KR101814329B1 - Exposure apparatus for LDI - Google Patents

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KR101814329B1
KR101814329B1 KR1020170021045A KR20170021045A KR101814329B1 KR 101814329 B1 KR101814329 B1 KR 101814329B1 KR 1020170021045 A KR1020170021045 A KR 1020170021045A KR 20170021045 A KR20170021045 A KR 20170021045A KR 101814329 B1 KR101814329 B1 KR 101814329B1
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윤석연
우철식
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윤석연
우철식
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Abstract

The present invention relates to an exposure apparatus for laser direct imaging (LDI). More specifically, the present invention relates to an exposure apparatus for LDI which is capable of greatly improving yield and productivity of a product by efficiently supporting a soft target sheet (substrate) during an exposure process in a maskless type exposure apparatus using LDI. The exposure apparatus for LDI of the present invention comprises: a stage including a plurality of guide pins; a moving module; an exposure module; a support module including a support roller; and a control module. Particularly, the exposure apparatus for LDI according to the present invention can prevent lifting or deformation of the target sheet by applying a roller type support structure such that a support position of a target sheet is also moved correspondingly to an irradiating position of light without applying a method of compressing and supporting a specific portion by using a clamp. Therefore, the exposure apparatus for LDI according to the present invention can improve reliability and competitiveness in a maskless type exposure technology field using LDI, a PCB circuit process field, a PSR process field and a flexible substrate manufacturing field using LDI, and fields similar or related thereto.

Description

ＬＤＩ용 노광 장치{Exposure apparatus for LDI}[0001] Exposure apparatus for LDI [0002]

본 발명은 LDI용 노광 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LDI(Laser Direct Imaging)를 이용한 마스크리스(Maskless) 방식의 노광 장치에 있어, 노광공정시 연성의 대상시트(기판)를 효율적으로 지지함으로써, 제품의 수율 및 생산성을 크게 향상시킬 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus for an LDI, and more particularly, to a maskless exposure apparatus using LDI (Laser Direct Imaging), in which an object sheet (substrate) , The product yield and productivity can be greatly improved.

특히, 본 발명은 클램프를 이용하여 특정 부분을 압착 지지하는 방식이 아니라, 빛이 조사되는 위치에 대응하여 대상시트의 지지위치도 이동될 수 있도록 롤러형태의 지지구조를 적용함으로써, 대상시트의 들뜸이나 변형 등을 방지하고 정확한 노광공정이 이루어질 수 있도록 한 LDI용 노광 장치에 관한 것이다.Particularly, the present invention is not a method of pressing and supporting a specific portion by using a clamp, but rather applying a supporting structure of a roller shape so that the supporting position of the target sheet can be shifted corresponding to a position where light is irradiated, And an exposure apparatus for an LDI, which can prevent an exposure of the LDI from being deformed and an accurate exposure process.

최근, 우리의 생활환경이 유비쿼터스(Ubiquitous) 시대로 진입하면서, 스마트폰 등의 모바일기기 및 각종 전자제품 등이 소량, 다품종화되고 있으며, 고기능화에 따른 고밀도의 회로를 제작하기 위하여, 초미세 회로 선폭을 구현할 수 있는 기술이 요구 되었다.In recent years, as our living environment has entered the ubiquitous era, mobile devices such as smart phones and various electronic products have been made into a small quantity and a variety of products. In order to manufacture a high-density circuit due to high functionality, A technology capable of realizing the above-mentioned technology is required.

이에, 인쇄회로기판(PCB)상에 초미세 선폭을 구현해 주기 위한 새로운 노광 방법들이 개발되었으며, LDI(Laser Direct Imaging)를 이용한 마스크리스(Maskless) 방식이 그 중 하나이다.Accordingly, new exposure methods have been developed to realize ultra-fine line widths on printed circuit boards (PCBs), and maskless methods using LDI (Laser Direct Imaging) have been developed.

LDI는 포토마스크(Photo mask)를 이용하지 않고 기판에 직접 노광하여 패턴을 형성하는 방식으로, PCB 인쇄 공정 및 PSR(Photo Solder Resist) 공정 등에서 활용되고 있으며, 빛을 이용하므로 초미세 선폭의 회로형성이 가능함은 물론, 노광패턴을 변경하는 것만으로 다양한 회로구현이 가능하므로, 제품의 다품종화가 가능하다는 장점이 있다.LDI is used in a PCB printing process and a photo solder resist (PSR) process by directly exposing a substrate to a pattern without using a photomask. Since LDI uses light, it forms a circuit of an ultra-fine line width It is possible to realize a variety of circuits by merely changing the exposure pattern, so that it is possible to make a variety of products possible.

결과적으로, LDI는 고분해능이 요구되는 패턴형성이 가능하고, 다품종 소량생산은 물론 대량생산 체제에도 유연하게 대응할 수 있는 기술이라고 할 수 있다.As a result, it is possible to form a pattern requiring high resolution, and it is a technology capable of flexibly coping with a mass production system as well as a small quantity production of a variety of products.

한편, LDI는 빛을 조사하는 노광공정을 통해 회로나 보호층(Solder resist layer)을 형성하는 기술이므로, 빛이 방출되는 원점으로부터 기판의 위치 및 기판과의 거리 등이 일정하게 유지되어야 정확한 패턴형성이 가능하다.Since the LDI is a technique for forming a circuit or a protective layer (solder resist layer) through an exposure process for irradiating light, the position of the substrate and the distance between the substrate and the substrate must be maintained constant from the origin This is possible.

하기의 선행기술문헌은 이와 관련된 것으로, 대한민국 등록특허공보 제10-1468664호 '인쇄회로기판용 노광장치의 기판흡착장치'(이하, '선행기술1'이라 한다)는 연성PCB를 진공흡착하여 지지하는 장치에 관한 것으로, 연성의 PCB가 휘어지거나 변형되지 않고 평면상에 안정적으로 지지될 수 있도록 하기 위한 것이다.The following prior art documents relate to this and Korean Patent Registration No. 10-1468664 'Substrate adsorption apparatus of an exposure apparatus for a printed circuit board' (hereinafter referred to as 'Prior Art 1') vacuum-adsorbs a flexible PCB to support And to allow a flexible PCB to be stably supported on a flat surface without being warped or deformed.

