KR101896571B1 - Optical film, laminated film using the same, and manufacturing method of optical film - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 어려운 광학 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은, 상기 광학 필름을 이용한 플렉시블 디바이스용 전면판 및 플렉시블 디바이스를 제공하는 것을 목적으로 한다.
폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서, 상기 광학 필름의 단면이, 상기 광학 필름의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면인, 광학 필름.It is an object of the present invention to provide an optical film which is less prone to occurrence of defects such as folded marks or scratches during handling. It is another object of the present invention to provide a front panel and a flexible device for a flexible device using the optical film.
An optical film comprising a polyimide-based polymer, wherein the cross section of the optical film is an inclined surface inclined at an angle of not less than 5 degrees and not more than 75 degrees with respect to a surface of the optical film.
Description
본 발명은 광학 필름, 그것을 이용한 적층 필름 및 플렉시블 디바이스, 및 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film, a laminated film and a flexible device using the same, and a method of manufacturing an optical film.
종래에, 태양 전지나 디스플레이 등의 각종 표시 부재의 기재(基材) 및 전면(前面)판 등의 투명 부재의 재료로서, 유리가 이용되어 왔다. 그러나, 유리는 깨지기 쉽고 무겁다는 결점이 있었다. 또, 최근의 디스플레이의 박형화 및 경량화나, 플렉시블화의 요구에 대하여, 충분한 재질을 갖고 있지 않았다. 그 때문에, 유리를 대신하는 플렉시블 디바이스의 투명 부재로서, 각종 필름(광학 필름)이 검토되고 있다.BACKGROUND ART Conventionally, glass has been used as a material for a transparent member such as a base material and a front plate of various display members such as a solar cell and a display. However, the glass was fragile and heavy. In addition, in recent years, there has not been a sufficient material for the demands for thinning, lightening, and flexibility of displays. For this reason, various films (optical films) have been studied as transparent members of flexible devices replacing glass.
예를 들면, 특허문헌 1에는, 폴리이미드 수지 조성물을 이용하여 형성된, 투명성, 플렉시블성 및 내절성(耐折性) 등이 우수한 폴리이미드 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a polyimide film formed using a polyimide resin composition and having excellent transparency, flexibility and folding resistance.
그러나, 종래의 폴리이미드계 필름은, 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 쉽다는 문제가 있다. 그 때문에, 잘라낸 필름을 동일 방향으로 겹쳐지도록 쌓아올리는 공정, 쌓아올린 필름으로부터 1매씩 필름을 집어 다음의 가공에 제공하는 공정 등, 필름을 단독으로 집어 올려 이동하는 조작 중에 접힌 자국 등의 결함이 발생하여, 수율이 저하되는 경향이 있었다.However, the conventional polyimide-based film has a problem that defects such as folded marks and scratches are liable to occur at the time of handling. For this reason, defects such as folding marks or the like occur during the operation of picking up the film alone, such as a step of stacking the cut-out films so as to overlap in the same direction, a step of picking up the film one by one from the piled up film, , And the yield tended to be lowered.
본 발명은, 상기 종래 기술이 갖는 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 어려운 광학 필름 및 적층 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 또한, 상기 광학 필름을 이용한 플렉시블 디바이스용 전면판 및 플렉시블 디바이스를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 또한, 상기 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an optical film and a laminated film which are less prone to occurrence of defects such as folded marks and scratches during handling. The present invention also aims to provide a front panel and a flexible device for a flexible device using the optical film. The present invention also aims to provide a process for producing the optical film.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서, 상기 광학 필름의 단면(端面)이, 상기 광학 필름의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면인, 광학 필름을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides an optical film containing a polyimide-based polymer, wherein the end face of the optical film is inclined at an angle of not less than 5 degrees and not more than 75 degrees with respect to the surface of the optical film Wherein the optical film is an oblique plane.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 종래의 폴리이미드계 필름에서는, 필름의 취급시에 필름이 끌리는 등 하였을 경우에, 필름 단부(端部)가 걸려 불규칙하게 구부러지거나 접히거나 하여, 필름 표면에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 쉽다는 것을 발견하였다. 이들 결함은, 필름 단부뿐만 아니라, 필름 중앙 부근도 포함하여 필름 표면 전체에 생긴다. 이와 같은 종래의 폴리이미드계 필름에 대하여, 상기 본 발명의 광학 필름에 의하면, 단면이 상기 소정 각도로 경사진 경사면이 되어 있는 것에 의해, 광학 필름의 취급시에 단부가 걸려 불규칙하게 구부러지거나 접히거나 하는 것이 억제되고, 필름 표면에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하는 것을 억제할 수 있다.As a result of intensive investigations, the inventors of the present invention have found that, in a conventional polyimide-based film, when the film is pulled during handling of the film, the film ends are caught by irregular bending or folding, And defects such as scratches are likely to occur. These defects occur not only on the film end but also on the entire film surface including the vicinity of the film center. According to such a conventional polyimide-based film, since the optical film of the present invention has an inclined surface whose end face is inclined at the above-mentioned predetermined angle, the end portion is caught at the time of handling of the optical film and is irregularly bent And it is possible to suppress occurrence of defects such as folds and scratches on the surface of the film.
상기 광학 필름은, 상기 광학 필름의 상기 단면을 수직으로 절단한 자른 면(斷面)의, 상기 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측의 영역에 있어서 측정되는, 하기 식 (A)에 의해 정의되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 500 ㎫ 이하여도 된다.Wherein the optical film has a DMT elastic modulus as defined by the following formula (A), which is measured in a region of 10 to 20 m inward from the end face of a cut face obtained by vertically cutting the end face of the optical film, The value of the deviation Ra may be 500 MPa or less.
[수학식 1][Equation 1]
[식 (A) 중, L은 Ra의 산출 범위의 길이를 나타내고, M(x)는 측정 위치 x에 있어서의 DMT 탄성률의 측정값을 나타낸다.][In the formula (A), L represents the length of the calculated range of Ra, and M (x) represents the measured value of the modulus of elasticity of the DMT at the measurement position x.
상기 광학 필름에 있어서, 상기 경사면은 레이저 절단면이어도 된다. 환언하면, 상기 광학 필름에 있어서, 상기 경사면은 레이저 조사에 의한 절단면이어도 된다.In the optical film, the inclined surface may be a laser cut surface. In other words, in the optical film, the inclined surface may be a cut surface by laser irradiation.
본 발명은 또한, 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서, 상기 광학 필름의 단면을 수직으로 절단한 자른 면의, 상기 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측의 영역에 있어서 측정되는, 하기 식 (A)에 의해 정의되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 500 ㎫ 이하인, 광학 필름을 제공한다.The present invention also relates to an optical film containing a polyimide-based polymer, wherein the optical film has the following formula (A), which is measured in a region within 10 to 20 탆 from the end face of a cut face obtained by cutting the cross- (Ra) of a modulus of elasticity modulus of a DMT defined by the following formula (1) is 500 MPa or less.
[수학식 2]&Quot; (2) "
[식 (A) 중, L은 Ra의 산출 범위의 길이를 나타내고, M(x)는 측정 위치 x에 있어서의 DMT 탄성률의 측정값을 나타낸다.][In the formula (A), L represents the length of the calculated range of Ra, and M (x) represents the measured value of the modulus of elasticity of the DMT at the measurement position x.
상기 본 발명의 광학 필름에 의하면, 그 단면에 대하여 상기 방법에 의해 측정되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 상기 범위 내인 것에 의해, 단부 부근에 있어서의 왜곡의 잔류가 억제된 것이 되고, 광학 필름의 취급시에 단부가 걸려 불규칙하게 구부러지거나 접히거나 하는 것이 억제되고, 필름 표면에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하는 것을 억제할 수 있다.According to the optical film of the present invention, the value of the deviation (Ra) of the modulus of elasticity modulus (DMT) measured by the above method with respect to the cross section is within the above-mentioned range, whereby the residual of the distortion in the vicinity of the end portion is suppressed, It is possible to suppress irregular bending or folding due to the end portion being caught during the handling of the film, and it is possible to suppress occurrence of defects such as folds and scratches on the film surface.
상기 광학 필름은, 실리카 입자를 추가로 함유하고 있어도 된다.The optical film may further contain silica particles.
상기 광학 필름에 있어서, 상기 폴리이미드계 고분자는, 불소 원자를 상기 폴리이미드계 고분자의 전체 질량을 기준으로 하여 5 질량% 이상 함유하고 있어도 된다.In the optical film, the polyimide-based polymer may contain fluorine atoms in an amount of 5 mass% or more based on the total mass of the polyimide-based polymer.
상기 광학 필름은 두께가 20 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하여도 된다.The thickness of the optical film may be 20 占 퐉 or more and 100 占 퐉 or less.
본 발명은 또한, 상기 본 발명의 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 일방(一方)의 표면 상에 적층된 기능층을 구비하고, 상기 광학 필름의 단면과 상기 기능층의 단면이 접속되어 있는, 적층 필름을 제공한다.The present invention also provides an optical film comprising the optical film of the present invention and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film, Thereby providing a laminated film.
상기 적층 필름에 의하면, 당해 적층 필름을 구성하는 광학 필름의 단면이, 상기 소정 각도로 경사진 경사면이 되어 있거나, 또는, 광학 필름의 단면에 대하여 상기 방법에 의해 측정되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 상기 범위 내인 것에 의해, 적층 필름의 취급시에 단부가 걸려 불규칙하게 구부러지거나 접히거나 하는 것이 억제되고, 필름 표면에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하는 것을 억제할 수 있다.According to the laminated film, the cross section of the optical film constituting the laminated film is inclined at the predetermined angle, or the deviation (Ra) of the modulus of elasticity of the DMT measured by the above- Is within the above range, it is possible to suppress irregular bending or folding due to the end portion being caught during handling of the laminated film, and it is possible to suppress occurrence of defects such as folds and scratches on the film surface.
상기 적층 필름은, 상기 기능층의 단면이, 상기 기능층의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이며, 상기 광학 필름의 상기 경사면과 상기 기능층의 상기 경사면이 연속적으로 접속되어 있어도 된다. 이 경우, 적층 필름의 취급시에 단부가 걸려 불규칙하게 구부러지거나 접히거나 하는 것이 보다 한층 억제되고, 필름 표면에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하는 것을 보다 한층 억제할 수 있다.Wherein the laminated film is an inclined surface in which the cross section of the functional layer is inclined at an angle of not less than 5 DEG and not more than 75 DEG with respect to the surface of the functional layer and the inclined surface of the optical film and the inclined surface of the functional layer are continuously connected . In this case, it is possible to suppress further irregular bending or folding when the laminated film is handled at the time of handling, and to further suppress occurrence of defects such as folds or scratches on the film surface.
상기 적층 필름에 있어서, 상기 기능층이 하드 코팅층이어도 된다.In the laminated film, the functional layer may be a hard coating layer.
본 발명은 또한, 레이저 조사에 의해서 단부를 절단 가공하는 공정을 갖는, 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a process for producing an optical film containing a polyimide-based polymer, the process comprising a step of cutting the end by laser irradiation.
상기 광학 필름의 제조 방법에 있어서, 상기 절단 가공에 의해 형성되는 상기 광학 필름의 단면이, 상기 광학 필름의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이어도 된다.In the method for producing an optical film, the cross section of the optical film formed by the cutting may be inclined at an angle of 5 DEG or more and 75 DEG or less with respect to the surface of the optical film.
상기 광학 필름의 제조 방법에 있어서, 상기 절단 가공에 의해 형성되는 상기 광학 필름의 단면을 수직으로 절단한 자른 면의, 상기 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측의 영역에 있어서 측정되는, 하기 식 (A)에 의해 정의되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 500 ㎫ 이하여도 된다.(A), which is measured in a region on the inner side of 10 to 20 占 퐉 from the end face of a cut face obtained by vertically cutting the end face of the optical film formed by the cutting process, The value of the deviation (Ra) of the modulus of elasticity of the DMT, as defined by the following equation, may be 500 MPa or less.
[수학식 3]&Quot; (3) "
[식 (A) 중, L은 Ra의 산출 범위의 길이를 나타내고, M(x)는 측정 위치 x에 있어서의 DMT 탄성률의 측정값을 나타낸다.][In the formula (A), L represents the length of the calculated range of Ra, and M (x) represents the measured value of the modulus of elasticity of the DMT at the measurement position x.
본 발명은 또한, 상기 본 발명의 광학 필름을 갖는 플렉시블 디바이스용 전면판을 제공한다.The present invention also provides a front panel for a flexible device having the above optical film of the present invention.
본 발명은 추가로, 플렉시블 기능층과, 상기 본 발명의 광학 필름을 갖는 플렉시블 디바이스를 제공한다.The present invention further provides a flexible functional layer and a flexible device having the optical film of the present invention.
본 발명에 의하면, 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 어려운 광학 필름 및 적층 필름을 제공할 수 있다. 또, 본 발명에 의하면, 상기 광학 필름을 이용한 플렉시블 디바이스용 전면판 및 플렉시블 디바이스를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의하면, 상기 광학 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an optical film and a laminated film which are less prone to occurrence of defects such as folded marks and scratches during handling. According to the present invention, a front panel and a flexible device for a flexible device using the optical film can be provided. Further, according to the present invention, a method for producing the optical film can be provided.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 관련된 광학 필름의 일례를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1에 나타낸 광학 필름의 II-II 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 관련된 적층 필름의 일례를 나타낸 사시도이다.
도 4는 도 3에 나타낸 적층 필름의 IV-IV 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 형태에 관련된 플렉시블 디스플레이의 일례를 나타낸 사시도이다.
