KR101685707B1 - Polarizing plate, composite polarizing plate and liquid crystal display device - Google Patents

Polarizing plate, composite polarizing plate and liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
KR101685707B1
KR101685707B1 KR1020100059394A KR20100059394A KR101685707B1 KR 101685707 B1 KR101685707 B1 KR 101685707B1 KR 1020100059394 A KR1020100059394 A KR 1020100059394A KR 20100059394 A KR20100059394 A KR 20100059394A KR 101685707 B1 KR101685707 B1 KR 101685707B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polarizing plate
energy ray
active energy
meth
compound
Prior art date
Application number
KR1020100059394A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100138811A (en
Inventor
치에 야히로
마사시 후지나가
츠토무 후루야
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20100138811A publication Critical patent/KR20100138811A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101685707B1 publication Critical patent/KR101685707B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3083Birefringent or phase retarding elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers
    • G02F1/133531Polarisers characterised by the arrangement of polariser or analyser axes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

폴리비닐알코올계 수지에 이색성 색소가 흡착 배향되어 있고, 전체 광선 투과율이 50% 이하인 편광 필름의 한쪽 면에, 활성 에너지선 경화성 화합물과 중합 개시제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지며 표면에 요철을 갖는 방현층이 직접 형성되어 있는 편광판, 및 그것을 이용한 복합 편광판, 액정 표시 장치에 의해, 편광 필름의 표면에 직접 방현층을 형성하여, 박형 경량성 및 내구 성능이 우수한 편광판, 및 그것을 이용한 복합 편광판, 액정 표시 장치를 제공할 수 있다. A cured product of an active energy ray-curable resin composition containing an active energy ray-curable compound and a polymerization initiator on one side of a polarizing film having a dichroic dye adsorbed and aligned on a polyvinyl alcohol-based resin and having a total light transmittance of 50% A polarizing plate in which an antiglare layer having irregularities on its surface is directly formed and a complex polarizing plate and a liquid crystal display using the polarizing plate are used to form a polarizing film directly on the surface of the polarizing film, And a composite polarizing plate and a liquid crystal display device using the same.

Description

편광판, 복합 편광판 및 액정 표시 장치{POLARIZING PLATE, COMPOSITE POLARIZING PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a polarizing plate, a polarizing plate, and a liquid crystal display.

본 발명은, 액정 표시 장치 등에 이용되는 편광판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 편광 필름 상에 방현층을 구비한 편광판에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 그 편광판을 이용한 복합 편광판, 액정 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a polarizing plate used in a liquid crystal display or the like, and more particularly to a polarizing plate provided with an antiglare layer on a polarizing film. The present invention also relates to a composite polarizing plate and a liquid crystal display using the polarizing plate.

편광판은 액정 표시 장치를 구성하는 광학 부품으로서 유용하다. 종래부터 일반적으로 이용되고 있는 편광판은 편광 필름의 한쪽 면 또는 양면에 수계(水系) 접착제 등을 통해 투명 수지 필름으로 이루어지는 보호층을 적층한 구성으로 되어 있다. 이러한 투명 수지 필름으로서는, 광학적 투명성이나 투습성이 우수하기 때문에, 트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC 필름)이 많이 이용되고 있다. 편광판은, 필요에 따라 다른 광학 기능층을 통해, 액정 셀에 점착제로 접합되어, 액정 표시 장치에 편입된다.The polarizing plate is useful as an optical component constituting a liquid crystal display device. Polarizing plates generally used conventionally have a structure in which a protective layer made of a transparent resin film is laminated on one side or both sides of a polarizing film through an aqueous adhesive or the like. As such a transparent resin film, a triacetyl cellulose film (TAC film) is widely used because of its excellent optical transparency and moisture permeability. The polarizing plate is bonded to the liquid crystal cell with a pressure-sensitive adhesive, if necessary, through another optical function layer, and incorporated in the liquid crystal display device.

최근, 노트형 퍼스널 컴퓨터, 휴대 전화, 카 내비게이션 시스템 등의 모바일 기기에 액정 표시 장치가 많이 적용되게 되고, 그에 따라 액정 표시 장치를 구성하는 편광판에는 박형 경량화 및 고내구성(높은 기계적 강도)이 요구되고 있다. 또한, 모바일 용도의 액정 표시 장치에서는, 습열 하에서도 사용 가능할 것이 요망되어, 이것에 사용되는 편광판에 대해서도 높은 내습열성이 요구되고 있다. 이에 대하여, 상기한 바와 같이 편광 필름에 보호층으로서 TAC 필름을 접합한 전통적인 편광판은 고습 환경, 특히 고온 고습 환경에 장기간 노출되면, 편광 성능이 저하되거나, 편광 필름이 수축한다는 문제가 있었다. 따라서, 편광 필름에 적층되는 보호층에는, 박형 경량화와 아울러, 경도를 높게 하여, 기계적 강도 및 편광 필름의 수축을 억제하는 능력(수축 억제력)을 향상시키는 것이 요구되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been widely applied to mobile devices such as notebook type personal computers, cellular phones, car navigation systems, and the like. Accordingly, a polarizing plate constituting a liquid crystal display device is required to be thin and lightweight and high in mechanical strength have. Further, in a liquid crystal display device for mobile use, it is desired to be usable even under humid heat, and a polarizing plate used therefor is also required to have high humidity resistance. On the other hand, as described above, the conventional polarizing plate having a TAC film bonded to a polarizing film as a protective layer has a problem that the polarizing performance is lowered or the polarizing film shrinks when exposed to a high humidity environment, especially a high temperature and high humidity environment for a long period of time. Therefore, it is required that the protective layer laminated on the polarizing film is made thin and lightweight, and has an increased hardness to improve the mechanical strength and the ability to suppress shrinkage of the polarizing film (shrinkage restraining force).

그러나, 보호층으로서 TAC 필름을 접합한 편광판에서는, 작업 시의 취급성이나 내구 성능의 관점에서, 보호층의 두께를 20 ㎛ 이하로 하는 것이 곤란하여, 박형 경량화에 한계가 있었다.However, in the polarizing plate in which the TAC film is bonded as the protective layer, it is difficult to reduce the thickness of the protective layer to 20 占 퐉 or less from the viewpoints of handling and durability at the time of working.

상기 문제를 해결할 수 있는 기술로서, 예컨대 일본 특허 공개 제2000-199819호 공보(특허 문헌 1)에는, 친수성 고분자로 이루어지는 편광 필름의 한쪽 면 또는 양면에 수지 용액을 도공하여, 투명 박막층을 형성하는 기술이 개시되어 있다. 일본 특허 공개 제2003-185842호 공보(특허 문헌 2)에는, 디시클로펜타닐 잔기 또는 디시클로펜테닐 잔기를 갖는 에너지선 중합성 화합물을 함유하는 에너지선 경화성 조성물을 경화시킴으로써, 편광 필름 상에 보호막을 형성하는 기술이 개시되어 있다. 일본 특허 공개 제2004-245924호 공보(특허 문헌 3)에는, 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 에폭시 수지를 주성분으로 하는 보호막을 가지고 이루어지는 편광판이 개시되어 있다. 또한, 일본 특허 공개 제2005-92112호 공보(특허 문헌 4)에는, 편광 필름의 적어도 한쪽 면을 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 보호하는 것이 개시되어 있다.As a technique capable of solving the above problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-199819 (Patent Document 1) discloses a technique of coating a resin solution on one side or both sides of a polarizing film made of a hydrophilic polymer to form a transparent thin film layer . Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-185842 (Patent Document 2) discloses a method of curing an energy ray-curable composition containing an energy ray polymerizable compound having a dicyclopentyl residue or a dicyclopentenyl residue to form a protective film on the polarizing film Is disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-245924 (Patent Document 3) discloses a polarizing plate having a protective film composed mainly of an epoxy resin on at least one surface of a polarizing film. Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2005-92112 (Patent Document 4) discloses that at least one surface of a polarizing film is protected with a cured product of an active energy ray-curable resin composition.

