KR101935835B1 - Micro contact scrubber and manufacturing device for ammonium hydroxide - Google Patents

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Abstract

본 발명은 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치에 관한 것으로, 반응챔버; 반응 스크러버 내부에서 하방으로 초순수를 미립자화하여 분무하는 초순수 분무장치; 반응 스크러버 내부 하단에 설치되어 상방으로 고순도 암모니아 가스를 배출하는 암모니아 가스 배출부; 상기 초순수 분무장치 및 암모니아 가스 배출부 사이에서 암모니아 가스와 초순수의 향류접촉에 의한 반응을 촉진하기 위한 충진 트레이; 상기 충진 트레이의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 부착되고, 적어도 하나의 매설홈이 형성된 냉각판; 및 상기 냉각판의 매설홈에 매설되는 히트파이프로 구성된 냉각장치를 포함한다.The present invention relates to a micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide and an apparatus for producing ammonium hydroxide using the same. An ultra-pure water spraying device for atomizing ultra-pure water downward from the inside of the reaction scrubber to spray it; An ammonia gas discharge unit installed at the lower end of the reaction scrubber to discharge high purity ammonia gas upward; A filling tray for promoting a reaction between the ultra-pure water spraying device and the ammonia gas discharging part by countercurrent contact of ammonia gas and ultrapure water; A cooling plate attached to at least one of an upper surface and a lower surface of the filling tray and having at least one buried groove formed therein; And a cooling device composed of a heat pipe embedded in a buried groove of the cooling plate.

Description

수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치{MICRO CONTACT SCRUBBER AND MANUFACTURING DEVICE FOR AMMONIUM HYDROXIDE}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a microcontact scrubber for producing ammonium hydroxide and an apparatus for producing ammonium hydroxide using the microcontact scrubber,

본 발명은 스크러버 및 암모니아수 제조장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 급격한 반응열을 제어하기 위하여 물과 암모니아가 액-액 상태로 국소 접촉하지 않고 암모니아 가스와 가스상의 물입자를 연속으로 접촉하여 반응시 발열을 억제하는 효율적인 냉각 방식을 채택하는 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a scrubber and an ammonia water producing apparatus. More particularly, the present invention relates to a scrubber and an ammonia water producing apparatus. More particularly, the present invention relates to a scrubber and an ammonia water producing apparatus, And an apparatus for producing ammonium hydroxide using the scrubber.

현재의 주된 수산화암모늄 제조는 일반적인 정수과정을 통하여 생성된 정수된 물을 반응기에 채우고, 다시 고압 용기에 저장된 액상의 암모니아를 레귤레이터(regulator)와 디핑 파이프(dipping pipe)를 통해 반응기에 주입하는 액-액 국소접촉 반응시키는 방식으로 제조 생산되고 있다.Currently, the main ammonium hydroxide production is performed by filling the reactor with purified water produced through a general purification process and then injecting the liquid ammonia stored in the high-pressure vessel into the reactor through a regulator and a dipping pipe. Which is produced by a local contact reaction.

고압의 액상 암모니아는 주입과정에서 상변화에 따른 급격한 온도 저하로 노즐부에 빙결현상이 발생되므로 가열기가 추가 설치되고 반응기내에서 암모니아와 물이 접촉하여 반응하게 되는데 이 때, 발열반응에 의하여 발생되는 열을 냉각시키는 냉각장치도 추가 설치하여 운영된다.Since the high-pressure liquid ammonia causes a freezing phenomenon in the nozzle part due to a rapid temperature drop due to the phase change during the injection process, a heater is additionally installed, and ammonia and water come into contact with each other in the reactor to react with each other. A cooling device that cools the heat is also installed and operated.

이러한 기존의 수산화암모늄 제조 공정은 암모니아와 물이 직접 국소 반응하는 방식으로 반응물의 반응효율이 떨어져 양산의 어려움이 있고 암모니아는 물과 직접 접촉시 급격한 발열반응으로 인해 이를 냉각시키기 위한 추가 에너지 비용이 발생하며, 암모니아 공급시 노즐부에 빙결현상이 발생하여 가열(heating)이 필요하고, 암모니아와 물의 급격한 반응으로 인한 역진공 현상으로 의하여 역류가 발생하여 암모니아 저장탱크를 오염시키고, 또 반응탱크의 순간적인 진공현상 발생으로 반응기 손상 등의 안전상의 문제가 발생한다.In the conventional ammonium hydroxide manufacturing process, ammonia and water directly react with each other in a way that the reaction efficiency of the reactants is lowered and mass production is difficult. Ammonia has an additional energy cost to cool it due to a rapid exothermic reaction in direct contact with water In the case of supplying ammonia, freezing occurs in the nozzle part and heating is required. Reverse flow occurs due to a reverse reaction due to abrupt reaction between ammonia and water, thereby contaminating the ammonia storage tank. Also, A safety problem such as a damage of the reactor occurs due to the occurrence of a vacuum phenomenon.

또한, 기존의 수산화 암모늄 제조 방식은 연속 생산이 아닌 회분식(batch type)방식으로써 생산효율이 높지 않다.In addition, the conventional ammonium hydroxide manufacturing method is not a continuous production method but a batch type method, and the production efficiency is not high.

이와 같이, 상술한 종래의 수산화암모늄 제조장치 및 제조방법의 문제점을 살펴보면 다음과 같다.As described above, the problems of the above-described conventional ammonium hydroxide manufacturing apparatus and manufacturing method are as follows.

1) 암모니아와 물의 직접 반응하는 방식으로 반응물의 반응효율이 떨어져 양산의 어려움이 있다.1) Direct reaction of ammonia with water causes reaction efficiency of reactant to be low and mass production is difficult.

2) 암모니아는 반응성이 뛰어난 기체로 물과 직접 접촉시 급격한 발열반응으로 인해 이를 냉각시키기 위한 추가 에너지 비용이 발생하여 생산단가 상승요인으로 작용한다.2) Ammonia is a highly reactive gas, and when it comes into direct contact with water, there is an extra heat cost due to a rapid exothermic reaction, which causes a rise in production cost.

3) 암모니아 기체 공급시 상변화(액->기)에 따른 급격한 온도 저하로 노즐부 빙결 현상에 대한 가열(heating)이 필요하며 이에 따른 생산 단가 상승 요인이 발생한다.3) When the ammonia gas is supplied, it is necessary to heat the freezing phenomenon due to a sudden temperature drop due to the phase change (liquid phase).

4) 암모니아와 물의 급격한 반응으로 역진공 현상으로 인해 역류가 발생하여 암모니아 저장 탱크를 오염시키고, 반응탱크의 급격한 진공현상 발생으로 인해 반응탱크 손상으로 인한 위험 우려 등의 안전상의 문제점이 발생한다.4) Due to the rapid reaction between ammonia and water, backflow occurs due to back-vacuum phenomena, which causes contamination of the ammonia storage tank and safety problems such as danger of damage due to the damage of the reaction tank due to occurrence of a rapid vacuum phenomenon in the reaction tank occur.

5) 종래의 암모니아수 제조장치 및 제조방법은 담금(dipping)을 통해 공급되는 암모니아와 물이 국소반응을 일으키고, 이때 급격한 폭발반응으로 인해 반응열을 제어하기 힘들다는 단점이 있고, 이를 해결하기 위해 종래에는 온도제어를 위해 내부에 냉각수(혹은 냉매)를 흘려줄 수 있는 냉각 코일이 배치되어 온도 제어를 수행하고, 반응탱크를 지나간 냉각수(혹은 냉매)를 다시 냉각시켜 공급시키기 때문에 별도의 냉각장치와 함께 이를 구동하기 위한 동력비용이 발생한다는 문제점이 있다.5) In the conventional ammonia water producing apparatus and manufacturing method, there is a disadvantage that ammonia and water supplied through dipping cause a local reaction and it is difficult to control the heat of reaction due to a rapid explosion reaction. In order to solve this problem, In order to control the temperature, a cooling coil capable of flowing cooling water (or a refrigerant) is disposed to perform temperature control, and cooling water (or a refrigerant) passing through the reaction tank is cooled again. There is a problem that a power cost for driving occurs.

