KR101866994B1 - 액체금속을 이용한 과불화 화합물 처리 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 내부에 액체 주석(Sn)을 포함하는 액체금속조와; 외부의 공기를 흡입하여 산소의 농도를 높여 배출함으로써 상기 액체금속조의 상단부에 화염을 공급할 수 있는 순산소 또는 산소부화 공급장치와; 상기 액체금속조로부터 나오는 배기가스를 냉각시킨 후 유해 성분을 습식으로 처리하는 배기가스 처리장치와; 상기 순산소 또는 산소부화 공급장치로부터 나오는 공기, 액체금속조에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 감시 및 제어를 수행하는 전자제어장치를 포함하는 과불화 화합물 처리 시스템에 관한 것이다. 본 발명은 순산소 또는 산소부화를 통한 고온 화염에 의한 과불화 화합물의 분해와 액체 주석(Sn)를 이용한 과불화 화합물의 분해를 병행시킴으로써 기존의 연소법이 갖고 있는 연소에 의한 HF, CO2, NOx 등 가스 발생, 후처리 시설 필요, 고온 공정에 의해 유지비용이 높음 등의 단점을 해결하면서, 과불화 화합물의 제거효율을 배가시키고 과불화 화합물 처리 비용을 절감할 수 있다.

Description

액체금속을 이용한 과불화 화합물 처리 방법{Method for Treating Perfluorinated compounds Using Liquid Metal}
본 발명은 반도체 공정 등에서 발생하는 과불화 화합물을 분해하여 제거하는 기술에 관한 것이다.
과불화화합물(PFC)는 반도체 제조공정에서 식각공정의 에칭제(etchant) 및 화학증착공정(chemical vapor deposition process)의 반응기(chamber) 세정제로 널리 쓰이는 가스이며, 대표적으로 CF4, CHF3, C3F6, CH2F2, C3F4, C2F6, C3F8, C4F10, C5F8, SF6, NF3 등이 있다. 반도체 제조공정이 아니더라도 PFC는 종래에 사용되던 클로로-플루오로카본(chloro-fluorocarbon; CFC)을 대체하여 세정제·에칭제·용매·반응원료 등의 목적으로 사용하거나 제조하는 공정 및 작업장에서 배출되는 폐 가스에도 포함된다.
이러한 과불화 화합물(PFC)은 지구의 온실 효과를 발생시켜 지구 온난화 현상을 유발하는 가스로 알려져 있다. 이들 가스의 지구 온난화 지수(GWP)는 이산화탄소와 비교하여 약 6,000배에서 24,000배 이상 높은 매우 안정된 화합물이다.
따라서, 세계 각국은 이러한 과불화 화합물 가스 배출량의 자발적 감축에 합의하여, 과불화 화합물 가스의 배출량의 감축이 불가피하게 되었다.
과불화 화합물 가스 배출 절감 기술로는 공정 최적화를 통한 사용량 절감, 재활용, 대체물질의 사용, 분해기술 등에 의한 과불화 화합물 가스 배출 절감 기술에 관한 연구가 진행되어 왔다.
지금까지는 분해기술, 특히 연소법을 중심으로 연구되어 왔는데, 연소 법은 가장 간단한 방법이고 현재 적용되고 있는 기술이나, 불화가스의 안정성 때문에 산화반응 전에 고온 가열이 필요하고, 연소에 따른 2차적인 대기환경 문제가 유발될 가능성이 있었다.
따라서, 최근까지 연소법을 대체하기 위하여 플라즈마, 분리막 및 물리화학적 공정 개발을 진행하고 있으나 처리 용량의 한계, 고 에너지 요구 및 낮은 공정효율로 상용화에 어려움이 있다.
현재 반도체 공정에서 발생하는 비(非) 이산화탄소 온실가스, 즉 CF4, C2F6, C3F8, CHF3, NF3, SF6 등의 과불화 화합물을 연소법에 의해 제거하는 기술은 연소에 의한 HF, CO2, NOx 등 가스 발생, 후처리 시설 필요, 고온 공정에 의해 유지비용이 높음 등의 단점이 있다.