도 6은 실시예의 적층 필름의 자른 면 사진이다.1 is a perspective view showing an example of an optical film according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along line II-II of the optical film shown in FIG.
3 is a perspective view showing an example of a laminated film according to an embodiment of the present invention.
4 is a sectional view taken along line IV-IV of the laminated film shown in Fig.
5 is a perspective view showing an example of a flexible display according to an embodiment of the present invention.
6 is a photograph of a cut face of the laminated film of the embodiment.
이하에서, 경우에 따라 도면을 참조하면서 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 도면 중, 동일 또는 상당 부분에는 동일 부호를 붙이고, 중복하는 설명은 생략한다. 또한, 도면의 치수 비율은 도시의 비율에 한정되는 것은 아니다. 또한, 도면을 참조하여 실시 형태를 설명할 때의 상하 좌우 등의 위치 관계는, 특별히 언급하지 않는 한, 도면에 나타내는 위치 관계에 기초하는 것으로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as occasion demands. In the drawings, the same or equivalent portions are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In addition, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the ratios of the cities. In addition, the positional relationships of up, down, left, and right, etc. when describing the embodiments with reference to the drawings are based on the positional relationships shown in the drawings unless otherwise specified.
[광학 필름][Optical film]
본 실시 형태의 광학 필름은, 폴리이미드계 고분자를 함유하는 광학 필름으로서, 상기 광학 필름의 단면이, 하기 조건 (1) 또는 (2)의 일방 또는 양방을 만족시키는 것이다.The optical film of the present embodiment is an optical film containing a polyimide-based polymer, wherein the cross section of the optical film satisfies one or both of the following conditions (1) and (2).
조건 (1): 상기 광학 필름의 단면이, 상기 광학 필름의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이다.Condition (1): The cross section of the optical film is an inclined surface inclined at an angle of not less than 5 DEG and not more than 75 DEG with respect to the surface of the optical film.
조건 (2): 상기 광학 필름의 단면을 수직으로 절단한 자른 면의, 상기 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측의 영역에 있어서 측정되는, 하기 식 (A)에 의해 정의되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 500 ㎫ 이하이다.Condition (2): deviation (Ra) of the modulus of elasticity (DMT) of the DMT, defined by the following formula (A), measured in a region of 10 to 20 탆 from the cross- Of 500 MPa or less.
[수학식 4]&Quot; (4) "
[식 (A) 중, L은 Ra의 산출 범위의 길이를 나타내고, M(x)는 측정 위치 x에 있어서의 DMT 탄성률의 측정값을 나타낸다.][In the formula (A), L represents the length of the calculated range of Ra, and M (x) represents the measured value of the modulus of elasticity of the DMT at the measurement position x.
이하에서, 조건 (1)을 만족시키는 광학 필름의 실시 형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되지 않고, 조건 (1)을 만족시키지 않고, 조건 (2)만을 만족시키는 것이어도 된다. 또한, 조건 (1) 및 (2)의 양방을 만족시키는 광학 필름이 특히 바람직하다.Hereinafter, embodiments of the optical film satisfying the condition (1) will be described. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and it is possible to satisfy only the condition (2) without satisfying the condition . Further, an optical film satisfying both of the conditions (1) and (2) is particularly preferable.
도 1은 본 실시 형태에 관련된 광학 필름의 일례를 나타낸 사시도이다. 도 1에 나타낸 광학 필름(10)은, 직사각형(장방형)의 평면 형상을 갖고 있고, 짧은 쪽 방향에 있어서 서로 대향하는 2변(직사각형을 형성하는 서로 평행한 2개의 긴 변)의 단면 E1 및 E2, 및, 긴 쪽 방향에 있어서 서로 대향하는 2변(직사각형을 형성하는 서로 평행한 2개의 짧은 변)의 단면 E3 및 E4를 갖는다. 광학 필름(10)은, 단면이 광학 필름(10)의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이 되어 있다. 취급시의 결함의 발생을 보다 충분히 억제하는 관점에서, 대향하는 2변의 단면(단면 E1과 E2 또는 단면 E3과 E4)이 상기 경사면이 되어 있는 것이 바람직하고, 광학 필름(10)의 모든 단면이 상기 경사면이 되어 있는 것이 더 바람직하다. 도 1에 나타낸 본 실시 형태의 광학 필름(10)에서는, 단면 E1, E2, E3 및 E4 전부가 상기 경사면이 되어 있지만, 이것에 한정되지 않는다.1 is a perspective view showing an example of an optical film according to the present embodiment. The
도 2는 도 1에 나타낸 광학 필름의 II-II 단면도이다. 본 실시 형태의 광학 필름(10)에 있어서, 단면 E1 및 E2의 광학 필름(10)의 표면에 대한 경사각 θ는, 모두 5° 이상 75° 이하가 되어 있다. 마찬가지로, 본 실시 형태의 광학 필름(10)에 있어서, 단면 E3 및 E4의 광학 필름(10)의 표면에 대한 경사각 θ는, 모두 5° 이상 75° 이하가 되어 있다. 단면 E1, E2, E3 및 E4에 있어서의 경사각 θ는 각각 동일해도 되고 달라도 된다.2 is a cross-sectional view taken along line II-II of the optical film shown in FIG. In the
본 명세서에 있어서, 경사각 θ는, 필름 두께의 20% 이상 80% 이하의 막 두께 범위에 있어서의 평균 각도를 의미한다. 이 평균 각도는, 필름 두께의 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70% 및 80%의 위치에서의 단면의 경사각을 각각 측정하고, 그 평균값을 산출한 것이다. 또, 본 명세서에 있어서, 경사각 θ는, 광학 필름(10)의 일방의 표면과 단면이 이루는 각도로부터 구해지는 상기 평균 각도, 및, 광학 필름(10)의 타방(他方)의 표면과 단면이 이루는 각도로부터 구해지는 상기 평균 각도 중, 작은 쪽의 평균 각도를 의미한다. 필름 두께의 20% 미만이나 80%를 초과하는 막 두께 범위에 있는 필름 표면의 부근에 있어서, 단면은 곡률을 갖고 있어도 되고, 막 두께가 커진 불룩한 부분을 갖고 있어도 된다. 하나의 단면 내에 있어서, 경사각 θ는 대략 일정한 것이 바람직하지만, 변동되어 있어도 된다. 여기서, 경사 각도의 차는 30° 이하인 것이 바람직하고, 20° 이하인 것이 보다 바람직하고, 10° 이하인 것이 더 바람직하고, 5° 이하인 것이 특히 바람직하다. 경사 각도의 차는 30° 이하인 경우를 대략 일정으로 한다. 하나의 단면 내에 있어서 경사각 θ가 변동되어 있는 경우, 필름 취급시의 결함의 발생을 보다 충분히 억제하는 관점에서, 경사각 θ의 최대값과 최소값의 차는 50° 이하인 것이 바람직하고, 30° 이하인 것이 보다 바람직하다.In the present specification, the inclination angle? Means an average angle in a film thickness range of 20% or more and 80% or less of the film thickness. The average angles were obtained by measuring the inclination angles of the cross sections at the positions of 20%, 30%, 40%, 50%, 60%, 70% and 80% of the film thickness, respectively, and calculating the average value thereof. In this specification, the inclination angle &thetas; indicates the average angle obtained from the angle formed by one surface of the
경사각 θ는 5° 이상 75° 이하이지만, 필름 취급시의 결함의 발생을 보다 충분히 억제하는 관점에서, 10° 이상 73° 이하인 것이 보다 바람직하고, 20° 이상 70° 이하인 것이 더 바람직하고, 25° 이상 70° 이하인 것이 특히 바람직하다. 경사각 θ가 5° 미만이면, 단부의 강도가 저하되는 경우가 있고, 필름 취급시에 단부에 결함이 발생하기 쉬워진다. 경사각 θ가 75°를 초과하면, 필름 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 쉬워진다. 또한, 경사각 θ는, 광학 필름(10)의 단면 또는 자른 면을 광학현미경으로 관찰함으로써 측정할 수 있다.The angle of inclination [theta] is not less than 5 DEG and not more than 75 DEG. From the viewpoint of further suppressing the occurrence of defects at the time of handling the film, more preferably 10 DEG or more and 73 DEG or less, still more preferably 20 DEG or more and 70 DEG or less, Or more and 70 DEG or less. If the inclination angle? Is less than 5 degrees, the strength of the end portion may be lowered, and defects may easily occur at the end portion when the film is handled. When the inclination angle? Exceeds 75, defects such as folded marks and scratches are liable to occur at the time of film handling. The inclination angle? Can be measured by observing a cross section or a cut face of the
상기의 광학 필름(10)은, 굴절률이 통상 1.45∼1.70이고, 바람직하게는 1.50∼1.66이다.The refractive index of the above
광학 필름(10)의 두께는, 플렉시블 디바이스의 종류 등에 따라서 적당히 조정되지만, 통상 10∼500 ㎛이다. 필름이 얇으면 절단 후 취급에 있어서 접힘이 생기기 쉬워져, 결함이 생기는 원인이 될 수 있다. 또, 필름이 두꺼우면, 균일한 절단 가공을 하기가 어려워지는 경향이 있기 때문에, 15∼200 ㎛인 것이 바람직하고, 20∼100 ㎛인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the
광학 필름(10)은 통상 투명하다. 광학 필름(10)은 JIS K 7105: 1981에 준거한 전체 광선 투과율이 통상 85% 이상이고, 바람직하게는 90% 이상이다.The
광학 필름(10)은, JIS K 7105: 1981에 준거한 Haze가 1 이하일 수 있고, 0.9 이하일 수도 있다.The
또한, 굴절률, 전체 광선 투과율 및 Haze는, 광학 필름의 두께 방향에 있어서 측정하는 값이다.The refractive index, total light transmittance and haze are values measured in the thickness direction of the optical film.
광학 필름(10)의 크기는, 사용되는 플렉시블 디바이스의 크기에 따라서 적당히 조절할 수 있다. 광학 필름(10)의 평면 형상은 통상 직사각형 또는 정방형이지만, 사다리꼴, 평행사변형 등의 기타의 사각형이어도 된다. 또, 광학 필름(10)의 평면 형상은 모서리가 둥글게 된 사각형이어도 된다.The size of the
(광학 필름의 재질)(Material of optical film)
(투명 수지)(Transparent resin)
상기 광학 필름은 폴리이미드계 고분자 등의 투명 수지를 포함한다.The optical film includes a transparent resin such as a polyimide-based polymer.
(폴리이미드계 고분자)(Polyimide-based polymer)
본 명세서에 있어서, 폴리이미드란, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체이고, 폴리아미드란, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체이다. 폴리이미드계 고분자란, 폴리이미드 및 이미드기 및 아미드기의 양방을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체를 나타낸다.In the present specification, the polyimide is a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group, and the polyamide is a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group. The polyimide-based polymer refers to a polymer containing repeating structural units including both polyimide and imide groups and amide groups.
본 실시 형태에 관련된 폴리이미드계 고분자는, 후술하는 테트라카르본산 화합물과 디아민 화합물을 주된 원료로서 제조할 수 있고, 식 (10)으로 나타내어지는 반복 구조 단위를 갖는다. 여기서, G는 4가의 유기기이고, A는 2가의 유기기이다. G 및/또는 A가 다른, 2종류 이상의 식 (10)으로 나타내어지는 구조를 포함하고 있어도 된다. 또, 본 실시 형태에 관련된 폴리이미드계 고분자는, 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 식 (11)∼식 (13) 중 어느 것으로 나타내어지는 구조를 포함하고 있어도 된다.The polyimide-based polymer according to the present embodiment can be produced as a main raw material of a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound described later, and has a repeating structural unit represented by the formula (10). Here, G is a tetravalent organic group and A is a divalent organic group. G, and / or A may contain two or more kinds of structures represented by formula (10). The polyimide-based polymer according to the present embodiment may include a structure represented by any one of the formulas (11) to (13) within a range that does not impair various physical properties of the resulting polyimide-based polymer film.
[화학식 1][Chemical Formula 1]
[화학식 2](2)
[화학식 3](3)
[화학식 4][Chemical Formula 4]
G 및 G1은 4가의 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 식 중의 *은 결합손을 나타내고, Z는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar는 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다. G 및 G1은, 얻어지는 필름의 황색도를 억제하기 쉽기 때문에, 식 (20)∼식 (27)로 나타내어지는 기로부터 선택되는 어느 기인 것이 바람직하다.(21), (22), (23), and (23), G and G 1 are each a tetravalent organic group and are preferably organic groups which may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine- Examples of the group represented by the formula (24), the formula (25), the formula (26), the formula (27), the formula (28) or the formula (29) and the quadrivalent cyclic hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. Z represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH (CH 3 ) -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group. It is preferable that G and G 1 are any groups selected from the groups represented by formulas (20) to (27) since the degree of yellowness of the resulting film is easily suppressed.
[화학식 5][Chemical Formula 5]
G2는 3가의 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.G 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group which may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and is an organic group represented by Formula (20), Formula (21), Formula (22) Any one of the groups bonded to each other represented by the formulas (24), (25), (26), (27), (28) or (29) Of the chain hydrocarbon group are exemplified.
G3은 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.G 3 is a divalent organic group, preferably an organic group which may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and is an organic group represented by Formula (20), Formula (21), Formula (22) Of the groups bonded to each other represented by formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) or formula (29) The following chain hydrocarbon groups are exemplified.
