and the structure relating to the movement of the base unit 2 are very simple mechanisms as described above, The film forming process of the substrate 20 can be easily automated.

(변형예1)(Modified Example 1)

이하, 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)의 변형예에 대하여, 도 4 및 도 5를 참조하여 설명한다. 도 4 및 도 5는, 본 실시예의 변형예에 따른 기재 유닛(2)에서 기재(20)의 배치의 일 예를 모식적으로 나타내는 도면이다.Modifications of the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment will be described below with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 and 5 are views schematically showing an example of the arrangement of the base material 20 in the base unit 2 according to the modified example of this embodiment.

본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)가 구비하는 기재 유닛(2)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 2개의 기재 홀더(23)를 구비하고, 1개의 증착원(21)이 이러한 기재 홀더(23)들 사이에 배치되는 구성이었다. 하지만, 기재 홀더(23) 및 증착원(21)의 개수는 이에 한정되는 것이 아니다. 예를 들면, 도 4에 도시된 바와 같이, 3개의 기재 홀더(23)와 2개의 증착원(21)을 구비하고, 3개의 기재 홀더(23)가 일방향(반송방향)으로 배치되고 각각의 사이에 증착원(21)이 배치되는 구성이어도 좋다. 그리고 기재 홀더(23)에 의해 지지되고 있는 각 기재(20)는, 성막 처리 때에 기재 홀더(23)의 축을 중심으로 자전하도록 구성되어 있어도 좋다. 1, the base unit 2 included in the vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment is provided with two substrate holders 23, And is disposed between the holders 23. However, the number of the substrate holder 23 and the evaporation sources 21 is not limited thereto. For example, as shown in Fig. 4, three substrate holders 23 and two evaporation sources 21 are provided, and three substrate holders 23 are arranged in one direction (transfer direction) And the evaporation source 21 may be disposed on the evaporation source. Each substrate 20 supported by the substrate holder 23 may be configured to rotate around the axis of the substrate holder 23 during the film formation process.

또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 각 기재 홀더(23)에 대하여 동일 평면에 복수개의 기재(20)를 구비하도록 구성되어 있어도 좋다. 그리고 기재 홀더(23)마다 형성되는 이 기재(23) 그룹끼리의 사이, 즉 다른 2개의 기재 홀더(23) 사이에는 증착원(21)이 각각 설치되도록 구성되어 있어도 좋다.Further, as shown in Fig. 5, a plurality of substrates 20 may be provided on the same plane with respect to each substrate holder 23. Fig. The evaporation source 21 may be provided between the groups of the substrate 23 formed between the substrate holders 23, that is, between the other two substrate holders 23.

더욱 구체적으로는, 각 기재 홀더(23)에서, 그 중심축을 중심으로 하여 동일 원주 상이 되는 위치에, 중심축과 동일 방향으로 연장되는 복수의 자전축(도 5의 예에서는 4개의 자전축)이 설치되어 있다. 그리고 이 자전축에 기재(20)의 장착 지그(미도시)가 각각 설치되어 있고, 이 지그를 통하여 각 자전축에 기재(20)가 장착되는 구성이다. 각 기재(20)는, 성막 처리 때에는 각 기재 홀더(23)의 중심축을 회전축으로 하여 공전함과 아울러 자전축을 중심으로 회전하도록 구성되어 있다.More specifically, in each substrate holder 23, a plurality of rotation shafts (four rotation shafts in the example of Fig. 5) extending in the same direction as the central axis are provided at positions which are on the same circumference with respect to the central axis thereof have. A mounting jig (not shown) of the substrate 20 is provided on the rotation axis, and the substrate 20 is mounted on each rotation axis through the jig. Each substrate 20 is structured so as to revolve around the center axis of each substrate holder 23 as a rotation axis and to rotate about the rotation axis in the film forming process.

이와 같이, 반송방향으로 직렬로 기재 홀더(23)를 나열한 구성으로 한 쪽이, 기재 유닛(2)의 폭(혹은, 반송방향에 대하여 수직으로 잘라낸 단면)을 더욱 작게 할 수가 있고, 결과적으로 반입구(10)의 개구 치수, 및 이 반입구(10)를 개폐하는 반입구 도어(11)의 치수를 작게 할 수 있어 반입구 도어(11)에 흡착하는 수분량을 감소시키는 점에서는 바람직하다.As described above, the width of the base unit 2 (or the cross-section cut perpendicularly to the carrying direction) can be further reduced by arranging the substrate holders 23 in series in the carrying direction, The size of the opening of the inlet 10 and the size of the inlet door 11 for opening and closing the inlet 10 can be made small and the amount of water adsorbed to the inlet door 11 is reduced.

