KR101837780B1 - 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 (A) 무기 알칼리 화합물; (B) 1종 또는 2종 이상의 유기 용제; (C) 규소화합물; 및 (D) 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물 에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 사용하여 기판을 세정하는 공정을 포함하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 사용하여 기판을 세정하는 공정을 포함하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물 및 상기 조성물을 사용하여 기판을 세정하는 공정을 포함하는 액정표시 장치용 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시장치는 TFT 기판, 상기 TFT 기판에 대향하는 컬러필터 기판, 그리고 양 기판 사이에 개재되어 전기적인 신호가 인가됨에 따라 광의 투과 여부를 결정하는 액정을 포함하는 액정표시패널을 구비한다.
상기 TFT 기판과 컬러필터 기판 사이에 액정을 단순히 양 기판 사이에 끼우는 것 만으로는 같은 분자배열상태를 얻기가 어렵기 때문에 기판 내벽에 처리를 하여 배향막을 형성한다.
상기 배향막은 200℃ 이하에서 Film 형성이 가능하고, ITO 기판에 좋은 접착 특성이 있어야 한다. 배향막 도포 공정에 있어서 가장 중요한 점은 넓은 면적에 일정하고 균일하게 배향막을 도포하는 것이다. 보통 배향막의 두께는 500~1,000Å정도이며, 동일 기판에서는 100Å정도의 두께 차이에 의해 얼룩과 같은 불량이 발생할 수 있기 때문에 배향막의 두께 관리는 중요한 공정 관리 항목이 된다.
상기 배향막으로는 일반적으로 유기 배향막과 무기배향막으로 구분되며, 유기배향막으로는 폴리이미드계 고분자 화합물을 유기용매에 용해시킨 것을 ITO 기판위에 일정한 막두께로 도포후, 도포된 배향막을 균일하게 하기 위하여 건조과정을 거친다. 또한 무기배향막으로는 일반적으로 SiO2 산화막을 진공증착등의 방법을 통해 ITO 기판위에 도포후 사용하고 있다. 그러나 앞서 설명한 폴리이미드계등의 유기배향막은 ITO 기판위에 도포후 건조하는 과정에서 용매의 증발속도 등의 차이에 의해 균일 건조가 쉽지않고, 건조시 도포된 두께의 차이에 의해 얼룩등이 발생하기도 한다. 또한 건조 후 러빙이라는 공정을 통하여 폴리이미드계막에 러빙을 하면, 액정이 배향하게 되는데, 이러한 러빙공정 중 많은 불량을 일으키는 원인이 되기도 한다. 또한 SiO2 산화막계인 무기배향막은 러빙공정을 통하지 않고 이용이 가능하기 때문에 러빙에 따른 불량을 감소시키는 것이 가능하지만, 액정의 배향효과등 다른 문제점을 수반하고 있다. 이러한 이유로 인하여 폴리디메틸실록산이라는 유-무기계가 혼합된 물질을 이용한 유-무기 하이브리드형 배향막의 개발이 진행되고 있다. 상기의 폴리디메틸실록산은 SiOxRy(0<x=1, 0<y=1, R은 탄소원자가 1에서 10까지의 구조를 가지는 알킬기 또는 알릴기 등임)의 구조를 가지는 물질로 폴리디메틸실록산계 유-무기하이브리드형 물질을 ITO기판에 도포후 일정한 온도에서 일정시간 열처리하는 경우 ITO 기판과 접촉하는 부분에서는 실리콘(Si) 성분이 결합력을 가지며 ITO-Si간 결합력을 가지는 한편 ITO기판과 접촉하지 않는 상부층은 폴리디메틸실록산에 있는 알킬 또는 알릴기 등의 유기그룹이 존재하게 된다. 이와 같이 ITO와 접촉하는 부분에서는 무기배향막의 일종인 SiOx물질이, ITO와 접촉하지 않는 상부부분은 유기배향막의 일종인 유기물질(폴리디메틸실록산의 R 그룹에 해당)이 존재하는 유-무기하이브리형 배향막이 형성되게 된다. 이러한 유-무기 하이브리드형 배향막의 경우, 유기배향막의 제거액이 무기배향막의 성질을 가지는 SiOx계 성분까지 제거해야 하므로 만족스러운 제거효과를 기대하기 어려우며, 또한 무기배향막만을 대상으로 하는 제거액으로는 유기계 성분의 제거하는 것에 어려운 점이 있다.
