KR101881289B1 - exhaust gas dilution device - Google Patents

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KR101881289B1
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조민기
박영희
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(주)코셉솔루션
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Abstract

The present invention relates to a technology for effectively diluting exhaust gas, generated by a reaction chamber, into the air. In an exhaust system in which a reaction chamber, a vacuum pump, and a scrubber are sequentially joined by a pipeline, an exhaust gas dilution device is joined to the discharge pipe, protruding from a vacuum pump and inserts diluting gas from the outside to the inside of the discharge pipe. Accordingly, the exhaust gas dilution device dilutes exhaust gas in the discharge pipe in an effective manner and prevents a back stream from the discharge pipe to the vacuum pump. The exhaust gas dilution device comprises a main pipe, a sub-pipe, and a diluting gas supply pipe for injecting the diluting gas. According to the present invention, the diluting gas is injected from the upper and lower portions of both lateral sides of the main pipe into a doughnut-shaped space formed by the main pipe and sub-pipe. While the diluting gas, entering the inside of the main pipe, surrounds exhaust gas, which is moving in the main pipe, the diluting gas is rotated in a spiral shape. Therefore, not only is the diluting gas mixed well with the exhaust gas but flushing is also performed to prevent particles from sticking to the main pipe and inner wall of the discharge pipe joined to the main pipe.

Description

배기가스 희석장치 {exhaust gas dilution device}[0001] Exhaust gas dilution device [0002]

본 발명은 반응챔버로부터 발생하는 배기가스를 그 배기 중에 효과적으로 희석시키는 기술이다.The present invention is a technique for effectively diluting the exhaust gas generated from the reaction chamber during the exhaust.

더욱 상세하게는, 본 발명은 반응챔버, 진공펌프, 스크러버가 배관을 통해 순차적으로 연결되는 배기시스템에서 진공펌프로부터 토출되는 토출관로에 연결되어 외부의 희석용가스를 토출관로의 내측으로 유입시킴에 따라 토출관로 내의 배기가스를 효과적으로 희석시킴과 아울러 토출관로로부터 진공펌프로의 백스트림(역류)을 방지하는 배기가스 희석 기술이다.More specifically, the present invention relates to an exhaust system in which a reaction chamber, a vacuum pump, and a scrubber are sequentially connected through a pipe to a discharge pipe discharged from a vacuum pump to introduce an external diluting gas into the discharge pipe Thereby effectively diluting the exhaust gas in the discharge pipe and preventing a back stream (back flow) from the discharge pipe to the vacuum pump.

일반적으로 반도체 공정을 위한 반응챔버는 그 반도체 공정에서 사용되고 남은 폐가스를 외부로 배기시킨다. 여기서 폐가스에는 배기가스로서 미세한 불꽃에도 쉽게 발화하는 수소가스(H2)를 포함한다.Generally, a reaction chamber for a semiconductor process is used in the semiconductor process and exhausts residual waste gas to the outside. Here, the waste gas contains hydrogen gas (H2) that easily fires even as a small flame as an exhaust gas.

그리고, 반응챔버로부터 남은 폐가스를 외부로 배기시키기 위해서 반응챔버는 진공펌프와 배관을 통해 연통 연결되고 그 진공펌프는 스크러버와 배관을 통해 연통 연결된다.The reaction chamber is connected to the vacuum pump through a pipe, and the vacuum pump is connected to the scrubber through a pipe to exhaust the remaining waste gas from the reaction chamber to the outside.

그 결과, 진공펌프는 반응챔버로부터 남은 폐가스를 흡입한 후 그 흡입한 폐가스를 스크러버로 이송시킨다.As a result, the vacuum pump sucks the remaining waste gas from the reaction chamber, and then transfers the sucked waste gas to the scrubber.

그리고, 스크러버는 배관을 통해 반응챔버로부터 전달되는 유해한 배기가스를 버닝(burning) 처리하거나 ?(wet) 처리하는 등의 과정을 거친 후 외부로 배출시킨다.The scrubber exhausts harmful exhaust gas delivered from the reaction chamber through the pipe after burning or wetting the exhaust gas.

여기서, 반응챔버로부터 스크러버로 이송되는 배기가스는 폭발 성분(예: H2)이 포함되어 있기 때문에 약한 불꼿이 발생하는 경우에도 쉽게 폭발할 수 있는 위험성을 가지고 있다.Here, since the exhaust gas sent from the reaction chamber to the scrubber contains an explosive component (for example, H2), there is a danger that the exhaust gas can easily explode even if a weak flame occurs.

이러한 배기가스의 폭발 위험성을 해소하기 위해 그 배기가스에 안정한 성분의 희석용가스(예: N2)를 투입하여 결국 그 배기가스를 희석시킴에 따라 애초의 폭발 위험성을 해소한다.In order to eliminate the risk of explosion of such exhaust gas, a diluent gas (for example, N 2 ) of a stable component is injected into the exhaust gas to dilute the exhaust gas, thereby eliminating the risk of the initial explosion.

그런데, 배기가스에 이송하는 과정에서 희석용가스를 투입하여도 그 배기가스와 희석용가스가 잘 섞이지 않는다면 그 배기가스 내의 폭발 성분은 순간적인 약한 발화에도 폭발될 수 있는 위험성을 갖게 된다.However, even if the diluting gas is fed in the course of feeding to the exhaust gas, if the exhaust gas and the diluting gas are not mixed well, the explosive component in the exhaust gas may be explosively exploded even at a momentary weak ignition.

본 발명은 상기한 점을 감안하여 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 진공펌프로부터 스크러버를 잇는 토출관로를 따라 이동되는 배기가스에 희석용가스를 투입하되 그 희석용가스가 그 배기가스에 효과적으로 희석되도록 하는 배기가스 희석장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an exhaust gas purifying apparatus for purifying an exhaust gas, comprising: a diluting gas introduced into an exhaust gas flowing along a discharge line connecting a scrubber from a vacuum pump, And an exhaust gas diluting device for supplying the diluted exhaust gas.