(변형예2)(Modified example 2)

또, 본 실시예에 따른 진공 성막 장치(100)는, 반송 베이스(6) 상에 이동 테이블(25)이 설치되고, 교환방향으로 좌우로 이동함으로써 한 쪽의 기재 유닛(2)이 성막 처리를 행하고 있는 동안에 다른 쪽의 기재 유닛(2)에 있어서 기재(20)의 착탈이 행해지는 구성이었다.The vacuum film forming apparatus 100 according to the present embodiment is characterized in that the moving table 25 is provided on the transport base 6 and moved in the exchanging direction to the left and right so that one substrate unit 2 performs film forming processing And the base material 20 is attached to and detached from the other base material unit 2 while it is being processed.

하지만, 이 구성에 한정되는 것이 아니고, 반송 베이스(6)가 일방향으로 이동하는 벨트 컨베이어이고, 기재(20)가 장착된 기재 유닛(2)을 재치한 이동 테이블(25)을 이 벨트 컨베이어 상에 소정 간격으로 나열하여, 차례로 성막 처리를 행하는 구성이어도 좋다.However, the present invention is not limited to this configuration, and the moving table 25 on which the substrate unit 2 on which the substrate 20 is mounted may be mounted on the belt conveyor, Or may be arranged at predetermined intervals to sequentially perform the film forming process.

즉, 반송 베이스(6)에 의해 기재 유닛(2)을 재치한 이동 테이블(25)이 반입구(10)의 앞으로 옮겨지면, 반입구 도어(11)가 개방되고, 기재 유닛(2)이 진공조(1) 안으로 반입된다. 그리고 기재 유닛(2)에 대하여 성막 처리가 실시되고, 진공조(1)로부터 반출되면, 새로운 기재 유닛(2)이 반입구(10)의 앞으로 옮겨짐과 아울러 성막 처리 후의 기재 유닛(2)은, 반송 베이스(6)의 이동처를 향하여 이동한다.That is, when the moving table 25 on which the base unit 2 is placed by the transporting base 6 is moved to the front of the inlet 10, the inlet door 11 is opened and the base unit 2 is evacuated It is brought into Joe (1). When the film forming process is performed on the base unit 2 and the film is transported out of the vacuum chamber 1, the new base unit 2 is moved to the front of the inlet 10 and the base unit 2, And moves toward the moving destination of the transport base 6.

이와 같이 기재 유닛(2)을 일정 방향으로 이동하는 반송 베이스 상에 소정 간격으로 나열하고, 차례로 성막 처리를 실시해가는 구성이어도 좋다.In this way, the substrate unit 2 may be arranged at predetermined intervals on a transport base that moves in a certain direction, and the film formation process may be sequentially performed.

상기 설명으로부터 당업자에게는, 본 발명의 많은 개량이나 다른 실시예가 명확하다. 따라서 상기 설명은, 예시로서만 해석되어야 하고, 본 발명을 실시하는 바람직한 태양을 당업자에게 교시할 목적으로 제공된 것이다. 본 발명의 정신을 벗어나지 않고 그 구조 및/또는 기능의 상세한 것을 실질적으로 변경할 수가 있다.Many modifications and other embodiments of the invention will be apparent to those skilled in the art from the foregoing description. Accordingly, the above description is to be construed as illustrative only, and is provided for the purpose of teaching those skilled in the art the preferred embodiments of the present invention. The details of the structure and / or the function thereof can be substantially changed without departing from the spirit of the present invention.

본 발명의 진공 성막 장치는, 자동차, 가전 부품 장식, 광학 용도의 수지, 및 글라스(glass) 부품 등에 대하여 금속막, 보호막 등을 성막하는 것으로서 유용하다.
The vacuum film forming apparatus of the present invention is useful for forming a metal film, a protective film, or the like on automobile, decorative parts for household appliances, resins for optical use, and glass parts.

