KR101890092B1 - Systems for analyzing cleanliness of gas supplying device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 제조 장비에 가스를 공급하는 가스 공급 라인을 퍼지하는 퍼지 시스템에서의 배관 청정도를 분석하는 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제작공정에 사용되는 가스공급장비들의 배관 내부를 초고순도 N2 가스를 사용하여 퍼지하는 과정과 퍼지 완료 후의 배관 청정도를 증명하는 4가지 요소들 1) H2O 순도, 2) O2 순도, 3) 파티클 0.1 ㎛ 수량 분석 및 4) 파티클 0.01 ㎛ 수량 분석 데이터를 증명서(Certificate Report)로 출력->분석->분석결과에 따른 조치의 과정을 자동화한, 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a system for analyzing pipe cleanliness in a purge system for purifying gas supply lines for supplying gas to semiconductor manufacturing equipment, and more particularly to a system for analyzing pipe cleanliness in a purge system for purifying gas supply lines for supplying semiconductor manufacturing equipment, the four components of the purge proving pipe cleanliness after the process and purge completion to use N 2 gas 1) H 2 O purity, 2) O 2 purity, and 3) the particles 0.1 ㎛ quantity analysis, and 4) the particle 0.01 ㎛ quantity analysis The present invention relates to a cleanliness analysis system for a gas supply equipment, which automates the process of the action according to the result of outputting the data as a certificate report (analysis report).
반도체산업은 전자, 통신, 정보사업 부문과 함께 두드러진 발전과 성장을 기록하고 있는 산업으로 정보화 사회진입과 첨단산업 발전의 핵심요소일 뿐만 아니라 재래산업의 생산성 향상과 고부가가치화를 위한 필수적인 요소부품으로서 그 수요가 급속히 확대, 다양화되고 있다.Semiconductor industry is an industry that has remarkable development and growth along with electronic, communication, and information business sector. It is not only a core element for entering information society and developing high-tech industry. It is also an essential component for productivity improvement and high added value of traditional industry. Demand is rapidly expanding and diversifying.
반도체 웨이퍼 생산 공정으로 주로 화학기상증착(CVD, Chemical Vapor Deposition), 사진(photo), 식각(etching) 등의 공정이 있다. 이러한 공정을 수행하기 위해서는 공정 챔버 내에 Cl2 및 HCl 등의 부식성이 강한 액화성 반응가스가 투입되어야만 한다. 이 반응가스는 실린더라 불리는 용기 내에 충진된 상태로 보관되며, 밸브의 작동에 의해 충진된 반응가스가 항상 일정한 압력으로 공정 챔버 내에 공급되거나 차단된다.Semiconductor wafer production process mainly includes processes such as chemical vapor deposition (CVD), photo (photo), and etching. In order to perform such a process, a corrosive liquefied reaction gas such as Cl 2 and HCl must be injected into the process chamber. This reaction gas is stored in a container called a cylinder, and the reaction gas filled by the operation of the valve is always supplied to or blocked from the process chamber at a constant pressure.
반응가스가 공급되는 가스공급 장치에는 통상 한 쌍의 실린더가 설치되며, 하나의 실린더에 충진된 가스가 소진되면(또는, 반응가스의 압력이 낮아지면) 나머지 하나의 실린더에 충진된 가스를 사용하도록 밸브의 개폐상태가 제어된 후, 반응가스가 소진된 실린더를 교체하게 된다.The gas supply device to which the reaction gas is supplied is usually provided with a pair of cylinders. When the gas filled in one cylinder is exhausted (or the pressure of the reaction gas is lowered), the gas filled in the other cylinder is used After the valve is opened and closed, the cylinder in which the reaction gas is exhausted is changed.
실린더의 교체 작업에는 가스가 공급되는 라인에 잔류하는 반응가스가 인체나 환경에 치명적인 악영향을 미치고, 잔류하는 반응가스로 인해 실린더 교체작업 중에 폭발사고 등이 발생할 우려가 있으므로, 라인의 잔류가스를 외부로 배출하는 배출과정(purge)이 반드시 수행되어야 한다.In the cylinder replacement operation, the reaction gas remaining on the gas supply line has an adverse effect on the human body and the environment, and there is a possibility that an explosion accident may occur during the cylinder replacement operation due to the residual reaction gas. The purge must be performed.
특히, 통상적으로 퍼지 가스는 저압의 질소 가스가 공급되는데 이 경우 가스 공급라인에서 불순물이 발생하고 부식이 발생하게 되는 원천적인 문제점도 있었다.In particular, the purge gas is supplied with nitrogen gas at a low pressure. In this case, impurities are generated in the gas supply line and corrosion is caused.
한국 등록특허공보 제10-0863941호에는 "가스공급 장치의 퍼지 시스템 및 방법"이 개시되어 있고, 본 출원인의 선출원인 한국 특허출원번호 제10-2017-0025141호에는 "고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템"이 개시되어 있지만, 퍼지 완료 후의 가스공급장비의 청정도를 증명하는 분석 시스템은 개시나 시사되어 있지 않다.Korean Patent Registration No. 10-0863941 discloses a "purge system and method of a gas supply apparatus", and Korean Patent Application No. 10-2017-0025141, which is an election result of the present applicant, discloses "a gas supply capable of high- Although the purge system of the apparatus has been disclosed, an analytical system that demonstrates the cleanliness of the gas supply equipment after purge is not disclosed or suggested.
한편, 현재, 퍼지 완료 후의 가스공급장비의 청정도를 증명하는 4가지 요소들 1) H2O 순도, 2) O2 순도, 3) 파티클 0.1 ㎛ 수량분석 및 4) 파티클 0.01 ㎛ 수량분석 데이터를 증명서(Certificate Report)로 출력->분석->분석결과에 따른 조치의 과정은 하기의 문제점을 갖고 있다.(2) O2 purity, (3) particle size of 0.1 ㎛, and (4) particle size of 0.01 ㎛. The data for the analysis of the quantity ) -> Analysis -> The process of the action according to the analysis result has the following problems.
1) 해당 증명(Certificate) 공정에 1명 이상의 인원이 필요했으며 모든 분석기를 다룰 수 있는 교육된 인원이 필요하였다.1) The certification process required at least one person and trained personnel to handle all analyzers.
2) 측정할 장비를 수동 밸브조작을 통해 배관 퍼지를 진행하였고 별도의 시간관리가 필요하였다.2) Pipe purge was performed through manual valve operation of the equipment to be measured and time management was required.
3) 배관 퍼지 후 측정할 장비를 분석하기 위해 분석기의 세팅 및 컨트롤이 필요하였고 숙련된 작업자가 요구되었다.3) To analyze the equipment to be measured after piping purging, the setting and control of the analyzer was required and a skilled worker was required.