또한, 본 발명의 목적은 진공펌프로부터 스크러버를 잇는 토출관로 내벽에 붙은 파티클을 제거하고 그 토출관로의 내벽에 배기가스 내의 파티클이 들러붙지 않도록 플러싱하는 배기가스 희석장치를 제공함에 있다.It is another object of the present invention to provide an exhaust gas dilution device for removing particles adhered to the inner wall of a discharge pipe connecting a scrubber from a vacuum pump and flushing the inner wall of the discharge pipe to prevent particles in the exhaust gas from adhering thereto.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 반응챔버의 배기가스를 펌핑하는 진공펌프의 토출관로 상에 배치되어 그 토출관로 내를 이동하는 배기가스에 외부로부터 공급되는 희석용가스를 섞어 그 배기가스를 희석시키는 배기가스 희석장치로서, 토출관로와 연통하도록 토출관로에 연결됨에 따라 반응챔버의 배기가스가 이송되도록 인터페이스하는 제 1 내경 및 제 1 길이를 갖는 메인관; 자신의 외경이 제 1 내경보다 작게 형성되어 메인관의 내측에 배치되고 자신의 길이는 제 1 길이보다 작게 형성되며 진공펌프의 방향에 대응하는 메인관의 일단부와 진공펌프의 방향에 대응하는 자신의 일단부가 일체로 연결됨에 따라 메인관의 내경과 자신의 외경이 이루는 도넛형공간의 일단부를 내외부 폐쇄시키고 그 폐쇄된 부분과 대향하는 도넛형공간의 타단부를 개방시키는 서브관; 외부로부터 공급되는 희석용가스가 진공펌프로부터 메인관으로 흐르는 배기가스를 감싸는 형태로 메인관의 내측에 공급되도록 서브관에 대응하는 메인관의 측벽에 연결된 상태로 메인관의 측벽을 관통하여 도넛형공간에 연통됨으로써 희석용가스를 도넛형공간에 주입시키는 희석가스 공급관;을 포함하여 구성된다.According to an aspect of the present invention, there is provided an exhaust gas purifying apparatus for purifying an exhaust gas of a reaction chamber, comprising: a purge pump for purifying an exhaust gas of a reaction chamber, wherein the purge gas is supplied to an exhaust gas, 1. A diluting exhaust gas diluting apparatus comprising: a main pipe having a first inner diameter and a first length for interfacing the exhaust gas of a reaction chamber to be connected to a discharge pipe so as to communicate with a discharge pipe; The outer diameter of which is smaller than the first inner diameter, is disposed inside the main pipe, and the length thereof is smaller than the first length, and the one end of the main pipe corresponding to the direction of the vacuum pump, A sub tube which closes one end of the toroidal space formed by the inner diameter of the main tube and the outer diameter of the main tube and opens the other end of the toroidal space opposed to the closed part; The diluting gas supplied from the outside passes through the side wall of the main pipe so as to be supplied to the inside of the main pipe so as to surround the exhaust gas flowing from the vacuum pump to the main pipe, And a dilution gas supply pipe communicating with the space to inject the dilution gas into the donut-shaped space.

이때, 희석가스 공급관은, 메인관의 원형 절단면에서 상부에 대응하는 메인관의 일측벽을 관통하여 연결되는 제 1 공급관; 메인관의 원형 절단면에서 하부에 대응하는 메인관의 타측벽을 관통하여 연결되는 제 2 공급관; 희석용가스를 공급하는 외부의 가스공급탱크로부터 연장되는 배관에 일단부가 연통 연결되고 타단부는 제 1 공급관과 제 2 공급관에 연통 연결됨에 따라 가스공급탱크로부터 공급되는 희석용가스를 제 1 공급관과 제 2 공급관에 전달하는 제 3 공급관;을 포함하여 구성됨에 따라 희석가스 공급관을 통해 메인관의 내측으로 공급되는 희석용가스가 도넛형공간을 경유하면서 배기가스의 이동 방향을 따라 나선구조로 회전하면서 이동하도록 구성될 수 있다.At this time, the dilution gas supply pipe includes a first supply pipe connected to the main pipe through a side wall of the main pipe corresponding to the upper part of the circular cut surface of the main pipe; A second supply pipe connected to the other cut through the other side wall of the main pipe corresponding to the lower portion of the circular cut surface of the main pipe; The dilution gas supplied from the gas supply tank is connected to the first supply pipe and the second supply pipe as the one end is connected to the pipe extending from the external gas supply tank for supplying the dilution gas and the other end is connected to the first supply pipe and the second supply pipe, And a third supply pipe for supplying the diluted gas to the inside of the main pipe through the dilution gas supply pipe, the dilution gas is rotated in a spiral structure along the moving direction of the exhaust gas via the toroidal space Lt; / RTI >

그리고, 도넛형공간을 이동하는 희석용가스와 메인관의 내측으로 이동하는 배기가스가 합류하여 나타내는 압력을 체크하도록 메인관의 관통된 부분으로부터 메인관의 외부로 연장되는 속이 빈 파이프 형태의 인터로크 접속부재;를 더 포함하여 구성될 수 있다.A hollow pipe-shaped interlock extending from the penetrated portion of the main pipe to the outside of the main pipe so as to check the pressure indicated by the merging of the diluting gas moving in the toroidal space and the exhaust gas moving toward the inside of the main pipe And a connecting member.

한편, 인터로크 접속부재는, 메인관의 내측으로 돌출 형성되고 자신의 하단부가 배기가스의 이동하는 방향으로 절곡 형성되는 돌출부;를 포함하여 구성될 수 있다.On the other hand, the interlock connecting member may include a projection protruding inwardly of the main pipe, and a lower end of the protruding portion bent in a moving direction of the exhaust gas.

