KR101812962B1 - 광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치 - Google Patents

광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 제1 면과, 제1 면의 반대측의 제2 면을 갖는 투명 기재층과, 적어도 상기 투명 기재층의 제1 면에 적층된 요철층을 갖고, 상기 요철층의 요철은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있으며, 헤이즈값이 1.5% 이하인 광학용 시트 및 상기 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 터치면의 밝기가 양호한 등의 우수한 광학적 성능을 가지면서, 블로킹이 발생하기 어려운 광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치를 제공할 수 있다.

Description

광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치{OPTICAL SHEET, CONDUCTIVE SHEET, AND DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH SAID OPTICAL SHEET}
본 발명은 광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치에 관한 것이다. 본 발명은 2013년 11월 29일에 일본에 출원된 특허출원 2013-247619호 및 2014년 4월 14일에 일본에 출원된 특허출원 2014-082631호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
터치 패널은 위치 입력 장치로서 기능하는 전자 부품으로서, 액정 디스플레이 등의 표시 장치와 조합되어, 휴대 전화나 휴대 게임기 등에 있어서 폭넓게 이용되고 있다. 터치 패널은 조작자가 화면 표시에 기초하여, 손이나 입력 펜으로 터치 패널의 특정 위치를 가리키면, 장치가 그 특정 위치의 정보를 감지함으로써, 조작자가 원하는 적절한 동작을 행하게 할 수 있는 인터페이스이다. 터치 패널로는 가리키는 위치를 검출하는 동작 원리에 따라 여러 방식의 것이 있지만, 저항막식이나 정전 용량식이 범용되고 있다. 특히 정전 용량식은 휴대 전화 등의 모바일 기기를 중심으로 하여 급속히 확대되어 왔다. 정전 용량식의 대표적인 검출 방식으로는 아날로그 검출의 표면형과, 패터닝된 전극을 이용한 적산 검출 방식에 의한 투영형의 두 가지를 들 수 있다.
정전 용량식 터치 패널로는, 한쪽 면 또는 양면에 도전층을 형성한 유리판(이하, 센서 유리로 하는 경우가 있다)을 구비하는 것이 사용되고 있고, 통상, 센서 유리의 전면측(터치면측)에 점착층을 개재하여 유리판(이하, 커버 유리로 하는 경우가 있다)이 적층되어 있다. 또한, 커버 유리의 파손이나 파편의 비산을 방지하기 위해, 커버 유리의 전면측 또는 커버 유리의 이면측에 추가로 보호 시트가 첩부된다.
터치 패널은 통상, 점착제를 사용하여 표시 장치의 전면에 장착되지만, 특히 표시 장치가 대형인 경우, 비용면에서 터치 패널의 외연부만 점착제에 의해 고정시키는 경우가 있다.
도 8에 종래의 정전 용량식 터치 패널을 외연부만 점착제에 의해 표시 장치의 전면에 고정시킨 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(200)의 구성을 설명하는 개략 단면도를 나타낸다. 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(200)는 맨 앞면에 편광판(212)이 배치된 액정 디스플레이(211)와, 정전 용량식 터치 패널(221)을 구비한다. 정전 용량식 터치 패널(221)은 하드 코트층(수지층)(204)과, 하드 코트층(204)의 전면측의 기재층(투명 필름)(203)과, 기재층(203)의 전면측에 점착층(207)을 개재하여 적층된 도전층(202)과, 도전층(202)의 전면측의 커버 유리(201)를 구비한다. 정전 용량식 터치 패널(221)은 액정 디스플레이(211)의 전면에 액정 디스플레이(211)와의 사이에 간극을 형성하여 배치되고, 외연부가 점착층(231)에 의해 액정 디스플레이(211)에 고정되고, 이로써 액정 디스플레이(211)의 전면과 정전 용량식 터치 패널(221)의 이면 사이에 간극이 형성되어 있다.
광학 필름의 분야에서는 필름끼리 혹은 필름과 기타 부재(예를 들면, 유리판)가 접촉했을 때, 글레어나 뉴턴링, 블로킹이 발생하는 경우가 있다. 이를 방지하기 위해, 필름 표면에 미세한 요철 형상을 형성하는 것이 행해지고 있다. 일반적으로, 형성하는 요철의 크기는 요구되는 성능(안티 글레어, 안티 뉴턴링, 안티 블로킹)에 따라 설정되며, 안티 글레어의 경우가 가장 크고, 안티 블로킹의 경우가 가장 작다. 이러한 요철 형상의 형성 방법으로는, 하드 코트층에 입자를 함유시키는 방법 및 특정 수지 성분을 상분리에 의해 석출시키는 방법 등이 이용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1∼8).
일본 공개특허공보 2010-42671호 일본 공개특허공보 2010-60643호 일본 공개특허공보 2011-33948호 일본 공개특허공보 2012-206502호 일본 특허 5181793호 일본 공개특허공보 2003-45234호 일본 특허 4392048호 일본 공개특허공보 2007-182519호
근래에 터치 패널의 경량화, 박형화의 요구가 고조되고 있다. 이러한 상황하에서 상술한 정전 용량식 터치 패널로서 커버 유리를 형성하지 않는 1장의 유리 타입의 것이 사용되고 있다. 1장의 유리 타입의 정전 용량식 터치 패널로는, 유리판의 이면에 도전층을 형성하고, 상기 유리판의 표면에 보호 시트를 적층한 구성의 것이 있다.
그러나, 본 발명자들의 검토에 의하면, 1장의 유리 타입의 정전 용량식 터치 패널을 도 8에 나타내는 바와 같이 표시 장치에 장착했을 경우, 하드 코트층(204)과 편광판(212)이 접촉할 때 블로킹이 발생하는 문제가 있다. 이러한 문제는 표시 장치가 대형화될수록 현저해진다. 이러한 문제가 생기는 원인으로는 상기 터치 패널이 구비하는 유리 기판이 1장이기 때문에, 휨이나 변형이 생기기 쉬워, 중앙 부근에서 표시 장치의 전면의 편광판에 접촉된 채로 되돌아오기 어려워지는 것을 생각할 수 있다. 해결 수단으로는 안티 블로킹 성능을 갖는 필름(안티 블로킹 필름)을 터치 패널의 이면 또는 표시 장치의 전면에 배치하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 종래 사용되고 있는 안티 블로킹 필름은 안티 블로킹 성능이 불충분하거나, 또는, 안티 블로킹 성능이 충분해도 헤이즈가 높아 투명성이 불충분한 등, 광학적 성능이 충분하지 않았던 점에서, 표시 장치나 터치 패널에 적용하는 것은 곤란하다.
또한, 근래에는 터치 패널의 경량화, 박형화의 요구에 따라, 투명 필름에 도전층을 형성한 도전성 필름(이하, 필름 센서로 한다)을 구비하는 터치 패널이 사용되고 있다. 이러한 필름 센서를 갖는 터치 패널을 구비하는 표시 장치에 있어서는 터치 조작시의 변형이 커지기 때문에, 상술한 블로킹의 문제가 보다 현저해진다는 문제가 있다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 터치면의 밝기가 양호한 등의 우수한 광학적 성능을 갖고, 블로킹이 발생하기 어려운 광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 1장의 유리 타입의 정전 용량식 터치 패널의 이면과, 표시 부재의 전면이 간극을 개재하여 대향한 구성, 혹은 필름 센서를 구비하는 터치 패널의 이면과, 표시 부재의 전면이 간극을 개재하여 대향한 구성 에 있어서, 상기 터치 패널의 이면(상기 표시 부재와 대향하는 면)을 구성하는 시트로서 제1 면과, 제1 면의 반대측의 제2 면을 갖는 투명 기재층과, 투명 기재층의 적어도 제1 면에 요철을 갖는 요철층을 구비하는 광학용 시트로서, 상기 요철층의 요철이 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있고, 또한 헤이즈값이 1.5% 이하인 광학용 시트를 사용함으로써 상기 과제가 해결되는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.
본 발명은 이하의 양태를 갖는다.
[1] 투명 필름과, 일방의 면에 요철을 갖는 수지층을 갖는 적층체로서, 헤이즈가 1.5% 이하인 투명 필름 적층체와, 상기 투명 필름의 일방의 면에 형성된 도전층을 갖는 도전성 시트로서, 상기 요철을 갖는 수지층은 상기 도전성 시트의 최외층이고, 상기 최외층의 표면은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이며, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1인 것을 특징으로 하는 도전성 시트.
[2] 상기 최외층의 표면은 윤곽 곡선 요소의 평균 길이가 40∼200㎛이고, 산술 평균 조도가 15∼400㎚인 [1]에 기재된 도전성 시트.
[3] 상기 요철을 갖는 수지층은 실질적으로 상분리되지 않고, 또한, 입자 직경 250㎚ 미만의 무기 또는 유기 미립자를 함유하는 수지 조성물로 형성된 것인 [1] 또는 [2]에 기재된 도전성 시트.
[4] 상기 요철을 갖는 수지층은 적어도 2종류의 성분을 함유하고, 또한, 무기 및 유기 미립자를 실질적으로 함유하지 않는 수지 조성물이 상분리되어 형성된 것인 [1] 또는 [2]에 기재된 도전성 시트.
[5] 상기 요철을 갖는 수지층의 두께가 1∼15㎛인 [1]∼[4] 중 어느 한 항에 기재된 도전성 시트.
[6] 상기 도전층은 유기계 도전제가 균일하게 도포되어 있거나, 또는, 금속 재료가 임의로 패터닝되어 있는 [1]∼[5] 중 어느 한 항에 기재된 도전성 시트.
[7] 상기 투명 필름과 상기 수지층 사이, 또는, 상기 투명 필름과 상기 도전층 사이에 1층 이상의 굴절률 조정층이 추가로 형성되고, 상기 굴절률 조정층의 굴절률이 1.20∼1.45 또는 1.60∼2.00인 [1]∼[6] 중 어느 한 항에 기재된 도전성 시트.
[8] [1]∼[7] 중 어느 한 항에 기재된 도전성 시트 중 어느 면에 인쇄층이 추가로 적층되어 있는 인쇄 시트.
[9] [1]∼[7] 중 어느 한 항에 기재된 도전성 시트 중 어느 면에 점착층이 추가로 적층되어 있는 점착성 시트.
[10] [1]∼[7] 중 어느 한 항에 기재된 도전성 시트, [8]에 기재된 인쇄 시트, 또는 [9]에 기재된 점착성 시트의 수지층을 구비한 정전 용량식 터치 패널.
[11] 제1 투명 필름과, 요철을 갖는 수지층을 구비하는 적층체로서, 헤이즈가 1.5% 이하인 적층체와, 제1 도전층과, 점착층과, 제2 투명 필름과, 제2 도전층을 이 순서로 갖는 도전성 시트로서, 상기 요철을 갖는 수지층은 상기 도전성 시트의 최외층이고, 상기 최외층의 표면은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이며, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1인 것을 특징으로 하는 도전성 시트.
[12] 상기 최외층의 표면은 윤곽 곡선 요소의 평균 길이가 40∼200㎛이며, 산술 평균 조도가 15∼400㎚인 [11]에 기재된 도전성 시트.
[13] [11] 또는 [12]에 기재된 도전성 시트를 구비한 정전 용량식 터치 패널.
또한, 본 발명은 이하의 측면을 갖는다.
