KR101815951B1 - 신규한 황 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료용 조성물 - Google Patents

신규한 황 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료용 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명의 바람직한 실시태양에 따르면, 식(1)로 표시되는 화합물과 식(2)로 표시되는 화합물을 포함하는 광학재료용 조성물을 제공할 수 있다. 이 광학재료용 조성물에 의해, 식(2)로 표시되는 화합물을 안정되게 저가로 보관하고, 더 나아가 온도변화에 대해서도 안정되게 보관가능하며, 또한 내광성이 좋은 광학재료를 얻을 수 있다.
Figure 112017051344964-pct00009

(식(1) 중, m은 0~4의 정수, n은 0~2의 정수를 나타낸다.)
Figure 112017051344964-pct00010

(식(2) 중, m은 0~4의 정수, n은 0~2의 정수를 나타낸다.)

Description

신규한 황 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료용 조성물{NOVEL SULFUR COMPOUND AND COMPOSITION FOR OPTICAL MATERIALS CONTAINING SAME}
본 발명은 신규한 황 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료용 조성물에 관한 것으로, 플라스틱렌즈, 프리즘, 광파이버, 정보기록기반, 필터 등의 광학재료, 이 중에서도 플라스틱렌즈에 호적하게 사용되는 신규한 황 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료용 조성물에 관한 것이다.
플라스틱렌즈는 경량이면서 인성이 풍부하고, 염색도 용이하다. 플라스틱렌즈에 특히 요구되는 성능은, 저비중, 고투명성 및 저황색도, 광학성능으로서 고굴절률, 고아베수, 고내열성, 고강도 등이다. 고굴절률은 렌즈의 박육화를 가능하게 하고, 고아베수는 렌즈의 색수차를 저감시킨다.
최근, 고굴절률 및 고아베수를 목적으로 하여, 황원자를 가지는 유기 화합물을 이용한 예가 많이 보고되어 있다. 이 중에서도 황원자를 가지는 폴리에피설파이드 화합물은, 굴절률과 아베수의 밸런스가 좋은 것이 알려져 있다(특허문헌 1). 또한, 폴리에피설파이드 화합물은 여러가지 화합물과 반응가능하다는 점에서, 물성 향상을 위하여 각종 화합물과의 조성물이 제안되어 있다(특허문헌 2~5).
그러나, 에피설파이드 화합물은 반응성이 높다는 점에서 장기보존이 어려우므로, 냉장하여 보관하는 수법(특허문헌 6)이나, 할로겐기를 가지는 에폭시 화합물을 첨가하는 수법(특허문헌 7)이 제안되어 있다.
일본특허공개 H09-110979호 공보 일본특허공개 H10-298287호 공보 일본특허공개 2001-002783호 공보 일본특허공개 2001-131257호 공보 일본특허공개 2002-122701호 공보 일본특허공개 2000-327677호 공보 일본특허공개 2005-272418호 공보
그러나, 냉장보존에는 전용 보냉고가 필요하여 비용이 든다는 점, 할로겐기를 가지는 에폭시 화합물은, 할로겐 유래의 내광성의 악화를 초래한다는 점으로부터, 개선이 요구되고 있었다. 더 나아가, 온도변화에 대해서도 안정되게 보존가능한 것이 요구되고 있었다.
상기 종래에 있어서의 문제를 감안하여, 본 발명은, 에피설파이드 화합물 등의 중합성 화합물을 안정되게 저가로 보관하고, 더 나아가 온도변화에 대해서도 안정되게 보관가능하며, 또한 내광성이 좋은 광학재료가 얻어지는 광학재료용 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은, 이러한 상황을 감안하여 예의 연구를 거듭한 결과, 이하의 본 발명에 의해 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하였다. 즉, 본 발명은 이하와 같다.
<1> 하기 식(1)로 표시되는 에피설파이드 화합물이다.
[화학식 1]
Figure 112017051344964-pct00001
(식 중, m은 0~4의 정수, n은 0~2의 정수를 나타낸다.)
<2> 상기 <1>에 기재된 에피설파이드 화합물과 이 화합물 이외의 중합성 화합물을 포함하는 광학재료용 조성물이다.
<3> 상기 에피설파이드 화합물의 함유량이 0.001~5.0질량%인, 상기 <2>에 기재된 광학재료용 조성물이다.
<4> 상기 중합성 화합물을 95.0~99.999질량% 포함하는 상기 <2> 또는 <3>에 기재된 광학재료용 조성물이다.
<5> 상기 중합성 화합물로서 하기 식(2)로 표시되는 화합물을 포함하는 상기 <2>~<4> 중 어느 하나에 기재된 광학재료용 조성물이다.
[화학식 2]
Figure 112017051344964-pct00002
(식 중, m은 0~4의 정수, n은 0~2의 정수를 나타낸다.)
<6> 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 40~99.999질량% 포함하는 상기 <5>에 기재된 광학재료용 조성물이다.
<7> 상기 <2>~<6> 중 어느 하나에 기재된 광학재료용 조성물과, 이 광학재료용 조성물의 총량에 대하여 0.0001질량%~10질량%의 중합촉매를 포함하는 중합경화성 조성물이다.
<8> 상기 <2>~<6> 중 어느 하나에 기재된 광학재료용 조성물 또는 상기 <7>에 기재된 중합경화성 조성물을 경화한 광학재료이다.