다른 한편, 가스공급탱크와 제 3 공급관을 연결하는 배관에 장착되어 가스공급탱크로부터 제 3 공급관으로 흐르는 희석용가스의 유량을 조절하는 니들밸브; 가스공급탱크와 제 3 공급관을 연결하는 배관에 장착되어 가스공급탱크로부터 제 3 공급관으로 흐르는 희석용가스의 유량이 최소임계값보다 낮은 경우 이를 감지하여 외부에 알리는 플로우스위치; 인터로크 접속부재에 연결되어 인터로크 접속부재를 통해 감지된 압력이 최대임계값을 초과하면 니들밸브의 제어를 통해 가스공급탱크로부터 제 3 공급관으로 흐르는 유량을 조정하는 과압 인터로크 유닛; 진공펌프의 동작이 턴오프된 경우 이를 감지하여 니들밸브의 제어를 통해 가스공급탱크로부터 제 3 공급관으로 흐르는 유량을 차단하는 딜루션 콘트롤러;를 더 포함하여 구성될 수 있다.A needle valve mounted on a pipe connecting the gas supply tank and the third supply pipe to regulate the flow rate of the diluting gas flowing from the gas supply tank to the third supply pipe; A flow switch mounted on a pipe connecting the gas supply tank and the third supply pipe and detecting a flow rate of the diluting gas flowing from the gas supply tank to the third supply pipe, when the flow rate of the dilution gas is lower than a minimum threshold, An over-pressure interlock unit connected to the interlock connecting member and adjusting the flow rate from the gas supply tank to the third supply pipe through the control of the needle valve when the pressure sensed through the interlock connecting member exceeds the maximum threshold value; And a deluxe controller for detecting the operation of the vacuum pump when the operation of the vacuum pump is turned off and shutting off the flow rate from the gas supply tank to the third supply pipe through the control of the needle valve.

본 발명은 메인관과 서브관이 이루는 도넛형공간으로 희석용가스를 주입함에 따라 희석용가스가 배기가스에 잘 섞이도록 하는 장점을 나타낸다.The present invention is advantageous in that the diluting gas is mixed with the exhaust gas by injecting the diluting gas into the donut-shaped space formed by the main pipe and the sub-pipe.

또한, 본 발명은 메인관과 서브관이 이루는 도넛형공간에 대해 메인관 양측부의 상하부에서 희석용가스를 주입하여 그 메인관의 내부로 진입하는 희석용가스가 메인관 내의 이동중인 배기가스를 둘러싸면서 나선구조로 회전하도록 구성됨에 따라 희석용가스가 배기가스에 잘 섞임을 물론 메인관과 그 메인관에 이어지는 토출관로의 내벽에 파티클이 달라붙지 않도록 플러싱하는 장점도 나타낸다.In the present invention, a diluting gas is injected at the upper and lower portions of both sides of the main pipe with respect to the toroidal space formed by the main pipe and the sub pipe, and a diluting gas entering the main pipe surrounds the moving exhaust gas in the main pipe The dilution gas is mixed well with the exhaust gas, and the particles are flushed so as not to adhere to the main pipe and the inner wall of the discharge pipe leading to the main pipe.

또한, 본 발명은 본 발명은 메인관과 서브관이 이루는 도넛형공간에 대해 메인관 양측부의 상하부에서 희석용가스를 주입하여 그 메인관의 내부로 진입하는 희석용가스가 메인관 내의 이동중인 배기가스를 둘러싸면서 나선구조로 회전하도록 구성됨에 따라 메인관으로부터 진공펌프로 백스트림(역류)되는 현상을 차단하는 장점도 나타낸다.According to the present invention, a diluting gas is injected at the upper and lower portions of both sides of the main pipe with respect to the toroidal space formed by the main pipe and the sub pipe, and the diluting gas entering into the main pipe is injected into the main pipe (Reverse flow) from the main tube to the vacuum pump as it is configured to rotate in a helical configuration surrounding the gas.

[도 1]은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치가 설치된 배기시스템의 개략적인 예시도,
[도 2]는 본 발명에 따른 배기가스 희석장치를 도시한 사시도,
[도 3]은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치를 도시한 측면도,
[도 4]는 [도 3]에서 인터로크 접속부재와 제 3 공급관을 기준으로 절단한 단면도,
[도 5]는 [도 4]의 일부분을 발췌하여 확대한 도면,
[도 6]은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치를 도시한 정면도,
[도 7]은 [도 6]에서 제 3 공급관을 기준으로 절단한 단면도,
[도 8]은 [도 7]의 일부분을 발췌하여 확대한 도면이다.1 is a schematic view of an exhaust system equipped with an exhaust gas dilution device according to the present invention,
2 is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to the present invention,
3 is a side view showing an exhaust gas dilution device according to the present invention,
FIG. 4 is a cross-sectional view cut along the interlock connecting member and the third supply pipe in FIG. 3;
[Fig. 5] is an enlarged view of a portion of [Fig. 4]
6 is a front view showing an exhaust gas dilution device according to the present invention,
[Fig. 7] is a sectional view cut along the third supply pipe in [Fig. 6]
[Fig. 8] is an enlarged view of a portion of Fig. 7 taken as an excerpt.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[도 1]은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치가 설치된 배기시스템의 개략적인 예시도이다.1 is a schematic illustration of an exhaust system equipped with an exhaust gas dilution device according to the present invention.

[도 1]을 참조하면, 본 발명에 따른 배기가스 희석장치(100)는 진공펌프(20)와 스크러버(30)를 잇는 토출관로(42) 상에 배치되며 진공펌프(20)에 인접하는 토출관로(42) 상에 배치됨이 바람직하다.An exhaust gas dilution device 100 according to the present invention is disposed on a discharge pipe line 42 connecting a vacuum pump 20 and a scrubber 30, Is preferably disposed on the conduit (42).

여기서, 진공펌프(20)는 반응챔버(10)와 배기관로(41)를 통해 연통 연결되고, 진공펌프(20)는 펌핑 동작으로 반응챔버(10) 내의 배기가스를 흡입하여 토출관로(42)로 이송시킨다.The vacuum pump 20 is connected to the reaction chamber 10 via the exhaust pipe 41 and the vacuum pump 20 sucks the exhaust gas in the reaction chamber 10 by the pumping operation, .

즉, 반응챔버(10) 내의 배기가스는 배기관로(41)를 통해 진공펌프(20)를 경유하여 토출관로(42)를 통해 스크러버(30)에 이송된다.That is, the exhaust gas in the reaction chamber 10 is conveyed to the scrubber 30 through the exhaust pipe 41 via the vacuum pump 20 and the exhaust pipe 42.

