KR101851641B1 - A apparatus for manufacturing the film having nano-structure including nano/micro fiber network formed by electrospinning and a method for manufacturing the film having nano-structure including nano/micro fiber network formed by electrospinning - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일실시 예는 고분자 물질을 이용한 전기방사와 이에 대한 증착 공정을 수행하므로, 나노구조체 필름 두께, 밀도 등의 성질에 대한 제어가 용이하고 공정이 비교적 간단하며, 또한 전기방사법을 연속적으로 사용하여 섬유네트를 제조한 후 증착하여 구조체를 형성시키므로, 섬유구조체간 접촉성을 향상시켜 전도성 물질 증착시 접촉저항을 효과적으로 감소시킬 수 있는 나노구조체 필름 제조장치 및 나노구조체 필름 제조방법을 제공한다. 본 발명의 실시 예에 따른 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치는, 고분자용액을 전기방사(electrospinning)하는 실린지(syringe)부, 실린지부의 하부에 이격되어 설치되며 실린지부에서 방사된 섬유가 배열되어 섬유네트를 형성하는 컬렉터(collector) 기능을 수행하는 프레임부, 및 프레임부를 지지하도록 설치되며 프레임부를 상하이동 및 회전 운동시키는 지그(jig)부를 포함한다. Since one embodiment of the present invention performs electrospinning using a polymer material and a deposition process therefor, it is easy to control properties such as film thickness and density of the nanostructure, and the process is relatively simple, and the electrospinning process is continuously used The present invention provides a nanostructure film manufacturing apparatus and a method of manufacturing a nanostructure film which can reduce the contact resistance during deposition of a conductive material by improving the contact property between the fibrous structure by forming a fiber net and then forming a structure by vapor deposition. The apparatus for manufacturing a nano-structured film including an electrospun nano / micro fiber net according to an embodiment of the present invention includes a syringe unit for electrospinning a polymer solution, A frame portion for performing a function of a collector for forming fibers netted from the branch portion and arranged to support the frame portion, and a jig portion for vertically moving and rotating the frame portion.

Figure 112016041630566-pat00002
Figure 112016041630566-pat00002

Description

전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치 및 이를 이용한 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조방법{A apparatus for manufacturing the film having nano-structure including nano/micro fiber network formed by electrospinning and a method for manufacturing the film having nano-structure including nano/micro fiber network formed by electrospinning} FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a nano-structured film manufacturing apparatus including an nano / micro fiber net and a nano / micro fiber net, electrospinning and a method for manufacturing a film having nano-structure including nano / micro fiber network formed by electrospinning}

본 발명은 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치 및 이를 이용한 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고분자 물질을 이용한 전기방사와 이에 대한 증착 공정을 수행하므로, 나노구조체 필름 두께, 밀도 등의 성질에 대한 제어가 용이하고, 공정이 단순한 나노구조체 필름 제조장치 및 나노구조체 필름 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an apparatus for manufacturing a nano-structured film including an electrospun nano / micro fiber net, and a method for manufacturing a nano-structured film including the nano / micro fiber net using the same. More particularly, The present invention relates to a nanostructure film manufacturing apparatus and a nanostructure film manufacturing method which can easily control the properties such as the thickness and density of a nanostructure and simplify the process.

투명전극은 태양전지, 디스플레이, 터치스크린, 스마트윈도우, OLED 등의 광전 소자에 필수적인 구성요소로서, 최근 플렉서블한 소자에 대한 수요가 급증함에 따라 이러한 소자에 적용하기 위하여 종래 투명전극 물질로 사용되고 있는 ITO(Indium tin oxide), ZnO, AZO(Aluminium zinc oxide), FTO(Fluorine-doped tin oxide), IGZO(Indium gallium zinc oxide), ZnSnO, SnO2 등을 포함하는 반도체산화물이나 Au, Ag, Cu, Ni 등의 금속박막을 대체할 투명전극 재료에 대한 연구가 활발히 진행 중에 있다. 종래 투명전극 제조 시에 사용되던 반도체산화물, 특히 ITO 전극은 화학적 안정성, 광투과성 및 전기적 특성은 매우 우수하나, 주원료인 인듐이 고가의 재료이고, ITO 박막은 스퍼터링, 전자빔증착법 등의 공정을 통해 형성되므로 400℃ 이상의 고온 제조공정을 포함함에 따라 유연한 플라스틱기판 위에 제조하는 것이 곤란하다는 문제점이 있었다. Transparent electrodes are indispensable components for photovoltaic devices such as solar cells, displays, touch screens, smart windows, and OLEDs. Recently, as demand for flexible devices has increased rapidly, ITO (Indium tin oxide), ZnO, AZO (Aluminium zinc oxide), FTO (Fluorine-doped tin oxide), IGZO (Indium gallium zinc oxide), ZnSnO, semiconductor oxide including SnO 2, etc., or Au, Ag, Cu, Ni And the like are being actively studied. The semiconductor oxide, especially ITO electrode, which has been used in the production of transparent electrodes in the past, has excellent chemical stability, light transmittance and electrical properties, but indium is an expensive material. ITO thin films are formed through processes such as sputtering and electron beam evaporation Therefore, there is a problem that it is difficult to manufacture on a flexible plastic substrate because it includes a high-temperature manufacturing process of 400 ° C or more.

한편, 단가가 저렴하면서도 유연한 필름형으로 제조가 용이하며 저저항, 고투과 특성을 유지할 수 있는 재료로 탄소나노튜브, 그래핀, 금속 나노선, 나노입자 등을 이용한 투명전극 연구가 급증하고 있다. On the other hand, studies on transparent electrodes using carbon nanotubes, graphenes, metal nanowires, nanoparticles, and the like are rapidly increasing as a material that can be easily manufactured with a low cost and flexible film type and can maintain low resistance and high permeability.

최근, 최고의 전기광학적 특성을 가지는 것으로 등장한 것이 메조스케일(mesoscale, 수 마이크로 크기) metal-wire개념인데 전기저항 <1 Ω/sq (투과도 92%)을 특성을 이룰 수 있다. (논문 Nature communications(DOI: 10.1038 / ncomms3522) (2013) "Performance enhancement of metal nanowire transparent conducting electrodes by mesoscale metal wires")In recent years, a metal-wire mesoscale concept has emerged that has the best electro-optical characteristics, and can achieve an electrical resistance of <1 Ω / sq (92% transmittance). (Nature communications (DOI: 10.1038 / ncomms3522) (2013) "Performance enhancement of metal nanowire transparent conducting electrodes by mesoscale metal wires"

상기된 논문의 기술 개념은, 기존에 금속 나노선만을 사용하던 것과는 달리 나노선에 수 마이크로 크기의 금속 라인을 도입하고 서로간에 네트워크를 이루어 전기전도도를 크게 낮추었다는 것인데, 이때 중요한 것은 마이크로 크기의 금속라인을 한방향으로 일정한 간격으로 잘 배열시키는 것과, 배열된 마이크로 금속라인과 금속나노선이 잘 연결되게 하여 서로간의 접촉 저항(contact resistance)을 최대한 감소시키는 것이다. 이 기술에서는 전기방사(electrospinning)를 사용하여 배열된 메조크기의polymer fiber를 제조한 뒤, 이를 금속화하기 위해 fiber상부에 금속박막을 증착하여 금속라인을 만들어 놓은 뒤, 따로 미리 금속나노선을 코팅한 기판에 전사시킨 후, 서로간의 컨택저항을 감소시키기 위해 가압처리(pressing, rolling)/열처리(annealing) 공정을 실시한다. 즉 이 기술에서는 상기의 개념/목적을 달성하기 위해 다소 복잡한 공정과, 접촉 저항을 낮추기 위한 부가적인 공정이 요구된다.The technical concept of the above paper is that a metal line of several microns in diameter is introduced into a nanowire and a network is formed between them to greatly reduce the electric conductivity, unlike the case where only the metal nanowire was used. The alignment of the lines in one direction at regular intervals and the alignment of the aligned micrometal lines with the metal nanowires to minimize the contact resistance between them. In this technique, a meso-sized polymer fiber is prepared by electrospinning. Then, a metal thin film is deposited on the fiber to metallize the metal fiber to form a metal line, After transferring to a substrate, a pressing, rolling, or annealing process is performed to reduce the contact resistance between the substrates. That is, this technique requires a somewhat complicated process and an additional process for lowering the contact resistance in order to achieve the above concept / purpose.