한편, 액정 표시 장치를 구성하는 편광판은, 그 표시면에 외광이 반사되면 시인성(視認性)이 현저히 손상된다. 그 때문에, 종래, 이러한 외광의 반사를 방지하기 위해서, 화상 표시 장치의 표면에 외광의 반사를 방지하는 필름층이 형성되어 있다. 반사 방지를 위한 필름층에는, 광학 다층막에 의한 간섭을 이용한 무반사 처리나 표면에 미세한 요철을 형성함으로써 입사광을 산란시켜 반사상을 흐릿하게 하는 방현 처리가 일반적으로 채용되고 있다. 특히, 후자의 미세한 요철을 형성함으로써 입사광을 산란시키는 방현 처리층은, 비교적 저렴하게 제조할 수 있기 때문에, 대형 모니터나 퍼스널 컴퓨터 등의 용도에 널리 이용되고 있다.On the other hand, in a polarizing plate constituting a liquid crystal display device, visibility is remarkably impaired when external light is reflected on the display surface. Therefore, conventionally, in order to prevent reflection of such external light, a film layer for preventing the reflection of external light is formed on the surface of the image display apparatus. Anti-reflection film layers are generally used for anti-reflection treatment using interference by an optical multilayer film and anti-reflection treatment for forming fine irregularities on the surface to scatter incident light to blur the reflection image. Particularly, since the anti-glare treatment layer that scatters the incident light by forming the latter fine irregularities can be manufactured at relatively low cost, it is widely used for applications such as a large-sized monitor and a personal computer.

이러한 방현 처리가 실시된 방현 필름은 종래, 예컨대, 필러를 분산시킨 수지 용액을 기재 시트 상에 도포하고, 도포막 두께를 조정하여 필러를 도포막 표면에 노출시킴으로써 랜덤한 요철을 기재 시트 상에 형성하는 방법 등에 의해, 제조되고 있다. 한편, 필러를 함유시키지 않고, 투명 수지층의 표면에 형성된 미세한 요철만으로 방현성을 발현시키는 시도도 있다. 예컨대, 일본 특허 공개 제2002-189106호 공보(특허 문헌 5)에는, 엠보스 주형과 투명 수지 필름 사이에 전리 방사선 경화성 수지를 끼운 상태에서 그 전리 방사선 경화성 수지를 경화시켜, 삼차원 10점 평균 거칠기 및 삼차원 거칠기 기준면 상에 있어서의 인접하는 볼록부끼리의 평균 거리가 각각 소정값을 만족하는 미세한 요철을 형성함으로써, 투명 수지 필름 상에 그 표면 요철을 갖는 전리 방사선 경화성 수지의 경화물층이 적층된 방현 필름이 개시되어 있다. 또한, 방현 필름을 얻는 다른 타입의 엠보스법으로서, 일본 특허 공개 제2006-53371호 공보(특허 문헌 6)에 개시되는 바와 같은 도금층이 형성된 금형을 이용하는 방법 등도 들 수 있다.The antiglare film having been subjected to the anti-glare treatment has conventionally been formed by applying a resin solution in which a filler is dispersed, for example, onto a base sheet and exposing the filler on the surface of the coating film by adjusting the thickness of the film to form random irregularities on the base sheet , And the like. On the other hand, there is also an attempt to manifest the anti-scattering property only with fine irregularities formed on the surface of the transparent resin layer without containing the filler. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-189106 (Patent Document 5), an ionizing radiation curable resin is cured between an embossing mold and a transparent resin film in a state of sandwiching the ionizing radiation curable resin, The fine irregularities having the average distance between the adjacent convex portions on the three-dimensional roughness reference plane are each formed to have a predetermined value so that the transparent resin film has an antiglare layer in which the cured layer of the ionizing radiation- Film is disclosed. As another type of embossing method for obtaining an antiglare film, there is a method using a mold having a plating layer as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-53371 (Patent Document 6).

그러나, 전통적인 방현 처리는, 편광판의 보호층인 투명 수지 필름 상에 실시되어 있어, 상기 방현 필름을 적층한 편광판은, 최근의 액정 표시 장치의 박형 경량화라고 하는 시장 요구를 만족시키는 것이 아니었다.However, the conventional antiglare treatment is carried out on a transparent resin film as a protective layer of the polarizing plate, and the polarizing plate laminated with the antiglare film does not satisfy the market demand of thinning and lightening of the recent liquid crystal display device.

본 발명의 목적은, 편광 필름의 표면에 직접 방현층을 형성하여, 박형 경량성 및 내구 성능이 우수한 편광판을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 또 하나의 목적은, 이러한 편광판에 위상차판을 적층하여, 액정 표시 장치에 적합한 복합 편광판을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 또 하나의 목적은, 이러한 편광판 또는 복합 편광판을 이용하여, 신뢰성이 우수한 액정 표시 장치를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide a polarizing plate having a thin polarizing film directly on the surface of a polarizing film and excellent in light weight and durability. It is still another object of the present invention to provide a composite polarizing plate suitable for a liquid crystal display device by laminating a phase difference plate on such a polarizing plate. It is still another object of the present invention to provide a liquid crystal display device having excellent reliability by using such a polarizing plate or a composite polarizing plate.

본 발명은, 폴리비닐알코올계 수지에 이색성 색소가 흡착 배향되어 있고, 전체 광선 투과율이 50% 이하인 편광 필름의 한쪽 면에, 활성 에너지선 경화성 화합물과 중합 개시제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지며, 표면에 요철을 갖는 방현층이 직접 형성되어 있는 편광판을 제공하는 것이다.The present invention relates to an active energy ray-curable resin composition containing an active energy ray-curable compound and a polymerization initiator on one side of a polarizing film having a dichroic dye adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based resin and having a total light transmittance of 50% And the antiglare layer having irregularities on its surface is directly formed on the surface of the polarizing plate.

본 발명의 편광판에 있어서의 활성 에너지선 경화성 화합물은, 분자 내에 적어도 1개(1개 이상)의 에폭시기를 갖는 에폭시계 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 이 활성 에너지선 경화성 화합물은, 이 에폭시계 화합물에 더하여, 옥세탄계 화합물을 포함해도 된다. The active energy ray-curable compound in the polarizing plate of the present invention preferably contains an epoxy compound having at least one epoxy group (at least one) in the molecule. The active energy ray-curable compound may contain an oxetane-based compound in addition to the epoxy-based compound.

또한 본 발명의 편광판에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 구성하는 경화성 화합물은, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물을 포함할 수도 있다.In the polarizing plate of the present invention, the curable compound constituting the active energy ray-curable resin composition may include a (meth) acrylic compound having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule.

이들 활성 에너지선 경화성 화합물을 포함하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은 미립자를 더 함유해도 된다.The active energy ray-curable resin composition containing these active energy ray-curable compounds may further contain fine particles.

또한, 방현층을 형성하는 이들 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 대전 방지제를 더 함유할 수도 있고, 이에 따라, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 방현층은, 그 표면 저항값을 1012 Ω/□ 이하로 할 수 있다.The active energy ray-curable resin composition forming the antiglare layer may further contain an antistatic agent. Thus, the antiglare layer made of the cured product of the active energy ray-curable resin composition has a surface resistance value of 10 12 Ω / □ or less.

경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 방현층은, 그 두께가 1 ㎛∼35 ㎛인 것이 바람직하다.The antiglare layer made of the cured product of the curable resin composition preferably has a thickness of 1 mu m to 35 mu m.

본 발명의 편광판에 있어서, 상기 편광 필름의 상기 방현층이 형성되어 있는 측과는 반대측의 표면 상에, 활성 에너지선 경화성 화합물과 중합 개시제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 보호층을 직접 형성하는 것도 유효하다.In the polarizing plate of the present invention, on the surface of the polarizing film opposite to the side on which the antiglare layer is formed, a protection consisting of a curing product of an active energy ray curable resin composition containing an active energy ray curable compound and a polymerization initiator It is also effective to directly form the layer.

상기 보호층은, 편광 필름의 반대측에 형성되는 상기 방현층과 동일한 조성물의 경화물이어도 된다.The protective layer may be a cured product of the same composition as the antiglare layer formed on the opposite side of the polarizing film.

편광 필름의 상기 방현층과는 반대측에 형성되는 보호층은, 그 두께가 1 ㎛∼35 ㎛인 것이 바람직하다.The protective layer formed on the side opposite to the antiglare layer of the polarizing film preferably has a thickness of 1 mu m to 35 mu m.

이상과 같은, 편광 필름의 한쪽 면에 방현층을 형성하고, 한쪽 면에 보호층을 형성한 편광판은, 그 보호층 측에 위상차판을 적층하여, 복합 편광판으로 할 수 있다.As described above, in the polarizing plate in which the antiglare layer is formed on one side of the polarizing film and the protective layer is formed on one side, a retardation plate may be laminated on the protective layer side to form a composite polarizing plate.

