KR101816748B1 - 모발처리 촉진장치 및 그를 이용한 모발처리 촉진방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반사판을 구비한 모발처리 촉진장치에서 모발처리를 촉진함에 있어 고른 온도 분포로 모발처리를 촉진하고, 반사효율을 극대화할 수 있는 모발처리 촉진장치 및 그를 이용한 모발처리 촉진방법에 관한 것으로, 사람의 머리를 중심으로 머리의 앞으로부터 뒤까지 형성되는 제1가온기와, 제1가온기의 일측 끝부분과 다른 일측 끝부분이 각각 연결되어 사람의 머리를 중심으로 머리의 좌우 양측으로 각각 회동하도록 형성되는 제2, 제3가온기; 제1가온기의 내주면 중앙을 기준으로 앞부분과 뒷부분으로 설정된 거리만큼 이격되어 형성되는 제1반사판과 제2반사판과, 제2가온기와 제3가온기 내주면에 각각 형성되는 제3반사판과 제4반사판; 제1반사판 내지 제4반사판 각각에 사람의 머리 방향으로 형성되는 제1히터 내지 제4히터; 제1가온기의 제1반사판과 제2반사판 사이와, 제2가온기와 제3가온기에 각각 형성되어 제1내지 제4히터에서 발생되는 열과 제1반사판 내지 제4반사판을 통해 반사되는 열에 의해 사람의 모발에서 발생되는 열의 온도를 각각 검출하는 제1 내지 제3적외선 온도센서; 제2가온기와 제3가온기의 일측 끝부분에 형성되는 제1, 제2적외선 발광부와, 제2가온기와 제3가온기의 다른 일측 끝부분에 형성되어 사람의 머리 위치를 감지하는 제1 내지 제4 적외선 수광부; 및 제1내지 제3 적외선 온도센서로부터의 온도검출에 따라 미리 설정된 온도로 제1내지 제4히터의 출력을 제어시키는 제어패널을 포함하여 구성된다.

Description

모발처리 촉진장치 및 그를 이용한 모발처리 촉진방법{Promote hair treatment device and promote hair treatment method using the same}

본 발명은 모발처리촉진에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반사판을 구비한 모발처리촉진장치에서 모발을 처리함에 있어 반사효율을 극대화하여 고른 온도 분포로 모발처리를 촉진할 수 있는 모발처리 촉진장치 및 그를 이용한 모발처리 촉진방법에 관한 것이다.

일반적으로 파마 또는 염색, 트리트먼트, 드라이 등의 시술은 소정의 기구와 약제 등을 이용해 모발을 시술하기 위하여 가온 기구 등을 이용해 일정시간 가열함으로써 원하는 형태의 퍼머 웨이브나 염색 시술을 하게 된다.

즉, 통상의 퍼머 시술의 과정을 보면 모발을 로드에 감고 환원제를 포함하는 1단계 퍼머액을 모발에 도포한 다음 실온 상태의 온도를 유지하거나 가온(가열)하여 연화(軟化), 팽윤(膨潤)시킨 다음 모발에 환원제를 세정하고, 이어서 산화제를 포함한 2단계 퍼머액을 도포하여 모발 내부의 결합을 산화 고정시키며, 그 후 로드를 제거하고 도포되었던 2단계 퍼머액을 세정하고, 모발을 건조시키는 과정으로 이루어진다.

또한, 염색 시술시에는 염색 약액이 모발 전체에 고르게 침투되면서 일정시간 동안 약액 작용이 제대로 이루어져야만 균일한 색상의 염색 시술이 이루어지는 것이다.

이와 같이 퍼머 또는 염색과 같은 시술과정에서 모발의 가온 과정은 전반적인 시술에서 매우 중요과정이라 할 수 있다.

이에 관련된 선행기술로서 국내 공개특허 특1989-0007695호의 "모발처리촉진장치"가 개시된 바 있다.

선행기술을 살펴보면, 적외선을 조사하는 만곡된 조사요소와, 요소를 지지하며 또한 요소로부터 조사되는 적외선을 반사시키는 반사기와, 상부에 상기 반사기가 배치되어 반사기의 피벗 지지운동을 위해 회전가능하게 지지된 회전부재 및 상기 회전부재를 작동시키는 구동 헤드부재로 구성되는 모발처리촉진장치에 관련된다.