대한민국 공개특허 제10-2016-0010406호(발명의 명칭: 융합 금속 나노구조 네트워크, 환원제를 갖는 융합 용액 및 금속 네트워크를 형성하는 방법, 이하 종래기술1이라 한다.)에서는, 환원제 소스와 금속 이온 소스를 포함하는 융합 용액과 금속 나노와이어를 접촉시켜 금속 이온을 상응하는 금속 원소로 환원시켜 금속 나노와이어를 서로 융합함으로써 융합 금속 나노구조 네트워크를 형성하고, 상기 융합 용액은 금속 나노와이어와 융합 용액을 포함하며, 기재 상에 융합 용액을 증착하여 필름을 형성하고 상기 필름의 적어도 일부를 건조하여 융합금속 나노구조 네트워크를 형성하는 방법이 개시되어 있다. Korean Patent Laid-Open No. 10-2016-0010406 (entitled Fused Metal Nanostructure Network, Fusion Solution Having Reducing Agent and Method of Forming Metal Network, hereinafter referred to as Prior Art 1), a reducing agent source and a metal ion source And the metal nanowires are brought into contact with each other to reduce the metal ions to the corresponding metal elements to fuse the metal nanowires to each other to form a fused metal nanostructure network. The fused solution includes a metal nanowire and a fusion solution A method is disclosed for depositing a fusion solution on a substrate to form a film and drying at least a portion of the film to form a fused metal nanostructured network.

상기 종래기술1은, 융합 용액을 증착하여 필름을 형성하고, 필름의 일부를 건조시켜 금속 나노구조 네트워크를 형성하므로, 공정이 복잡하고 금속 나노구조 네트워크 두께, 밀도 등의 성질에 대한 제어가 용이하지 않다는 제1문제점을 갖는다. In the prior art 1, since a fusion film is formed by depositing a fusion solution and a part of the film is dried to form a metal nanostructure network, the process is complicated and control of the properties such as the metal nanostructure network thickness and density is easy There is a first problem that it is not.

그리고, 상기 종래기술1은, 환원제 소스와 금속 이온 소스를 포함하는 융합 용액과 금속 나노와이어를 접촉시키고, 금속 이온을 상응하는 금속 원소로 환원시켜 금속 나노와이어를 서로 융합함으로써, 융합 금속 나노구조 네트워크를 형성하므로, 융합용액 생성 과정, 융합 중 환원 과정 등으로 공정이 분리되어 있어 연속 공정이 용이하지 않아 기계적 또는 전기적 특성을 향상시키는데 한계가 있다는 제2문제점을 갖는다.In the conventional technique 1, the metal nanowires are brought into contact with the fusion solution containing the reducing agent source and the metal ion source, and the metal ions are reduced to the corresponding metal elements to fuse the metal nanowires to each other. There is a second problem that the process is separated due to the process of producing the fusion solution and the reduction process during the fusion so that the continuous process is not easy and there is a limit in improving the mechanical or electrical characteristics.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise form disclosed. There will be.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시 예는, 고분자용액을 전기방사(electrospinning)하는 실린지(syringe)부; 상기 실린지부의 하부에 이격되어 설치되며, 상기 실린지부에서 방사된 섬유가 배열되어 섬유네트를 형성하는 컬렉터(collector) 기능을 수행하는 프레임부; 및 상기 프레임부를 지지하도록 설치되며, 상기 프레임부를 상하이동 및 회전 운동시키는 지그(jig)부;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치를 제공한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a polymer electrolyte fuel cell comprising: a syringe unit for electrospinning a polymer solution; A frame part installed at a lower portion of the syringe part and performing a function of a collector for arranging fibers emitted from the syringe part to form a fiber net; And a jig part provided to support the frame part and moving the frame part up and down and rotating the nano-structured film. .

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 지그부는, 상기 프레임부를 지지하는 일부위가 평행한 2개의 전극 형상일 수 있다.In the embodiment of the present invention, the jig may be in the form of two electrodes, which are partly parallel to each other to support the frame part.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 지그부는, 상기 프레임부가 상하이동 또는 회전 운동하는 경우, 컬렉터(collector) 기능을 수행할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the jig may perform a collector function when the frame part moves up and down or rotates.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 프레임부는, 제1전극 및 제2전극으로 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the frame portion may be formed of a first electrode and a second electrode.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 생성하는 증착부를 더 포함하여 이루어질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the apparatus may further include a deposition unit for depositing a deposition material on the fiber net to produce a nanostructure.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 증착물질은, 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 아연(Zn), 납(Pb), 바나듐(V), 코발트(Co), 어븀(Er), 칼슘(Ca), 홀뮴(Ho), 사마륨(Sm), 스칸듐(Sc), 터븀(Tb), 몰리브덴(Mo) 및 백금(Pt)으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 금속일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the deposition material is at least one selected from the group consisting of Au, Ag, Pd, Al, Cu, Cr, Fe, Mg, Mn, Ni, Ti, Zn, Pb, V, Cob, Er, Ca, And may be at least one metal selected from the group consisting of Sn, Ho, Sam, Sm, Sc, Tb, Mo and Pt.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 증착물질은 ITO(Indium tin oxide), IZO(Indium zinc oxide), SnO2, ZnO, AZO(Aluminium zinc oxide), IGZO(Indium gallium zinc oxide), AZTO(Aluminium zinc tin oxide), GZO(Gallium zinc oxide), ATO(Antimony tin oxide), ATO(Antimony tin oxide), ZTO(zinc tin oxide) 및 FTO(Fluorine-doped tin oxide)로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 산화물반도체일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the deposition material may be at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), SnO 2 , ZnO, aluminum zinc oxide (IZO), indium gallium zinc oxide at least one oxide semiconductor selected from the group consisting of tin oxide (ITO), gallium zinc oxide (GZO), antimony tin oxide (ATO), antimony tin oxide (ATO), zinc tin oxide (ZTO), and fluorine- Lt; / RTI &gt;

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 나노구조체를 기판에 전사시키는 전사부를 더 포함하여 이루어질 수 있다.In an exemplary embodiment of the present invention, the transfer unit may further include a transfer unit transferring the nanostructure to a substrate.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 기판은, 필름 형태일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the substrate may be in the form of a film.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 기판은, 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리우레탄, 폴리에터 술폰(PES) 및 폴리스타이렌(PS)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 물질로 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the substrate is made of a material selected from the group consisting of polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), polyurethane, polyethersulfone (PES) and polystyrene &Lt; / RTI &gt;