<9> 상기 <8>에 기재된 광학재료를 포함하는 광학렌즈이다.
<10> 상기 <2>~<6> 중 어느 하나에 기재된 광학재료용 조성물의 총량에 대하여, 중합촉매를 0.0001질량%~10질량% 첨가하고, 중합경화하는 공정을 포함하는, 광학재료의 제조방법이다.
본 발명에 의해, 고굴절률을 가지는 광학재료를 제조할 때, 에피설파이드 화합물 등의 중합성 화합물을 안정되게 저가로 보관하고, 더 나아가 온도변화에 대해서도 안정되게 보관가능하며, 또한 내광성이 좋은 광학재료가 얻어지는 광학재료용 조성물을 제조할 수 있다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명은, 상기 식(1)로 표시되는 화합물, 및 상기 식(1)로 표시되는 화합물과 상기 식(1)로 표시되는 화합물 이외의 중합성 화합물을 포함하는 광학재료용 조성물이다. 상기 식(1)로 표시되는 화합물 이외의 중합성 화합물로는, 에피설파이드 화합물, 비닐 화합물, 메타크릴 화합물, 아크릴 화합물, 알릴 화합물을 들 수 있는데, 바람직하게는 에피설파이드 화합물이고, 보다 바람직하게는 상기 식(2)로 표시되는 화합물이다.
본 발명의 광학재료용 조성물 중의 상기 식(1)로 표시되는 화합물의 비율은, 0.001~5.0질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.005~3.0질량%, 특히 바람직하게는 0.01~1.0질량%이다. 상기 식(1)로 표시되는 화합물이 0.001질량%를 하회하면 충분한 효과가 얻어지지 않는 경우가 있고, 5.0질량%를 초과하면 내열성이 저하되는 경우가 있다.
또한, 본 발명의 광학재료용 조성물 중의 중합성 화합물의 비율은, 95.0~99.999질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 97.0~99.995질량%이고, 특히 바람직하게는 99.0~99.99질량%이다. 중합성 화합물로서 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 이용하는 경우, 광학재료용 조성물 중의 상기 식(2)로 표시되는 화합물의 비율은, 40~99.999질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50~99.995질량%이고, 특히 바람직하게는 60~99.99질량%이다.
이하, 상기 식(1)로 표시되는 화합물, 및 상기 식(2)로 표시되는 화합물에 대하여 상세하게 설명한다.
본 발명은, 상기 식(1)로 표시되는 화합물이고, 또한 식(1)로 표시되는 화합물은 본 발명의 광학재료용 조성물에 사용된다. 식(1) 중, 바람직하게는, m은 0~2의 정수, n은 0 또는 1의 정수이고, 보다 바람직하게는 m이 0이고 n이 1, 또는 n이 0인 화합물이고, 가장 바람직하게는 n이 0인 화합물이다. 식(1)로 표시되는 화합물은 단독으로도, 2종류 이상을 혼합하여 이용해도 관계없다.
이하, 본 발명의 식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법에 대하여 설명하나, 제조방법은 특별히 한정되지 않는다.
본 발명의 식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법으로는, 공지의 수법으로 얻어지는 식(2)로 표시되는 화합물에 대하여, 아세트산을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 이하, 식(2)로 표시되는 화합물로부터 식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법에 대하여 기재한다.
식(2)로 표시되는 화합물과 아세트산, 또는 무수아세트산을 반응시켜 식(1)로 표시되는 화합물을 얻는다. 바람직하게는 아세트산이다. 아세트산 또는 무수아세트산은, 식(2)로 표시되는 화합물과 동일 몰수, 즉 이론량을 사용하는데, 반응속도, 순도를 중시하는 것이면 이론량~이론량의 20배몰을 사용한다. 바람직하게는 이론량의 1.5배몰~이론량의 10배몰이고, 보다 바람직하게는 이론량의 2배몰~이론량의 10배몰이다. 또한, 용매를 이용하는 것이 바람직하다. 용매는, 아세트산 또는 무수아세트산과, 식(1)로 표시되는 화합물, 및 식(2)로 표시되는 화합물을 용해하는 것이면 특별히 제한은 없으나, 구체예로서 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란 등의 에테르류, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 하이드록시에테르류, 벤젠, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류, 디클로로메탄, 클로로포름, 클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류를 들 수 있다. 바람직하게는 에테르류, 방향족 탄화수소류, 할로겐화탄화수소류이고, 보다 바람직하게는 방향족 탄화수소류, 할로겐화탄화수소류이다. 이들 용매는 단독으로도 혼합하여 이용해도 관계없다.
반응온도는, 반응이 진행되는 것이면 특별히 제한은 없으나, 통상은 10℃~50℃에서 실시한다. 10℃ 미만인 경우, 반응속도가 저하되어 반응이 충분히 진행되지 않고, 50℃를 초과하는 경우, 폴리머의 생성이 현저해진다.
반응시간은, 반응이 진행되는 것이면 특별히 제한은 없으나, 통상은 10분~50시간, 바람직하게는 30분~30시간, 보다 바람직하게는 30분~20시간 동안 실시한다. 10분 미만인 경우, 반응이 충분히 진행되지 않고, 50시간을 초과하는 경우, 폴리머의 생성이 현저해진다.
반응압력은, 반응이 진행되는 것이라면 가압하에서도 감압하에서도 특별히 제한은 없으나, 통상은 상압으로 행한다.
