KR101688842B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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김선욱
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주성엔지니어링(주)
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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 복수의 공정 챔버와, 적어도 하나의 로드락 챔버와, 적어도 하나의 이송 챔버를 포함하고, 로드락 챔버를 통해 기판의 반입 및 반출이 직선 방향으로 수행되는 기판 처리 장치로서, 내부에 소정의 공간이 마련되며, 로드락 챔버는 일 측 및 타 측의 서로 다른 위치에 기판의 반입 및 반출 게이트가 마련된 챔버 바디와, 상기 챔버 바디 내에 마련되며, 반입되는 상기 기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대 하측에 마련되며, 상기 지지대를 승하강시키는 승강부를 포함한다.

Description

기판 처리 장치{Substrate processing apparatus}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 특히 대면적 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등의 평판 표시 장치(Flat Panel Display)는 반도체 제조 공정을 이용하여 제조하고 있다. 평판 표시 장치는 사용자의 요구와 제조 기술의 발달 등에 따라 대면적 기판 상에 구현되고 있다. 또한, 평판 표시 장치 뿐만 아니라 태양 전지도 반도체 제조 공정을 이용하여 대면적 기판 상에 구현되고 있다.
반도체 제조 공정은 증착, 사진 및 식각 등의 공정을 포함하고, 이러한 공정을 복수 회 반복하여 평판 표시 장치 또는 태양 전지를 제조하고 있다. 각각의 공정은 해당 공정의 진행을 위해 최적의 환경이 조성된 공정 챔버에서 진행된다. 특히, 최근에는 단시간에 많은 기판을 처리할 수 있도록 일정한 간격으로 배치되는 복수 개의 공정 챔버가 연속적으로 구비된 인라인 장비를 이용하여 공정을 진행하고 있다.
인라인 장비는 소정의 공정을 진행하기 위한 복수 개의 공정 챔버와, 해당 공정 챔버로 기판이 반입되기 전에 기판이 공정 챔버로 반입할 수 있도록 환경을 조성하는 로드락 챔버(Load lock Chamber)와, 공정 챔버와 로드락 챔버를 연결하며 로드락 챔버 내의 기판을 해당 공정 챔버로 이송하거나 해당 공정 챔버 내의 기판을 로드락 챔버로 이송하는 로봇 아암이 설치되는 이송 챔버(Transfer Chamber)를 구비한다.
또한, 로드락 챔버의 적어도 일단, 예를 들어 후단에는 기판을 이송하기 위한 이송 수단이 마련된다. 그런데, 기판이 반출되는 로드락 챔버의 반출 게이트와 이송 수단은 위치가 차이나고, 이에 따라 이들 사이의 위치를 조절하는 승강 수단이 마련된다. 따라서, 로드락 챔버로부터 반출되는 기판은 승강 수단에 의해 기판의 위치가 조절된 후 이송 수단에 의해 이송된다. 승강 수단 및 이송 수단은 이송 챔버 내에 마련될 수도 있고, 로드락 챔버와 이송 챔버 사이에 마련될 수도 있다. 또한, 이송 수단 및 승강 수단은 로드락 챔버의 전단에도 마련될 수 있다.
이렇게 종래의 인라인 기판 처리 장치는 로드락 챔버와 승강 수단이 별도로 구성된다. 그런데, 로드락 챔버와 승강 수단이 별도로 구성되면 인라인 기판 처리 장치의 면적 및 부피가 증가하게 된다. 즉, 승강 수단은 기판의 전 면적을 지지하여 승강하기 때문에 기판이 지지되는 부분은 기판의 면적보다 큰 면적을 가져야 하고, 기판의 크기가 증가할수록 승강 수단이 차지하는 면적 및 부피도 증가하게 되어 기판 처리 장치의 면적 및 부피가 증가하게 된다. 따라서, 기판 처리 장치의 설치 공간이 많이 필요하게 된다. 또한, 승강 수단이 포함되는 만큼 기판의 이송 거리가 길어지기 때문에 파티클 소오스가 증가하게 된다. 파티클은 기판 상에 낙하되어 기판 상에 형성되는 평판 표시 장치 등의 동작에 문제를 발생시킬 수 있다.