상기한 종래 기술은 다음과 같은 문제점이 내재되어 있었다.

종래 기술은 단일의 회전부재가 선회운동하면서 가온이 이루어지게 되므로 가온되는 시간 간격이 길어져서 지속적이고 균일한 가온이 어렵게 되고 이로 인해 파머나 염색에 있어서 중요한 지속적이고 균일한 가온 조건을 제공하지 못하므로 약제가 효과적으로 모발에 침투되지 못하여 퍼머나 염색의 품질이 저하되는 문제점이 초래되었다.

종래 기술은 히터의 열을 모발에 방출하기 위한 발열 구조는 히터의 후면에 일부를 감싸도록 만곡되게 형성된 반사부재으로 이루어진 단순한 발열구조로 되어 있었다.

따라서, 히터가 360도 회전되는 궤도 영역에만 열이 집중적으로 가해지는 문제가 있어서 열이 미약하게 조사되는 모발 양측면 영역의 모발에는 시술이 제대로 이루어지지 않는 문제들이 내재되어 있었다.

이처럼 종래 기술은 히터의 가온 작용이 균일하게 모발에 작용하지 못하였고, 히터에서 방출되는 열을 모발에 균일하고 효율적으로 적절하게 공급하지 못하여 퍼머나 염색의 품질이 저하되는 문제점이 있었다.

특허문헌 1 : 대한민국 공개특허 특1989-0007695호 - 모발처리촉진장치 특허문헌 2 : 대한민국 등록실용신안 20-0286478호 - 모발건조 장치

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 일정구간의 면적에 히터의 열이 고르게 분포되게 하는 반사판을 구비한 모발처리 촉진장치에서 모발처리를 수행함에 있어 다수의 센서를 이용하여 머리의 위치와 온도를 감지하여 고른 온도 분포로 처리함과 함께 도금된 반사판의 반사각이 반사효율을 극대화할 수 있도록 구성하여 모발처리 촉진을 최대화할 수 있는 모발처리 촉진장치 및 그를 이용한 모발처리 촉진방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명 모발처리 촉진장치는 사람의 머리를 중심으로 머리의 앞으로부터 뒤까지 형성되는 제1가온기와, 제1가온기의 일측 끝부분과 다른 일측 끝부분이 각각 연결되어 사람의 머리를 중심으로 머리의 좌우 양측으로 각각 회동하도록 형성되는 제2, 제3가온기; 제1가온기의 내주면 중앙을 기준으로 앞부분과 뒷부분으로 설정된 거리만큼 이격되어 형성되는 제1반사판과 제2반사판과, 제2가온기와 제3가온기 내주면에 각각 형성되는 제3반사판과 제4반사판; 제1반사판 내지 제4반사판 각각에 사람의 머리 방향으로 형성되는 제1히터 내지 제4히터; 제1가온기의 제1반사판과 제2반사판 사이와, 제2가온기와 제3가온기에 각각 형성되어 제1내지 제4히터에서 발생되는 열과 제1반사판 내지 제4반사판을 통해 반사되는 열에 의해 사람의 모발에서 발생되는 열의 온도를 각각 검출하는 제1 내지 제3적외선 온도센서; 제2가온기와 제3가온기의 일측 끝부분에 형성되는 제1, 제2적외선 발광부와, 제2가온기와 제3가온기의 다른 일측 끝부분에 형성되어 사람의 머리 위치를 감지하는 제1 내지 제4 적외선 수광부; 및 제1내지 제3온도센서로부터의 온도검출에 따라 미리 설정된 온도로 제1내지 제4히터의 출력을 제어시키는 제어패널을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.

여기서 히터는 적외선 히터, 석영관 히터, 세라믹 히터, 세라믹 코팅 히터 중 하나로 구성되고, 반사판은 도금된 것을 특징으로 한다.

또한, 반사판은 미리 설정한 일정한 구간마다 반사각을 다르게 한 것을 특징으로 한다.