4) 증명서 출력을 위해 작업자의 수작업 업무가 여러 번 필요하였다.4) The manual work of the operator was required several times to output the certificate.
본 발명의 목적은 반도체 제작공정에 사용되는 가스공급장비(GAS CABINET, VMB, BSGS, ISO 등)의 배관 내부를 초고순도 N2 가스를 사용하여 퍼지하는 과정과 퍼지 완료 후의 배관 청정도를 증명하는 4가지 요소들 1) H2O 순도, 2) O2 순도, 3) 파티클 0.1 ㎛ 수량분석 및 4) 파티클 0.01 ㎛ 수량분석 데이터를 증명서(Certificate Report)로 출력->분석->분석결과에 따른 조치의 과정을 자동화한, 퍼지 시스템에서의 배관 청정도 분석 시스템을 제공하는 데에 있다.The object of the present invention is to provide a process for purging the inside of piping of gas supply equipment (GAS CABINET, VMB, BSGS, ISO, etc.) used in the semiconductor manufacturing process by using ultra high purity N 2 gas, factors in 1) H 2 O purity, 2) O 2 purity, and 3) the particles 0.1 ㎛ quantity analysis, and 4) output the particle 0.01 ㎛ quantity analysis data in the certificate (certificate Report) ->analysis> analysis action according to the result The present invention is to provide a piping cleanliness analysis system in a fuzzy system.
전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템은 입력부; 컨트롤부; 분석부; 및 출력부를 포함하며, 상기 입력부는 컴퓨터, 터치 스크린을 구비하며, 상기 컨트롤부는 상기 컴퓨터 및 상기 컴퓨터와 터치 스크린과 통신 연결된 프로그램 가능한 논리 제어기(PLC)를 포함하며, 상기 분석부는 파티클 0.01 ㎛ 수량 분석기, 파티클 0.1 ㎛ 수량 분석기, H2O 분석기, O2 분석기로 이루어지며, 상기 분석기들은 멀티포트(multiport)를 통해 컴퓨터와 연결되며, 상기 출력부는 상기 컴퓨터와 통신 네트워크로 연결된 프린터, 상기 PLC에 케이블로 연결된 솔레노이드 밸브와 시그널램프 및 상기 솔레노이드 밸브에 연결된 공압 밸브들을 포함하는 가스공급장비의 청정도 분석기; 퍼지 가스 공급부; 상기 가스 공급부에 연결된 다수의 퍼지 가스 공급용 배관; 상기 배관에 설치된 다수의 공압 밸브; 다수의 가스공급장비; 상기 가스공급장비들과 분석기 사이의 배관에 설치된 다수의 레귤레이터를 포함하며, 가스공급 라인을 퍼지하는 단계로서, 시그널램프는 주황색 램프를 점등하는 가스공급 라인의 퍼지 단계; 퍼지된 가스공급라인의 청정도 분석 순서를 판정하고, 판정된 순서에 따라 분석을 실시하며, 시그널램프는 초록색 램프를 점등하는 분석 단계; 상기 분석 단계에서 분석한 값을 기준 값과 비교하고, 합격 여부를 판정하는 단계; 상기 판정 단계에서 불합격으로 판정되는 경우에는 가스공급라인을 다시 퍼지하는 단계로 되돌아가고, 합격인 것으로 판정되는 경우에는 승인서를 작성하고 종료하며, 시그널램프는 청색 램프를 점등하는 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a cleanliness analysis system for a gas supply equipment, including: an input unit; A control unit; Analysis section; And an output unit, wherein the input unit includes a computer, a touch screen, and the control unit includes a programmable logic controller (PLC) connected to the computer and the computer in communication with the touch screen, , particles made of a 0.1 ㎛ Quantity analyzer, H 2 O analyzer, O 2 analyzer, the analyzer being connected with the computer through a multi-port (multiport), the output unit cables to the printer, the PLC connected to the computer and the communication network A cleanliness analyzer of the gas supply equipment including a solenoid valve connected to the solenoid valve, a signal lamp and pneumatic valves connected to the solenoid valve; A purge gas supply unit; A plurality of purge gas supply pipes connected to the gas supply unit; A plurality of pneumatic valves installed in the piping; Multiple gas supply equipment; The method comprising the steps of: purging a gas supply line, the signal ramp comprising: a purging of a gas supply line that illuminates an amber lamp; Determining a cleanliness analysis order of the purged gas supply line, performing an analysis according to the determined order, and the signal lamp is an analysis step for lighting a green lamp; Comparing the analyzed value in the analyzing step with a reference value, and determining whether to pass; And returning to the step of purging the gas supply line again if it is judged to be a failure in the judging step, and if it is judged that the gas supply line is judged to be passed, the approval lamp is formed and the signal lamp is lighted.
바람직하게는, 상기 분석부의 분석기들 중 하나는 USB를 통해 상기 컴퓨터에 연결되고, 나머지 다른 분석기들은 상기 멀티포트에 연결될 수 있다.Preferably, one of the analyzers of the analysis unit is connected to the computer via USB, and the other analyzers can be connected to the multi-port.
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바람직하게는, 상기 터치 스크린은 파티클 0.01 ㎛ 수량 분석기, 파티클 0.1 ㎛ 수량 분석기, H2O 분석기, O2 분석기의 터치 스크린이 수직 방향으로 연이어 설치될 수 있다.Preferably, the touch screen may include a plurality of particles of 0.01 탆 in particle size, a particle size of 0.1 탆 in size, an H 2 O analyzer, and an O 2 analyzer in the vertical direction.
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바람직하게는, 상기 PLC는 터치 스크린의 입력신호를 받아 솔레노이드 밸브를 동작시키고, 퍼지와 분석 시퀀스에 따른 프로그램을 통해 자동으로 공압 밸브들을 개폐할 수 있다. 이 시퀀스에 따른 모든 동작사항은 시그널램프를 통해 작업자가 현재의 진행 사항이 어떤 상태인지 분별할 수 있게 한다.Preferably, the PLC receives the input signal of the touch screen and operates the solenoid valve, and automatically opens and closes the pneumatic valves through a program according to the purge and analysis sequence. All operations according to this sequence allow the operator to distinguish what the current progress is through the signal ramp.
전술한 바와 같이, 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에 따르면, 해당 증명 공정에 자동분석 및 비교과정으로 인해 분석 및 비교인원이 필요 없으며 분석기를 다루지 못해도 사용할 수 있다.As described above, according to the cleanliness analysis system of the gas supply equipment, it is not necessary to analyze and compare personnel due to the automatic analysis and comparison process in the certification process, and it can be used without being able to deal with the analyzer.