본 발명은 면적 및 부피를 줄일 수 있고, 기판의 이송 거리를 줄일 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 로드락 챔버와 승강 수단이 일체로 구성된 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 로드락 챔버 내의 기판을 지지하는 지지대의 하측에 승강 수단을 마련하여 로드락 챔버 내에서 기판의 위치를 조절할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 양태에 따른 기판 처리 장치는 내부에 소정의 공간이 마련되며, 직선 방향으로 서로 대향하는 일 측 및 타 측의 서로 다른 위치에 기판의 반입 및 반출 게이트가 마련된 챔버 바디; 상기 챔버 바디 내에 마련되며, 반입되는 상기 기판을 지지하는 지지대; 및 상기 지지대 하측에 마련되며, 상기 지지대를 승하강시키는 승강부를 포함한다.
상기 지지대는 적어도 둘 이상이 적층된다.
상기 지지대는 상부에 롤러가 마련되어 상기 기판을 이동시킨다.
상기 지지대는 판 형상의 지지판; 상기 지지판 상에 마련된 적어도 두 가이드 블럭; 및 상기 가이드 블럭 사이에 마련되며 상기 롤러가 장착된 복수의 롤러 샤프트를 포함한다.
상기 기판의 진입 방향으로 상기 지지대의 말단에 마련된 스토퍼를 더 포함한다.
본 발명의 다른 양태에 따른 기판 처리 장치는 복수의 공정 챔버와, 적어도 하나의 로드락 챔버와, 적어도 하나의 이송 챔버를 포함하고, 상기 로드락 챔버를 통해 기판의 반입 및 반출이 직선 방향으로 수행되는 기판 처리 장치로서, 상기 로드락 챔버는 내부에 소정의 공간이 마련되며, 직선 방향으로 서로 대향되는 일 측 및 타 측의 서로 다른 위치에 기판의 반입 및 반출 게이트가 마련된 챔버 바디; 상기 챔버 바디 내에 마련되며, 반입되는 상기 기판을 지지하는 지지대; 및 상기 지지대 하측에 마련되며, 상기 지지대를 승하강시키는 승강부를 포함한다.
상기 로드락 챔버의 전단 및 후단에 마련된 이송 수단을 더 포함한다.
상기 이송 수단들은 상기 반입 및 반출 게이트에 대응하여 높이가 다르게 마련된다.
본 발명은 로드락 챔버 내에 기판을 지지하고 이송하는 지지대와, 지지대를 승강하는 승강부가 마련된 인라인 기판 처리 장치를 제공한다. 따라서, 로드락 챔버 내에서 기판의 위치를 전단 및 후단의 이송 수단의 높이로 조절할 수 있으며, 그에 따라 로드락 챔버 후단에 승강 수단을 별도로 마련하지 않아도 된다. 로드락 챔버 후단에 승강 수단이 마련되지 않기 때문에 기판 처리 장치의 면적 및 부피를 줄일 수 있고, 파티클 소오스를 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 인라인 기판 처리 장치의 개략도.
도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 로드락 챔버의 종단면도 및 횡단면도.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 로드락 챔버의 지지대의 사시도.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구동 방법을 설명하기 위해 공정 순으로 도시한 로드락 챔버의 종단면도
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 로드락 챔버의 종단면도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 인라인 기판 처리 장치의 개략도이고, 도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 로드락 챔버의 종단면도 및 횡단면도이다. 또한, 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 로드락 챔버의 지지대의 사시도이다.
도 1, 도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 복수의 공정 챔버(100), 로드락 챔버(200) 및 이송 챔버(300)를 포함하는 클러스터 타입으로 이루어지고, 각각이 인라인(inline) 형태로 배치되는 구조를 가지며, 기판의 반입 및 반출 또한 인라인 형태로 실시된다.