6) 또한, 기존 제조 방식은 연속 생산이 아닌 회분식 방식으로써 생산 효율이 높지 않다.6) In addition, the conventional manufacturing method is not a continuous production method, but a batch production method, and the production efficiency is not high.

대한민국 공개특허번호 제10-1996-0013992호(공개일자: 1999년05월22일)Korean Patent Publication No. 10-1996-0013992 (published on May 22, 1999)

본 발명에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치는 다음과 같은 해결과제를 가진다.The microcontact scrubber for producing ammonium hydroxide according to the present invention and the apparatus for producing ammonium hydroxide using the microcontact scrubber have the following problems.

첫째, 본 발명은 급격한 반응열을 제어하기 위하여 물과 암모니아가 직접 접촉하지 않고 반응시 발열을 억제하는 효율적인 냉각 방식을 채택하는 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치를 제공하고자 한다.First, the present invention is to provide a micro contact scrubber employing an efficient cooling method that suppresses heat generation during reaction without water and ammonia in direct contact to control rapid reaction heat, and an apparatus for producing ammonium hydroxide using the same.

둘째, 본 발명은 물과 암모니아의 반응 프로세스에 의해 발생하는 반응열을 최적화하여 별도의 동력 없이 반응열 제어할 수 있는 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치를 제공하고자 한다.A second aspect of the present invention is to provide a micro contact scrubber capable of controlling the reaction heat without any additional power by optimizing the reaction heat generated by the reaction process of water and ammonia, and an apparatus for producing ammonium hydroxide using the micro contact scrubber.

셋째, 본 발명은 생산효율이 낮은 회분식(batch type)의 반응 방식이 아닌 연속식 반응 방식으로써 생산효율이 증대된 수산화암모늄 제조장치를 제공하고자 한다.Third, the present invention is to provide an apparatus for producing ammonium hydroxide having an increased production efficiency as a continuous reaction system, not a batch type reaction system having a low production efficiency.

본 발명의 해결과제는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an apparatus and method for controlling the same.

상술한 해결과제를 해결히기 위한 본 발명의 제1 특징은, 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버로, 반응챔버; 반응 스크러버 내부에서 하방으로 초순수를 미립자화하여 분무하는 초순수 분무장치; 반응 스크러버 내부 하단에 설치되어 상방으로 고순도 암모니아 가스를 배출하는 암모니아 가스 배출부; 상기 초순수 분무장치 및 암모니아 가스 배출부 사이에서 암모니아 가스와 초순수의 향류접촉에 의한 반응을 촉진하기 위한 충진 트레이; 상기 충진 트레이의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 부착되고, 적어도 하나의 매설홈이 형성된 냉각판; 및 상기 냉각판의 매설홈에 매설되는 히트파이프로 구성된 냉각장치를 포함한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide, comprising: a reaction chamber; An ultra-pure water spraying device for atomizing ultra-pure water downward from the inside of the reaction scrubber to spray it; An ammonia gas discharge unit installed at the lower end of the reaction scrubber to discharge high purity ammonia gas upward; A filling tray for promoting a reaction between the ultra-pure water spraying device and the ammonia gas discharging part by countercurrent contact of ammonia gas and ultrapure water; A cooling plate attached to at least one of an upper surface and a lower surface of the filling tray and having at least one buried groove formed therein; And a cooling device composed of a heat pipe embedded in a buried groove of the cooling plate.

여기서, 상기 초순수 분무장치가 반응 스크러버 내부로 장착되는 적어도 2개의 초순수를 분무하는 분무노즐이 상하로 이격되어 설치되고, 히트파이프가 매설된 냉각판 및 충진 트레이가 상기 각 분무노즐 하방에 이격되어 설치되고, 상기 냉각판은 다수개의 타공이 형성된 것이 바람직하고, 상기 히트파이프에 사용되는 냉매는, 수산화암모늄을 포함하는 것이 바람직하다.The ultra-pure water spray device is provided with a spray nozzle for spraying at least two ultrapure water to be installed in the reaction scrubber. The cooling plate and the filling tray in which the heat pipe is embedded are spaced apart from the spray nozzles And the cooling plate is preferably formed with a plurality of pores, and the refrigerant used in the heat pipe preferably includes ammonium hydroxide.

그리고, 본 발명의 제2 특징은, 수산화암모늄 제조장치에 관한 것으로, 여과된 물의 잔류 이온을 제거하여 초순수를 제조하는 초순수 생성장치; 암모니아 원료를 저장하는 암모니아 저장탱크; 및 반응챔버와, 반응 스크러버 내부에서 하방으로 초순수를 미립자화하여 분무하는 초순수 분무장치와, 반응 스크러버 내부 하단에 설치되어 상방으로 고순도 암모니아 가스를 배출하는 암모니아 가스 배출부와, 상기 초순수 분무장치 및 암모니아 가스 배출부 사이에서 암모니아 가스와 초순수의 향류접촉에 의한 반응을 촉진하기 위한 충진 트레이와, 상기 충진 트레이의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 부착되고, 적어도 하나의 매설홈이 형성된 냉각판과, 상기 냉각판의 매설홈에 매설되는 히트파이프로 구성된 냉각장치를 포함한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided an apparatus for producing ammonium hydroxide, comprising: an ultra pure water producing device for producing ultrapure water by removing residual ions of filtered water; An ammonia storage tank for storing the ammonia raw material; And a reaction chamber, an ultra pure water spraying device for atomizing ultrapure water downward in the reaction scrubber and spraying the same, an ammonia gas discharge part installed at the lower end of the reaction scrubber for discharging high purity ammonia gas upwardly, A cooling plate attached to at least one of an upper surface and a lower surface of the filling tray and having at least one buried groove formed therein; And a cooling device composed of a heat pipe embedded in the buried groove of the plate.

여기서, 상기 초순수 생성장치는, 물을 저장하는 물 저장탱크; 물 저장탱크에서 이동시켜 여과하는 막분리공정장치; 및 메탈 파이버(metal fiber)가 구비되어 여과된 물속 잔류 이온을 제거하는 전기투석 장치를 포함한다.Here, the ultrapure water generating apparatus includes: a water storage tank for storing water; A membrane separation process device for filtering and moving in a water storage tank; And an electrodialysis device equipped with a metal fiber to remove the filtered residual water in the water.

여기서, 상기 초순수 분무장치는, 반응 스크러버 내부로 장착되는 적어도 2개의 초순수를 분무하는 분무노즐이 상하로 이격되어 설치되고, 히트파이프가 매설된 충진 트레이가 상기 각 분무노즐 하방에 이격되어 설치되는 것이 바람직하다.Here, the ultra-pure water spray device may include a spray nozzle for spraying at least two ultrapure water to be installed in the reaction scrubber, the spray nozzle being spaced apart from the spray nozzle, desirable.

본 발명에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치는 다음과 같은 효과를 가진다.The microcontact scrubber for producing ammonium hydroxide according to the present invention and the apparatus for producing ammonium hydroxide using the microcontact scrubber have the following effects.

첫째, 암모니아 가스 및 물의 반응 프로세스에 의해 발생하는 반응열을 최적으로 제거하기 위하여 제작된 히트파이프를 이용하여 별도의 동력 없이 반응열 제어가 가능한 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치를 제공한다.First, there is provided a micro contact scrubber capable of controlling the reaction heat without any additional power by using a heat pipe manufactured to optimally remove the reaction heat generated by the reaction process of ammonia gas and water, and an apparatus for producing ammonium hydroxide using the same.

둘째, 본 발명은 암모니아 가스와 가스상의 물입자가 확산하여 순차적으로 반응을 함으로써 접촉효율을 극대화하여 고순도의 반응 효율 증대 및 반응 중 발생하는 급격한 발열반응을 분산 억제함으로써 반응 효율 및 수율을 향상시킬 수 있는 마이크로 접촉 스크러버 및 이를 이용한 수산화암모늄 제조장치를 제공한다.Second, the present invention maximizes the contact efficiency by sequentially diffusing ammonia gas and gaseous water particles, thereby increasing the reaction efficiency of the high purity and dispersing the rapid exothermic reaction occurring during the reaction, thereby improving the reaction efficiency and yield And an apparatus for producing ammonium hydroxide using the scrubber.