본 발명에 따르면, 상술한 것 중 어느 하나의 편광판 또는 복합 편광판과, 액정 셀을 구비하고 편광판 또는 복합 편광판을 구성하는 방현층과 편광 필름 중 편광 필름이 액정 셀 측이 되도록 적층되어 있는 액정 표시 장치도 제공된다. According to the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising a polarizing plate or a composite polarizing plate, any one of the above-mentioned polarizing plate or composite polarizing plate, and an antiglare layer having a liquid crystal cell and constituting a polarizing plate or a composite polarizing plate, Lt; / RTI >

본 발명에 따르면, 편광 필름의 표면에 직접, 보호층의 기능을 겸비하는 방현층이 형성되기 때문에, 종래의 방현 처리가 실시된 투명 보호 필름을 적층하는 형태에 비해서, 방현성을 부여하기 위한 층의 두께를 대폭적으로 저감(低減)할 수 있고, 또한 우수한 방현 기능을 겸비하고 있기 때문에, 편광판의 박형 경량화를 도모할 수 있다. 그 때문에, 이 편광판은, 예컨대 모바일 용도의 액정 표시 장치 등에 적합하게 적용할 수 있다.According to the present invention, since the antiglare layer having the function of the protective layer is directly formed on the surface of the polarizing film, compared to the conventional method of laminating the transparent protective film on which antiglare treatment has been carried out, The thickness of the polarizing plate can be greatly reduced (reduced), and also the excellent antiglare function can be obtained. Therefore, the polarizing plate can be reduced in thickness and weight. Therefore, the polarizing plate can be suitably applied to a liquid crystal display device for mobile use, for example.

본 발명의 상기 및 다른 목적, 특징, 국면 및 이점은, 첨부한 도면과 관련하여 이해되는 본 발명에 관한 다음의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. These and other objects, features, aspects and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the present invention when taken in conjunction with the accompanying drawings.

본 발명은 편광 필름의 표면에 직접 방현층을 형성하여 박형 경량성 및 내구 성능이 우수한 편광판 및 복합 편광판을 제공함으로써 신뢰성이 우수한 각종 액정 표시 장치에 적합하게 적용할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be suitably applied to various liquid crystal display devices having excellent reliability by providing a polarizing plate and a composite polarizing plate excellent in thinning lightweight property and durability by forming an antiglare layer directly on the surface of a polarizing film.

도 1은 본 발명의 바람직한 일례의 편광판(1)을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 다른 예의 편광판(11)을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일례의 복합 편광판(21)을 모식적으로 도시하는 단면도이다.
도 4는 도 1 내지 도 3에 도시한 편광판(1, 11), 복합 편광판(21)에, 점착제층(23) 및 박리 필름(24)을 더 형성한 편광판(1')[도 4의 (A)], 편광판(11')[도 4의 (B)], 복합 편광판(21')[도 4의 (C)]을 각각 모식적으로 도시하는 단면도이다.
Fig. 1 is a cross-sectional view schematically showing a polarizing plate 1 according to a preferred embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view schematically showing a polarizing plate 11 of another preferred example of the present invention.
3 is a cross-sectional view schematically showing a composite polarizing plate 21 of a preferred example of the present invention.
4 shows a polarizing plate 1 '(see Fig. 4 (a) and Fig. 4 (b), in which a pressure-sensitive adhesive layer 23 and a release film 24 are further formed on the polarizing plates 1 and 11 and the composite polarizing plate 21 shown in Figs. (A), a polarizing plate 11 '(Fig. 4 (B)] and a composite polarizing plate 21' (Fig. 4 (C)].

본 발명에 따른 편광판(1)의 가장 기본적인 층 구성은, 도 1에 모식 단면도로 나타내는 바와 같이, 편광 필름(2)의 한쪽 면에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물이며 표면에 요철(3a)을 갖는 방현층(3)이 직접 형성된 것이다. 편광 필름(2)은, 폴리비닐알코올계 수지에 이색성 색소가 흡착 배향되어 있고, 전체 광선 투과율이 50% 이하인 것이다. 또한, 방현층(3)을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 활성 에너지선 경화성 화합물과 중합 개시제를 함유한다.The most basic layer structure of the polarizing plate 1 according to the present invention is a cured product of the active energy ray-curable resin composition on one side of the polarizing film 2 as shown in the schematic sectional view in Fig. 1, ) Is directly formed on the surface of the antiglare layer (3). In the polarizing film (2), the dichroic dye is adsorbed and oriented on the polyvinyl alcohol-based resin, and the total light transmittance is 50% or less. The active energy ray curable resin composition for forming the antiglare layer (3) contains an active energy ray curable compound and a polymerization initiator.

본 발명에 있어서, 도 2에 모식 단면도로 나타내는 바와 같이, 편광 필름(2)의 방현층(3)과는 반대측의 표면 상에, 역시 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 보호층(12)이 직접 형성되도록 편광판(11)이 구성되어 있어도 된다. 보호층(12)은, 이 편광판을 액정 표시 장치에 적용할 때에 액정 셀 측이 되기 때문에, 통상, 도 2에 도시되는 예와 같이 표면이 평활하고, 방현성을 갖지 않는 층으로 구성된다. 또한, 도 3에 모식 단면도로 나타내는 바와 같이, 편광판(11)의 보호층(12) 위에, 위상차판(22)을 적층하여, 복합 편광판(21)을 구성하고 있어도 된다.In the present invention, as shown in the schematic sectional view in Fig. 2, on the surface of the polarizing film 2 opposite to the antiglare layer 3, a protective layer 12 (also referred to as " May be directly formed on the polarizing plate 11. Since the protective layer 12 is on the side of the liquid crystal cell when the polarizing plate is applied to a liquid crystal display device, the protective layer 12 is usually composed of a layer having a smooth surface and no scattering property as in the example shown in Fig. 3, the retardation plate 22 may be laminated on the protective layer 12 of the polarizing plate 11 to constitute the composite polarizing plate 21. In this case,

또한, 도 1 내지 도 3에 도시한 편광판(1, 11) 또는 복합 편광판(21)은, 각각 도 4의 (A) 내지 도 4의 (C)에 모식 단면도로 나타내는 바와 같이, 편광 필름(2)의 방현층(3)과는 반대측의 면에, 다른 부재, 예컨대 액정 셀에 접합시키기 위한 점착제층(23)을 형성할 수 있다. 점착제층(23)의 외면에는, 다른 부재에 접합될 때까지 그 면을 임시로 보호하는 박리 필름(24)을 접합하는 것이 통례이다. 도 4의 (A)에는, 도 1에 도시한 편광판(1)에 있어서, 편광 필름(2)의 방현층(3)과는 반대측의 면에 점착제층(23)이 형성되고, 또한 그 표면에 박리 필름(24)이 형성된 예의 편광판(1')이 도시되어 있다. 도 4의 (B)에서는, 도 2에 도시한 편광판(11)에 있어서, 보호층(12)의 편광 필름과는 반대측의 면에 점착제층(23)이 형성되고, 또한 그 표면에 박리 필름(24)이 형성된 예의 편광판(11')이 도시되어 있다. 도 4의 (C)에서는, 도 3에 도시한 복합 편광판(21)에 있어서, 위상차판(22)의 보호층(12)과는 반대측의 면에 점착제층(23)이 형성되고, 또한 그 표면에 박리 필름(24)이 형성된 예의 복합 편광판(21')이 도시되어 있다.The polarizing plates 1 and 11 or the composite polarizing plate 21 shown in Figs. 1 to 3 are respectively provided with polarizing films 2 and 3 as shown in the schematic sectional views in Figs. 4 (A) to 4 (C) Sensitive adhesive layer 23 to be bonded to another member, for example, a liquid crystal cell, can be formed on the side of the side opposite to the antiglare layer 3 of the liquid crystal cell. It is a common practice to bond the outer surface of the pressure-sensitive adhesive layer 23 with a release film 24 that temporarily protects the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 23 until it is bonded to another member. 4A shows a polarizing plate 1 shown in Fig. 1 in which a pressure-sensitive adhesive layer 23 is formed on a surface of the polarizing film 2 opposite to the antiglare layer 3, There is shown an example polarizing plate 1 'in which a peeling film 24 is formed. 4B, the pressure-sensitive adhesive layer 23 is formed on the surface of the protective layer 12 opposite to the polarizing film in the polarizing plate 11 shown in Fig. 2, and a release film 24 are formed on the polarizing plate 11 '. 4C, the pressure sensitive adhesive layer 23 is formed on the surface of the retardation film 22 opposite to the protective layer 12 in the composite polarizing plate 21 shown in Fig. 3, The composite polarizing plate 21 'in which the release film 24 is formed is shown.