그리고 반사판은 히터에서 사람의 모발로 직접 전달되는 열과 반사판에서 반사되는 열이 중첩되되, 반사판에 미리 설정된 구간마다 반사각이 달라 고른 온도로 전달되도록 반사각이 형성된 것을 특징으로 한다.

한편, 제어패널은 버튼식 또는 터치식으로 구성되어 온도나 시간을 입력하는 온도/시간 설정부와, 온도나 시간을 표시하는 온도/시간 표시부와, 온도/시간 설정부의 입력값에 따라 동작되도록 모발처리 촉진장치를 제어하는데, 제1 내지 제4적외선 수광부의 머리 위치 감지결과에 따라 제1 내지 제4히터의 초기 출력 세기를 각각 제어하고, 제1 내지 제3온도센서로부터의 온도검출에 따라 미리 설정된 온도로 제 1내지 제4히터의 출력세기를 다시 제어시키는 제어부를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.

여기서 모발처리 촉진장치에서의 제2 내지 제3가온기를 제1가온기를 중심으로 각각 회동시키고, 고정하기 위한 회동/고정수단이 더 구성되고, 회동/고정수단은 볼트와 너트로 구성되며, 볼트와 너트사이에 제1사출기구물, 제1테프론 와샤, 제2사출기구물, 제2테프론 와샤, 제1평와샤, 스프링 와샤, 제2평와샤를 차례로 형성된 것을 특징으로 한다.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명 모발처리 촉진장치를 이용한 모발처리 촉진방법은, 모발처리 촉진장치의 전원 ON이 되면, 제어패널을 통해 온도/시간 설정값을 입력하는 단계; 모발처리 촉진을 위한 버튼이 입력되면, 제1, 제2적외선 발광부와 제1 내지 제4 적외선 수광부를 통한 머리 위치를 검출하는 단계; 및 모발의 복수 위치의 현재 온도를 제1내지 제3온도센서를 이용하여 검출하고, 검출된 복수 위치의 현재 온도와 설정값을 비교하여, 복수의 히터의 출력세기의 재조절을 입력된 설정시간까지 수행하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.

첫째, 다수의 센서를 이용하여 머리의 위치와 온도를 감지하고, 반사각을 최적화한 반사판을 이용하며, 감지된 온도나 머리 위치에 따라 히터를 제어함으로써 고른 온도 분포로 모발처리 촉진을 최적화할 수 있는 효과가 있다.

둘째, 다수의 센서를 이용하여 온도 및 머리 위치를 검출하여 히터를 제어함으로서 모발의 손상을 최소화하고, 히터를 안전하게 제어함으로써 소비자와 미용실의 만족도를 높일 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치의 적외선 발광부, 적외선 수광부 및 적외선 온도센서를 평면 및 측면에서 구성한 실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에 구성한 반사판과 히터 및 열전달 범위를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에서 반사판과 히터의 실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에 구성된 반사판의 반사각을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 반사판의 온도분포를 측정한 사진이다.
도 6은 본 발명에 따른 반사판의 실시예를 나타낸 사진이다.
도 7 내지 도 12는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치의 실시예를 나타낸 사진이다.
도 13 및 도 14는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치의 사용 상태의 실시예를 나타낸 도면이다.
도 15 및 도 16은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에서의 히터가 형성된 가온기를 회동시키고, 고정하는 회동/고정수단의 실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 17은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치를 설명하기 위한 블록 구성도이다.
도 18은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에 구성된 히터의 출력을 제어하여 모발의 온도를 제어하는 온도제어알고리즘을 설명하기 위한 도면이다.
도 19는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치를 이용한 모발처리 촉진을 위한 장치의 작동 흐름을 설명하기 위한 흐름도이다.

본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

아울러, 본 발명에서 사용되는 용어는 가능한 한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어를 선택하였으나, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며 이 경우는 해당되는 발명의 설명부분에서 상세히 그 의미를 기재하였으므로, 단순한 용어의 명칭이 아닌 용어가 가지는 의미로서 본 발명을 파악하여야 함을 밝혀두고자 한다. 또한 실시예를 설명함에 있어서 본 발명이 속하는 기술 분야에 익히 알려져 있고, 본 발명과 직접적으로 관련이 없는 기술 내용에 대해서는 설명을 생략한다. 이는 불필요한 설명을 생략함으로써 본 발명의 요지를 흐리지 않고 더욱 명확히 전달하기 위함이다.