본 발명의 광학재료용 조성물에는, 중합성 화합물로서 상기 식(2)로 표시되는 화합물을 바람직하게 이용할 수 있다. 식(2)로 표시되는 화합물의 구체예로는, 비스(β-에피티오프로필)설파이드, 비스(β-에피티오프로필)디설파이드, 비스(β-에피티오프로필티오)메탄, 1,2-비스(β-에피티오프로필티오)에탄, 1,3-비스(β-에피티오프로필티오)프로판, 1,4-비스(β-에피티오프로필티오)부탄 등의 에피설파이드류를 들 수 있다. 식(2)로 표시되는 화합물은 단독으로도, 2종류 이상을 혼합하여 이용해도 관계없다.
이 중에서도 바람직한 화합물은, 비스(β-에피티오프로필)설파이드(식(2)에서 n=0), 비스(β-에피티오프로필)디설파이드(식(2)에서 m=0, n=1)이고, 가장 바람직한 화합물은, 비스(β-에피티오프로필)설파이드(식(2)에서 n=0)이다.
본 발명의 광학재료용 조성물은, 얻어지는 수지의 가열시의 색조를 개선하기 위하여 폴리티올 화합물을 중합성 화합물로서 포함할 수도 있다. 폴리티올 화합물의 함유량은, 광학재료용 조성물의 합계를 100질량%로 한 경우, 통상은 1~25질량%이고, 바람직하게는 2~25질량%, 특히 바람직하게는 5~20질량%이다. 폴리티올 화합물의 함유량이 1질량%를 하회하면 렌즈성형시에 황변되는 경우가 있고, 25질량%를 초과하면 내열성이 저하되는 경우가 있다. 본 발명에서 사용하는 폴리티올 화합물은 단독으로도, 2종류 이상을 혼합하여 이용해도 관계없다.
그 구체예로는, 메탄디티올, 메탄트리티올, 1,2-디메르캅토에탄, 1,2-디메르캅토프로판, 1,3-디메르캅토프로판, 2,2-디메르캅토프로판, 1,4-디메르캅토부탄, 1,6-디메르캅토헥산, 비스(2-메르캅토에틸)에테르, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸옥시)에탄, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)에탄, 2,3-디메르캅토-1-프로판올, 1,3-디메르캅토-2-프로판올, 1,2,3-트리메르캅토프로판, 2-메르캅토메틸-1,3-디메르캅토프로판, 2-메르캅토메틸-1,4-디메르캅토부탄, 2-(2-메르캅토에틸티오)-1,3-디메르캅토프로판, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,4-디메르캅토메틸-1,5-디메르캅토-3-티아펜탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1-트리스(메르캅토메틸)프로판, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 에틸렌글리콜비스(2-메르캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜비스(2-메르캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,4-부탄디올비스(2-메르캅토아세테이트), 1,4-부탄디올비스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스메르캅토프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라키스티오글리콜레이트, 펜타에리스리톨테트라키스메르캅토프로피오네이트, 1,2-디메르캅토시클로헥산, 1,3-디메르캅토시클로헥산, 1,4-디메르캅토시클로헥산, 1,3-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 2,5-디메르캅토메틸-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토메틸-1,4-디티안, 2,5-비스(2-메르캅토에틸티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토메틸-1-티안, 2,5-디메르캅토에틸-1-티안, 2,5-디메르캅토메틸티오펜, 1,2-디메르캅토벤젠, 1,3-디메르캅토벤젠, 1,4-디메르캅토벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸)벤젠, 2,2’-디메르캅토비페닐, 4, 4’-디메르캅토비페닐, 비스(4-메르캅토페닐)메탄, 2,2-비스(4-메르캅토페닐)프로판, 비스(4-메르캅토페닐)에테르, 비스(4-메르캅토페닐)설파이드, 비스(4-메르캅토페닐)설폰, 비스(4-메르캅토메틸페닐)메탄, 2,2-비스(4-메르캅토메틸페닐)프로판, 비스(4-메르캅토메틸페닐)에테르, 비스(4-메르캅토메틸페닐)설파이드, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸, 3,4-티오펜디티올, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판을 들 수 있다.
이들 중에서 바람직한 구체예는, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 2,5-디메르캅토메틸-1,4-디티안, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸)벤젠, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 펜타에리스리톨테트라키스메르캅토프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트), 트리메틸올프로판트리스메르캅토프로피오네이트이고, 보다 바람직하게는, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 2,5-비스(2-메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 펜타에리스리톨테트라키스메르캅토프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라키스티오글리콜레이트이고, 특히 바람직한 화합물은, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 2,5-디메르캅토메틸-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄이다.
본 발명의 광학재료용 조성물은, 얻어지는 수지의 강도를 개선하기 위하여 폴리이소시아네이트 화합물을 중합성 화합물로서 포함할 수도 있다. 폴리이소시아네이트 화합물의 함유량은, 광학재료용 조성물의 합계를 100질량%로 한 경우, 통상은 1~25질량%이고, 바람직하게는 2~25질량%, 특히 바람직하게는 5~20질량%이다. 폴리이소시아네이트 화합물의 함유량이 1질량%를 하회하면 강도가 저하되는 경우가 있고, 25질량%를 초과하면 색조가 저하되는 경우가 있다. 본 발명에서 사용하는 폴리이소시아네이트 화합물은 단독으로도, 2종류 이상을 혼합하여 이용해도 관계없다.