〈1〉제1 면과, 제1 면의 반대측의 제2 면을 갖는 투명 기재층과, 적어도 상기 투명 기재층의 제1 면에 적층된 요철층을 갖고,
상기 요철층의 요철은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있으며,
헤이즈값이 1.5% 이하인 광학용 시트.
〈2〉상기 요철층의 요철은 윤곽 곡선 요소의 평균 길이가 40∼200㎛이고, 산술 평균 조도가 15∼400㎚이도록 구성되어 있는〈1〉에 기재된 광학용 시트.
〈3〉상기 요철층이 입자를 실질적으로 함유하지 않는 다상계 수지층인〈1〉또는〈2〉에 기재된 광학용 시트.
〈4〉상기 요철층의 두께가 1∼15㎛인〈1〉∼〈3〉중 어느 한 항에 기재된 광학용 시트.
〈5〉추가로 상기 투명 기재층의 제2 면측에 점착층 또는 접착층을 구비하는〈1〉∼〈4〉중 어느 한 항에 기재된 광학용 시트.
〈6〉〈1〉∼〈4〉중 어느 한 항에 기재된 광학용 시트와 도전층을 갖고, 상기 도전층은 상기 광학용 시트의 상기 투명 기재층의 제2 면에 적층되어 있는 도전성 시트.
〈7〉상기 도전층이 유기계 도전제 및 금속 재료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 재질을 포함하는〈6〉에 기재된 도전성 시트.
〈8〉〈7〉에 기재된 도전성 시트를 갖는 터치 패널.
〈9〉표시 부재와,〈8〉에 기재된 터치 패널과, 접합층을 구비하는 터치 패널이 형성된 표시 장치로서,
상기 터치 패널은 상기 표시 부재의 표면에 간극을 개재하여 배치되고, 또한 상기 터치 패널의 외연부가 상기 접합층에 의해, 상기 표시 부재에 접합되어 있는 터치 패널이 형성된 표시 장치.
〈10〉상기 표시 부재는 상기 터치 패널과 대향하는 면에 요철을 갖고, 상기 요철은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있는〈9〉에 기재된 터치 패널이 형성된 표시 장치.
〈11〉표시 부재의 표면과 상기 요철층이 대향하도록 간극을 개재하여 배치되는〈1〉∼〈5〉중 어느 한 항에 기재된 광학용 시트.
본 명세서의 범위에 있어서, 요철층의 제곱 평균 제곱근 높이, 제곱 평균 제곱근 경사, 윤곽 곡선 요소의 평균 길이, 산술 평균 조도의 표면 특성은 하기 측정 방법에 의해 측정되는 값이다.
마이크로 레이저 현미경을 이용해 JIS B0601:2001에 준거하여, 제곱 평균 제곱근 높이 Rq, 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq, 산술 평균 조도 Ra 및 윤곽 곡선 요소의 평균 길이 RSm을 산출한다.
또한, 광학용 시트의 헤이즈값은 JIS K 7136에 준거하여 산출할 수 있다.
또한, 본 명세서에 있어서, 「전면」이란, 정전 용량식 터치 패널 또는 이것을 장착한 표시 장치를 사용할 때, 사용자가 시인, 조작하는 측의 면을 의미하고, 「이면」은 사용자가 시인, 조작하는 측과는 반대측의 면을 의미한다. 터치 패널의 전면을 터치면으로 하는 경우가 있다.
본 발명에 의하면, 터치면의 밝기가 양호한 등의 우수한 광학적 성능을 가지면서, 블로킹이 발생하기 어려운 광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 표시 장치를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 도전성 시트는 본 발명의 광학용 시트의 투명 기재층의 제2 면에 도전층이 적층된 구조를 갖기 때문에, 유리 표면에 도전층을 형성시킬 필요가 없어져, 유리판의 이면에 도전층을 형성하는 종래의 1장의 유리 타입의 터치 패널보다 불량률을 낮게 할 수 있다.
도 1은 본 발명의 광학용 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 광학용 시트 또는 도전성 시트를 사용한 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학용 시트의 또 다른 예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 4는 본 발명의 광학용 시트 또는 도전성 시트를 사용한 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치의 또 다른 예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 5는 본 발명의 도전성 시트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 6은 도 5에 나타내는 도전성 시트의 또 다른 예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 7은 도 2의 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치에 있어서, 보호 시트를 구비하는 예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 8은 종래의 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치의 구성을 설명하는 개략 단면도이다.
도 9는 본 발명의 도전성 시트의 또 다른 예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 10은 본 발명의 도전성 시트를 사용한 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치의 또 다른 예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 11은 본 발명의 도전성 시트를 사용한 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 12는 본 발명의 광학용 시트 또는 도전성 시트를 사용한 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치의 또 다른 예를 나타내는 개략 단면도이다.
이하, 본 발명에 대해, 첨부한 도면을 참조하면서 설명한다.
[광학용 시트]
본 발명의 광학용 시트는 제1 면과, 제1 면의 반대측의 제2 면을 갖는 투명 기재층과, 적어도 상기 투명 기재층의 제1 면에 적층된 요철층을 갖고, 상기 요철층의 요철은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있으며, 헤이즈값이 1.5% 이하인 것을 특징으로 한다. 여기서, 본 발명의 광학용 시트 또는 도전성 시트란, 안티 블로킹 필름을 의미한다.
도 1은 본 발명의 광학용 시트(50)의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
광학용 시트(50)는 제1 면과, 제1 면의 반대측의 제2 면을 갖는 투명 기재층(3)과, 투명 기재층(3)의 제1 면에 형성된 요철층(4)으로 구성된다. 요철층(4)은 투명 기재층(3)의 제1 면과 접하는 측의 면과는 반대측의 표면이 요철을 갖는 요철면(4a)으로 되어 있다. 요철면(4a)의 표면은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이며, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있다.
이하, 요철층(4)의 투명 기재층(3)의 제1 면과 접하는 측의 면을 「요철층(4)의 제2 면」으로 하고, 요철층(4)의 요철면(4a)이 형성되어 있는 면을 「요철층(4)의 제1 면」으로 설명한다.
이와 같이, 요철면(4a) 표면의 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성된 요철층(4)을 구비함으로써, 터치 패널과 표시 부재의 첩합(뉴턴링)에 의한 시인성의 악화나, 블로킹이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
요철층(4)의 요철면(4a)의 제곱 평균 제곱근 높이란, 전술한 바와 같이, JIS B0601:2001에 준거하여 측정한 값으로, 측정 영역 내의 각 요철의 높이의 표준 편차에 상당하는 값이다. 즉, 요철의 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이면, 요철의 높이의 편차가 작고, 안티 블로킹 성능이 더욱 우수한 것이 된다.
요철면(4a)의 제곱 평균 제곱근 높이는 바람직하게는 0.021∼0.15㎛이고, 보다 바람직하게는 0.022∼0.10㎛이며, 특히 바람직하게는 0.023∼0.07㎛이다.
요철면(4a)의 제곱 평균 제곱근 경사란, JIS B0601:2001에 준거하여 측정한 값으로, 측정 영역 내의 각 요철의 삼차원 경사를 산출하고, 그 제곱 평균 제곱근을 구함으로써 얻을 수 있다. 이 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이면, 안티 블로킹성의 발현에 필요한 요철 높이를 얻을 수 있다. 상기 제곱 평균 제곱근 경사는 바람직하게는 0.011∼0.9이고, 보다 바람직하게는 0.012∼0.8이고, 더욱 바람직하게는 0.013∼0.7이며, 가장 바람직하게는 0.0135∼0.0259이다. 바람직한 수치 범위를 만족시킴으로써, 본 발명의 광학용 시트의 안티 블로킹 성능이 더욱 우수한 것이 된다.
또한, 본 발명의 광학용 시트는 헤이즈값이 1.5% 이하이기 때문에, 투명성이 높고, 광학 특성도 우수하다.
본 발명의 광학용 시트의 헤이즈값은 1.3% 이하인 것이 바람직하고, 1.2% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.1% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1.0% 이하인 것이 보다 더욱 바람직하며, 0.9% 이하인 것이 가장 바람직하다.
헤이즈값을 낮은 값으로 하기 위해서는 본 발명의 광학용 시트의 요철층을 후술하는 방법 A에 의해 형성하는 경우는 제곱 평균 제곱근 높이, 제곱 평균 제곱근 경사 및 첨가하는 입자의 평균 입자 직경이나 양을 조정하면 된다. 예를 들면, 제곱 평균 제곱근 높이를 작게 할수록, 헤이즈값을 낮게 할 수 있다. 또한, 제곱 평균 제곱근 경사를 작게 할수록, 헤이즈값을 낮게 할 수 있다. 또한, 첨가하는 입자의 평균 입자 직경을 작게 할수록, 헤이즈값을 낮게 할 수 있다. 또한, 첨가하는 입자의 양을 적게 할수록, 헤이즈값을 낮게 할 수 있다. 즉, 제곱 평균 제곱근 높이와 제곱 평균 제곱근 경사를 본원의 바람직한 범위로 하고, 또한 첨가하는 입자의 평균 입자 직경이나 양을 조정함으로써, 헤이즈값을 1.5% 이하로 할 수 있다. 첨가하는 입자의 바람직한 평균 입자 직경이나 양에 대해서는 후술한다.
또한, 본 발명의 광학용 시트는 JIS K7361-1에 준거하여 측정한 전광선 투과율이 90%를 초과하는 것인 것이 바람직하다. 전광선 투과율이 90%를 초과함으로써, 터치면의 밝기가 양호한 등의 우수한 광학적 성능을 발휘할 수 있다.
전광선 투과율을 높은 값으로 하기 위해서는 투명 기재층을 조정하면 된다. 예를 들면, 투명 기재층 자체의 전광선 투과율을 높게 할수록, 전광선 투과율을 높게 할 수 있다.
〈투명 기재층〉
투명 기재층(3)으로는, 수지 필름, 유리판 등을 사용할 수 있다. 이 중, 비용, 취급 용이성의 관점에서, 투명 기재층(3)은 수지 필름인 것이 바람직하다. 여기서, 본 명세서에서 「투명 기재층」이란, 전광선 투과율이 85%인 기재로 형성된 층을 의미한다.
수지 필름으로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리프로필렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리프로필렌나프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 셀로판, 디아세틸셀룰로오스 필름, 트리아세틸셀룰로오스 필름, 아세틸셀룰로오스부티레이트 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리염화비닐리덴 필름, 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌-초산비닐 공중합체 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리술폰 필름, 폴리에테르에테르케톤 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리에테르이미드 필름, 폴리이미드 필름, 불소 수지 필름, 폴리아미드 필름, 아크릴 수지 필름 등을 들 수 있다.
특히, 투명성, 내후성, 내용제성, 강도, 비용 등의 관점에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 바람직하다.
상기 수지 필름에는 각종 첨가제가 포함되어도 된다. 첨가제로는, 예를 들면, 산화 방지제, 내열 안정제, 자외선 흡수제, 유기 입자, 무기 입자, 안료, 염료, 대전 방지제, 핵제, 커플링제 등을 들 수 있다.
투명 기재층(3)에는 투명 기재층(3)과 요철층(4)의 밀착성을 향상시키기 위해, 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 표면 처리로는, 예를 들면, 샌드 블라스트처리나 용제 처리 등의 요철화 처리, 코로나 방전 처리, 크롬산 처리, 화염 처리, 열풍 처리, 오존·자외선 조사 처리 등의 표면 산화 처리 등을 들 수 있다.