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시 예는, (ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써 섬유적층을 수행하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계; (ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및 (ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method for fabricating a fiber sheet, comprising: (i) firstly electrospinning a polymer solution from the syringe section to the frame section to form a fiber pattern step; (Ii) forming a fiber net by performing fiber lamination by electrospinning the polymer solution from the syringe section to the frame section by a second order; (Iii) depositing a deposition material on the fiber net in the step (ii) to form a nanostructure; And (iv) transferring the nanostructure of step (iii) to a substrate to form a nanostructure film.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시 예는, (ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 부정형섬유층을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써, 상기 부정형섬유층 상에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계; (ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및 (ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method for fabricating a polymer electrolyte fuel cell, comprising the steps of: (i) electrospinning a polymer solution from the syringe unit to the frame unit to form an amorphous fiber layer; (Ii) a step of electrospinning the polymer solution from the syringe section to the frame section by electrospinning, thereby forming a fiber net by arranging fibers arranged in one direction at regular intervals on the amorphous fiber layer to form the fiber net; (Iii) depositing a deposition material on the fiber net in the step (ii) to form a nanostructure; And (iv) transferring the nanostructure of step (iii) to a substrate to form a nanostructure film.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시 예는, (ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 제1전극으로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 제1전극에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 제1전극에 상기 제2전극이 결합하여 상기 프레임부를 구성한 후, 상기 섬유패턴이 형성된 위로 상기 실린지부로부터 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써 섬유적층을 수행하여 섬유네트를 형성하는 단계; (ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및 (ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a polymer electrolyte fuel cell, comprising the steps of: (i) electrolishing a polymer solution from the syringe unit to the first electrode, Forming an arrayed fiber pattern; (Ii) forming a fiber net by combining the second electrode with the first electrode to form the frame part, and then, after the fiber pattern is formed, the polymer solution is secondarily electrospun from the syringe part to perform fiber lamination ; (Iii) depositing a deposition material on the fiber net in the step (ii) to form a nanostructure; And (iv) transferring the nanostructure of step (iii) to a substrate to form a nanostructure film.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시 예는, (ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 프레임부에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 회전시키고, 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써, 상기 섬유패턴 상에 섬유가 일정한 간격이며 다른 방향으로 배열되게 하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계; (ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및 (ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a polymer electrolyte fuel cell, comprising the steps of: (i) firstly electrospinning a polymer solution from the syringe unit to the jig unit, Forming a pattern; (Ii) the jig part rotates the frame part, and the polymer solution is secondarily electrospun from the sliver part to the jig part so that the fibers are arranged on the fiber pattern at regular intervals and in different directions to form the fiber net step; (Iii) depositing a deposition material on the fiber net in the step (ii) to form a nanostructure; And (iv) transferring the nanostructure of step (iii) to a substrate to form a nanostructure film.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 프레임부는, 비전도성이어야 한다.In an embodiment of the present invention, the frame portion should be nonconductive.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시 예는, (ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 지그부에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 제1섬유패턴을 형성하는 단계; (ⅱ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 상승 이동시키고 상기 프레임부와 상기 제1섬유패턴을 접촉시켜, 상기 프레임부에 섬유패턴이 형성되도록 하는 단계; (ⅲ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 회전 및 하강 이동시키고, 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 2차로 전기방사하여 제2섬유패턴을 형성시킨 후, 상기 지그부가 상기 프레임부를 상승 이동시키고 상기 프레임부와 상기 제2섬유패턴을 접촉시켜, 상기 프레임부에 상기 섬유네트를 형성하는 단계; (ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및 (ⅴ) 상기 (ⅳ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method for fabricating a semiconductor device, comprising the steps of: (i) electrospinning a polymer solution from the syringe section to the jig section, 1 &lt; / RTI &gt; fiber pattern; (Ii) causing the jig to move the frame part up and bring the frame part into contact with the first fiber pattern, so that a fiber pattern is formed on the frame part; (Iii) the jig part rotates and moves the frame part, and the polymer solution is secondarily electrospun from the sliver part to the jig part to form a second fiber pattern, then the jig moves up the frame part, Forming a fibrous net on the frame portion by contacting the fibrous net with the second fibrous pattern; (Iv) depositing a deposition material on the fiber net of step (iii) to form a nanostructure; And (v) transferring the nanostructure of step (iv) to a substrate to form a nanostructure film.

본 발명의 실시 예에 있어서, 상기 프레임부는, 비전도성인 일부위를 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the frame portion may include a portion that is non-conductive.

본 발명은, 고분자 물질을 이용한 전기방사와 이에 대한 증착 공정을 수행하므로, 나노구조체 필름 두께, 밀도 등의 성질에 대한 제어가 용이하고, 공정이 단순하다는 제1효과를 갖는다.Since the electrospinning using the polymer material and the deposition process are performed, the first effect is that the properties such as the film thickness and density of the nanostructure are easily controlled and the process is simple.

또한, 본 발명은, 나노 또는 마이크로 크기의 섬유가 동일한 전기방사법을 연속적으로 사용하여 형성시킨 후 증착물질을 증착시키므로, 증착물질이 증착된 섬유 간 접촉 비율이 향상되어, 기계적 특성을 향상시킬 뿐만 아니라 전기적 특성(전기전도도 등)을 방해하는 접촉저항(contact resistance)을 효과적으로 감소시킬 수 있다는 제2효과를 갖는다.In addition, since nano- or micro-sized fibers are formed by continuously using the same electrospinning method and then the deposition material is deposited, the contact ratio between the deposited materials and the deposited fibers is improved, and not only the mechanical properties are improved It has a second effect that it is possible to effectively reduce the contact resistance which interferes with the electrical characteristics (electrical conductivity, etc.).

그리고, 본 발명은, 전기방사법에 의한 섬유의 직경과 섬유 간 간격을 용이하게 조절할 수 있어, 나노구조체 필름의 전기광학적 특성(투과도, 전기전도도 등)을 제어할 수 있다는 제3효과를 갖는다.Further, the present invention has a third effect that it is possible to easily control the diameter of the fiber and the distance between fibers by the electrospinning method, and to control the electro-optical characteristics (transmittance, electrical conductivity, etc.) of the nanostructure film.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다. It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above effects and include all effects that can be deduced from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.

도1은 본 발명의 실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조장치의 모식도이다.
도2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다.
도3은 본 발명의 제2실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다.
도4는 본 발명의 제3실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다.
도5는 본 발명의 실시 예에 따른 제1전극과 제2전극에 대한 평면도이다.
도6은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다.
도7은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다.
도8은 본 발명의 실시 예에 따른 섬유 간 접촉된 상태에 대한 SEM 이미지이다.1 is a schematic view of an apparatus for producing a nanostructure film according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic view of a method of fabricating a nanostructure film according to a first embodiment of the present invention.
3 is a schematic view of a method of manufacturing a nanostructure film according to a second embodiment of the present invention.
4 is a schematic view illustrating a method of manufacturing a nanostructure film according to a third embodiment of the present invention.
5 is a plan view of a first electrode and a second electrode according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic view of a method of manufacturing a nanostructure film according to a fourth embodiment of the present invention.
7 is a schematic view of a method of fabricating a nanostructure film according to a fifth embodiment of the present invention.
8 is an SEM image of the interfiber-contacted state according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시 예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다. Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" (connected, connected, coupled) with another part, it is not only the case where it is "directly connected" "Is included. Also, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, the terms "comprises" or "having" and the like refer to the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도1은 본 발명의 실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조장치의 모식도이다. 1 is a schematic view of an apparatus for producing a nanostructure film according to an embodiment of the present invention.

도1에서 보는 바와 같이, 본 발명의 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치는, 고분자용액을 전기방사(electrospinning)하는 실린지(syringe)부; 실린지부(30)의 하부에 이격되어 설치되며, 실린지부(30)에서 방사된 섬유가 배열되어 섬유네트(50)를 형성하는 컬렉터(collector) 기능을 수행하는 프레임부(20); 및 프레임부(20)를 지지하도록 설치되며, 프레임부(20)를 상하이동 및 회전 운동시키는 지그(jig)부(10);를 포함하여 이루어질 수 있다. As shown in FIG. 1, the apparatus for manufacturing a nano-structured film including the electrospun nano / micro fiber net of the present invention comprises a syringe unit for electrospinning a solution of a polymer; A frame portion 20 spaced apart from the lower portion of the syringe portion 30 and functioning as a collector for arranging fibers emitted from the syringe portion 30 to form a fiber net 50; And a jig part 10 installed to support the frame part 20 and move the frame part 20 up and down and rotate.

컬렉터(collector) 기능은, 컬렉터(collector)와 고분자용액을 전기방사하는 실린지부(30)의 팁(tip) 사이에 전기장이 형성되고, 실린지부(30)의 팁에서 고분자용액이 섬유와 같은 형태로 방사되는 경우, 전기장의 인력에 의해 섬유가 컬렉터(collector)에 접착되는 기능을 의미할 수 있다.The collector function is a function of forming an electric field between a collector and a tip of a syringe 30 for electrospinning a polymer solution and forming a polymer solution in the form of fibers at the tip of the syringe 30 , It may mean the function that the fibers are adhered to the collector by the attractive force of the electric field.

프레임부(20)가 컬렉터(collector) 기능을 수행하는 경우, 프레임부(20)에 전기가 공급되어 프레임부(20)와 실린지부(30) 사이에 전기장이 형성될 수 있다. When the frame part 20 performs a collector function, electricity may be supplied to the frame part 20 and an electric field may be formed between the frame part 20 and the syringe part 30.

도1에는 도시되어 있지 않으나, 지그부(10)는 구동지그(미도시)가 구비되어, 구동지그(미도시)가 프레임부(20)를 상하이동 운동시키거나 회전 운동시킬 수 있다. 특히, 프레임부(20)가 비전도성의 물질로 형성되어 컬렉터(collector) 기능을 수행하지 않고 지그부(10)가 컬렉터(collector) 기능을 수행하는 경우, 구동지그(미도시)에 의해 프레임부(20)가 상기와 같이 구동할 수 있다. Although not shown in FIG. 1, the jig 10 is provided with a driving jig (not shown), and a driving jig (not shown) can vertically move or rotate the frame 20. Particularly, when the frame portion 20 is formed of a nonconductive material and the jig portion 10 performs a collector function without performing a collector function, a driving jig (not shown) (20) can be driven as described above.