그 구체예로는, 디에틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 이소포론디이소시아네이트, 2,6-비스(이소시아네이트메틸)데카하이드로나프탈렌, 라이신트리이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, o-톨리딘디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 디페닐에테르디이소시아네이트, 3-(2’-이소시아네이트시클로헥실)프로필이소시아네이트, 이소프로필리덴비스(시클로헥실이소시아네이트), 2,2’-비스(4-이소시아네이트페닐)프로판, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 비스(디이소시아네이트톨릴)페닐메탄, 4,4’,4’’-트리이소시아네이트-2,5-디메톡시페닐아민, 3,3’-디메톡시벤지딘-4,4’-디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 4,4’-디이소시아네이트비페닐, 4,4’-디이소시아네이트-3,3’-디메틸비페닐, 디시클로헥실메탄-4,4’-디이소시아네이트, 1,1’-메틸렌비스(4-이소시아네이트벤젠), 1,1’-메틸렌비스(3-메틸-4-이소시아네이트벤젠), m-자일릴렌디이소시아네이트, p-자일릴렌디이소시아네이트, m-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, p-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(2-이소시아네이트-2-프로필)벤젠, 2,6-비스(이소시아네이트메틸)나프탈렌, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 비스(이소시아네이트메틸)테트라하이드로디시클로펜타디엔, 비스(이소시아네이트메틸)디시클로펜타디엔, 비스(이소시아네이트메틸)테트라하이드로티오펜, 비스(이소시아네이트메틸)노보넨, 비스(이소시아네이트메틸)아다만탄, 티오디에틸디이소시아네이트, 티오디프로필디이소시아네이트, 티오디헥실디이소시아네이트, 비스〔(4-이소시아네이트메틸)페닐〕설파이드, 2,5-디이소시아네이트-1,4-디티안, 2,5-디이소시아네이트메틸-1,4-디티안, 2,5-디이소시아네이트메틸티오펜, 디티오디에틸디이소시아네이트, 디티오디프로필디이소시아네이트를 들 수 있다.
그러나, 본 발명에서 사용할 수 있는 폴리이소시아네이트 화합물은 이것들로 한정되는 것은 아니며, 또한, 이들은 단독으로도, 2종류 이상을 혼합하여 사용하여도 관계없다.
이들 중에서 바람직한 구체예는, 이소포론디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, m-자일릴렌디이소시아네이트, p-자일릴렌디이소시아네이트, m-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, p-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 비스(이소시아네이트메틸)노보넨, 및 2,5-디이소시아네이트메틸-1,4-디티안이고, 보다 바람직한 화합물은, 이소포론디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산, m-자일릴렌디이소시아네이트이고, 특히 바람직한 화합물은, 이소포론디이소시아네이트, m-자일릴렌디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아네이트메틸)시클로헥산이다.
나아가, 폴리이소시아네이트 화합물의 NCO기에 대한 폴리티올 화합물 중의 SH기의 비율, 즉 [폴리티올 화합물의 SH기수/폴리이소시아네이트 화합물의 NCO기수](SH기/NCO기)는, 바람직하게는 1.0~2.5이고, 보다 바람직하게는 1.25~2.25이고, 특히 바람직하게는 1.5~2.0이다. 상기 비율이 1.0을 하회하면 렌즈성형시에 황색으로 착색되는 경우가 있고, 2.5를 상회하면 내열성이 저하되는 경우가 있다.
본 발명의 광학재료용 조성물은, 얻어지는 수지의 굴절률을 향상시키기 위하여 황을 중합성 화합물로서 포함할 수도 있다. 황의 함유량은, 광학재료용 조성물의 합계를 100질량%로 한 경우, 통상은 0.1~15질량%이고, 바람직하게는 0.2~10질량%, 특히 바람직하게는 0.3~5질량%이다.
본 발명에서 이용하는 황의 형상은 어떠한 형상이어도 상관없다. 구체적으로는, 황은, 미분황, 콜로이드황, 침강황, 결정황, 승화황 등인데, 바람직하게는, 입자가 미세한 미분황이다.
본 발명에 이용하는 황의 제법은 어떠한 제법이어도 상관없다. 황의 제법은, 천연유황광으로부터의 승화정제법, 지하에 매장하는 황의 용융법에 의한 채굴, 석유나 천연가스의 탈황공정 등으로부터 얻어지는 황화수소 등을 원료로 하는 회수법 등이 있으나, 어떠한 제법이어도 상관없다.
본 발명에 이용하는 황의 입경은 10메쉬보다 작은 것, 즉 황이 10메쉬보다 미세한 미분인 것이 바람직하다. 황의 입경이 10메쉬보다 큰 경우, 황이 완전히 용해되기 어렵다. 이에 따라, 제1 공정에서 바람직하지 않은 반응 등이 일어나, 문제가 발생하는 경우가 있다. 황의 입경은, 30메쉬보다 작은 것이 보다 바람직하고, 60메쉬보다 작은 것이 가장 바람직하다.
본 발명에 이용하는 황의 순도는, 바람직하게는 98% 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0% 이상이고, 더욱 바람직하게는 99.5% 이상이고, 가장 바람직하게는 99.9% 이상이다. 황의 순도가 98% 이상이면, 98% 미만인 경우에 비해, 얻어지는 광학재료의 색조가 보다 개선된다.