또한, 하기의 선행기술문헌인 대한민국 공개특허공보 제10-2016-0108792호 'LDI 노광장치의 스테이지 보정장치 및 이를 이용한 보정방법'(이하, '선행기술2'라 한다)은 기판(PCB)이 놓여지는 스테이지를 보정할 수 있도록 한 것으로, 기판이 놓여진 상태를 확인하여 스테이지의 위치 등을 보정하고 정확한 패턴이미지로 노광이 이루어질 수 있도록 하기 위한 것이다.The following prior arts Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2016-0108792 '' LDI exposure apparatus stage correction apparatus and correction method using the same '(hereinafter referred to as' Prior Art 2' So that the position of the stage can be corrected by confirming the state where the substrate is placed, and exposure can be performed with an accurate pattern image.

선행기술1 및 선행기술2와 같이 노광 기술에서 가장 중요한 것은, 빛이 방출되는 원점과 기판(PCB)간의 위치관계를 정확하게 유지하는 것이며, 이러한 조건이 유지되어야만 정확한 패턴을 형성할 수 있다.As in the prior art 1 and the prior art 2, the most important thing in the exposure technique is to accurately maintain the positional relationship between the origin of the light and the substrate (PCB). Only when these conditions are maintained, an accurate pattern can be formed.

한편, 노광장치의 헤드에서 방출된 빛을 이용하여 노광할 수 있는 영역에는 한계가 있으며, 이로 인해 상대적으로 넓은 면적의 기판에 노광하기 위해서는 노광장치의 헤드가 일정한 패턴으로 기판 위를 이동하거나 헤드를 기준으로 기판이 이동하면서 노광공정을 수행해야만 한다.On the other hand, there is a limit in an area that can be exposed using light emitted from the head of the exposure apparatus. Therefore, in order to expose a substrate having a relatively large area, the head of the exposure apparatus moves on the substrate in a predetermined pattern, The exposure process must be performed while moving the substrate by the reference.

다시 말해, 노광장치의 헤드나 기판이 이동과 정지를 반복하면서, 기판 상에 일정 패턴으로 노광공정을 수행하게 된다.In other words, the exposure process is performed in a predetermined pattern on the substrate while repeating movement and stop of the head or the substrate of the exposure apparatus.

이와 같이, 헤드나 기판이 이동과 정지를 반복하게 되면, 노광장치에 진동이 발생하게 되고, 이러한 진동은 빛이 방출되는 원점인 헤드와 기판 간의 상대적인 위치 및 거리를 변경시키게 되며, 이는 제품의 불량률을 증가시키는 요인이 되었다.As described above, when the head and the substrate are repeatedly moved and stopped, vibration occurs in the exposure apparatus. Such vibration changes the relative position and distance between the head and the substrate, which is the origin point at which light is emitted. .

지금까지의 노광장치들은 클램프 등을 이용하여 기판의 특정 부분을 압착 지지함으로써, 기계적 진동에 의한 상대위치가 변화되는 것을 방지하고자 하였다.Until now, exposure apparatuses have been used for clamping and supporting a specific portion of a substrate by using a clamp or the like so as to prevent a relative position due to mechanical vibration from being changed.

그러나, PCB 인쇄 공정 및 PSR공정을 거친 기판들은, 형성된 회로 등에 의해 그 표면이 고른 상태가 아니므로, 클램프를 이용하여 일측을 가압 지지할 경우, 기판의 다른 부분에 구부러짐이나 변형이 발생할 수 있으며, 이는 제품의 불량률을 증가시키는 요인이 되므로, 앞서 설명한 문제점을 해결하기에 충분한 해결책이라고 하기에는 부족함이 많았다.However, since the surfaces of the substrates subjected to the PCB printing process and the PSR process are not uniformly formed by the formed circuit or the like, when one side is pressed and supported using the clamp, bending or deformation may occur in other portions of the substrate, This is a factor that increases the defective rate of the product, and therefore, it is not enough to say that it is a sufficient solution to solve the problems described above.

대한민국 등록특허공보 제10-1468664호 '인쇄회로기판용 노광장치의 기판흡착장치'Korean Registered Patent No. 10-1468664 'Substrate adsorption apparatus of exposure apparatus for printed circuit board' 대한민국 공개특허공보 제10-2016-0108792호 'LDI 노광장치의 스테이지 보정장치 및 이를 이용한 보정방법'Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2016-0108792 'Stage correcting device of LDI exposure apparatus and correction method using the same'

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명은 LDI를 이용한 마스크리스 방식의 노광 장치에 있어서, 노광공정시 연성의 PCB기판(이하, '대상시트'라 함)을 효율적으로 지지함으로써, 제품의 수율 및 생산성을 크게 향상시킬 수 있는 LDI용 노광 장치를 제공하는데 목적이 있다.In order to solve the above problems, the present invention provides a maskless exposure apparatus using LDI, which efficiently supports a PCB substrate (hereinafter, referred to as a "target sheet") flexible during the exposure process, And an LDI exposure apparatus capable of greatly improving productivity.

특히, 본 발명은 클램프를 이용하여 특정 부분을 압착 지지하는 방식이 아니라, 빛이 조사되는 위치에 대응하여 대상시트의 지지위치도 이동될 수 있도록 롤러형태의 지지구조를 적용함으로써, 대상시트의 들뜸이나 구부러짐, 변형 등을 방지하고 정확한 노광공정이 이루어질 수 있도록 할 수 있는 LDI용 노광 장치를 제공하는데 목적이 있다.Particularly, the present invention is not a method of pressing and supporting a specific portion by using a clamp, but rather applying a supporting structure of a roller shape so that the supporting position of the target sheet can be shifted corresponding to a position where light is irradiated, And it is an object of the present invention to provide an exposure apparatus for LDI that can prevent bending, deformation, and the like, and allow an accurate exposure process to be performed.

한편, 선행기술2에서도 나타난 바와 같이, 연성의 기판인 대상시트에 노광공정을 수행하기 위해서는 스테이지에 놓여진 대상시트의 위치 및 각도, 회로패턴 등을 확인하고 이에 따라, 스테이지의 위치를 보정하거나 노광패턴을 보정하여 빛을 조사하게 된다.On the other hand, as shown in the prior art 2, in order to perform an exposure process on a target sheet which is a flexible substrate, it is necessary to check the position and angle of a target sheet placed on the stage, circuit patterns, So that the light is irradiated.

이때, 기본위치와 실제 놓여진 위치의 오차가 클 경우, 이를 보정하기 위한 연산량이 크게 증가하며, 특히 노광패턴의 보정에 필요한 시간이 크게 증가할 뿐만 아니라, 패턴을 보정하는 과정에서 오차가 발생할 수 있다.In this case, when the error between the basic position and the actual position is large, the amount of calculation for correcting the error greatly increases. In addition, not only the time required for correcting the exposure pattern is greatly increased, .