지그부(10)는, 프레임부(20)를 지지하는 일부위가 평행한 2개의 전극 형상이며, 프레임부(20)가 상하이동 또는 회전 운동하는 경우, 컬렉터(collector) 기능을 수행할 수 있다.The jig 10 has a shape of two electrodes which are parallel to each other on a part supporting the frame part 20 and can perform a collector function when the frame part 20 moves up and down or rotates .

평행한 2개의 전극 형상인 지그부(10)의 일부위(이하, 지그부전극(11)이라고 한다.)에 전기방사를 수행 시, 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열되게 방사될 수 있다. 이는, 평행하게 설치된 2개의 전극 형상에 전기장이 일정한 방향으로 형성될 수 있기 때문일 수 있다.When the electrospinning is performed on a part of the jig 10 (hereinafter, referred to as the jig electrode 11) having two parallel electrode shapes, the fibers may be radiated at regular intervals and arranged in one direction. This may be because the electric field can be formed in a predetermined direction in two parallel electrode shapes.

이때, 프레임부(20)는 비전도성의 성질을 구비할 수 있다. At this time, the frame portion 20 may have a nonconductive property.

프레임부(20)가 비전도성인 경우, 프레임부(20)와 실린지부(30) 사이에 전기장이 형성되지 않아 전기방사가 수행되지 않을 수 있다. 이러한 경우, 지그부(10)가 컬렉터(collector) 기능을 수행하게 하고, 지그부(10)에 형성된 섬유패턴(40)을 프레임부(20)에 접착시키는 방법이 사용될 수 있다. 이에 대한 자세한 사항은, 후단의 나노구조체 필름 제조방법의 제2 실시 예와 제3 실시 예에서 설명하기로 한다.When the frame portion 20 is non-conductive, an electric field may not be formed between the frame portion 20 and the syringe portion 30, so that electrospinning may not be performed. In this case, a method may be used in which the jig 10 performs a collector function and the fiber pattern 40 formed on the jig 10 is adhered to the frame portion 20. [ The details of this will be described in the second and third embodiments of the method for producing a nano-structured film at the subsequent stage.

프레임부(20)는, 제1전극(21) 및 제2전극(22)으로 형성될 수 있다. The frame portion 20 may be formed of the first electrode 21 and the second electrode 22.

평행하게 설치된 2개의 전극으로 구성되는 제1전극(21)에 전기방사를 수행 시, 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열되게 방사될 수 있다. 이는, 평행하게 설치된 2개의 전극에 의해 전기장이 일정한 방향으로 형성될 수 있기 때문일 수 있다.When electrospinning is performed on the first electrode 21 composed of two electrodes arranged in parallel, the fibers may be radiated at regular intervals and arranged in one direction. This may be because the electric field can be formed in a constant direction by the two electrodes provided in parallel.

본 발명의 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치는, 섬유네트(50)에 증착물질을 증착시켜 나노구조체(60)를 생성하는 증착부(80)를 더 포함하여 이루어질 수 있다.The apparatus for manufacturing a nano-structured film including an electrospun nano / micro fiber net of the present invention may further include a deposition unit (80) for depositing a deposition material on the fiber net (50) to produce the nanostructure (60) have.

증착부(80)에서 수행되는 증착은, 물리 증착법 또는 화학 증착법일 수 있다. 구체적으로, 물리 증착법(PVD)으로는 진공증착법, 스퍼터링법 또는 이온 플레이팅법이 사용될 수 있다. 그리고, 화학 증착법(CVD)으로는 열 CVD, 플라즈마 CVD, 레이저 CVD, 광 CVD, 또는 MO-CVD가 사용될 수 있다. The deposition performed in the deposition section 80 may be physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Specifically, as the physical vapor deposition method (PVD), a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be used. As the chemical vapor deposition method (CVD), thermal CVD, plasma CVD, laser CVD, optical CVD, or MO-CVD may be used.

증착물질은, 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 아연(Zn), 납(Pb), 바나듐(V), 코발트(Co), 어븀(Er), 칼슘(Ca), 홀뮴(Ho), 사마륨(Sm), 스칸듐(Sc), 터븀(Tb), 몰리브덴(Mo) 및 백금(Pt)으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 금속일 수 있다.The deposition material may be at least one selected from the group consisting of Au, Ag, Pd, Al, Cu, Cr, Fe, Mg, (Ni), Ti, Zn, Pb, V, Cb, Er, Ca, Hol, (Sc), terbium (Tb), molybdenum (Mo), and platinum (Pt).

또한, 증착물질은, ITO(Indium tin oxide), IZO(Indium zinc oxide), SnO2, ZnO, AZO(Aluminium zinc oxide), IGZO(Indium gallium zinc oxide), AZTO(Aluminium zinc tin oxide), GZO(Gallium zinc oxide), ATO(Antimony tin oxide), ATO(Antimony tin oxide), ZTO(zinc tin oxide) 및 FTO(Fluorine-doped tin oxide)로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 산화물반도체일 수 있다.The deposition material may be at least one selected from the group consisting of ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), SnO 2 , ZnO, AZO, IGZO, AZTO, Gallium zinc oxide, ATO (antimony tin oxide), ATO (antimony tin oxide), ZTO (zinc tin oxide), and FTO (fluorine-doped tin oxide).

본 발명의 실시 예에서는, 증착물질이 상기에 나열된 물질 중에서 선택된다고 설명하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.In the embodiments of the present invention, it is explained that the deposition material is selected from among the materials listed above, but the present invention is not limited thereto.

본 발명의 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치는, 나노구조체(60)를 기판(70)에 전사시키는 전사부를 더 포함하여 이루어질 수 있다. The apparatus for manufacturing a nano-structured film including the electrospun nano / micro fiber net of the present invention may further include a transfer unit for transferring the nanostructure 60 to the substrate 70.

여기서, 기판(70)은, 필름 형태일 수 있다.Here, the substrate 70 may be in the form of a film.

그리고, 기판(70)은, 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리우레탄, 폴리에터 술폰(PES) 및 폴리스타이렌(PS)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 물질로 형성될 수 있다.The substrate 70 is made of one selected from the group consisting of polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), polyurethane, polyether sulfone (PES) and polystyrene Or more.

또한, 기판(70)은, 유리(glass)로 형성될 수 있다.Further, the substrate 70 may be formed of glass.

본 발명의 실시 예에서는, 기판(70)이 상기에 나열된 물질로 형성된다고 설명하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 판재 형태로 형성 시 전사 대상이 될 수 있는 물질이 사용될 수 있다.In the embodiment of the present invention, it is explained that the substrate 70 is formed of the materials listed above, but the present invention is not limited thereto, and a material that can be a transfer target when it is formed into a plate shape can be used.

이하, 본 발명의 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법 중 제1 실시 예에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a first embodiment of a method for manufacturing a nano-structured film using the nano-structured film producing apparatus including the electrospun nano / micro fiber net of the present invention will be described.

도2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다. 2 is a schematic view of a method of fabricating a nanostructure film according to a first embodiment of the present invention.

도2의 (a)에서 보는 바와 같이, 첫째 단계에서, 실린지부(30)로부터 프레임부(20)로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴(40)을 형성할 수 있다.2 (a), in the first step, the polymer solution is first electrospinned from the syringe section 30 to the frame section 20 to form a fiber pattern 40 (FIG. 2 ) Can be formed.

도2의 (b)에서 보는 바와 같이, 둘째 단계에서, 실린지부(30)로부터 프레임부(20)로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써 섬유적층을 수행하여 섬유네트(50)를 형성할 수 있다.As shown in FIG. 2 (b), in the second step, the fiber net 50 can be formed by performing the second fiber-lamination by electrospinning the polymer solution from the syringe section 30 to the frame section 20 .

이때, 섬유네트(50)는 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 첫째 단계의 섬유패턴(40)과 섬유가 부정형으로 적층된 부정형섬유층의 결합에 의해 형성된 것일 수 있다. (부정형섬유층은, 이하 동일한 의미로 사용될 수 있다.)In this case, the fiber net 50 may be formed by a combination of the first-stage fiber pattern 40 arranged at a predetermined interval and the first direction and the amorphous fiber layer in which the fibers are amorphously stacked. (The amorphous fiber layer can be used in the same sense hereinafter.)