셋째, 본 발명은 암모니아 가스와 가스상의 물입자의 반응으로 물과 암모니아의 액-액 국소 접촉 반응에 비해 상대적으로 발열이 적고, 암모니아 기체 공급시 상변화에 의한 냉각 잠열에너지를 반응기 내부에서 활용이 가능하므로 기상 접촉시에 발생되는 열을 자체 냉각함으로써 비용절감 및 에너지 효율을 높일 수 있다.Thirdly, the present invention is based on the fact that the reaction of ammonia gas with gaseous water particles generates less heat than the liquid-liquid local contact reaction between water and ammonia, and the cooling latent heat energy due to the phase change during ammonia gas supply is utilized in the reactor It is possible to reduce costs and increase energy efficiency by self-cooling the heat generated during the gas contact.

넷째, 본 발명은 반응 프로세스의 개선으로 기존 방법에서 우려되는 역류에 대한 문제(암모니아 저장탱크의 과도반응에 의한 위험 및 오염방지와 감압에 의한 반응탱크 손상문제)를 최소화할 수 있고, 반응 속도 제어가 용이하며 고순도 수산화암모늄 농도 조절이 용이하므로 다양한 농도의 제품 생산이 가능한 수산화암모늄 제조장치를 제공할 수 있다.Fourth, the present invention can minimize the problem of reverse flow (problem of damage and reaction tank damage due to prevention of danger and pollution due to transient reaction of ammonia storage tank and decompression) in the existing method by improvement of reaction process, And it is easy to control the concentration of ammonium hydroxide at high purity. Thus, it is possible to provide an apparatus for producing ammonium hydroxide capable of producing various concentrations of products.

다섯째, 본 발명은 생산효율이 낮은 회분식이 아닌 연속식 생산 방식으로써 수산화암모늄의 생산 효율을 높일 수 있다.Fifth, the present invention can increase the production efficiency of ammonium hydroxide by a continuous production method which is not a batch-type but low production efficiency.

본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other solutions not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 반응 스크러버의 구성을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버에 사용되는 냉각장치의 설치 모식도이다
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버에 사용되는 냉각판 및 충진 트레이의 결합 모식도이다.
도 4는 본 발명의 또다른 실시예로서, 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버에 사용되는 히트파이프의 설치 모식도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예로서, 히트파이프가 충진 트레이 및 냉각판의 결합과 냉각판에 히트파이프가 매설된 구조의 모식도이다.1 is a view showing the construction of a reaction scrubber for producing ammonium hydroxide according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic view showing an installation of a cooling device used in a micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide according to an embodiment of the present invention
3 is a schematic view showing the connection of the cooling plate and the filling tray used in the micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide according to the embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view illustrating a heat pipe used in a micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide according to another embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 5 is a schematic view of a structure in which a heat pipe is embedded in a cooling plate and a combination of a fill tray and a cooling plate, according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 추가적인 목적들, 특징들 및 장점들은 다음의 상세한 설명 및 첨부도면으로부터 보다 명료하게 이해될 수 있다. Further objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description and the accompanying drawings.

본 발명의 상세한 설명에 앞서, 본 발명은 다양한 변경을 도모할 수 있고, 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 아래에서 설명되고 도면에 도시된 예시들은 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Before describing the present invention in detail, it is to be understood that the present invention is capable of various modifications and various embodiments, and the examples described below and illustrated in the drawings are intended to limit the invention to specific embodiments It is to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도는 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having" and the like refer to the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

또한, 명세서에 기재된 "...부", "...유닛", "...모듈" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미할 수 있다.Further, terms such as " part, "" unit," " module, "and the like described in the specification may mean a unit for processing at least one function or operation.

또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.In the following description of the present invention with reference to the accompanying drawings, the same components are denoted by the same reference numerals regardless of the reference numerals, and redundant explanations thereof will be omitted. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

이하에서 본 발명의 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 반응 스크러버의 구성을 나타낸 도면이다.1 is a view showing the construction of a reaction scrubber for producing ammonium hydroxide according to an embodiment of the present invention.

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버(Micro Contact Scrubber)는, 반응챔버(100); 반응 스크러버 내부에서 하방으로 초순수를 미립자화하여 분무하는 초순수 분무장치(200); 반응 스크러버 내부 하단에 설치되어 상방으로 고순도 암모니아 가스를 배출하는 암모니아 가스 배출부(300); 및 상기 초순수 분무장치(200) 및 암모니아 가스 배출부(300) 사이에서 암모니아 가스와 초순수의 향류접촉에 의한 반응을 촉진하기 위한 충진 트레이(450); 및 상기 충진 트레이(450)에 매설되는 히트파이프(500)로 구성된 냉각장치를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, a micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide according to an embodiment of the present invention includes a reaction chamber 100; An ultrapure water spraying device (200) for atomizing and spraying ultrapure water downward from inside the reaction scrubber; An ammonia gas discharge unit 300 installed at the lower end of the reaction scrubber to discharge high purity ammonia gas upward; And a filling tray 450 for promoting a reaction between the ultra-pure water spraying device 200 and the ammonia gas discharging part 300 by countercurrent contact of ammonia gas and ultrapure water. And a cooling device composed of a heat pipe 500 embedded in the filling tray 450.

이처럼 본 발명은 종래 기술과 달리, 급격한 반응열을 제어하기 위하여 물과 암모니아가스가 직접 접촉하지 않는 방식으로, 물을 증기화한 초순수와 암모니아 가스를 확산 접촉시키는 향류접촉 방식과 히트파이프(500)를 이용하여 급격한 발열반응 억제하여, 별도의 동력을 통한 냉각장치의 필요없는 효율적이고 최적화된 수산화암모늄(암모니아수) 제조장치를 제공한다.As described above, the present invention differs from the prior art in that, in order to control the rapid reaction heat, in order to control the rapid reaction heat, a countercurrent contact method in which water and an ammonia gas are diffused and contacted with each other, (Ammonia water) production apparatus which is capable of suppressing a rapid exothermic reaction by using a separate power source without using a cooling device.

여기서, 반응챔버(100)는 수산화암모늄을 제조하기 위한 반응챔버(100)로서, 마이크로 접촉 스크러빙(micro contact scrubbing) 기술을 이용하여 정수된 물로서 마이크로화한 초순수와 마이크로화하고 암모니아(NH3) 가스를 접촉시켜 반응시키기 위한 수직형(vertical) 챔버인 것이 바람직하다.Here, the reaction chamber 100 is a reaction chamber 100 for producing ammonium hydroxide. The reaction chamber 100 is micro-contacted with ultrapure water microsized as purified water using a micro contact scrubbing technique, and ammonia (NH 3) gas The reaction chamber is preferably a vertical chamber for contacting and reacting.

이와 같이, 수직형 챔버(vertical chamber)를 사용하는 것은 상단에 위치한 초순수 분무장치(200)가 중력에 의해 하방으로 분사되고, 하단에 위치한 암모니아 가스 배출부(300)를 통해 암모니아 가스가 상방으로 상승하면서 서로 접촉하여 반응시키기 위한 구조적 이점이 있기 때문이다.In the vertical chamber, the ultra-pure water spray device 200 is sprayed downward by gravity and the ammonia gas is raised upward through the ammonia gas discharge part 300 located at the lower end. This is because there is a structural advantage for contacting and reacting with each other.

그리고, 초순수 분무장치(200)는, 외부의 물탱크에서 저장된 물을 통해 잔류 이온이 제거되도록 필터링된 초순수를 반응챔버(100) 상단에서 하방으로 미립자화하여 마이크로 단위의 기체상과 동일하게 마이크로 무화장치이다.The ultrapure water spraying device 200 forms ultrafiltration filtered ultrapure water so as to remove residual ions through water stored in an external water tank from the upper end of the reaction chamber 100 downward to form a microparticle, Device.