공정 챔버(100)는 소정의 온도 및 압력, 예를 들어 고온 및 저압의 상태에서 기판 상에 증착, 식각 등의 공정을 진행한다. 이때, 대기압 상태에 있는 기판을 고온 저압의 공정 챔버(100)로 바로 반입시키기 어렵기 때문에 기판을 공정 챔버(100)로 이송하기 전에 공정 챔버(100)와 동일한 환경을 조성해 주어야 하는데, 이러한 역할을 로드락 챔버(200)가 담당한다. 즉, 로드락 챔버(200)는 외부로부터 기판이 공정 챔버(100)로 반입되기 전 또는 공정 챔버(100)로부터 기판이 외부로 반출되기 전에 공정 챔버(100)의 환경 또는 외부의 환경과 실질적으로 동일한 상태로 기판을 수용한다. 따라서, 로드락 챔버(200)는 대기압 또는 진공 상태를 반복적으로 유지하게 된다. 또한, 이송 챔버(300)는 로드락 챔버(200)와 공정 챔버(100) 사이에 마련되어 이들을 연결하며, 그 내부에 이송 로봇이 마련되어 로드락 챔버(200)와 공정 챔버(100) 간에 기판을 반입하거나 반출하는 중간 통로로 기능한다. 이송 챔버(300)는 항상 진공 분위기로 유지되어 공정 챔버(100) 내의 기판을 반출하거나 공정 챔버(100) 내로 기판을 반입하는 때에도 공정 챔버(100) 내부의 분위기가 진공 분위기로 유지될 수 있도록 한다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 공정 챔버(100) 및 이송 챔버(300)의 구조는 거의 변경되지 않고 로드락 챔버(200)의 구조 및 기능에 대해 중점적으로 설명하겠다.
로드락 챔버(200)는 내부에 소정의 공간이 마련되는 챔버 바디(210)와, 챔버 바디(210)의 하측에 마련되어 기판(S)을 지지하는 지지대(220)와, 지지대(220)의 하측에 마련되어 지지대(220)를 승강시키는 승강부(230)를 포함한다.
챔버 바디(210)는 대략 판 형상의 상부면(212)과, 상부면(212)으로부터 하측으로 연장된 측부면(214)을 포함한다. 또한, 측부면(214)의 하측에 상부면(212)과 대향되는 하부면(218)이 마련되어 챔버 바디(210)가 밀폐된 형상으로 제작될 수 있다. 그러나, 하부면(218)이 마련되지 않고 챔버 바디(210)는 내부에 소정의 공간이 마련되고 하측이 개방된 형태로 제작될 수도 있다. 상부면(212)은 대략 직사각형의 판 형상으로 마련될 수 있고, 기판(S)의 크기보다 넓은 내부 공간을 마련하기 위해 기판(S) 크기보다 크게 마련된다. 또한, 측부면(214)은 상부면(212)의 외측으로부터 하측으로 연장되어 마련된다. 측부면(214)에 의해 챔버 바디(210)의 높이가 결정되는데, 기판(S)이 반입되고 지지대(220)의 승강에 필요한 충분한 공간을 마련하기 위해 측부면(214)은 지지대(220)의 승강 높이보다 높게 제작된다. 또한, 기판(S)이 이동하는 방향으로 서로 대향되는 두 측부면(214)에는 반입 및 반출 게이트(216a 및 216b)가 마련될 수 있다. 반입 및 반출 게이트(216a 및 216b)를 통해 기판(S)이 챔버 바디(210) 내부의 공간으로 반입 및 반출되며, 이들은 기판(S)의 반입 및 반출 위치에 따라 서로 다른 위치에 마련될 수 있다. 즉, 기판(S)의 반입 높이와 반출 높이가 다를 수 있는데, 본 실시 예에서는 반입 높이가 반출 높이보다 높아 반입 게이트(216a)가 반출 게이트(216b)보다 높은 위치에 마련된다. 한편, 챔버 바디(210)의 상부면(212) 및 측부면(214)의 적어도 어느 하나에는 적어도 하나의 배기관(미도시) 및 공급관(미도시)이 마련된다. 배기관은 로드락 챔버(200)의 압력을 조절하기 위해 진공 펌프(미도시)에 연결될 수 있다. 또한, 공급관은 로드락 챔버(200) 내에 분위기 가스를 제공하기 위해 가스 공급원(미도시)과 연결될 수 있다. 이때, 분위기 가스로는 불활성 가스를 이용할 수 있는데, 예를 들어 질소(N2) 가스가 이용될 수 있다.