또한, 측정할 장비를 시스템이 스스로 공압 밸브를 열어 배관 퍼지를 진행하고 자동으로 시간관리가 기록되어, 문제가 발생할 수 있는 여지를 줄일 수 있다.In addition, the equipment to be measured can open the pneumatic valve on its own to purges the piping, automatically records the time management, and reduces the possibility of problems.
또한, 배관 퍼지 후 측정할 장비를 시스템이 스스로 분석하고 분석기의 세팅 및 컨트롤이 필요 없고 숙련된 작업자가 요구되지 않는다.In addition, the system does not need to analyze the equipment to be measured after piping purging, do not need to set and control the analyzer, and do not require skilled workers.
또한, 분석기의 데이터가 합격수준에 도달하면 스스로 증명서를 출력하고 완료상태의 시점을 시그널램프를 통해 멀리서도 확인할 수 있기 때문에 작업자의 업무 동선이 짧아지고 수작업 업무가 거의 필요하지 않다.In addition, when the analyzer's data reaches the acceptance level, it outputs the certificate itself and confirms the completion time point from the distance through the signal lamp, so the work flow of the worker is shortened and the manual work is hardly needed.
도 1은 종래의 가스공급장비의 퍼지 시스템을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템을 구성하는 각종 장비와 관리서버의 관계를 보여주는 개념도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에서의 레시피 구성을 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에서의 논리적 순서를 도시한 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 일반 상태를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 퍼지&준비 상태를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 분석 상태를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 전체 구성을 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 터치 스크린의 일례를 도시하는 도면이다.1 is a diagram showing a purge system of a conventional gas supply equipment.
FIG. 2 is a conceptual diagram showing a relationship between various equipment and a management server constituting a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram showing a recipe configuration in a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
4 is a flowchart illustrating a logical sequence in a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
5 is a diagram schematically illustrating a general state of a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
6 is a view schematically showing the purge & preparation state of the cleanliness analysis system of the gas supply equipment according to the embodiment of the present invention.
7 is a view schematically showing an analysis state of a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
8 is a view schematically showing the overall configuration of a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
9 is a view showing an example of a touch screen of a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 예시적 실시 예들은 첨부하는 도면들을 참조하여 이하에서 기술될 것이다. 한편, 도면과 상세한 설명에서 통상의 기술자들이 용이하게 알 수 있는 구성 및 작용에 대한 도시 및 언급은 간략히 하거나 생략하였다. 특히 도면의 도시 및 상세한 설명에 있어서 본 발명의 기술적 특징과 직접적으로 연관되지 않는 요소의 구체적인 기술적 구성 및 작용에 대한 상세한 설명 및 도시는 생략하고, 본 발명과 관련되는 기술적 구성만을 간략하게 도시하거나 설명하였다. 본 명세서에 상세하게 기술된 특정 구성 및 기능은 제한적이지 않으며, 단지 청구항들에 대한 토대 및 본 발명을 다양하게 실시하기 위해 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자를 교시하기 위한 토대로서 기술된다.Exemplary embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this specification, illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention. In the drawings and specification, there are shown in the drawings and will not be described in detail, and only the technical features related to the present invention are shown or described only briefly. Respectively. The specific configurations and functions described in detail herein are not intended to be limiting, but merely as the basis for the claims and as a basis for teaching the ordinary skill in the art to which the present invention pertains in various ways.
도 1을 참조하여 통상적인 가스공급장비 퍼지 방식을 설명한다.A typical gas supply equipment purging system will be described with reference to FIG.
먼저, 한 쌍의 실린더(100, 200)로부터 연결되는 라인은 동일한 구성을 갖는다. 또한, 한 쌍의 실린더(100,200)는 어느 하나의 실린더가 사용 중일 경우에는 다른 하나의 실린더는 사용되지 않는다. 따라서 이하의 설명에서는 편의상 하나의 실린더(예를 들면, 100)에 대하여 설명하기로 하며, 다른 하나의 실린더(200)도 하나의 실린더(100)와 동일하게 구성되고 동작됨을 미리 밝혀둔다.First, the lines connected from the pair of
반응가스(Cl2, HCl 등)가 충진된 실린더(100)가 설치되며, 실린더(100)의 하부에는 실린더(100)의 하중을 측정하기 위한 저울(WT1)이 설치된다. 실린더(100)는 밸브 셔터(valve shutter)(VSA)에 의해 개폐상태가 제어된다.A
한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV3A) 및 이 밸브들(AV2A, AV3A) 사이에 설치된 압력 조정기(REGA)는 실린더(100)에서 배출되는 반응가스를 공정에 필요한 소정의 압력으로 조정하여 공정 챔버(도시되지 않음)로 공급하도록 설치된다.A pair of process valves AV2A and AV3A and a pressure regulator REGA provided between the valves AV2A and AV3A adjust the reaction gas discharged from the
복수의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9)는 실린더(100)를 교체하고자 하여 가스공급 라인(도 1의 실선 표시)을 퍼지하는 경우에 퍼지가스(N2)가 공급되도록 퍼지가스 공급라인에 설치되며, 각각의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9) 사이에는 퍼지가스 및 반응가스의 역류를 방지하는 역류방지 밸브(CV1, CV2A)가 설치된다.A plurality of purge valves AV1A, AV7 and AV9 are installed in the purge gas supply line so as to supply the purge gas N 2 in the case of purifying the gas supply line (indicated by the solid line in FIG. 1) Respectively. Between the purge valves AV1A, AV7 and AV9, there are provided the check valves CV1 and CV2A for preventing the purge gas and the reaction gas from flowing backward.
공정 밸브(AV2A, AV3A)와 교차 연동되는 배기 밸브(AV4A, AV5A)가 반응가스 혹은 퍼지가스를 배기하도록 설치되는데, 배기 밸브(AV4A, AV5A)가 개방상태이면 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 폐쇄상태가 되고, 배기 밸브(AV4A,AV5A)가 폐쇄상태이면 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 개방상태가 된다.The exhaust valves AV4A and AV5A which are interlocked with the process valves AV2A and AV3A are installed to exhaust the reaction gas or the purge gas. When the exhaust valves AV4A and AV5A are open, the process valves AV2A and AV3A are closed When the exhaust valves AV4A and AV5A are closed, the process valves AV2A and AV3A are in the open state.