도2의 (c)에서 보는 바와 같이, 셋째 단계에서, 둘째 단계의 섬유네트(50)에 증착물질을 증착시켜 나노구조체(60)를 형성할 수 있다.As shown in FIG. 2 (c), in the third step, the nanostructure 60 can be formed by depositing a deposition material on the fiber net 50 of the second stage.

섬유네트(50)에 증착물질을 증착시킴으로써, 나노구조체(60)가 형성되고, 이러한 나노구조체(60)는 전기적 특성을 구비할 수 있다. By depositing a deposition material on the fiber net 50, a nanostructure 60 is formed, and the nanostructure 60 can have electrical characteristics.

도2의 (d)에서 보는 바와 같이, 넷째 단계에서, 셋째 단계의 나노구조체(60)를 기판(70)에 전사하여 나노구조체필름을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 2 (d), in the fourth step, the nanostructure 60 of the third step may be transferred to the substrate 70 to form a nanostructure film.

이하, 본 발명의 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법 중 제2 실시 예에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a second embodiment of a method for manufacturing a nano-structured film using the apparatus for manufacturing a nano-structured film including the electrospun nano / micro fiber net of the present invention will be described.

도3은 본 발명의 제2실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다.(구체적으로, 제2실시 예는, 상기된 제1실시 예의 첫째 단계와 둘째 단계의 전기방사 방식이 순서를 바꾸어 수행된 것일 수 있다. 이하, 상술하도록 한다.) FIG. 3 is a schematic view of a method of manufacturing a nanostructure film according to a second embodiment of the present invention. (Specifically, the second embodiment differs from the first embodiment shown in FIG. (Which will be described below).

도3의 (a)에서 보는 바와 같이, 첫째 단계에서, 실린지부(30)로부터 프레임부(20)로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 부정형섬유층을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 3A, in the first step, the amorphous fiber layer can be formed by first electrospinning the polymer solution from the syringe section 30 to the frame section 20.

도3의 (b)에서 보는 바와 같이, 둘째 단계에서, 실린지부(30)로부터 프레임부(20)로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써, 부정형섬유층 상에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴(40)을 형성하여 섬유네트(50)를 형성할 수 있다.As shown in FIG. 3 (b), in the second step, the polymer solution is secondarily electrospinned from the syringe section 30 to the frame section 20, whereby the fibers are arranged on the amorphous fiber layer at regular intervals and in one direction The fiber net 40 can be formed to form the fiber net 50. [

도3의 (c)에서 보는 바와 같이, 셋째 단계에서, 둘째 단계의 섬유네트(50)에 증착물질을 증착시켜 나노구조체(60)를 형성할 수 있다.As shown in FIG. 3 (c), in the third step, the nanostructure 60 can be formed by depositing a deposition material on the fiber net 50 of the second stage.

섬유네트(50)에 증착물질을 증착시킴으로써, 나노구조체(60)가 형성되고, 이러한 나노구조체(60)는 전기적 특성을 구비할 수 있다.By depositing a deposition material on the fiber net 50, a nanostructure 60 is formed, and the nanostructure 60 can have electrical characteristics.

도3의 (d)에서 보는 바와 같이, 넷째 단계에서, 셋째 단계의 나노구조체(60)를 기판(70)에 전사하여 나노구조체필름을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 3 (d), in the fourth step, the nanostructure 60 of the third step may be transferred to the substrate 70 to form a nanostructure film.

이하, 본 발명의 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법 중 제3 실시 예에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a third embodiment of the method for manufacturing a nano-structured film using the nano-structured film producing apparatus including the electrospun nano / micro fiber net of the present invention will be described.

도4는 본 발명의 제3실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다. 그리고, 도5는 본 발명의 실시 예에 따른 제1전극(21)과 제2전극(22)에 대한 평면도이다.(도5의 (a)는 제2전극(22)이 직선 형태인 것을 나타낸 것이고, 도5의 (b)는 제2전극(22)이 곡선 형태인 것을 나타낸 것이다.)4 is a schematic view illustrating a method of manufacturing a nanostructure film according to a third embodiment of the present invention. 5 is a plan view of the first electrode 21 and the second electrode 22 according to the embodiment of the present invention (FIG. 5 (a) shows a linear shape of the second electrode 22) And FIG. 5 (b) shows that the second electrode 22 is in a curved shape).

도4의 (a)에서 보는 바와 같이, 첫째 단계에서, 제1전극(21)으로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 제1전극(21)에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴(40)을 형성할 수 있다. As shown in FIG. 4A, in the first step, the polymer solution is first electrospun into the first electrode 21 to form a first electrode 21, (40) can be formed.

도4의 (b)에서 보는 바와 같이, 둘째 단계에서, 제1전극(21)에 제2전극(22)이 결합하여 프레임부(20)를 구성한 후, 섬유패턴(40)이 형성된 위로 실린지부(30)로부터 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써 섬유적층을 수행하여 섬유네트(50)를 형성할 수 있다.4 (b), in the second step, the second electrode 22 is joined to the first electrode 21 to form the frame portion 20, and then the upper syllable portion The fiber net 50 can be formed by performing a fiber laminating process by electrospinning the polymer solution from the polymer solution 30 in a second order.

이때, 도5에서 보는 바와 같이, 프레임부(20)는 제1전극(21)과 제2전극(22)으로 구성될 수 있으며, 제2전극(22)이 직선 형태인지 곡선 형태인지에 따라 나노구조체(60)의 형상이 변경될 수 있다.5, the frame 20 may include a first electrode 21 and a second electrode 22. The second electrode 22 may be formed in a linear shape or a curved shape, The shape of the structure 60 can be changed.

도4의 (c)에서 보는 바와 같이, 셋째 단계에서, 둘째 단계의 섬유네트(50)에 증착물질을 증착시켜 나노구조체(60)를 형성할 수 있다.As shown in FIG. 4 (c), in the third step, the nanostructure 60 can be formed by depositing a deposition material on the fiber net 50 in the second stage.

섬유네트(50)에 증착물질을 증착시킴으로써, 나노구조체(60)가 형성되고, 이러한 나노구조체(60)는 전기적 특성을 구비할 수 있다.By depositing a deposition material on the fiber net 50, a nanostructure 60 is formed, and the nanostructure 60 can have electrical characteristics.

도4의 (d)에서 보는 바와 같이, 넷째 단계에서, 셋째 단계의 나노구조체(60)를 기판(70)에 전사하여 나노구조체필름을 형성할 수 있다.As shown in FIG. 4 (d), in the fourth step, the nanostructure 60 of the third step may be transferred to the substrate 70 to form a nanostructure film.

이하, 본 발명의 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법 중 제4 실시 예에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a fourth embodiment of the method for manufacturing a nano-structured film using the apparatus for manufacturing a nano-structured film including the electrospun nano / micro fiber net of the present invention will be described.

도6은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다.6 is a schematic view of a method of manufacturing a nanostructure film according to a fourth embodiment of the present invention.

도6의 (a)에서 보는 바와 같이, 첫째 단계에서, 실린지부(30)로부터 지그부(10)로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 프레임부(20)에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴(40)을 형성할 수 있다. 6 (a), in the first step, the polymer solution is first electrospinned from the syringe portion 30 to the jig portion 10, and the fibers are uniformly spaced in the frame portion 20 in one direction So that the arranged fiber patterns 40 can be formed.

이때, 프레임부(20)는, 비전도성이어야 한다.At this time, the frame portion 20 should be nonconductive.

그리고, 제4 실시 예에서의 프레임부(20)는, 제1전극과 제2전극으로 구성되지 않고, 일체로 형성될 수 있다.In addition, the frame portion 20 in the fourth embodiment is not formed of the first electrode and the second electrode, but may be integrally formed.