상기와 같은 액정 배향막 제거를 위한 발명으로서, 한국공개특허 제10-2000-0078621호에서는 레지스트 스트리퍼 세정용 케미칼 린스 조성물에 관하여 기재하고 있으나, 용도를 레지스트 스트리퍼 세정용 케미칼 린스 조성물로 한정하고, 부식방지제로 트리아졸계를 사용하고 있으며, 유-무기 하이브리드 배향막에 대해서는 제거성이 없다는 문제점이 있다. 또한, 한국공개특허 제10-2006-0039352호 역시 유-무기 하이브리드 배향막에 대한 제거성이 없을 뿐만 아니라, 아민을 필수적으로 필요로 한다는 한계가 있다. 따라서, 유-무기 하이브리드 배향막에 대해서도 제거성을 갖고, 알루미늄 배선에 대한 부식 방지성을 갖는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물에 대한 개발의 필요성이 점점 커지고 있다.
본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 액정 표시 패널의 액정 배향막에 대하여 우수한 제거성을 확보하기 위하여, 유기 배향막 뿐만 아니라 유-무기 하이브리드 배향막에 대해서도 제거성을 갖고, 알루미늄 배선에 대한 부식 방지성을 갖는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여,
본 발명은 (A) 무기 알칼리 화합물; (B) 1종 또는 2종 이상의 유기 용제; (C) 규소화합물 및 (D) 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 사용하여 기판을 세정하는 공정을 포함하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물은 유기 배향막에 대한 제거력이 강할 뿐만 아니라, 유-무기 하이브리드 배향막의 제거력도 갖고 있어, 액정 표시 패널의 표면에 존재하는 배향막을 효과적으로 제거할 수 있으며, 알루미늄 배선에 대한 부식 방지성을 갖게 된다. 또한 본 발명의 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 사용하는 경우, 액정 표시 장치의 불량률을 감소시켜 전체적인 제조 공정에 소요되는 비용을 절감할 수 있다.
이하 본 발명에 따른 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물은 (A) 무기 알칼리 화합물; (B) 1종 또는 2종 이상의 유기 용제; (C) 규소화합물 및 (D) 물을 포함한다.
(A) 무기 알칼리 화합물
본 발명에 있어서, 상기 무기 알칼리 화합물로서는 수산화칼륨(potassium hydroxide), 수산화나트륨(sodium hydroxide), 탄산나트륨(sodium carbonate), 탄산 칼륨(potassium carbonate)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 15.0 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 0.3 내지 10 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 알칼리 화합물이 0.1 중량% 미만으로 포함되는 경우에는 배향막 제거 속도가 늦거나 제거가 되지 않으며, 15중량%를 초과하여 포함되는 경우에는 배선재료의 부식을 방지할 수가 없다.
(B) 유기 용제
본 발명에 있어서, 상기 유기 용제로서는 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디메틸포름아마이드 (DMF), N-메틸포름아마이드, 디메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸아세트아마이드, 디에틸아세트아마이드(DEAc), N-메틸 피롤리돈(NMP), N-에틸 피롤리돈(NEP), N-프로틸 피롤리돈(NPP), N-하이드록시메틸 피롤리돈 및 N-하이드록시에틸 피롤리돈 등으로 이루어진 군에서 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 유기 용제는 조성물 총 중량에 대하여 30 내지 80 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 40 내지 60 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 유기 용제가 30 중량% 미만으로 포함되는 경우에는 배향막 박리 속도가 늦거나 제거가 되지 않으며, 80 중량%를 초과하여 포함되는 경우에는 다른 성분의 함량이 부족해져, 배선재료의 부식이 증가한다.