이때, 배기가스 희석장치(100)는 외부의 가스공급탱크(50)와 연통 연결되어 그 가스공급탱크(50)로부터 소정 압력(예: 5 bar)에 의해 공급되는 희석용가스를 토출관로(42) 내의 배기가스에 주입시킴에 따라 희석용가스와 배기가스를 섞어 결국 그 배기가스를 희석시킨다.At this time, the exhaust gas dilution device 100 is connected to the external gas supply tank 50 and supplies a diluting gas supplied from the gas supply tank 50 by a predetermined pressure (for example, 5 bar) to the discharge pipe 42 ), The diluting gas and the exhaust gas are mixed with each other to eventually dilute the exhaust gas.

한편, 가스공급탱크(50)로부터 희석용가스가 외부로 배출됨에 따라 애초의 소정 압력은 점차적으로 줄어들게 된다.On the other hand, as the diluting gas is discharged from the gas supply tank 50 to the outside, the initial predetermined pressure is gradually reduced.

이 경우, 가스공급탱크(50)로부터 배기가스 희석장치(100)로 주입되는 압력이 임계값 이하로 떨어지게 되면 인터로크 접속부재(140)에 연결되는 과압 인터로크 유닛(230)은 이를 감지할 수 있다.In this case, when the pressure injected from the gas supply tank 50 into the dilution device 100 falls below a threshold value, the over-pressure interlock unit 230 connected to the interlock connection member 140 senses the pressure have.

이때, 그 과압 인터로크 유닛(230)이 그 감지한 결과에 따라 사용자는 희석용가스가 꽉찬 새로운 가스공급탱크(50)의 교체 시기를 판단할 수 있다.At this time, according to the result of the detection by the overpressure interlock unit 230, the user can judge the replacement timing of the new gas supply tank 50 filled with the diluting gas.

여기서, 본 발명에 따른 배기사스 희석장치(100)는 외부로부터 공급되는 희석용가스를 토출관로(42) 내에 주입하되 그 주입되는 희석용가스를 토출관로(42) 내의 배기가스에 효과적으로 혼합시키는 기술이다.Here, the exhaust gas dilution device 100 according to the present invention is a device for injecting diluent gas supplied from the outside into the discharge pipe 42 and effectively mixing the diluting gas into the exhaust gas in the discharge pipe 42 to be.

이를 위한, 본 발명에 따른 배기사스 희석장치(100)에 대해 이하에서 상세하게 살펴본다.To this end, the exhaust gas dilution device 100 according to the present invention will be described in detail below.

[도 2]는 본 발명에 따른 배기가스 희석장치를 도시한 사시도이고, [도 3]은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치를 도시한 측면도이고, [도 4]는 [도 3]에서 인터로크 접속부재와 제 3 공급관을 기준으로 절단한 단면도이고, [도 5]는 [도 4]의 일부분을 발췌하여 확대한 도면이고, [도 6]은 본 발명에 따른 배기가스 희석장치를 도시한 정면도이고, [도 7]은 [도 6]에서 제 3 공급관을 기준으로 절단한 단면도이고, [도 8]은 [도 7]의 일부분을 발췌하여 확대한 도면이다.[Fig. 2] is a perspective view showing an exhaust gas dilution device according to the present invention, [Fig. 3] is a side view showing an exhaust gas dilution device according to the present invention, and [Fig. 4] FIG. 5 is an enlarged view of a part of FIG. 4 taken along the line A-A, and FIG. 6 is a front view showing an exhaust gas dilution device according to the present invention. FIG. 7 is a cross-sectional view cut along the third supply pipe in FIG. 6, and FIG. 8 is an enlarged view of a portion of FIG.

[도 2] 내지 [도 8]을 참조하면, 본 발명은 반응챔버(10)의 배기가스를 펌핑하는 진공펌프(20)의 토출관로(42) 상에 배치되어 그 토출관로(42) 내를 이동하는 배기가스에 외부로부터 공급되는 희석용가스를 섞어 그 배기가스를 희석시키는 배기가스 희석장치(100)로서, 메인관(110), 서브관(120), 희석가스 공급관(130), 인터로크 접속부재(140)를 포함하여 구성된다.The present invention is applied to a vacuum pump 20 which is disposed on a discharge pipe 42 of a vacuum pump 20 for pumping exhaust gas from a reaction chamber 10 and is arranged inside the discharge pipe 42 An exhaust gas dilution device 100 for diluting an exhaust gas mixed with a diluting gas supplied from the outside to a moving exhaust gas includes a main pipe 110, a sub pipe 120, a dilution gas supply pipe 130, And a connecting member (140).

메인관(110)은 [도 2]와 [도 3]에서와 같이 바람직하게는 양단부가 플랜지 구조로 이루어져 토출관로(42)와 연통하도록 토출관로(42)에 연결됨에 따라 반응챔버(10)의 배기가스가 이송되도록 인터페이스한다.The main pipe 110 is connected to the discharge pipe line 42 so as to communicate with the discharge pipe line 42 and has a flange structure at both ends as shown in FIGS. 2 and 3, The exhaust gas is interfaced to be transferred.

메인관(110)은 [도 4]와 [도 5]에서와 같이 서브관(120)의 외경보다 상대적으로 큰 제 1 내경을 갖고 서브관(120)의 길이보다 상대적으로 긴 제 1 길이를 갖는다.The main pipe 110 has a first inner diameter that is relatively larger than the outer diameter of the sub pipe 120 and has a first length that is relatively longer than the length of the sub pipe 120 as shown in FIGS. 4 and 5 .

서브관(120)은 [도 4]와 [도 5]에서와 같이 자신의 외경이 메인관(110)의 제 1 내경보다 작게 형성되어 메인관(110)의 내측에 배치되고 자신의 길이는 메인관(110)의 제 1 길이보다 작게 형성된다.4 and 5, the sub-pipe 120 has its outer diameter smaller than the first inner diameter of the main pipe 110 and is disposed on the inner side of the main pipe 110, Is smaller than the first length of the tube (110).