본 발명의 목적은 이러한 단점을 극복하기 위해 순산소 또는 산소부화를 통한 고온 화염에 의해 과불화 화합물을 분해하는 방법과 액체 주석(Sn)을 이용하여 과불화 화합물을 분해하는 방법을 병행하는 과불화 화합물 처리 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 제1양태는, 내부에 액체 주석(Sn)을 포함하는 액체금속조(30)와; 외부의 공기를 흡입하여 산소의 농도를 높여 배출함으로써 상기 액체금속조(30)의 상단부에 화염을 공급할 수 있는 순산소 또는 산소부화 공급장치(20)와; 상기 액체금속조(30)로부터 이송되는 배기가스를 냉각하고 습식 처리하는 배기가스 처리장치(50)와; 상기 순산소 또는 산소부화 공급장치(20)로부터 이송되는 공기, 액체금속조에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 감시 및 제어를 수행하는 전자제어장치(40)를 포함하는 과불화 화합물 처리 시스템이다.
본 발명의 제2양태는, 내부에 액체 주석(Sn)을 포함하는 액체금속조와; 상기 액체금속조에 구비되는 전기히터와; 상기 액체금속조로부터 이송되는 배기가스를 냉각하고 습식 처리하는 배기가스 처리장치와; 상기 순산소 또는 산소부화 공급장치로부터 이송되는 공기, 액체금속조에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 감시 및 제어하는 전자제어장치를 포함하는 과불화 화합물 처리 시스템이다.
본 발명의 제3양태는, 액체금속조에 과불화 화합물 함유 폐가스를 공급하는 단계와; 순산소 또는 산소부화 공급장치를 통해 외부의 공기를 흡입하여 산소의 농도를 높여 배출함으로써 상기 액체금속조의 상단부에 화염을 공급하는 단계와; 상기 액체금속조 내에서 액체 주석(Sn) 및 공급된 화염에 의해 과불화 화합물을 분해하는 단계와; 상기 과불화 화합물의 분해에 의해 발생한 불화주석(SnF2)를 배출하고 배기가스를 배기가스 처리장치로 이송하는 단계와; 전자제어장치에 의해 상기 순산소 또는 산소부화 공급장치로부터 나오는 공기, 액체금속조에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 감시 및 제어를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 과불화 화합물 처리 방법이다.
본 발명의 제4양태는, 액체금속조에 과불화 화합물 함유 폐가스를 공급하는 단계와; 전기히터로 액체금속조를 가열하는 단계와; 상기 액체금속조 내에서 액체 주석(Sn)에 의해 과불화 화합물을 분해하는 단계와; 상기 과불화 화합물의 분해에 의해 발생한 불화주석(SnF2)를 배출하고 배기가스를 배기가스 처리장치로 이송하는 단계와; 전자제어장치에 의해 상기 순산소 또는 산소부화 공급장치로부터 이송되는 공기, 액체금속조에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 감시 및 제어를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 과불화 화합물 처리 방법이다.
본 발명에 따르면 순산소 또는 산소부화를 통한 고온 화염에 의한 과불화 화합물의 분해와 액체 주석(Sn)를 이용한 과불화 화합물의 분해를 병행시킴으로써 기존의 연소법이 갖고 있는 연소에 의한 HF, CO2, NOx 등 가스 발생, 후처리 시설 필요, 고온 공정에 의해 유지비용이 높음 등의 단점을 해결하면서, 과불화 화합물의 제거효율을 배가시키고 과불화 화합물 처리 비용을 절감할 수 있다.
도 1은 일 실시형태에 따른 액체 금속을 이용한 과불화 화합물 처리 장치의 구성을 보여주는 도이다.
도 2는 일 실시형태에 따른 액체금속조의 상단부에 산소부화 장치가 구비된 과불화 화합물 처리 장치의 구성을 보여주는 도이다.
도 3은 일 실시형태에 따른 전기히터를 액체주석 가열원으로 사용하는 과불화 화합물 처리 장치의 구성을 보여주는 도이다.
본 발명을 하기 실시예에 의하여 더욱 상세하게 설명한다. 이들 실시예는 단지 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 예로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명을 자세히 설명한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 시스템은, 액체금속조(30)는 공급되는 과불화 화합물 함유 폐가스에 포함된 과불화 화합물을 분해하도록 내부에 액체 주석(Sn)을 포함한다.
액체금속조(30)는 외부로부터 공급되는 액체 주석(Sn)을 액체금속조(30) 내부로 분사하는, 다수의 분사구를 가지는 다수의 노즐을 포함할 수 있다.
또한, 액체금속조(30)의 상단부에 순산소 또는 산소부화 공급장치(20)로부터 고온의 화염을 공급하는 장치가 구비될 수 있다.
다르게는, 도 3에 도시된 바와 같이, 액체금속조(30)는 전기히터 등의 외부열원을 통해서 액체금속조의 온도를 일정 이상으로 유지할 수 있다.