이처럼 본 발명의 실시예에서 사용되는 잔류 이온이 제거된 초순수를 미립자화하여 분사하는 초순수 분무장치(200)를 사용하는 것은, 하방에서 상승하는 암모니아 기체와 향류접촉시키고 이러한 향류접촉을 통해 종래의 담금(dipping) 방식에 의해 급격한 반응열 상승을 최소화하여 효율적인 수산화암모늄을 제조하기 위함이다. 여기서, 향류(counter flow)는 2개의 유체 사이에 열이 이동이나 물질의 이동이 있는 경우, 2개의 유체가 흐르는 방향이 반대인 경우를 말한다.The use of the ultra-pure water spraying device 200, which is used in the embodiment of the present invention to atomize ultrapure water from which residual ions have been removed into fine particles, is used for countercurrent contact with ammonia gas rising from below, the dripping method minimizes rapid reaction heat rise to produce efficient ammonium hydroxide. Here, counter flow refers to a case in which the direction of flow of two fluids is opposite when there is heat transfer or material transfer between two fluids.

초순수 분무장치(200)는 적어도 2개 이상 설치하는 것이 바람직하고, 수직형 반응챔버(100) 내부에 일정한 간격으로 이격되어 다수개가 설치되는 것이 수산화암모늄 제조에 보다 효율적이다.At least two ultra-pure water sprayers 200 are preferably installed, and it is more efficient to manufacture ammonium hydroxide because a plurality of ultra-pure water sprayers 200 are spaced apart from each other in the vertical reaction chamber 100.

암모니아 가스 배출부(300)는, 외부의 암모니아 가스 저장탱크로부터 유입된 가스를 반응챔버(100) 내부로 배출하는 장치로서, 반응챔버(100) 하단에 설치하는 것이 바람직하다. 암모니아 가스는 주변의 기체 압력보다 가벼워 상승하는 것이 일반적이고, 필요하다면 반응챔버(100)에 설치된 밸브를 통해 상승 기류로 유도할 수 있음은 물론이다.The ammonia gas discharge unit 300 is a device for discharging the gas introduced from the external ammonia gas storage tank into the reaction chamber 100 and is preferably installed at the lower end of the reaction chamber 100. It is a general matter that the ammonia gas rises lighter than the surrounding gas pressure, and if necessary, can be led to the upward flow through the valve installed in the reaction chamber 100.

암모니아 가스 배출부(300)를 하단에 설치하여 상승하는 암모니아 가스를 상승하도록 유도하는 것은, 상단에 설치된 초순수 분무장치(200)에 의해 하방으로 분사되는 미립자화된 초순수와 향류(counter flow)접촉 시키기 위함이다.The ammonia gas discharging unit 300 is installed at the lower end to guide the ascending ammonia gas upwardly by counterflow contact with the microparticulated ultrapure water sprayed downward by the ultrapure water spraying apparatus 200 installed at the upper end It is for this reason.

이처럼, 본 발명의 실시예에 따른 마이크로 접촉 스크러버는 암모니아가스와 물입자의 흐름 방향을 반대로 하는 수직형 스크러버(Vertical Type Scrubber) 방식을 사용하며 암모니아가스는 하부에서 상부로 흐르고, 물입자는 상부에서 하부로 흐르게 하여 상기 암모니아가스를 물입자에 흡수시키는 향류접촉 하여 반응이 활성화된다.As described above, the micro contact scrubber according to the embodiment of the present invention uses a vertical type scrubber system in which the flow directions of ammonia gas and water particles are reversed, the ammonia gas flows from the lower part to the upper part, So that the ammonia gas is countercurrently contacted with the water particles so that the reaction is activated.

암모니아가스 흡수 원리로는 액적에 입자가 충돌하여 부착되고 미립자 확산에 의하여 액적과의 접촉을 쉽게 하며 가스의 증습에 의하여 입자가 서로 응집하고 입자를 핵으로 한 증기의 응결에 따라 응집성을 촉진하여 액막, 기포에 입자가 접촉 및 흡수되는 것으로, 본 발명의 실시예에 따른 마이크로 접촉 스크러버는 수직형 스크러버(Verical Type Scrubber) 방식을 사용하는 것이 바람직하다.The ammonia gas absorption principle is that the particles collide with the liquid droplet, and the contact with the liquid droplet is facilitated by the diffusion of the particles. The particles cohere with each other due to the increase of the gas and the coagulation is promoted according to the condensation of the vapor, , The particles are contacted and absorbed by the bubbles. It is preferable that the micro contact scrubber according to the embodiment of the present invention uses a vertical scrubber (Verical Type Scrubber) method.

본 발명의 실시예에 따른 마이크로 접촉 스크러버에 적용되는 충진 트레이(450)는 암모니아 가스와 초순수 미립자가 향류접촉에 의한 반응을 촉진하기 위하여 충진제가 충진되 충진층으로서, 반응챔버(100) 내부에 초순수 분무장치(200) 하단에 이격되어 설치된다.The filling tray 450 applied to the micro-contact scrubber according to the embodiment of the present invention is a packing layer filled with a filler to promote the reaction of the ammonia gas and ultrapure water fine particles by countercurrent contact, And is installed to be spaced apart from the lower end of the spraying apparatus 200.

그리고, 냉각판(400)은 상기 충진 트레이(450) 상부면 및 하부면 중 적어도 어느 하나에 부착되어 설치되는 장치로서, 메탈메쉬형 플레이트인 것이 바람직하다. 이는 상승하는 암모니아 가스나 하강하는 미립자화된 초순수가 하강하면서 통과하여 충분히 충진 트레이(450)에 스며들어 반응하기 쉽도록 유도하기 위함이다.The cooling plate 400 is attached to at least one of the upper surface and the lower surface of the filling tray 450 and is preferably a metal mesh plate. This is to guide the rising ammonia gas or the descending fine particulate ultrapure water down while passing through and sufficiently penetrating into the filling tray 450 to be easily reacted.

즉, 본 발명의 실시예에서는 상단부에는 암모니아 가스와 기상의 초순수 입자가 접촉하여 발생하는 반응열을 냉각시키기 위하여, 충진 트레이(450) 상면 또는 하면에 매설홈(415)이 형성된 냉각판(400)을 설치하고, 이 냉각판(400)의 매설홈(415)에 히트파이프(500)를 매설하는 것이 바람직하다. 이는 복잡한 공랭식 및 수냉식 냉각장치보다 설치 구성이 간단할 뿐만 아니라, 외부의 동력이 필요없는 반 영구적인 냉각장치를 제공하여 냉각 효율 및 에너지 효율성이 높일 수 있다는 장점이 있다.That is, in the embodiment of the present invention, the cooling plate 400 having the grooves 415 formed on the upper surface or the lower surface of the filling tray 450 to cool the reaction heat generated by the contact between the ammonia gas and the gaseous ultra pure water particles, And the heat pipe 500 is embedded in the buried groove 415 of the cooling plate 400. This has the advantage of being simpler in installation configuration than a complex air-cooled and water-cooled cooling system, and providing a semi-permanent cooling system that does not require external power, thereby increasing cooling efficiency and energy efficiency.

히트파이프(500)(heat pipe)는 증발부, 단열부 및 응축부로 구성된 관형 냉각장치로서, 관형 컨테이너(container)와, 컨테이너 내측면에 설치된 메쉬형 윅(wick) 구조와, 작동 매체로서 냉매가 수납된 구조로 이루어진다. 즉, 히트파이프(500)는 발열되는 물체에 접촉되는 증발부에서 냉매가 전도된 열에 의해 증발되고, 증발되어 기화된 냉매는 단열부를 거쳐 응축부로 이동하게 된다. 응축부로 이동된 냉매는 다시 방열시킴으로써, 냉각되어 액상의 냉매로 변환되고, 액상의 냉매는 컨테이너 내측면에 설치된 메쉬형 윅(wick)구조를 따라 모세관현상에 의해 증발부로 이동하면서 순환 방열시키는 구조이다.The heat pipe 500 is a tubular cooling device composed of an evaporator, a heat insulating portion and a condenser. The heat pipe has a tubular container, a mesh-type wick structure provided on the inner side of the container, . That is, the heat pipe 500 is evaporated by the heat conducted by the refrigerant in the evaporator portion contacting the exothermic body, evaporated, and the vaporized refrigerant is moved to the condenser portion through the heat insulating portion. The refrigerant transferred to the condenser is cooled again to be converted into a liquid refrigerant, and the liquid refrigerant is circulated through the wick structure provided on the inner side of the container while being moved to the evaporator by the capillary phenomenon .