그리고, 서브관(120)은 [도 4]와 [도 5]에서와 같이 진공펌프(20)의 방향에 대응하는 메인관(110)의 일단부와 진공펌프(20)의 방향에 대응하는 자신의 일단부가 일체로 연결된다.The sub-pipe 120 is connected to one end of the main pipe 110 corresponding to the direction of the vacuum pump 20 and the other end corresponding to the direction of the vacuum pump 20 as shown in Figs. 4 and 5 Are integrally connected.

그 결과, [도 4]와 [도 5]에서와 같이 메인관(110)의 내경과 서브관(120)의 외경이 이루는 도넛형공간(S)의 일단부는 내외부가 폐쇄되고 그 폐쇄된 부분과 대향하는 도넛형공간(S)의 타단부는 개방된다.As a result, as shown in FIGS. 4 and 5, one end of the donut-shaped space S formed by the inner diameter of the main tube 110 and the outer diameter of the sub tube 120 is closed at the inner and outer portions, The other end of the opposing donut-shaped space S is opened.

희석가스 공급관(130)은 [도 2]와 [도 4]에서와 같이 서브관(120)에 대응하는 메인관(110)의 측벽에 연결된 상태로 메인관(110)의 측벽을 관통하여 도넛형공간(S)에 연통됨으로써 희석용가스를 도넛형공간(S)에 주입시킨다.The dilution gas supply pipe 130 is connected to the side wall of the main pipe 110 corresponding to the sub pipe 120 as shown in FIGS. 2 and 4, and passes through the side wall of the main pipe 110, And communicates with the space (S) to inject the diluting gas into the donut-shaped space (S).

이를 통해, 희석가스 공급관(130)은 가스공급탱크(50)로부터 공급되는 희석용가스가 진공펌프(20)로부터 메인관(110)으로 흐르는 배기가스를 감싸는 형태로 메인관(110)의 내측에 공급되도록 한다.The diluent gas supply pipe 130 is connected to the main pipe 110 in such a manner that the diluting gas supplied from the gas supply tank 50 surrounds the exhaust gas flowing from the vacuum pump 20 to the main pipe 110 .

그 결과, 메인관(110)으로 공급되는 희석용가스가 진공펌프(20)로 백스트림(역류)되는 현상을 차단할 수 있다.As a result, the phenomenon that the diluting gas supplied to the main pipe 110 is back-streamed (backward flow) by the vacuum pump 20 can be blocked.

한편, 희석가스 공급관(130)은 [도 2] 내지 [도 7]에서와 같이 제 1 공급관(131), 제 2 공급관(132), 제 3 공급관(133), 가스집합관(134)을 포함하여 구성될 수 있다.The diluent gas supply pipe 130 includes a first supply pipe 131, a second supply pipe 132, a third supply pipe 133 and a gas collecting pipe 134 as shown in FIGS. 2 to 7 Lt; / RTI >

제 1 공급관(131)은 [도 2]와 [도 6]에서와 같이 메인관(110)의 원형 절단면에서 상부에 대응하는 메인관(110)의 일측벽을 관통하여 연결되고, 제 2 공급관(132)은 메인관(110)의 원형 절단면에서 하부에 대응하는 메인관(110)의 타측벽을 관통하여 연결된다.The first supply pipe 131 is connected to one side wall of the main pipe 110 corresponding to the upper part of the circular cut surface of the main pipe 110 as shown in FIGS. 2 and 6, 132 are connected through the other side wall of the main pipe 110 corresponding to the lower part of the circular cut surface of the main pipe 110.

그 결과, 메인관(110)에 연통 연결되는 제 1 공급관(131)과 제 2 공급관(132)의 배치구조로 인해 도넛형공간(S)으로 진입하는 희석용가스는 [도 7]과 [도 8]에서와 같이 나선구조로 회전운동을 하게 된다.As a result, the diluting gas entering the donut-shaped space S due to the arrangement structure of the first supply pipe 131 and the second supply pipe 132 communicating with the main pipe 110 is formed by the gas 8] as shown in Fig.

그리고, 외부의 가스공급탱크(50)에 의해 소정 압력으로 이동하는 희석용가스는 도넛형공간(S)에 진입한 상태에서 [도 4]와 [도 5]에서와 같이 도넛형공간(S)의 일단부가 폐쇄되었기 때문에 도넛형공간(S)의 개방된 타단부를 향해 이동하게 된다.The diluting gas moving at a predetermined pressure by the external gas supply tank 50 enters the donut-shaped space S as shown in Figs. 4 and 5, Shaped space S toward the other open end of the donut-shaped space S because one end of the donut-shaped space S is closed.

이처럼, 도넛형공간(S)의 개방된 타단부를 향해 이동하는 희석용가스는 토출관로(42), 메인관(110), 서브관(120)의 내부를 흐르는 배기가스의 이동방향과 일치한다.As such, the diluting gas moving toward the opened other end of the donut-shaped space S coincides with the moving direction of the exhaust gas flowing through the discharge pipe 42, the main pipe 110, and the sub-pipe 120 .

제 3 공급관(133)은 [도 1]과 [도 2]에서와 같이 희석용가스를 공급하는 외부의 가스공급탱크(50)로부터 연장되는 배관에 일단부가 연통 연결되고 타단부는 제 1 공급관(131)과 제 2 공급관(132)에 연통 연결된다.The third supply pipe 133 is connected at one end to a pipe extending from an external gas supply tank 50 for supplying a diluting gas as shown in FIG. 1 and FIG. 2, and the other end is connected to a first supply pipe 131) and the second supply pipe (132).

이를 위해, 가스집합관(134)이 제 1 공급관(131)과 제 2 공급관(132)의 선단부에 연통 연결되고 제 3 공급관(133)은 가스집합관(134)에 연통 연결됨에 따라 가스공급탱크(50)로부터 공급되는 희석용가스를 제 1 공급관(131)과 제 2 공급관(132)에 함께 전달할 수 있다.The gas collecting pipe 134 is connected to the front end of the first supply pipe 131 and the second supply pipe 132 and the third supply pipe 133 is connected to the gas collecting pipe 134, Can be supplied to the first supply pipe 131 and the second supply pipe 132 together.