(C) 규소화합물
본 발명의 조성물은 배선재료의 부식을 방지하기 위하여 규소화합물을 포함한다. 상기 규소화합물로는 규산칼륨(potassium silicate), 규산칼슘(calcium silicate), 규산나트륨(sodium silicate), 규산알루미늄(aluminum silicate) 등으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 0.5 내지 7중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 규소화합물이 0.1 중량% 미만으로 포함되는 경우에는 배선재료의 부식을 방지 할 수가 없으며, 15중량%를 초과하여 포함되는 경우에는 다른 성분의 함량이 부족해져, 배향막의 박리 속도가 늦거나 제거가 되지 않는다. 상기 규소화합물을 사용하면, 점도가 높은 지방족 다가 알코올을 사용하지 않거나 또는 적은 양을 사용할 수 있기 때문에 점도를 감소시키는 효과가 있다. 이에 따라 분무법과 같은 방법을 사용하는 경우, 고온뿐 아니라 상온에서도 사용이 가능하다.
(D) 물
본 발명에 있어서, 상기 물은 특별히 한정되는 것은 아니나, 반도체 공정용의 물로서, 비저항값이 18MΩ/cm 이상인 탈이온수를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 물은 전체 조성물의 총 중량이 100 중량%가 되도록 하는 잔량으로 포함되므로, 다른 구성성분의 함량에 따라 조정될 수 있다.
본 발명에 따른 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물은 지방족 다가 알코올을 추가로 포함할 수 있다. 본 발명에 있어서, 상기 지방족 다가 알코올로서는 글리세롤, 글루코오스, 만노오스, 갈릭토오스, 솔비통, 만니톨, 폴리에틸렌글리콜로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있으며, 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 50 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 20 내지 40 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 지방족 다가 알코올이 5 중량% 미만으로 포함되는 경우에는 배선재료의 부식이 증가하게 되고, 50 중량%를 초과하여 포함되는 경우에는 배향막 제거성이 떨어지게 된다.
본 발명에 따른 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물은 유기 알칼리성 화합물을 추가로 포함할 수 있다. 유기 알칼리 화합물로서는 테트라메틸암모늄하이드록 사이드(tetramethyl ammonium hydroxide, (CH3)4NOH), 테트라에틸암모늄하이드록사이드(tetraethyl ammonium hydroxide, (C2H5)4NOH), 테트라프로필암모늄하이드록사이드(tetrapropyl ammonium hydroxide, (C3H7)4NOH), 테트라부틸암모늄하이드록사이드(tetrabutyl ammonium hydroxide, (C4H9)4NOH), 탄산염, 인산염, 암모니아 및 아민류 등으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 아민류에는 메틸아민, 에틸아민, 모노이소프로필아민, n-부틸아민, sec-부틸아민, 이소부틸아민, t-부틸아민, 펜틸아민 등의 1차 아민; 디메틸아민, 디에틸아민, 디프로필아민, 디이소프로필아민, 디부틸아민, 디이소부틸아민, 메틸에틸아민, 메틸프로필아민, 메틸이소프로필아민, 메틸부틸아민, 메틸이소부틸아민 등의 2차 아민; 디에틸 히드록시아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 트리펜틸아민, 디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민 및 메틸디프로필아민 등의 3차 아민; 콜린, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 모노프로판올아민, ２-아미노에탄올, ２-(에틸아미노)에탄올, ２-(메틸아미노)에탄올, N-메틸 디에탄올아민, N,N-디메틸에탄올아민, N,N-디에틸아미노에탄올, 2-(2-아미노에틸아미노)-1-에탄올, １-아미노-２-프로판올, 2-아미노-1-프로판올, 3-아미노-1-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 디부탄올아민 등의 알칸올아민; (부톡시메틸)디에틸아민, (메톡시메틸)디에틸아민, (메톡시메틸)디메틸아민, (부톡시메틸)디메틸아민, (이소부톡시메틸)디메틸아민, (메톡시메틸)디에탄올아민, (히드록시에틸옥시메틸)디에틸아민, 메틸(메톡시메틸)아미노에탄, 메틸(메톡시메틸)아미노에탄올, 메틸(부톡시메틸)아미노에탄올, 2-(2-아미노에톡시)에탄올 등의 알콕시아민; 1-(2-히드록시에틸)피페라진, 1-(2-아미노에틸)피페라진, 1-(2-히드록시에틸)메틸피페라진, N-(3-아미노프로필)모폴린, 2-메틸피페라진, 1-메틸피페라진, 1-아미노-4-메틸피페라진, 1-벤질 피페라진, 1-페닐 피페라진, N-메틸모폴린, 4-에틸모폴린, N-포름일모폴린, N-(2-히드록시에틸)모폴린, N-(3-히드록시프로필)모폴린 등의 환을 형성한 고리형아민 등이 있다.