본 발명의 편광판은, 폴리비닐알코올계 수지에 이색성 색소가 흡착 배향되고, 전체 광선 투과율이 50% 이하인 편광 필름의 한쪽 면에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지며, 표면에 요철을 갖는 방현층이 직접 형성되어 이루어진다. 또한, 상기 편광 필름의 상기 방현층이 형성되어 있는 측과는 반대측의 표면 상에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 보호층이 적층되어 있어도 된다. 이하, 본 발명의 편광판에 대해서 상세히 설명한다. The polarizing plate of the present invention comprises a polarizing film on which a dichroic dye is adsorbed and aligned on a polyvinyl alcohol resin and has a total light transmittance of 50% or less, a cured product of the active energy ray- And an antiglare layer is formed directly on the antiglare layer. Further, a protective layer made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition may be laminated on the surface of the polarizing film opposite to the side on which the antiglare layer is formed. Hereinafter, the polarizing plate of the present invention will be described in detail.

(편광 필름)(Polarizing film)

본 발명에 있어서, 편광 필름으로서는 특별히 제한되지 않으나, 폴리비닐알코올계 수지로 이루어지는 것, 보다 구체적으로는, 1축 연신된 폴리비닐알코올계 수지 필름에 이색성 색소가 흡착 배향된 것을 바람직하게 이용할 수 있다. 1축 연신된 폴리비닐알코올계 수지 필름에 이색성 색소가 흡착 배향된 편광 필름은, 전체 광선 투과율이 50% 이하, 적합하게는 40%∼50%의 범위가 된다.In the present invention, the polarizing film is not particularly limited, but it is preferably made of a polyvinyl alcohol-based resin, more specifically, a film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a uniaxially stretched polyvinyl alcohol-based resin film have. The polarizing film in which the dichroic dye is adsorbed and oriented on the uniaxially stretched polyvinyl alcohol based resin film has a total light transmittance of 50% or less, preferably 40% to 50%.

편광 필름을 구성하는 폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과, 이것과 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체 등이 예시된다. 아세트산비닐과 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대 불포화 카르복실산류, 불포화 술폰산류, 올레핀류, 비닐에테르류 등을 들 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85 몰%∼100 몰%, 바람직하게는 98 몰%∼100 몰%이다. 폴리비닐알코올계 수지는 또한 변성되어 있어도 되고, 예컨대, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등도 사용할 수 있다. 또한 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상 1000∼10000, 바람직하게는 1500∼10000이다.The polyvinyl alcohol resin constituting the polarizing film is obtained by saponifying a polyvinyl acetate resin. Examples of the polyvinyl acetate resin include polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, and copolymers of vinyl acetate and other monomers copolymerizable therewith. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, unsaturated sulfonic acids, olefins, vinyl ethers and the like. The degree of saponification of the polyvinyl alcohol-based resin is usually from 85 mol% to 100 mol%, preferably from 98 mol% to 100 mol%. The polyvinyl alcohol resin may also be modified. For example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used. The polymerization degree of the polyvinyl alcohol-based resin is usually 1000 to 10000, preferably 1500 to 10000.

이러한 폴리비닐알코올계 수지를 제막(製膜)한 것이, 편광 필름의 원반 필름으로서 이용된다. 폴리비닐알코올계 수지를 제막하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 폴리비닐알코올계 원반 필름의 막 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예컨대, 10 ㎛∼150 ㎛이다.Such a polyvinyl alcohol-based resin is used as an original film of a polarizing film. The method of forming the polyvinyl alcohol-based resin is not particularly limited, and a film can be formed by a known method. The thickness of the polyvinyl alcohol-based original film is not particularly limited, but is, for example, from 10 탆 to 150 탆.

편광 필름은 통상, 상술한 바와 같은 폴리비닐알코올계 수지로 이루어지는 원반 필름을 1축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 이색성 색소로 염색하고 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 이색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조된다.The polarizing film is usually prepared by a process comprising the steps of uniaxially stretching a original film made of a polyvinyl alcohol-based resin as described above, a process of dyeing a polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye and adsorbing the dichroic dye, A step of treating the adsorbed polyvinyl alcohol based resin film with an aqueous solution of boric acid, and a step of washing with water after treatment with an aqueous solution of boric acid.

1축 연신은, 이색성 색소에 의한 염색 전에 행해도 되고, 염색과 동시에 행해도 되며, 염색 후에 행해도 된다. 1축 연신을 이색성 색소에 의한 염색 후에 행하는 경우에는, 이 1축 연신은, 붕산 처리 전에 행해도 되고, 붕산 처리 중에 행해도 된다. 또한, 이들 복수의 단계로 1축 연신을 행하는 것도 가능하다. 1축 연신 시에는, 주속(周速)이 다른 롤 사이에서 1축으로 연신해도 되고, 열롤을 이용하여 1축으로 연신해도 된다. 또한, 대기 중에서 연신을 행하는 등의 건식 연신이어도 되고, 용제로 팽윤시킨 상태에서 연신을 행하는 습식 연신이어도 된다. 연신 배율은, 통상 4배∼8배이다.The uniaxial stretching may be performed before dyeing with the dichroic dye, at the same time as dyeing, or after the dyeing. In the case where uniaxial stretching is performed after dyeing with a dichroic dye, the uniaxial stretching may be performed before the boric acid treatment or during the boric acid treatment. It is also possible to perform uniaxial stretching by these plural steps. During uniaxial stretching, the film may be uniaxially stretched between rolls having different peripheral velocities, or may be uniaxially stretched using thermal rolls. In addition, dry stretching such as stretching in air may be used, or wet stretching in which stretching is performed in a state of being swollen with a solvent. The draw ratio is usually 4 to 8 times.

폴리비닐알코올계 수지 필름을 이색성 색소로 염색하기 위해서는, 예컨대, 폴리비닐알코올계 수지 필름을, 이색성 색소를 함유하는 수용액에 침지하면 된다. 이색성 색소로서는, 요오드, 이색성의 유기 염료 등이 이용된다. 또, 폴리비닐알코올계 수지 필름은, 염색 처리 전에 물에의 침지 처리를 실시해 두는 것이 바람직하다.In order to dye a polyvinyl alcohol-based resin film with a dichroic dye, for example, a polyvinyl alcohol-based resin film may be immersed in an aqueous solution containing a dichroic dye. As the dichroic dye, iodine, dichroic organic dyes and the like are used. It is preferable that the polyvinyl alcohol-based resin film is subjected to immersion treatment in water before the dyeing treatment.

이색성 색소로서 요오드를 이용하는 경우, 염색 방법으로서는, 통상, 요오드 및 요오드화칼륨을 함유하는 수용액에, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 침지하는 방법이 채용된다. 이 수용액에 있어서의 요오드의 함유량은, 통상, 물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부∼0.5 중량부이고, 또한, 요오드화칼륨의 함유량은, 통상, 물 100 중량부에 대하여 0.5 중량부∼10 중량부이다. 염색에 이용하는 수용액의 온도는, 통상 20℃∼40℃이고, 또한, 이 수용액에의 침지 시간(염색 시간)은, 통상 30초∼300초이다.When iodine is used as the dichroic dye, the dyeing method is usually a method of immersing the polyvinyl alcohol resin film in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide. The content of iodine in this aqueous solution is usually 0.01 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of water and the content of potassium iodide is usually 0.5 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of water to be. The temperature of the aqueous solution used for dyeing is usually 20 ° C to 40 ° C, and the immersion time (dyeing time) in this aqueous solution is usually 30 seconds to 300 seconds.