이를 통해, 희석가스 공급관(130)을 통해 메인관(110)의 내측으로 공급되는 희석용가스는 [도 7]과 [도 8]에서와 같이 도넛형공간(S)을 경유하면서 배기가스의 이동 방향을 따라 나선구조로 회전하면서 이동할 수 있다.The dilution gas supplied to the inside of the main pipe 110 through the dilution gas supply pipe 130 flows through the donut-shaped space S as shown in FIGS. 7 and 8, It is possible to move while rotating in a spiral structure along the direction.

그 결과, 도넛형공간(S)을 경유하여 배기가스를 감싸는 상태의 희석용가스는 그 배기가스를 감싸는 상태에서 나선구조로 회전하면서 배기가스와 함께 토출관로(42)를 따라 이동하기 때문에 배기가스와 잘 섞임에 따라 그 배기가스를 효과적으로 희석시킬 수 있다.As a result, the diluting gas in the state of wrapping the exhaust gas via the donut-shaped space S moves along the discharge line 42 together with the exhaust gas while rotating in a spiral structure in a state of wrapping the exhaust gas, The exhaust gas can be effectively diluted.

또한, 희석용가스가 배기가스를 감싸는 상태에서 나선구조로 회전하면서 배기가스와 함께 토출관로(42)를 따라 이동하도록 구성되기 때문에 토출관로(42)의 내벽에 붙어있는 파티클을 제거하면서 배기가스 내의 파티클이 토출관로(42)의 내벽에 들러붙지 않게 하는 플러싱이 이루어진다.In addition, since the diluting gas is configured to move along the discharge line 42 together with the exhaust gas while rotating in a spiral structure in the state of enclosing the exhaust gas, the particles attached to the inner wall of the discharge line 42 are removed, Flushing is performed so that the particles do not adhere to the inner wall of the discharge pipe 42.

한편, 토출관로(42)의 내벽에 들러붙는 파티클 양이 많아질수록 그 토출관로(42)를 이동하는 배기가스 내의 폭발 성분은 그 파티클의 미세한 불꽃에 의해 폭발될 위험성이 증가한다.On the other hand, the greater the amount of particles adhering to the inner wall of the discharge pipe 42, the greater the risk that the explosive component in the exhaust gas moving through the discharge pipe 42 will be exploded by the fine flames of the particles.

인터로크 접속부재(140)는 메인관(110)의 관통된 부분으로부터 메인관(110)의 외부로 연장되는 속이 빈 파이프 형태로 이루어진다.The interlock connecting member 140 is formed as a hollow pipe extending from the penetrated portion of the main pipe 110 to the outside of the main pipe 110.

이를 통해, 인터로크 접속부재(140)는 과압 인터로크 유닛(230)이 도넛형공간(S)을 이동하는 희석용가스와 메인관(110)의 내측으로 이동하는 배기가스가 합류하여 나타내는 압력을 체크하도록 인터페이스한다.Accordingly, the interlock connecting member 140 allows the overpressure interlock unit 230 to pressurize the diluting gas moving in the toroidal space S and the exhaust gas moving into the main pipe 110 Interfaces to check.

그리고, 인터로크 접속부재(140)는 바람직하게는 [도 3]과 [도 4]에서와 같이 메인관(110)의 내측으로 돌출 형성되고 자신의 하단부가 배기가스가 이동하는 방향으로 절곡 형성되는 돌출부(141)를 구비할 수도 있다.The interlock connecting member 140 is preferably protruded to the inside of the main pipe 110 as shown in Figs. 3 and 4, and the lower end of the interlock connecting member 140 is bent in a direction in which the exhaust gas moves And may have a protrusion 141.

여기서, 인터로크 접속부재(140)를 통해 과압 인터로크 유닛(230)이 희석용가스와 배기가스가 합류된 가스의 압력을 체크함에 따라 가스공급탱크(50)의 교체 주기를 판단할 수 있다.Here, the overpressure interlock unit 230 may check the pressure of the gas in which the diluting gas and the exhaust gas are combined through the interlock connecting member 140 to determine the replacement period of the gas supply tank 50.

한편, [도 1]을 참조하면, 본 발명에 따른 배기가스 희석장치는 니들밸브(210), 플로우스위치(220), 과압 인터로크 유닛(230), 딜루션 콘트롤러(310)를 더 포함하여 구성된다.1, the exhaust gas dilution device according to the present invention further includes a needle valve 210, a flow switch 220, an overpressure interlock unit 230, and a delusion controller 310, do.

니들밸브(210)는 [도 1]에서와 같이 가스공급탱크(50)와 제 3 공급관(133)을 연결하는 배관에 장착되어 가스공급탱크(50)로부터 제 3 공급관(133)으로 흐르는 희석용가스의 유량을 조절한다.The needle valve 210 is installed in a pipe connecting the gas supply tank 50 and the third supply pipe 133 as shown in Fig. 1 and is connected to the third supply pipe 133 for dilution Adjust the flow rate of the gas.

플로우스위치(220)는 [도 1]에서와 같이 가스공급탱크(50)와 제 3 공급관(133)을 연결하는 배관에 장착되어 가스공급탱크(50)로부터 제 3 공급관(133)으로 흐르는 희석용가스의 유량이 최소임계값보다 낮은 경우 이를 감지하여 외부에 알린다.The flow switch 220 is installed in a pipe connecting the gas supply tank 50 and the third supply pipe 133 as shown in FIG. 1 and is used for diluting the gas flowing from the gas supply tank 50 to the third supply pipe 133 When the flow rate of the gas is lower than the minimum threshold value, it is detected and informed to the outside.

과압 인터로크 유닛(230)은 [도 1]에서와 같이 인터로크 접속부재(140)에 연결되어 인터로크 접속부재(140)를 통해 감지된 압력이 최대임계값을 초과하면 니들밸브(210)의 제어를 통해 가스공급탱크(50)로부터 제 3 공급관(133)으로 흐르는 유량을 조정한다.The overpressure interlock unit 230 is connected to the interlock connection member 140 as shown in FIG. 1 so that when the pressure sensed through the interlock connection member 140 exceeds the maximum threshold value, And adjusts the flow rate flowing from the gas supply tank 50 to the third supply pipe 133 through the control.