프레임부(20)가 비전도성인 경우, 프레임부(20)와 실린지부(30) 사이에 전기장이 형성되지 않아 전기방사가 수행되지 않을 수 있다. 전기방사의 수행을 위해, 프레임부(20)는 지그부전극(11)과 동일한 높이에 위치하게 되고, 실린지부(30)와 지그부전극(11) 사이에 전기장이 형성되어, 실린지부(30)로부터 지그부전극(11)으로 섬유가 1차로 방사될 수 있다. 이와 동시에, 1차로 방사되는 섬유는 비전도성의 프레임부(20)에도 접착될 수 있고, 따라서, 프레임부(20)에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열되어 섬유패턴(40)이 형성될 수 있다. When the frame portion 20 is non-conductive, an electric field may not be formed between the frame portion 20 and the syringe portion 30, so that electrospinning may not be performed. The frame portion 20 is located at the same height as the jig electrode 11 and an electric field is formed between the sliver portion 30 and the jig electrode 11 so that the syringe portion 30 ) To the jig electrode (11). At the same time, the fibers that are primarily radiated can also be adhered to the nonconductive frame portion 20, so that the fibers are arranged in one direction at regular intervals in the frame portion 20, have.

도6의 (b)에서 보는 바와 같이, 둘째 단계에서, 지그부(10)가 프레임부(20)를 회전시키고, 실린지부(30)로부터 지그부(10)로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써, 섬유패턴(40) 상에 섬유가 일정한 간격이며 다른 방향으로 배열되게 하여 섬유네트(50)를 형성할 수 있다. 6 (b), in the second step, the jig portion 10 rotates the frame portion 20, and the polymer solution is secondarily electrospun from the syringe portion 30 to the jig portion 10 , The fiber net (50) can be formed by arranging the fibers on the fiber pattern (40) at regular intervals and in different directions.

도6의 (b)는, 도6의 (a)의 프레임부(20)가 회전한 상태를 도시한 것이고, 회전 과정은 도시되지 않았으나, 프레임부(20)에 섬유패턴(40)이 형성되면, 구동지그(미도시)가 프레임부(20)를 지그부전극(11)보다 높이 상승시켜 장애가 없는 상태에서 프레임부(20)를 회전시킨 후, 다시 프레임부(20)를 하강시켜 지그부전극(11)과 동일한 높이가 되도록 프레임부(20)를 이동시킬 수 있다. 6 (b) shows a state in which the frame portion 20 of FIG. 6 (a) is rotated and the rotation process is not shown. However, when the fiber pattern 40 is formed on the frame portion 20 (Not shown) raises the frame portion 20 higher than the jig electrode 11 so as to rotate the frame portion 20 in the state of no obstacle and then lower the frame portion 20 again, The frame portion 20 can be moved so as to have the same height as the frame portion 11.

여기서, 프레임부(20)가 다시 지그부전극(11)과 동일한 높이에 위치하게 되면, 실린지부(30)와 지그부전극(11) 사이에 전기장이 형성되어, 실린지부(30)로부터 지그부전극(11)으로 섬유가 2차로 방사될 수 있다. 이와 동시에, 2차로 방사되는 섬유는 비전도성의 프레임부(20)에도 접착되면서 상기의 섬유패턴(40) 상에 섬유가 일정한 간격이며 다른 방향으로 배열되게 하여 섬유네트(50)가 형성될 수 있다.An electric field is formed between the syringe 30 and the jig electrode 11 when the frame 20 is positioned at the same height as the jig electrode 11 and the electric field is generated from the syringe 30, The fibers can be radiated to the electrode 11 in a second order. At the same time, the fibers that are radiated secondarily may be bonded to the nonconductive frame portion 20, and the fiber net 50 may be formed by arranging the fibers on the fiber pattern 40 at regular intervals and in different directions .

본 발명의 실시 예에서는, 이해의 편의를 위해 프레임부(20)가 90도 회전하는 것으로 설명하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 회전 각도를 임의로 설정하여, 1차로 방사된 섬유와 2차로 방사된 섬유 간 이루는 각을 제어할 수 있다. In the embodiment of the present invention, the frame portion 20 is rotated by 90 degrees for the sake of convenience of understanding. However, the present invention is not limited to this, and the rotation angle may be arbitrarily set, The angle between the fibers can be controlled.

도6의 (c)에서 보는 바와 같이, 셋째 단계에서, 둘째 단계의 섬유네트(50)에 증착물질을 증착시켜 나노구조체(60)를 형성할 수 있다. As shown in FIG. 6 (c), in the third step, a deposition material is deposited on the fiber net 50 of the second stage to form the nanostructure 60.

섬유네트(50)에 증착물질을 증착시킴으로써, 나노구조체(60)가 형성되고, 이러한 나노구조체(60)는 전기적 특성을 구비할 수 있다.By depositing a deposition material on the fiber net 50, a nanostructure 60 is formed, and the nanostructure 60 can have electrical characteristics.

도6의 (d)에서 보는 바와 같이, 넷째 단계에서, 셋째 단계의 나노구조체(60)를 기판(70)에 전사하여 나노구조체필름을 형성할 수 있다. As shown in FIG. 6 (d), in the fourth step, the nanostructure 60 of the third step may be transferred to the substrate 70 to form a nanostructure film.

이하, 본 발명의 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법 중 제5 실시 예에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a fifth embodiment of the method for manufacturing a nano-structured film using the nano-structured film producing apparatus including the electrospun nano / micro fiber net of the present invention will be described.

도7은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 나노구조체 필름 제조방법에 대한 모식도이다. 7 is a schematic view of a method of fabricating a nanostructure film according to a fifth embodiment of the present invention.

도7의 (a)에서 보는 바와 같이, 첫째 단계에서, 실린지부(30)로부터 지그부(10)로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 지그부(10)에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 제1섬유패턴(41)을 형성할 수 있다. 7 (a), in the first step, the polymer solution is primarily electrospun from the sliver 30 to the jig 10, and the fibers are uniformly spaced in the jig 10 in one direction It is possible to form the arranged first fiber patterns 41.

이때, 프레임부(20)는, 비전도성인 일부위를 포함할 수 있다.At this time, the frame portion 20 may include a portion that is non-conductive.

구체적으로, 프레임부(20)는, 전체가 비전도성이거나, 일부는 전도성이고 일부는 비전도성일 수 있다. Specifically, the frame portion 20 may be entirely nonconductive, partially conductive, and partially nonconductive.

그리고, 제5 실시 예에서의 프레임부(20)는, 제1전극과 제2전극으로 구성되지 않고, 일체로 형성될 수 있다.The frame portion 20 in the fifth embodiment is not formed of the first electrode and the second electrode, but may be formed integrally.

프레임부(20)가 비전도성인 경우, 프레임부(20)와 실린지부(30) 사이에 전기장이 형성되지 않아 전기방사가 수행되지 않을 수 있다. 전기방사의 수행을 위해, 프레임부(20)는 지그부전극(11)보다 하단에 위치하게 되고, 실린지부(30)와 지그부전극(11) 사이에 전기장이 형성되어, 실린지부(30)로부터 지그부전극(11)으로 섬유가 1차로 방사될 수 있다. 이에 따라, 지그부전극(11)에 1차로 방사된 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열되어 제1섬유패턴(41)을 형성할 수 있다.When the frame portion 20 is non-conductive, an electric field may not be formed between the frame portion 20 and the syringe portion 30, so that electrospinning may not be performed. An electric field is formed between the syringe portion 30 and the jig electrode 11 so that the syringe portion 30 is positioned at a position lower than the jig electrode 11. [ The fibers can be firstly radiated to the jig electrode 11. Accordingly, the first fiber patterns 41 can be formed by arranging the fibers radially irradiated to the jig electrode 11 at regular intervals and in one direction.

도7의 (b)에서 보는 바와 같이, 둘째 단계에서, 지그부(10)가 프레임부(20)를 상승 이동시키고 프레임부(20)와 제1섬유패턴(41)을 접촉시켜, 프레임부(20)에 섬유패턴(40)이 형성되도록 할 수 있다.7 (b), in the second step, the jig portion 10 moves up the frame portion 20, and the frame portion 20 and the first fiber pattern 41 are brought into contact with each other, 20 to form the fiber pattern 40.