1: 진공조
2: 기재 유닛(반송 유닛)
4: 배기 유닛
5: 공통 베이스
6; 반송 베이스
10: 반입구(개구부)
11: 반입구 도어(도어부)
12: 플라즈마 방전 전극
13: 메인 밸브
14: 러핑 밸브
15: 포어라인 밸브
16: 벤트 밸브
17: 게이트 밸브
20: 기재
21: 증착원
23: 기재 홀더(지지부)
24: 지지 베이스
25: 이동 테이블
27: 필라멘트
28: 증착용 저항 가열 전극
31: 루트 펌프
32: 오일 회전 펌프
33: 오일 확산 펌프
34: 콜드 트랩
51: 제1 레일
52: 제2 레일
53: 진공조 레일
100: 진공 성막 장치1: Vacuum tank
2: substrate unit (transport unit)
4: Exhaust unit
5: Common base
6; Carrier base
10: Inlet opening (opening)
11: Entrance door (door part)
12: Plasma discharge electrode
13: Main valve
14: Luffing valve
15: Foreline valve
16: Bent valve
17: Gate valve
20: substrate
21: evaporation source
23: substrate holder (supporting portion)
24: Support base
25: Moving table
27: filament
28: Evaporation resistance heating electrode
31: Root pump
32: Oil rotation pump
33: Oil diffusion pump
34: Cold Trap
51: first rail
52: second rail
53: Vacuum supply rail
100: Vacuum deposition apparatus

Claims

진공 상태에서 복수의 기재를 성막하는 진공 성막 장치로서,
상기 기재를 지지하기 위한 복수의 지지부와,
성막 재료를 가열 증발시켜 상기 지지부에 지지된 기재에 막을 형성하기 위한 1개 이상의 증착원과,
상기 복수의 지지부 및 상기 1개 이상의 증착원을 구비하며, 상기 지지부에 의해 지지된 기재를 반송하는 반송 유닛과,
상기 반송 유닛을 반입 및 반출하기 위한 개구부, 및 그 개구부를 개폐하기 위한 도어부를 갖는, 진공 상태를 형성하기 위한 진공조를 구비하고,
상기 반송 유닛은 상기 복수의 지지부와 상기 증착원을, 상기 진공조에 대한 반송방향으로 직렬로 배치하고, 또한 상기 지지부들 사이에 상기 증착원이 배치되도록 지지하고 있으며,
상기 개구부가 상기 반송 유닛의 치수에 따라 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 진공 성막 장치.
A vacuum film forming apparatus for depositing a plurality of substrates in a vacuum state,
A plurality of support portions for supporting the substrate,
At least one evaporation source for heating and evaporating the film forming material to form a film on the substrate supported by the supporting portion,
A conveying unit that conveys the substrate supported by the supporting portion, the conveying unit including the plurality of supporting portions and the at least one evaporation source;
And a vacuum tank for forming a vacuum state, the vacuum tank having an opening for loading and unloading the transfer unit, and a door for opening and closing the opening,
Wherein the transfer unit supports the plurality of supports and the evaporation sources in series in the conveying direction with respect to the vacuum chamber and supports the evaporation sources between the supports,
And the opening is formed in accordance with the dimensions of the transfer unit.

제1항에 있어서,
상기 지지부는 기재를 회전 가능하게 지지하는 것을 특징으로 하는 진공 성막 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the supporting portion rotatably supports the base material.

제2항에 있어서,
상기 반송 유닛을 재치하고, 수평면에서 반송방향과는 다른 방향으로 상기 반송 유닛을 이동 가능하게 하는 이동 테이블을 구비하는 것을 특징으로 하는 진공 성막 장치.
3. The method of claim 2,
And a moving table for placing the transport unit and moving the transport unit in a direction different from the transport direction on a horizontal plane.

제3항에 있어서,
상기 도어부는 상기 개구부에 대하여 좌우로 이동하여 상기 개구부를 개폐하는 것을 특징으로 하는 진공 성막 장치.
The method of claim 3,
Wherein the door part moves left and right with respect to the opening part to open / close the opening part.

제3항에 있어서,
상기 도어부는, 한 쪽의 측부가 상기 진공조와 힌지에 의해 접합되어 있고, 그 힌지를 축으로 호를 그리며 상기 개구부를 개폐하는 것을 특징으로 하는 진공 성막 장치.
The method of claim 3,
Wherein one side of the door portion is joined to the vacuum chamber by a hinge and opens and closes the opening by drawing a circle around the hinge.

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