도 1은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치의 적외선 발광부, 적외선 수광부 및 적외선 온도센서를 평면 및 측면에서 구성한 실시예를 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에 구성된 반사판과 히터 및 열전달 범위를 설명하기 위한 도면이며, 도 3은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에서 반사판과 히터의 실시예를 설명하기 위한 도면이고, 도 4는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에 구성된 반사판의 반사각을 설명하기 위한 도면이며, 도 5는 본 발명에 따른 반사판의 온도분포를 측정한 사진이고, 도 6은 본 발명에 따른 반사판의 실시예를 나타낸 사진이다.

본 발명에 따른 모발처리 촉진장치는 일정구간의 면적에 히터의 열이 고르게 분포되게 하는 반사판을 구비한 모발처리 촉진장치에서 모발처리를 촉진함에 있어 다수의 센서를 이용하여 머리의 위치와 온도를 감지하여 고른 온도 분포로 모발처리를 촉진함과 함께 도금된 반사판을 반사각이 반사효율을 극대화할 수 있도록 하기 위한 것으로 기본적으로는 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 사람의 머리를 중심으로 머리의 앞으로부터 뒤까지 형성되는 제1가온기(110)와, 제1가온기(110)의 일측 끝부분과 다른 일측 끝부분이 각각 연결되어 사람의 머리를 중심으로 머리의 좌우 양측으로 각각 회동하도록 형성되는 제2, 제3가온기(120)(130)로 구성된다. 이때, 제2, 제3가온기(120)(130)는 도 1에 나타낸 바와 같은 제1가온기(110)의 상부와 하부에 각각 체결되는 회동/고정수단(200)에 의해 회동 및 고정된다.

그리고, 제1가온기(110)와 제2가온기(120) 및 제3가온기(130)의 내주면, 즉 사람의 머리 방향으로는 복수의 반사판과 복수의 히터가 차례로 형성되는데, 제1가온기(110)는 머리의 앞부분과 뒷부분으로 각각 제1반사판(141)과 제2반사판(142)이 설정된 거리만큼 이격되어 형성되고, 제2가온기(120)와 제3가온기(130)에는 각각 하나씩의 반사판, 즉 제3반사판(143)과 제4반사판(144)이 형성되며, 각각의 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)에는 제1히터(151) 내지 제4히터(154)가 형성된다.

이때, 제1가온기(110)의 제1반사판(141)과 제2반사판(142) 사이에는 제1적외선 온도센서(161)가 형성되고, 제2가온기(120)와 제3가온기(130)에는 각각 하나의 제2적외선 온도센서(162)과 제3적외선 온도센서(163)가 형성되어 제1내지 제4히터(151 내지 154)에서 발생되어 반사판을 통해 사람의 모발에서 발생되는 열의 온도를 각각 검출한다.

한편 제2가온기(120)와 제3가온기(130)의 일측 끝부분, 바람직하게는 머리의 뒷부분에는 제1, 제2적외선 발광부(171)(172)가 형성되고, 제2가온기(120)와 제3가온기(130)의 다른 일측 끝부분, 바람직하게는 머리의 앞부분에는 제1, 제2 적외선 수광부(181)(182)와 제3, 제4적외선 수광부(183)(184)가 형성되어 사람의 머리 위치를 감지한다. 본 발명에서는 이러한 머리 위치를 감지하는 것에 따라 제1내지 제4히터(151 내지 154)에서 발생되는 온도가 제어되도록 하는데 이용된다. 물론, 이러한 적외선 발광부와 수광부를 이용하는 것은 하나의 예일 뿐 머리위치를 감지하는 센서를 적외선를 이용하는 방식으로 특별히 한정하는 것은 아니다.