상기 과불화 화합물은 CF4, SF6, C2F6, C3F3, CHF3 및 NF3 로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 시스템은, 상기 액체금속조에 공급되는 과불화 화합물 함유 폐가스의 이물질을 제거하기 위해 필터를 더 구비할 수 있다. 필터는 프리필터, 카본 필터, HEPA 필터, 광촉매 필터, 또는 나노실버 필터를 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 시스템에서, 순산소 또는 산소부화 공급장치(20)는 내부에 기체분리막을 설치하고 있으며 이 기체분리막은 외부로부터의 흡입 공기의 산소의 농도를 높여 배출할 수 있는 것이라면 제올라이트, 평막형 또는 중공사막형 멤브레인(membrane) 등을 포함하여 어떤 형태의 것이라도 무방하며, 기체분리막은 당해 기술분야에서 통상적으로 사용되는 것이면 모두 사용 가능하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 시스템에서, 상기 배기가스 처리장치(50)는 배기가스를 냉각하기 위한 냉각부와, 액화된 배기가스 유해 성분을 물에 용해시켜 처리하기 위한 물 공급 및 배출부를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 시스템은, 액체금속조에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 실시간으로 감시 및 제어하는 전자제어장치(40)를 구비한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 방법에서, 과불화 화합물 함유 폐가스는 CF4, SF6, C2F6, C3F3, CHF3 및 NF3 로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있으나, 반드시 이에 제한되지는 않는다.
상기 과불화 화합물 함유 폐가스는 반도체 공정에서 발생할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 방법에서, 액체금속 매체로 주석을 사용할 경우 액체금속조의 운전온도는 주석의 용융점 이상, 기화점 이하로 유지해야 하며, 그 범위는 230~2600℃이다. 용융점 미만으로 운전될 경우 액체금속이 응고되기 때문에, 용융점 이상으로 온도를 유지해야 한다.
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본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 방법에서, 순산소 또는 산소부화(oxygen enrichment) 공급장치에 의해 액체금속조의 상단부에 공급되는 화염의 온도는 1,300℃ 이상인 것이 바람직하며, 액체금속이 순산소 연소반응에서 발생하는 열을 가져와 액체금속 및 화염온도를 일정하게 유지할 수 있다. 과불화 화합물을 포함한 폐가스는 액체금속에 의해 1차적으로 정제가 되고, 남은 미량의 과불화 화합물들이 순산소 연소반응에 의해 완벽히 제거된다. 순산소 공급 함량과 공급 속도는 폐가스 처리 용량에 의해 정해지며, 1차적으로 액체금속에 의해 정제되고 남은 미량의 과불화 화합물을 제거하는데 필요한 양이 공급된다. 폐가스가 액체금속에 주입되는 속도 및 순산소 공급량을 조절하여 정제효율 및 운전온도를 효과적으로 제어할 수 있다.
본 발명에 따른 과불화 화합물 처리 방법은 순산소 또는 산소부화를 통한 고온 화염에 의해 과불화 화합물을 분해하는 방법, 또는 액체 주석(Sn)을 이용하여 과불화 화합물을 분해하는 방법을 포함할 수 있으며, 상기 두가지 분해하는 방법을 동시에 사용할 수 있다.
종래의 순산소 또는 산소부화 장치를 사용한 연소 방식으로 과불화 화합물을 분해하는 방법은 산화제로서 공기 대신 산소만을 이용하는 연소 방식이다. 순산소 또는 산소부화 장치를 사용한 연소 방식은 기존의 공기연소방식과는 달리 질소 성분이 거의 없어 연소되는 가스의 열 손실량이 75 내지 80% 정도 감소되고, 배기 가스의 주성분은 이산화탄소(CO2)와 수분(H2O)으로 구성된다.
그러나, 순산소 또는 산소부화 장치를 사용한 연소 방식으로 과불화 화합물을 분해하는 방법은 산화제로서 산소를 사용하므로 공기를 사용하는 것과는 달리, 산화제와 연료 접촉시 급격한 발열반응이 진행되므로 화염의 조절이 어렵다. 즉, 일반적으로 순산소 직접 연소는 열효율이 좋고 대기오염물질 배출이 적은 장점이 있는 반면, 3000℃ 이상의 고온의 연소가스를 발생하여 열교환기에 적용시키기 어려운 단점이 있다.