본 발명의 실시예에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 충진 트레이(450)에 히트파이프(500)의 증발부를 매설하고, 반응챔버(100) 외부로 히트파이프(500)가 연장되어 응축부를 외부로 노출시켜 방열하도록 하는 구조를 예시한다. 즉, 암모니아 가스와 초순수 미립자가 접촉하여 반응열이 높아지면, 충진 트레이(450)가 발열되고, 충진 트레이(450)에 매설된 히트파이프(500)의 증발부로 열이 전달된다.1, the evaporation portion of the heat pipe 500 is buried in the filling tray 450, and the heat pipe 500 is extended outside the reaction chamber 100 so that the condensation portion is exposed to the outside Thereby exposing and radiating heat. That is, when the ammonia gas and the ultrapure water fine particles come into contact with each other and the reaction heat increases, the filling tray 450 generates heat and heat is transferred to the evaporator of the heat pipe 500 embedded in the filling tray 450.

히트파이프(500)의 증발부로 전달된 열은 내부의 냉매를 증발시켜 응축부로 이동시키고, 다시 응축부에서 방열되어 냉각되면 액상의 냉매로 전환되어 윅 구조에 의해 증발부로 이동시키는 동작을 반복하여 반응열을 외부로 방출하게 되는 구조이다.The heat transferred to the evaporator of the heat pipe 500 evaporates the internal refrigerant to move to the condenser. When the refrigerant is radiated from the condenser again, the refrigerant is converted into the liquid refrigerant and is moved to the evaporator by the wick structure. To the outside.

이처럼 본 발명의 실시예에서는 암모니아 가스 및 초순수 미립자의 향류접촉에 의한 반응열을 냉각시키기 위한 냉각 장치로서, 메탈메쉬형 플레이트인 충진 트레이(450)와 충진 트레이(450)에 매설된 히트파이프(500)를 통해, 설치 구성이 간단하고 외부의 동력이 필요없는 반 영구적 방법으로 냉각효율 및 에너지 효율을 높일 수 있는 장치를 사용한다.As described above, in the embodiment of the present invention, the cooling device for cooling the heat of reaction by the countercurrent contact of the ammonia gas and the ultrapure water microparticles is provided with the filling pipe 450 as a metal mesh plate and the heat pipe 500 embedded in the filling tray 450, , A device is used that can increase cooling efficiency and energy efficiency in a semi-permanent way that is simple to install and requires no external power.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 반응 스크러버는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 초순수 분무장치(200)가 반응 스크러버 내부로 장착되는 적어도 2개의 초순수를 분무하는 분무노즐이 상하로 이격되어 설치되고, 히트파이프(500)가 매설된 충진 트레이(450)가 상기 각 분무노즐 하방에 이격되어 설치됨으로써, 다수개의 반응 구조를 다단으로 설치함으로써, 수산화암모늄 생산 수율을 높일 수 있게 된다.1, the reaction scrubber for producing ammonium hydroxide according to the embodiment of the present invention is characterized in that a spray nozzle for spraying at least two ultrapure water to which the ultra-pure water spray device 200 is installed in the reaction scrubber is divided into upper and lower The plurality of reaction structures are installed in multiple stages by providing the filling tray 450 spaced apart from the spray nozzles and spaced below the respective spray nozzles so that the yield of ammonium hydroxide production can be increased.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버에 사용되는 냉각장치의 설치 모식도이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버에 사용되는 냉각판(400) 및 충진 트레이(450)의 결합 모식도이다. 도 3의 상부 도면은 냉각판(400)을 나타내고, 하부 도면은 충진 트레이(450)를 나타낸 도면이다.FIG. 2 is a schematic view showing the installation of the cooling device used in the micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide according to the embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic view showing the cooling used in the micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide according to the embodiment of the present invention A plate 400 and a filling tray 450. Fig. 3 shows the cooling plate 400, and the lower drawing shows the filling tray 450. As shown in FIG.

도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버는 충진 트레이(450)에 메탈메쉬형 플레이트인 냉각판(400)이 부착되고, 냉각판(400)에 형성된 매설홈(415)에 히트파이프(500)를 매설하는 구조이다. 충진 트레이(450)의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 냉각판(400)을 부착할 수 있고, 냉각판(400)에는 다수개의 직선형 매설홈(415)을 일정 간격으로 이격시켜 형성된다. 그리고, 이 매설홈(415)에 히트파이프(500)의 증발부를 매설하고, 응축부를 외부로 노출시켜 방열시키는 냉각장치 구조를 제안한다.2, a micro-contact scrubber for producing ammonium hydroxide according to an embodiment of the present invention includes a cooling plate 400 as a metal mesh plate attached to a filling tray 450, And a heat pipe 500 is buried in the buried groove 415. The cooling plate 400 can be attached to at least one of the upper surface and the lower surface of the filling tray 450 and the cooling plate 400 is formed with a plurality of linear buried grooves 415 spaced apart at regular intervals. A cooling device structure is proposed in which the evaporation portion of the heat pipe 500 is embedded in the buried groove 415 and the condensation portion is exposed to the outside to dissipate heat.

히트파이프(500)로 사용되는 재질은 암모니아에 안정적인 금속으로서 SUS 재질을 사용하는 것이 바람직하고, 반응챔버(100) 내부에 설치된 히트파이프(500)가 부식될 경우 히트파이프(500) 내부의 냉매가 유출되어 암모니아 가스와 반응하여 제품 품질의 저하 혹은 폭발 등의 피해가 있을 수 있기 때문에, 냉매는 암모니아 가스와 반응이 있을 수 없는 수산화암모늄을 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 냉매는 15% 에서 28% 사이 농도(퍼센트 농도)의 수산화암모늄을 사용하는 것이 바람직하다. The material used for the heat pipe 500 is preferably made of SUS as a stable metal for ammonia and when the heat pipe 500 installed in the reaction chamber 100 is corroded, It is preferable to use ammonium hydroxide which can not react with the ammonia gas because the refrigerant may leak and react with ammonia gas to cause deterioration such as deterioration of product quality or explosion. Here, it is preferable to use ammonium hydroxide at a concentration of 15% to 28% (percent concentration) as the refrigerant.

히트파이프(500)의 응축부는 반응챔버(100) 외부로 노출되어 방열되는 구조인데, 보다 효과적인 방열을 위해, 응축부에 다수개의 막대형 히트싱크(555)를 설치하는 것이 바람직하다. 이와 같은 다수개의 막대형 히트싱크(555)를 설치하게 되면, 다수개의 히트싱크(555)가 주변의 공기와 접촉하며 빠르게 열을 방출하는 기능을 수행하게 되어 응축부의 방열 효율을 높일 수 있는 장점이 있다.The condensing portion of the heat pipe 500 is exposed to the outside of the reaction chamber 100 to radiate heat. In order to dissipate heat more effectively, it is preferable to provide a plurality of the large-sized heat sinks 555 in the condensing portion. When the plurality of the large-sized heat sinks 555 are provided, the plurality of heat sinks 555 contact the surrounding air and perform the function of rapidly discharging heat. Thus, the heat radiation efficiency of the condenser can be enhanced have.

그리고, 도 3에 나타낸 바와 같이, 냉각판(400)이 충진 트레이(450)에 부착 결합하게 되는데, 냉각판(400)은 메탈소재의 메쉬형 재질로서 다수개의 타공(417)이 형성되는 것이 바람직하고, 히트파이프(500)를 매설할 수 있는 적어도 하나의 직선형 매설홈(415)이 형성되는 것이 바람직하다. 3, the cooling plate 400 is attached to the filling tray 450. It is preferable that the cooling plate 400 is formed of a mesh-like material made of a metal material and has a plurality of perforations 417 formed therein And at least one linear buried groove 415 capable of embedding the heat pipe 500 is formed.