이러한 본 발명에서의 반사판(140)과 히터(150)는 도 3에서와 같이 설정된 거리만큼 이격되어 형성되며, 예를 들면 적외선 히터, 석영관 히터, 세라믹 코팅 히터 등을 이용할 수 있는데, 히터(150)가 가열되면서 방출하는 적외선 중에 모발과 반대 방향으로 방출되는 적외선의 반사효율을 높이기 위해 도금된 반사판(140)을 이용하며, 모발의 방향으로 적외선을 반사하면 모발의 가열 온도 효율을 높일 수 있게 된다. 이때, 도 3 내지 도 4에서와 같이 반사효율을 높이기 위해서 도금된 반사판(140)을 미리 설정한 일정한 구간마다 반사각을 다르게 하였고, 그에 따라 히터(150)에서 발생한 열이 모발에 고른 온도로 전달되도록 하였다. 참고로, 기존 반사판은 대략의 만곡된 모형으로 히터를 뒤쪽에서 단순히 감싸는 형태로 구성되어 있었다. 이때 본 발명 반사판은 히터(150)에 의해 모발로 직접 전달되는 열과, 히터(150)에서 반사판(140)으로 전달되어 반사되는 반사열이 고른 온도로 전달되도록 하기 위하여 반사판(140)의 반사판(140)에서 반사되는 반사열은 사람의 모발 너비를 200mm 기준으로 하고, 히터(150)와 머리(모발)의 중앙부분과 양측면 부분을 기준으로 140 내지 160mm 사이에 위치하였을 때 고른 온도로 전달되도록 반사각을 갖는 반사판(140)과 히터(150)를 구성하였다. 즉 도 4에서와 같은 히터(150)에서 직접 열이 전달되는 모발의 중앙부분과 모발의 중앙 양측 부분으로 나누어 볼 때, 모발의 중앙부분은 히터(150)로부터 직접 열이 전달되고, 중앙부분의 양측으로는 직접전달되는 열과 반사판(140)에서 반사되는 열이 중첩되되, 반사판(140)에 미리 설정된 구간마다 반사각이 달라 고른 온도로 전달될 수 있게 된다.

한편 도 5는 열화상 카메라를 이용하여 도 6에 나타낸 본 발명 실시예에 따라 구성된 반사판의 온도분포를 측정한 것으로, 본 발명 반사판의 중심과 양측의 온도 분포를 보여주고 있다. 그에 따라 본 발명 모발처리 촉진장치의 제1내지 제3가온기(110)(120)(130) 중 관리자(예로써, 미용사)가 모발처리를 촉진하기 위하여 제2, 제3가온기(120)(130)를 직관적으로 이동(좌우 회동)시킨 후 작동시키면 모발의 온도에 따라 히터의 온도를 자동조절할 수 있게 된다.

도 7 내지 도 12는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치의 실시예를 나타낸 사진이고, 도 13 및 도 14는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치의 사용 상태의 실시예를 나타낸 도면이다.

본 발명에 따른 모발처리 촉진장치의 실시예는 도 7 내지 도 12에 나타낸 바와 같은데, 도 7과 도 8은 제1가온기(110)를 중심으로 제2, 제3가온기(120)(130)가 접혀있는 상태이고, 도 9와 도 10은 제1가온기(110)를 중심으로 제2, 제3가온기(120)(130)를 펼친 상태이며, 도 11과 도 12는 제1가온기(110)를 중심으로 제2 가온기(120)는 접혀있고, 제3가온기(130)는 펼친상태이다. 한편, 도 14에 나타낸 바와 같이 제1가온기(110)에는 모발처리 촉진장치(100)를 제어하기 위한 제어패널(190)이 구성된다. 이러한 제어패널(190)은 전원 온/오프, 설정 온도조절부, 온도 표시부, 가온 시간 표시부 등이 구성될 수 있다. 이러한 구성에 대하여는 도 17에서 상세히 설명하기로 한다.

도 15 및 도 16은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에서의 히터가 형성된 가온기를 회동시키고, 고정하는 회동/고정수단의 실시예를 설명하기 위한 도면이다.