한편, 이색성 색소로서 이색성의 유기 염료를 이용하는 경우, 염색 방법으로서는, 통상, 수용성 이색성 염료를 포함하는 염료 수용액에, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 침지하는 방법이 채용된다. 이 염료 수용액에 있어서의 이색성 염료의 함유량은, 통상, 물 100 중량부에 대하여 1×10-3∼1×10-2 중량부이다. 염료 수용액은, 황산나트륨 등의 무기염을 염색 조제로서 함유하고 있어도 된다. 염료 수용액의 온도는, 통상 20℃∼80℃이고, 또한, 염료 수용액에의 침지 시간(염색 시간)은, 통상 30초∼300초이다.On the other hand, in the case of using a dichroic organic dye as the dichroic dye, a dyeing method usually involves immersing a polyvinyl alcohol resin film in an aqueous dye solution containing a water-soluble dichroic dye. The content of the dichroic dye in the dye aqueous solution is usually 1 × 10 -3 to 1 × 10 -2 parts by weight based on 100 parts by weight of water. The dye aqueous solution may contain an inorganic salt such as sodium sulfate as a dyeing aid. The temperature of the dye aqueous solution is usually 20 ° C to 80 ° C, and the immersion time (dyeing time) in the dye aqueous solution is usually 30 seconds to 300 seconds.

이색성 색소에 의한 염색 후의 붕산 처리는, 염색된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 함유 수용액에 침지함으로써 행해진다. 붕산 함유 수용액에 있어서의 붕산의 함유량은, 통상, 물 100 중량부에 대하여 2 중량부∼15 중량부, 바람직하게는 5 중량부∼12 중량부이다. 이색성 색소로서 요오드를 이용하는 경우에는, 붕산 함유 수용액은, 요오드화칼륨을 함유하는 것이 바람직하다. 붕산 함유 수용액에 있어서의 요오드화칼륨의 함유량은, 통상, 물 100 중량부에 대하여 2 중량부∼20 중량부, 바람직하게는 5 중량부∼15 중량부이다. 붕산 함유 수용액에의 침지 시간은, 통상 100초∼1200초, 바람직하게는 150초∼600초 정도, 더 바람직하게는 200초∼400초이다. 붕산 함유 수용액의 온도는, 통상 50℃ 이상이고, 바람직하게는 50℃∼85℃이다.The boric acid treatment after dyeing with the dichroic dye is carried out by immersing the dyed polyvinyl alcohol resin film in an aqueous solution containing boric acid. The boric acid content in the aqueous solution containing boric acid is usually 2 parts by weight to 15 parts by weight, preferably 5 parts by weight to 12 parts by weight, based on 100 parts by weight of water. When iodine is used as the dichroic dye, it is preferable that the aqueous solution containing boric acid contains potassium iodide. The content of potassium iodide in the boric acid-containing aqueous solution is usually 2 to 20 parts by weight, preferably 5 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of water. The immersing time in the aqueous solution containing boric acid is usually 100 seconds to 1200 seconds, preferably 150 seconds to 600 seconds, and more preferably 200 seconds to 400 seconds. The temperature of the boric acid-containing aqueous solution is usually 50 占 폚 or higher, preferably 50 占 폚 to 85 占 폚.

붕산 처리 후의 폴리비닐알코올계 수지 필름은, 통상, 수세 처리된다. 수세 처리는, 예컨대, 붕산 처리된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 물에 침지함으로써 행해진다. 수세 처리에 있어서의 물의 온도는, 통상 5℃∼40℃이고, 침지 시간은, 2초∼120초이다. 수세 후에는 건조 처리가 실시되어, 편광 필름이 얻어진다. 건조 처리는, 열풍 건조기나 원적외선 히터를 이용하여 행할 수 있다. 건조 온도는, 통상 40℃∼100℃이다. 건조 처리의 시간은, 통상 120초∼600초이다.The polyvinyl alcohol-based resin film after treatment with boric acid is usually washed with water. The water washing treatment is carried out, for example, by immersing the boric acid-treated polyvinyl alcohol resin film in water. The temperature of the water in the water washing treatment is usually from 5 to 40 캜, and the immersing time is from 2 to 120 seconds. After washing with water, drying treatment is carried out to obtain a polarizing film. The drying treatment can be performed using a hot-air dryer or a far-infrared heater. The drying temperature is usually 40 ° C to 100 ° C. The drying treatment time is usually 120 seconds to 600 seconds.

이상과 같이 하여, 1축 연신된 폴리비닐알코올계 수지 필름에 이색성 색소가 흡착 배향된 편광 필름을 제작할 수 있다. 편광 필름의 두께는 통상 5 ㎛∼40 ㎛이다. As described above, a polarizing film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a uniaxially stretched polyvinyl alcohol-based resin film can be produced. The thickness of the polarizing film is usually from 5 탆 to 40 탆.

본 발명에서는, 이러한 편광 필름의 한쪽 면에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지며, 표면에 요철을 갖는 방현층을 형성하여, 편광판으로 한다. 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 방현층은, 편광 필름에 대하여 양호한 밀착성을 나타내고, 이 방현층을 이용함으로써, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성 등이 우수한 내구 성능이 높은 편광판을 얻을 수 있다. 방현층의 두께는, 박형 경량성을 고려하면, 얇을수록 바람직하지만, 너무 얇게 하면, 편광 필름을 충분히 보호할 수 없고, 또한, 취급성이 부족해진다. 따라서, 방현층의 두께는 1 ㎛∼35 ㎛의 범위인 것이 바람직하다.In the present invention, on one side of the polarizing film, an antiglare layer made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition and having irregularities on its surface is formed to be a polarizing plate. The antiglare layer made of the cured product of the active energy ray-curable resin composition exhibits good adhesion to the polarizing film. By using this antiglare layer, it is possible to provide a polarizing plate having excellent durability with excellent transparency, mechanical strength, heat stability, Can be obtained. The thickness of the antiglare layer is preferably as thin as possible in view of thinness and light weight, but if the thickness is too thin, the polarizing film can not be sufficiently protected and the handling property becomes insufficient. Therefore, the thickness of the antiglare layer is preferably in the range of 1 mu m to 35 mu m.

또한, 바람직한 형태에서는, 편광 필름의 상기 방현층이 형성되어 있는 면과는 반대측의 면에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 보호층이 형성된다. 보호층의 형성에 이용되는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 방현층의 형성에 이용되는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물과 동일한 조성이어도 되고, 다른 조성이어도 된다. 어떠한 층에 대해서도, 이하에 설명하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 적용할 수 있다.Further, in a preferred embodiment, a protective layer made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition is formed on the surface of the polarizing film opposite to the surface on which the antiglare layer is formed. The active energy ray-curable resin composition used for forming the protective layer may have the same composition as the active energy ray-curable resin composition used for forming the antiglare layer, or may have another composition. The active energy ray-curable resin composition described below can be applied to any layer.

(활성 에너지선 경화성 수지 조성물)(Active energy ray curable resin composition)

상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 분자 내에 적어도 1개의 에폭시기를 갖는 에폭시계 화합물(이하, 간단히 「에폭시계 화합물」이라고 칭하는 경우가 있음)을 포함하는 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 상기 에폭시계 화합물을 함유시킴으로써, 편광 필름에 대하여 양호한 밀착성을 나타내고, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성 등이 우수한 내구 성능이 높은 편광판을 얻을 수 있다. 여기서, 「분자 내에 적어도 1개의 에폭시기를 갖는 에폭시계 화합물」이란, 분자 내에 1개 이상의 에폭시기를 가지며, 활성 에너지선(예컨대, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등)의 조사에 의해 경화할 수 있는 화합물을 의미한다. 또한, 에폭시계 화합물과, 후술하는 옥세탄계 화합물 및 (메트)아크릴계 화합물을 포함하며, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화할 수 있는 화합물을 총칭하여, 활성 에너지선 경화성 화합물이라고 부르는 경우가 있다.The active energy ray-curable resin composition preferably contains an epoxy compound having at least one epoxy group in the molecule (hereinafter sometimes referred to simply as " epoxy compound "). By containing the epoxy compound in the active energy ray-curable resin composition, a polarizing plate exhibiting good adhesion to the polarizing film and having excellent durability with excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties and the like can be obtained. Here, the "epoxy compound having at least one epoxy group in the molecule" means an epoxy compound having at least one epoxy group in the molecule and capable of curing by irradiation with an active energy ray (for example, ultraviolet rays, visible rays, ≪ / RTI > In addition, compounds that include an epoxy compound and an oxetane-based compound and a (meth) acrylic compound to be described later and can be cured by irradiation with an active energy ray are collectively referred to as an active energy ray curable compound.