본 발명에 따른 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물에 상기 유기 알칼리 화합물이 더 포함되는 경우, 상기 유기 알칼리 화합물과 상기 무기 알칼리 화합물의 혼합물이 조성물 총 중량에 대하여 0.1중량% ~ 5중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 0.3 내지 3.0 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 유기 알칼리 화합물과 무기 알칼리 화합물의 혼합물이 0.1 중량% 미만으로 포함되는 경우에는 배향막 제거 속도가 늦거나 제거가 되지 않을 뿐만 아니라, 방식효과가 없어지며, 5중량%를 초과하여 포함되는 경우에는 배선재료의 부식을 방지할 수가 없다.
본 발명에 따른 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물은 이 분야에서 통상적으로 사용되는 계면활성제와 첨가제 Cu용 부식 방지제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 계면활성제로는 일반적으로 사용되고 있는 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제를 들 수 있으며, 상기 Cu용 부식 방지제로는 일반적으로 사용되고 있는 2,2’-[[[벤조트리아졸]메틸]이미노]비스에탄올, 2,2’-[[[메틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스메탄올, 2,2’-[[[에틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스에탄올, 2,2’-[[[메틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스에탄올, 2,2’-[[[메틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스카르복시산, 2,2’-[[[메틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스메틸아민, 2,2’-[[[아민-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스에탄올, 벤조트리아졸 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
본 발명의 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 사용하여 유-무기 하이브리드형 배향막을 제거하는 방법으로는 침지법이 일반적이지만 기타의 방법, 예를 들면 분무법에 의한 방법을 사용할 수도 있다. 본 발명에 의한 조성물로 처리한 후의 세정제로는 알코올과 같은 유기용제를 사용할 필요가 없고 물로 세정하는 것만으로도 충분하다.
본 발명은 지방족 다가 알코올의 미사용 또는 적은양의 사용으로 점도의 감소효과의 장점이 있어서 분무법과 같은 방법에서 고온뿐 아니라 상온에서 사용이 가능하다.
본 발명의 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물은 반도체 또는 전자제품, 특히 액정패널의 유-무기 하이브리드형 배향막의 제거 공정에서 유용하게 사용될 수 있다.
이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 하기의 실시예는 본 발명의 범위 내에서 당업자에 의해 적절히 수정, 변경될 수 있다.
실시예
실시예
1~7 및
비교예
1~8: 유-무기
하이브리드형
배향막 제거 조성물의 제조
하기 표 1에 기재된 성분을 해당 조성비로 혼합하여 실시예 1~7 및 비교예 1~8의 유-무기 하이브리드형 배향막 제거용 세정제 조성물을 제조하였다.