이에, 본 발명은 대상시트가 놓여지는 스테이지에 가이드핀을 구성하여, 대상시트가 일정한 위치에 놓여지도록 함으로써, 대상시트의 위치보정을 위한 연산량을 최소화하여 신속한 노광공정이 진행될 수 있도록 한 LDI용 노광 장치를 제공하는데 목적이 있다.Therefore, according to the present invention, a guide pin is formed on a stage on which a target sheet is placed so that the target sheet is placed at a predetermined position, thereby minimizing the amount of calculation for correcting the position of the target sheet, Device. ≪ / RTI >

상기와 같은 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에 따른 LDI용 노광 장치는, 대상시트가 놓여지는 스테이지; 상기 스테이지를 작업영역으로 로딩(Loading)하거나, 작업영역으로부터 언로딩(Unloading)하는 이동모듈; 설정된 패턴으로 상기 대상시트에 빛을 조사하여 노광작업을 수행하는 노광모듈; 상기 대상시트를 지지하는 지지모듈; 및 상기 대상시트가 놓여진 스테이지가 작업영역으로 로딩되면, 상기 지지모듈을 동작하여 로딩된 대상시트를 지지한 후, 상기 노광모듈을 동작하도록 제어하는 제어모듈;을 포함한다.In order to achieve the above object, an exposure apparatus for an LDI according to the present invention includes: a stage on which a target sheet is placed; A loading module loading or unloading the stage into and from a work area; An exposure module for irradiating the target sheet with light in a predetermined pattern to perform an exposure operation; A supporting module for supporting the target sheet; And a control module for operating the support module to support the loaded target sheet and then controlling the exposure module to operate when the stage on which the target sheet is placed is loaded into the work area.

또한, 상기 지지모듈은, 상기 노광모듈의 적어도 일측에 인접하여, 승하강이 가능하도록 구성될 수 있다.Further, the supporting module may be configured to be movable up and down adjacent to at least one side of the exposure module.

또한, 상기 지지모듈은, 상기 대상시트가 이동되면 상기 대상시트의 상부면을 지지하면서 자연회동되도록 구성된 지지롤러를 포함할 수 있다.The support module may include a support roller configured to naturally rotate while supporting the upper surface of the target sheet when the target sheet is moved.

또한, 상기 제어모듈은, 상기 스테이지가 작업영역으로 로딩되면 상기 지지롤러를 하강시키고, 상기 노광모듈에 의한 노광작업이 종료되면 상기 지지롤러를 상승시킬 수 있다.In addition, the control module may lower the support roller when the stage is loaded into the work area, and may raise the support roller when the exposure operation by the exposure module is completed.

또한, 상기 스테이지는, 상기 대상시트가 놓여지는 흡착영역; 및 상기 지지롤러가 하강하여 위치하는 비흡착영역;을 포함하여 구성될 수 있다.The stage may further include: an adsorption region in which the target sheet is placed; And a non-adsorbing region in which the support roller is positioned downward.

또한, 상기 비흡착영역은, 상기 노광모듈에 의한 노광작업에서 대상시트의 이동방향을 기준으로 상기 흡착영역에 비하여 전방에 형성될 수 있다.The non-adsorption area may be formed in front of the adsorption area with respect to the moving direction of the target sheet in the exposure operation by the exposure module.

또한, 상기 스테이지는, 상기 흡착영역과 비흡착영역의 경계를 따라, 돌출 및 삽입이 가능하도록 복수 개의 가이드핀이 구성될 수 있다.In addition, the stage may have a plurality of guide pins so that protrusion and insertion are possible along the boundary between the adsorption region and the non-adsorption region.

또한, 상기 제어모듈은, 상기 가이드핀이 돌출된 상태에서 대상시트가 상기 스테이지에 놓여지면, 상기 이동모듈을 제어하여 해당 스테이지를 로딩한 후, 상기 지지롤러를 하강하기 이전에 상기 가이드핀을 스테이지 내부로 삽입할 수 있다.When the target sheet is placed on the stage in a state where the guide pin is protruded, the control module controls the moving module to load the stage, and then, before lowering the support roller, It can be inserted inside.

또한, 상기 이동모듈은, 상기 대상시트를 로딩 및 언로딩하는 제1 동작모드; 및 상기 노광작업에서 상기 노광모듈의 동작에 대응하여 이동하는 제2 동작모드; 중 어느 하나로 동작되고, 상기 제어모듈은, 상기 가이드핀이 돌출된 상태에서 상기 스테이지의 흡착영역에 대상시트가 놓여지면, 상기 이동모듈을 제1 동작모드로 동작시켜 대상시트를 작업영역으로 로딩하고 상기 가이드핀을 삽입한 후, 상기 지지롤러를 하강시키고 상기 노광모듈의 동작에 연계하여 상기 이동모듈을 제2 동작모드로 동작시켜 노광작업을 수행할 수 있다.The moving module may further include: a first operation mode for loading and unloading the target sheet; And a second operation mode for moving in correspondence with the operation of the exposure module in the exposure operation; The control module operates the moving module in the first operation mode to load the target sheet into the work area when the target sheet is placed in the suction area of the stage in a state in which the guide pin is protruded After the guide pin is inserted, the supporting roller may be lowered and the moving module may be operated in the second operation mode in conjunction with the operation of the exposure module to perform the exposure operation.

또한, 상기 노광모듈은, 상기 대상시트를 복수 개로 분할된 단위작업영역별로 노광작업을 수행하도록 동작되고, 상기 이동모듈은, 상기 제2 동작모드에서 분할된 단위작업영역에 대응하여 순차적으로 이동되도록 동작되며, 상기 지지모듈은, 상기 노광모듈에 의해 노광작업이 수행되는 단위작업영역의 양측을 지지하도록, 상기 제2 동작모드에서 이동모듈의 이동방향에 대응하여 상기 노광모듈의 전방 및 후방에 각각 지지롤러가 구성될 수 있다.It is preferable that the exposure module is operated to perform exposure work for each of the unit work areas divided into a plurality of target sheets, and the movement module is configured to sequentially move the unit work areas in accordance with the unit work areas divided in the second operation mode Wherein the supporting module is provided with a supporting module for supporting both sides of a unit work area in which the exposure operation is performed by the exposure module and for supporting the both sides in front of and behind the exposure module in correspondence with the moving direction of the moving module in the second operation mode A support roller can be constituted.