배기 밸브(AV4A, AV5A)의 후단에는 가스공급 라인을 진공시키는 진공발생기가 설치되는데, 진공발생기는 진공가스(N2) 공급라인과 배기장치 사이에 설치된다. 또한, 진공가스 공급라인과 진공발생기 사이에는 진공 밸브(AV8)가 설치되어 가스공급 라인의 진공여부를 제어한다.At the rear end of the exhaust valves AV4A and AV5A, a vacuum generator for evacuating the gas supply line is installed, and the vacuum generator is installed between the vacuum gas (N 2 ) supply line and the exhaust system. Further, a vacuum valve AV8 is provided between the vacuum gas supply line and the vacuum generator to control the vacuum of the gas supply line.
가스공급 라인에는 소정 개수의 압력 측정기(PT1A~PT4)가 적소에 설치되며, 압력 측정기(PT1~PT4)는 가스공급 라인의 압력을 측정하여 그 결과를 표시한다. 또한, 가스공급 라인에는 소정 개수의 라인 필터(LF1A, LF2)가 설치된다. 공정 밸브(AV3)와 공정 챔버 사이에는 수동 밸브(MV1A)가 설치되어 반응가스가 공정 챔버에 공급되는 것을 최종적으로 제어한다.A predetermined number of pressure measuring devices PT1A to PT4 are installed in the gas supply line, and the pressure measuring devices PT1 to PT4 measure the pressure of the gas supply line and display the result. A predetermined number of line filters (LF1A, LF2) are provided in the gas supply line. A manual valve MV1A is provided between the process valve AV3 and the process chamber to finally control the supply of the reactive gas to the process chamber.
퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9) 중 어느 하나의 밸브(예를 들면, AV9)는 트리클 밸브(trickle valve)로 구성하여 실린더(100)의 교체작업에서 실린더(100)측 가스공급 라인을 통해 공기가 유입되는 것을 방지한다.One of the purge valves AV1A, AV7 and AV9 (for example, AV9) is constituted by a trickle valve and is connected to the
진공가스 공급라인과 진공발생기 사이에 설치되는 밸브(AV8)는 브리드 밸브로 구성하여 배기 밸브(AV4A,AV5A)로부터 배기되는 미량의 반응가스 혹은 퍼지가스에 의해 진공발생기가 부식되는 것을 방지한다.The valve AV8 provided between the vacuum gas supply line and the vacuum generator is constituted by a bleed valve to prevent the vacuum generator from being corroded by a small amount of reactive gas or purge gas exhausted from the exhaust valves AV4A and AV5A.
종래의 가스공급 장치는 공정작업 중에는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9)가 폐쇄된 상태를 유지하며, 진공 밸브(AV8)도 폐쇄된다. 또한, 배기 밸브(AV4A, AV5A)는 폐쇄되고 공정 밸브(AV2A, AV3A)가 개방된 상태를 유지하여 실린더(100)에서 공급되는 반응가스는 공정 밸브(AV2A)와 압력 조정기(REGA)와, 공정 밸브(AV3A)와, 수동 밸브(MV1A)를 거쳐 공정 챔버에 공급된다.In the conventional gas supply apparatus, the purge valves AV1A, AV7 and AV9 are kept closed during the process operation, and the vacuum valve AV8 is also closed. The exhaust valves AV4A and AV5A are closed and the process valves AV2A and AV3A are kept open so that the reaction gas supplied from the
실린더(100)를 교체하기 위해 가스공급 라인을 퍼지하는 경우에는 공정 밸브(AV2A, AV3A)는 폐쇄되고, 배기 밸브(AV4A, AV5A)는 개방되며, 진공 밸브(AV8)가 개방된다.When the gas supply line is purged to replace the
진공 밸브(AV8)가 개방되면 진공가스가 진공 밸브(AV8)를 통해 진공발생기에 공급되고, 진공발생기가 작동하면서 가스공급 라인을 진공상태로 만들어 배기 밸브(AV4A, AV5A)를 통해 잔류 반응가스를 배기장치로 배출시킨다.When the vacuum valve AV8 is opened, the vacuum gas is supplied to the vacuum generator via the vacuum valve AV8, and the vacuum generator is operated to vacuum the gas supply line to supply the residual reaction gas through the exhaust valves AV4A and AV5A Exhaust to the exhaust system.
잔류 반응가스가 배출되어 진공상태가 유지되면 퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9)을 모두 개방시켜 퍼지가스를 공급하고, 퍼지가스가 가스공급 라인에 채워지면서 잔류하는 반응가스(밸브 및 압력 조정기 등과 반응하면서 액상으로 된 반응가스)가 퍼지가스의 압력에 의해 배기된다. 이와 같은 과정을 수회(예를 들면, 300회 이상) 반복함으로써 가스공급 라인을 퍼지한다.When the residual reaction gas is discharged and the vacuum state is maintained, all the purge valves AV1A, AV7 and AV9 are opened to supply the purge gas, and the purge gas is filled in the gas supply line, The reaction gas in the liquid phase while being reacted) is exhausted by the pressure of the purge gas. The gas supply line is purged by repeating this process several times (for example, 300 times or more).
그런데, 종래의 가스공급 장치의 퍼지방식에 의하면, 배기 과정에서 반응가스와 직접 접촉되는 밸브들 즉, 퍼지밸브(AV1A) 및 배기 밸브(AV4A, AV5A)의 개폐상태를 반복함에 따라 반응가스가 밸브들에 융착되는 현상이 발생한다. 이러한 경우, 염소 계열(Cl2, HCl 등)의 부식성이 강한 반응가스로 인해 밸브들이 부식되어 밸브의 수명이 단축되는 현상이 발생하며, 반응가스에 직접 접촉되는 압력 조정기(REGA)의 경우도 동일한 이유로 수명이 단축되는 현상이 발생한다.However, according to the conventional purge method of the gas supply device, as the valves that are in direct contact with the reactive gas during the exhaust process, that is, the purge valve AV1A and the exhaust valves AV4A and AV5A are repeatedly opened and closed, There occurs a phenomenon in which they are welded to each other. In this case, the corrosion of the valves due to the corrosive reaction gas of the chlorine series (Cl 2 , HCl, etc.) shortens the service life of the valves, and in the case of the pressure regulator (REGA) The reason is that the lifetime is shortened.
또한, 종래에는 배기 과정에서 잔류하는 반응가스가 진공발생기에 접촉되어 진공발생기를 부식시키는 것을 방지하기 위해 진공가스 공급라인과 진공발생기 사이에 트리클 밸브(trickle valve)를 구성하였으며, 이로 인하여 밸브가 폐쇄되더라도 일정한 양의 진공가스가 항상 배기장치를 통해 배출되어야 하므로 진공가스의 손실이 발생한다.Further, in order to prevent the reaction gas remaining in the exhaust process from contacting the vacuum generator and corroding the vacuum generator, a trickle valve is formed between the vacuum gas supply line and the vacuum generator, A certain amount of vacuum gas is always discharged through the exhaust device, so that a loss of the vacuum gas occurs.