도 3에 예시된 바와 같이, 매설홈(415)의 형상은 반원통 형상이 하부로 볼록하게 나란히 형성하게 되는데, 이는 형성된 매설홈(415)에 매설된 히트파이프(500)와 충진 트레이(450)와의 접촉면적을 넓히게 되어 냉각 효율이 높아지는 장점이 있기 때문이다. 그 외에도 냉각판(410)에서 매설홈(415)의 형상은 일정한 두께를 갖는 플레이트에 홈을 가지는 형상으로도 가능하고, 그 밖에도 냉각 효율 및 제조 단가를 고려하여 다양한 형상으로 제조할 수 있음은 물론이다.As shown in FIG. 3, the shape of the buried grooves 415 is formed in such a manner that the semicylindrical shape is convex downward. The heat pipe 500 and the filling tray 450 embedded in the formed buried grooves 415, So that the cooling efficiency is increased. In addition, the shape of the buried grooves 415 in the cooling plate 410 can be a shape having a groove in a plate having a constant thickness, and various shapes can be manufactured in consideration of cooling efficiency and manufacturing cost, to be.

여기서 타공(417)은 암모니아 가스와 초순수 미립자가 냉각판(400)을 용이하게 통과하여 충진 트레이(450)에 충진된 충진제를 통하여 향류접촉 통한 반응을 보다 더 활성화함으로써, 수산화암모늄 수율을 높이기 위함이다. 또한, 매설홈(415)에는 열전달의 효율성을 높이기 위해 타공(417)이 형성되지 않는 것이 바람직하지만, 필요에 따라 형성할 수 있음은 물론이다.The perforation 417 is intended to increase the yield of ammonium hydroxide by allowing ammonia gas and ultrapure water fine particles to easily pass through the cooling plate 400 and to further activate the reaction through countercurrent contact through the filler filled in the filling tray 450 . In addition, it is preferable that the perforations 417 are not formed in the buried grooves 415 in order to increase the heat transfer efficiency, but it is needless to say that they can be formed as needed.

도 4는 본 발명의 또다른 실시예로서, 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버에 사용되는 히트파이프(500)의 설치 모식도이다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예로서, 충진 트레이(450)의 상면 또는 하면에 형성된 매설홈(415)에 히트파이프(500)의 증발부가 나란히 다수개 매설되고, 나란히 매설된 히트파이프(500)를 서로 수직방향으로 연결하는 다수개의 핀코일(530)이 형성된 것이 바람직하다. 이처럼 서로 다른 히트파이프(500)를 연결하는 핀 코일을 형성하는 것은, 핀코일(530)을 통해 충진 트레이(450) 전체로 냉각지점을 넓히고 서로 연결함으로써, 열전달 효율을 높여 냉각 효율을 높일 수 있기 때문이다.Fig. 4 is a schematic view showing the installation of a heat pipe 500 used in a micro contact scrubber for producing ammonium hydroxide according to another embodiment of the present invention. 4, as another embodiment of the present invention, a plurality of evaporation portions of the heat pipe 500 are embedded in the buried grooves 415 formed on the upper or lower surface of the filling tray 450, It is preferable to form a plurality of fin coils 530 connecting the heat pipes 500 in the vertical direction. The formation of the fin coils connecting the different heat pipes 500 can increase the cooling efficiency by increasing the heat transfer efficiency by widening the cooling points to the entire filling tray 450 through the fin coils 530 Because.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예로서, 히트파이프(500)가 충진 트레이(450) 및 냉각판(400)의 결합과 냉각판(400)에 히트파이프(500)가 매설된 구조의 모식도이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 충진 트레이(450) 상면에 매설홈(415)이 형성된 냉각판(400)을 부착하고, 냉각판(400)에 형성된 매설홈(415)에 히트파이프(500)를 매설함으로써, 암모니아 가스와 초순수 미립자의 향류접촉에 의해 충진 트레이(450)에서 발생한 반응열이 냉각판(400)으로 전달되고, 냉각판(400)에 매설된 히트파이프(500)의 증발부의 냉매를 기화시키고, 기화된 냉매가 챔버 외부의 응축부로 이동하고, 이동된 응축부의 기화된 냉매는 방열되어 다시 액화되고, 히트파이프(500) 내부의 윅구조에 의해 증발부로 이동함으로써, 유체의 계속적 상변환 싸이클을 통해 반영구적인 냉각기능을 효과적으로 수행할 수 있게 된다.5 is a schematic view of a structure in which a heat pipe 500 is coupled to a fill tray 450 and a cooling plate 400 and a heat pipe 500 is embedded in a cooling plate 400 according to another embodiment of the present invention . 5, the cooling plate 400 having the buried grooves 415 formed therein is attached to the upper surface of the filling tray 450, the heat pipe 500 is buried in the buried grooves 415 formed in the cooling plate 400, The reaction heat generated in the filling tray 450 due to the countercurrent contact between the ammonia gas and the ultrapure water fine particles is transferred to the cooling plate 400 and the refrigerant in the evaporation portion of the heat pipe 500 embedded in the cooling plate 400 is vaporized , The vaporized refrigerant moves to the condenser outside the chamber, the evaporated refrigerant in the condensed condensed refrigerant moves to the condenser, and the condensed refrigerant in the condensed refrigerant flows to the evaporator by the wick structure inside the heat pipe 500, A semi-permanent cooling function can be effectively performed.

본 발명이 또 다른 실시예로서, 상술한 마이크로 접촉 스크러버를 이용한 수산화암모늄 제조장치는, 여과된 물의 잔류 이온을 제거하여 초순수를 제조하는 초순수 생성장치; 암모니아 원료를 저장하는 암모니아 저장탱크; 및 반응챔버(100)와, 반응 스크러버 내부에서 하방으로 초순수를 미립자화하여 분무하는 초순수 분무장치(200)와, 반응 스크러버 내부 하단에 설치되어 상방으로 고순도 암모니아 가스를 배출하는 암모니아 가스 배출부(300)와, 상기 초순수 분무장치(200) 및 암모니아 가스 배출부(300) 사이에서 암모니아 가스와 초순수의 향류접촉에 의한 반응을 촉진하기 위한 충진 트레이(450)와, 상기 충진 트레이(450)의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 부착되고, 적어도 하나의 매설홈(415)이 형성된 냉각판(400)과, 상기 냉각판(400)의 매설홈(415)에 매설되는 히트파이프(500)로 구성된 냉각장치를 포함한다.(도시하지 않음)According to another embodiment of the present invention, there is provided an apparatus for producing ammonium hydroxide using the above-mentioned micro contact scrubber, comprising: an ultra pure water producing device for producing ultrapure water by removing residual ions of filtered water; An ammonia storage tank for storing the ammonia raw material; An ultra pure water spray device 200 for atomizing and spraying ultrapure water downward in the reaction scrubber 100 and an ammonia gas discharge unit 300 installed at the lower end of the reaction scrubber for discharging high purity ammonia gas upward A filling tray 450 for promoting a reaction between the ultra pure water spraying device 200 and the ammonia gas discharging part 300 by countercurrent contact of ammonia gas and ultrapure water, A cooling device 400 which is attached to at least one of the bottom surfaces of the cooling plate 400 and has at least one buried groove 415 formed therein and a heat pipe 500 embedded in the buried grooves 415 of the cooling plate 400 (Not shown)

이하에서 마이크로 접촉 스크러버에 관한 설명은 도 1의 실시예와 동일하기 때문에 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the description of the micro contact scrubber is the same as that of the embodiment of FIG. 1, so that a description thereof will be omitted.

이처럼, 본 발명의 실시예에 따른 마이크로 접촉 스크러버를 이용한 수산화암모늄 제조장치는, 초순수 생성장치와, 암모니아 저장탱크와 마이크로 접촉 스크러버로 구성된다.As described above, the apparatus for producing ammonium hydroxide using the micro contact scrubber according to the embodiment of the present invention comprises an ultrapure water generating apparatus, an ammonia storage tank, and a micro contact scrubber.