상기와 같은 해결수단에 의해, 본 발명은 노광공정시 연성의 PCB기판인 대상시트를 지지롤러로 지지함으로써, 대상시트가 이동되더라도 노광부위를 안정적으로 지지할 수 있는 장점이 있다.According to the above-mentioned solution, the present invention is advantageous in that the exposed portion can be stably supported even when the target sheet is moved by supporting the target sheet, which is a flexible PCB, during the exposure process with the support roller.

이와 같이, 본 발명은 LDI를 이용한 마스크리스 방식의 노광 장치에 있어서, 노광공정이 진행되는 과정에서 대상시트를 효율적으로 지지함으로써, 제품의 수율 및 생산성을 크게 향상시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, in the maskless exposure apparatus using the LDI, the present invention can effectively improve the yield and productivity of the product by efficiently supporting the target sheet in the course of the exposure process.

특히, 본 발명은 클램프를 이용하여 특정 부분을 압착 지지하는 방식이 아니라, 앞서 설명한 바와 같이 빛이 조사되는 위치에 대응하여 대상시트의 지지위치도 이동될 수 있도록 롤러형태의 지지구조를 적용함으로써, 대상시트의 들뜸이나 구부러짐, 변형 등을 방지하고 정확한 노광공정이 이루어질 수 있도록 하는 장점이 있다.Particularly, the present invention applies a roller-like support structure so that the support position of the target sheet can be moved corresponding to the position where the light is irradiated, as described above, There is an advantage that the target sheet can be prevented from lifting, bending, deforming, etc., and an accurate exposure process can be performed.

또한, 본 발명은 스테이지에 돌출 및 삽입이 가능하도록 구성된 가이드핀을 이용하여 대상시트가 일정한 위치에 놓여지도록 함으로써, 노광공정이 보다 신속하고 정확하게 이루어질 수 있도록 하는 장점이 있다.In addition, the present invention has an advantage that the exposure process can be performed more quickly and accurately by allowing the target sheet to be positioned at a certain position by using the guide pin configured to protrude and insert into the stage.

특히, 본 발명은 노광 장치가 대상시트의 위치 및 회로패턴을 인식하고, 이에 따라 노광패턴을 보정하는 과정에서, 가이드핀을 이용하여 기본위치와 실제 놓여진 위치의 오차를 최소화하고, 이를 통해 대상시트의 위치보정을 위한 연산량을 최소화할 수 있는 장점이 있다.Particularly, the present invention minimizes the error between the basic position and the actual placement position by using the guide pin in the process of recognizing the position of the target sheet and the circuit pattern and correcting the exposure pattern accordingly, It is possible to minimize the amount of calculation for correcting the position of the light source.

이에, 본 발명은 연상량을 최소화함에 따라 오차발생확률을 크게 감소시키고, 보다 신속한 노광공정이 진행될 수 있도록 하여, 제품의 수율 및 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Thus, according to the present invention, the probability of occurrence of error is greatly reduced and the exposure process can be performed more rapidly as the mnemonic amount is minimized, thereby improving the product yield and productivity.

따라서, LDI를 이용한 마스크리스 방식의 노광기술분야 및 이를 이용한 PCB 회로 공정 분야, PSR 공정 분야, 플랙시블 기판 제조 분야는 물론, 이와 유사 내지 연관된 분야에서 신뢰성 및 경쟁력을 향상시킬 수 있다.Accordingly, it is possible to improve the reliability and competitiveness in the maskless exposure technique using the LDI, the PCB circuit process using the same, the PSR process field, the flexible substrate manufacturing field, and similar or related fields.

도 1은 본 발명에 의한 LDI용 노광 장치의 일 실시예를 나타내는 구성도이다.
도 2는 도 1을 이용한 노광공정의 일 실시예를 나타내는 흐름도이다.
도 3은 도 1의 구체적인 일 실시예를 나타내는 구성도이다.
도 4는 도 3을 이용한 노광공정의 일 실시예를 나타내는 흐름도이다.
도 5 내지 도 9는 도 3을 이용하여 도 4의 각 과정을 설명하는 도면이다.1 is a configuration diagram showing an embodiment of an exposure apparatus for LDI according to the present invention.
Fig. 2 is a flowchart showing an embodiment of an exposure process using Fig. 1. Fig.
3 is a configuration diagram showing a specific embodiment of FIG.
4 is a flowchart showing an embodiment of an exposure process using FIG.
FIGS. 5 to 9 are views for explaining each process of FIG. 4 using FIG. 3. FIG.

본 발명에 따른 LDI용 노광 장치에 대한 예는 다양하게 적용할 수 있으며, 이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 가장 바람직한 실시 예에 대해 설명하기로 한다.Exemplary embodiments of an LDI exposure apparatus according to the present invention can be variously applied, and the most preferred embodiments will be described below with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 의한 LDI용 노광 장치의 일 실시예를 나타내는 구성도이다.1 is a configuration diagram showing an embodiment of an exposure apparatus for LDI according to the present invention.

도 1을 참조하면, LDI용 노광장치(A)는 스테이지(100), 이동모듈(200), 노광모듈(300), 지지모듈(400) 및 제어모듈(500)을 포함한다.1, an LDI exposure apparatus A includes a stage 100, a moving module 200, an exposure module 300, a supporting module 400, and a control module 500.

스테이지(100)는 연성의 PCB 기판을 포함하는 대상시트(s)가 놓여지는 것으로, 진공흡착방식에 의해 대상시트(s)의 놓여진 위치가 유지되도록 할 수 있다.The stage 100 is provided with a target sheet s including a flexible PCB substrate so that the position of the target sheet s can be maintained by a vacuum adsorption method.

이동모듈(200)은 스테이지(100)를 노광공정이 이루어지는 작업영역으로 로딩(Loading)하거나 작업영역으로부터 언로딩(Unloading)하는 것으로, 레일형태로 구성되어 스테이지(100)를 왕복이동시키거나, 로봇암을 이용하여 스테이지(100)를 운반하는 형태로 적용이 가능하다.The transfer module 200 is configured in a form of a rail for loading or unloading the stage 100 into a work area where an exposure process is performed or unloading the work 100 from a work area to reciprocate the stage 100, The present invention can be applied to a case where the stage 100 is carried using an arm.

노광모듈(300)은 작업영역에 구성되어 설정된 패턴으로 대상시트(s)에 빛을 조사하여 노광작업을 수행하는 것으로, 빛을 방출하는 헤드(도시하지 않음)와 스테이지(100)의 상부에서 일정하게 이동할 수 있는 이동부(도시하지 않음)를 포함할 수 있다.The exposure module 300 irradiates light on the target sheet s in a pattern set in the work area to perform an exposure operation. The exposure module 300 includes a head (not shown) (Not shown) that can be moved to a desired position.