상기 에폭시계 화합물로서는, 내후성이나 굴절률, 양이온 중합성 등의 관점에서, 분자 내에 방향환을 포함하지 않는 에폭시계 화합물을 주성분으로서 이용하는 것이 바람직하다. 분자 내에 방향환을 포함하지 않는 에폭시계 화합물로서, 지환식 환을 갖는 폴리올의 글리시딜에테르, 지환식 에폭시계 화합물, 지방족 에폭시계 화합물 등을 예시할 수 있다.As the epoxy compound, it is preferable to use, as a main component, an epoxy compound which does not contain an aromatic ring in the molecule from the viewpoints of weather resistance, refractive index, cationic polymerizability and the like. Glycidyl ether, alicyclic epoxy compound, aliphatic epoxy compound, etc. of polyols having an alicyclic ring can be exemplified as the epoxy compound which does not contain an aromatic ring in the molecule.

지환식 환을 갖는 폴리올의 글리시딜에테르에 대해서 설명하면, 지환식 환을 갖는 폴리올은, 예컨대 방향족 폴리올을 촉매의 존재하, 가압하에서 방향환에 선택적으로 수소화 반응을 행함으로써 얻을 수 있다. 방향족 폴리올로서는, 예컨대, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S와 같은 비스페놀형 화합물; 페놀노볼락 수지, 크레졸노볼락 수지, 히드록시벤즈알데히드페놀노볼락 수지와 같은 노볼락형 수지; 테트라히드록시디페닐메탄, 테트라히드록시벤조페논, 폴리비닐페놀과 같은 다관능형의 화합물 등을 들 수 있다. 이들 방향족 폴리올의 방향환에 수소화 반응을 행하여 얻어지는 지환식 폴리올에, 에피클로로히드린을 반응시킴으로써, 글리시딜에테르로 할 수 있다. 이러한 지환식 환을 갖는 폴리올의 글리시딜에테르 중에서도 바람직한 것으로서, 수소화된 비스페놀 A의 디글리시딜에테르를 들 수 있다.The glycidyl ether of a polyol having an alicyclic ring will be described. The polyol having an alicyclic ring can be obtained, for example, by subjecting an aromatic polyol to a hydrogenation reaction selectively to an aromatic ring under pressure in the presence of a catalyst. Examples of the aromatic polyol include bisphenol-type compounds such as bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol S; Novolak type resins such as phenol novolak resins, cresol novolak resins, and hydroxybenzaldehyde phenol novolac resins; Tetrahydroxydiphenylmethane, tetrahydroxybenzophenone, polyvinylphenol, and the like can be given. Glycidyl ether can be obtained by reacting epichlorohydrin with an alicyclic polyol obtained by hydrogenating an aromatic ring of these aromatic polyols. Of the glycidyl ethers of polyols having alicyclic rings, diglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A are preferred.

지환식 에폭시계 화합물이란, 지환식 환에 결합한 에폭시기를 1개 이상 갖는 에폭시계 화합물을 의미한다. 「지환식 환에 결합한 에폭시기」란, 하기 식에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 (-O-)의 2개의 결합손이 지환식 환을 구성하는 2개의 탄소 원자(통상은 인접하는 탄소 원자)에 각각 결합한 기를 의미한다. 식 중, m은 2∼5의 정수이다. The alicyclic epoxy compound means an epoxy compound having at least one epoxy group bonded to an alicyclic ring. The term "epoxy group bonded to an alicyclic ring" means an epoxy group bonded to two carbon atoms (usually adjacent carbon atoms) constituting an alicyclic ring of the epoxy group (-O-) Quot; In the formula, m is an integer of 2 to 5.

Figure 112010040225053-pat00001
Figure 112010040225053-pat00001

따라서, 지환식 에폭시계 화합물이란, 상기 식에 나타나는 구조를 1개 이상 갖는 화합물이다. 보다 구체적으로는, 상기 식으로 표시되는 화합물이나 상기 식에 있어서의 (CH2)m 중의 1개 또는 복수 개의 수소를 제거한 형태의 기가 다른 화학 구조에 결합한 화합물이, 지환식 에폭시계 화합물이 될 수 있다. (CH2)m 중의 1개 또는 복수 개의 수소는, 메틸기나 에틸기 등의 직쇄상 알킬기로 적절하게 치환되어 있어도 된다. 지환식 에폭시계 화합물 중에서도, 에폭시시클로펜탄환(상기 식에서 m=3인 것)이나, 에폭시시클로헥산환(상기 식에서 m=4인 것)을 갖는 에폭시계 화합물은, 경화물의 탄성률이 높고, 편광 필름과의 밀착성이 우수하기 때문에 보다 바람직하게 이용된다. 이하에, 본 발명에서 바람직하게 이용되는 지환식 에폭시계 화합물의 구조를 구체적으로 예시하지만, 이들 화합물에 한정되는 것은 아니다.Therefore, the alicyclic epoxy compound is a compound having at least one structure represented by the above formula. More specifically, the compound represented by the above formula or the compound in which one or more hydrogen-removed groups in (CH 2 ) m in the above formula are bonded to different chemical structures may be an alicyclic epoxy compound have. (CH 2 ) m may be suitably substituted with a straight chain alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. Among the alicyclic epoxy compounds, an epoxy compound having an epoxycyclopentane ring (m = 3 in the above formula) or an epoxycyclohexane ring (m = 4 in the above formula) has a high modulus of elasticity of the cured product, And is more preferably used. Hereinafter, the structure of the alicyclic epoxy compound preferably used in the present invention is specifically exemplified, but is not limited to these compounds.

·하기 화학식 (I)로 표시되는 에폭시시클로헥실메틸 에폭시시클로헥산카르복실레이트류:Epoxycyclohexylmethyl epoxycyclohexanecarboxylates represented by the following formula (I):

화학식 (I)(I)

Figure 112010040225053-pat00002
Figure 112010040225053-pat00002

화학식 (I) 중, R1 및 R2는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타낸다.In formula (I), R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or a straight chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

·하기 화학식 (II)로 표시되는 알칸디올의 에폭시시클로헥산카르복실레이트류:Epoxycyclohexanecarboxylates of alkanediol represented by the following formula (II):

화학식 (II)(II)

Figure 112010040225053-pat00003
Figure 112010040225053-pat00003

화학식 (II) 중, R3 및 R4는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타내고, n은 2∼20의 정수를 나타낸다.In the formula (II), R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a straight chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 20.

·하기 화학식 (III)으로 표시되는 디카르복실산의 에폭시시클로헥실메틸에스테르류:Epoxycyclohexylmethyl esters of dicarboxylic acids represented by the following formula (III):

화학식 (III)(III)

Figure 112010040225053-pat00004
Figure 112010040225053-pat00004

화학식 (III) 중, R5 및 R6은, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타내고, p는 2∼20의 정수를 나타낸다.In the formula (III), R 5 and R 6 independently represent a hydrogen atom or a straight chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and p represents an integer of 2 to 20.

·하기 화학식 (IV)로 표시되는 폴리에틸렌글리콜의 에폭시시클로헥실메틸에테르류:Epoxy cyclohexyl methyl ether of polyethylene glycol represented by the following formula (IV):

화학식 (IV)(IV)

Figure 112010040225053-pat00005
Figure 112010040225053-pat00005

화학식 (IV) 중, R7 및 R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타내고, q는 2∼10의 정수를 나타낸다.In the formula (IV), R 7 and R 8 independently represent a hydrogen atom or a straight chain alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, and q represents an integer of 2 to 10.

·하기 화학식 (V)로 표시되는 알칸디올의 에폭시시클로헥실메틸에테르류:Epoxycyclohexyl methyl ethers of alkane diols represented by the following formula (V):

화학식 (V)(V)

Figure 112010040225053-pat00006
Figure 112010040225053-pat00006

화학식 (V) 중, R9 및 R10은, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타내고, r은 2∼20의 정수를 나타낸다.In the formula (V), R 9 and R 10 independently represent a hydrogen atom or a straight chain alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, and r represents an integer of 2 to 20.

·하기 화학식 (VI)으로 표시되는 디에폭시트리스피로 화합물: Diepoxy trispyro compounds represented by the following formula (VI):

화학식 (VI)(VI)

Figure 112010040225053-pat00007
Figure 112010040225053-pat00007

화학식 (VI) 중, R11 및 R12는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타낸다.In the formula (VI), R 11 and R 12 independently represent a hydrogen atom or a straight chain alkyl group of 1 to 5 carbon atoms.