투명 기재층(3)의 두께는 강도의 확보, 컬링 방지 등의 관점에서, 10∼300㎛인 것이 바람직하고, 30∼200㎛인 것이 보다 바람직하며, 35∼130㎛인 것이 특히 바람직하다. 상기 두께는 촉침식 막두께계(예를 들면, 미츠토요사 제조 피크 홀드 기능이 형성된 ABS 디지매틱 인디케이터 ID-C112A)를 이용하여 측정할 수 있다.
〈요철층〉
본 발명의 광학용 시트는 투명 기재층(3)의 적어도 제1 면에 (미세한) 요철면(4a)을 갖는 층(요철층(4))이 형성되어 있다.
요철층(4)은 요철면(4a)을 갖고, 요철면(4a)은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있다. 또한, 요철면(4a)은 윤곽 곡선 요소의 평균 길이가 40∼200㎛이며, 산술 평균 조도가 15∼400㎚이도록 구성되어 있는 것이 바람직하다.
윤곽 곡선 요소의 평균 길이란, 전술한 바와 같이, JIS B0601:2001에 준거하여 측정한 값으로, 안티 블로킹성의 발현에 필요한 양의 요철을 갖고 있는 것을 의미한다. 윤곽 곡선 요소의 평균 길이가 40∼200㎛이면, 충분한 요철의 양을 확보할 수 있고, 안티 블로킹 성능을 향상시킬 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 윤곽 곡선 요소의 평균 길이는 45∼150㎛인 것이 보다 바람직하고, 50∼120㎛가 더욱 바람직하고, 55∼100㎛가 보다 더욱 바람직하며, 60∼80㎛인 것이 가장 바람직하다. 이 윤곽 곡선 요소의 평균 길이가 상기 바람직한 범위 내임으로써, 본 발명의 도전성 필름 시트의 안티 블로킹 성능이 더욱 우수한 것이 된다.
요철층(4)의 요철면(4a)은 추가로 산술 평균 조도가 15∼400㎚이도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. 요철면(4a)의 산술 평균 조도는 20∼200㎚가 보다 바람직하고, 25∼100㎚가 더욱 바람직하며, 30∼70㎚가 특히 바람직하다. 이 산술 평균 조도가 상기 바람직한 범위 내임으로써, 본 발명의 광학용 시트의 안티 블로킹 성능이 더욱 우수한 것이 된다.
상기 윤곽 곡선 요소의 평균 길이 및 산술 평균 조도를 갖는 요철면(4a)을 구비하는 요철층(4)은 후술하는 재료 및 조건 등에 의해 얻을 수 있다.
요철층(4)은 광학용 시트에 안티 블로킹 성능을 부여하기 위해 형성된다. 또한, 본 발명의 하나의 측면에 있어서는 요철면(4a)은 소정의 경도를 갖는 이른바 하드 코트층임으로써, 내찰상성을 발휘할 수 있다.
요철층(4)은 열경화성 또는 활성 에너지선 경화성 수지 성분을 함유하는 요철 수지층인 것이 바람직하다. 또한, 상기 요철 수지층은 열경화성 또는 활성 에너지선 경화성 수지 성분을 포함하는 하드 코트층 형성용 도공액(이하, 요철 수지층 형성용 재료로 한다)을 투명 기재 상에 도공하여 도막을 형성하고, 상기 도막을 경화시킴으로써 얻어지는 것이 바람직하다.
(요철 수지층 형성용 재료)
요철 수지층 형성용 재료는, 상술한 바와 같이 열경화성 또는 활성 에너지선 경화성 수지 성분을 포함하는 것이 바람직하다.
열경화성 수지 성분으로는, 예를 들면, 페놀 수지, 요소 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다.
활성 에너지선 경화성 수지 성분으로는, 활성 에너지선의 조사에 의해 중합 가능한 중합성 불포화기(예를 들면, 에틸렌성 이중 결합 등의 중합성 불포화 결합을 포함하는 기)를 갖는 모노머를 함유하는 것을 들 수 있다. 활성 에너지선 경화성 수지 성분에는 필요에 따라, 광중합 개시제 등이 배합된다.
본 발명의 하나의 양태에 있어서, 요철 수지층 형성용 재료는 활성 에너지선 경화성 수지 성분을 포함하는 것이 바람직하고, 다관능 (메타)아크릴 모노머를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 요철 수지층 형성용 재료에서 얻어지는 경화물은 가교 구조를 갖는 경질의 아크릴계 중합체를 함유하는 점에서, 표면 경도, 투명성, 찰상성 등이 우수하기 때문에 바람직하다.
「다관능」이란, 중합성 불포화기를 2개 이상 갖는 것을 의미하고, 「(메타)아크릴 모노머」는 중합성 불포화기로서 적어도 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 의미한다. 「(메타)아크릴로일기」는 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기인 것을 나타낸다.
다관능 (메타)아크릴 모노머로는, 예를 들면, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(바람직하게는 질량 평균 분자량 400∼600)디(메타)아크릴레이트, 변성 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 인산디(메타)아크릴레이트, 알릴화시클로헥실디(메타)아크릴레이트, 이소시아누레이트디(메타)아크릴레이트 등의 2관능(메타)아크릴레이트; 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡시트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 폴리에테르트리(메타)아크릴레이트, 글리세린프로폭시트리(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸) 이소시아누레이트 등의 3관능 (메타)아크릴레이트; 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨에톡시테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 등의 4관능 (메타)아크릴레이트; 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노히드록시펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 5관능 이상의 (메타)아크릴레이트; 등을 들 수 있다.
이들 다관능 (메타)아크릴 모노머는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
요철 수지층 형성용 재료는 다관능 (메타)아크릴 모노머로서 4관능 이상(바람직하게는 5관능 이상, 보다 바람직하게는 6관능)의 (메타)아크릴 모노머를 함유하는 것이 바람직하다. 4관능 이상의 (메타)아크릴 모노머를 포함함으로써, 얻어지는 요철층의 경도가 향상되기 때문에 바람직하다.
요철 수지층 형성용 재료에 포함되는 전체 다관능 (메타)아크릴 모노머 중, 4관능 이상의 (메타)아크릴 모노머의 비율은 전체 다관능 (메타)아크릴 모노머 100질량%에 대해, 50질량% 이상이 바람직하고, 60질량% 이상이 보다 바람직하고, 70질량% 이상이 더욱 바람직하며, 80질량% 이상이 가장 바람직하다.
요철 수지층 형성용 재료는 경화를 촉진시키기 위해, 상기 다관능 (메타)아크릴 모노머 외에 광중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.
광중합 개시제로는, 공지의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 아세토페논, 디메틸아미노아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-2(히드록시-2-프로필)케톤, 벤조페논, p-페닐벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 프로피오페논, 디클로로벤조페논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논, 2-메틸티옥산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 벤질디메틸케탈, 아세토페논디메틸케탈, p-디메틸아민벤조산에스테르 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
광중합 개시제의 배합량은 요철 수지층 형성용 재료의 고형분 중, 0.5∼10질량%가 바람직하고, 2∼8질량%가 보다 바람직하다. 0.5질량% 이상이면 경화 불량이 발생하기 어렵다. 또한, 10질량%를 초과하여 배합해도 배합량에 알맞은 경화 촉진 효과는 얻어지지 않고, 비용도 비싸진다. 또한, 경화물 중에 잔류하여 황변이나 블리드 아웃 등의 원인이 될 우려가 있다.
또한, 요철 수지층 형성용 재료의 고형분이란, 요철 수지층 형성용 재료가 용제를 포함하지 않는 경우는 요철 수지층 형성용 재료를 구성하는 전체 성분의 합계를 나타내고, 용제를 포함하는 경우는 용제를 제외한 전체 성분의 합계를 나타낸다.
요철 수지층 형성용 재료는 광중합 개시제에 추가로, 광증감제를 더 함유할 수도 있다. 광증감제로는, 예를 들면, n-부틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.
요철 수지층 형성용 재료는 필요에 따라, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서 상기 이외의 다른 성분을 함유해도 된다. 예를 들면, 요철층에 내찰상성 이외의 다른 기능(발수성, 발유성, 방오성, 도공 적성, 대전 방지성, 자외선 차폐성등)을 부여하기 위해 사용되고 있는 공지의 첨가제를 함유시킬 수 있다. 이러한 첨가제로는, 예를 들면, 불소계 화합물, 폴리실록산계 화합물, 금속 산화물 미립자, 대전 방지 수지, 도전성 고분자, 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.
불소계 화합물을 첨가함으로써, 발수·발유성을 부여할 수 있고, 또한, 오염이 부착되기 어려우며, 또한 부착된 오염을 닦아내기 쉽다는 방오 효과를 부여할 수 있다. 또한, 폴리실록산계 화합물을 첨가함으로써, 발수성이나, 오염이 부착되기 어렵고, 또한 부착된 오염을 닦아내기 쉽다는 방오 효과를 부여하고, 도공 적성을 향상시킬 수 있다. 또한, 금속 산화물 미립자나 대전 방지 수지, 도전성 고분자를 첨가함으로써, 대전 방지성을 부여할 수 있다. 또한, 금속 산화물 미립자나 자외선 흡수제를 첨가함으로써, 자외선 차폐성을 부여할 수 있다.
이들 첨가제의 함유량은 상기 수지 성분 100질량부에 대해, 0.01∼10질량%가 바람직하다.
요철 수지층 형성용 재료는 용제를 함유하고 있어도 된다.
용제로는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 톨루엔, n-헥산, n-부틸알코올, 메틸이소부틸케톤, 메틸부틸케톤, 에틸부틸케톤, 시클로헥사논, 초산에틸, 초산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, N-메틸-2-피롤리돈 등이 사용된다. 이들은 1종 이상을 단독으로 사용해도 되고, 도공 불균일을 경감시키는 것을 목적으로 하여, 증발 속도가 상이한 2종 이상의 용제를 병용해도 된다.
(점착층 또는 접착층)
본 발명의 광학용 시트는 점착층 또는 접착층을 구비하고 있어도 된다.
도 3은 점착층(17)(또는 접착층(18))을 구비하는 본 발명의 광학용 시트(51)의 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 광학용 시트(51)는 투명 기재층(3)과, 투명 기재층(3)의 제1 면에 형성된 요철층(4)과, 투명 기재층(3)의 제2 면에 형성된 점착층(17)(또는 접착층(18))으로 구성되어 있다.
본 명세서에 있어서, 점착층이란 피착체와의 첩합 전후에 점착층 자체의 화학 조성, 구조가 변화되지 않는 것을 의미하고, 접착층이란 피착체와의 첩합 전후에 접착층 자체의 화학 조성, 구조가 변화되는 것을 의미한다.
점착층(17)을 구성하는 점착제로는, 각각, 터치 패널 등의 광학 용도에 사용되고 있는 공지의 점착제를 이용할 수 있다. 점착제로는, 예를 들면, 천연 고무계 점착제, 합성 고무계 점착제, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 실리콘계 점착제 등을 들 수 있다. 점착제는 용제계, 무용제계, 에멀션계, 수계 중 어느 것이어도 된다. 그 중에서도, 투명도, 내후성, 내구성, 비용 등의 관점에서, 아크릴계 점착제가 바람직하고, 특히 용제계의 아크릴계 점착제가 보다 바람직하다.