지지모듈(400)은 대상시트(s)를 지지하는 것으로, 평상시 상부에 위치한 상태에서 스테이지(100)가 작업영역으로 로딩되면 하강하여 대상시트(s)의 상부를 지지하게 된다.The support module 400 supports the target sheet s, and when the stage 100 is loaded into the work area in a state where the stage 100 is normally positioned, the support module 400 descends to support the upper portion of the target sheet s.

제어모듈(500)은 이동모듈(200), 노광모듈(300) 및 지지모듈(400)의 동작을 제어하며, 노광공정을 수행할 수 있다.The control module 500 controls operations of the movement module 200, the exposure module 300, and the support module 400, and can perform the exposure process.

이하에서, 제어모듈(500)이 각 구성을 제어하여 대상시트(s)에 대한 노광공정을 수행하는 과정에 대해 살펴보기로 한다.Hereinafter, a process of the control module 500 controlling each configuration to perform the exposure process for the target sheet s will be described.

도 2는 도 1을 이용한 노광공정의 일 실시예를 나타내는 흐름도이다.Fig. 2 is a flowchart showing an embodiment of an exposure process using Fig. 1. Fig.

도 2를 참조하면, 제어모듈(500)은 로딩단계(S100), 노광단계(S200) 및 언로딩단계(S300)를 통해, 대상시트(s)에 대한 노광공정을 수행할 수 있다.2, the control module 500 may perform an exposure process for the target sheet s through a loading step S100, an exposure step S200, and an unloading step S300.

로딩단계(S100)에서, 작업자에 의해 또는 로봇암 등의 자동화기기에 의해 스테이지(100)의 상부에 대상시트(s)가 놓여지게 되면(S110), 제어모듈(500)은 이동모듈(200)을 제어하여 대상시트(s)가 놓여진 스테이지(100)를 작업영역으로 이동시킬 수 있다(S120). 이때, 이동모듈(200)은 한번의 동작으로 대상시트(s)를 작업영역까지 이동시킬 수 있는 제1 이동모드로 동작될 수 있다.When the target sheet s is placed on the stage 100 by an operator or by an automated apparatus such as a robot arm in a loading step S100 at S110, the control module 500 controls the moving module 200, So that the stage 100 on which the target sheet s is placed can be moved to the work area (S120). At this time, the moving module 200 can be operated in the first moving mode in which the target sheet s can be moved to the working area by a single operation.

노광단계(S200)에서, 제어모듈(500)은 지지모듈(400)이 하강하도록 동작하여 작업영역으로 로딩된 대상시트(s)를 지지한 후(S210), 노광모듈(300)을 동작하여 대상시트(s)에 대한 노광작업을 수행할 수 있다(S220). 이때, 이동모듈(200)은 노광모듈(300)의 동작에 대응하여 스테이지(100)를 일정간격으로 이동시킬 수 있는 제2 이동모드로 동작될 수 있다.In the exposure step S200, the control module 500 operates to lower the support module 400 to support the target sheet s loaded into the work area (S210). Then, the control module 500 operates the exposure module 300, An exposure operation for the sheet s may be performed (S220). At this time, the moving module 200 can be operated in the second moving mode in which the stage 100 can be moved at regular intervals in accordance with the operation of the exposure module 300.

언로딩단계(S300)에서, 제어모듈(500)은 대상시트(s)를 지지하던 지지모듈(400)을 원래의 위치까지 이동(상승)시킨 후(S310), 노광작업이 완료된 대상시트(s)를 언로딩할 수 있다(S320). 이때, 이동모듈(200)은 한번의 동작으로 대상시트(s)를 언로딩할 수 있도록 제1 이동모드로 동작될 수 있다.In the unloading step S300, the control module 500 moves the support module 400 supporting the target sheet s to the original position (S310), and then the target sheet s (S320). At this time, the moving module 200 can be operated in the first moving mode so as to unload the target sheet s in a single operation.

이하에서, 도 1에 나타난 LDI용 노광 장치(A)의 구체적인 실시예를 참조하여 제어모듈(500)이 각 구성들을 제어하는 과정을 보다 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, a process of controlling each configuration of the control module 500 will be described in more detail with reference to a specific embodiment of the LDI exposure apparatus A shown in FIG.

도 3은 도 1의 구체적인 일 실시예를 나타내는 구성도이다.3 is a configuration diagram showing a specific embodiment of FIG.

도 3을 참조하면, 스테이지(100)의 상부에는 복수 개의 흡입홀(101)이 형성될 수 있으며, 진공펌프(102)에 의해 흡입홀(101)에 음압이 형성될 수 있다. 이에, 대상시트(s)가 스테이지(100)의 상부에 놓여지면, 흡입홀(101)에 의해 형성된 음압에 의해 대상시트(s)가 스테이지(100)의 상부에 밀착되면서 안정적으로 지지될 수 있다.3, a plurality of suction holes 101 may be formed in the upper part of the stage 100, and negative pressure may be formed in the suction holes 101 by the vacuum pump 102. [ Thus, when the target sheet s is placed on the stage 100, the target sheet s can be stably supported on the top of the stage 100 by the negative pressure formed by the suction holes 101 .

한편, 스테이지(100)의 상부는 도 7에 나타난 바와 같이 흡착영역(R1)과 비흡착영역(R2)으로 구분될 수 있다.On the other hand, the upper portion of the stage 100 can be divided into an adsorption region R1 and a non-adsorption region R2 as shown in FIG.

흡착영역(R1)은 대상시트(s)가 놓여지는 영역으로, 앞서 설명한 바와 같이 복수 개의 흡입홀(101)이 형성될 수 있다.The suction region R1 is an area on which the target sheet s is placed, and a plurality of suction holes 101 may be formed as described above.

비흡착영역(R2)은 하기에 설명될 지지롤러(410) 중 하나(도 3에서는 좌측의 지지롤러)가 하강하여 위치하는 영역으로, 노광모듈(300)에 의해 노광작업이 이루어는 과정에서 대상시트(s)의 이동방향(도 3에서는 좌측이고, 도 7에서는 상부)을 기준으로 흡착영역(R1)에 비하여 전방(도 3에서는 좌측이고, 도 7에서는 상부)에 형성될 수 있다.The non-adsorbing region R2 is a region where one of the support rollers 410 (the support roller on the left side in FIG. 3) is located to be described below. When the exposure module 300 performs an exposure operation, (Left side in Fig. 3, upper side in Fig. 7) relative to the adsorption region R1 on the basis of the moving direction of the sheet s (left side in Fig. 3, upper side in Fig. 7).