이때, 제1섬유패턴(41)은 경화 전의 상태이므로, 접착력을 구비하고 있어, 제1섬유패턴(41)과 프레임부(20)의 접촉으로, 프레임부(20)에 제1섬유패턴(41)이 접착하여 섬유패턴(40)이 형성될 수 있다. Since the first fiber pattern 41 is in a state before curing and has an adhesive force so that the first fiber pattern 41 and the frame portion 20 are in contact with each other, ) Can be adhered to form the fiber pattern 40. [

도7의 (c) 하단의 프레임부(20)는, 도7의 (b)의 프레임부(20)가 회전한 후 하강한 상태를 도시한 것이고, 회전 과정은 도시되지 않았으나, 도7의 (b)에서와 같이, 구동지그(미도시)에 의한 프레임부(20)의 상승 이동으로 프레임부(20)에 섬유패턴(40)이 형성되면, 구동지그(미도시)가 장애가 없는 상태에서 프레임부(20)를 회전시킨 후, 다시 프레임부(20)를 하강시켜, 도7의 (c) 하단의 프레임부(20) 도시 상태와 같이, 지그부전극(11)보다 낮은 위치가 되도록 프레임부(20)를 이동시킬 수 있다. The frame portion 20 at the lower end of Fig. 7 (c) shows a state where the frame portion 20 of Fig. 7 (b) has been lowered after the rotation, if the fiber pattern 40 is formed on the frame portion 20 by the upward movement of the frame portion 20 by the driving jig (not shown), the driving jig (not shown) The frame portion 20 is lowered again after the portion 20 is rotated so that the frame portion 20 is lowered to be lower than the jig electrode 11 as shown in the lower frame portion 20 of FIG. (20) can be moved.

도7의 (c)에서 보는 바와 같이, 셋째 단계에서, 지그부(10)가 프레임부(20)를 회전 및 하강 이동시키고, 실린지부(30)로부터 지그부(10)로 고분자용액을 2차로 전기방사하여 제2섬유패턴(42)을 형성시킨 후, 지그부(10)가 프레임부(20)를 상승 이동시키고 프레임부(20)와 제2섬유패턴(42)을 접촉시켜, 프레임부(20)에 섬유네트(50)를 형성할 수 있다.7 (c), in the third step, the jig portion 10 rotates and moves the frame portion 20 and moves the polymer solution from the syringe portion 30 to the jig portion 10 in the second direction The jig 10 moves up the frame portion 20 and contacts the frame portion 20 and the second fiber pattern 42 to form the frame portion 20 20, the fiber net 50 can be formed.

도7의 (c) 하단의 프레임부(20)는, 둘째 단계를 거쳐 섬유패턴(40)이 형성된 프레임부(20)를 도시한 것이고, 도7의 (b) 상단의 프레임부(20)는, 프레임부(20)가 상승하여 섬유패턴(40) 상에 제2섬유패턴(42)이 접촉하여 섬유네트(50)가 형성된 프레임부(20)를 도시한 것일 수 있다. The frame portion 20 at the lower end of Fig. 7 (c) shows the frame portion 20 having the fiber pattern 40 formed through the second step, and the frame portion 20 at the upper end of Fig. And the frame portion 20 in which the frame portion 20 rises and the second fiber pattern 42 contacts the fiber pattern 40 to form the fiber net 50.

여기서, 둘째 단계에서와 마찬가지로, 제2섬유패턴(42)은 경화 전의 상태이므로, 접착력을 구비하고 있어, 제2섬유패턴(42)과 섬유패턴(40)의 접촉으로, 프레임부(20)에 섬유네트(50)가 형성될 수 있다. Since the second fiber pattern 42 is in a state before curing, the second fiber pattern 42 is provided with the adhesive force, and the second fiber pattern 42 and the fiber pattern 40 come into contact with each other, A fiber net 50 may be formed.

도7의 (d)에서 보는 바와 같이, 넷째 단계에서, 셋째 단계의 섬유네트(50)에 증착물질을 증착시켜 나노구조체(60)를 형성할 수 있다.As shown in FIG. 7 (d), in the fourth step, the nanostructure 60 can be formed by depositing a deposition material on the fiber net 50 of the third stage.

섬유네트(50)에 증착물질을 증착시킴으로써, 나노구조체(60)가 형성되고, 이러한 나노구조체(60)는 전기적 특성을 구비할 수 있다. By depositing a deposition material on the fiber net 50, a nanostructure 60 is formed, and the nanostructure 60 can have electrical characteristics.

도7의 (e)에서 보는 바와 같이, 다섯째 단계에서, 넷째 단계의 나노구조체(60)를 기판(70)에 전사하여 나노구조체필름을 형성할 수 있다. As shown in FIG. 7 (e), in the fifth step, the nanostructure 60 of the fourth stage may be transferred to the substrate 70 to form a nanostructure film.

도8은 본 발명의 실시 예에 따른 섬유 간 접촉된 상태에 대한 SEM 이미지이다.8 is an SEM image of the interfiber-contacted state according to an embodiment of the present invention.

도8에서 보는 바와 같이, 섬유네트(50)의 섬유 간 접촉 비율이 향상되어, 섬유네트(50)에 증착을 하여 전기적 특성을 부여하는 경우, 강도 등의 기계적 특성이 우수하고 접촉저항(contact resistance)을 효과적으로 감소시킨 나노구조체 필름을 획득할 수 있다. As shown in FIG. 8, when the contact ratio between the fibers of the fiber net 50 is improved and the electrical properties are imparted by deposition on the fiber net 50, the mechanical properties such as strength are excellent and the contact resistance ) Can be obtained effectively.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다. It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다. The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

10 : 지그부
11 : 지그부전극
20 : 프레임부
21 : 제1전극
22 : 제2전극
30 : 실린지부
40 : 섬유패턴
41 : 제1섬유패턴
42 : 제2섬유패턴
50 : 섬유네트
60 : 나노구조체
70 : 기판
80 : 증착부 10:
11: jig electrode
20:
21: first electrode
22: second electrode
30: Syllabic section
40: fiber pattern
41: first fiber pattern
42: second fiber pattern
50: fiber net
60: nanostructure
70: substrate
80:

Claims (17)