본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에서의 히터가 형성된 가온기를 회동시키고, 고정하는 회동/고정수단(200)의 실시예는 도 15 및 도 16에 나타낸 바와 같은데, 볼트(210)와 너트(220)사이에 제1사출기구물(231), 제1테프론 와샤(241), 제2사출기구물(232), 제2테프론 와샤(242), 제1평와샤(251), 스프링 와샤(260), 제2평와샤(252)를 선택적으로 형성하여 히터가 형성된 제2, 제3가온기(120)(130)를 도 7 내지 도 12에 나타낸 바와 같이 펼치거나 접을 시 시술 부위로 회동시키고, 회동 후에는 고정되도록 하였다. 한편 너트(220)는 제1, 제2너트(221)(222)를 차례로 형성할 수 있다.

도 17은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치를 설명하기 위한 블록 구성도이다.

본 발명에 따른 모발처리 촉진장치는 도 13에 나타낸 바와 같이, 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)와, 제1 내지 제3온도센서(161, 162, 163), 제1, 제2적외선 발광부(171, 172), 제1 내지 제4 적외선 수광부(181, 182, 183, 184) 및 제어패널(190)로 구성되고, 제어패널(190)은 온도/시간 설정부(191), 온도/시간 표시부(192) 및 제어부(193)로 구성된다. 한편 모발처리 촉진장치의 온/오프 시와, 입력된 시간 완료 시 및 모발처리 촉진장치(100)의 이상 시 각각의 미리 설정된 출력음을 출력하기 위한 스피커가 더 구성될 수 있다.

여기서, 온도/시간 설정부(191)는 버튼식 또는 터치식으로 구성할 수 있고, 온도/시간 표시부(192)는 FND(7-Segment LED)로 구성될 수 있다. 한편, 제어부(193)는 온도/시간 설정부(191)의 입력값에 따라 동작되도록 모발처리 촉진장치(100)를 제어하는데, 제1 내지 제4적외선 수광부(181, 182, 183, 184)의 머리 위치 감지결과에 따라 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)의 초기 출력 세기를 각각 제어하고, 제1 내지 제3온도센서(161, 162, 163)로부터의 온도검출에 따라 미리 설정된 온도로 제 1내지 제4히터(151, 152, 153, 154)의 출력세기를 다시 제어시킨다.

도 18은 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치에 구성된 히터의 출력을 제어하여 모발의 온도를 제어하는 온도제어알고리즘을 설명하기 위한 도면이고, 도 19는 본 발명에 따른 모발처리 촉진장치를 이용한 모발처리 촉진을 위한 장치의 작동 흐름을 설명하기 위한 흐름도이다.

본 발명에 따른 모발처리 촉진장치를 이용한 모발처리 촉진 알고리즘과 방법은 도 18 및 도 19에 나타낸 바와 같은데, 전원 ON이 되면(S100), 온도/시간 등의 설정값을 입력한다(S110).

그 다음 모발처리 촉진을 위한 시작버튼을 입력(터치)하면(S120), 머리 위치를 검출하고(S130), 모발의 복수위치의 현재 온도를 검출한다(S140).

이어, 검출된 복수 위치의 현재 온도와 설정값을 비교한다(S150). 이때, 현재 편차값[e0] : 설정값[CSV] - 현재값[TSV]으로 구하는데, 현재 편차[e0]와 적분 계수[kI], 미분 계수[kD], 상수[a]를 조합하고, 전 편차[e1]와 미분 계수[kD], 상수[b]를 조합하며, 전전 편차[e2]와 미분 계수[kD]를 조합하는 방식과 같은 세가지를 조합하여, 비례 계수[kP]와 상수[c]를 여기에 다시 조합하여 결과값을 이전 출력값에 가감한다.

그리고 비교결과에 따라 복수의 히터의 출력세기[COV]를 다시 조절(제어)한다(S160). [e2] = [e1], [e1] = [e0].

이러한 동작은 설정시간 완료까지 수행된다(S170).