다시 말해, 비흡착영역(R2)에 지지롤러(410)가 하강된 상태에서, 노광모듈(300)에 의해 노광작업이 이루어지면서 대상시트(s)가 이동되면, 대상시트(s)의 일측(전방)부분이 하강된 지지롤러(410)에 의해 지지될 수 있다.In other words, when the target sheet s is moved while the supporting roller 410 is lowered in the non-adsorbing region R2 and the exposure module 300 performs the exposure operation, one side of the target sheet s Can be supported by the lowered support roller 410.

그리고, 스테이지(100)에는 흡착영역(R1)과 비흡착영역(R2)의 경계를 따라, 돌출 및 삽입이 가능하도록 복수 개의 가이드핀(110)이 구성될 수 있으며, 이러한 가이드핀(110)에 의해 대상시트(s)가 일정한 위치에 놓여질 수 있다.A plurality of guide pins 110 may be formed on the stage 100 so as to protrude and insert along the boundary between the adsorption region R1 and the non-adsorption region R2. The subject sheet s can be placed at a certain position.

이때, 가이드핀(110)은 실린더(111)에 의해 스테이지(100)의 상부로 돌출되거나, 스테이지(100)의 내부로 삽입될 수 있다. 여기서, 실린더(111)는 공압실린더 및 유압실린더를 포함할 수 있으나, 응답속도가 빠른 공압실린더를 이용함이 바람직하다.At this time, the guide pin 110 may protrude upward from the stage 100 by the cylinder 111 or may be inserted into the stage 100. Here, the cylinder 111 may include a pneumatic cylinder and a hydraulic cylinder, but it is preferable to use a pneumatic cylinder with a high response speed.

이동모듈(200)은 스테이지(100)가 로딩 및 언로딩 되는 방향을 따라 구성된 종축레일(210)과, 스테이지(100)가 결합되며 종축레일(210)을 따라 이동하는 종축이동부(220)를 포함할 수 있다.The moving module 200 includes a vertical rail 210 configured along the direction in which the stage 100 is loaded and unloaded and a vertical axis 220 coupled with the stage 100 and moving along the vertical rail 210 .

노광모듈(300)은 스테이지(100)가 이동하는 방향과 수직인 방향으로 구성된 횡축이동부(310)를 포함하며, 대상시트(s)의 상부에서 횡축으로 왕복이동하면서 노광작업을 수행할 수 있다.The exposure module 300 includes a transverse movement portion 310 configured in a direction perpendicular to the direction in which the stage 100 is moved and can perform an exposure operation while reciprocally moving from an upper portion of the target sheet s to a transverse axis .

지지모듈(400)은 노광모듈(300)의 적어도 일측, 도 3에서는 양측에 인접하여 승하강이 가능하도록 구성된 지지롤러(410)를 포함할 수 있다.The supporting module 400 may include at least one side of the exposure module 300, that is, a supporting roller 410 configured to be vertically movable adjacent to both sides in FIG.

회동가능하도록 구성된 지지롤러(410)를 이용하여 대상시트(s)를 지지하게 되면, 노광작업이 수행되는 과정에서 대상시트(s)가 이동하는 경우, 지지롤러(410)가 대상시트(s)의 상부면을 지지한 상태에서 자연적으로 회동(자연회동)되면서 지속적으로 대상시트(s)를 지지할 수 있다.When the target sheet s is moved in the process of performing the exposure operation by supporting the target sheet s by using the support roller 410 configured to be rotatable, (Naturally rotating) while naturally supporting the upper surface of the object sheet s.

특히, 지지롤러(410)를 이용하게 되면, 노광모듈(300)로부터 일정한 거리를 지속적으로 지지하게 되므로, 정확한 패턴의 노광작업이 이루어질 수 있음은 물론, 노광작업시 대상시트(s)의 들뜸, 구부러짐, 변형 등의 발생을 방지하고 안정적으로 지지할 수 있다.Particularly, when the support roller 410 is used, a certain distance from the exposure module 300 is continuously supported. Accordingly, an accurate pattern exposure can be performed. In addition, It is possible to prevent occurrence of bending, deformation, and the like and to stably support it.

도 3에서, 미설명부호 '112'는 공압펌프이다.In Fig. 3, reference numeral 112 is a pneumatic pump.

도 4는 도 3을 이용한 노광공정의 일 실시예를 나타내는 흐름도이고, 도 5 내지 도 9는 도 3을 이용하여 도 4의 각 과정을 설명하는 도면이다.FIG. 4 is a flowchart showing an embodiment of an exposure process using FIG. 3, and FIGS. 5 to 9 are views for explaining each process of FIG. 4 using FIG.

이하에서, 도 5 내지 도 9를 참조하여 도 4를 설명하기로 한다.Hereinafter, Fig. 4 will be described with reference to Figs. 5 to 9. Fig.

먼저, 도 5의 상부와 같이 스테이지(100)의 상부로 가이드핀(110)이 돌출된 상태에서(S101), 가이드핀(110)에 가장자리가 지지되도록 대상시트(s)를 안착시킨다(S110).5, the guide pin 110 is protruded to the upper part of the stage 100 in step S101, and the target sheet s is placed on the guide pin 110 to support the edge thereof in step S110. .

이와 같이 스테이지(100)의 상부면에 놓여진 대상시트(s)는, 진공펌프(102)에 의해 흡입홀(101)에 형성된 음압으로 인해, 해당 위치가 안정적으로 유지될 수 있다.The position of the target sheet s placed on the upper surface of the stage 100 can be stably maintained by the negative pressure formed in the suction hole 101 by the vacuum pump 102. [

이후, 제어모듈(500)은 이동모듈(200)이 제1 동작모드로 동작되도록 제어하여, 도 5의 하부와 같이 대상시트(s)가 놓여진 스테이지(100)를 노광모듈(300)이 배치된 작업영역까지 이동시킬 수 있다(S120).The control module 500 controls the movement module 200 to operate in the first operation mode so that the stage 100 on which the target sheet s is placed is moved to the position where the exposure module 300 is disposed The work area can be moved (S120).