이하에서는, 본 발명의 일 실시 예에 따른 배관 청정도 분석 시스템을 도 2 내지 도 9를 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a piping cleanliness analysis system according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 2 to FIG.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템을 구성하는 각종 장비와 관리서버의 관계를 보여주는 개념도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에서의 레시피 구성을 도시하는 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에서의 논리적 순서를 도시한 흐름도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 일반 상태를 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 퍼지&준비 상태를 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 분석 상태를 개략적으로 도시하는 도면이고, 도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 전체 구성을 개략적으로 도시하는 도면이며, 도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 터치 스크린의 일례를 도시하는 도면이다.FIG. 2 is a conceptual view showing a relation between various equipment and a management server constituting a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic view showing the cleanliness of the gas supply equipment according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a flow chart showing a logical sequence in a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a flowchart FIG. 6 schematically shows the purge & preparation state of the cleanliness analysis system of the gas supply equipment according to an embodiment of the present invention. FIG. FIG. 7 is a view schematically showing an analysis state of a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a view 9 is a view showing an example of a touch screen of a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention. FIG.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템을 구성하는 각종 장비와 관리서버의 관계를 보여주는 개념도이다.FIG. 2 is a conceptual diagram showing a relationship between various equipment and a management server constituting a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참조하여, 가스공급장비의 청정도 분석 시스템을 구성하는 각종 장비와 관리서버의 관계에 대해 설명한다.Referring to Fig. 2, the relationship between various equipment constituting the cleanliness analysis system of the gas supply equipment and the management server will be described.
본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 소프트웨어부는 입력부(A), 컨트롤부(B), 분석부(C) 및 출력부(D)를 주 구성으로 한다.The software part of the cleanliness analysis system of the gas supply equipment according to the embodiment of the present invention mainly includes an input part A, a control part B, an analysis part C and an output part D.
상기 입력부는 컴퓨터(A1) 및 터치 스크린(A2)을 포함한다.The input unit includes a computer A1 and a touch screen A2.
상기 컴퓨터(A1)는 노트북일 수 있으며, 측정할 배관(장비)의 이력사항과 레시피를 입력한다.The computer A1 may be a notebook, and inputs the history and the recipe of the pipeline (equipment) to be measured.
상기 터치 스크린(A2)은 소프트웨어의 터치스크린 입력버튼을 터치하여 설정 값과 퍼지 테스트 시간을 수정하고 기록한다. 또한, 분석을 위한 자동진행 시작과 종료를 입력한다. The touch screen A2 touches the touch screen input button of the software to correct and record the set value and the fuzzy test time. Also, enter the start and end of automatic progress for analysis.
상기 입력부(A)와 컨트롤부(B)를 구성하는 노트북은 USB를 통해 RS232 네트워크 통신 신호체계인 4종류의 분석기의 데이터를 수집하고 모니터링하며, 입력된 레시피와 비교하여 합부 판정을 내리고 최종 합격품에 대해 증명서(Certification Report)를 출력하는 기능을 한다.The notebook computer constituting the input unit A and the control unit B collects and monitors data of four kinds of analyzers as an RS232 network communication signal system via USB, compares the received data with the inputted recipe, And outputs a certification report (Certification Report).
상기 컨트롤부(B)를 구성하는 프로그램 가능한 논리 제어기(이하, "PLC"라 칭함)(B1)는 터치스크린(A2)의 입력신호를 받아 솔레노이드 밸브를 동작시키고 퍼지와 분석 시퀀스에 맞게 설정된 프로그램을 통해 자동으로 공압 밸브를 열고 닫는 기능을 한다. A programmable logic controller (hereinafter referred to as "PLC") B1 constituting the control unit B operates a solenoid valve by receiving an input signal of the touch screen A2 and outputs a program set for the purge and analysis sequence And automatically opens and closes the pneumatic valve.
상기 분석부(C)는, 1) 파티클 0.01 ㎛ 분석기(F1) (통신 : RS232 ->USB ->PC), 2) 파티클 0.1 ㎛ 분석기(F2) (통신 : RS232 ->멀티포트(Multiport) ->USB ->PC), 3) H2O 분석기(F3) (통신 : RS232 ->멀티포트 ->USB ->PC), 4) O2 분석기(F4) (통신 : RS232 -> 멀티포드 ->USB ->PC)를 포함하며, 분석부(C)의 분석기(F1 ~ F4)들 중 하나는 USB를 통해 상기 노트북(A1)에 연결되고 나머지 다른 분석기들은 상기 멀티포트에 각각 연결된다.The analysis unit C includes 1) a particle analyzer F1 (communication: RS232->USB-> PC), 2) a particle 0.1 m analyzer F2 (communication: RS232 -> Multiport- > USB -> PC), 3 ) H 2 O analyzer (F3) (communications: RS232> multiport -> USB -> PC), 4)
상기 출력부(D)를 구성하는 프린터는 분석이 완료된 4종류의 분석기 데이터를 합부 판정과 함께 A4 용지로 출력한다.The printer constituting the output section (D) outputs the four kinds of analyzer data for which the analysis is completed, together with the combination determination, on A4 paper.
솔레노이드 밸브(D1)는 PLC(B1)에서 보내주는 디지털 동작신호를 전자석을 이용하여 공압 시스템을 컨트롤하고 이를 통해 공압 밸브(Pneumatics Valve)(10 ~ 40)들을 동작시키는 역할을 한다.The solenoid valve D1 serves to control the pneumatic system using the electromagnet and to operate the
출력부(D)는 또한 상기 PLC(B1)에 케이블로 연결된 시그널램프(D2)를 포함한다. 퍼지와 분석 시퀀스에 따른 모든 동작사항은 시그널램프(D2)를 통해 작업자가 현재의 진행 사항이 어떤 상태인지 분별할 수 있다.Output D also includes a signal ramp D2 connected to the PLC B1 by a cable. Through the signal ramp (D2), all operations according to the purge and analysis sequence can be identified by the operator as to what the current process is.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에서의 레시피 구성은, Customer : 고객 이름, Equip. : 장비 이름, S/N : 장비 일련번호, QAF : 시험자, Recipe : 레시피 번호, 0.1ea : 0.1 ㎛ 파티클 최대 허용개수, Nbr.Samp : 측정 샘플 개수, 0.01ea : 0.01 ㎛ 파티클 최대 허용개수, Nbr.Samp : 측정 샘플 개수, H2Oppb : H2O 순도의 최대 허용수치, O2ppb : O2 순도의 최대 허용수치, (60)min : 검사시간 등으로 구성된다.As shown in FIG. 3, the recipe composition in the cleanliness analysis system of the gas supply equipment according to the embodiment of the present invention includes: Customer: Customer name, Equip. The maximum allowable number of particles, Nbr.Samp: The number of samples to be measured, 0.01ea: The maximum allowable number of particles, Nbr .Samp: number of measurement samples, H2Oppb: maximum allowable value of H 2 O purity, O 2 ppb: maximum allowable value of O 2 purity, (60) min: inspection time.