점착층(17) 또는 접착층(18)을 구성하는 점착제에는 필요에 따라 다른 보조제가 첨가되어 있어도 된다. 다른 보조제로는, 산화 방지제, 점착 부여제, 실란 커플링제, 자외선 흡수제, 힌더드아민계 화합물 등의 광안정제, 증점제, pH 조정제, 바인더, 가교제, 점착성 입자, 소포제, 방부 방미제, 안료, 무기 충전제, 안정제, 젖음제, 습윤제 등을 들 수 있다.
점착층(17) 또는 접착층(18)의 두께는 각각 10∼100㎛인 것이 바람직하고, 20∼80㎛인 것이 보다 바람직하다. 10㎛ 이상이면, 충분한 점착성이 얻어진다. 점착층(17) 또는 접착층(18)의 두께가 100㎛를 초과하면, 박형화, 비용의 면에서 불리하다.
〈광학용 시트의 제조 방법〉
본 발명의 광학용 시트는, 상술한 요철 수지층 형성용 재료 등의 수지층 형성용 재료를 투명 기재층(3)의 제1 면에 도공하여 도막을 형성하고, 상기 도막을 경화시켜 요철층(4)을 형성함으로써 얻을 수 있다.
요철 수지층 형성용 재료의 도공 방법으로는, 예를 들면, 블레이드 코터, 에어 나이프 코터, 롤 코터, 바 코터, 그라비아 코터, 마이크로 그라비아 코터, 로드 블레이드 코터, 립 코터, 다이 코터, 커텐 코터, 인쇄기 등을 이용한 방법을 들 수 있다.
요철 수지층 형성용 재료의 도공량은 요철층(4)의 두께에 따라 적절히 설정할 수 있다.
요철층(4)의 두께는 1∼15㎛인 것이 바람직하고, 1∼10㎛인 것이 보다 바람직하며, 2∼8㎛인 것이 특히 바람직하다. 상기 두께가 1㎛ 이상이면 충분한 하드 코트 성능이 얻어진다. 또한, 15㎛ 이하이면, 투명성, 기재 밀착성, 내컬링성 등이 우수하기 때문에 바람직하다.
또한, 요철층(4)의 가장 얇은 부분의 두께(요철면(4a)의 오목부의 바닥으로부터 투명 기재층(3)의 제1 면과의 접면까지의 거리)를 요철층(4)의 두께로 한다. 또한, 요철층(4)의 두께는 촉침식 막두께계(예를 들면, 미츠토요사 제조 피크 홀드 기능이 형성된 ABS 디지매틱 인디케이터 ID-C112A)를 이용하여 측정할 수 있다.
본 발명의 광학용 시트의 제조 방법에 있어서는 투명 기재층(3)의 제1 면에 도막을 형성한 후, 상기 도막을 경화시키기 전에 가열 건조를 행하는 것이 바람직하다. 가열 건조의 조건은 예를 들면, 60℃∼100℃에서 30초간∼90초간 행하는 것이 바람직하고, 70℃∼90℃에서 45초간∼75초간 행하는 것이 보다 바람직하다. 상기 바람직한 범위의 조건에서 가열 건조를 행함으로써, 본 발명의 광학용 시트는 우수한 광학적 성능과 충분한 안티 블로킹 성능을 겸비한 것이 된다.
상기 도막은 요철 수지층 형성용 재료가 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 경우는 활성 에너지선의 조사에 의해 경화시킬 수 있다. 요철 수지층 형성용 재료가 열경화성 수지를 포함하는 경우는 가열로나 적외선 램프 등을 이용하여 가열함으로써 경화시킬 수 있다.
활성 에너지선으로는, 자외선, 전자선, 가시광선, γ선 등의 전리성 방사선 등을 들 수 있고, 그 중에서도 범용성의 점에서 자외선이 바람직하다. 자외선의 광원으로는, 예를 들면, 고압 수은등, 저압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 카본 아크, 크세논 아크, 무전극 자외선 램프 등을 사용할 수 있다.
전자선으로는, 예를 들면, 콕크로프트 월튼형, 반데그라프형, 공진 변압형, 절연 코어 변압기형, 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기로부터 방출되는 전자선을 사용할 수 있다.
활성 에너지선의 조사에 의한 경화는 질소 등의 불활성 가스 존재하에서 행하는 것이 바람직하다.
경화는 1단계로 행해도 되고, 예비 경화 공정과 본 경화 공정의 2단계로 나누어 행해도 된다.
(요철의 형성 방법)
요철층(4)에 요철면(4a)을 형성하는 방법으로는, 요철 수지층 형성용 재료에 입자를 배합시키는 방법 A, 요철 수지층 형성용 재료에 용해성 파라미터(SP값)가 상이한 2종류의 수지를 함유시키고, 도공 후, 일방의 수지를 상분리에 의해 석출시키는 방법 B 등을 들 수 있다. 이들 중 어느 방법에 의해 요철층을 형성함으로써, 요철층 표면의 요철의 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1인 광학용 시트를 얻을 수 있다. 이러한 광학용 시트는 우수한 광학적 성능과, 안티 블로킹 성능을 양립시킬 수 있다.
상술한 방법 A는 입자를 포함하는 요철 수지층 형성용 재료를 투명 기재층(3)의 표면에 도공하고, 요철면(4a)을 갖는 요철층(4)을 형성하는 방법이다.
방법 A의 경우, 요철 수지층 형성용 재료는 실질적으로 상분리되지 않는 재료인 것이 바람직하다. 또한, 상기 요철 수지층 형성용 재료에 배합되는 입자는 무기 미립자여도 되고, 유기 미립자여도 된다. 또한, 입자의 평균 입자 직경은 충분한 안티 블로킹 성능과 우수한 광학적 성능을 양립하는 관점에서 250㎚ 미만인 것이 바람직하다. 또한, 입자의 평균 입자 직경은 10㎚∼200㎚가 보다 바람직하고, 20㎚∼150㎚가 더욱 바람직하며, 30㎚∼100㎚가 특히 바람직하다. 입자의 평균 입자 직경은 투과형 전자현미경 또는 주사형 전자현미경의 관찰 이미지에 의해 측정되는 값을 가리킨다.
여기서, 「실질적으로 상분리되지 않는다」란, 요철 수지층 형성용 재료(조성물)에 상분리되는 수지 성분이 실질적으로 포함되지 않는 것을 의미한다. 예를 들면, 요철 수지층 형성용 재료가 용해성 파라미터(SP값)가 상이한 2종류의 수지 성분을 포함하고, 2종류의 수지 성분의 SP값의 차이가 1.0 이상인 경우, 일방의 수지 성분의 함유량이 요철 수지층 형성용 재료의 총 질량에 대해, 3질량% 이하인 것을 의미한다. 또한, 상기 수지 성분의 함유량은 보다 바람직하게는 2질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 1질량% 이하이며, 가장 바람직하게는 0.1질량% 이하이다. 상기 수지 성분의 함유량의 하한은 0질량%이다. 즉, 용해성 파라미터(SP값)가 상이한 2종류의 수지 성분을 포함하고, 2종류의 수지 성분의 SP값의 차이가 1.0 이상인 경우, 일방의 수지 성분의 함유량이 0∼2질량%인 것이 바람직하고, 0∼1질량%인 것이 보다 바람직하다.
요철 수지층 형성용 재료 중의 입자의 배합량은, 요철 수지층 형성용 재료의 고형분의 총 질량에 대해, 1∼20질량%가 바람직하고, 3∼15질량%가 보다 바람직하며, 5∼10질량%가 더욱 바람직하다. 입자의 배합량이 이들 바람직한 범위 내이면, 안티 블로킹 성능이 추가로 향상된다. 또한, 1질량% 이상이면, 안티 블로킹 성능이 향상되고, 20질량% 이하이면, 요철 수지층 형성용 재료 중에 상술한 다관능 (메타)아크릴 모노머의 충분한 양을 배합할 수 있기 때문에, 하드 코트 성능이 양호해진다.
즉, 본 발명의 하나의 측면에 있어서, 요철 수지층 형성 재료는 다관능 (메타)아크릴 모노머와 입자를 포함하는 것이 바람직하다. 요철 수지층 형성용 재료가 다관능 (메타)아크릴 모노머와 입자를 함유함으로써, 요철면(4a)을 갖는 요철층(4)을 형성할 수 있고, 또한 경화시의 수축이 억제되기 때문에 바람직하다.
요철 수지층 형성용 재료가 함유하는 입자는 상술한 바와 같이 무기 입자여도 되고, 유기 입자여도 된다. 무기 입자로는, 경도가 높은 것이 바람직하고, 예를 들면, 이산화규소 입자, 이산화티탄 입자, 산화지르코늄 입자, 산화알루미늄 입자, 이산화주석 입자, 오산화안티몬 입자, 삼산화안티몬 입자 등의 무기 산화물 입자를 사용할 수 있다. 이 중, 비용의 관점에서, 이산화규소 입자가 바람직하고, 이산화 규소 입자를 분산제 중에 분산시킨 콜로이달 실리카인 것이 보다 바람직하다.
무기 입자는 상기 무기 산화물 입자를 커플링제에 의해 처리한 반응성 무기 산화물 입자여도 된다. 커플링제에 의해 처리함으로써, 아크릴계 중합체와의 사이의 결합력을 높일 수 있다. 그 결과, 표면 경도나 내찰상성을 향상시킬 수 있고, 추가로 무기 산화물 입자의 분산성을 향상시킬 수 있다.
커플링제로는, 예를 들면, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필 트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시알루미늄 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
커플링제의 처리량은 무기 산화물 입자 100질량부에 대해, 0.1∼20질량부인 것이 바람직하고, 1∼10질량부인 것이 보다 바람직하다.
유기 입자로는, 예를 들면, 아크릴 수지, 폴리스티렌, 폴리실록산, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 폴리테트라플루오로에틸렌, 셀룰로오스아세테이트, 폴리카보네이트, 폴리아미드 등의 수지 입자 등을 사용할 수 있다. 이 중, 비용, 분산성의 관점에서 아크릴 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
유기 입자는 상기 수지 입자를 커플링제에 의해 처리한 반응성 수지 입자여도 된다. 커플링제에 의해 처리함으로써, 아크릴계 중합체와 입자 사이의 결합력을 높일 수 있다. 그 결과, 표면 경도나 내찰상성을 향상시킬 수 있고, 추가로 수지 입자의 분산성을 향상시킬 수 있다.
커플링제 및 그 처리량은 상기 반응성 무기 산화물 입자에서 예시한 커플링제 및 그 처리량과 동일하다.
또한, 요철 수지층 형성용 재료에 용해성 파라미터(SP값)가 상이한 2종류의 수지를 함유시키고, 도공 후, 일방의 수지를 상분리에 의해 석출시키는 방법 B에 의해, 요철면(4a)을 형성하는 경우, 상기 요철 수지층 형성용 재료는 무기 또는 유기 입자를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다.