전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치에 있어서,
고분자용액을 전기방사(electrospinning)하는 실린지(syringe)부;
상기 실린지부의 하부에 이격되어 설치되며, 상기 실린지부에서 방사된 섬유가 배열되어 섬유네트를 형성하고, 전도성 또는 비전도성의 소재로 형성되며, 제1전극과 제2전극을 구비하고, 프레임의 형상인 프레임부; 및
상기 프레임부를 지지하도록 설치되며, 상기 프레임부를 상하이동 및 회전 운동시키고, 평행한 2개의 전극 형상인 지그부전극을 구비하는 지그(jig)부;를 포함하고,
상기 프레임부가 전도성 소재로 형성되는 경우, 평행하게 설치된 2개의 전극으로 구성되는 상기 제1전극에 전기를 공급하여 전기장이 일정한 방향으로 형성됨으로써 상기 프레임부에 상기 나노섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 형성되며,
상기 프레임부가 비전도성 소재로 형성되는 경우, 상기 지그부전극에 전기를 공급하여 전기장이 일정한 방향으로 형성됨으로써 상기 프레임부에 상기 나노섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치.
A nano-structured film production apparatus comprising an electrospun nano / micro fiber net,
A syringe portion for electrospinning the polymer solution;
A first electrode and a second electrode which are spaced apart from the bottom of the syringe and are formed of a conductive or nonconductive material to form a fiber net by arranging fibers emitted from the syringe, Shaped frame portion; And
And a jig portion provided to support the frame portion and moving the frame portion up and down and rotating and having jig electrodes of two parallel electrode shapes,
When the frame portion is formed of a conductive material, electricity is supplied to the first electrode composed of two parallel electrodes, and the electric field is formed in a certain direction, so that the nanofibers are formed in the frame portion in a predetermined direction And,
Wherein when the frame portion is formed of a nonconductive material, electricity is supplied to the jig electrode, and the electric field is formed in a predetermined direction so that the nanofibers are formed in the frame portion at a constant interval and in one direction. / A nanofiber film manufacturing apparatus including a micro fiber net.
삭제delete 청구항1에 있어서,
상기 지그부는, 상기 프레임부가 상하이동 또는 회전 운동하는 경우, 컬렉터(collector) 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치.
The method according to claim 1,
Wherein the jig part performs a collector function when the frame part moves up and down or rotates. &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 8. &lt; / RTI &gt;
삭제delete 청구항1에 있어서,
상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 생성하는 증착부를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치.
The method according to claim 1,
And a deposition unit for depositing a deposition material on the fiber net to produce a nanostructure. The apparatus of claim 1,
청구항5에 있어서,
상기 증착물질은, 금(Au), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 철(Fe), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 니켈(Ni), 타이타늄(Ti), 아연(Zn), 납(Pb), 바나듐(V), 코발트(Co), 어븀(Er), 칼슘(Ca), 홀뮴(Ho), 사마륨(Sm), 스칸듐(Sc), 터븀(Tb), 몰리브덴(Mo) 및 백금(Pt)으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 금속인 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치.
The method of claim 5,
The deposition material may be at least one selected from the group consisting of Au, Ag, Pd, Al, Cu, Cr, Fe, Mg, (Ni), Ti, Zn, Pb, V, Co, Er, Ca, Wherein the nanostructure film is at least one metal selected from the group consisting of scandium (Sc), terbium (Tb), molybdenum (Mo), and platinum (Pt).
청구항5에 있어서,
상기 증착물질은 ITO(Indium tin oxide), IZO(Indium zinc oxide), SnO2, ZnO, AZO(Aluminium zinc oxide), IGZO(Indium gallium zinc oxide), AZTO(Aluminium zinc tin oxide), GZO(Gallium zinc oxide), ATO(Antimony tin oxide), ATO(Antimony tin oxide), ZTO(zinc tin oxide) 및 FTO(Fluorine-doped tin oxide)로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 산화물반도체인 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치.
The method of claim 5,
The deposition material may be at least one selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), SnO 2 , ZnO, aluminum zinc oxide (AZO), indium gallium zinc oxide (IGZO), aluminum zinc tin oxide (AZTO) wherein the at least one oxide semiconductor is one or more oxide semiconductors selected from the group consisting of oxide, oxide (ATO), antimony tin oxide (ATO), antimony tin oxide (ATO), zinc tin oxide (ZTO), and fluorine- / A nanofiber film manufacturing apparatus including a micro fiber net.
청구항5에 있어서,
상기 나노구조체를 기판에 전사시키는 전사부를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치.
The method of claim 5,
And a transferring unit for transferring the nanostructure onto the substrate. The nano-structured film manufacturing apparatus according to claim 1,
청구항8에 있어서,
상기 기판은, 필름 형태인 것을 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치.
The method of claim 8,
Wherein the substrate is in the form of a film. &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 8. &lt; / RTI &gt;
청구항8에 있어서,
상기 기판은, 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리우레탄, 폴리에터 술폰(PES) 및 폴리스타이렌(PS)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 물질로 형성되는 특징으로 하는 전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치.
The method of claim 8,
The substrate is formed of at least one material selected from the group consisting of polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), polyurethane, polyethersulfone (PES) and polystyrene Wherein the nano / micro fiber net comprises an electrospun nano / micro fiber net.
청구항1의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서,
(ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계;
(ⅱ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써 섬유적층을 수행하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계;
(ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및
(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;
를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법.
A method of manufacturing a nanostructure film using the manufacturing apparatus according to claim 1,
(I) firstly electrospinning the polymer solution from the syringe section to the frame section to form a fiber pattern having fibers arranged at regular intervals and arranged in one direction;
(Ii) forming a fiber net by performing fiber lamination by electrospinning the polymer solution from the syringe section to the frame section by a second order;
(Iii) depositing a deposition material on the fiber net in the step (ii) to form a nanostructure; And
(Iv) transferring the nanostructure of step (iii) to a substrate to form a nanostructure film;
The method of claim 1,
청구항1의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서,
(ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 부정형섬유층을 형성하는 단계;
(ⅱ) 상기 실린지부로부터 상기 프레임부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써, 상기 부정형섬유층 상에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계;
(ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및
(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;
를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법.
A method of manufacturing a nanostructure film using the manufacturing apparatus according to claim 1,
(I) electrospinning the polymer solution from the syringe section to the frame section by first electrospinning to form an amorphous fiber layer;
(Ii) a step of electrospinning the polymer solution from the syringe section to the frame section by electrospinning, thereby forming a fiber net by arranging fibers arranged in one direction at regular intervals on the amorphous fiber layer to form the fiber net;
(Iii) depositing a deposition material on the fiber net in the step (ii) to form a nanostructure; And
(Iv) transferring the nanostructure of step (iii) to a substrate to form a nanostructure film;
The method of claim 1,
청구항1의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서,
(ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 제1전극으로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 제1전극에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계;
(ⅱ) 상기 제1전극에 상기 제2전극이 결합하여 상기 프레임부를 구성한 후, 상기 섬유패턴이 형성된 위로 상기 실린지부로부터 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써 섬유적층을 수행하여 섬유네트를 형성하는 단계;
(ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및
(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;
를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법.
A method of manufacturing a nanostructure film using the manufacturing apparatus according to claim 1,
(I) firstly electrospinning a polymer solution from the syringe to the first electrode to form a fiber pattern having fibers spaced at regular intervals and arranged in one direction on the first electrode;
(Ii) forming a fiber net by combining the second electrode with the first electrode to form the frame part, and then, after the fiber pattern is formed, the polymer solution is secondarily electrospun from the syringe part to perform fiber lamination ;
(Iii) depositing a deposition material on the fiber net in the step (ii) to form a nanostructure; And
(Iv) transferring the nanostructure of step (iii) to a substrate to form a nanostructure film;
The method of claim 1,
청구항3의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서,
(ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 프레임부에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 섬유패턴을 형성하는 단계;
(ⅱ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 회전시키고, 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 2차로 전기방사함으로써, 상기 섬유패턴 상에 섬유가 일정한 간격이며 다른 방향으로 배열되게 하여 상기 섬유네트를 형성하는 단계;
(ⅲ) 상기 (ⅱ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및
(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체필름을 형성하는 단계;
를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법.
In the method for producing a nanostructure film using the manufacturing apparatus according to claim 3,
(I) firstly electrospinning the polymer solution from the syringe to the jig to form a fiber pattern having fibers spaced at regular intervals and arranged in one direction in the frame part;
(Ii) the jig part rotates the frame part, and the polymer solution is secondarily electrospun from the sliver part to the jig part so that the fibers are arranged on the fiber pattern at regular intervals and in different directions to form the fiber net step;
(Iii) depositing a deposition material on the fiber net in the step (ii) to form a nanostructure; And
(Iv) transferring the nanostructure of step (iii) to a substrate to form a nanostructure film;
The method of claim 1,
청구항14에 있어서,
상기 프레임부는, 비전도성인 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the frame portion is non-conductive.
청구항3의 제조장치를 이용한 나노구조체 필름 제조방법에 있어서,
(ⅰ) 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 1차로 전기방사하여, 상기 지그부에 섬유가 일정한 간격이며 한 방향으로 배열된 제1섬유패턴을 형성하는 단계;
(ⅱ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 상승 이동시키고 상기 프레임부와 상기 제1섬유패턴을 접촉시켜, 상기 프레임부에 섬유패턴이 형성되도록 하는 단계;
(ⅲ) 상기 지그부가 상기 프레임부를 회전 및 하강 이동시키고, 상기 실린지부로부터 상기 지그부로 고분자용액을 2차로 전기방사하여 제2섬유패턴을 형성시킨 후, 상기 지그부가 상기 프레임부를 상승 이동시키고 상기 프레임부와 상기 제2섬유패턴을 접촉시켜, 상기 프레임부에 상기 섬유네트를 형성하는 단계;
(ⅳ) 상기 (ⅲ)단계의 상기 섬유네트에 증착물질을 증착시켜 나노구조체를 형성하는 단계; 및
(ⅴ) 상기 (ⅳ)단계의 상기 나노구조체를 기판에 전사하여 나노구조체 필름을 형성하는 단계;
를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법.
In the method for producing a nanostructure film using the manufacturing apparatus according to claim 3,
(I) firstly electrospinning the polymer solution from the syringe portion to the jig portion to form a first fiber pattern arranged at one side of the jig with regular spacing of the fibers;
(Ii) causing the jig to move the frame part up and bring the frame part into contact with the first fiber pattern, so that a fiber pattern is formed on the frame part;
(Iii) the jig part rotates and moves the frame part, and the polymer solution is secondarily electrospun from the sliver part to the jig part to form a second fiber pattern, then the jig moves up the frame part, Forming a fibrous net on the frame portion by contacting the fibrous net with the second fibrous pattern;
(Iv) depositing a deposition material on the fiber net of step (iii) to form a nanostructure; And
(V) transferring the nanostructure of step (iv) onto a substrate to form a nanostructure film;
The method of claim 1,
청구항16에 있어서,
상기 프레임부는, 비전도성인 일부위를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노구조체 필름 제조방법. 18. The method of claim 16,
Wherein the frame portion comprises a non-conductive part of the nanostructure film.
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