이상과 같은 예로 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 예들에 국한되는 것이 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서 본 발명에 개시된 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 예들에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

100 : 모발처리 촉진장치 110, 120, 130 : 가온기
140, 141, 142, 143, 144 : 반사판 150, 151, 152, 153, 154 : 히터
161, 162, 163 : 온도센서 171, 172 : 적외선 발광부
181, 182, 183, 184 : 적외선 수광부 190 : 제어패널
200 : 회동/고정수단

Claims (7)

1. 사람의 머리를 중심으로 머리의 앞으로부터 뒤까지 형성되는 제1가온기(110)와, 상기 제1가온기(110)의 일측 끝부분과 다른 일측 끝부분이 각각 연결되어 사람의 머리를 중심으로 머리의 좌우 양측으로 각각 회동하도록 형성되는 제2, 제3가온기(120)(130)가 상기 제1가온기(110)의 상부와 하부 일측 끝부분에 각각 체결되도록 회동/고정수단(200)에 의해 체결되고, 관리자에 의해 상기 제2, 제3가온기(120)(130)가 상기 회동/고정수단(200)에서 회동되는 것에 따라 각각 수동으로 펼쳐지거나, 접혀지고, 회동 후에는 고정되며,
   상기 제1가온기(110)의 내주면 중앙을 기준으로 앞부분과 뒷부분으로 설정된 거리만큼 이격되어 제1반사판(141)과 제2반사판(142)이 각각 형성되고, 상기 제2가온기(120)와 제3가온기(130) 내주면에 각각에는 제3반사판(143)과 제4반사판(144)이 형성되며, 상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)의 각각에는 사람의 머리 방향으로 제1히터(151) 내지 제4히터(154)가 형성되되,
   상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)은 상기 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)에서 사람의 모발로 직접 전달되는 열과 상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)에서 반사되는 열이 중첩되어 반사되며, 상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)은 미리 설정된 일정한 구간마다 반사각이 달라져 사람의 머리 방향으로 고른 온도로 열이 전달되도록 미리 설정된 일정 구간마다 반사각이 다르게 형성되고,
   상기 제1 내지 제4반사판(141, 142, 143, 144)에서 반사되는 반사열은 사람의 모발 너비를 200mm 기준으로 하고, 상기 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)와 머리(모발)의 중앙부분과 양측면 부분을 기준으로 140 내지 160mm 사이에 위치하였을 때 사람의 모발에 고른 온도로 전달되도록 상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)의 반사각이 구성되며,
   상기 제1가온기(110)의 상기 제1반사판(141)과 제2반사판(142) 사이와, 상기 제2가온기(120)와 상기 제3가온기(130)에 각각 형성되어 상기 제1 내지 제4히터(151 내지 154)에서 발생되는 열과 상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)을 통해 반사되는 열에 의해 사람의 모발에서 발생되는 열의 온도를 각각 검출하는 제1 내지 제3적외선 온도센서(161 내지 163);
   사람의 머리 뒷부분이 위치하는 상기 제2가온기(120)와 제3가온기(130)의 일측 끝부분에 형성되는 제1, 제2적외선 발광부(171)(172)와, 사람의 머리 앞부분이 위치하는 상기 제2가온기(120)와 제3가온기(130)의 다른 일측 끝부분에 형성되어 사람의 머리 위치를 감지하는 제1 내지 제4 적외선 수광부(181 내지 184); 및
   상기 제1 내지 제3 적외선 온도센서(161, 162, 163)로부터 검출된 모발의 온도에 따라 미리 설정된 온도로 상기 사람의 머리 방향으로 고른 온도로 열이 전달되도록 상기 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154) 각각의 출력을 제어시키는 제어패널(190)을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 모발처리 촉진장치.
   
2. 제1항에 있어서,
   상기 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)는 적외선을 방사하는 히터로 구성되고, 상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)은 도금된 것을 특징으로 하는 모발처리 촉진장치.
   