본 발명의 광학재료용 조성물을 중합경화하여 광학재료를 얻는데 있어서, 중합촉매를 첨가하는 것이 바람직하다. 본 발명의 조성물은, 광학재료용 조성물과 중합촉매를 포함하는 중합경화성 조성물일 수 있다. 중합촉매로는 아민, 포스핀, 또는 오늄염을 이용할 수 있는데, 특히 오늄염, 이 중에서도 제4급암모늄염, 제4급포스포늄염, 제3급설포늄염, 및 제2급요오드늄염이 바람직하고, 이 중에서도 광학재료용 조성물과의 상용성이 양호한 제4급암모늄염 및 제4급포스포늄염이 보다 바람직하고, 제4급포스포늄염이 더욱 바람직하다. 보다 바람직한 중합촉매로는, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드, 트리에틸벤질암모늄클로마이드, 세틸디메틸벤질암모늄클로마이드, 1-n-도데실피리디늄클로마이드 등의 제4급암모늄염, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드 등의 제4급포스포늄염을 들 수 있다. 이들 중에서, 더욱 바람직한 중합촉매는, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드, 트리에틸벤질암모늄클로마이드, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드이다.
중합촉매의 첨가량은, 조성물의 성분, 혼합비 및 중합경화방법에 따라 변화하므로 일률적으로 정해진 것은 아니나, 통상은 광학재료용 조성물의 합계 100질량%(중합촉매를 포함하지 않는 양)에 대하여, 0.0001질량%~10질량%, 바람직하게는 0.001질량%~5질량%, 보다 바람직하게는 0.01질량%~1질량%, 가장 바람직하게는 0.01질량%~0.5질량%이다. 중합촉매의 첨가량이 10질량%보다 많으면 급속히 중합되는 경우가 있다. 또한, 중합촉매의 첨가량이 0.0001질량%보다 적으면 광학재료용 조성물이 충분히 경화되지 않아 내열성이 불량해지는 경우가 있다.
또한, 본 발명의 제조방법으로 광학재료를 제조할 때, 광학재료용 조성물에 자외선흡수제, 블루잉제, 안료 등의 첨가제를 첨가하고, 얻어지는 광학재료의 실용성을 보다 향상시키는 것은 물론 가능하다.
자외선흡수제의 바람직한 예로는 벤조트리아졸계 화합물이고, 특히 바람직한 화합물은, 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-클로로-2-(3,5-디-tert-부틸-2-하이드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-4-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-4-에톡시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-4-부톡시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸이다.
이들 자외선흡수제의 첨가량은, 통상, 광학재료용 조성물의 합계 100질량%에 대하여 각각 0.01~5질량%이다.
광학재료용 조성물을 중합경화시킬 때에, 포트라이프의 연장이나 중합발열의 분산화 등을 목적으로 하여, 필요에 따라 중합조정제를 첨가할 수 있다. 중합조정제는, 장기 주기율표에 있어서의 제13~16족의 할로겐화물을 들 수 있다. 이들 중 바람직한 것은, 규소, 게르마늄, 주석, 안티몬의 할로겐화물이고, 보다 바람직한 것은 알킬기를 가지는 게르마늄, 주석, 안티몬의 염화물이다. 더욱 바람직한 화합물은, 디부틸주석디클로마이드, 부틸주석트리클로마이드, 디옥틸주석디클로마이드, 옥틸주석트리클로마이드, 디부틸디클로로게르마늄, 부틸트리클로로게르마늄, 디페닐디클로로게르마늄, 페닐트리클로로게르마늄, 트리페닐안티몬디클로마이드이고, 가장 바람직한 화합물은, 디부틸주석디클로마이드이다. 중합조정제는 단독으로도 2종류 이상을 혼합하여 사용하여도 관계없다.
중합조정제의 첨가량은, 광학재료용 조성물의 총계 100질량%에 대하여, 0.0001~5.0질량%이고, 바람직하게는 0.0005~3.0질량%이고, 보다 바람직하게는 0.001~2.0질량%이다. 중합조정제의 첨가량이 0.0001질량%보다 적은 경우, 얻어지는 광학재료에 있어서 충분한 포트라이프를 확보할 수 없고, 중합조정제의 첨가량이 5.0질량%보다 많은 경우에는, 광학재료용 조성물이 충분히 경화되지 않아, 얻어지는 광학재료의 내열성이 저하되는 경우가 있다.
이렇게 하여 얻어진 광학재료용 조성물 또는 중합경화성 조성물은 몰드 등의 형에 주형하고, 중합시켜 광학재료로 한다.
본 발명의 조성물의 주형시에, 0.1~5μm 정도의 구멍직경의 필터 등으로 불순물을 여과하여 제거하는 것은, 본 발명의 광학재료의 품질을 높이는데 있어서도 바람직하다.
본 발명의 조성물의 중합은 통상, 이하와 같이 하여 행해진다. 즉, 경화시간은 통상 1~100시간이고, 경화온도는 통상 -10℃~140℃이다. 중합은 소정의 중합온도에서 소정시간 유지하는 공정, 0.1℃~100℃/h의 승온을 행하는 공정, 0.1℃~100℃/h의 강온을 행하는 공정에 의해, 또는 이들 공정을 조합하여 행한다.