A, A1∼A3은 모두 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 식 (30), 식 (31), 식 (32), 식 (33), 식 (34), 식 (35), 식 (36), 식 (37) 또는 식 (38)로 나타내어지는 기; 그들이 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 쇄식탄화수소기가 예시된다. 식 중의 *은 결합손을 나타내고, Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다. 하나의 예는, Z1 및 Z3이 -O-이고, 또한, Z2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. Z1과 Z2, 및, Z2와 Z3은, 각각, 각 환에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치인 것이 바람직하다.(30), (31), (32), (32), and (32), A and A 1 to A 3 are all bivalent organic groups and preferably may be substituted by a hydrocarbon group or a fluorine- A group represented by formulas (33), (34), (35), (36), (37) or (38); A group substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. Z 1 , Z 2 and Z 3 each independently represent a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH (CH 3 ) -, , -C (CH 3) 2 - , -C (CF 3) 2 - or denotes a -CO- -, -SO 2. One example is where Z 1 and Z 3 are -O- and Z 2 is -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 - or -SO 2 -. Z 1 and Z 2 , and Z 2 and Z 3 are each preferably a meta position or a para position with respect to each ring.
[화학식 6][Chemical Formula 6]
상기 광학 필름은 폴리아미드를 포함하고 있어도 된다. 본 실시 형태에 관련된 폴리아미드는, 식 (13)으로 나타내어지는 반복 구조 단위를 주(主)로 하는 중합체이다. 바람직한 예 및 구체예는, 폴리이미드계 고분자에 있어서의 G3 및 A3과 동일하다. G3 및/또는 A3이 다른, 2 종류 이상의 식 (13)으로 나타내어지는 구조를 포함하고 있어도 된다.The optical film may contain a polyamide. The polyamide according to the present embodiment is a polymer mainly comprising a repeating structural unit represented by formula (13). Preferred examples and specific examples are the same as G 3 and A 3 in the polyimide-based polymer. G 3 and / or A 3 may contain two or more kinds of structures represented by formula (13).
폴리이미드계 고분자는, 예를 들면, 디아민과 테트라카르본산 화합물(테트라카르본산 2 무수물 등)과의 중축합에 의해서 얻어지고, 예를 들면, 일본 공개특허 특개2006-199945호 공보 또는 일본 공개특허 특개2008-163107호 공보에 기재되어 있는 방법에 따라서 합성할 수 있다. 폴리이미드의 시판품으로서는, 미츠비시 가스 화학(주) 제 네오푸림, 가와무라 산업(주) 제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.The polyimide-based polymer is obtained, for example, by polycondensation of a diamine with a tetracarboxylic acid compound (tetracarboxylic acid dianhydride or the like). For example, JP-A-2006-199945 or JP- Can be synthesized according to the method described in JP-A-2008-163107. Examples of commercially available products of polyimide include Neopurim, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. and KPI-MX300F manufactured by Kawamura Industry Co., Ltd.
폴리이미드의 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 2 무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물 및 지방족 테트라카르본산 2 무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2 무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체(類緣體)여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound used for the synthesis of polyimide include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound derivative such as an acid chloride compound in addition to dianhydrides.
방향족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물 및 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있고, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenone Tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4 (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2- Bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '- (p- Oxy) diphthalic dianhydride, 4,4 '- (m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, preferably 4,4' 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2'- Bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) Propane dianhydride, 4,4'- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1- Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1- Dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '- (p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 4,4' - ) Diphthalic acid dianhydride. These may be used alone or in combination of two or more.
지방족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 갖는 테트라카르본산 2 무수물이며, 그 구체예로서는 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2 무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2 무수물, 디시클로헥실 3,3',4,4'-테트라카르본산 2 무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2 무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. The cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride is tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclo Butane tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride and the like, cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5 , 6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and their positional isomers. These may be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the non-cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, etc., Two or more species may be used in combination.
상기 테트라카르본산 2 무수물 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2 무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물이 바람직하다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, from the viewpoint of high transparency and low coloring property, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct- 5,6-tetracarboxylic dianhydride and 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride are preferable.
또한, 본 실시 형태에 관련된 폴리이미드계 고분자는, 얻어지는 폴리이미드계 고분자 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 상기의 폴리이미드 합성에 이용되는 테트라카르본산의 무수물에 추가하여, 테트라카르본산, 트리카르본산 및 디카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.In addition to the anhydride of the tetracarboxylic acid used in the polyimide synthesis, the polyimide-based polymer according to the present embodiment may contain tetracarboxylic acid, Tricarboxylic acid, dicarboxylic acid and anhydrides and derivatives thereof may be further reacted.
트리카르본산 화합물로서는 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연(類緣)의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 안식향산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids and their acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; Compounds in which phthalic anhydride and benzoic acid are linked by a single bond, -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or phenylene group.
디카르본산 화합물로서는 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는 테레프탈산; 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소,의 디카르본산 화합물 및 2개의 안식향산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids and their flexible acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include terephthalic acid; Isophthalic acid; Naphthalene dicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; A dicarboxylic acid compound of a cyclic hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids are bonded to a single bond, -CH 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -SO 2 - And the like.
폴리이미드의 합성에 이용되는 디아민으로서는, 지방족 디아민, 방향족 디아민 또는 그들의 혼합물이어도 된다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족 기 또는 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되고, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도 바람직하게는 벤젠환이다. 또, 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족 기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다.The diamine used for the synthesis of the polyimide may be an aliphatic diamine, an aromatic diamine or a mixture thereof. In the present embodiment, the term "aromatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and a part of the structure may contain an aliphatic group or other substituent. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring, but are not limited thereto. Of these, benzene rings are preferable. The term " aliphatic diamine " means a diamine in which an amino group is bonded directly to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be contained in a part of the structure.
지방족 디아민으로서는 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamines include alicyclic diamines such as hexamethylene diamine and the like; alicyclic diamines such as 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, -Diaminodicyclohexylmethane, and the like, and they may be used alone or in combination of two or more.
방향족 디아민으로서는 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aromatic diamine include aromatic diamines such as p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, Aromatic diamines having one aromatic ring such as 6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-dia Bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [ Bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- , 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) Flu Fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis And phenylphenyl) fluorene, and aromatic diamines having two or more aromatic rings may be used either alone or in combination of two or more.
상기 디아민 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 더 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘이 포함되는 것이 보다 더 바람직하다.Among the above diamines, from the viewpoints of high transparency and low coloring property, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure. (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether, which is composed of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, , More preferably at least one selected from the group consisting of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, and still more preferably 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine.
식 (10), 식 (11), 식 (12) 또는 식 (13)으로 나타내어지는 반복 구조 단위를 적어도 1종 포함하는 중합체인 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드는, 디아민과, 테트라카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 테트라카르본산 2 무수물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체), 트리카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 트리카르본산 무수물 등의 트리카르본산 화합물 유연체) 및 디카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 디카르본산 화합물 유연체)로 이루어지는 군에 포함되는 적어도 1종류의 화합물과의 중축합 생성물인 축합형 고분자이다. 출발 원료로서는, 이들에 추가하여, 추가로 디카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 유연체를 포함함)을 이용하는 경우도 있다. 식 (11)로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 통상 디아민류 및 테트라카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (12)로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 통상 디아민 및 트리카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (13)으로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 통상 디아민 및 디카르본산 화합물로부터 유도된다. 디아민 및 테트라카르본산 화합물의 구체예는, 상술한 바와 같다.The polyimide-based polymer and the polyamide, which are polymers containing at least one repeating structural unit represented by the formula (10), the formula (11), the formula (12) or the formula (13), can be prepared by reacting a diamine with a tetracarboxylic acid compound (E.g., a tetracarboxylic acid compound such as an acid chloride compound or a tetracarboxylic acid dianhydride), a tricarboxylic acid compound (an acid chloride compound, a tricarboxylic acid compound such as a tricarboxylic acid anhydride), and a dicarboxylic acid compound And at least one kind of compound contained in the group consisting of dicarboxylic acid-based compounds (such as dicarboxylic acid-based compounds). As the starting material, there may be used a dicarboxylic acid compound (including a derivative such as an acid chloride compound) in addition to these. The repeating structural unit represented by the formula (11) is usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by the formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by the formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. Specific examples of the diamine and tetracarboxylic acid compound are as described above.
본 실시 형태에 관련된 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드의 표준 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량은, 통상 10,000∼500,000이고, 바람직하게는 50,000∼500,000이고, 더 바람직하게는 100,000∼400,000이다. 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드의 중량평균 분자량이 클수록 필름화하였을 때에 높은 내굴곡성을 발현하기 쉬운 경향이 있지만, 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드의 중량평균 분자량이 너무 크면, 바니시의 점도가 높아지고, 가공성이 저하되는 경향이 있다.The weight average molecular weight of the polyimide-based polymer and the polyamide according to the present embodiment in terms of standard polystyrene standards is generally 10,000 to 500,000, preferably 50,000 to 500,000, and more preferably 100,000 to 400,000. The larger the weight average molecular weight of the polyimide-based polymer and the polyamide tends to exhibit the higher flex resistance when formed into a film, but when the weight average molecular weight of the polyimide-based polymer and the polyamide is too large, the viscosity of the varnish becomes higher, Is lowered.
폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드는, 함불소 치환기를 포함함으로써, 필름화하였을 때의 탄성률이 향상됨과 함께, YI 값이 저감되는 경향이 있다. 필름의 탄성률이 높으면, 흠집 및 주름 등의 발생이 억제되는 경향이 있다. 필름의 투명성의 관점에서, 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드는 함불소 치환기를 갖는 것이 바람직하다. 함불소 치환기의 구체예로서는 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.When the polyimide-based polymer and the polyamide contain a fluorine-substituted group, the modulus of elasticity of the film is improved and the YI value tends to be reduced. If the elastic modulus of the film is high, the occurrence of scratches and wrinkles tends to be suppressed. From the viewpoint of transparency of the film, it is preferable that the polyimide-based polymer and the polyamide have fluorine-substituted groups. Specific examples of fluorine-substituted groups include a fluoro group and a trifluoromethyl group.
폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드에 있어서의 불소 원자의 함유량은, 폴리이미드계 고분자 또는 폴리아미드의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1 질량% 이상 40 질량% 이하이고, 더 바람직하게는 5 질량% 이상 40 질량% 이하이다. 불소 원자의 함유량이 1 질량% 이상이면, 필름화하였을 때의 탄성률을 보다 향상하고, 흡수율을 낮추고, YI 값을 보다 저감하고, 투명성을 보다 향상할 수 있는 경향이 있다. 한편으로, 불소 원자의 함유량이 1 질량% 이상이면, 필름화하였을 때, 정전기의 발생에 의해 취급시에 불규칙한 접힘 등이 생기기 쉬워진다. 본 발명에 의하면, 이와 같은 필름이더라도, 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 어려운 광학 필름을 제공할 수 있다. 불소 원자의 함유량은 40 질량%를 초과하면, 합성이 곤란해지는 경향이 있다.The content of fluorine atoms in the polyimide-based polymer and the polyamide is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and still more preferably 5% by mass or less, based on the mass of the polyimide- Or more and 40 mass% or less. When the content of fluorine atoms is 1% by mass or more, there is a tendency to further improve the modulus of elasticity at the time of film formation, lower the water absorption rate, lower the YI value, and further improve the transparency. On the other hand, when the fluorine atom content is 1% by mass or more, irregular folding or the like tends to occur at the time of handling due to the generation of static electricity when formed into a film. According to the present invention, even such a film can provide an optical film which is less prone to occurrence of defects such as fold marks or scratches during handling. If the content of fluorine atoms exceeds 40 mass%, the synthesis tends to be difficult.
본 실시 형태에 관련된 광학 필름에 있어서, 폴리이미드계 고분자의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여, 40 질량% 이상일 수 있고, 바람직하게는 50 질량% 이상이고, 더 바람직하게는 70 질량% 이상이다. 폴리이미드계 고분자의 함유량이 40 질량% 이상이면, 양호한 굴곡성이 얻어지기 쉬운 경향이 있다.In the optical film related to the present embodiment, the content of the polyimide-based polymer may be 40 mass% or more, preferably 50 mass% or more, and more preferably 70 mass% or more based on the total mass of the optical film %. When the content of the polyimide-based polymer is 40 mass% or more, excellent bendability tends to be easily obtained.
(무기 입자)(Inorganic particles)
본 실시 형태에 관련된 광학 필름은, 상기의 폴리이미드계 고분자 및/또는 폴리아미드에 추가하여, 무기 입자 등의 무기 재료를 더 함유하고 있어도 된다.The optical film according to this embodiment may further contain an inorganic material such as inorganic particles in addition to the above-mentioned polyimide-based polymer and / or polyamide.
무기 재료로서 바람직하게는 실리카 입자, 오르토 규산 테트라에틸(TEOS) 등의 4급 알콕시실란 등의 규소 화합물을 들 수 있고, 바니시 안정성의 관점에서, 실리카 입자가 바람직하다.The inorganic material is preferably a silicon compound such as silica particles or quaternary alkoxysilane such as tetraethylorthosilicate (TEOS), and from the viewpoint of the varnish stability, silica particles are preferable.
실리카 입자의 평균 1차 입자경은 바람직하게는 10∼100 ㎚, 더 바람직하게는 20∼80 ㎚이다. 실리카 입자의 평균 1차 입자경이 100 ㎚ 이하이면 투명성이 향상되는 경향이 있다. 실리카 입자의 평균 1차 입자경이 10 ㎚ 이상이면, 실리카 입자의 응집력이 약해지기 때문에 취급하기 쉬워지는 경향이 있다.The average primary particle size of the silica particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 80 nm. When the average primary particle diameter of the silica particles is 100 nm or less, the transparency tends to be improved. When the average primary particle diameter of the silica particles is 10 nm or more, the cohesive force of the silica particles is weakened, and therefore, the silica particles tend to be easy to handle.