무기 또는 유기 입자를 실질적으로 함유하지 않는다는 것은, 요철 수지층 형성용 재료의 총 질량에 대해, 무기 또는 유기 입자의 함유량이 3질량% 이하인 것을 의미한다. 또한, 무기 또는 유기 입자의 함유량은 2질량% 이하가 보다 바람직하고, 1질량% 이하가 더욱 바람직하며, 0.1질량% 이하가 가장 바람직하다. 입자의 함유량의 하한은 0질량%이다. 즉, 방법 B의 경우, 요철 수지층 형성용 재료 중의 입자의 함유량은 0∼1질량%가 바람직하고, 0∼0.1질량%가 보다 바람직하다.
방법 B에 의해 형성된 요철층은 입자를 실질적으로 함유하지 않는 다상계 수지층이 된다. 여기서, 「다상계 수지층」이란, 2성분 이상의 수지로 구성되는 수지층을 의미한다.
본 발명에 있어서는 요철층은 방법 B에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 방법 B에 의해 요철층을 형성함으로써, 안티 블로킹성의 효과를 얻을 수 있다. 즉, 본 발명의 광학용 시트는 요철층이 입자를 실질적으로 함유하지 않는 다상계 수지층인 것이 바람직하다.
[도전성 시트]
본 발명의 도전성 시트는, 본 발명의 광학용 시트와 도전층을 갖고, 상기 도전층은 상기 광학용 시트의 상기 투명 기재층의 제2 면에 적층되어 있는 것을 특징으로 한다.
광학용 시트가 투명 기재층의 제2 면측에 점착층 또는 접착층을 구비하는 경우, 도전층은 투명 기재층과 점착층 또는 접착층 사이에 형성된다.
도 5는 본 발명의 도전성 시트(70)의 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 도전성 시트(70)는 투명 기재층(3)과, 투명 기재층(3)의 제1 면에 형성된 요철층(4)과, 투명 기재층(3)의 제2 면에 형성된 도전층(2)으로 구성된다. 요철층(4)은 제1 면이 요철을 갖는 요철면(4a)으로 되어 있다. 상기 요철면(4a)의 표면은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이다.
또한, 본 발명의 도전성 시트는 헤이즈값이 1.5% 이하인 것이 바람직하고, 1% 이하인 것이 보다 바람직하다.
또한, 도전성 시트(70)는 본 발명의 광학용 시트이기도 하다.
(도전층)
도전층(2)은 투명한 도전성의 막이다.
도전층(2)은 표면형 정전 용량식 터치 패널 등에 사용되는, 실질적으로 균일한 두께로 투명 필름(3)의 전면에 형성된 균일층이어도 되고, 투영형 정전 용량 방식의 터치 패널 등에 사용되는, 위치 검지를 위해 형성된 규칙적인 패턴을 갖는 도전층이어도 된다.
또한, 균일층의 경우에도 터치 패널의 구성 등에 따라, 인출 전극 등의 형성을 위해, 도전층(2)의 일부가 패턴화되어 있어도 된다.
여기서 실질적으로 균일한 두께란, 산술 표면 조도가 5㎚ 이하인 것을 의미한다.
도전층(2)의 재질로는, 유기계 도전제 및 금속 재료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개인 것이 바람직하다.
금속 재료로는, 예를 들면, 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬, 티탄, 철, 코발트, 주석, 이들의 합금 등의 금속; 인듐-주석 산화물(Indium Tin Oxide(ITO)), 인듐-아연 산화물(Indium Zinc Oxide(IZO)), 산화아연(Zinc Oxide(ZnO)), 아연-주석 산화물(Zinc Tin Oxide(ZTO)) 등의 금속 산화물; 요오드화구리 등으로 이루어지는 다른 금속 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 유기계 도전제 로는, PEDOT/PSS 등의 도전성 수지 등을 들 수 있다. 또한, PEDOT/PSS는 PEDOT(3,4-에틸렌디옥시티오펜의 폴리머)와 PSS(스티렌술폰산의 폴리머)를 공존시킨 폴리머 컴플렉스이다.
도전층(2)의 두께는 도전성, 투명성 등을 고려하여 적절히 설정된다. 도전층(2)의 도전성은 터치 패널용의 전극판으로 하기 위해, 105Ω/sq 이하의 표면 저항률을 갖는 것이 바람직하고, 103Ω/sq 이하의 표면 저항률을 갖는 것이 보다 바람직하다. 이러한 표면 저항률을 달성하기 위해, 금속계의 도전층의 경우, 그 두께는 30∼600Å이 바람직하고, 50∼500Å이 보다 바람직하다. 또한, 금속 산화물계의 도전층의 경우, 그 두께는 80∼5000Å이 바람직하고, 100∼4000Å이 보다 바람직하다.
도전층(2)은 공지의 방법에 의해 형성할 수 있다.
예를 들면, 도전층(2)이 균일층인 경우, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 스프레이 열 분해법, 화학 도금법, 전기 도금법, 도포법, 혹은 이들의 조합법 등의 박막 형성법 등에 의해 형성할 수 있다. 막의 형성 속도나 대면적 막의 형성성, 생산성 등의 관점에서, 진공 증착법이나 스퍼터링법이 바람직하다.
도전층(2)에 규칙적인 패턴을 형성하는 방법으로는, 각종 인쇄 방식 등에 의해, 투명 기재층(3)의 전면에, 미리 부분적으로 도전층(2)을 형성하는 방법으로 형성해도 되고, 또는, 상기와 같이 균일층을 형성한 후, 그 일부를 에칭 등에 의해 제거하여 형성해도 된다.
도전층(2)과 투명 기재층(3)의 밀착성을 높이기 위해, 투명 기재층(3)의 표면에 코로나 방전 처리, 자외선 조사 처리, 플라즈마 처리, 스퍼터 에칭 처리, 언더 코트 처리 등의 적절한 전처리를 실시해도 된다.
도 6은 도전성 시트의 또 다른 예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 6에 나타내는 도전성 시트(71)는 도전성 시트(70)의 요철층(4) 위에, 추가로 반사 방지층(43)을 형성한 것이다.
즉, 본 발명의 도전성 시트의 하나의 측면은, 본 발명의 광학용 시트와, 도전층과, 반사 방지층을 구비하는 도전성 시트로서, 상기 도전층은 본 발명의 광학용 시트의 투명 기재층의 제2 면에 적층되고, 상기 반사 방지층은 본 발명의 광학용 시트의 요철층 위에 적층되어 있는 도전성 시트이다.
반사 방지층(43)의 요철면(43a)은 요철층(4)의 요철면 위에 형성되는 점에서, 상기 요철면의 형상이 반사 방지층(43)에 반영되어 있다. 즉, 반사 방지층(43)의 요철면(43a)의 표면은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이다.
도 5 또는 도 6의 도전성 시트는 도전층(2)의 투명 기재층(3)과 반대측의 면에 점착층 또는 접착층을 형성해도 된다.
(반사 방지층)
반사 방지층(43)은 투명 기재보다 굴절률이 낮은 층으로서, 도전성 시트(71)의 반사 방지층(43)측에서의 광의 반사를 억제하여, 광투과성을 높이는 역할을 달성한다. 유리나 결정재, 플라스틱 등에서는 그 표면에 있어서, 입사광에 대해 수% 정도의 반사광이 발생하지만, 도전성 시트(71)에서는 반사 방지층(43)에 의해 표면 반사를 경감시켜, 투과율을 증가시킬 수 있다.
반사 방지층(43)의 두께는 50∼150㎚인 것이 바람직하고, 60∼140㎚인 것이 보다 바람직하다. 반사 방지층(43)의 두께가 50㎚ 이상이면, 광의 간섭에 의한 반사 방지 효과가 얻어지기 쉽다. 반사 방지층(43)의 두께가 150㎚ 이하이면, 요철층(4)에 대한 밀착성이 양호해진다. 상기 두께는 비접촉식 막두께계(Filmetrics사 제조 F20)를 이용하여 측정한 값을 가리킨다.
반사 방지층(43)의 굴절률은 광의 반사를 억제하기 쉬운 점에서, 1.25∼1.45가 바람직하고, 1.30∼1.40이 보다 바람직하다. 반사 방지층(43)의 굴절률은 반사 방지층(43)을 구성하는 재료에 의해 조정할 수 있다. 또한, 굴절률은 JIS K7142에 준거한 방법으로 측정할 수 있다.
반사 방지층(43)은 굴절률을 저하시키기 위해 첨가되는 무기계 규소 함유 화합물과, 바인더 수지를 함유하는 층인 것이 바람직하다.
무기계 규소 함유 화합물로는, 실리카가 바람직하고, 반사 방지층(43)의 굴절률을 낮게 하기 쉬운 점에서, 중공 실리카가 특히 바람직하다.
중공 실리카의 평균 입자 직경은 5∼180㎚가 바람직하고, 30∼100㎚가 보다 바람직하다. 중공 실리카의 평균 입자 직경이 5㎚ 이상이면, 굴절률을 낮게 하기 쉽다. 중공 실리카의 평균 입자 직경이 180㎚ 이하이면, 반사 방지층(43)에 상기 중공 실리카가 조밀하게 충전될 수 있고, 반사 방지층(43)의 굴절률을 저하시키기 쉬워지기 때문에 바람직하다. 또한, 상기 평균 입자 직경은 주사형 전자현미경에 의해 100개 이상의 입자를 촬영해, 입자의 외형이 명료하게 촬영되고 있는 입자를 선택하여 그 입자의 가장 긴 직경을 측정하고, 그 전부의 측정값의 합계값을 측정 개수로 나눈 값을 의미한다.
또한, 중공 실리카는 중공 부분이 많을수록 굴절률을 저하시키기 쉬운 점에서, 평균 입자 직경에 대한 외부 쉘의 두께가 얇은 것이 바람직하다. 즉, 중공 부분의 비율이 중공 실리카의 총 체적에 대해, 15∼70%인 것이 바람직하다.
바인더 수지로는, 예를 들면, 상술한 요철층(4)의 설명에서 예시한 열경화성 또는 활성 에너지선 경화성 수지 성분을 들 수 있다. 그 중에서도, 표면 경도, 투명성, 찰상성 등이 우수한 점에서, 활성 에너지선 경화성 수지 성분이 바람직하고, 다관능 (메타)아크릴 모노머를 중합시켜 얻어지는 중합체가 보다 바람직하다.
또한, 바인더 수지로는, 반사 방지층(43)의 굴절률을 낮게 하기 쉬운 점에서, 실리콘 화합물을 사용하는 것도 바람직하다. 실리콘 화합물로는, 예를 들면, 알킬렌기(에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 헥실렌기, 옥틸렌기 등), 시클로알킬렌기(시클로헥실렌기 등), 아릴렌기(페닐렌기 등), 알킬기(메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 옥틸기, 데실기 등), 시클로알킬기(시클로헥실기 등), 알케닐기(비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 부테닐기, 헥세닐기 등), 아르알킬기(페닐기, 트릴기 등의 아릴기, 벤질기, 페닐에틸기 등) 등을 갖는 오르가노폴리실록산을 들 수 있다.
또한, 바인더 수지로서 함불소 수지를 사용해도 된다.
반사 방지층(43) 중의 무기계 규소 함유 화합물의 함유량은 반사 방지층(43)의 고형분을 100질량%로 했을 때, 그 고형분에 대해 20∼80질량%가 바람직하고, 30∼70질량%가 보다 바람직하다. 무기계 규소 함유 화합물의 함유량이 20질량% 이상이면, 반사 방지층(43)의 굴절률이 충분히 낮아져, 높은 광투과율이 얻어지기 쉽다. 무기계 규소 함유 화합물의 함유량이 80질량% 이하이면, 반사 방지층(43) 중의 바인더 수지가 부족한 것을 억제하기 쉽다.