제어모듈(500)은 대상시트(s)가 놓여진 스테이지(100)가 작업영역으로 로딩되면, 도 6의 상부에 나타난 바와 같이 돌출된 가이드핀(110)을 스테이지(100)의 내부로 삽입시키고(S201), 도 6의 하부에 나타난 바와 같이 지지모듈(400)을 제어하여 지지롤러(410)를 하강시킬 수 있다(S210).The control module 500 inserts the protruded guide pin 110 into the interior of the stage 100 as shown in the upper part of Fig. 6 (Fig. 6) when the stage 100 on which the target sheet s is placed is loaded into the work area S201), the support roller 400 may be lowered by controlling the support module 400 as shown in the lower part of FIG. 6 (S210).

이때, 지지모듈(400)의 지지롤러(410) 중 어느 하나(도 6에서 좌측)는, 도 7에 나타난 비흡착영역(R2) 중 흡착영역(R1)의 상부에 해당하는 부분으로 하강하게 된다.At this time, any one of the supporting rollers 410 (left side in Fig. 6) of the supporting module 400 descends to a portion corresponding to the upper portion of the adsorption region R1 in the non-adsorption region R2 shown in Fig. 7 .

이후, 제어모듈(500)은 노광모듈(300) 및 이동모듈(200)을 제어하여 노광작업을 수행하게 된다(S220).Then, the control module 500 controls the exposure module 300 and the movement module 200 to perform an exposure operation (S220).

한편, 앞서 설명한 바와 같이 노광모듈(300)의 헤드에서 방출된 빛을 이용하여 노광작업을 할 수 있는 노광영역(R3)은 대상시트(s)의 전체 면적에 비해 상대적으로 매우 좁을 수 밖에 없다.On the other hand, as described above, the exposure area R3, which can perform the exposure work using the light emitted from the head of the exposure module 300, is relatively narrow compared to the entire area of the target sheet (s).

이에, 노광모듈(300)은 대상시트(s)를 복수 개로 분할된 단위작업영역(Δw)별로 노광작업을 수행할 수 있다. 보다 구체적으로, 노광모듈(300)은 도 3에 나타난 횡축이동부(310)에 의해 도 7의 상부에 나타난 바와 같이 폭방향(도 7에서 좌우방향)으로 이동하면서 노광작업을 수행할 수 있다.Thus, the exposure module 300 can perform exposure work for each unit work area? W divided into a plurality of target sheets (s). More specifically, the exposure module 300 can perform the exposure operation while moving in the width direction (the left-right direction in FIG. 7) as indicated by the upper portion of FIG. 7 by the transverse axial movement portion 310 shown in FIG.

어느 하나의 단위작업영역(Δw)에 대한 노광작업이 완료되면, 도 7의 중앙에 나타난 바와 같이 이동모듈(200)은 제2 동작모드에 의해 해당 단위작업영역(Δw)의 폭만큼 이동하게 되며, 이때 노광모듈(300)은 원래의 위치(도 7에서 좌측)으로 이동하게 된다.When the exposure operation for any one unit work area? W is completed, as shown in the center of FIG. 7, the movement module 200 moves by the width of the unit work area? W by the second operation mode , The exposure module 300 moves to the original position (left side in FIG. 7).

이후, 도 7의 하부에 나타난 바와 같이 다음 순서의 단위작업영역(Δw)에 대한 노광작업을 수행할 수 있다.Thereafter, as shown in the lower part of Fig. 7, the exposure operation for the next unit work area [Delta] w can be performed.

그리고, 이와 같이 연속적으로 노광작업이 이루어지는 과정에서, 지지모듈(400)의 지지롤러(410)는 노광작업이 이루어지는 단위작업영역(Δw)의 전방 및 후방(도 7에서 상부 및 하부)을 지지함으로써, 해당 단위작업영역(Δw)에 대한 노광작업이 정확하게 이루어질 수 있도록 할 수 있다.The support roller 410 of the support module 400 supports the front and rear portions (upper and lower portions in FIG. 7) of the unit work area? W in which the exposure operation is performed , It is possible to accurately perform the exposure work on the unit work area [Delta] w.

상기와 같은 과정에 의해 노광작업이 완료되면, 제어모듈(500)은 도 8의 상부에 나타난 바와 같이, 지지모듈(400)의 지지롤러(410)를 상승시키고(S310), 도 8의 하부에 나타난 바와 같이 이동모듈(200)을 제1 동작모드로 동작시켜 작업영역으로부터 언로딩할 수 있다(S320).8, the control module 500 raises the support roller 410 of the support module 400 (S310) and moves the support roller 410 to the lower part of FIG. 8 As shown, the mobile module 200 can be operated in the first operation mode and unloaded from the work area (S320).

이후, 도 9의 상부에 나타난 바와 같이 스테이지(100)로부터 대사시트(s)가 회수되면(S330), 제어모듈(500)은 스테이지(100)의 내부로 삽입되어 있던 가이드핀(110)을 다시 돌출(S340)시켜 다음 대상시트(s)가 놓여지는 것을 가이드하도록 할 수 있다.9, when the metabolic sheet s is recovered from the stage 100 at step S330, the control module 500 controls the guide pins 110 inserted into the stage 100 again (S340) so as to guide the next target sheet (s) to be laid.

지금까지의 설명에서, 제어모듈(500)이 스테이지(100)의 상부에 대상시트(s)가 놓여지고 회수되는 것을 확인하는 방법에 대해서는 당업자의 요구에 따라 다양하게 적용될 수 있으므로, 구체적으로 한정하지 않지 않았다. 예를 들어, 스테이지(100)의 흡입홀(101) 측에 발생되는 압력부하를 측정하는 센서를 구성하고, 해당 센서에 의해 측정된 압력변화를 통해, 대상시트(s)의 안착여부를 확인할 수 있다. 다른 예로, 작업자에 의해 대상시트(s)가 놓여지고 회수 될 경우, 작업자에 의해 조작되는 버튼의 입력신호를 통해 대상시트(s)의 안착여부를 확인할 수 있다.The method of confirming that the control module 500 places the object sheet s on the upper part of the stage 100 and collects the object sheet s on the upper part of the stage 100 can be variously applied according to the needs of those skilled in the art, I did not. For example, a sensor for measuring the pressure load generated on the suction hole 101 side of the stage 100 can be configured, and it is possible to confirm whether or not the target sheet s is seated through the pressure change measured by the sensor have. As another example, when the subject sheet s is laid and recovered by the operator, it can be confirmed whether or not the target sheet s is seated through the input signal of the button operated by the operator.