본 실시 형태에 관련된 실리카 미립자는, 유기 용제 등에 실리카 입자를 분산시킨 실리카 졸이어도 되고, 기상법에 의해 제조한 실리카 미립자 분말을 이용해도 되지만, 핸들링이 용이하기 때문에 실리카 졸인 것이 바람직하다.The silica fine particles according to the present embodiment may be silica sol in which silica particles are dispersed in an organic solvent or the like, and silica fine particle powders produced by a vapor phase method may be used, but silica sol is preferable because handling is easy.
광학 필름 중의 실리카 입자의 (평균) 1차 입자경은, 투과형 전자현미경(TEM)에 의한 관찰에 의해 구할 수 있다. 광학 필름을 형성하기 전의 실리카 입자의 입도 분포는, 시판의 레이저 회절식 입도분포계에 의해 구할 수 있다.The (average) primary particle size of the silica particles in the optical film can be obtained by observation with a transmission electron microscope (TEM). The particle size distribution of the silica particles before forming the optical film can be obtained by a commercially available laser diffraction particle size distribution meter.
본 실시 형태에 관련된 광학 필름에 있어서, 무기 재료의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여 0 질량% 이상 90 질량% 이하일 수 있고, 바람직하게는 0 질량% 이상 60 질량% 이하이고, 더 바람직하게는 0 질량% 이상 40 질량% 이하이다. 무기 재료(규소 재료)의 함유량이 상기의 범위 내이면, 광학 필름의 투명성 및 기계적 강도를 양립시키기 쉬운 경향이 있다.In the optical film related to the present embodiment, the content of the inorganic material may be 0 mass% or more and 90 mass% or less, preferably 0 mass% or more and 60 mass% or less based on the total mass of the optical film, And preferably 0% by mass or more and 40% by mass or less. When the content of the inorganic material (silicon material) is within the above range, the transparency and the mechanical strength of the optical film tends to be compatible with each other.
본 실시 형태에 관련된 광학 필름은, 이상으로 설명한 성분에 추가하여, 첨가제를 더 함유하고 있어도 된다. 상기 첨가제로서는 예를 들면, pH 조정제, 실리카 분산제, 자외선흡수제, 산화방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제 등의 착색제, 난연제, 활제(滑劑) 및 레벨링제를 들 수 있다.The optical film according to the present embodiment may further contain an additive in addition to the above-described components. Examples of the additives include pH adjusters, silica dispersants, ultraviolet absorbers, antioxidants, releasing agents, stabilizers, coloring agents such as bluing agents, flame retardants, lubricants and leveling agents.
수지 성분 및 무기 재료 이외의 성분의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0 질량% 이상 20 질량% 이하이고, 더 바람직하게는 0 질량% 초과 10 질량% 이하이다.The content of the components other than the resin component and the inorganic material is preferably 0 mass% or more and 20 mass% or less, more preferably 0 mass% or more and 10 mass% or less, based on the total mass of the optical film.
또, 본 실시 형태에 관련된 광학 필름은, 상기 광학 필름의 상기 단면을 수직으로 절단한 자른 면의, 상기 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측의 영역에 있어서 측정되는, 식 (A)에 의해 정의되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 500 ㎫ 이하인 것이 바람직하고, 400 ㎫ 이하인 것이 보다 바람직하고, 350 ㎫ 이하인 것이 더 바람직하다.The optical film according to the present embodiment is a film obtained by subjecting a cut face obtained by cutting the cross section of the optical film perpendicularly to a DMT defined by the formula (A), which is measured in a region inside 10 to 20 mu m from the cross section, The value of the deviation of the modulus of elasticity (Ra) is preferably 500 MPa or less, more preferably 400 MPa or less, still more preferably 350 MPa or less.
[수학식 5]&Quot; (5) "
[식 (A) 중, L은 Ra의 산출 범위의 길이를 나타내고, M(x)는 측정 위치 x에 있어서의 DMT 탄성률의 측정값을 나타낸다.][In the formula (A), L represents the length of the calculated range of Ra, and M (x) represents the measured value of the modulus of elasticity of the DMT at the measurement position x.
여기서, 필름 단면 부근의 탄성률의 분포는 SPM(Scanning Probe Microscope)의 DMT(Derjaguin-Muller-Toporov) Modulus Image 측정에 의해서 확인할 수 있다. 일반적인 셰어 날을 이용한 절단의 경우, 단부 부근에서 불규칙한 응력이 생겨 왜곡이 잔류하기 때문에, 상기 탄성률의 분포가 커지기 쉽지만, 이것을 작게 함으로써, 본 발명의 효과가 얻어지기 쉬운 경향이 있다.Here, the distribution of the elastic modulus in the vicinity of the film cross section can be confirmed by DMT (Derjaguin-Muller-Toporov) Modulus Image measurement of SPM (Scanning Probe Microscope). In the case of cutting with a common shear blade, irregular stress is generated in the vicinity of the end portion, and the distortion remains. Therefore, the distribution of the above-mentioned elastic modulus tends to increase. However, by reducing this, the effect of the present invention tends to be easily obtained.
(SPM의 측정법)(Measurement method of SPM)
광학 필름을, 광학 필름의 1변에 대하여 수직 방향으로, 면도칼 등의 칼로 절단한다. 칼로 절단하면 왜곡이 잔류하는 경우가 있으므로, 울트라 미크로톰을 이용하여, 절단한 시험편을 -60℃로 냉각하고, 유리 나이프를 이용하여, 자른 면을 10 ㎛ 이상 절삭한다. 절삭한 시험편을 SPM에 세트한다. 사용하는 캔틸레버는 스프링 상수가 10∼60 N/m인 것을 선정하고, QNM(Quantitative Nanomechanical Mapping)의 모드를 이용하여 DMT Modulus Image를 측정한다. 여기서, DMT Modulus는 DMT 모델을 이용하여 피팅함으로써 얻어지는 Modulus(탄성률)이다. DMT 모델은 Derjaquin, Muller, Toropov 모델을 말한다. 필름 단면 근방의 Image를 측정하고, Image로부터 Line Profile을 작성한다. Line Profile은 필름 단면으로부터 내부의 방향으로 작성을 행하고, 필름 단면의 위치를 0 ㎛로 한다. 10∼20 ㎛의 DMT 탄성률의 분포로부터 Ra를 구한다. Image를 필름 두께의 90∼70%, 60∼40%, 30∼10%의 위치에서, 3개소 측정하고, 각각의 Image로부터 Line profile을 작성하고, N=3의 Ra를 계산하여, 평균값을 구한다.The optical film is cut with a knife such as a razor in a direction perpendicular to one side of the optical film. Distortion may remain when cut with a knife. Therefore, the cut test piece is cooled to -60 占 폚 using an ultra-microtome, and the cut surface is cut by 10 占 퐉 or more using a glass knife. The cut specimen is set in SPM. For the cantilever, select a spring constant of 10 to 60 N / m, and measure the DMT Modulus Image using the QNM (Quantitative Nanomechanical Mapping) mode. Here, DMT Modulus is a Modulus (Modulus) obtained by fitting using a DMT model. The DMT model refers to Derjaquin, Muller, and Toropov models. Measure the image near the end face of the film, and create a line profile from the image. The line profile is prepared in the direction from the end face of the film to the inside direction, and the position of the end face of the film is 0 탆. From the distribution of the DMT elastic modulus of 10 to 20 mu m, Ra is obtained. The image is measured at three positions at 90 to 70%, 60 to 40%, and 30 to 10% of the film thickness, a line profile is created from each image, and Ra of N = 3 is calculated to obtain an average value .
[적층 필름][Laminated film]
본 실시 형태의 적층 필름은, 상술한 본 실시 형태의 광학 필름과, 당해 광학 필름의 적어도 일방의 표면 상에 적층된 기능층을 구비하는 것이다. 본 실시 형태의 적층 필름에 있어서, 상기 광학 필름의 단면과 상기 기능층의 단면은, 연속적으로 접속되어 있는 것이 바람직하다.The laminated film of the present embodiment is provided with the optical film of the above-described embodiment and the functional layer laminated on at least one surface of the optical film. In the laminated film of the present embodiment, it is preferable that the cross section of the optical film and the cross section of the functional layer are continuously connected.
도 3은 본 실시 형태에 관련된 적층 필름의 일례를 나타낸 사시도이다. 도 3에 나타낸 적층 필름(30)은, 직사각형의 평면 형상을 갖고 있다. 적층 필름(30)을 구성하는 기능층(20)은, 짧은 쪽 방향에 있어서 서로 대향하는 2변(직사각형을 형성하는 서로 평행한 2개의 긴 변)의 단면 E11 및 E12, 및, 긴 쪽 방향에 있어서 서로 대향하는 2변(직사각형을 형성하는 서로 평행한 2개의 짧은 변)의 단면 E13 및 E14를 갖는다. 기능층(20)은, 단면이 기능층(20)의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이 되어 있는 부분을 갖고 있으면 되고, 적어도 대향하는 2변의 단면(단면 E11과 E12 또는 단면 E13과 E14)이 기능층(20)의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이 되어 있는 것이 더 바람직하다. 그리고, 기능층(20)의 경사면은, 광학 필름(10)의 경사면과 연속적으로 접속되어 있는 것이 바람직하다. 취급시의 결함의 발생을 보다 충분히 억제하는 관점에서, 기능층(20)의 모든 단면이 상기 경사면이 되어 있으면 특히 바람직하다. 도 3에 나타낸 본 실시 형태의 적층 필름(30)에서는, 기능층(20)의 단면 E11, E12, E13 및 E14 전부가 상기 경사면이 되어 있지만, 이것에 한정되지 않는다.3 is a perspective view showing an example of the laminated film according to the embodiment. The
도 4는 도 3에 나타낸 적층 필름의 IV-IV 단면도이다. 본 실시 형태의 적층 필름(30)의 기능층(20)에 있어서, 단면 E11 및 E12의 기능층(20)의 표면에 대한 경사각 θ'는 모두 5° 이상 75° 이하가 되어 있는 것이 바람직하다. 마찬가지로, 본 실시 형태의 적층 필름(30)의 기능층(20)에 있어서, 단면 E13 및 E14의 기능층(20)의 표면에 대한 경사각 θ'는 모두 5° 이상 75° 이하가 되어 있는 것이 바람직하다. 단면 E11, E12, E13 및 E14에 있어서의 경사각 θ'는, 각각 동일해도 되고 달라도 된다. 또, 하나의 단면 내에 있어서, 경사각 θ'는 대략 일정한 것이 바람직하지만, 5° 이상 75° 이하의 범위 내이면 변동되어 있어도 된다. 하나의 단면 내에 있어서 경사각 θ'가 변동되어 있는 경우, 필름 취급시의 결함의 발생을 보다 충분히 억제하는 관점에서, 경사각 θ'의 최대값과 최소값의 차는 30° 이하인 것이 바람직하고, 20° 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 도 4에 나타내는 적층 필름(30)에 있어서, 광학 필름(10)의 경사각 θ는 광학 필름(10)과 기능층(20)의 적층면을 경사각 θ=0°로 하고 있다.4 is a sectional view taken along line IV-IV of the laminated film shown in Fig. It is preferable that the inclination angles? 'Of the cross-sections E11 and E12 with respect to the surface of the
다른 형태의 적층 필름(30)에 있어서, 위쪽 바닥보다 아래쪽 바닥 쪽이 짧은 역사다리꼴의 자른 면 형상, 환언하면, 적층 필름(30)의 광학 필름(10)측의 표면으로부터 기능층(20)측의 표면을 향하여 단면이 오므라든 자른 면 형상을 갖고 있어도 된다. 이 때, 광학 필름(10)의 경사각 θ는, 광학 필름(10)의 기능층(20)과의 적층면과는 반대측의 면을 경사각 θ=0°로 하고 있어도 되고, 기능층(20)의 경사각 θ'는, 광학 필름(10)의 기능층(20)과의 적층면을 경사각 θ'=0°로 하고 있어도 된다. 또한, 도 4의 적층 필름(30)의 방향은 상하 반대여도 된다.In the other form of the
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한층 더 다른 형태의 적층 필름(30)은, 광학 필름(10) 및 기능층(20)의 일방의 단면 E1, E11이 경사면이 되어 있고, 반대측의 단면 E2, E12가 광학 필름(10) 및 기능층(20)의 표면에 대하여 수직인 수직면이 되어 있어도 된다. 또한, 광학 필름(10)의 기타의 단면 E3, E4 및 기능층(20)의 기타의 단면 E13, E14는 경사면이어도 되고 수직면이어도 된다. 한층 더 다른 형태의 적층 필름(30)에 있어서, 광학 필름(10)의 경사각 θ는, 광학 필름(10)의 기능층(20)과의 적층면을 경사각 θ=0°로 하고 있어도 되고, 기능층(20)의 경사각 θ'는, 광학 필름(10)의 기능층(20)과의 적층면과는 반대측의 면을 경사각 θ'=0°로 하고 있어도 된다.Still another type of
이 경우의 광학 필름(10)의 경사각 θ 및 기능층(20)의 경사각 θ'의 위치는, 상기 다른 형태의 적층 필름(30)과 동일해도 된다. 또한, 적층 필름(30)의 방향은 상하 반대여도 된다.In this case, the inclination angle? Of the
본 명세서에 있어서, 적층 필름(30)에 있어서의 광학 필름(10)의 단면의 경사각 θ는, 광학 필름(10)의 일방의 표면과 단면이 이루는 각도로부터 구해지는 상기 평균 각도, 및, 광학 필름(10)의 타방의 표면과 단면이 이루는 각도로부터 구해지는 상기 평균 각도 중, 작은 쪽의 평균 각도를 의미한다. 마찬가지로, 적층 필름(30)에 있어서의 기능층(20)의 단면의 경사각 θ는, 기능층(20)의 일방의 표면과 단면이 이루는 각도로부터 구해지는 상기 평균 각도, 및, 기능층(20)의 타방의 표면과 단면이 이루는 각도로부터 구해지는 상기 평균 각도 중, 작은 쪽의 평균 각도를 의미한다. 여기서 말하는 광학 필름(10) 및 기능층(20)의 표면은, 광학 필름(10)과 기능층(20)의 적층면을 포함한다.In the present specification, the inclination angle? Of the cross section of the
경사각 θ'는 5° 이상 75° 이하이지만, 필름 취급시의 결함의 발생을 보다 충분히 억제하는 관점에서, 10° 이상 73° 이하인 것이 보다 바람직하고, 20° 이상 70° 이하인 것이 더 바람직하고, 25° 이상 70° 이하인 것이 특히 바람직하다. 경사각 θ'가 5° 미만이면, 단부의 강도가 저하되고, 필름 취급시에 단부에 결함이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 경사각 θ'가 75°를 초과하면, 필름 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 또한, 경사각 θ'는, 적층 필름(30)의 단면 또는 자른 면을 광학현미경으로 관찰함으로써 측정할 수 있다.Is not less than 5 DEG and not more than 75 DEG, it is more preferably not less than 10 DEG and not more than 73 DEG, more preferably not less than 20 DEG and not more than 70 DEG, and more preferably not more than 25 DEG ° or more and 70 ° or less. If the inclination angle &thetas; 'is less than 5 DEG, the strength of the end portion is lowered, and defects tend to be easily generated at the end portion when the film is handled. If the inclination angle &thetas; 'exceeds 75 DEG, defects such as fold marks or scratches tend to occur at the time of film handling. The inclination angle? 'Can be measured by observing a cross section or a cut face of the