일반적으로 "레시피"는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에서의 검사 조건에 대한 정보이며, 청정도 분석기와 구동 프로그램은 레시피 파일에 의해 공정을 자동으로 진행할 수 있도록 한다.In general, the "recipe" is information on inspection conditions in the cleanliness analysis system of the gas supply equipment according to an embodiment of the present invention, and the cleanliness analyzer and the drive program can automatically process the process by using the recipe file .
예를 들어, 고객이 제공한 소스가 순도 증명서(PURITY CERTIFICATION (RECIPE No. 2) 일 경우,For example, if the customer provided source is a PURITY CERTIFICATION (RECIPE No. 2)
아래의 레시피 테이블(표 1)의 No.2 기준과 같이 시스템 분석에 의해서 합/부 판정이 정해진다.As in No.2 of the recipe table (Table 1) below, the sum / negative determination is determined by system analysis.
상기 표 1에서,In Table 1,
1) H2O 순도 : 허용수치 10 ppb 이하 합격, 초과는 불합격1) H 2 O purity:
2) O2 순도 : 허용수치 10 ppb 이하 합격, 초과는 불합격2) O 2 purity:
3) 파티클 0.1 : 사용 안함3) Particle 0.1: Not used
4) 파티클 0.01 : 허용개수 20개 이하 합격, 초과는 불합격으로 판정한다.4) Particles 0.01:
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에서의 논리적 순서를 도시한 흐름도이다.4 is a flowchart illustrating a logical sequence in a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
도 4를 참조하여, 예를 들어 H2O 순도 판정 프로세스에 대해 설명한다.Referring to FIG. 4, for example, the H 2 O purity determination process will be described.
우선, 가스공급 라인(장비)을 퍼지한다(단계 S10). 이때 시그널램프는 주황색 램프를 점등한다.First, the gas supply line (equipment) is purged (step S10). At this time, the signal lamp turns on the orange lamp.
이어서, 퍼지된 가스공급장비의 청정도 분석 순서에서 H2O 순도 판정 순서인지를 판정한다(단계 S20). 이 단계(S20)에서 H2O 순도 판정 순서가 아닌 것으로 판정되는 경우에는 H2O 순도 분석 대기를 지시하고, H2O 순도 판정 순서인 경우에는 H2O 순도 분석을 실시한다(단계 S30). 이때 시그널램프는 초록색 램프를 점등한다.Then, it is judged whether or not it is the H 2 O purity determination order in the cleanliness analysis sequence of the purge gas supply equipment (step S 20). If it is determined that not the purity determined sequence H 2 O In this step (S20) in the case of indicating a H 2 O purity analyzed air, and H 2 O purity determination procedure is to conduct the H 2 O purity analysis (step S30) . At this time, the signal lamp turns on the green lamp.
상기 단계(S30)에서 분석한 H2O 순도를 기준 값과 비교하고(단계 S40)), 합격 여부를 판정한다(단계 S50). The H 2 O purity analyzed in step S30 is compared with a reference value (step S40), and it is determined whether or not the product is passed (step S50).
이 단계(S50)에서 H2O 순도가 합격이 아닌 것으로 판정되는 경우에는 가스공급장비를 다시 퍼지하는 단계로 되돌아가고, H2O 순도가 합격인 것으로 판정되는 경우에는 승인서를 작성하고 종료한다(단계 S60). 이때 시그널램프는 청색 램프를 점등한다.If it is determined in step S50 that the H 2 O purity is not acceptable, the process returns to the step of purging the gas supply equipment again. If it is determined that the H 2 O purity is acceptable, an approval sheet is prepared and terminated Step S60). At this time, the signal lamp turns on the blue lamp.
이와 같이, 데이터 비교 분석 후 합격으로 판정 시, 승인서를 출력하고 테스트를 종료한다. In this way, when the data comparison and analysis is determined to be passed, an approval sheet is output and the test is terminated.
데이터 비교 분석 후 불합격으로 판정 시, 불합격 리포트가 출력되고 초기 장비 퍼지 상태로 돌아가 순차적으로 재분석을 실시한다.When the data comparison and analysis is determined to be unacceptable, the rejection report is output and the initial equipment is returned to the purge state and re-analyzed sequentially.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 공정 단계를 도시하며, 이하에서는 각 단계별 시스템 상태에 대해 설명한다.5 to 7 illustrate processing steps of a cleanliness analysis system of a gas supply equipment according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시 예에 따른 가스공급장비의 청정도 분석 시스템의 하드웨어부로서, 도 5 내지 도 7에 도시된 가스공급장비의 청정도 분석 시스템은 전술한 가스공급장비의 청정도 분석기(F); 퍼지 가스 공급부(1); 상기 가스 공급부(1)에 연결된 다수의 퍼지 가스 공급용 배관(50 ~ 53); 상기 배관(50 ~ 53)에 설치된 다수의 공압 밸브(10 ~40); 다수의 가스공급장비(2); 상기 가스공급장비(2)들과 분석기(F) 사이의 배관에 설치된 다수의 레귤레이터(60)를 포함한다.As a hardware part of the cleanliness analysis system of the gas supply equipment according to the embodiment of the present invention, the cleanliness analysis system of the gas supply equipment shown in FIGS. 5 to 7 is a cleanliness analyzer F of the above- ; A purge
도 5에 도시된 바와 같이, 퍼지된 가스공급장비(GAS CABINET, VMB, BSGS, ISO 등)(2)는 배관을 통해 분석기(F)에 연결되며, 분석기(F)의 터치 스크린을 조작함으로써 출력 신호가 PLC에 의해 제공되어 디지털 동작신호 의해 솔레노이드 밸브의 전자석을 이용하여 공압 시스템을 컨트롤하고 이를 통해 공압 밸브(10 ~ 40)를 동작시킨다.As shown in FIG. 5, the purge gas supply equipment (GAS CABINET, VMB, BSGS, ISO, etc.) 2 is connected to the analyzer F through piping, and by operating the touch screen of the analyzer F, A signal is provided by the PLC to control the pneumatic system using the electromagnet of the solenoid valve by means of a digital operating signal, thereby operating the pneumatic valves 10-40.