그리고, 과압 인터로크 유닛(230)은 인터로크 접속부재(140)를 통해 해당 위치의 압력을 감지한 결과에 따라 사용자는 희석용가스가 꽉찬 새로운 가스공급탱크(50)의 교체 시기를 판단할 수 있다.The overpressure interlock unit 230 can determine the replacement timing of the new gas supply tank 50 filled with the diluting gas according to the result of sensing the pressure at the corresponding position through the interlock connecting member 140 have.

여기서, 가스공급탱크(50)는 일반적으로 하나의 유닛으로 구성되기 때문에 그 가스공급탱크(50)를 구입하여 토출구를 개봉한 후에는 최초 토출압력(예: 5bar)이 점차적으로 감소된다.Here, since the gas supply tank 50 is generally constituted by one unit, after the gas supply tank 50 is purchased and the discharge port is opened, the initial discharge pressure (for example, 5 bar) is gradually reduced.

딜루션 콘트롤러(310)는 [도 1]에서와 같이 진공펌프(20)의 동작이 턴오프된 경우 이를 감지하여 가스공급탱크(50)로부터 제 3 공급관(133)으로 흐르는 유량을 차단한다.When the operation of the vacuum pump 20 is turned off as shown in FIG. 1, the delution controller 310 senses the operation of the vacuum pump 20 and cuts off the flow rate from the gas supply tank 50 to the third supply pipe 133.

다른 한편, 딜루션 콘트롤러(310)는 예컨대 통신케이블(예: RS 485 또는 RS 232)을 통해 메인제어부(미도시)에 연결되어 메인제어부의 제어를 통해 본 발명에 따른 배기가스 희석장치(100)의 상태를 확인할 수 있다.On the other hand, the delution controller 310 is connected to a main control unit (not shown) through a communication cable (for example, RS 485 or RS 232) to control the exhaust gas dilution device 100 according to the present invention, Can be confirmed.

10 : 반응챔버
20 : 진공펌프
30 : 스크러버
41 : 배기관로
42 : 토출관로
50 : 가스공급탱크
100 : 본 발명에 따른 배기가스 희석장치
110 : 메인관
120 : 서브관
130 : 희석가스 공급관
131 : 제 1 공급관
132 : 제 2 공급관
133 : 제 3 공급관
134 : 가스집합관
140 : 인터로크 접속부재
141 : 돌출부
210 : 니들밸브
220 : 플로우스위치
230 : 과압 인터로크 유닛
310 : 딜루션 콘트롤러
S : 도넛형공간10: reaction chamber
20: Vacuum pump
30: Scrubber
41: By exhaust pipe
42: discharge pipe
50: gas supply tank
100: An exhaust gas dilution device according to the present invention
110: main pipe
120: Sub-
130: Dilution gas supply pipe
131: first supply pipe
132: second supply pipe
133: Third supply pipe
134: gas collecting tube
140: interlock connecting member
141:
210: Needle valve
220: Flow switch
230: Overpressure interlock unit
310: Delusion controller
S: Donut space

Claims (5)