| 알칼리 | 용제 | 규소화합물 | 다가올코올 | 물 | |||||
| 종류 | 양 | 종류 | 양 | 종류 | 양 | 종류 | 양 | ||
| 실시예1 | KOH | 0.1 | MTG | 30 | S.S | 0.5 | - | - | 잔량 |
| 실시예2 | KOH | 4 | BDG | 50 | S.S | 2 | - | - | 잔량 |
| 실시예3 | KOH | 6 | MTG | 30 | S.S | 5 | - | - | 잔량 |
| 실시예4 | NaOH | 4 | BDG | 50 | S.S | 2 | - | - | 잔량 |
| 실시예5 | KOH/TMAH | 2/2 | BDG | 50 | S.S | 2 | - | - | 잔량 |
| 실시예6 | KOH | 4 | BDG | 50 | P.S | 2 | - | - | 잔량 |
| 실시예7 | KOH | 4 | BDG | 50 | S.S | 0.1 | Glycein | 10 | 잔량 |
| 비교예1 | - | - | BDG | 50 | S.S | 2 | - | - | 잔량 |
| 비교예2 | KOH | 16 | BDG | 20 | S.S | 15 | - | - | 잔량 |
| 비교예3 | KOH | 16 | - | - | S.S | 15 | - | - | 잔량 |
| 비교예4 | KOH | 0.05 | BDG | 60 | - | - | - | - | 잔량 |
| 비교예5 | KOH | 4 | BDG | 90 | S.S | 0.1 | - | - | 잔량 |
| 비교예6 | KOH | 4 | BDG | 20 | S.S | 0.1 | - | - | 잔량 |
| 비교예7 | KOH | 4 | MTG | 40 | S.S | 17 | - | - | 잔량 |
| 비교예8 | KOH | 4 | BDG | 50 | S.S | 0.05 | - | - | 잔량 |
KOH: 수산화 칼륨
NaOH: 수산화 나트륨
BDG: 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르
MTG: 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르
TMAH: 테트라메틸암모늄하이드록 사이드(tetramethyl ammonium hydroxide)
S.S: Sodium silicate
P.S: Potassium silicate
실험예
: 유-무기
하이브리드형
배향막 제거 조성물의 특성 평가
1) 유-무기 하이브리드형 배향막의 제거력 평가
유-무기 하이브리드형 배향막 제거력 평가를 위해, 유-무기 하이브리드형 배향막 (Butyl-Si-(O-Me)3)이 코팅된 유리기판을 1.5cm × 6cm 크기로 준비하였다. 준비된 기판을 실시예1~7 및 비교예1~8의 조성물에 1분간 및 3분간 실온에서 침지하여 세정하였다. 세정 후 초순수로 30초 동안 세척하고 질소로 건조하여, 평가 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
<평가 기준>
○: 유-무기 하이브리드형 배향막이 제거되었을 때,
△: 50%정도 제거되었을 때,
×: 제거가 되지 않았을 때
2) 알루미늄 에칭 속도 측정
먼저, 알루미늄이 2500Å 두께로 형성된 유리기판을 실시예1~6 및 비교예1~7의 조성물에 10분간 침지시켰다. 이 때 세정액의 온도는 25℃였다. 알루미늄 막의 두께를 침지이전 및 이후에 측정하고, 알루미늄 막의 용해속도를 알루미늄 막의 두께 변화로부터 에칭속도를 계산하여 측정하였다. 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
| Al 에칭속도 (A/분) | 유-무기 하이브리드형 배향막 제거력 | ||
| 1 분 | 3 분 | ||
| 실시예1 | 0.01 | △ | ○ |
| 실시예2 | 0.03 | ○ | ○ |
| 실시예3 | 0.02 | ○ | ○ |
| 실시예4 | 0.87 | ○ | ○ |
| 실시예5 | 0.03 | ○ | ○ |
| 실시예6 | 0.36 | ○ | ○ |
| 실시예7 | 0.01 | ○ | ○ |
| 비교예1 | 0.12 | × | × |
| 비교예2 | 10.7 | ○ | ○ |
| 비교예3 | 15.4 | ○ | ○ |
| 비교예4 | 1.86 | × | × |
| 비교예5 | 3.87 | ○ | ○ |
| 비교예6 | 0.11 | × | × |
| 비교예7 | 0.01 | × | △ |
| 비교예8 | 3.07 | ○ | ○ |
상기 표 2의 시험 결과로부터, 본 발명의 세정제 조성물인 실시예 1~6의 조성물은 비교예 1~7의 조성물과 비교하여, 실온에서 유-무기 하이브리드형 배향막 제거력이 우수하며, 금속에 대한 방식성도 대체적으로 우수하다는 것을 확인할 수 있었다.