여기서, 초순수 생성장치는 물 저장탱크, 이송 펌프, 막분리장치 EDI 시스템(전기투석 장치)을 포함하여 구성되는데, 물 저장탱크에 저장된 원수는 이송 펌프에 의해 막분리공정으로 유입되며, 상기 부유물 또는 이물질을 제거하는 단계에서 하나 이상의 막분리장치를 사용하여 원수에 포함된 부유물 또는 이물질을 응집, 여과 또는 흡착 공정을 통해 제거하는 프로세스를 수행한다.The ultrapure water producing apparatus includes a water storage tank, a feed pump, and a membrane separation device EDI system (electrodialysis apparatus). The raw water stored in the water storage tank is introduced into the membrane separation process by the transfer pump, In the step of removing foreign matter, a process of removing floating matters or foreign substances contained in raw water through coagulation, filtration or adsorption process is performed using one or more membrane separation devices.

여기서, 막분리장치에서는 분리막을 통과한 물을 가압펌프에 의해 이송된 물 내에 존재하는 1㎛ 이상의 미립자들을 제거할 수 있다. 또한, 막분리장치에서는 사용되는 막분리(Separation by Membrane)의 프로세스는 전기투석 및 기체분리를 제외한 여과막, 다공질막 복합막을 사용하는 것이 바람직하다.Here, in the membrane separation apparatus, the water that has passed through the separation membrane can be removed by the pressurization pump and the fine particles of 1 mu m or more existing in the water transferred. In addition, it is preferable to use a filtration membrane or a porous membrane composite membrane except for electrodialysis and gas separation in the separation by membrane process used in the membrane separation apparatus.

EDI 시스템은 전기 투적 장치로서, 이온 제거는 전기투석 장치가 2개 이상 구비되어 필터링 된 처리 수에 포함된 이온들을 제거하되, 하나의 전기투석 장치가 가동되어 이온의 제거를 수행하고, 가동되는 전기투석장치의 이온 제거 효율이 낮아지면 별도의 전기투석 장치가 교대로 가동되며, 이미 가동된 전기투석 장치는 세정을 진행하는 것이 더욱 효율적일 수 있다.The EDI system is an electrotransport device in which ion removal includes two or more electrodialysis devices to remove ions contained in the filtered treatment water, one electrodialysis device is activated to perform ion removal, When the ion removal efficiency of the dialysis apparatus is lowered, a separate electrodialysis apparatus is alternately operated, and it is more efficient for the electrodialysis apparatus that has already been operated to conduct cleaning.

상술한 이온 제거 단계에서는 금속염의 이온들이 주로 제거된다. 구체적으로, 전기투석 장치(EDI 시스템) 내의 희석수는 원수가 희석실를 통과하는 과정에서 생성되되, 원수의 (+)이온은 양이온교환막을 통과하고 원수의 (-)이온은 음이온교환막을 통과하여 농축실에 축적된다.In the above ion removal step, the ions of the metal salt are mainly removed. Specifically, the dilution water in the electrodialysis system (EDI system) is generated in the process of passing the raw water through the dilution chamber, where the (+) ion of the raw water passes through the cation exchange membrane and the (-) ion of the raw water passes through the anion exchange membrane And accumulated in the yarn.

상기 전기투석 장치의 희석수 배출구에는 전기전도도 및(또는) 용존 고형물농도(TDS) 측정센서가 추가로 구비되고, 전기투석장치를 교대로 가동하는지의 여부는 이온 제거 효율을 상기 전기전도도 및(또는) 용존고형물농도 측정 센서(TDS)에 의해 판단하여 수행할 수 있다.The dilution water outlet of the electrodialysis apparatus is further provided with an electric conductivity and / or dissolved solid concentration (TDS) measuring sensor, and whether or not the electrodialyser is alternately operated is determined by comparing the ion removal efficiency with the electric conductivity and / ) Dissolved solids concentration measurement sensor (TDS).

여기서, 이온 제거 단계를 통과한 처리수의 용존고형물농도는 10,000~15,000 ppm 정도가 되어 상당수의 이온들이 제거된다. 또한, 전기 투석장치는 별도의 농축 및 순환 장치가 불필요하며 연속적으로 초순수를 제조 할 수 있다.Here, the dissolved solid concentration of the treated water having passed through the ion removing step is about 10,000 to 15,000 ppm, and a considerable number of ions are removed. Further, the electrodialysis apparatus does not require a separate concentrating and circulating device, and can produce ultrapure water continuously.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시에에 사용되는 암모니아 가스는 마이크로 접폭 스크러버 내에서 액체에서 기체로 상변화하며 상기 상변화 따른 빙결현상이 일어나고, 빙결현상에 따른 냉각은 암모니아가스와 물입자의 접촉시 일어나는 발열반응에 발생하는 열을 냉각하는 것에 이용되므로 상기 빙결현상에 따른 가열(heating) 작업이 필요 없다.As described above, the ammonia gas used in the practice of the present invention is phase-changed from liquid to gas in the micro-gravity scrubber and freezing phenomenon occurs due to the phase change. Cooling due to freezing phenomenon occurs when the contact between the ammonia gas and the water particles It is used to cool the heat generated in the exothermic reaction occurring during the heating process.

그리고, 본 발명의 실시예에 적용되는 초순수 분무장치(200)로서, 상기 마이크로 무화장치는 기체상과 동일한 입자상태의 물입자(vapor)가 생성되어 접촉면적 넓어짐에 따라 마이크로 접촉 스크러버에서 암모니아가스와 미립자화된 물입자의 접촉효율을 극대화 한다.In the ultra-pure water spray device 200 applied to the embodiment of the present invention, as the water vapor of the same particle state as the gas phase is generated and the contact area becomes wider, the ammonia gas and the ammonia gas in the micro contact scrubber Thereby maximizing the contact efficiency of the particulate water particles.

한편, 상기 마이크로 무화장치는 더 상세하게는 물을 기체속에 액체방울로서 분산시키는 조작으로써, 기체와 액체의 상대속도를 이용하여 액막과 액체의 끈을 만들어 가늘게 분열시키는 방식, 액주와 액막에 자력진동을 일으켜서 생기는 표면파에 의해 비교적 큰 액체방울로 분열시키는 방식, 빠른 속도의 액체끼리 충돌시키거나 빠른 속도의 액체를 고체벽에 충돌·분열시키는 방식, 음파나 초음파를 액주·액막에 가하여 분열시키는 방식 및 직류나 교류의 정전기를 가해서 겉보기 표면장력을 저하시켜 미세한 액체방울로 분열시키는 방식 중 하나 또는 두개 이상의 방식으로 하는것이 바람직하다.More particularly, the micro-atomization apparatus is a system in which water is dispersed as liquid droplets in a gas, a method in which a liquid film and a liquid thread are formed using a relative velocity between gas and liquid, , A method of colliding liquids at a high velocity or colliding or splitting a liquid at a high velocity with a solid wall, a method of splitting a sound wave or an ultrasonic wave by applying the liquid or liquid to the liquid, It is preferable to use one or more of the following methods: static electricity of direct current or alternating current is applied to reduce the apparent surface tension to divide into fine droplets.

또한, 분체와 액체미립자의 지름과 그 개수를 계측해서 입도분포와 평균입자지름을 측정하는 장치인 미립자지름 측정장치를 설치하여 상기 마이크로 무화장치(28)에서 생성되는 미립자화된 물의 크기를 실시간으로 측정할 수 있으며, 상기 미립자지름 측정장치로는 액체방울을 직사진법과 홀로그래피사진법으로 촬영하여 계측하는 방법이나 레이저광선을 액체방울군에 포착하여 산란광에 따른 입자 지름을 측정할 수 있다.Further, a particle diameter measuring device, which is a device for measuring the particle size distribution and the average particle diameter by measuring the diameter and the number of the powder and the liquid fine particles, is provided to measure the size of the fine particle water produced in the above- The particle diameter measuring apparatus can measure liquid droplets by photographing them using a direct photolithography method and a holography photographic method, or measuring a particle diameter according to scattered light by capturing a laser beam in a liquid droplet group.