·하기 화학식 (VII)로 표시되는 디에폭시모노스피로 화합물:A diepoxy monospiro compound represented by the following formula (VII):

화학식 (VII)(VII)

Figure 112010040225053-pat00008
Figure 112010040225053-pat00008

화학식 (VII) 중, R13 및 R14는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타낸다.In formula (VII), R 13 and R 14 independently represent a hydrogen atom or a straight chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

·하기 화학식 (VIII)로 표시되는 비닐시클로헥센디에폭시드류:Vinylcyclohexene epoxides represented by the following formula (VIII):

화학식 (VIII)(VIII)

Figure 112010040225053-pat00009
Figure 112010040225053-pat00009

화학식 (VIII) 중, R15는, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타낸다.In the formula (VIII), R 15 represents a hydrogen atom or a straight chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

·하기 화학식 (IX)로 표시되는 에폭시시클로펜틸에테르류:Epoxycyclopentyl ethers represented by the following formula (IX):

화학식 (IX)(IX)

Figure 112010040225053-pat00010
Figure 112010040225053-pat00010

화학식 (IX) 중, R16 및 R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타낸다.In the formula (IX), R 16 and R 17 independently represent a hydrogen atom or a straight chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

·하기 화학식 (X)으로 표시되는 디에폭시트리시클로데칸류:Diepoxy tricyclodecane represented by the following formula (X):

화학식 (X)(X)

Figure 112010040225053-pat00011
Figure 112010040225053-pat00011

화학식 (X) 중, R18은, 수소 원자 또는 탄소수 1∼5의 직쇄상 알킬기를 나타낸다.In the formula (X), R 18 represents a hydrogen atom or a straight chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

위에 예시한 지환식 에폭시계 화합물 중에서도, 다음의 지환식 에폭시계 화합물은, 시판되어 있거나, 또는 그 유사물이며, 입수가 비교적 용이하다는 등의 이유에서, 바람직하게 이용된다.Among the alicyclic epoxy compounds exemplified above, the following alicyclic epoxy compounds are preferably used because they are commercially available or the like and are relatively easy to obtain.

(A) 7-옥사비시클로[4.1.0]헵탄-3-카르복실산과 (7-옥사비시클로[4.1.0]헵트-3-일)메탄올과의 에스테르화물〔상기 식(I)에서, R1=R2=H인 화합물〕,(A) an esterified product of 7-oxabicyclo [4.1.0] heptane-3-carboxylic acid with (7-oxabicyclo [4.1.0] hept- R < 1 > = R < 2 > = H]

(B) 4-메틸-7-옥사비시클로[4.1.0]헵탄-3-카르복실산과 (4-메틸-7-옥사비시클로[4.1.0]헵트-3-일)메탄올과의 에스테르화물〔상기 식(I)에서, R1=4-CH3, R2=4-CH3인 화합물〕,(B) an esterified product of 4-methyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane-3-carboxylic acid with (4-methyl-7-oxabicyclo [4.1.0] hept- [Compound wherein R 1 = 4-CH 3 and R 2 = 4-CH 3 in the above formula (I)],

(C) 7-옥사비시클로[4.1.0]헵탄-3-카르복실산과 1,2-에탄디올과의 에스테르화물〔상기 식(II)에서, R3=R4=H, n=2인 화합물〕,(C) an esterified product of 7-oxabicyclo [4.1.0] heptane-3-carboxylic acid and 1,2-ethanediol [wherein R 3 = R 4 = H, compound〕,

(D) (7-옥사비시클로[4.1.0]헵트-3-일)메탄올과 아디프산과의 에스테르화물〔상기 식(III)에서, R5=R6=H, p=4인 화합물〕,(Compound of formula (III) wherein R 5 = R 6 = H, p = 4) with an adipic acid (D) (7-oxabicyclo [4.1.0] hept- ,

(E) (4-메틸-7-옥사비시클로[4.1.0]헵트-3-일)메탄올과 아디프산과의 에스테르화물〔상기 식(III)에서, R5=4-CH3, R6=4-CH3, p=4인 화합물〕,(E) from (4-methyl-7-oxabicyclo [4.1.0] hept-3-yl) methanol and adipic acid and the esterified product [the formula (III), R 5 = 4 -CH 3, R 6 = 4-CH 3 , p = 4]

(F) (7-옥사비시클로[4.1.0]헵트-3-일)메탄올과 1,2-에탄디올과의 에테르화물〔상기 식(V)에서, R9=R10=H, r=2인 화합물〕.(F) (7-oxabicyclo [4.1.0] hept-3-yl) methanol and 1,2-ethanediol [wherein R 9 = R 10 = H, r = 2].

또한 지방족 에폭시계 화합물로서는, 지방족 다가알코올 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 1,4-부탄디올의 디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올의 디글리시딜에테르, 글리세린의 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판의 트리글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜의 디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜의 디글리시딜에테르, 에틸렌글리콜이나 프로필렌글리콜, 글리세린과 같은 지방족 다가알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드(에틸렌옥사이드나 프로필렌옥사이드 등)를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르폴리올의 폴리글리시딜에테르 등을 들 수 있다.Examples of aliphatic epoxy compounds include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof. More specifically, diglycidyl ether of 1,4-butanediol, diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylol propane, di (Ethylene oxide, propylene oxide, etc.) to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, and glycerin, glycidyl ether, diglycidyl ether of propylene glycol, Polyglycidyl ethers of polyols, and the like.

본 발명에 있어서, 에폭시계 화합물은, 1종만을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2종 이상을 병용해도 된다. 편광 필름 및 위상차판에 대한 밀착성이 보다 우수한 방현층, 보호층이 얻어지기 때문에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 적어도 지환식 에폭시계 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.In the present invention, the epoxy compound may be used alone, or two or more epoxy compounds may be used in combination. It is preferable that the active energy ray curable resin composition contains at least an alicyclic epoxy compound because the antiglare layer and the protective layer having better adhesion to the polarizing film and the retarder can be obtained.

방현층 및 보호층의 형성에 이용되는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 있어서, 에폭시계 화합물은, 활성 에너지선 경화성 화합물의 전량을 기준으로, 30 중량%∼100 중량%의 비율로 함유되는 것이 바람직하고, 35 중량%∼70 중량%의 비율로 함유되는 것이 보다 바람직하며, 40 중량%∼60 중량%의 비율로 함유되는 것이 보다 바람직하다. 에폭시계 화합물의 함유량이 30 중량% 미만인 경우에는, 편광 필름과의 밀착성이 저하되는 경향이 있다.In the active energy ray-curable resin composition used for forming the antiglare layer and the protective layer, the epoxy compound is preferably contained in an amount of 30% by weight to 100% by weight based on the total amount of the active energy ray-curable compound By weight, more preferably 35% by weight to 70% by weight, and still more preferably 40% by weight to 60% by weight. When the content of the epoxy compound is less than 30% by weight, the adhesion with the polarizing film tends to be lowered.

또한, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에는, 상기 에폭시계 화합물과 함께, 옥세탄계 화합물을 첨가해도 된다. 옥세탄계 화합물을 첨가함으로써, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 점도를 낮게 하여, 경화 속도를 빠르게 할 수 있다. 나아가서는, 경화물의 황변을 방지하여, 광학 내구성을 향상시키는 효과도 기대된다.The active energy ray-curable resin composition may contain an oxetane-based compound together with the epoxy compound. By adding the oxetane-based compound, the viscosity of the active energy ray-curable resin composition can be lowered and the curing rate can be increased. Further, it is expected that the yellowing of the cured product is prevented and the optical durability is improved.

옥세탄계 화합물은, 분자 내에 4원환 에테르를 갖는 화합물이며, 예컨대, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 1,4-비스〔(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸〕벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 비스〔(3-에틸-3-옥세타닐)메틸〕에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 페놀노볼락옥세탄 등을 들 수 있다. 이들 옥세탄 화합물은, 시판품을 용이하게 입수하는 것이 가능하며, 예컨대, 아론옥세탄 OXT-101(도아 고세이(주) 제조), 아론옥세탄 OXT-121(도아 고세이(주) 제조), 아론옥세탄 OXT-211(도아 고세이(주) 제조), 아론옥세탄 OXT-221(도아 고세이(주) 제조), 아론옥세탄 OXT-212(도아 고세이(주) 제조) 등을 들 수 있다. 옥세탄계 화합물의 배합량은 특별히 한정되지 않으나, 활성 에너지선 경화성 화합물의 전량을 기준으로, 통상 30 중량% 이하, 바람직하게는 10 중량%∼25 중량%이다.The oxetane-based compound is a compound having a 4-membered ring ether in the molecule, and examples thereof include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] Benzene, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methyl] ether, Phenol novolak oxetane, and the like. These oxetane compounds can be easily obtained from commercial products. Examples of the oxetane compounds include Aronoxetan OXT-101 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Aronoxetan OXT-121 (manufactured by Doagosei Co., Ltd.) Cetane OXT-211 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Aronoxetan OXT-221 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and Aronoxetan OXT-212 (manufactured by Doagosei Co., Ltd.). The blending amount of the oxetane-based compound is not particularly limited, but is usually 30% by weight or less, preferably 10% by weight to 25% by weight, based on the total amount of the active energy ray-curable compound.