지지대(220)는 대략 판 형상의 지지판(221)과, 지지판(221) 상에 마련된 가이드 블럭(222)과, 가이드 블럭(222) 사이에 마련된 복수의 롤러 샤프트(223)와, 롤러 샤프트(223)에 장착된 복수의 롤러(224)와, 지지대(220) 말단에 마련된 스토퍼(225)를 포함한다. 지지판(221)은 소정 두께를 갖는 대략 직사각형으로 마련되며, 챔버 바디(210)의 내부 공간, 즉 측부면(214) 사이의 공간에 대응되는 크기로 마련된다. 지지판(221)은 챔버 바디(210)의 내부를 상측 및 하측으로 수직 이동한다. 또한, 지지판(221)의 측면에는 기밀 부재(미도시)가 마련될 수 있다. 기밀 부재는 지지판(221) 상측의 챔버 바디(210) 내부의 기밀을 유지하거나, 측부면(224)과 지지판(221)의 마찰에 의한 파티클의 발생을 방지하기 위해 마련된다. 물론, 챔버 바디(210)가 하측이 개방되지 않고 밀폐된 형태로 제작되는 경우 기밀 부재는 지지판(221)의 측면에 부분적으로 마련될 수도 있다. 지지판(221)의 상측에는 기판(S)의 진행 방향으로 적어도 두 개의 가이드 블럭(222)이 평행하게 마련된다. 즉, 제 1 및 제 2 가이드 블럭(222)이 기판(S)의 폭보다 넓은 폭으로 평행하게 마련될 수도 있고, 제 1 및 제 2 가이드 블럭(222) 사이에 제 3 가이드 블럭(222)이 마련될 수도 있다. 또한, 서로 평행한 적어도 두 가이드 블럭(222)에는 복수의 롤러 샤프트(223)가 가이드 블럭(222)과 교차되는 방향, 즉 기판(S)의 진행 방향을 따라 소정의 간격으로 마련된다. 롤러 샤프트(223)에는 복수의 롤러(224)가 장착되고, 롤러 샤프트(223)를 회전시키기 위해 외부에 구동 수단(미도시)이 더 마련된다. 따라서, 구동 수단에 의해 롤러 샤프트(223)가 회전하고, 그에 따라 롤러(224)가 회전하게 되어 외부로부터 반입되는 기판(S)이 롤러(224) 상에서 전진하면서 지지대(220) 상에 안착하게 된다. 이때, 롤러(224)의 표면 높이는 가이드 블럭(222)보다 높을 수 있다. 가이드 블럭(222)의 높이가 롤러(224)의 높이보다 높으면 기판(S)이 반입 또는 반출 중 가이드 블럭(222)과 충돌하여 기판(S)이 파손될 수 있기 때문이다. 물론, 가이드 블럭(222)이 롤러(224)의 표면 높이보다 높거나 같을 수 있는데, 이 경우 가이드 블럭(222)의 내측에는 기판(S)의 반입 및 반출 위치를 조정하는 적어도 하나의 가이드(미도시)가 마련될 수 있다. 즉, 가이드는 기판(S)이 이동하는 가이드 블럭(222)의 내측으로 회동 부재가 마련되고, 회동 부재의 말단에 연성의 접촉 부재가 마련될 수 있다. 회동 부재는 기판(S)의 이동에 따라 기판(S) 측 또는 가이드 블럭(222) 측으로 회동할 수 있고, 접촉 부재는 회동 부재의 말단에서 회전할 수 있도록 구성되며 기판(S)이 접촉되어 부분에 홈이 형성될 수 있다. 회동 부재가 회동함으로써 기판(S)의 진행 위치를 조절할 수 있고, 회전하는 접촉 부재를 따라 기판(S)이 진행하게 된다. 물론, 이러한 가이드는 가이드 블럭(222)이 롤러(224)의 표면 높이보다 낮게 마련되는 경우에도 가이드 블럭(222)의 상측에 마련될 수 있다. 한편, 기판(S)이 진행하는 방향의 지지대(220)의 말단에 스토퍼(225)가 마련된다. 스토퍼(225)는 기판(S)의 위치를 제한하는 기능을 하며, 기판(S)의 충돌에 의해 기판(S)을 손상시키지 않도록 고무, 실리콘 등의 연성 물질로 제작할 수 있다. 