3) 상온에서 점도 비교
본 발명의 조성물의 점도를 상온에서 비교해 보기 위해 실시예 4와 실시예 7의 점도를 25℃에서 브룩필드 점도계(Brookfield Viscometer DV-I+,BROOKFIELD사 제조)로 측정하였다. 측정된 점도는 실시예 4는 상온에서 3mPas, 실시예 7은 26mPas 이었다. 상기 측정 결과로부터 본 발명의 세정제 조성물은 상온에서 낮은 점도를 지닌다는 것을 확인할 수 있었다.
Claims (14)
- (A) 무기 알칼리 화합물 0.1 ~ 15 중량%;
(B) 1종 또는 2종 이상의 유기 용제 30 ~ 80 중량%;
(C) 규소화합물 0.1 ~ 10 중량%; 및
(D) 잔량의 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 1에 있어서,
지방족 다가 알코올을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 1에 있어서,
유기 알칼리 화합물을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 삭제
- 청구항 2에 있어서,
상기 지방족 다가 알코올이 0.1중량% ~ 5중량% 함유되는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 3에 있어서,
상기 유기 알칼리 화합물과 상기 무기 알칼리 화합물의 혼합물이 0.1중량% ~ 5중량%로 포함되는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 규소화합물은 규산칼륨(potassium silicate), 규산칼슘(calcium silicate), 규산나트륨(sodium silicate), 규산알루미늄(aluminum silicate)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 무기 알칼리 화합물은 수산화칼륨(potassium hydroxide), 수산화나트륨(sodium hydroxide), 탄산나트륨(sodium carbonate), 탄산 칼륨(potassium carbonate)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유기 용제는 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디메틸포름아마이드 (DMF), N-메틸포름아마이드, 디메틸아세트아마이드(DMAc), N-메틸아세트아마이드, 디에틸아세트아마이드(DEAc), N-메틸 피롤리돈(NMP), N-에틸 피롤리돈(NEP), N-프로틸 피롤리돈(NPP), N-하이드록시메틸 피롤리돈 및 N-하이드록시에틸 피롤리돈 등으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 2에 있어서,
상기 지방족 다가 알코올은 글리세롤, 글루코오스, 만노오스, 갈릭토오스, 솔비통, 만니톨, 폴리에틸렌글리콜로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 3에 있어서,
상기 유기 알칼리 화합물은 테트라메틸암모늄하이드록 사이드(tetramethyl ammonium hydroxide, (CH3)4NOH), 테트라에틸암모늄하이드록사이드(tetraethyl ammonium hydroxide, (C2H5)4NOH), 테트라프로필암모늄하이드록사이드(tetrapropyl ammonium hydroxide, (C3H7)4NOH), 테트라부틸암모늄하이드록사이드(tetrabutyl ammonium hydroxide, (C4H9)4NOH), 탄산염, 인산염, 암모니아 및 아민류로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물을 계면활성제로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
2,2’-[[[벤조트리아졸]메틸]이미노]비스에탄올, 2,2’-[[[메틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스메탄올, 2,2’-[[[에틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스에탄올, 2,2’-[[[메틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스에탄올, 2,2’-[[[메틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스카르복시산, 2,2’-[[[메틸-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스메틸아민, 2,2’-[[[아민-1수소-벤조트리아졸-1-일]메틸]이미노]비스에탄올, 벤조트리아졸 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 2종 이상의 혼합물을 Cu용 부식 방지제로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물. - 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항의 유-무기 하이브리드형 배향막 제거 조성물을 사용하여 기판을 세정하는 공정을 포함하는 액정 표시 장치용 어레이 기판의 제조방법.
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