광학 필름(10)의 단면과 기능층(20)의 단면이 연속하여 경사면을 형성하는 경우, 광학 필름(10)의 단면의 경사각 θ와, 기능층(20)의 단면의 경사각 θ'는 동일해도 되고 달라도 된다. 필름 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함의 발생을 보다 억제할 수 있음과 함께, 광학 필름(10)과 기능층(20)이 보다 벗겨지기 어려워지기 때문에, 경사각 θ와 경사각 θ'의 차는 20° 이하인 것이 바람직하고, 10° 이하인 것이 보다 바람직하고, 경사각 θ와 경사각 θ'가 대략 동일한 것이 특히 바람직하다.When the end face of the
기능층(20)으로서는 자외선흡수층, 하드 코팅층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층 등의 여러 가지 기능을 갖는 층을 들 수 있다. 또한, 적층 필름(30)은, 기능이 다른 복수의 기능층을 구비하고 있어도 되고, 상술한 기능층 중 2종 이상의 층을 구비하고 있어도 된다. 기능층(20)은 하드 코팅층을 포함하는 것이 바람직하다.Examples of the
(기능층)(Functional layer)
기능층으로서의 하드 코팅층은, 표면에 고경도가 발현되는 기능을 갖는 층이며, 예를 들면, 광학 필름의 표면의 연필경도보다 높은 연필경도를 갖는 표면을 적층 필름에 부여하는 층이다. 하드 코팅층의 표면의 연필경도는, 예를 들면 2H 이상이어도 된다. 이 하드 코팅층은, 특별히 한정되지 않지만, 아크릴계, 에폭시계, 우레탄계, 벤질클로라이드계, 비닐계 등의 공지의 하드 코팅을 이용할 수 있다. 아크릴계 하드 코팅은, 폴리(메타)아크릴레이트류로 대표되는, 자외선 경화형, 전자선 경화형, 또는 열 경화형의 수지를 포함한다. 하드 코팅층은 광중합개시제, 유기 용제를 포함해도 되고, 실리카, 알루미나, 폴리오르가노실록산 등의 무기 산화물을 포함해도 된다.The hard coat layer as the functional layer is a layer having a function of exhibiting high hardness on the surface and is a layer which gives a laminate film a surface having a pencil hardness higher than the pencil hardness of the surface of the optical film, for example. The pencil hardness of the surface of the hard coat layer may be, for example, 2H or more. The hard coating layer is not particularly limited, and known hard coatings such as acrylic, epoxy, urethane, benzyl chloride, and vinyl can be used. The acrylic hard coating includes an ultraviolet curing type, an electron beam curing type, or a thermosetting type resin typified by poly (meth) acrylates. The hard coat layer may contain a photopolymerization initiator, an organic solvent, or an inorganic oxide such as silica, alumina, or polyorganosiloxane.
기능층으로서의 자외선 흡수층은, 자외선 흡수의 기능을 갖는 층이며, 예를 들면, 자외선 경화형의 투명 수지, 전자선 경화형의 투명 수지, 및 열 경화형의 투명 수지로부터 선택되는 주재(主材)와, 이 주재에 분산된 자외선흡수제로 구성된다. 기능층으로서 자외선 흡수층을 마련함으로써, 광 조사에 의한 황색도의 변화를 용이하게 억제할 수 있다.The ultraviolet absorbing layer as the functional layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays and is composed of, for example, a base material (main material) selected from a transparent resin of ultraviolet curing type, a transparent resin of electron beam curing type and a thermosetting type transparent resin, And an ultraviolet absorber dispersed in the ultraviolet absorber. By providing an ultraviolet absorbing layer as a functional layer, the change in yellowness due to light irradiation can be easily suppressed.
기능층으로서의 점착층은 점착성의 기능을 갖는 층이며, 광학 필름을 기타 부재에 접착시키는 기능을 갖는다. 점착층의 형성 재료로서는 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열 경화성 수지 조성물 또는 광 경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다.The adhesive layer as a functional layer is a layer having a stickiness function and has a function of bonding the optical film to other members. As a material for forming the adhesive layer, conventionally known materials can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photo-curable resin composition can be used.
점착층은, 중합성 관능기를 갖는 성분을 포함하는 수지 조성물로 구성되어 있어도 된다. 이 경우, 광학 필름을 기타 부재에 밀착시킨 후에 점착층을 구성하는 수지 조성물을 추가로 중합시킴으로써, 강고한 접착을 실현할 수 있다. 광학 필름과 점착층의 접착 강도는 0.1 N/cm 이상 또는 0.5 N/cm 이상이어도 된다.The adhesive layer may be composed of a resin composition containing a component having a polymerizable functional group. In this case, strong adhesion can be realized by further polymerizing the resin composition constituting the adhesive layer after the optical film is brought into close contact with the other members. The adhesive strength between the optical film and the adhesive layer may be 0.1 N / cm or more or 0.5 N / cm or more.
점착층은, 열 경화성 수지 조성물 또는 광 경화성 수지 조성물을 재료로서 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 수지 조성물을 고분자화하여 경화시킬 수 있다.The adhesive layer may contain a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition as a material. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.
점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 첩착되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 갖고, 가벼운 압력에 의해 피착재에 접착하는 물질」(JIS K6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로 캡슐)에 내용(內容)하고, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해서 피막을 파괴할 때까지는 안정성을 보지(保持)할 수 있는 접착제」(JIS K6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The pressure-sensitive adhesive layer may be a pressure-sensitive adhesive (Pressure Sensitive Adhesive, PSA) layer adhered to an object by pressurization. The pressure-sensitive adhesive may be a pressure-sensitive adhesive which is "a substance which is tacky at room temperature and adheres to the adherend by light pressure" (JIS K6800), "a specific component is contained in a protective film (microcapsule) (JIS K6800) which can maintain stability until the film is destroyed by means (pressure, heat, etc.) "(JIS K6800).
기능층으로서의 색상 조정층은 색상 조정의 기능을 갖는 층이며, 광학 필름을 목적으로 하는 색상으로 조정할 수 있는 층이다. 색상 조정층은 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 이 착색제로서는 예를 들면, 산화티탄, 산화아연, 벵갈라, 티타늄옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본 블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산바륨 및 탄산칼슘 등의 체질 안료; 염기성 염료, 산성 염료 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.The color adjustment layer as a functional layer is a layer having a function of color adjustment, and is a layer which can be adjusted to a desired color by an optical film. The color adjusting layer is, for example, a layer containing a resin and a coloring agent. Examples of the colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, spinach, titanium oxide-based fired pigment, starch, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as azo compounds, quinacridone compounds, anthraquinone compounds, perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, threne compounds and diketopyrrolopyrrole compounds; Extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; Dyes such as basic dyes, acid dyes and mordant dyes.
기능층으로서의 굴절률 조정층은 굴절률 조정의 기능을 갖는 층이며, 광학 필름과는 다른 굴절률을 갖고, 적층 필름에 소정의 굴절률을 부여할 수 있는 층이다. 굴절률 조정층은 예를 들면, 적당히 선택된 수지, 및 경우에 따라 추가로 안료를 함유하는 수지층이어도 되고, 금속의 박막이어도 된다.The refractive index adjustment layer as a functional layer is a layer having a function of refractive index adjustment and has a refractive index different from that of the optical film and is capable of imparting a predetermined refractive index to the laminated film. The refractive index adjusting layer may be, for example, a suitably selected resin, and optionally, a resin layer containing a pigment, or may be a thin film of a metal.
굴절률을 조정하는 안료로서는, 예를 들면, 산화규소, 산화알루미늄, 산화안티몬, 산화주석, 산화티탄, 산화지르코늄 및 산화탄탈을 들 수 있다. 안료의 평균 입자경은 0.1 ㎛ 이하여도 된다. 안료의 평균 입자경을 0.1 ㎛ 이하로 함으로써, 굴절률 조정층을 투과하는 광의 난반사를 방지하고, 투명도의 저하를 방지할 수 있다.Examples of pigments for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide and tantalum oxide. The average particle diameter of the pigment may be 0.1 占 퐉 or less. By setting the average particle diameter of the pigment to be not more than 0.1 mu m, irregular reflection of light transmitted through the refractive index adjustment layer can be prevented, and reduction in transparency can be prevented.
굴절률 조정층에 이용되는 금속으로서는, 예를 들면, 산화티탄, 산화탄탈, 산화지르코늄, 산화아연, 산화주석, 산화규소, 산화인듐, 산질화티탄, 질화티탄, 산질화규소, 질화규소 등의 금속 산화물 또는 금속 질화물을 들 수 있다.Examples of the metal used for the refractive index adjustment layer include metal oxides such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, Metal nitrides.
기능층은 광학 필름의 용도에 따라서 상기의 기능을 적당히 갖는다. 기능층은 단층이어도 되고 복수의 층이어도 된다. 각 층이 1개의 기능 또는 2개 이상의 기능을 갖고 있어도 된다.The functional layer suitably has the above functions depending on the use of the optical film. The functional layer may be a single layer or a plurality of layers. Each layer may have one function or two or more functions.
기능층의 두께는, 광학 필름이 적용되는 플렉시블 디바이스 등의 용도에 따라서 적당히 조정되지만, 예를 들면, 1∼100 ㎛ 또는 2∼80 ㎛여도 된다.The thickness of the functional layer is appropriately adjusted depending on the application such as a flexible device to which the optical film is applied, but may be, for example, 1 to 100 占 퐉 or 2 to 80 占 퐉.
[광학 필름의 제조 방법][Production method of optical film]
다음으로, 본 실시 형태의 광학 필름의 제조 방법의 일례를 설명한다.Next, an example of a manufacturing method of the optical film of the present embodiment will be described.
본 실시 형태에 관련된 광학 필름의 제작에 이용하는 바니시(광학 필름용 바니시)는, 예를 들면, 상기 테트라카르본산 화합물, 상기 디아민 및 상기의 기타의 원료로부터 선택하여 반응시켜 얻어지는, 폴리이미드계 고분자 및/또는 폴리아미드의 반응액, 용매 및 필요에 따라서 이용되는 상기 첨가제를 혼합, 교반함으로써 조제할 수 있다. 폴리이미드계 고분자 등의 반응액 대신에, 구입한 폴리이미드계 고분자 등의 용액이나, 구입한 고체의 폴리이미드계 고분자 등의 용액을 이용해도 된다.The varnish (varnish for optical film) used in the production of the optical film related to the present embodiment can be obtained by, for example, a polyimide-based polymer obtained by reacting the tetracarboxylic acid compound, the diamine and the above- And / or a reaction liquid of a polyamide, a solvent, and the above-mentioned additive to be used, if necessary. Instead of the reaction liquid such as the polyimide-based polymer, a solution of the purchased polyimide-based polymer or the like or a solution of the purchased solid polyimide-based polymer may be used.
상기 바니시에 포함되는 용매는, 폴리이미드계 고분자를 용해 가능하면 된다. 용매로서는 예를 들면, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드계 용매, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매, 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용제, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매를 이용할 수 있다. 이들 용매 중에서도 아미드계 용제 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 또, 이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용해도 된다.The solvent contained in the varnish may be any solvent capable of dissolving the polyimide-based polymer. Examples of the solvent include amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, lactone solvents such as? -Butyrolactone and? -Valerolactone, dimethylsulfone, , Sulfur-containing solvents such as sulfolane, carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate can be used. Of these solvents, amide solvents or lactone solvents are preferred. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
이어서, 공지의 롤 투 롤이나 배치 방식에 의해, 수지 기재, 스테인리스강 벨트, 또는 유리 기재 상에, 상기의 바니시를 도포하여 도막을 형성하고, 그 도막을 건조하여, 기재로부터 박리함으로써, 폴리이미드계 고분자를 포함하는 필름을 얻는다. 박리 후에 추가로 필름의 건조를 행해도 된다.Subsequently, the above-mentioned varnish is applied onto a resin substrate, a stainless steel belt, or a glass substrate by a known roll-to-roll method or a batch method to form a coated film. The coated film is dried and peeled off from the substrate, To obtain a film containing the polymer. After the peeling, the film may be further dried.