또한, 스토퍼(225)는 승강식으로 마련될 수 있는데, 지지대(220) 말단의 두 롤러 샤프트(223) 사이에 마련되고 가이드 블럭(222)의 내측에 접하여 대략 "ㄱ"자 형태로 마련될 수 있다. 즉, 스토퍼(225)는 "ㄱ"자 형태로 마련되어 기판(S)의 모서리가 정합될 수 있도록 한다. 스토퍼(225)는 기판(S)이 반입될 때 기판(S)의 반입 높이보다 더 높은 위치까지 상승하여 기판(S)의 위치를 제한하게 되고, 기판(S)이 반출될 때 기판(S)의 진행에 방해가 되지 않도록 기판(S)의 반출 높이보다 낮은 위치까지 하강하게 된다. 또한, 스토퍼(225)과 롤러 샤프트(223)의 구동 수단, 그리고 로드락 챔버(200) 전단 및 후단의 이송 수단의 구동이 서로 제어될 수 있다. 즉, 스토퍼(225)에 기판(S)이 접촉되면 이를 감지하여 롤러 샤프트(223)의 구동 수단, 그리고 로드락 챔버(200) 전단의 이송 수단(310, 320)의 동작을 정지시킴으로써 연속적인 기판(S)의 이동을 방지하여 기판(S)의 충돌에 의한 파손을 방지할 수 있다. 또한, 스토퍼(225)가 하측으로 이동되어 기판(S)과의 접촉이 해제되면 롤러 샤프트(223)의 구동 수단과 로드락 챔버(200) 전단 및 후단의 이송 수단(310, 320)이 동작되도록 한다. 한편, 스토퍼(225)는 지지대(220)의 말단에서 수평 방향으로 이동하는 레버식(lever type)으로 마련될 수도 있다.
승강부(230)의 지지대(220)의 하측에 마련되어 지지대(220)를 승하강시킨다. 승강부(230)는 지지대(220)의 하측을 지지하는 적어도 하나의 리프트 핀과, 리프트 핀을 구동시키기 위한 수직 구동 수단(미도시)을 포함한다. 리프트 핀은 지지대(220) 하측의 중앙부를 지지하거나 지지대(220) 하측의 복수의 영역을 지지한다. 따라서, 구동 수단의 구동력에 의해 리프트 핀이 상측 또는 하측으로 수직 운동하고, 그에 따라 리프트 핀 상의 지지대(220)가 이동하게 된다.
로드락 챔버(200)의 전단 및 후단에는 각각 이송 수단(310, 320)이 마련될 수 있다. 여기서, 각각의 이송 수단(310, 320)은 로드락 챔버(200)의 반입 및 반출 게이트(216a, 216b)의 높이로 마련될 수 있다. 즉, 전단의 이송 수단(310)이 후단의 이송 수단(320)과 높이가 다르게 구성될 수 있다. 이러한 이송 수단(310, 320)은 로드락 챔버(200)의 지지대(220)와 동일하게 구성될 수 있다. 즉, 이송 수단(310, 320)은 대략 판 형상의 지지판(311, 321)과, 지지판(311, 321) 상에 마련된 가이드 블럭(312, 322)과, 가이드 블럭(312, 322) 사이에 마련된 복수의 롤러 샤프트(313, 323)와, 롤러 샤프트(313, 323)에 장착된 복수의 롤러(314, 324)를 포함한다. 따라서, 전단의 이송 수단(310), 로드락 챔버(200) 및 후단의 이송 수단(320)을 통한 기판(S)의 진행이 연속적으로 이루어질 수 있다. 한편, 이송 수단(310, 320)은 이송 챔버(300) 내에 구성될 수도 있고, 로드락 챔버(200)와 이송 챔버(300) 사이에 마련될 수도 있다. 즉, 이송 수단(310, 320)의 어느 하나는 대기압 하에 있고, 다른 하나는 진공 분위기에 있으며, 로드락 챔버(200)는 이들 사이에 위치하게 된다.