분석기(F)에 접속된 PLC는 터치 스크린의 입력신호를 받아 솔레노이드 밸브를 동작시키고, 퍼지와 분석 시퀀스에 따른 프로그램을 통해 자동으로 공압 밸브를 개폐한다.The PLC connected to the analyzer (F) activates the solenoid valve by receiving the input signal of the touch screen and automatically opens / closes the pneumatic valve through the program according to the purge and analysis sequence.
도 5는 일반(normal) 상태로서, 퍼지 N2가 항시 분석기로 공급 유지되는 상태이다.FIG. 5 shows a normal state in which purge N2 is supplied and maintained at the always-present analyzer.
도 5에 도시된 바와 같이, 공압 밸브(10)는 폐쇄되고(close), 공압 밸브(20)는 개방되고(open), 공압 밸브(30)는 폐쇄되며, 공압 밸브(40)도 폐쇄된다. 이에 따라, N2 가스는 가스공급장비(Cabitnet 또는 VMB)(2)를 우회하고, 공압 밸브(20)를 통하여 배관을 퍼지한다.5, the
도 6은 퍼지&준비(purge & stand by) 상태로서, 가스공급장비(2)로 공급한 퍼지 N2를 순환시켜 배기구(exhaust)로 배출시키는 상태이다.6 shows a purge & stand-by state in which the purge N 2 supplied to the gas supply equipment 2 is circulated and discharged to the exhaust.
도 6에 도시된 바와 같이, 공압 밸브(10)는 개방(open), 공압 밸브(20)는 개방되고(open), 공압 밸브(30)는 폐쇄되며(close), 공압 밸브(40)는 개방된다. 이에 따라, N2 가스는 공압 밸브(20)를 통하여 배관을 퍼지하며, 동시에 가스공급장비(2)로 공급된 후 공압 밸브(40)를 통해 배출된다.6, the
도 7은 분석(run) 상태로서, 가스공급장비(2)로 공급한 퍼지 N2를 순환시켜 분석기로 공급시키는 상태이다.7 shows a state in which the purge N 2 supplied to the gas supply equipment 2 is circulated and supplied to the analyzer in a run state.
도 7에 도시된 바와 같이, 공압 밸브(10)는 개방(open), 공압 밸브(20)는 폐쇄(close), 공압 밸브(30)는 개방되며, 공압 밸브(40)는 폐쇄된다. 이에 따라, N2 가스는 가스공급장비(2)로 공급된 후 공압 밸브(30)를 통해 배출분석기로 공급되어 분석기에 의해 분석된다.7, the
도 8은 본 발명의 일 실시 예에 따른 배관 청정도 분석 시스템의 전체 구성을 개략적으로 도시하는 도면으로서, 도 8에서 샘플 1 ~ 8은 측정이 필요한 가스공급장비를 나타내며 하나의 시스템 당 최대 8대의 장비를 분석할 수 있고, 샘플 번호 1 ~ 8을 통해 장비의 위치 및 측정되는 순서를 시스템에 입력하여 소프트웨어가 해당순서에 맞게 분석처리 된다.FIG. 8 is a schematic view showing the overall configuration of a piping cleanliness analysis system according to an embodiment of the present invention. In FIG. 8,
도 9는 일 실시 예에 따른 분석기의 4개의 블록을 도시하며, 위에서부터 차례대로 사진상의 분석기 4종류를 나타낸다.FIG. 9 shows four blocks of the analyzer according to one embodiment, and four types of analyzers on the photographs in order from the top.
사진의 위에서부터, 1) H2O 순도, 2) O2 순도, 3) 파티클 0.1 ㎛ 수량 분석, 4) 파티클 0.01 ㎛ 수량 분석 4가지 분석기를 나타낸다.1) H 2 O purity, 2) O 2 purity, 3) particle size of 0.1 μm, and 4) particle size of 0.01 μm.
4가지 요소들은 초기 소프트웨어의 레시피 설정에 레시피 입력 번호를 기입하면, 해당 레시피에 맞는 허용 개수나 허용 수치에 따라 합부 판정기준이 자동으로 정해지며, 레시피 입력번호의 지정은 고객이 제공한 소스에 따라 검사 레벨에 맞는 레시피 번호가 정해진다.If you enter the recipe input number into the recipe setting of the initial software, the four criteria are automatically determined according to the allowable number or the allowable value for the recipe. The recipe input number is specified according to the customer supplied source A recipe number that matches the inspection level is determined.
본 명세서에서 사용된 용어, "VMB(Valve Manifold Box)"는 밸브 매니폴드 박스, "BSGS(Bulk Specialty Gas Supply System)"는 벌크형 특수 가스 공급 시스템, "ISO"는 대유량 컨테이너 실린더를 지칭한다.As used herein, the term "VMB (Valve Manifold Box)" refers to a valve manifold box, "BSGS (Bulk Specialty Gas Supply System)" refers to a bulk special gas supply system, and "ISO" refers to a large flow container cylinder.
전술한 바와 같이, 본 발명의 가스공급장비의 청정도 분석 시스템에 따르면, 해당 증명 공정에 자동분석 및 비교과정으로 인해 분석 및 비교인원이 필요 없으며 분석기를 다루지 못해도 사용할 수 있으며, 또한, 측정할 장비를 시스템이 스스로 공압 밸브를 열어 배관 퍼지를 진행하고 자동으로 시간관리가 기록되어, 문제가 발생할 수 있는 여지를 줄일 수 있다.As described above, according to the cleanliness analysis system of the gas supply equipment of the present invention, it is possible to use the analysis process without analyzing and comparing personnel due to the automatic analysis and comparison process in the certification process, The system opens the pneumatic valve by itself and proceeds to purge the piping, and the time management is automatically recorded, thereby reducing the possibility of occurrence of a problem.
또한, 배관 퍼지 후 측정할 장비를 시스템이 스스로 분석하고 분석기의 셋팅 및 컨트롤이 필요 없고 숙련된 작업자가 요구되지 않으며, 또한, 분석기의 데이터가 합격수준에 도달하면 스스로 증명서를 출력하며 작업자의 수작업 업무가 거의 필요하지 않다.In addition, the system analyzes the equipment to be measured after piping purging, does not require the setting and control of the analyzer, requires no skilled worker, and outputs the certificate itself when the analyzer data reaches the acceptance level, Is almost unnecessary.