도막의 건조는 온도 50∼350℃에서, 적당히, 대기 하, 불활성 분위기 하 또는 감압의 조건 하에 용매를 증발시킴으로써 행한다.The coating film is dried by evaporating the solvent at a temperature of 50 to 350 占 폚 under moderate, atmospheric, inert atmosphere or reduced pressure.
수지 기재의 예로서는 PET, PEN, 폴리이미드, 폴리아미드이미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도 내열성이 우수한 수지가 바람직하다. 특히, PET 기재가 필름과의 밀착성 및 비용의 관점에서 바람직하다.Examples of the resin substrate include PET, PEN, polyimide, and polyamideimide. Above all, a resin having excellent heat resistance is preferable. In particular, the PET substrate is preferable from the viewpoint of adhesion with the film and cost.
계속해서, 광학 필름의 단면에 대하여, 광학 필름 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이 되도록 처리를 실시한다.Subsequently, the cross section of the optical film is processed so as to be inclined at an angle of not less than 5 degrees and not more than 75 degrees with respect to the optical film surface.
상기 처리 방법으로서는, 상기 경사각을 갖도록 단면을 절단하거나 또는 깎는 방법을 들 수 있다. 단면을 절단하거나 또는 깎는 방법으로서는 레이저를 조사하는 방법, 셰어 날 등의 절단 날을 비스듬하게 이용하는 방법을 들 수 있다. 그 중에서도, 경사각의 변동이 적은 평활한 경사면을 형성하기 쉽기 때문에, 레이저를 조사하는 방법이 바람직하다. 즉, 상기 처리에 의해 형성된 단면은 레이저 절단면인 것이 바람직하다.As the above-mentioned treatment method, there is a method of cutting or cutting the end face so as to have the inclination angle. Examples of the method of cutting or cutting the end face include a method of irradiating a laser beam and a method of using a cutting edge of a shear blade at an oblique angle. Among them, a method of irradiating a laser is preferable because it is easy to form a smooth inclined surface with less variation in the tilt angle. That is, the cross section formed by the above process is preferably a laser cut surface.
레이저로서는 특별히 한정되지 않고, 상기 경사면을 형성 가능한 임의의 레이저를 이용할 수 있다. 사용 가능한 레이저로서 구체적으로는, CO2 레이저, 엑시머 레이저 등의 기체 레이저; YAG 레이저 등의 고체 레이저; 반도체 레이저 등을 들 수 있다. 적합한 레이저는 CO2 레이저이다. 구체적으로는, 필름 원반(原反)을 원하는 크기로 CO2 레이저로 절단함으로써, 상기 경사각을 갖는 단면을 용이하게 형성할 수 있다.The laser is not particularly limited, and any laser capable of forming the inclined plane can be used. Specific examples of usable lasers include gas lasers such as CO 2 lasers and excimer lasers; Solid state lasers such as YAG lasers; Semiconductor lasers, and the like. A suitable laser is a CO 2 laser. Specifically, by cutting the original film with a CO 2 laser to a desired size, a cross section having the inclination angle can be easily formed.
레이저 조사는, 상기 경사각을 갖는 단면을 용이하게 형성하는 관점에서, 이하의 조건으로 행하는 것이 바람직하다. 레이저는 10 ㎛ 이하의 파장이면 바람직하다. 출력은 10 W 이상이 바람직하고, 12 W 이상이 더 바람직하다. 출력이 커지면, 경사각이 작아지기 쉬운 경향이 있고, 출력이 작아지면, 경사각이 커지기 쉬운 경향이 있다. 레이저에 의한 가공 속도는 50 ㎜/sec 이상인 것이 바람직하고, 100 ㎜/sec 이상이면 더 바람직하다. 단부에 복수 회 레이저를 조사해도 된다. 레이저는, 상기 경사각을 갖는 절단면을 형성하기 위하여, 광학 필름의 표면에 대하여 레이저의 중심축이 경사지도록 비스듬한 방향으로부터 조사할 수 있다. 또, 광학 필름의 표면에 대하여 수직 방향으로부터 레이저 조사를 행하면서, 레이저의 초점위치를 어긋나게 함(예를 들면, 광학 필름 표면보다 상방에 초점 위치를 설정함)으로써, 상기 경사각을 갖는 절단면을 형성해도 된다.The laser irradiation is preferably performed under the following conditions from the viewpoint of easily forming a cross section having the inclination angle. The laser is preferably a wavelength of 10 탆 or less. The output is preferably 10 W or more, and more preferably 12 W or more. When the output becomes large, the inclination angle tends to become small, and when the output becomes small, the inclination angle tends to become large. The processing speed by the laser is preferably 50 mm / sec or more, more preferably 100 mm / sec or more. The end portion may be irradiated with a laser a plurality of times. The laser can be irradiated from the oblique direction so that the central axis of the laser is inclined with respect to the surface of the optical film in order to form the cut surface having the inclination angle. Further, the laser beam is irradiated from the direction perpendicular to the surface of the optical film, and the focal position of the laser is shifted (for example, the focal position is set above the optical film surface) to form a cut surface having the inclination angle .
[적층 필름의 제조 방법][Production method of laminated film]
본 실시 형태에 관련된 적층 필름의 제작에 있어서, 기능층의 형성에 이용하는 바니시(기능층용 바니시)는, 상술한 기능층의 종류에 따른 재료를 배합하여 조제할 수 있다.In the production of the laminated film according to the present embodiment, the varnish (varnish for a functional layer) used for forming the functional layer can be prepared by blending a material according to the kind of the above-mentioned functional layer.
본 실시 형태에 관련된 적층 필름의 제조 방법에서는, 먼저, 공지의 롤 투 롤이나 배치 방식에 의해, 수지 기재, 스테인리스강 벨트, 또는 유리 기재 상에, 상기 광학 필름용 바니시를 도포하여 도막을 형성하고, 그 도막을 건조하고, 기재로부터 박리하여 광학 필름을 얻는다. 이어서, 광학 필름 상에, 상기 기능층용 바니시를 도포하여 도막을 형성함으로써, 광학 필름과 기능층이 적층된 적층 필름을 얻는다. 광학 필름과 기능층의 도막의 형성 순서는 반대여도 되고, 기재 상에 기능층의 도막을 형성한 후, 그 도막 상에 광학 필름의 도막을 형성해도 된다. 또, 광학 필름에 공지의 접착제, 점착제를 이용하여 맞붙여도 된다.In the method for producing a laminated film according to the present embodiment, first, a varnish for optical film is applied on a resin substrate, a stainless steel belt, or a glass substrate by a known roll-to-roll method or a batch method to form a coated film , The coating film is dried and peeled from the substrate to obtain an optical film. Then, the varnish for a functional layer is applied on the optical film to form a coated film, whereby a laminated film in which the optical film and the functional layer are laminated is obtained. The order of formation of the coating film of the optical film and the functional layer may be reversed, or a coating film of the optical film may be formed on the coating film after forming a coating film of the functional layer on the substrate. Further, a known adhesive or an adhesive may be applied to the optical film.
광학 필름 및 기능층의 도막의 건조는, 온도 50∼350℃에서 용매를 증발시킴으로써 행한다. 대기 하, 불활성 분위기 하, 또는 감압의 조건 하에서 건조시켜도 된다.The drying of the coating film of the optical film and the functional layer is carried out by evaporating the solvent at a temperature of 50 to 350 캜. It may be dried under an atmosphere, under an inert atmosphere, or under reduced pressure.
계속해서, 적층 필름의 단면에 대하여, 적층 필름 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이 되도록 처리를 실시한다. 그 처리 방법은, 광학 필름의 제작 방법에 있어서 설명한 방법과 동일하다. 이러한 처리는 통상 광학 필름 및 기능층의 양방에 대하여 동시에 실시한다. 이 경우, 광학 필름과 기능층에서 연속한 경사면이 형성되기 때문에 바람직하다.Subsequently, the cross section of the laminated film is treated so as to be inclined at an angle of not less than 5 DEG and not more than 75 DEG with respect to the surface of the laminated film. The treatment method is the same as the method described in the production method of the optical film. This treatment is usually carried out simultaneously for both the optical film and the functional layer. In this case, continuous slopes are formed in the optical film and the functional layer, which is preferable.
[플렉시블 디바이스][Flexible Devices]
이와 같은 광학 필름 및 적층 필름은, 플렉시블 디바이스의 전면판으로서 적합하게 사용할 수 있다. 본 실시 형태에 관련된 플렉시블 디바이스는, 플렉시블 기능층과, 플렉시블 기능층에 겹쳐져 전면판으로서 기능하는 상기의 광학 필름 또는 적층 필름을 갖는다. 즉, 플렉시블 디바이스의 전면판은 플렉시블 기능층 상의 시인측에 배치된다. 이 전면판은 플렉시블 기능층을 보호하는 기능을 갖는다.Such an optical film and laminated film can be suitably used as a front plate of a flexible device. The flexible device according to the present embodiment has a flexible functional layer and the above optical film or laminated film which overlaps the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible device is disposed on the visible side on the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting the flexible functional layer.
플렉시블 디바이스의 예로서는 화상 표시 장치(플렉시블 디스플레이, 전자 페이퍼 등), 태양 전지 등을 들 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 기능층, 태양 전지 기능층이 플렉시블 기능층이 된다.Examples of the flexible device include an image display device (such as a flexible display and an electronic paper), a solar cell, and the like. For example, the display functional layer and the solar cell functional layer are flexible functional layers.
플렉시블 디스플레이의 일례를 도 5에 나타낸다. 이 플렉시블 디스플레이(100)는 표면측(시인측)으로부터 순서대로 전면판(110)/편광판 보호 필름(120B)/편광자(120A)/편광판 보호 필름(120B)/터치 센서 필름(130)/유기 EL 소자층(140)/TFT 기판(150)이라는 구성을 갖는다. 플렉시블 디스플레이(100)에 있어서의 전면판(110) 이외의 층이 플렉시블 기능층(190)이다. 편광판 보호 필름(120B)/편광자(120A)/편광판 보호 필름(120B)은 편광판(120)을 구성한다. 각 층의 표면 및 각 층 사이에, 하드 코팅층, 점착층, 접착층, 위상차층 등을 포함해도 된다. 전면판(110)은 광학 필름(110A) 및 하드 코팅층(110B)으로 이루어진다. 전면판(110)으로서, 상기의 광학 필름(10) 및 상기의 기능층(20)으로서의 하드 코팅층으로 이루어지는 적층 필름(30)을 사용할 수 있다. 또한, 하드 코팅층(110B)은, 기타의 기능을 갖는 층으로 치환해도 되고, 그 기능에 따라서는 광학 필름(110A)의 내측(광학 필름(110A)과 플렉시블 기능층(190) 사이)에 배치되어도 된다. 이러한 플렉시블 디스플레이는 태블릿 PC, 스마트폰, 휴대 게임기 등의 화상 표시부로서 이용할 수 있다.An example of the flexible display is shown in Fig. The
본 실시 형태에 관련된 플렉시블 디바이스에 의하면, 전면판(110)으로서 상기의 적층 필름(30)을 이용하고 있다. 적층 필름(30)은, 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 어렵기 때문에, 플렉시블 디바이스 제작시에도 결함이 발생하기 어려워, 결함이 없고 시인성이 우수한 플렉시블 디바이스가 수율 좋게 얻어진다.According to the flexible device according to the present embodiment, the
[실시예][Example]
이하에, 실시예 및 비교예에 기초하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
(실시예 1)(Example 1)
(바니시 1의 처방)(Prescription of varnish 1)
폴리이미드계 고분자인 미츠비시 가스 화학(주) 제 「네오푸림 C6A20」(γ-부티로락톤 용매, 22 질량%), γ-부티로락톤에 고형분 농도 30 질량%의 실리카 입자를 분산한 용액, 아미노기를 갖는 알콕시실란의 디메틸아세트아미드 용액, 및, 물을 혼합하고, 30분간 교반하였다. 여기서, 실리카와 폴리이미드의 질량비를 30: 70, 아미노기를 갖는 알콕시실란의 양을 실리카 및 폴리이미드의 합계 100 질량부에 대하여 1.67 질량부, 물을 실리카 및 폴리이미드의 합계 100 질량부에 대하여 10 질량부로 하였다.A solution obtained by dispersing silica particles having a solid content concentration of 30 mass% in? -Butyrolactone, a solution of a polyimide-based polymer "Neopurim C6A20" (? -Butyrolactone solvent, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., , And water were mixed, and the mixture was stirred for 30 minutes. Here, the mass ratio of the silica and the polyimide was 30: 70, the amount of the alkoxysilane having the amino group was 1.67 parts by mass based on 100 parts by mass of the total of the silica and the polyimide, and 10 parts by mass of water was added to 100 parts by mass of the total amount of silica and polyimide Mass part.