이러한 단점을 해결하기 위해, 본 발명은 액체 주석(Sn)을 이용하여 과불화 화합물을 분해함으로써 폐가스 중에 포함된 과불화 화합물을 제거하며, 액체금속조 상단부에 일정 온도 이상의 순산소 또는 산소부화 화염을 공급하여 제거되지 않은 미량의 과불화 화합물들을 완벽히 제거함과 동시에, 액체 주석(Sn)의 공정 온도 및 화염의 온도를 일정하게 유지하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 과불화 화합물 분해의 기술적 원리는 액체 주석(Sn)과 CF4, SF6, C2F6, C3F3, CHF3 및 NF3 로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물 간에 일어나는 다음의 반응에 기초한다:
반응식 (1) : 2Sn(l) + CF4(g) ⇔ 2SnF2(l) + C(g)
반응식 (2) : 3Sn(l) + SF6(g) ⇔ 3SnF2(l) + S(s)
상기 반응은 액체주석의 운전온도 범위인 230~2600℃ 범위에서 일어나며, 상기 반응의 생성물인 SnF2의 기화점 850℃ 이하에서 운전하는 것이 바람직할 수 있다. 액체금속에 의한 과불화 화합물 분해는 상대적으로 저온에서도 운전이 가능하며, 액체 내에 폐가스가 기포 형태로 통과하는 방식만으로도 정제가 가능하기 때문에 기술적으로 효과적이다. 액체금속 중 주석은 운전온도 범위가 광범위하고 독성이 거의 없으며, 상대적으로 가격이 저렴하다.
본 발명에 따른 과불화 화합물 처리 방법은 액체금속조(30) 상단부에 일정온도 이상의 순산소 또는 산소부화 화염을 공급함으로써 액체 주석(Sn)의 공정온도를 유지시키고 액체 주석(Sn)에 의한 과불화 화합물의 제거효율을 배가시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따라 액체금속조(30) 상단부에 순산소 또는 산소부화 연소부를 위치시킴으로써 액체금속조 하부로의 산소의 공급을 방지하며 액체금속조에 열을 공급함으로써 액체금속의 산화를 방지할 수 있다. 본 발명에 따라 액체금속조(30)로부터 배출되는 배기가스에는 산소가 거의 포함되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 방법은, 상기 액체금속조에 과불화 화합물 함유 폐가스를 공급하는 단계 전에 과불화 화합물 함유 폐가스의 이물질을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.
이물질의 제거에 공지의 방법을 이용할 수 있으며, 본 발명에서는 필터를 사용하였다.
본 발명에 따르면, 폐가스 중에 포함된 과불화 화합물은 액체 주석(Sn)과 반응하여 불화주석(SnF2)과 탄소, 황, 질소 등으로 분해된다. 분해 과정에서 발생한 불화주석(SnF2)은 배출되고, 배기가스는 배기가스 처리장치(50)로 이송된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 과불화 화합물 처리 방법은, 상기 배기가스를 배기가스 처리장치로 이송하는 단계 후에, 상기 배기가스를 배기가스 처리장치에서 냉각하고 습식 처리하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 배기가스 처리장치에서 냉각하고 습식 처리하는 단계는 배기가스를 액화시킨 후 물에 용해시켜 처리하는 단계일 수 있다.
본 발명의 과불화 화합물 처리 방법은, 전자제어 장치에 의해 순산소 또는 산소부화 공급장치로부터 나오는 공기, 액체금속조 상부에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 감시 및 제어를 수행하는 단계를 포함함으로써, 과불화 화합물 처리 전(全) 단계를 실시간으로 모니터링할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예로서, 산소부화 장치 대신 전기히터를 액체주석 가열원으로 사용하는 과불화 화합물 처리 장치의 구성을 보여주는 도이다.
상기 과불화 화합물과 액체 주석의 정제반응은 저온에서도 일어나는 반응으로, 액체주석의 용융점인 232℃ 이상으로 액체금속조의 운전온도를 유지시켜주면 되기 때문에 전기히터를 열원으로 사용해도 무방하다.
액체금속조의 운전온도와 전기히터의 용량은 처리대상 가스의 함량과 목표정제효율에 따라 정해진다.
10 : 필터
20 : 순산소 또는 산소부화 공급장치
30 : 액체금속조
40 : 전자제어장치
50 : 배기가스 처리장치

Claims (11)

  1. 내부에 액체 주석(Sn)을 포함하여, 상기 액체 주석(Sn)과 폐가스 중에 포함된 과불화 화합물이 반응하여 액체 불화주석(SnF2)이 발생하는 액체금속조와;
    외부의 공기를 흡입하여 산소의 농도를 높여 배출함으로써 상기 액체금속조의 상단부에 고온의 화염을 공급할 수 있는 순산소 또는 산소부화 공급장치와;
    상기 액체금속조로부터 이송되는 배기가스를 냉각하고 습식 처리하는 배기가스 처리장치와;
    상기 순산소 또는 산소부화 공급장치로부터 이송되는 공기, 액체금속조에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 감시 및 제어하는 전자제어장치를 포함하고,
    상기 액체금속조의 운전 온도는 230 내지 850℃로서, 상기 액체금속조 내부의 주석 및 액체금속조에서 발생한 불화주석(SnF2)이 액체로 유지되는 것인, 과불화 화합물 처리 시스템.