반사 방지층(43) 중의 바인더 수지의 함유량은 반사 방지층(43)의 고형분을 100질량%로 했을 때, 그 고형분에 대해 20∼80질량%가 바람직하고, 30∼70질량%가 보다 바람직하다. 바인더 수지의 함유량이 20질량% 이상이면, 요철층(4)과의 밀착성이 향상된다. 바인더 수지의 함유량이 80질량% 이하이면, 반사 방지층(43) 중의 무기계 규소 함유 화합물이 부족하지 않아, 반사 방지층(43)의 굴절률을 낮게 하기 쉽다.
반사 방지층(43)은 예를 들면, 상기 무기계 규소 함유 화합물 및 바인더 수지를 필수 성분으로서 포함하고, 필요에 따라 다른 성분을 함유하는 반사 방지층 형성용 조성물을 요철층(4) 상에 도공하여, 경화시킴으로써 형성할 수 있다.
반사 방지층 형성용 조성물에는 요철 수지층 형성용 재료와 동일하게 경화를 촉진시키기 위해, 광중합 개시제를 함유시키는 것이 바람직하다. 또한, 광증감제를 추가로 함유시켜도 된다. 또한, 반사 방지층 형성용 조성물은 요철 수지층 형성용 재료와 동일하게 용제를 함유해도 된다. 반사 방지층 형성용 조성물에 사용하는 용제로는, 예를 들면, 요철 수지층 형성용 재료로 든 용제를 들 수 있고, 바람직한 양태도 동일하다.
반사 방지층 형성용 조성물 중의 무기계 규소 함유 화합물의 배합량은 반사 방지층 형성용 조성물의 고형분(100질량%)에 대해, 20∼80질량%가 바람직하고, 30∼70질량%가 보다 바람직하다. 무기계 규소 함유 화합물의 배합량이 20질량% 이상이면, 굴절률이 충분히 낮은 반사 방지층(43)이 얻어지기 쉽다. 무기계 규소 함유 화합물의 배합량이 80질량% 이하이면, 바인더 수지를 충분히 배합할 수 있고, 요철층(4)과의 밀착성이 우수한 도전성 시트를 얻는 것이 용이해진다.
반사 방지층 형성용 조성물 중의 바인더 수지의 배합량은 반사 방지층 형성용 조성물의 고형분(100질량%)에 대해, 20∼80질량%가 바람직하고, 30∼70질량%가 보다 바람직하다. 바인더 수지의 배합량이 20질량% 이상이면, 요철 수지층(42)과의 밀착성이 향상된다. 바인더 수지의 배합량이 80질량% 이하이면, 무기계 규소 함유 화합물을 충분히 배합할 수 있기 때문에, 반사율이 낮은 도전성 시트를 얻는 것이 용이해진다.
반사 방지층 형성용 조성물 중의 광중합 개시제의 배합량은 반사 방지층 형성용 조성물의 고형분(100질량%)에 대해, 0.5∼10질량%가 바람직하고, 2∼8질량%가 보다 바람직하다. 광중합 개시제의 배합량이 0.5질량% 이상이면, 경화 불량이 생기기 어렵다. 또한, 광중합 개시제는 10질량%를 초과하여 배합해도, 배합량에 알맞은 경화 촉진 효과는 얻어지지 않고, 비용도 비싸진다. 또한, 경화물 중에 광중합 개시제가 잔류하여 황변이나 블리드 아웃 등의 원인이 될 우려가 있다.
요철층(4) 상에 반사 방지층 형성용 조성물을 도공하는 방법으로는, 예를 들면, 상술한 요철 수지층 형성용 재료의 도공 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.
반사 방지층 형성용 조성물의 도공량은 형성하는 반사 방지층(43)의 두께에 따라 적절히 설정된다.
반사 방지층 형성용 조성물에 의해 요철층(4) 상에 형성한 도막은 바인더 수지가 활성 에너지선 경화성인 경우, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화시킬 수 있다. 활성 에너지선의 조사에 의한 경화는 상기 요철 수지층 형성용 재료에 의해 형성한 도막의 경화와 동일한 방법으로 실시할 수 있다. 바인더 수지가 열경화성인 경우, 가열로나 적외선 램프 등을 이용하여 가열함으로써 경화시킬 수 있다.
경화는 1단계로 행해도 되고, 예비 경화 공정과 본 경화 공정의 2단계로 나누어 행해도 된다.
도전성 시트(71)는 본 발명의 광학용 시트와 도전층(2)을 구비하는 것이다.
본 발명의 광학용 시트는 상술한 바와 같이, 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성된 요철면을 갖는 요철층을 구비하고, 또한, 헤이즈값이 1.5% 이하이다. 이 때문에, 본 발명의 광학용 시트와, 도전층(2)을 구비하는 도전성 시트(71)는 안티 블로킹 성능이 우수하다. 또한, 도전성 시트(71)는 본 발명의 광학용 시트이기도 하다.
또한, 도 6에는 요철면(4a)을 갖는 요철층(4) 상에 요철면(4a)의 형상을 반영하도록 반사 방지층(43)을 형성한 예를 나타냈지만, 본 발명의 도전성 시트는 이 예에 한정되지 않는다. 예를 들면, 요철층(4) 대신에, 표면이 평탄한 하드 코트층을 투명 기재층(3)의 일방의 면 상에 형성하고, 상기 하드 코트층 위에 요철면을 갖는 반사 방지층을 형성해도 된다. 이 경우, 요철면을 갖는 반사 방지층은 요철면(4a)을 갖는 요철층(4)의 형성 방법과 동일한 방법으로 형성할 수 있다. 즉, 반사 방지층 형성용 재료에 입자를 배합하는 방법, 용해성 파라미터(SP값)가 상이한 2종류의 수지 성분을 사용하여 반사 방지층을 형성한 후, 일방의 수지 성분을 상분리에 의해 석출시키는 방법 등을 들 수 있다.
도 9는 본 발명의 도전성 시트의 또 다른 예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 9의 도전성 시트(72)는 도전층(2)과, 투명 기재층(3)과, 굴절률 조정층(44)과, 요철층(4)이 이 순서로 적층된 구조를 갖는다. 요철층(4) 및 도전층(2)의 구성은 상기 도전성 시트(70)와 동일하다. 또한, 굴절률 조정층(44)은 투명 기재층(3)과 도전층(2) 사이에 형성되어 있어도 된다.
즉, 본 발명의 도전성 시트의 하나의 측면은 본 발명의 광학용 시트와, 도전층과, 굴절률 조정층을 갖는 도전성 시트로서, 상기 도전층은 본 발명의 광학용 시트의 투명 기재층의 제2 면에 적층되고, 상기 굴절률 조정층은 상기 광학용 시트의 투명 기재층과 요철층 사이에 형성되어 있거나, 또는 상기 광학용 시트의 투명 기재층과 도전층 사이에 형성되어 있는 도전성 시트이다.
(굴절률 조정층)
상기 굴절률 조정층(44)의 굴절률은 1.20∼1.45 또는 1.60∼2.00인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 굴절률이 1.20∼1.45인 굴절률 조정층을 저굴절층 으로 하고, 1.60∼2.00인 굴절률 조정층을 고굴절층으로 한다. 즉, 굴절률 조정층(44)은 저굴절률층 또는 고굴절률층인 것이 바람직하다.
저굴절층의 굴절률은 1.25∼1.45인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.30∼1.45이며, 더욱 바람직하게는 1.35∼1.40이다.
고굴절층의 굴절률은 1.60∼1.90인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.60∼1.80이며, 더욱 바람직하게는 1.60∼1.70이다.
저굴절층 및 고굴절층은 이미 굴절률이 알려져 있는 시판의 재료를 도공함으로써 형성할 수 있다. 즉, 굴절률 조정층(44)의 굴절률이란, 굴절률 조정층을 형성하기 위한 재료의 굴절률을 의미한다.
굴절률 조정층(44)이 고굴절률층인 경우, 그 두께는 0.01∼1.0㎛인 것이 바람직하고, 0.02∼0.5㎛인 것이 보다 바람직하며, 0.05∼0.3㎛인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 굴절률 조정층(44)이 저굴절률층인 경우, 그 두께는 0.01∼1.0㎛인 것이 바람직하고, 0.02∼0.5㎛인 것이 보다 바람직하며, 0.05∼0.2㎛인 것이 더욱 바람직하다.
도전성 시트(72)는 본 발명의 광학용 시트와 도전층을 구비하는 시트이기 때문에, 상기 도전성 시트(70)와 동일하게 안티 블로킹 성능이 우수하다.
본 발명의 하나의 양태는 본 발명의 도전성 시트를 구비하는 터치 패널과, 표시 부재와, 접합층을 구비하는 터치 패널이 형성된 표시 장치로서, 상기 터치 패널은 상기 표시 부재의 표면에 간극을 개재하여 배치되고, 또한, 상기 터치 패널의 외연부가 상기 접합층에 의해, 상기 표시 부재에 접합되어 있는 터치 패널이 형성된 표시 장치이다.
이하, 본 발명의 광학용 시트 또는 도전성 시트를 구비하는 표시 장치에 대해 설명한다.
도 2는 본 발명의 광학용 시트(50) 또는 도전성 시트(70)를 사용한 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(100)의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(100)는 맨 앞면에 편광판(12)이 배치된 액정 디스플레이(11)(표시 부재)와, 정전 용량식 터치 패널(이하, 간단히 「터치 패널」로 한다)(21)을 구비하고, 터치 패널(21)은 액정 디스플레이(11)의 전면에 편광판(12)과의 사이에 간극을 형성하여 배치되어 있다. 또한, 액정 디스플레이(11)의 외연부가 접합층(31)에 의해 터치 패널(21)에 접합되어 있다. 이로써 액정 디스플레이(11)의 전면과 터치 패널(21) 사이에 간극이 형성되어 있다.
터치 패널(21)은 유리 기판(1)과, 도전층(2)과, 투명 기재층(3)과, 요철층(4)을 구비한다. 유리 기판(1)은 점착층(7)을 개재하여 도전층(2) 위에 적층되어 있다. 도전층(2)의 이면, 즉, 투명 기재층(3)과 접하지 않는 면의 외연부에는 인쇄층(5)이 형성되어 있다.
투명 기재층(3)과, 투명 기재층(3)의 제1 면, 즉, 도전층(2)과 접하지 않는 측의 면에 형성된 요철층(4)에 의해 본 발명의 광학용 시트(50)가 구성되어 있다. 또한, 광학용 시트(50)와 투명 기재층(3)의 제2 면에 형성된 도전층(2)에 의해 본 발명의 도전성 시트(70)가 구성되어 있다. 또한, 도전성 시트(70)는 본 발명의 광학용 시트이기도 하다.
요철층(4)의 요철의 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있다.
이와 같이, 표시 부재와, 본 발명의 도전성 시트를 구비하는 터치 패널과, 접합층을 구비하고, 상기 터치 패널은 상기 표시 부재의 표면에 간극을 개재하여 배치되고, 또한, 상기 터치 패널의 외연부가 상기 접합층에 의해, 상기 표시 부재에 접합되어 있는 터치 패널이 형성된 표시 장치에 있어서, 상기 표시 부재의 표면과 상기 도전성 시트의 요철층이 간극을 개재하여 대향하도록 도전성 시트를 배치함으로써, 터치 패널이 표시 부재 방향으로 휘어, 표시 부재의 전면에 접촉했을 때 블로킹이 발생하기 어려워, 우수한 안티 블로킹 효과를 발휘한다.