상기한 바와 같이 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 로드락 챔버(200) 내에 기판(S)을 지지하고 이송하는 지지대(220)와, 지지대(220)를 승강하는 승강부(230)가 마련된다. 따라서, 로드락 챔버(200) 내에서 기판(S)의 위치를 전단 및 후단의 이송 수단(310, 320)의 높이로 조절할 수 있으며, 그에 따라 로드락 챔버(200) 후단에 승강 수단을 별도로 마련하지 않아도 된다. 로드락 챔버(200) 후단에 승강 수단이 마련되지 않기 때문에 기판 처리 장치의 면적 및 부피를 줄일 수 있고, 파티클 소오스를 줄일 수 있다.
상기한 바와 같은 승강 기능을 갖는 로드락 챔버를 포함하는 기판 처리 장치의 구동 방법으로 도 5 내지 도 7을 이용하여 설명하면 다음과 같다.
도 5를 참조하면, 로드락 챔버(200)는 초기에 지지대(220)가 기판(S)의 반입 위치에 위치하게 된다. 즉, 지지대(220)가 반입 게이트(216a)의 높이로 위치하게 된다. 여기서, 반입 게이트(216a)는 전단의 이송 수단(310)의 높이로 마련되고, 반출 게이트(216b)는 후단의 이송 수단(320)의 높이로 마련된다. 또한, 이송 수단들(310, 320)은 서로 다른 높이로 마련되는데, 전단의 이송 수단(310)이 후단의 이송 수단(320)보다 높은 위치에 마련될 수 있다. 따라서, 지지대(220)는 승강부(230)에 의해 상측으로 이동하여 초기 위치에 위치하게 된다. 한편, 로드락 챔버(200)는 초기에 기판(S)이 반입되는 영역의 압력과 동일한 압력을 유지하게 된다. 즉, 로드락 챔버(200)는 기판(S)이 반입되는 영역과 동일하게 상압 또는 진공 분위기를 유지하게 된다. 이어서, 반입 게이트(216a)가 오픈되고 전단의 이송 수단(310)을 통해 기판(S)이 반입되면 지지대(220) 상의 롤러(224)가 회전하면서 기판(S)이 지지대(220) 상에 안착하게 된다. 이때, 지지대(220) 상에는 스토퍼(225)가 마련되어 반입되는 기판(S)의 위치를 제한하게 되고, 스토퍼(225)에 의해 기판(S)의 위치가 제한되면 롤러(224)의 회전이 정지된다. 따라서, 로드락 챔버(200)에 반입된 기판(S)은 지지대(220) 상에 안착하게 된다.
도 6을 참조하면, 로드락 챔버(200) 내부의 압력을 기판(S)이 반출되는 영역의 압력으로 조절하는데, 상압 분위기 또는 진공 분위기로 압력을 조절할 수 있다. 예를 들어, 초기에 상압 분위기를 유지하고 이후 진공 분위기를 유지할 수 있고, 이와 반대로 초기에 진공 분위기를 유지하고 이후 상압 분위기로 유지할 수 있다.로드락 챔버(200)의 압력이 조절된 후 승강부(230)의 구동에 의해 지지대(220)가 반출 위치로 이동한다. 예를 들어, 지지대(220)가 하측으로 이동하여 반출 위치, 즉 반출 게이트(216b)의 높이로 위치하게 된다. 승강부(230)는 지지대(220) 하측의 적어도 일 영역을 지지하는 리프트 핀을 포함하고, 구동 수단의 구동력에 의해 리프트 핀이 구동하여 지지대(220)을 하강시키게 된다.
도 7을 참조하면, 스토퍼(225)가 하측으로 이동되어 제거된 후 반출 게이트(216b)가 오픈되고 롤러(223)가 구동하게 되어 기판(S)이 반출 게이트(216b)를 통해 후단의 이송 수단(320)으로 이동하게 된다.