이상에서 본 발명에 의한 LDI용 노광 장치에 대하여 설명하였다. 이러한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.The LDI exposure apparatus according to the present invention has been described above. It will be understood by those skilled in the art that the technical features of the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다.It is to be understood, therefore, that the embodiments described above are in all respects illustrative and not restrictive.

A : LDI용 노광 장치
R1 : 흡착영역 R2 : 비흡착영역
100 : 스테이지
101 : 흡입홀 110 : 가이드핀
200 : 이동모듈 300 : 노광모듈
400 : 지지모듈 500 : 제어모듈A: Exposure device for LDI
R1: absorption region R2: non-absorption region
100: stage
101: suction hole 110: guide pin
200: Moving module 300: Exposure module
400: support module 500: control module

Claims (10)

대상시트가 놓여지며 삽입 가능하도록 돌출되어 구성된 복수 개의 가이드핀을 포함하는 스테이지;
상기 스테이지를 작업영역으로 로딩(Loading)하거나, 작업영역으로부터 언로딩(Unloading)하는 이동모듈;
설정된 패턴으로 상기 대상시트에 빛을 조사하여 노광작업을 수행하는 노광모듈;
상기 대상시트를 지지하면서 자연회동되도록 구성된 지지롤러를 포함하는 지지모듈; 및
상기 가이드핀이 돌출된 상태에서 대상시트가 상기 스테이지에 놓여지면, 상기 이동모듈을 제어하여 상기 스테이지가 상기 작업영역으로 로딩되도록 하고, 상기 가이드핀을 삽입시키고, 상기 가이드핀이 삽입되는 동작에 연동하여 상기 지지롤러를 하강시키며, 상기 지지롤러가 상기 대상시트를 완전히 지지하면, 상기 노광모듈을 동작하도록 제어하고, 상기 노광모듈에 의한 노광작업이 종료되면 상기 지지롤러를 상승시키는 제어모듈;을 포함하는 LDI용 노광 장치.
A stage including a plurality of guide pins which are formed by being projected so as to be insertable, in which a target sheet is placed;
A loading module loading or unloading the stage into and from a work area;
An exposure module for irradiating the target sheet with light in a predetermined pattern to perform an exposure operation;
A supporting module including a supporting roller configured to naturally rotate while supporting the target sheet; And
Wherein when the target sheet is placed on the stage in a state where the guide pin is protruded, the stage is controlled to be loaded into the work area by inserting the guide pin, And a control module controlling the operation of the exposure module when the support roller fully supports the target sheet and raising the support roller when the exposure operation by the exposure module is completed And the LDI exposure apparatus.
제 1항에 있어서,
상기 지지모듈은,
상기 노광모듈의 적어도 일측에 인접하여, 승하강이 가능하도록 구성된 것을 특징으로 하는 LDI용 노광 장치.
The method according to claim 1,
The support module includes:
Wherein the exposure module is configured to be able to move up and down by being adjacent to at least one side of the exposure module.
삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 스테이지는,
상기 대상시트가 놓여지는 흡착영역; 및
상기 지지롤러가 하강하여 위치하는 비흡착영역;을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 LDI용 노광 장치.
The method according to claim 1,
The stage includes:
An adsorption region in which the target sheet is placed; And
And a non-adsorbing region in which the support roller is located at a lowered position.
제 5항에 있어서,
상기 비흡착영역은,
상기 노광모듈에 의한 노광작업에서 대상시트의 이동방향을 기준으로 상기 흡착영역에 비하여 전방에 형성된 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 LDI용 노광 장치.
6. The method of claim 5,
The non-
Wherein the exposure unit is formed in front of the adsorption region with respect to the moving direction of the target sheet in an exposure operation by the exposure module.
제 5항에 있어서,
상기 복수 개의 가이드핀은,
상기 흡착영역과 비흡착영역의 경계를 따라 배치되어 상기 대상시트의 가장자리를 지지함으로써 상기 대상시트의 유동을 방지하는 것을 특징으로 하는 LDI용 노광 장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the plurality of guide pins
Wherein the liquid ejection head is disposed along a boundary between the adsorption area and the non-adsorption area to support the edge of the target sheet to prevent the flow of the target sheet.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 이동모듈은,
상기 대상시트를 로딩 및 언로딩하는 제1 동작모드; 및
상기 노광작업에서 상기 노광모듈의 동작에 대응하여 이동하는 제2 동작모드; 중 어느 하나로 동작되고,
상기 제어모듈은,
상기 가이드핀이 돌출된 상태에서 상기 스테이지의 흡착영역에 대상시트가 놓여지면, 상기 이동모듈을 제1 동작모드로 동작시켜 대상시트를 작업영역으로 로딩하고 상기 가이드핀을 삽입한 후, 상기 지지롤러를 하강시키고 상기 노광모듈의 동작에 연계하여 상기 이동모듈을 제2 동작모드로 동작시켜 노광작업을 수행하는 것을 특징으로 하는 LDI용 노광 장치.
The method according to claim 1,
The mobile module comprises:
A first operation mode for loading and unloading the target sheet; And
A second operation mode in which the exposure module moves in response to the operation of the exposure module in the exposure operation; Lt; / RTI >
The control module includes:
When the target sheet is placed in the suction region of the stage in a state where the guide pin is protruded, the target module is operated in the first operation mode to load the target sheet into the work area, and after inserting the guide pin, And moves the movable module in a second operation mode in conjunction with the operation of the exposure module to perform an exposure operation.
제 9항에 있어서,
상기 노광모듈은,
상기 대상시트를 복수 개로 분할된 단위작업영역별로 노광작업을 수행하도록 동작되고,
상기 이동모듈은,
상기 제2 동작모드에서 분할된 단위작업영역에 대응하여 순차적으로 이동되도록 동작되며,
상기 지지모듈은,
상기 노광모듈에 의해 노광작업이 수행되는 단위작업영역의 양측을 지지하도록, 상기 제2 동작모드에서 이동모듈의 이동방향에 대응하여 상기 노광모듈의 전방 및 후방에 각각 지지롤러가 구성된 것을 특징으로 하는 LDI용 노광 장치.10. The method of claim 9,
In the exposure module,
Wherein the exposure unit is operated to perform exposure work for each unit work area divided into a plurality of target sheets,
The mobile module comprises:
And sequentially move in correspondence with the divided unit work areas in the second operation mode,
The support module includes:
And a supporting roller is provided in front of and behind the exposure module in correspondence with the moving direction of the moving module in the second operation mode so as to support both sides of the unit work area where the exposure operation is performed by the exposure module Exposure device for LDI.
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