〈액정 디스플레이(11)〉
액정 디스플레이(11)로는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 액정 디스플레이를 사용할 수 있다.
또한, 액정 디스플레이(11)는 터치 패널(21)과 대향하는 면에 요철을 갖고 있어도 된다. 상기 요철은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있는 것이 바람직하다.
〈터치 패널(21)〉
(유리 기판(1))
유리 기판(1)으로는 터치 패널 등에 사용되고 있는 공지의 유리판을 이용할 수 있다.
유리 기판(1)의 두께는 0.1㎜ 이상이 바람직하고, 0.2㎜ 이상이 보다 바람직하다. 0.1㎜ 이상이면, 터치 패널(11)의 강도도 충분한 것이 된다. 상한은 특별히 한정되지 않지만, 투명성의 관점에서, 3㎜ 이하가 바람직하고, 2㎜ 이하가 보다 바람직하다.
(점착층(7))
점착층(7)에 대한 설명은 상술한 점착층(17)과 동일하다. 단, 이들의 재질이나 두께는 동일해도 되고, 상이해도 된다.
(인쇄층(5))
인쇄층(5)은 내부 회로의 은폐, 장식 등을 위해 실시된다.
인쇄층(5)은 예를 들면, 착색제(안료, 염료)와, 바인더(폴리비닐계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아크릴계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리비닐아세탈계 수지, 폴리에스테르우레탄계 수지, 셀룰로오스에스테르계 수지, 알키드 수지)를 포함하는 착색 잉크를 인쇄함으로써 형성할 수 있다. 금속 발색시키는 경우에는 알루미늄, 티탄, 브론즈 등의 금속의 입자, 마이카에 산화티탄을 코팅한 펄 안료를 사용할 수 있다.
인쇄층(5)의 두께는 5∼50㎛인 것이 바람직하고, 10∼30㎛인 것이 보다 바람직하다.
인쇄층(5)의 형성 방법(인쇄 방법)으로는, 오프셋 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법 등이 적용되고, 스크린 인쇄법이 바람직하다.
〈접합층(31)〉
접합층(31)은 터치 패널과 표시 부재를 접합할 수 있는 것이면 특별히 한정 되지 않지만, 취급이 용이한 점에서, 점착제층인 것이 바람직하다. 접합층(31)으로서 바람직하게 사용되는 점착제로는, 상술한 점착층(7) 또는 점착층(17)에서 설명한 점착제와 동일하다. 단, 이들 재질이나 두께는 동일해도 되고, 상이해도 된다.
도 4는 본 발명의 광학용 시트(50) 또는 도전성 시트(72)를 구비하는 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(101)의 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(101)는 맨 앞면에 편광판(12)이 배치된 액정 디스플레이(11)와, 터치 패널(26)을 구비하고, 터치 패널(26)은 액정 디스플레이(11)의 전면에 편광판(12)과의 사이에 간극을 형성하여 배치되어 있다. 또한, 액정 디스플레이(11)의 외연부가 접합층(31)에 의해 터치 패널(26)에 접합되어 있다. 이로써, 액정 디스플레이(11)의 전면과 터치 패널(26) 사이에 간극이 형성되어 있다.
터치 패널(26)은 유리 기판(1)과, 필름 센서(60)와, 광학용 시트(50)를 구비한다. 광학용 시트(50)는 투명 기재층(3)과, 요철층(4)을 구비한다. 유리 기판(1)은 점착층(7)을 개재하여 필름 센서(60)의 전면에 적층되어 있다. 또한, 필름 센서(60)의 이면에는 점착층(7)을 개재하여 광학용 시트(50)가 적층되어 있다. 필름 센서(60)의 이면의 외연부에는 인쇄층(5)이 형성되어 있다. 도전성 시트(72)는 광학용 시트(50)와, 광학용 시트(50)의 이면에 점착층(7)을 개재하여 적층된 필름 센서(60)를 구비한다.
이와 같이, 요철층(4)이 편광판(12)과 대향하도록, 광학용 시트(50) 또는 도전성 시트(72)를 배치함으로써, 블로킹의 발생을 억제할 수 있다.
〈필름 센서(60)〉
필름 센서(60)는 투명 필름(9) 위에 도전층(6)을 형성한 것이다. 도 4에서는 광학용 시트(50)의 이면에 점착층(7)을 개재하여, 투명 필름(9)과 도전층(6)이 이 순서로 적층되어 있는 구성을 나타냈지만, 광학용 시트(50)의 이면에 도전층(6)과 투명 필름(9)이 이 순서로 적층되어 있는 구성이어도 된다.
투명 필름(9)으로는, 투명 기재층(3)에서 설명한 수지 필름을 들 수 있다. 도전층(6)으로는 도전층(2)에서 설명한 바와 동일한 것을 들 수 있다.
필름 센서(60)의 두께는 15∼300㎛인 것이 바람직하고, 40∼150㎛가 바람직하다. 필름 센서(60)의 두께란, 투명 필름(9)과 도전층(6)을 합한 두께를 가리킨다.
도 7은 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(102)의 구성을 설명하는 개략 단면도이다. 표시 장치(102)는 도 2의 표시 장치(101)의 전면(도 2의 유리 기판(1)의 상측)에 보호 시트(8)를 첩부한 것이다.
정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(102)는 터치 패널(21) 대신에 터치 패널(22)을 구비하는 것 이외에는 도 2의 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(101)와 동일한 구성이다.
터치 패널(22)은 유리 기판(1)의 전면측에 첩합된 보호 시트(8)를 추가로 구비하는 것 이외에는 터치 패널(21)과 동일한 구성이다.
보호 시트(8)는 공지의 하드 코트층으로 할 수 있다. 보호 시트(8)는 전면 또는 이면에 요철 형상이 형성되어 있을 필요는 없고, 전면 및 이면의 양면 모두 요철 형상이 형성되어 있지 않은 평탄한 면인 것이 바람직하다.
또한, 도 10은 본 발명의 도전성 시트를 사용한 다른 양태의 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(103)의 구성을 설명하는 개략 단면도이다.
정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(103)는 맨 앞면에 편광판(12)이 배치된 액정 디스플레이(11)와, 정전 용량식 터치 패널(25)을 구비한다. 터치 패널(25)은 액정 디스플레이(11)의 전면에 편광판(12)과의 사이에 간극을 형성하여 배치되고, 외연부가 접합층(31)에 의해 액정 디스플레이(11)에 고정되어 있다. 이로써, 액정 디스플레이(11)의 전면과 터치 패널(25)의 이면 사이에 간극이 형성되어 있다.
터치 패널(25)은 유리 기판(1)과, 유리 기판(1)의 이면에 형성된 도전층(2x)과, 점착층(7)과, 인쇄층(5)과, 도전성 시트(70)를 구비한다. 유리 기판(1) 및 도전층(2x)은 점착층(7)에 의해, 도전성 시트(70)의 전면에 밀착되어 있다. 도전성 시트(70)는 투명 기재층(3)과, 투명 기재층(3)의 전면에 형성된 도전층(2y)과, 투명 기재층(3)의 이면에 형성된 요철층(4)을 구비한다. 도전층(2y)의 전면의 외연부에는 인쇄층(5)이 형성되어 있다.
도전층(2x)은 가로축 방향의 위치를 검출하기 위한 도전층이며, 도전층(2y)은 세로축 방향의 위치를 검출하기 위한 도전층이다.
요철층(4)은 액정 디스플레이(11)와 대향하여, 미세한 요철을 갖고 있다. 투명 기재층(3)의 제1 면에 형성된 요철층(4)의 표면은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이며, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이다.
도 11은 본 발명의 도전성 시트(80)를 사용한 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(104)의 구성을 설명하는 개략 단면도이다.
정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(104)의 구성은 도전성 시트(80)를 사용하는 것 이외에는 도 4의 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(101)의 구성과 동일하다. 도전성 시트(80)는 제1 투명 기재층(3a)과, 제1 투명 기재층(3a)의 전면에 형성된 도전층(2x)과, 점착층(17)과, 제2 투명 기재층(3b)과, 제2 투명 기재층(3b)의 전면에 형성된 도전층(2y)과, 제2 투명 기재층(3b)의 이면에 형성된 요철층(4)을 구비한다. 제1 투명 기재층(3a)의 이면과 도전층(2y)은 점착층(17)을 개재하여 밀착되어 있다. 도전층(2x)의 전면의 외연부에는 인쇄층(5)이 형성되어 있다.
도전층(2x)은 가로축 방향의 위치를 검출하기 위한 도전층이며, 도전층(2y)은 세로축 방향의 위치를 검출하기 위한 도전층이다. 점착층(17)은 절연성 점착층이다.
요철층(4)은 액정 디스플레이(11)와 대향하여, 미세한 요철을 갖고 있다. 투명 기재층(3)과 접하는 측과는 반대측에 있어서의 요철층(4)의 표면은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이며, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이다.
도 12는 본 발명의 광학용 시트 또는 도전성 시트를 구비하는 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(105)의 구성을 설명하는 개략 단면도이다. 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(105)는 터치 패널의 이면뿐만 아니라, 액정 디스플레이의 전면에도 요철을 형성한 것이다.
정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치(105)는 액정 디스플레이(13)와, 터치 패널(26)을 구비하고, 터치 패널(26)은 액정 디스플레이(13)의 전면에 액정 디스플레이(13)와의 사이에 간극을 형성하여 배치되고, 외연부가 접합층(31)에 의해 액정 디스플레이(13)에 고정되어 있다.
액정 디스플레이(13)에 있어서는 편광판(12)의 전면에 점착제층(14)을 개재하여 광학용 시트(50)가 적층되어 있다. 즉, 액정 디스플레이(13)는 전면, 즉 터치 패널(26)과 대향하는 면에 요철을 갖고, 상기 요철은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한, 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있다. 이와 같이, 액정 디스플레이(13)의 전면에 배치된 광학용 시트(50)의 요철층이 터치 패널(26)의 광학용 시트(50) 또는 도전성 시트(72)의 요철층과 대향하도록, 각 광학용 시트 또는 도전성 시트를 배치함으로써, 안티 블로킹 성능을 더욱 향상시킬 수 있다.
터치 패널(26)은 터치 패널(21)이어도 되고, 터치 패널(25)이어도 된다. 또한, 액정 디스플레이(13)측에 요철을 갖지 않는 터치 패널이어도 된다.
점착제층(14)에 대한 설명은 점착층(7, 17)과 동일하다. 단, 이들의 재질이나 두께는 동일해도 되고, 상이해도 된다.
이상, 본 발명의 광학용 시트 및 도전 시트 및 상기 광학용 시트 또는 도전성 시트를 구비하는 표시 장치에 대해 설명했지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
예를 들면, 상기 설명에는 표시 장치의 표시 부재로서 액정 디스플레이를 사용한 예를 나타냈지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 음극선관(CRT) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 일렉트로 루미네선스(EL) 디스플레이 등의 각종 표시 부재를 이용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 한정되는 것은 아니다.