반응챔버의 배기가스를 펌핑하는 진공펌프의 토출관로 상에 배치되어 그 토출관로 내를 이동하는 배기가스에 외부로부터 공급되는 희석용가스를 섞어 그 배기가스를 희석시키는 배기가스 희석장치로서,
상기 토출관로와 연통하도록 상기 토출관로에 연결됨에 따라 상기 반응챔버의 배기가스가 이송되도록 인터페이스하는 제 1 내경 및 제 1 길이를 갖는 메인관(110);
자신의 외경이 상기 제 1 내경보다 작게 형성되어 상기 메인관의 내측에 배치되고 자신의 길이는 상기 제 1 길이보다 작게 형성되며 상기 진공펌프의 방향에 대응하는 상기 메인관의 일단부와 상기 진공펌프의 방향에 대응하는 자신의 일단부가 일체로 연결됨에 따라 상기 메인관의 내경과 자신의 외경이 이루는 도넛형공간의 일단부를 내외부 폐쇄시키고 그 폐쇄된 부분과 대향하는 상기 도넛형공간의 타단부를 개방시키는 서브관(120);
외부로부터 공급되는 상기 희석용가스가 상기 진공펌프로부터 상기 메인관으로 흐르는 상기 배기가스를 감싸는 형태로 상기 메인관의 내측에 공급되도록 상기 서브관에 대응하는 상기 메인관의 측벽에 연결된 상태로 상기 메인관의 측벽을 관통하여 상기 도넛형공간에 연통됨으로써 상기 희석용가스를 상기 도넛형공간에 주입시키는 희석가스 공급관(130);
을 포함하여 구성되는 배기가스 희석장치.
An exhaust gas diluter arranged on a discharge line of a vacuum pump for pumping exhaust gas from a reaction chamber and mixing a dilution gas supplied from the outside to an exhaust gas moving in the discharge line to dilute the exhaust gas,
A main pipe (110) having a first inner diameter and a first length to be connected to the discharge pipe so as to communicate with the discharge pipe, and to interface the exhaust gas of the reaction chamber to be transferred;
Wherein the main pipe has an outer diameter smaller than the first inner diameter and is disposed on the inner side of the main pipe and has a length smaller than the first length and is connected to one end of the main pipe corresponding to the direction of the vacuum pump, The one end of the toroidal space formed by the inner diameter of the main tube and the outer diameter of the toroidal space is closed and the other end of the toroidal space opposed to the closed portion is opened A sub-pipe 120 for feeding the gas;
Wherein the diluting gas supplied from the outside is supplied to the inside of the main pipe so as to surround the exhaust gas flowing from the vacuum pump to the main pipe, A dilute gas supply pipe (130) communicating with the toroidal space through the side wall of the tube to inject the diluting gas into the toroidal space;
And an exhaust gas dilution device.
청구항 1에 있어서,
상기 희석가스 공급관(130)은,
상기 메인관의 원형 절단면에서 상부에 대응하는 상기 메인관의 일측벽을 관통하여 연결되는 제 1 공급관(131);
상기 메인관의 원형 절단면에서 하부에 대응하는 상기 메인관의 타측벽을 관통하여 연결되는 제 2 공급관(132);
상기 희석용가스를 공급하는 외부의 가스공급탱크로부터 연장되는 배관에 일단부가 연통 연결되고 타단부는 상기 제 1 공급관과 상기 제 2 공급관에 연통 연결됨에 따라 상기 가스공급탱크로부터 공급되는 상기 희석용가스를 상기 제 1 공급관과 상기 제 2 공급관에 전달하는 제 3 공급관(133);
을 포함하여 구성되어 상기 희석가스 공급관(130)을 통해 상기 메인관의 내측으로 공급되는 상기 희석용가스가 상기 도넛형공간을 경유하면서 상기 배기가스의 이동 방향을 따라 나선구조로 회전하면서 이동하도록 구성된 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
The method according to claim 1,
The diluent gas supply pipe (130)
A first supply pipe (131) penetrating through one side wall of the main pipe corresponding to the upper part of the circular cut surface of the main pipe;
A second supply pipe (132) connected through the other side wall of the main pipe corresponding to a lower portion of the circular cut surface of the main pipe;
The dilution gas supplied from the gas supply tank is connected to the first supply pipe and the second supply pipe in such a manner that one end is connected to the pipe extending from the external gas supply tank for supplying the dilution gas and the other end is connected to the first supply pipe and the second supply pipe, A third supply pipe 133 for transferring the first supply pipe to the first supply pipe and the second supply pipe;
And the diluent gas supplied to the inside of the main pipe through the diluent gas supply pipe 130 is moved while rotating in a spiral structure along the moving direction of the exhaust gas via the toroidal space Wherein the exhaust gas diluting device is an exhaust gas diluting device.
청구항 2에 있어서,
상기 도넛형공간을 이동하는 상기 희석용가스와 상기 메인관의 내측으로 이동하는 상기 배기가스가 합류하여 나타내는 압력을 체크하도록 상기 메인관의 관통된 부분으로부터 상기 메인관의 외부로 연장되는 속이 빈 파이프 형태의 인터로크 접속부재(140);
를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
The method of claim 2,
And a hollow pipe extending from the penetrated portion of the main pipe to the outside of the main pipe so as to check the pressure represented by the merging of the diluting gas moving in the toroidal space and the exhaust gas moving to the inside of the main pipe An interlock connecting member 140 in the form of an interlock;
And an exhaust gas dilution device for exhausting the exhaust gas.
청구항 3에 있어서,
상기 인터로크 접속부재(140)는,
상기 메인관의 내측으로 돌출 형성되고 자신의 하단부가 상기 배기가스의 이동하는 방향으로 절곡 형성되는 돌출부(141);
를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.
The method of claim 3,
The interlock connecting member (140)
A protrusion 141 protruding inwardly of the main pipe and having a lower end bent in a moving direction of the exhaust gas;
And an exhaust gas dilution device for exhausting the exhaust gas.
청구항 4에 있어서,
상기 가스공급탱크와 상기 제 3 공급관을 연결하는 배관에 장착되어 상기 가스공급탱크로부터 상기 제 3 공급관으로 흐르는 상기 희석용가스의 유량을 조절하는 니들밸브(210);
상기 가스공급탱크와 상기 제 3 공급관을 연결하는 배관에 장착되어 상기 가스공급탱크로부터 상기 제 3 공급관으로 흐르는 상기 희석용가스의 유량이 최소임계값보다 낮은 경우 이를 감지하여 외부에 알리는 플로우스위치(220);
상기 인터로크 접속부재에 연결되어 상기 인터로크 접속부재를 통해 감지된 압력이 최대임계값을 초과하면 상기 니들밸브의 제어를 통해 상기 가스공급탱크로부터 상기 제 3 공급관으로 흐르는 유량을 조정하는 과압 인터로크 유닛(230);
상기 진공펌프의 동작이 턴오프된 경우 이를 감지하여 상기 니들밸브의 제어를 통해 상기 가스공급탱크로부터 상기 제 3 공급관으로 흐르는 유량을 차단하는 딜루션 콘트롤러(310);
를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 배기가스 희석장치.The method of claim 4,
A needle valve (210) mounted on a pipe connecting the gas supply tank and the third supply pipe to adjust a flow rate of the dilution gas flowing from the gas supply tank to the third supply pipe;
A flow switch 220 installed in a pipe connecting the gas supply tank and the third supply pipe to sense the flow rate of the diluting gas flowing from the gas supply tank to the third supply pipe, );
And an over-pressure interlock which is connected to the interlock connecting member and adjusts a flow rate flowing from the gas supply tank to the third supply pipe through the control of the needle valve when a pressure sensed through the interlock connecting member exceeds a maximum threshold value, A unit 230;
A delusion controller (310) for detecting the operation of the vacuum pump when the operation of the vacuum pump is turned off and shutting off the flow rate flowing from the gas supply tank to the third supply pipe through the control of the needle valve;
And an exhaust gas dilution device for exhausting the exhaust gas.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0843275A (en) * 1994-08-01 1996-02-16 Mitsubishi Motors Corp Apparatus measuring for components of exhaust gas
JP2005191391A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Sekisui Chem Co Ltd Atmospheric pressure cvd device and exhaust gas flow control method therefor
JP2008036633A (en) * 2006-08-09 2008-02-21 Martin Gmbh Fuer Umwelt-& Energietechnik Nozzle for introducing and metering treating medium into exhaust gas stream in combustion process
JP2016527439A (en) * 2013-07-30 2016-09-08 エクソンモービル アップストリーム リサーチ カンパニー System and method for controlling combustion and emissions in a gas turbine engine with exhaust gas recirculation

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0843275A (en) * 1994-08-01 1996-02-16 Mitsubishi Motors Corp Apparatus measuring for components of exhaust gas
JP2005191391A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Sekisui Chem Co Ltd Atmospheric pressure cvd device and exhaust gas flow control method therefor
JP2008036633A (en) * 2006-08-09 2008-02-21 Martin Gmbh Fuer Umwelt-& Energietechnik Nozzle for introducing and metering treating medium into exhaust gas stream in combustion process
JP2016527439A (en) * 2013-07-30 2016-09-08 エクソンモービル アップストリーム リサーチ カンパニー System and method for controlling combustion and emissions in a gas turbine engine with exhaust gas recirculation

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