상기 본 발명의 일 실시 예는 로드락 챔버(200) 내에 하나의 지지대(220)가 마련된 경우를 설명하였으나, 지지대(220)는 도 8에 도시된 바와 같이 둘 이상의 복수가 마련될 수 있다. 즉, 수직으로 적층된 제 1 및 제 2 지지대(220a, 220b)가 마련될 수 있으며, 하측의 제 1 지지대(220a)의 하측에 승강부(230)가 마련되고, 제 1 지지대(220a)의 외측에는 제 2 지지대(220b)를 지지하는 프레임(228)이 마련된다. 즉, 프레임(228)은 기판(S)의 반입에 영향을 미치지 않도록 제 1 지지대(220a)의 지지판(221a)의 외측 영역에 마련되어야 하는데, 예를 들어 가이드 블럭(222)이 외측의 지지판(221a) 상에 마련될 수 있다. 따라서, 승강부(230)에 의해 제 1 및 제 2 지지대(220a, 220b)가 승강하며 제 1 및 제 2 지지대(220a, 220b)가 반입 게이트(216a)의 높이로 각각 위치하게 된다. 즉, 승강부(230)를 이용하여 제 2 지지대(220b)를 반입 게이트(216a)의 높이로 위치시켜 기판(S)이 반입되도록 한 후 승강부(230)를 이용하여 제 1 지지대(220a)를 반입 게이트(216a)의 높이로 위치시켜 기판(S)이 반입되도록 한다. 이어서, 로드락 챔버(200)의 압력을 조절한 후 승강부(230)를 이용하여 제 1 및 제 2 지지대(220a, 220b)가 반출 게이트(216b)의 높이로 각각 위치되도록 한 후 제 1 및 제 2 지지대(220a, 220b) 상에 안착된 기판(S)을 반출 게이트(216b)를 통해 반출하게 된다. 이렇게 복수의 기판(S)을 로드락 챔버(200) 내에 반입한 후 압력을 조절함으로써 기판(S)의 처리 시간을 줄일 수 있다.
한편, 본 발명의 기술적 사상은 상기 실시 예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기 실시 예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주지해야 한다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 당업자는 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
100 : 공정 챔버 200 : 로드락 챔버
300 : 이송 챔버 210 : 챔버 바디
220 : 지지대 230 : 승강부

Claims (9)

  1. 내부에 소정의 공간이 마련되며, 직선 방향으로 서로 대향하는 일 측 및 타 측의 서로 다른 위치에 기판의 반입 및 반출 게이트가 마련된 챔버 바디;
    상기 챔버 바디 내에 마련되며, 반입되는 상기 기판을 지지하는 지지대; 및
    상기 지지대 하측에 마련되며, 상기 지지대를 승하강시키는 승강부를 포함하고,
    상기 지지대는 판 형상의 지지판과, 상기 지지판 상에 마련된 적어도 두 가이드 블럭과, 상기 가이드 블럭 사이에 마련된 복수의 롤러 샤프트와, 상기 롤러 샤프트에 장착된 복수의 롤러와, 상기 기판의 진입 방향으로 상기 지지대의 말단에 마련된 스토퍼를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 챔버 바디의 전단 및 후단에 각각 마련되며, 상기 반입 및 반출 게이트에 각각 대응하여 높이가 다르게 마련된 제 1 및 제 2 이송 수단을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 지지대는 적어도 둘 이상이 적층되는 기판 처리 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 복수의 공정 챔버와, 적어도 하나의 로드락 챔버와, 적어도 하나의 이송 챔버를 포함하고, 상기 로드락 챔버를 통해 기판의 반입 및 반출이 직선 방향으로 수행되는 기판 처리 장치로서,
    상기 로드락 챔버는 내부에 소정의 공간이 마련되며, 직선 방향으로 서로 대향되는 일 측 및 타 측의 서로 다른 위치에 기판의 반입 및 반출 게이트가 마련된 챔버 바디;
    상기 챔버 바디 내에 마련되며, 반입되는 상기 기판을 지지하는 지지대; 및
    상기 지지대 하측에 마련되며, 상기 지지대를 승하강시키는 승강부를 포함하고,
    상기 지지대는 판 형상의 지지판과, 상기 지지판 상에 마련된 적어도 두 가이드 블럭과, 상기 가이드 블럭 사이에 마련된 복수의 롤러 샤프트와, 상기 롤러 샤프트에 장착된 복수의 롤러와, 상기 기판의 진입 방향으로 상기 지지대의 말단에 마련된 스토퍼를 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 로드락 챔버의 전단 및 후단에 각각 마련된 제 1 및 제 2 이송 수단을 더 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 이송 수단은 상기 반입 및 반출 게이트에 각각 대응하여 높이가 다르게 마련되는 기판 처리 장치.
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