[광학용 시트 및 도전성 시트의 제조]
〈실시예 1〉
(요철 수지층 형성용 재료의 제조)
다관능 (메타)아크릴레이트로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(6관능 아크릴레이트, 상품명 A-DPH, 신나카무라 화학(주) 제조)를 100질량부, 입자 직경 50㎚의 콜로이달 실리카 분산액(오르가노 실리카 졸 L타입, 고형분 농도 30%, 닛산 화학 공업(주) 제조)을 20질량부, 광중합 개시제(상품명 IRGACURE184, BASF(주) 제조)를 4질량부 혼합하고, 메틸에틸케톤으로 고형분 농도 50%가 되도록 희석하여 요철 수지층 형성용 재료(1)를 제조하였다.
(도전층 형성용 조성물의 제조)
(3,4-에틸렌디옥시티오펜)을 폴리스티렌술폰산의 존재하에서 중합시킨 도전성 물질(PEDOT-PSS)을 포함하는 수분산액과, 바인더 성분의 수지 성분인 폴리에스테르계 수지(상품명 바일로날 MD1200, 도요보(주) 제조), 레벨링제(상품명 KP-110, 신에츠 화학 공업(주) 제조)를 고형분으로서 1:1:1의 질량비로 혼합하고, 고형분 농도 1%가 되도록 메탄올로 희석하여 혼합액 A로 하였다.
이 혼합액 A와, 함질소 실란 커플링제인 이소시아누레이트계 실란 커플링제(상품명 X-12-965, 신에츠 화학 공업(주) 제조)를 메탄올로 희석하여 1% 용액으로 한 것을 100:30의 질량비로 혼합하여, 도전층 형성용 도포액을 제조하였다.
투명 기재로서 두께 100㎛의 PET 필름(상품명 A4300, 도요보(주) 제조)을 사용하여, 이 투명 기재 상에 상술한 요철 수지층 형성용 재료(1)를 바 도공하였다. 그 후, 80℃에서 60초간 가열 건조시키고, 고압 수은 램프 자외선 조사기(아이그라픽스(주) 제조)를 이용해, 160W/㎝, 램프 높이 13㎝, 벨트 스피드 10m/min, 질소 분위기하에서 자외선 조사하여 두께 3㎛의 수지층을 경화 형성함으로써, 요철층을 구비하는 광학용 시트를 얻었다. 얻어진 광학용 시트에 대해, 이하의 방법으로 표면 조도, 헤이즈값의 측정, 블로킹의 평가를 행하였다.
그 후, 광학용 시트의 투명 기재의 요철층이 형성되어 있지 않은 제2 면에 도전층 형성용 조성물을 바 도공하였다. 그 후, 120℃에서 120초간 가열 건조시키고, 두께 0.2㎛의 도전층을 형성시켜 도전성 시트를 얻었다. 얻어진 도전성 시트의 헤이즈값을 광학용 시트와 동일한 방법으로 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
〈표면 조도의 측정 방법〉
마이크로 레이저 현미경((주) KEYENCE 제조 측정부 VK-X105 컨트롤러부 VK-X100)을 이용해 배율 200배로 표면 관찰을 행하고, 화상 판독을 행하였다. 얻어진 화상에 대해, 측정 에어리어를 100㎛×100㎛로 하여 상기 마이크로 레이저 현미경에 부속된 해석 소프트웨어를 이용해, 선 조도를 JIS B0601:2001에 기초하여 제곱 평균 제곱근 높이 Rq 및 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq, 산술 평균 조도 Ra, 윤곽 곡선 요소의 평균 길이 RSm을 산출하였다.
〈헤이즈(투명성)의 평가〉
광학용 시트 및 도전성 시트의 헤이즈값을 JIS K 7136에 기초하여, 닛폰 전색 공업(주) 제조의 NDH4000을 이용하여 측정하였다.
〈블로킹의 평가〉
경화형 수지면을 갖는 편광판을 준비하고, 광학용 시트의 요철층면을 편광판표면에 올리고, 편광판 표면에 수지면을 손가락으로 가압했을 때의 첩부를 육안으로 확인하였다. 이 때, 첩부가 발생하지 않는 경우를 블로킹 평가 ○로 하고, 첩부가 발생하는 경우를 블로킹 평가 ×로 하였다.
〈실시예 2〉
요철 수지층 형성용 재료(1)의 평균 입자 직경 50㎚의 콜로이달 실리카 분산액의 첨가량을 40질량부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
〈실시예 3〉
요철 수지층 형성용 재료(1)의 평균 입자 직경 50㎚의 콜로이달 실리카 분산액을 평균 입자 직경 100㎚의 콜로이달 실리카 분산액(오르가노 실리카 졸 Z타입, 고형분 농도 30%, 닛산 화학 공업(주) 제조)으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
〈실시예 4〉
요철 수지층 형성용 재료(1)를 용해성 파라미터가 상이한 2종류의 수지(상품명 루시프랄 NAB-007 고형분 농도 40% 닛폰 페인트(주) 제조)를 포함하는 요철 수지층 형성용 재료(2)로 변경하고, 투명 기재 상에 도공해, 가열 건조를 100℃에서 30초간 행하여, 일방의 수지를 상분리에 의해 석출시킨 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
〈실시예 5〉
두께 100㎛의 PET 필름의 투명 기재 상에 굴절률 1.65의 고굴절층 형성용 재료(상품명 OPSTAR(등록상표) KZ6719 고형분 20%, JSR(주) 제조)를 바 도공하고, 80℃에서 60초간 가열 건조시켜, 두께 0.2㎛의 고굴절층(굴절률 조정층)을 형성하였다. 추가로, 고굴절층상에 요철 수지층 형성용 재료(1)를 바 도공한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
〈실시예 6〉
요철층의 두께를 10㎛로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
〈실시예 7〉
다관능 (메타)아크릴 모노머로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(상품명 A-DPH, 신나카무라 화학(주) 제조) 100질량부, 평균 입자 직경 60㎚의 중공 실리카 분산 졸(상품명 스루리아 CS-60IPA, 고형분 20중량%, 실리카 입자의 굴절률 1.31, 닛키 촉매 화성(주) 제조) 750질량부, 광중합 개시제(상품명 Irgacure184, BASF(주) 제조) 5질량부를 혼합하고, 이소프로필알코올로 고형분이 5질량%가 되도록 희석하여 저굴절률층 형성용 조성물을 제조하였다. 이 조성물의 굴절률은 1.37이었다.
두께 100㎛의 PET 필름의 투명 기재 상에, 저굴절률층 형성용 조성물을 바 도공하고, 80℃에서 60초간 가열 건조시켜, 두께 0.1㎛의 저굴절층(굴절률 조정층)을 형성하였다. 추가로, 저굴절층 상에 요철 수지층 형성용 재료(1)를 바 도공한 것 이외에는 실시예 5와 동일하게 하여 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
〈비교예 1〉
요철 수지층 형성용 재료(1)에 있어서, 콜로이달 실리카 입자를 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
〈비교예 2〉
요철 수지층 형성용 재료(1)에 있어서, 평균 입자 직경 50㎚의 콜로이달 실리카 분산액 대신에 평균 입자 직경 1400㎚의 실리카 입자(상품명 실리시아 310, 후지 실리시아 화학(주) 제조)를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
〈비교예 3〉
요철층의 두께를 20㎛로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 광학용 시트 및 도전성 시트를 제조하였다.
상기 실시예 및 비교예의 결과를 하기 표 1에 정리한다.
Figure 112016048946888-pct00001
표 1에 나타내는 바와 같이, 본원의 광학용 시트 및 도전성 시트는 투명성이 우수하고, 안티 블로킹 성능도 우수하였다. 한편, 비교예 1∼3의 광학용 시트 및 도전성 시트는 헤이즈값 또는 블로킹 평가 중 어느 것이 떨어져 있었다. 비교예 2에서는 입자의 평균 입자 직경이 1400㎚로 크기 때문에 입자가 필름 표면에 나오기 어려워, 수지층 내부에 존재하고 있기 때문에, 제곱 평균 제곱근 높이 및 제곱 평균 제곱근 경사의 값이 작았지만, 평균 입자 직경 1400㎚의 실리카 입자를 사용했기 때문에 헤이즈값이 높았다.
본 발명에 의하면, 터치면의 밝기가 양호한 등의 우수한 광학적 성능을 갖고, 또한 블로킹이 발생하기 어려운 광학용 시트 및 도전성 시트 및 상기 광학용 시트를 구비하는 터치 패널이 형성된 표시 장치를 제공할 수 있다.
1: 유리 기판
2, 2x, 2y: 도전층
3, 3a, 3b: 투명 기재층
4: 요철층
4a: 요철면
5: 인쇄층
6: 도전층
7, 17: 점착층
8: 보호 시트
9: 투명 필름
11: 액정 디스플레이
12: 편광판
18: 접착층
21, 22: 정전 용량식 터치 패널
31: 접합층
43: 반사 방지층
44: 굴절률 조정층
50, 51: 광학용 시트
70, 71, 72: 도전성 시트
101∼104: 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치
200: 종래의 정전 용량식 터치 패널이 형성된 표시 장치

Claims (11)

  1. 제1 면과, 제1 면의 반대측의 제2 면을 갖는 투명 기재층과, 적어도 상기 투명 기재층의 제1 면에 적층된 요철층을 갖고,
    상기 요철층이 입자를 실질적으로 함유하지 않는 다상계 수지층이고,
    상기 요철층의 요철은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있으며,
    헤이즈값이 1.5% 이하이고,
    상기 요철층이, 용해성 파라미터(SP값)가 상이한 2종류의 수지를 함유하는 요철 수지층 형성용 재료를 상기 투명 기재층의 제1 면에 도공한 후, 일방의 수지를 상분리에 의해 석출시킴으로써 형성된 것인 광학용 시트.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 요철층의 요철은 윤곽 곡선 요소의 평균 길이가 40∼200㎛이고, 산술 평균 조도가 15∼400㎚이도록 구성되어 있는 광학용 시트.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 요철층의 두께가 1∼15㎛인 광학용 시트.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    추가로 상기 투명 기재층의 제2 면측에 점착층 또는 접착층을 구비하는 광학용 시트.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항의 광학용 시트와 도전층을 갖고, 상기 도전층은 상기 광학용 시트의 상기 투명 기재층의 제2 면에 적층되어 있는 도전성 시트.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 도전층이 유기계 도전제 및 금속 재료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 재질을 포함하는 도전성 시트.
  7. 제 5 항의 도전성 시트를 갖는 터치 패널.
  8. 표시 부재와, 제 7 항의 터치 패널과, 접합층을 구비하는 터치 패널이 형성된 표시 장치로서,
    상기 터치 패널은 상기 표시 부재의 표면에 간극을 개재하여 배치되고, 또한 상기 터치 패널의 외연부가 상기 접합층에 의해, 상기 표시 부재에 접합되어 있는 터치 패널이 형성된 표시 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 표시 부재는 상기 터치 패널과 대향하는 면에 요철을 갖고, 상기 요철은 제곱 평균 제곱근 높이가 0.02∼0.2㎛이고, 또한 제곱 평균 제곱근 경사가 0.01∼0.1이도록 구성되어 있는 터치 패널이 형성된 표시 장치.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    표시 부재의 표면과 상기 요철층이 대향하도록 간극을 개재하여 배치되는 광학용 시트.
  11. 삭제
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