그리고, 본 발명의 실시예에 따른 수산화암모늄 제조장치는 상술한 히트파이프(500)에 의한 냉각과 함께, 마이크로 접촉 스크러버에 암모니아 공급시 상변화에 의한 잠열에너지를 스크러버 내부에서 활용하여 발생되는 열을 자체적으로 냉각될 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에 적용되는 마이크로 접촉 스크러버(Micro Contact Scrubber)는 생성되는 수산화암모늄의 농도를 조절할 수 있다. The apparatus for producing ammonium hydroxide according to the embodiment of the present invention is characterized in that, together with the cooling by the heat pipe 500 described above, the heat generated by utilizing the latent heat energy due to the phase change during the supply of ammonia to the micro contact scrubber within the scrubber It can be cooled by itself. In addition, the micro contact scrubber applied to the embodiment of the present invention can control the concentration of ammonium hydroxide produced.

암모니아가 물에 녹으면서 다음과 같은 평형이 이루어지게 된다.As ammonia dissolves in water, the following equilibrium is achieved.

NH3 + H2O → NH4OHNH 3 + H 2 O → NH 4 OH

본 명세서에서 설명되는 실시 예와 첨부된 도면은 본 발명에 포함되는 기술적 사상의 일부를 예시적으로 설명하는 것에 불과하다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이므로, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아님은 자명하다. 본 발명의 명세서 및 도면에 포함된 기술적 사상의 범위 내에서 당업자가 용이하게 유추할 수 있는 변형 예와 구체적인 실시 예는 모두 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The embodiments and the accompanying drawings described in the present specification are merely illustrative of some of the technical ideas included in the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed herein are for the purpose of describing rather than limiting the technical spirit of the present invention, and it is apparent that the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

100: 반응챔버 200: 초순수 분무장치
300: 암모니아 가스 배출부 400: 냉각판
450: 충진 트레이 500: 히트파이프100: reaction chamber 200: ultrapure water spraying device
300: ammonia gas discharge part 400: cooling plate
450: filling tray 500: heat pipe

Claims (6)

반응챔버; 반응 스크러버 내부에서 하방으로 초순수를 미립자화하여 분무하는 초순수 분무장치; 반응 스크러버 내부 하단에 설치되어 상방으로 고순도 암모니아 가스를 배출하는 암모니아 가스 배출부; 상기 초순수 분무장치 및 암모니아 가스 배출부 사이에서 암모니아 가스와 초순수의 향류접촉에 의한 반응을 촉진하기 위한 충진 트레이; 상기 충진 트레이의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 부착되고, 적어도 하나의 매설홈이 형성된 냉각판; 및 상기 냉각판의 매설홈에 매설되는 히트파이프로 구성된 냉각장치를 포함하며,
상기 히트파이프에 사용되는 냉매는 수산화암모늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버.A reaction chamber; An ultra-pure water spraying device for atomizing ultra-pure water downward from the inside of the reaction scrubber to spray it; An ammonia gas discharge unit installed at the lower end of the reaction scrubber to discharge high purity ammonia gas upward; A filling tray for promoting a reaction between the ultra-pure water spraying device and the ammonia gas discharging part by countercurrent contact of ammonia gas and ultrapure water; A cooling plate attached to at least one of an upper surface and a lower surface of the filling tray and having at least one buried groove formed therein; And a cooling device composed of a heat pipe embedded in a buried groove of the cooling plate,
Characterized in that the refrigerant used in the heat pipe comprises ammonium hydroxide. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI > 청구항 1에 있어서,
상기 초순수 분무장치가 반응 스크러버 내부로 장착되는 적어도 2개의 초순수를 분무하는 분무노즐이 상하로 이격되어 설치되고, 히트파이프가 매설된 냉각판 및 충진 트레이가 상기 각 분무노즐 하방에 이격되어 설치되고, 상기 냉각판은 다수개의 타공이 형성된 것을 특징으로 하는 수산화암모늄 제조를 위한 마이크로 접촉 스크러버. The method according to claim 1,
Wherein a spray nozzle for spraying at least two ultrapure water to which the ultrapure water spraying apparatus is mounted is installed vertically spaced apart, a cooling plate and a filling tray in which a heat pipe is embedded are installed apart from each spray nozzle, Wherein the cooling plate has a plurality of pores formed therein. 삭제delete 여과된 물의 잔류 이온을 제거하여 초순수를 제조하는 초순수 생성장치;
암모니아 원료를 저장하는 암모니아 저장탱크; 및
반응챔버와, 반응 스크러버 내부에서 하방으로 초순수를 미립자화하여 분무하는 초순수 분무장치와, 반응 스크러버 내부 하단에 설치되어 상방으로 고순도 암모니아 가스를 배출하는 암모니아 가스 배출부와, 상기 초순수 분무장치 및 암모니아 가스 배출부 사이에서 암모니아 가스와 초순수의 향류접촉에 의한 반응을 촉진하기 위한 충진 트레이와, 상기 충진 트레이의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 부착되고, 적어도 하나의 매설홈이 형성된 냉각판과, 상기 냉각판의 매설홈에 매설되는 히트파이프로 구성된 냉각장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 수산화암모늄 제조장치.An ultrapure water producing device for producing ultrapure water by removing residual ions of the filtered water;
An ammonia storage tank for storing the ammonia raw material; And
An ultra-pure water spray device for atomizing ultrapure water downward in the reaction scrubber and spraying the same, an ammonia gas discharge unit installed at the lower end of the reaction scrubber for discharging high purity ammonia gas upwardly, A cooling plate which is attached to at least one of an upper surface and a lower surface of the filling tray and has at least one buried groove formed therein; And a cooling device composed of a heat pipe buried in a buried groove of the substrate. 청구항 4에 있어서,
상기 초순수 생성장치는,
물을 저장하는 물 저장탱크;
물 저장탱크에서 이동시켜 여과하는 막분리공정장치; 및
메탈 파이버(metal fiber)가 구비되어 여과된 물속 잔류 이온을 제거하는 전기투석 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 수산화암모늄 제조장치.The method of claim 4,
The ultrapure water generation apparatus includes:
Water storage tank to store water;
A membrane separation process device for filtering and moving in a water storage tank; And
And an electrodialysis device provided with a metal fiber to remove residual water ions in the filtered water. 청구항 4에 있어서,
상기 초순수 분무장치는,
반응 스크러버 내부로 장착되는 적어도 2개의 초순수를 분무하는 분무노즐이 상하로 이격되어 설치되고, 히트파이프가 매설된 충진 트레이가 상기 각 분무노즐 하방에 이격되어 설치되는 것을 특징으로 하는 수산화암모늄 제조장치.The method of claim 4,
The ultra-
Wherein a spray nozzle for spraying at least two ultrapure water to be installed in the reaction scrubber is installed so as to be vertically spaced apart and a filling tray in which a heat pipe is embedded is installed to be spaced below the respective spray nozzles.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109368658A (en) * 2018-12-04 2019-02-22 海宁市英德赛电子有限公司 The production method of high-purity electron level ammonium hydroxide

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4548555B2 (en) 2000-03-09 2010-09-22 三菱瓦斯化学株式会社 Method for producing high-purity ammonia water
KR101526667B1 (en) 2013-06-10 2015-06-05 현대자동차주식회사 Device for cooling and heating battery module of vehicle

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4548555B2 (en) 2000-03-09 2010-09-22 三菱瓦斯化学株式会社 Method for producing high-purity ammonia water
KR101526667B1 (en) 2013-06-10 2015-06-05 현대자동차주식회사 Device for cooling and heating battery module of vehicle

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230073394A (en) * 2021-11-18 2023-05-26 조선대학교산학협력단 Capture system of carbon dioxide using the ionic liquid
KR102634991B1 (en) * 2021-11-18 2024-02-08 조선대학교산학협력단 Capture system of carbon dioxide using the ionic liquid

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