3. 삭제
4. 삭제
5. 제1항에 있어서,
   상기 제어패널(190)은
   버튼식 또는 터치식으로 구성되어 온도나 시간을 입력하는 온도/시간 설정부(191)와, 상기 온도나 시간을 표시하는 온도/시간 표시부(192)와, 상기 온도/시간 설정부(191)의 입력값에 따라 동작되도록 상기 모발처리 촉진장치(100)를 제어하는데, 상기 제1 내지 제4적외선 수광부(181, 182, 183, 184)의 머리 위치 감지결과에 따라 상기 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)의 초기 출력 세기를 각각 제어하고, 상기 제1 내지 제3 적외선 온도센서(161, 162, 163)로부터의 온도검출에 따라 미리 설정된 온도로 제 1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)의 출력세기를 다시 제어시키는 제어부(193) 및 상기 모발처리 촉진장치의 온/오프 시와, 입력된 시간 완료 시 및 모발처리 촉진장치(100)의 이상 시 각각의 미리 설정된 출력음을 출력하기 위한 스피커가 더 구성됨을 특징으로 하는 모발처리 촉진장치.
   
6. 제1항에 있어서,
   상기 모발처리 촉진장치에서의 상기 제2 내지 제3가온기(120)(130)를 상기 제1가온기(110)를 중심으로 각각 회동시키고, 고정하기 위한 회동/고정수단(200)이 구성되고, 상기 회동/고정수단(200)은 볼트(210)와 너트(220)로 구성되며, 상기 볼트(210)와 너트(220)사이에 제1사출기구물(231), 제1테프론 와샤(241), 제2사출기구물(232), 제2테프론 와샤(242), 제1평와샤(251), 스프링 와샤(260), 제2평와샤(252)를 차례로 형성된 것을 특징으로 하는 모발처리 촉진장치.
   
7. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 5 또는 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 모발처리 촉진장치를 이용한 모발처리 촉진방법으로,
   모발처리 촉진장치의 전원 ON이 되면(S100), 제어패널(190)을 통해 온도/시간 설정값을 입력하는 단계(S110);
   모발처리 촉진을 위한 버튼이 입력되면(S120),
   사람의 머리를 중심으로 머리의 앞으로부터 뒤까지 형성되는 제1가온기(110)와, 상기 제1가온기(110)의 일측 끝부분과 다른 일측 끝부분에 회동/고정수단(200)에 의해 각각 체결되어 사람의 머리를 중심으로 머리의 좌우 양측으로 관리자에 의해 상기 회동/고정수단(200)에서 회동되는 것에 따라 각각 수동으로 펼쳐지거나, 접혀지고, 회동 후에는 고정되는 제2, 제3가온기(120)(130)의 일측 끝부분 중 사람의 머리 뒷부분 위치에 각각 형성된 제1, 제2적외선 발광부(171)(172)와, 상기 제2가온기(120)와 제3가온기(130)의 다른 일측 끝부분 중 사람의 머리 앞부분 위치에 각각 형성된 제1 내지 제4 적외선 수광부(181 내지 184)를 이용하여 사람의 머리 위치를 검출하는 단계(S130);
   상기 모발의 복수 위치의 현재 온도를 제1 내지 제3 적외선 온도센서(161, 162, 163)를 이용하여 검출하고(S140);
   상기 검출된 복수 위치의 현재 온도와 상기 제어패널(190)을 통해 입력된 온도 설정값을 상기 제어패널(190)의 제어부(193)에서 비교(S150)하는 단계; 및
   복수의 상기 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154) 각각의 출력세기의 재조절(S160)을 상기 제어패널(190)을 통해 입력된 설정시간동안 수행하는 단계(S170);를 포함하여 이루어지되,
   상기 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)는 상기 제1가온기(110)의 내주면 중앙을 기준으로 앞부분과 뒷부분으로 설정된 거리만큼 이격되어 형성된 제1반사판(141)과 제2반사판(142) 및 상기 제2가온기(120)와 제3가온기(130) 내주면에 각각에 형성된 제3반사판(143)과 제4반사판(144)에 사람의 머리 방향으로 형성된 것으로, 상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)은 상기 제1 내지 제4히터(151, 152, 153, 154)에서 사람의 모발로 직접 전달되는 열과 상기 제1반사판(141) 내지 제4반사판(144)에서 반사되는 열이 중첩되어 반사되도록 미리 설정된 일정한 구간마다 반사각이 달라져 사람의 머리 방향으로 고른 온도로 열이 전달되도록 미리 설정된 일정 구간마다 반사각이 다르게 형성된 것을 특징으로 하는 모발처리 촉진장치를 이용한 모발처리 촉진방법.

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