(제막)(Film forming)
상기 방법에 의해 제작한 바니시 1을 기재에 캐스트 제막하여, 50 ㎛ 두께의 폴리이미드계 고분자 필름 원반을 얻었다. 필름 원반의 굴절률은 1.57이었다. 그 후, 필름 원반으로부터 CO2 레이저로 직사각형(10 ㎝×5 ㎝)의 영역을 잘라내어 광학 필름을 얻었다. 가공은 이하의 조건으로 행하였다.The varnish 1 produced by the above method was cast on a substrate to obtain a disc of polyimide-based polymer film having a thickness of 50 탆. The refractive index of the original disc was 1.57. Thereafter, a rectangular area (10 cm x 5 cm) was cut out from the original disc using a CO 2 laser to obtain an optical film. Processing was performed under the following conditions.
장치: 키엔스사 제 ML-Z9510TApparatus: ML-Z9510T manufactured by KEYENCE CORPORATION
파장: 9.3 ㎛Wavelength: 9.3 탆
출력: 80%Output: 80%
가공 속도: 150 ㎜/초Processing speed: 150 mm / sec
(실시예 2)(Example 2)
실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드계 고분자 필름 원반을 제작하였다. 그 후, 가공 속도를 300 ㎜/초로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 필름 원반으로부터 CO2 레이저로 직사각형의 영역을 잘라내어 광학 필름을 얻었다.A disc of a polyimide-based polymer film was produced in the same manner as in Example 1. [ Then, in the same manner as in Example 1 except that the processing speed was set to 300 mm / second, a rectangular region was cut out from the original disc of the CO 2 laser to obtain an optical film.
(비교예 1)(Comparative Example 1)
실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드계 고분자 필름 원반을 제작하였다. 그 후, 필름 원반으로부터 셰어 날로 직사각형(10 ㎝×5 ㎝)의 영역을 잘라내어 광학 필름을 얻었다.A disc of a polyimide-based polymer film was produced in the same manner as in Example 1. [ Thereafter, an area of a rectangle (10 cm x 5 cm) was cut out from the film master using a shear blade to obtain an optical film.
(실시예 3)(Example 3)
폴리이미드계 고분자(가와무라 산업(주) 제 「KPI-MX300F(100)」을 γ-부티로락톤에 용해하여 폴리이미드계 고분자의 농도가 16 질량%인 고분자 용액(바니시 2)을 얻었다. 얻어진 바니시 2를 기재에 캐스트 제막하여, 50 ㎛ 두께의 폴리이미드계 고분자 필름 원반을 얻었다. 필름 원반의 굴절률은 1.56이었다. 그 후, 필름 원반으로부터 실시예 1과 동일한 조건으로 CO2 레이저 가공하여 광학 필름을 얻었다.(KPI-MX300F (100) manufactured by Kawamura Industrial Co., Ltd.) was dissolved in? -Butyrolactone to obtain a polymer solution (varnish 2) having a polyimide polymer concentration of 16 mass% The varnish 2 was cast on the base material to obtain a 50 μm thick polyimide-based polymer film disc. The refractive index of the original disc was 1.56. Thereafter, the film was subjected to CO 2 laser processing under the same conditions as in Example 1, ≪ / RTI >
(비교예 2)(Comparative Example 2)
실시예 3과 동일한 방법으로 폴리이미드계 고분자 필름 원반을 제작하였다. 그 후, 필름 원반으로부터 셰어 날로 직사각형의 영역을 잘라내어 광학 필름을 얻었다.A disc of a polyimide-based polymer film was produced in the same manner as in Example 3. [ Thereafter, a rectangular region was cut out from the film master by a sheath to obtain an optical film.
(실시예 4)(Example 4)
실시예 1의 바니시 1로부터 캐스트 제막한 막 두께 30 ㎛의 폴리이미드계 필름 상에, 30 ㎛의 에폭시계 하드 코팅층을 캐스트 제막하여, 두께 30 ㎛의 광학 필름과, 두께 30 ㎛의 하드 코팅층이 적층된 적층 필름 원반을 얻었다. 그 후, 필름 원반으로부터 실시예 1과 동일한 조건으로 CO2 레이저 가공을 행하여 직사각형(10 ㎝×5 ㎝)의 영역을 잘라내어 적층 필름을 얻었다. 잘라낼 때에는 적층 필름의 광학 필름측으로부터 레이저를 조사하였다.An epoxy hard coat layer of 30 占 퐉 was cast on a polyimide film having a thickness of 30 占 퐉 cast from the varnish 1 of Example 1 to obtain an optical film having a thickness of 30 占 퐉 and a hard coat layer having a thickness of 30 占 퐉 laminated To obtain a laminated film master. Thereafter, CO 2 laser processing was carried out from the film master under the same conditions as in Example 1 to cut off a rectangular area (10 cm x 5 cm) to obtain a laminated film. When cutting, a laser was irradiated from the optical film side of the laminated film.
(비교예 3)(Comparative Example 3)
실시예 4와 동일한 방법으로 적층 필름 원반을 제작하였다. 그 후, 필름 원반으로부터 셰어 날로 직사각형(10 ㎝×5 ㎝)의 영역을 잘라내어 적층 필름을 얻었다. 잘라낼 때에는 적층 필름의 광학 필름측으로부터 칼날을 넣도록 하였다.The original disc of the laminated film was produced in the same manner as in Example 4. Thereafter, a rectangular area (10 cm x 5 cm) was cut out from the film master by a shear blade to obtain a laminated film. At the time of cutting, a blade was inserted from the optical film side of the laminated film.
(실시예 5)(Example 5)
막 두께가 80 ㎛인 것 이외에는 실시예 3과 동일하게 하여 폴리이미드계 필름 원반을 얻었다. 그 후, 필름 원반으로부터 이하의 조건으로 CO2 레이저 가공을 행하였다. 가공시에는 레이저를 고정하고, 필름을 이동시켰다. 직사각형(10 ㎝×5 ㎝)의 형상으로 레이저를 3회 조사하여 단부를 절단하여, 광학 필름을 얻었다.An original disc of polyimide film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the film thickness was 80 占 퐉. Thereafter, CO 2 laser processing was performed from the original film under the following conditions. During processing, the laser was fixed and the film was moved. The laser beam was irradiated three times in the shape of a rectangle (10 cm x 5 cm) to cut the ends to obtain an optical film.
장치: COHERENT사 제 E400iCLDevice: E400iCL manufactured by COHERENT
파장: 9.4 ㎛Wavelength: 9.4 탆
출력: 13 WOutput: 13 W
가공 속도: 400 ㎜/초Processing speed: 400 mm / sec
주파수: 60 ㎑Frequency: 60 kHz
(비교예 4)(Comparative Example 4)
실시예 5와 동일한 방법으로 폴리이미드계 필름 원반을 제작하였다. 그 후, 필름 원반으로부터 셰어 날로 직사각형(10 ㎝×5 ㎝)의 영역을 잘라내어 광학 필름을 얻었다.A polyimide-based original disc was prepared in the same manner as in Example 5. Thereafter, an area of a rectangle (10 cm x 5 cm) was cut out from the film master using a shear blade to obtain an optical film.
< 탄성률의 편차 (Ra)의 측정 >≪ Measurement of Deviation (Ra) of Modulus of Elasticity >
실시예 5 및 비교예 4에서 얻어진 필름에 대하여, 단면으로부터 10∼20 ㎛의 영역에 있어서의 DMT 탄성률의 편차 (Ra)를 이하의 조건으로 측정하였다.With respect to the films obtained in Example 5 and Comparative Example 4, the deviation (Ra) of the modulus of elasticity of DMT in the region of 10 to 20 m from the end face was measured under the following conditions.
먼저, 면도칼을 이용하여 필름의 1변에 수직인 방향으로 절단한 절편(切片)을 제작한 후, 자른 면을 이하의 조건으로 처리하였다.First, a cut piece cut in a direction perpendicular to one side of the film was prepared using a razor, and then the cut face was processed under the following conditions.
장치: LEICA사 제 미크로톰 EMFC6Device: Microtome EMFC6 made by LEICA
절삭 조건: -60℃ 건식Cutting condition: -60 ° C Dry type
나이프: 유리 나이프Knife: Glass knife
절삭: 10 ㎛ 이상 절삭Cutting: cutting more than 10 ㎛
그 후, 얻어진 자른 면에 대하여, SPM을 이용하여 이하의 조건으로 DMT Modulus Image를 얻었다.Thereafter, a DMT Modulus image was obtained on the obtained cut surface using SPM under the following conditions.
장치: Dimension ICOM(Bruker사 제)Apparatus: Dimension ICOM (manufactured by Bruker)
Cantilever: RTESPCantilever: RTESP
The measured deflection error sensitivity: 63.59 ㎚/VThe measured deflection error sensitivity: 63.59 nm / V
Calculated spring constant: 20.8727 N/mCalculated spring constant: 20.8727 N / m
Resonance frequency: 320.192 ㎑Resonance frequency: 320.192 kHz
Tip radius: 10 ㎚Type radius: 10 nm
Sample Poisson's ratio: 0.42Sample Poisson's ratio: 0.42
Feedback gain: 10 ∼20Feedback gain: 10 ~ 20
Peak Force setpoint: 70 nNPeak Force setpoint: 70 nN
Scan size: 2 ㎛×40 ㎛Scan size: 2 탆 x 40 탆
Scan ratio: 0.1 HzScan ratio: 0.1 Hz
Points/Line: 256Points / Line: 256
얻어진 DMT Modulus Image로부터 Line Profile을 작성하고, Line Profile에 대하여, 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측(필름 내부측)의 영역에 대하여, 필름 두께의 90∼70%, 60∼40%, 30∼10%의 위치에서 각각 Ra를 계산하고, 평균값을 산출하였다. 실시예 5에서 얻어진 필름의 Ra의 측정 결과는 345 ㎫, 비교예 4에서 얻어진 필름의 Ra의 측정 결과는 1026 ㎫였다.A line profile is prepared from the obtained DMT Modulus Image. The line profile is 90 to 70%, 60 to 40%, 30 to 10% of the film thickness with respect to the area within 10 to 20 占 퐉 inside (film inside) Respectively, and the average value was calculated. The measurement result of Ra of the film obtained in Example 5 was 345 MPa, and the measurement result of Ra of the film obtained in Comparative Example 4 was 1026 MPa.
< 경사각의 측정 >≪ Measurement of inclination angle &
실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름 또는 적층 필름의 자른 면을 광학현미경에 의해 관찰하고, 필름 단면의 경사각을 측정하였다. 또한, 필름 단면의 경사각은, 4개의 단면의 전부에 있어서 대략 동일한 값이었다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또, 도 6에 실시예 4에서 얻어진 적층 필름의 자른 면 사진을 나타낸다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 실시예 4에서 얻어진 광학 필름(10)의 단면은, 측정 위치에 따라서는 약간의 거칠어짐이 보였지만, 평균 각도는 대체로 45°였다. 또, 실시예 4에서 얻어진 적층 필름에서는, 광학 필름(10)의 단면과 하드 코팅층(기능층(20))의 단면이, 동일한 경사각으로 연속적으로 접속되어 있었다.Cut surfaces of the optical films or laminated films obtained in Examples and Comparative Examples were observed by an optical microscope and the inclination angle of the cross section of the film was measured. Incidentally, the inclination angle of the film cross section was substantially the same in all four sections. The results are shown in Table 1. 6 shows a cut-away side view of the laminated film obtained in Example 4. Fig. As shown in Fig. 6, the cross section of the
한편, 비교예 3에서 얻어진 적층 필름은, 광학 필름(10)의 단면이 거칠어져 있고, 두께 방향으로 10∼170° 정도로 매우 크고 단면의 각도가 불균일한 결과이며, 평균하면 80°였다. 또, 비교예 3에서 얻어진 적층 필름에서는, 광학 필름(10)의 단면과 하드 코팅층(기능층(20))의 단면이 연속하고 있지 않았다. 비교예 2, 비교예 4에서 얻어진 필름에 대해서도, 일부에 둔각이 되는 부분을 갖는 등, 경사가 두께 방향에서 크게 변동되어 있었다.On the other hand, in the laminated film obtained in Comparative Example 3, the cross section of the
< 취급시의 결함 발생 유무의 평가 >≪ Evaluation of occurrence of defects at the time of handling &
실험대 상에 ECOLE사 제 스켈톤 커팅 매트 「EKM-L」을 깔고, 매트 상에 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름 또는 적층 필름을 설치하고, 필름에 대하여 하기 (1)∼(5)의 조작을 10회 반복하였다. 필름은, 매트에 접하는 면측을 향하여 단면이 오므라든 상태가 되도록(즉, 매트 상의 필름 자른 면이, 매트와는 반대측의 위쪽 바닥이 매트와 접하는 아래쪽 바닥보다 긴 역사다리꼴이 되도록) 설치하였다. 적층 필름의 경우, 기능층의 면이 매트에 접하도록 설치하였다.The optical film or the laminated film obtained in the Examples and Comparative Examples was placed on a mat on a test bench, a skeleton cutting mat "EKM-L" made by ECOLE Co., Ltd. was placed, and the film was subjected to the following operations (1) to Was repeated 10 times. The film was installed so that the cross section of the film on the side contacting with the mat would be in a state of being cut off (i.e., the cut-out face of the film on the mat was inversely trapezoidal such that the upper bottom on the side opposite to the mat was longer than the lower bottom in contact with the mat). In the case of the laminated film, the surface of the functional layer was provided so as to be in contact with the mat.
(1) 필름 상의 필름 긴 쪽 방향으로 8 ㎝ 떨어져 있는 2개소에, 직경 1 ㎝의 고무 A 및 고무 B를 눌러 덮는다.(1) On the film: Rubber A and rubber B having a diameter of 1 cm are pressed and pressed at two places 8 cm apart in the longitudinal direction of the film.