또한, 경화종료 후, 얻어진 광학재료를 50~150℃의 온도에서 10분~5시간 정도 어닐처리를 행하는 것은, 본 발명의 광학재료의 변형을 없애기 위하여 바람직한 처리이다. 또 얻어진 광학재료에 대하여, 필요에 따라 염색, 하드코트, 내충격성코트, 반사방지, 방담성 부여 등의 표면처리를 행할 수도 있다.
본 발명의 광학재료는 광학렌즈로서 호적하게 이용할 수 있다. 본 발명의 조성물을 이용하여 제조되는 광학렌즈는, 안정성, 색상, 내광성, 투명성이 우수하므로, 망원경, 쌍안경, 텔레비전 프로젝터 등, 종래, 고가의 고굴절률 유리렌즈가 이용되고 있었던 분야에 이용할 수 있어, 매우 유용하다. 필요에 따라, 비구면렌즈의 형태로 이용하는 것이 바람직하다. 비구면렌즈는, 1매의 렌즈로 구면수차를 실질적으로 제로로 하는 것이 가능하므로, 복수의 구면렌즈의 조합에 의해 구면수차를 제거할 필요가 없어, 경량화 및 생산비용의 저감화가 가능해진다. 따라서, 비구면렌즈는, 광학렌즈 중에서도 특히 카메라렌즈로서 유용하다.
실시예
이하, 본 발명의 내용을, 실시예 및 비교예를 들어 설명하나, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다.
1. 보존안정성
질소분위기하 60℃에서 1주간 광학재료용 조성물 중 주성분인 에피설파이드 화합물의 순도변화를 GPC분석(쇼와덴코주식회사제 컬럼 GPC K-801을 사용하여 시마즈제작소 RID-10A로 검출하였다)으로 추적하고, 순도저하 5% 미만을 A, 5% 이상 10% 미만을 B, 10% 이상을 C로 하였다. A, B가 합격레벨이다.
2. 온도변화안정성
질소분위기하 -10℃에서 20시간 보관, 그 후 4시간에 걸쳐 30℃로 하고 30℃에서 20시간 보관, 그 후 4시간에 걸쳐 -10℃로 하는 조작을 10회 반복하였다. 그 후 에피설파이드 화합물 10g에 특급 아세톤(99.5% 이상, 칸토화학품) 40g을 첨가하여, 충분히 교반 후 10분 정치하고, 이 용액의 탁도를 도쿄덴쇼쿠제 T-2600DA를 이용하여 측정하였다. 탁도가 1.0ppm 미만을 A, 1.0ppm 이상 3.0ppm 미만을 B, 3.0ppm 이상 5.0ppm 미만을 C, 5.0ppm 이상을 D로 하였다. A, B, C가 합격레벨이다.
3. 내광성 평가(색조측정)
(1) 초기값의 측정
실시예에 기재된 방법으로 3.0mm두께의 평판을 제작하고, 컬러테크노시스템사제 색채계 JS-555를 이용하여, YI값을 측정하였다. 이 값을 p로 한다.
(2) 광에 의한 색조변화의 측정
초기값을 측정 후, 카본아크 연소광에 60시간 조사하고, 그 후 YI값을 측정하였다. 이 값을 q로 한다.
(q-p)/p의 값을 산출하고, 이 값 1.0 미만을 A, 1.0 이상 2.0 미만을 B, 2.0 이상을 C로 하였다. A, B가 합격레벨이다.
4. 변형
실시예에 기재된 방법으로 -4D의 렌즈를 제작하고, 렌즈미터(도시바제 변형검사기SVP-10-II)를 이용하여 변형을 평가하였다. 변형이 없는 것을 A, 변형이 있는 것을 B로 하였다. A가 합격레벨이다.
실시예 1
상기 식(2)로 표시되는 화합물로서 비스(β-에피티오프로필)설파이드(이하, 「화합물 a」) 100g, 톨루엔 200ml에 아세트산 150g을 첨가하고, 40℃에서 10시간 반응시켰다. 반응종료 후 물을 첨가하여 세정하고, 얻어진 유기층을 다시 3회 수세하고, 용매를 유거, 그 후 컬럼으로 정제하여, 상기 식(1)로 표시되는 화합물로서 하기 식으로 표시되는 화합물(이하, 「화합물 b」)을 12g 얻었다.
[화학식 3]
Figure 112017051344964-pct00003
1H-NMR(CDCl3):1.5ppm(1H), 2.0ppm(3H), 2.2ppm(2H), 2.5ppm(1H), 2.7-2.8ppm(4H), 3.4ppm(1H), 4.3ppm(2H)
13C-NMR(CDCl3):17ppm, 25ppm, 33ppm, 37ppm(2H), 44ppm, 74ppm, 171ppm
실시예 2
상기 식(2)로 표시되는 화합물로서 비스(β-에피티오프로필)디설파이드(이하, 「화합물 c」) 100g, 톨루엔 200ml에 아세트산 150을 첨가하고, 40℃에서 10시간 반응시켰다. 반응종료 후 물을 첨가하여 세정하고, 얻어진 유기층을 다시 3회 수세하고, 용매를 유거, 그 후 컬럼으로 정제하여, 상기 식(1)로 표시되는 화합물로서 하기 식으로 표시되는 화합물(이하, 「화합물 d」)을 10g 얻었다.