본 발명의 몇 가지 실시형태를 설명했지만, 이들 실시형태는 예로서 제시한 것으로, 발명의 범위를 한정하려는 의도는 없다. 이들 신규의 실시형태는 그 밖의 다른 여러 형태로 실시되는 것이 가능하고, 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서 여러 가지 생략, 치환, 변경을 실시할 수 있다. 이들 실시형태나 그 변경은 발명의 범위나 요지에 포함되고, 특허청구범위에 기재된 발명과 그 균등한 범위에 포함된다.Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These new embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and alterations can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and spirit of the invention, and are included in the scope of the invention described in claims and their equivalents.
1: 퍼지 가스 공급부 2: 가스공급장비
10, 20, 30, 40: 공압 밸브 50, 51, 52, 53: 배관
A: 입력부 B: 컨트롤부
C: 분석부 D: 출력부
F: 분석기1: purge gas supply unit 2: gas supply equipment
10, 20, 30, 40:
A: Input section B: Control section
C: Analysis part D: Output part
F: Analyzer
Claims (6)
퍼지 가스 공급부(1);
상기 가스 공급부(1)에 연결된 다수의 퍼지 가스 공급용 배관(50 ~ 53);
상기 배관(50 ~ 53)에 설치된 다수의 공압 밸브(10 ~ 40);
다수의 가스공급장비(2);
상기 가스공급장비(2)들과 분석기(F) 사이의 배관에 설치된 다수의 레귤레이터(60)를 포함하며,
가스공급 라인을 퍼지하는 단계로서, 시그널램프는 주황색 램프를 점등하는 가스공급 라인의 퍼지 단계(S10);
퍼지된 가스공급라인의 청정도 분석 순서를 판정하고(S20), 판정된 순서에 따라 분석을 실시하며, 시그널램프는 초록색 램프를 점등하는 분석 단계(S30);
상기 단계(S30)에서 분석한 값을 기준 값과 비교하고(S40), 합격 여부를 판정하는 단계(S50);
상기 판정 단계(S50)에서 불합격으로 판정되는 경우에는 가스공급라인을 다시 퍼지하는 단계로 되돌아가고, 합격인 것으로 판정되는 경우에는 승인서를 작성하고 종료하며, 시그널램프는 청색 램프를 점등하는 단계(S60)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 가스공급장비의 청정도 분석 시스템.An input unit A; A control unit B; An analysis unit (C); And an output unit D. The input unit A includes a computer A 1 and a touch screen A 2 and the control unit B controls a touch of the computer A 1 and the computer A 1, screens (A2) and communication associated with a programmable and logic controller including (PLC) (B1), the analyzer (C) is particles 0.01 ㎛ Quantity analyzer (F1), particles 0.1 ㎛ Quantity analyzer (F2), H 2 O analyzer (F3), O 2 is made to the analyzer (F4), the analyzer (F1 ~ F4) are connected to the computer (A1) via a multi-port (multiport), the output section (D) is the computer (A1) and A cleanliness analyzer F of a gas supply equipment including a printer connected to a communication network, a solenoid valve D1 connected to the PLC B1 by a cable, a signal lamp D2 and pneumatic valves connected to the solenoid valve D1, ;
A purge gas supply unit 1;
A plurality of purge gas supply pipes 50 to 53 connected to the gas supply unit 1;
A plurality of pneumatic valves (10 to 40) provided in the piping (50 to 53);
A plurality of gas supply equipment (2);
And a plurality of regulators (60) installed in the piping between the gas supply equipment (2) and the analyzer (F)
Purging the gas supply line, wherein the signal lamp comprises a purge step (SlO) of a gas supply line for lighting the orange lamp;
Determining a cleanliness analysis order of the purged gas supply lines (S20); analyzing according to the determined order; analyzing the signal lamps (S30) for turning on the green lamps;
Comparing the value analyzed in step S30 with a reference value (S40), and determining whether the result is acceptable (S50);
When it is determined that the gas supply line is rejected in the determination step (S50), the process returns to the step of purifying the gas supply line again. If it is determined that the gas supply line is acceptable, the approval lamp is created and the signal lamp is turned on Wherein the cleanliness analysis system of the gas supply equipment comprises:
상기 분석부(C)의 분석기(F1 ~ F4)들 중 하나는 USB를 통해 상기 컴퓨터(A1)에 연결되고, 나머지 다른 분석기들은 상기 멀티포트에 연결되는, 가스공급장비의 청정도 분석 시스템.The method according to claim 1,
Wherein one of the analyzers F1 to F4 of the analyzer C is connected to the computer A1 via USB and the other analyzers are connected to the multiport.
상기 터치 스크린(A2)은 파티클 0.01 ㎛ 수량 분석기(F1), 파티클 0.1 ㎛ 수량 분석기(F2), H2O 분석기(F3), O2 분석기(F4)의 터치 스크린이 수직 방향으로 연이어 설치되는, 가스공급장비의 청정도 분석 시스템.The method according to claim 1,
The touch screen A2 includes touch screens of a particle 0.01 탆 particle analyzer F1, a particle 0.1 탆 water analyzer F2, an H 2 O analyzer F3 and an O 2 analyzer F4, Cleanliness analysis system of gas supply equipment.
가스공급장비의 청정도 분석기(F)에 연결된 PLC(B1)는 터치 스크린(A2)의 입력신호를 받아 솔레노이드 밸브(D1)를 동작시키고, 퍼지와 분석 시퀀스에 따른 프로그램을 통해 자동으로 공압 밸브(10 ~ 40)들을 개폐하는, 가스공급장비의 청정도 분석 시스템.The method according to claim 1,
The PLC B1 connected to the cleanliness analyzer F of the gas supply equipment operates the solenoid valve D1 by receiving the input signal of the touch screen A2 and automatically outputs the pneumatic valve 10 ~ 40) of the gas supply equipment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180026612A KR101890092B1 (en) | 2018-03-07 | 2018-03-07 | Systems for analyzing cleanliness of gas supplying device |
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| KR1020180026612A KR101890092B1 (en) | 2018-03-07 | 2018-03-07 | Systems for analyzing cleanliness of gas supplying device |
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| KR101890092B1 true KR101890092B1 (en) | 2018-08-20 |
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ID=63443185
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| KR (1) | KR101890092B1 (en) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100457036B1 (en) | 1998-03-11 | 2005-01-15 | 삼성전자주식회사 | Gas analysis equipment for fabricating semiconductor device to prevent process defect caused by hydrogen fluoride |
| KR100941424B1 (en) * | 2007-07-27 | 2010-02-11 | 주식회사 케이씨텍 | Gas supplier and method for thereof |
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2018
- 2018-03-07 KR KR1020180026612A patent/KR101890092B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| KR100457036B1 (en) | 1998-03-11 | 2005-01-15 | 삼성전자주식회사 | Gas analysis equipment for fabricating semiconductor device to prevent process defect caused by hydrogen fluoride |
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