(2) 고무 A를 고정하고, 고무 B를 매트에 누르면서 고무 A의 방향으로 5 ㎝ 접근시킨다. 이 때, 필름이 고무 B에 끌려, 고무 A와 고무 B의 사이의 필름이 들려 올라간다.(2) Fix the rubber A and press the rubber B on the mat and approach it 5 cm in the direction of the rubber A. At this time, the film is attracted to the rubber B, and the film between the rubber A and the rubber B is lifted up.
(3) 고무 A 및 고무 B를 매트로부터 떨어지게 하여 상방으로 5 ㎝ 들어 올린다. 필름은 고무 A와 고무 B 사이에 끼워져 들려 올라간다.(3) Raise rubber A and rubber B upward from the mat by 5 cm. The film is sandwiched between rubber A and rubber B.
(4) 3초간 그 상태로 보지한다. 그 동안에 필름은 매트 상으로 낙하해도 된다.(4) Hold for 3 seconds. In the meantime, the film may be dropped into a mat state.
(5) 고무 A 및 고무 B의 간격을 8 ㎝까지 넓힌다. 필름은 매트 상으로 낙하한다.(5) Widen the gap between rubber A and rubber B to 8 cm. The film drops onto the mat.
상기 조작 후, 필름 전체의 결함(접힌 자국 및 흠집)의 유무를 조사하고, 결함이 확인되지 않은 것을 「A」, 결함이 확인된 것을 「B」로 판정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.After the above operation, the presence or absence of defects (creases and scratches) on the entire film was examined, and it was judged that "A" was not identified and "B" was confirmed. The results are shown in Table 1.
< 내굴곡성의 평가 >≪ Evaluation of Flexibility &
실시예 4 및 비교예 3에서 얻어진 적층 필름에 대하여, 내굴곡성의 평가를 이하의 방법으로 행하였다. 적층 필름을, 유아사제 절곡(折曲)시험기 DLDM111LH를 이용하여, R = 2 ㎜, 1 ㎐의 조건으로 반복하여 절곡 시험을 행하였다. 적층 필름에 깨짐, 또는, 광학 필름과 하드 코팅층 사이의 벗겨짐이 생길 때까지의 굴곡 횟수를 측정하였다. 실시예 4의 적층 필름에서는, 30000회의 굴곡 횟수에서도 깨짐이나 벗겨짐이 생기지 않았다. 비교예 3의 적층 필름에서는 단부에 미소한 흠집이 생겨 있었기 때문에, 20000회 이하의 절곡에 의해 하드 코팅층에 크랙이 생긴 것에 비하여, 실시예 4의 적층 필름은 크랙 등이 없는 매끄러운 단부를 전체에 갖고 있었기 때문에, 단부가 크랙의 계기가 되는 일 없이, 30000회의 굴곡을 견뎌냈다고 생각된다. 이와 같은 단부의 미세한 크랙은, 필름의 컷시에 추가하여, 운반, 취급시에 단부를 문지르거나 부딪치거나 하는 것에 의해서도 생긴다. 또, 필름의 접힌 자국, 흠집과 같은 결함이 있었을 경우, 그것을 기점으로 필름의 깨짐, 벗겨짐이 생기기 때문에, 본원의 발명은 내굴곡성을 향상시키는 효과도 있다.The flexural properties of the laminated films obtained in Example 4 and Comparative Example 3 were evaluated by the following methods. The laminated film was subjected to bending test repeatedly under the conditions of R = 2 mm and 1 Hz using an infant resin bending tester DLDM111LH. The number of times of bending until cracking of the laminated film or peeling between the optical film and the hard coat layer occurred was measured. In the laminated film of Example 4, cracking and peeling did not occur even when the number of bending times was 30,000. In the laminated film of Comparative Example 3, a minute scratch was formed at the end portion, so that the hard coating layer was cracked by bending 20,000 times or less, whereas the laminated film of Example 4 had a smooth end portion free from cracks It is thought that the end has endured 30,000 times of bend without becoming an opportunity of the crack. Such fine cracks at the end portions are caused by rubbing or bumping the end portions during transportation and handling in addition to cutting the film. Further, when there is a defect such as folded marks or flaws of the film, cracking or peeling of the film occurs from that point. Therefore, the present invention also has an effect of improving flex resistance.
표 1에 나타낸 결과로부터 명백한 바와 같이, 실시예에서 얻어진 광학 필름 및 적층 필름은 모두, 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하기 어렵다는 것이 확인되었다. 한편, 비교예에서 얻어진 광학 필름 및 적층 필름은 모두, 취급시에 접힌 자국이나 흠집과 같은 결함이 발생하였다. 이것은, 취급시에 필름이 끌릴 때에, 단부가 매트에 걸리기 쉽고, 불규칙하게 구부러지거나 접히거나 하는 것이 원인이라고 생각된다.As is apparent from the results shown in Table 1, it was confirmed that both of the optical film and the laminated film obtained in the Examples were hard to cause defects such as folded marks and scratches during handling. On the other hand, both of the optical film and the laminated film obtained in the comparative example had defects such as folded marks and scratches during handling. This is considered to be attributable to the fact that when the film is pulled at the time of handling, the end portion is easily caught on the mat and is irregularly bent or folded.
또한, 실리카 입자를 포함하는 필름이나, 하드 코팅층을 갖는 적층 필름은, 특히 접힌 자국이 나기 쉽지만, 실시예에 있어서는 어느 경우에나 접힌 자국 등의 결함 발생을 억제할 수 있다는 것이 확인되었다. 또, 실시예 및 비교예의 광학 필름 및 적층 필름은, 흡수율이 낮기 때문에 정전기가 생겨 매트에 달라붙기 쉬워, 들어 올리기 어려운 상태였다. 그 때문에, 비교예의 광학 필름 및 적층 필름에서는, 필름을 들어 올릴 때에 국소적으로 응력이 걸려 접힌 자국이 났지만, 실시예에 있어서는 접힌 자국 등의 결함 발생을 억제할 수 있다는 것이 확인되었다. 이와 같이, 본 발명의 광학 필름 및 적층 필름은, 실리카 입자를 포함하는 경우, 하드 코팅층을 구비하는 경우, 및, 정전기가 생기기 쉬운 경우와 같은, 취급시에 결함이 생기기 쉬운 경우이더라도, 결함의 발생을 억제할 수 있다.Further, it has been confirmed that a film including silica particles or a laminated film having a hard coating layer is liable to cause a folding phenomenon in particular, but in any of the examples, it has been confirmed that the occurrence of defects such as folding marks can be suppressed in any case. In addition, the optical films and the laminated films of Examples and Comparative Examples were in a state in which static electricity was generated due to a low water absorption rate, and they were liable to stick to the mat and were difficult to lift. For this reason, in the optical films and laminated films of the comparative examples, when the film was lifted, stress was locally applied and folded, but in the examples, it was confirmed that occurrence of defects such as folding marks could be suppressed. As described above, the optical film and the laminated film of the present invention can be used in the case where silica particles are included, a case where a hard coating layer is provided, and a case where a defect tends to occur during handling, Can be suppressed.
10: 광학 필름, 20: 기능층, 30: 적층 필름, 100: 플렉시블 디스플레이.10: Optical film, 20: Functional layer, 30: Laminated film, 100: Flexible display.
Claims (32)
상기 광학 필름의 단면이, 상기 광학 필름의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면이고,
상기 광학 필름의 상기 단면을 수직으로 절단한 자른 면의, 상기 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측의 영역에 있어서 측정되는, 하기 식 (A)에 의해 정의되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 500 ㎫ 이하인, 광학 필름.
[식 (A) 중, L은 Ra의 산출 범위의 길이를 나타내고, M(x)는 측정 위치 x에 있어서의 DMT 탄성률의 측정값을 나타낸다.]1. An optical film containing a polyimide-based polymer,
Wherein a cross section of the optical film is an inclined surface inclined at an angle of not less than 5 DEG and not more than 75 DEG with respect to a surface of the optical film,
(Ra) of the modulus of elasticity of DMT defined by the following formula (A), which is measured in a region of 10 to 20 占 m in inner side from the end face of the cut face cut perpendicularly to the end face of the optical film, is 500 Lt; / RTI > or less.
[In the formula (A), L represents the length of the calculated range of Ra, and M (x) represents the measured value of the modulus of elasticity of the DMT at the measurement position x.
상기 경사면이 레이저 절단면인, 광학 필름.The method according to claim 1,
Wherein the inclined surface is a laser cut surface.
상기 광학 필름의 단면을 수직으로 절단한 자른 면의, 상기 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측의 영역에 있어서 측정되는, 하기 식 (A)에 의해 정의되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 500 ㎫ 이하인, 광학 필름.
[식 (A) 중, L은 Ra의 산출 범위의 길이를 나타내고, M(x)는 측정 위치 x에 있어서의 DMT 탄성률의 측정값을 나타낸다.]1. An optical film containing a polyimide-based polymer,
The value of the deviation (Ra) of the modulus of elasticity of the DMT defined by the following formula (A), which is measured in a region of 10 to 20 mu m inward from the end face of the cut face obtained by cutting the cross section of the optical film vertically, Or less.
[In the formula (A), L represents the length of the calculated range of Ra, and M (x) represents the measured value of the modulus of elasticity of the DMT at the measurement position x.
상기 폴리이미드계 고분자는, 불소 원자를 상기 폴리이미드계 고분자의 전체 질량을 기준으로 하여 5 질량% 이상 함유하는, 광학 필름.The method according to claim 1,
Wherein the polyimide-based polymer contains fluorine atoms in an amount of 5 mass% or more based on the total mass of the polyimide-based polymer.
상기 폴리이미드계 고분자는, 불소 원자를 상기 폴리이미드계 고분자의 전체 질량을 기준으로 하여 5 질량% 이상 함유하는, 광학 필름.3. The method of claim 2,
Wherein the polyimide-based polymer contains fluorine atoms in an amount of 5 mass% or more based on the total mass of the polyimide-based polymer.
상기 폴리이미드계 고분자는, 불소 원자를 상기 폴리이미드계 고분자의 전체 질량을 기준으로 하여 5 질량% 이상 함유하는, 광학 필름.The method of claim 3,
Wherein the polyimide-based polymer contains fluorine atoms in an amount of 5 mass% or more based on the total mass of the polyimide-based polymer.
실리카 입자를 추가로 함유하는, 광학 필름.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
An optical film further comprising silica particles.
두께가 20 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하인, 광학 필름.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the thickness is 20 占 퐉 or more and 100 占 퐉 or less.
두께가 20 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하인, 광학 필름.8. The method of claim 7,
Wherein the thickness is 20 占 퐉 or more and 100 占 퐉 or less.
상기 광학 필름의 단면과 상기 기능층의 단면이 접속되어 있는, 적층 필름.An optical film comprising the optical film according to any one of claims 1 to 6 and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film,
And an end face of the optical film is connected to an end face of the functional layer.
상기 광학 필름의 단면과 상기 기능층의 단면이 접속되어 있는, 적층 필름.8. An optical film comprising the optical film according to claim 7 and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film,
And an end face of the optical film is connected to an end face of the functional layer.
상기 광학 필름의 단면과 상기 기능층의 단면이 접속되어 있는, 적층 필름.9. An optical film comprising the optical film according to claim 8 and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film,
And an end face of the optical film is connected to an end face of the functional layer.
상기 광학 필름의 단면과 상기 기능층의 단면이 접속되어 있는, 적층 필름.10. An optical film comprising the optical film according to claim 9 and a functional layer laminated on at least one surface of the optical film,
And an end face of the optical film is connected to an end face of the functional layer.
상기 기능층이 하드 코팅층인, 적층 필름.11. The method of claim 10,
Wherein the functional layer is a hard coating layer.
상기 기능층이 하드 코팅층인, 적층 필름.12. The method of claim 11,
Wherein the functional layer is a hard coating layer.
상기 기능층이 하드 코팅층인, 적층 필름.13. The method of claim 12,
Wherein the functional layer is a hard coating layer.
상기 기능층이 하드 코팅층인, 적층 필름.14. The method of claim 13,
Wherein the functional layer is a hard coating layer.
상기 절단 가공에 의해 형성되는 상기 광학 필름의 단면을 수직으로 절단한 자른 면의, 상기 단면으로부터 10∼20 ㎛ 내측의 영역에 있어서 측정되는, 하기 식 (A)에 의해 정의되는 DMT 탄성률의 편차 (Ra)의 값이 500 ㎫ 이하인, 광학 필름의 제조 방법.
[식 (A) 중, L은 Ra의 산출 범위의 길이를 나타내고, M(x)는 측정 위치 x에 있어서의 DMT 탄성률의 측정값을 나타낸다.]A method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer having a step of cutting an end by laser irradiation,
The deviation of the DMT elastic modulus defined by the following formula (A), which is measured in a region on the inner side of 10 to 20 탆 from the end face of the cut face obtained by vertically cutting the cross section of the optical film formed by the cutting process Ra) is 500 MPa or less.
[In the formula (A), L represents the length of the calculated range of Ra, and M (x) represents the measured value of the modulus of elasticity of the DMT at the measurement position x.
상기 절단 가공에 의해 형성되는 상기 광학 필름의 단면이, 상기 광학 필름의 표면에 대하여 5° 이상 75° 이하의 각도로 경사진 경사면인, 광학 필름의 제조 방법.19. The method of claim 18,
Wherein an end face of the optical film formed by the cutting is an inclined face inclined at an angle of not less than 5 DEG and not more than 75 DEG with respect to a surface of the optical film.
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