  2. 내부에 액체 주석(Sn)을 포함하여, 상기 액체 주석(Sn)과 폐가스 중에 포함된 과불화 화합물이 반응하여 액체 불화주석(SnF2)이 발생하는 액체금속조와;
    상기 액체금속조에 구비되는 전기히터와;
    상기 액체금속조로부터 이송되는 배기가스를 냉각하고 습식 처리하는 배기가스 처리장치를 포함하고,
    상기 액체금속조의 운전 온도는 230 내지 850℃로서, 상기 액체금속조 내부의 주석 및 액체금속조에서 발생한 불화주석(SnF2)이 액체로 유지되는 것인, 과불화 화합물 처리 시스템.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 과불화 화합물은 CF4, SF6, C2F6, C3F3, CHF3 및 NF3 로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 과불화 화합물 처리 시스템.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 과불화 화합물 처리 시스템은 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 과불화 화합물 처리 시스템.
  5. 내부에 액체 주석(Sn)을 포함하는 액체금속조에 과불화 화합물 함유 폐가스를 공급하는 단계와;
    순산소 또는 산소부화 공급장치를 통해 외부의 공기를 흡입하여 산소의 농도를 높여 배출함으로써 상기 액체금속조의 상단부에 화염을 공급하는 단계와;
    상기 액체금속조 내에서 액체 주석(Sn) 및 공급된 화염에 의해 상기 액체 주석(Sn)과 폐가스 중에 포함된 과불화 화합물이 반응하여 액체 불화주석(SnF2)이 발생함으로써 과불화 화합물을 분해하는 단계와;
    상기 과불화 화합물의 분해에 의해 발생한 불화주석(SnF2)를 배출하고 배기가스를 배기가스 처리장치로 이송하는 단계와;
    전자제어장치에 의해 상기 순산소 또는 산소부화 공급장치로부터 이송되는 공기, 액체금속조에 공급되는 화염의 온도, 및 액체금속조로부터 발생하는 배기가스와 불화주석(SnF2)의 누적량을 감시 및 제어를 수행하는 단계를 포함하고,
    상기 액체금속조의 운전 온도는 230 내지 850℃로서, 상기 액체금속조 내부의 주석 및 액체금속조에서 발생한 불화주석(SnF2)이 액체로 유지되는 것인, 과불화 화합물 처리 방법.
  6. 내부에 액체 주석(Sn)을 포함하는 액체금속조에 과불화 화합물 함유 폐가스를 공급하는 단계와;
    전기히터로 액체금속조를 가열하는 단계와;
    상기 액체금속조 내에서 액체 주석(Sn)에 의해 상기 액체 주석(Sn)과 폐가스 중에 포함된 과불화 화합물이 반응하여 액체 불화주석(SnF2)이 발생함으로써 과불화 화합물을 분해하는 단계와;
    상기 과불화 화합물의 분해에 의해 발생한 불화주석(SnF2)를 배출하고 배기가스를 배기가스 처리장치로 이송하는 단계를 포함하고;
    상기 액체금속조의 운전 온도는 230 내지 850℃로서, 상기 액체금속조 내부의 주석 및 액체금속조에서 발생한 불화주석(SnF2)이 액체로 유지되는 것인, 과불화 화합물 처리 방법.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 과불화 화합물 처리 방법은, 상기 배기가스를 배기가스 처리장치로 이송하는 단계 후에, 배기가스를 배기가스 처리장치에서 냉각하고 습식 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 과불화 화합물 처리 방법.
  8. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 과불화 화합물 함유 폐가스는 CF4, SF6, C2F6, C3F3, CHF3 및 NF3 로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 과불화 화합물 처리 방법.
  9. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 과불화 화합물 함유 폐가스는 반도체 공정에서 발생하는 것을 특징으로 하는, 과불화 화합물 처리 방법.
  10. 삭제
  11. 제5항에 있어서,
    상기 순산소 또는 산소부화(oxygen enrichment) 장치에 의해 액체금속조의 상단부에 공급되는 화염의 온도는 1,300℃ 이상인 것을 특징으로 하는, 과불화 화합물 처리 방법.
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