[화학식 4]
Figure 112017051344964-pct00004
1H-NMR(CDCl3):1.5ppm(1H), 2.0ppm(3H), 2.2ppm(2H), 2.5ppm(1H), 2.8-3.0ppm(4H), 3.4ppm(1H), 4.3ppm(2H)
13C-NMR(CDCl3):17ppm, 24ppm, 32ppm, 35ppm, 40ppm, 46ppm, 74ppm, 171ppm
실시예 3~9
화합물 a(식(2)의 화합물)에 화합물 b(식(1)의 화합물)를 표 1에 나타내는 양 첨가하고, 보존안정성, 온도변화안정성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
실시예 10~16
화합물 c(식(2)의 화합물)에 화합물 d(식(1)의 화합물)를 표 1에 나타내는 양 첨가하고, 보존안정성, 온도변화안정성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
비교예 1
화합물 a(식(2)의 화합물)만의 안정성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
비교예 2
화합물 c(식(2)의 화합물)만의 안정성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[표 1]
Figure 112017051344964-pct00005

표 1의 결과로부터, 식(2)로 표시되는 화합물(화합물 a 또는 c)에 식(1)로 표시되는 화합물(화합물 b 또는 d)을 첨가함으로써, 보존안정성이 우수한 것을 알 수 있다.
실시예 17~23
화합물 a(식(2)의 화합물)에 화합물 b(식(1)의 화합물)를 표 2에 나타내는 양을 혼합한 광학재료용 조성물 총량에 대하여, 자외선흡수제로서, 2-(2-하이드록시-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸 1.0질량%, 중합촉매로서 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드 0.05질량% 첨가 후, 20℃에서 잘 혼합하여 균일하게 하였다. 이어서 1.3kPa의 진공도로 탈기를 행하고, 2매의 유리판과 테이프로 구성되는 몰드(3.0mm두께의 평판용 및 -4D의 렌즈용)에 주입하여, 30℃에서 10시간 유지하고, 100℃까지 10시간에 걸쳐 일정속도로 승온시키고, 마지막으로 100℃에서 1시간 유지하고, 중합경화시켰다. 방랭 후, 몰드로부터 이형하고, 110℃에서 60분 어닐처리하여 성형판(3.0mm두께의 평판 및 -4D의 렌즈)을 얻었다. 평판에 대하여 내광성 평가(색조측정)을 행하고, -4D렌즈의 변형의 결과와 함께 표 2에 나타낸다.
비교예 3
화합물 a(식(2)의 화합물)에 자외선흡수제로서, 2-(2-하이드록시-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸 1.0질량%, 중합촉매로서 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드 0.05질량% 첨가 후, 20℃에서 잘 혼합하여 균일하게 하였다. 이어서 1.3kPa의 진공도로 탈기를 행하고, 2매의 유리판과 테이프로 구성되는 몰드(3.0mm두께의 평판용 및 -4D의 렌즈용)에 주입하여, 30℃에서 10시간 유지하고, 100℃까지 10시간에 걸쳐 일정속도로 승온시키고, 마지막으로 100℃에서 1시간 유지하고, 중합경화시켰다. 방랭 후, 몰드로부터 이형하고, 110℃에서 60분 어닐처리하여 성형판(3.0mm두께의 평판 및 -4D의 렌즈)을 얻었다. 평판에 대하여 내광성 평가(색조측정)을 행하고, -4D렌즈의 변형의 결과와 함께 표 2에 나타낸다.
실시예 24~30
화합물 c(식(2)의 화합물)에 화합물 d(식(1)의 화합물)를 표 2에 나타내는 양을 혼합한 광학재료용 조성물에 대하여, 자외선흡수제로서, 2-(2-하이드록시-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸 1.0질량%, 중합촉매로서 N,N-디메틸시클로헥실아민 0.5질량% 첨가 후, 20℃에서 잘 혼합하여 균일하게 하였다. 이어서 1.3kPa의 진공도로 탈기를 행하고, 2매의 유리판과 테이프로 구성되는 몰드(3.0mm두께의 평판용 및 -4D의 렌즈용)에 주입하여, 30℃에서 10시간 유지하고, 100℃까지 10시간에 걸쳐 일정속도로 승온시키고, 마지막으로 100℃에서 1시간 유지하고, 중합경화시켰다. 방랭 후, 몰드로부터 이형하고, 110℃에서 60분 어닐처리하여 성형판(3.0mm두께의 평판 및 -4D의 렌즈)을 얻었다. 평판에 대하여 내광성 평가(색조측정)을 행하고, -4D렌즈의 변형의 결과와 함께 표 2에 나타낸다.
비교예 4
화합물 c(식(2)의 화합물)에 자외선흡수제로서, 2-(2-하이드록시-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸 1.0질량%, 중합촉매로서 N,N-디메틸시클로헥실아민 0.5질량% 첨가 후, 20℃에서 잘 혼합하여 균일하게 하였다. 이어서 1.3kPa의 진공도로 탈기를 행하고, 2매의 유리판과 테이프로 구성되는 몰드(3.0mm두께의 평판용 및 -4D의 렌즈용)에 주입하여, 30℃에서 10시간 유지하고, 100℃까지 10시간에 걸쳐 일정속도로 승온시키고, 마지막으로 100℃에서 1시간 유지하고, 중합경화시켰다. 방랭 후, 몰드로부터 이형하고, 110℃에서 60분 어닐처리하여 성형판(3.0mm두께의 평판 및 -4D의 렌즈)을 얻었다. 평판에 대하여 내광성 평가(색조측정)을 행하고, -4D렌즈의 변형의 결과와 함께 표 2에 나타낸다.
[표 2]
Figure 112017051344964-pct00006

표 2의 결과로부터, 식(2)로 표시되는 화합물(화합물 a 또는 c)에 식(1)로 표시되는 화합물(화합물 b 또는 d)을 첨가함으로써, 내광성이 우수한 것을 알 수 있다.

Claims (10)

  1. 하기 식(1)로 표시되는 에피설파이드 화합물.
    Figure 112017113588716-pct00007

    (식 중, m은 0~4의 정수, n은 0~2의 정수를 나타낸다.)
  2. 제1항에 기재된 에피설파이드 화합물과 이 화합물 이외의 중합성 화합물을 포함하는 광학재료용 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 에피설파이드 화합물의 함유량이 0.001~5.0질량%인, 광학재료용 조성물.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 중합성 화합물을 95.0~99.999질량% 포함하는, 광학재료용 조성물.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 중합성 화합물로서 하기 식(2)로 표시되는 화합물을 포함하는, 광학재료용 조성물.
    Figure 112017113588716-pct00008

    (식 중, m은 0~4의 정수, n은 0~2의 정수를 나타낸다.)
  6. 제5항에 있어서,
    상기 식(2)로 표시되는 화합물을 40~99.999질량% 포함하는, 광학재료용 조성물.
  7. 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 광학재료용 조성물과, 이 광학재료용 조성물의 총량에 대하여 0.0001질량%~10질량%의 중합촉매를 포함하는 중합경화성 조성물.
  8. 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 광학재료용 조성물; 또는 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 광학재료용 조성물과, 이 광학재료용 조성물의 총량에 대하여 0.0001질량%~10질량%의 중합촉매를 포함하는 중합경화성 조성물을 경화한, 광학재료.
  9. 제8항에 기재된 광학재료를 포함하는 광학렌즈.
  10. 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 광학재료용 조성물의 총량에 대하여, 중합촉매를 0.0001질량%~10질량% 첨가하고, 중합경화하는 공정을 포함하는, 광학재료의 제조방법.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6935671B2 (ja) * 2016-03-10 2021-09-15 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用高純度１，２，３，５，６−ペンタチエパン、およびその精製方法
KR20200025517A (ko) * 2018-08-30 2020-03-10 주식회사 케이오씨솔루션 에피설파이드계 고굴절 광학재료용 안정제와 이를 이용한 광학재료용 조성물 및 광학재료의 제조방법
KR102372880B1 (ko) 2019-05-21 2022-03-08 주식회사 엘지화학 경화성 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 광학 부재
CN116143767B (zh) * 2022-12-13 2024-02-23 益丰新材料股份有限公司 一种环硫化合物、光学材料用组合物和光学材料及应用
CN116478108B (zh) * 2023-03-31 2023-10-13 益丰新材料股份有限公司 一种含硫杂环化合物及其光学材料组合物和应用

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3491660B2 (ja) 1995-08-16 2004-01-26 三菱瓦斯化学株式会社 新規な直鎖アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物
JP3465528B2 (ja) 1997-04-22 2003-11-10 三菱瓦斯化学株式会社 新規な光学材料用樹脂
JP4682391B2 (ja) 1999-03-16 2011-05-11 三菱瓦斯化学株式会社 エピスルフィド化合物の保存方法
JP3738817B2 (ja) 1999-04-23 2006-01-25 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用組成物
JP2001131257A (ja) 1999-11-09 2001-05-15 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 樹脂用組成物
JP3562579B2 (ja) 2000-10-13 2004-09-08 三菱瓦斯化学株式会社 光学材料用組成物
EP1378535B1 (en) 2001-04-06 2009-11-11 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polymerization regulators and compositions for resin
JP4126918B2 (ja) 2002-02-07 2008-07-30 三菱瓦斯化学株式会社 高屈折率光硬化性組成物およびその硬化物
US6872333B2 (en) * 2002-02-07 2005-03-29 Mitsubishi Gas Chemical Company, Ltd. Enic compounds, sulfur-containing polyenic compound, sulfur-containing polythiol compound, high refractive index photocurable composition and cured product thereof
JP4087740B2 (ja) 2002-05-10 2008-05-21 三井化学株式会社 重合性組成物の製造方法
JP4477393B2 (ja) 2004-03-26 2010-06-09 三井化学株式会社 エピスルフィド化合物の安定剤
KR101522755B1 (ko) * 2008-02-13 2015-05-26 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 수지용 조성물 및 그것을 포함하는 광학렌즈
KR100955912B1 (ko) 2008-02-14 2010-05-03 연세대학교 산학협력단 광고분자 조성물 및 이로부터 제조된 저수축성 광고분자필름
CN101630210B (zh) * 2009-08-17 2012-02-22 友达光电股份有限公司 触控式显示面板、用来形成密封胶的组成物以及密封胶
TWI574952B (zh) 2012-04-16 2017-03-21 Mitsubishi Gas Chemical Co Preparation of sulfur - containing epoxy compounds
TWI601720B (zh) * 2013-03-14 2017-10-11 三菱瓦斯化學股份有限公司 Novel episulfide and optical material compositions

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