본 발명에 이용되는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물이, 에폭시계 화합물이나 옥세탄계 화합물 등의 양이온계 경화성 화합물을 포함하는 경우, 그 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에는, 광양이온 중합 개시제를 배합하는 것이 바람직하다. 광양이온 중합 개시제를 사용하면, 상온에서의 방현층, 보호층의 형성이 가능해지기 때문에, 편광 필름의 내열성 또는 팽창에 의한 일그러짐을 고려할 필요가 감소하며, 방현층, 보호층을, 밀착성 좋게 편광 필름 상에 형성할 수 있다. 또한, 광양이온 중합 개시제는, 광으로 촉매적으로 작용하기 때문에, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 혼합해도 보존 안정성이나 작업성이 우수하다.When the active energy ray curable resin composition used in the present invention contains a cationic curable compound such as an epoxy compound or an oxetane compound, it is preferable to incorporate a cationic ion polymerization initiator into the active energy ray curable resin composition . The use of a photocationic polymerization initiator reduces the need to take into consideration the heat resistance or the distortion caused by the expansion of the polarizing film because the antiglare layer and the protective layer can be formed at room temperature, As shown in FIG. Further, since the photocationic polymerization initiator acts catalytically with light, it is excellent in storage stability and workability even when mixed with an active energy ray curable resin composition.

광양이온 중합 개시제는, 가시광선, 자외선, X선, 전자선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해, 양이온종 또는 루이스산을 발생하여, 에폭시계 화합물 및/또는 옥세탄계 화합물의 중합 반응을 개시시키는 것이다. 본 발명에서는, 어떠한 타입의 광양이온 중합 개시제여도 되지만, 잠재성이 부여되어 있는 것이, 작업성의 관점에서 바람직하다. 광양이온 중합 개시제로서는, 특별히 한정되지 않으나, 예컨대, 방향족 디아조늄염; 방향족 요오도늄염, 방향족 술포늄염과 같은 오늄염; 철-알렌 착체 등을 들 수 있다.The cationic ionic polymerization initiator generates a cationic species or a Lewis acid by irradiation of an active energy ray such as visible light, ultraviolet ray, X-ray or electron beam to initiate polymerization reaction of an epoxy compound and / or an oxetane compound. In the present invention, any type of photocationic polymerization initiator may be used, but it is preferable from the viewpoint of workability that the potential is imparted. Examples of the cationic ion polymerization initiator include, but are not limited to, aromatic diazonium salts; Onium salts such as aromatic iodonium salts and aromatic sulfonium salts; Iron-allene complexes and the like.

방향족 디아조늄염으로서는, 예컨대, 벤젠디아조늄 헥사플루오로안티모네이트, 벤젠디아조늄 헥사플루오로포스페이트, 벤젠디아조늄 헥사플루오로보레이트 등을 들 수 있다. 또한, 방향족 요오도늄염으로서는, 예컨대, 디페닐요오도늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요오도늄 헥사플루오로안티모네이트, 디(4-노닐페닐)요오도늄 헥사플루오로포스페이트 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic diazonium salt include benzene diazonium hexafluoroantimonate, benzene diazonium hexafluorophosphate, and benzene diazonium hexafluoroborate. Examples of the aromatic iodonium salt include diphenyl iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diphenyl iodonium hexafluorophosphate, diphenyl iodonium hexafluoroantimonate, di (4 -Nonylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, and the like.

방향족 술포늄염으로서는, 예컨대, 트리페닐술포늄 헥사플루오로포스페이트, 트리페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 4,4'-비스〔디페닐술포니오〕디페닐술파이드 비스헥사플루오로포스페이트, 4,4'-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐술포니오〕디페닐술파이드 비스헥사플루오로안티모네이트, 4,4'-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐술포니오〕디페닐술파이드 비스헥사플루오로포스페이트, 7-〔디(p-톨루일)술포니오〕-2-이소프로필티오크산톤 헥사플루오로안티모네이트, 7-〔디(p-톨루일)술포니오〕-2-이소프로필티오크산톤 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 4-페닐카르보닐-4'-디페닐술포니오-디페닐술파이드 헥사플루오로포스페이트, 4-(p-tert-부틸페닐카르보닐)-4'-디페닐술포니오-디페닐술파이드 헥사플루오로안티모네이트, 4-(p-tert-부틸페닐카르보닐)-4'-디(p-톨루일)술포니오-디페닐술파이드 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic sulfonium salt include triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 4,4'-bis [diphenyl Bis [di (? - hydroxyethoxy) phenylsulfonio] diphenyl sulfide bishexafluoroantimonate, 4,4'-bis [di Bis [di (p-toluyl) sulfonium] -2-isopropylthioxanthone, bis [di (? - hydroxyethoxy) phenylsulfonio] diphenyl sulfide bishexafluorophosphate, Hexafluoroantimonate, 7- [di (p-toluyl) sulfonio] -2-isopropylthioxanthone tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 4-phenylcarbonyl- Sulfonate-diphenyl sulfide hexafluorophosphate, 4- (p-tert-butylphenylcarbonyl) -4'-diphenylsulfonio-di (P-tert-butylphenylcarbonyl) -4'-di (p-toluyl) sulfonio-diphenylsulfide tetrakis (pentafluorophenyl) borate, etc. .

또한, 철-알렌 착체로서는, 예컨대, 크실렌-시클로펜타디에닐철(II)헥사플루오로안티모네이트, 쿠멘-시클로펜타디에닐철(II)헥사플루오로포스페이트, 크실렌-시클로펜타디에닐철(II)-트리스(트리플루오로메틸술포닐)메타나이드 등을 들 수 있다.Examples of the iron-allene complexes include xylene-cyclopentadienyl iron (II) hexafluoroantimonate, cumene-cyclopentadienyl iron (II) hexafluorophosphate, xylene-cyclopentadienyl iron (II) Tris (trifluoromethylsulfonyl) methanide, and the like.

이들 광양이온 중합 개시제는, 시판품을 용이하게 입수하는 것이 가능하며, 예컨대, 카야래드(KAYARAD) PCI-220(닛폰 가야쿠(주) 제조), 카야래드 PCI-620(닛폰 가야쿠(주) 제조), UVI-6990(유니온 카바이드사 제조), 아데카 옵토머 SP-150((주)ADEKA 제조), 아데카 옵토머 SP-170((주)ADEKA 제조), CI-5102(닛폰 소다(주) 제조), CIT-1370(닛폰 소다(주) 제조), CIT-1682(닛폰 소다(주) 제조), CIP-1866S(닛폰 소다(주) 제조), CIP-2048S(닛폰 소다(주) 제조), CIP-2064S(닛폰 소다(주) 제조), DPI-101(미도리 가가쿠(주) 제조), DPI-102(미도리 가가쿠(주) 제조), DPI-103(미도리 가가쿠(주) 제조), DPI-105(미도리 가가쿠(주) 제조), MPI-103(미도리 가가쿠(주) 제조), MPI-105(미도리 가가쿠(주) 제조), BBI-101(미도리 가가쿠(주) 제조), BBI-102(미도리 가가쿠(주) 제조), BBI-103(미도리 가가쿠(주) 제조), BBI-105(미도리 가가쿠(주) 제조), TPS-101(미도리 가가쿠(주) 제조), TPS-102(미도리 가가쿠(주) 제조), TPS-103(미도리 가가쿠(주) 제조), TPS-105(미도리 가가쿠(주) 제조), MDS-103(미도리 가가쿠(주) 제조), MDS-105(미도리 가가쿠(주) 제조), DTS-102(미도리 가가쿠(주) 제조), DTS-103(미도리 가가쿠(주) 제조), PI-2074(로디아사 제조) 등을 들 수 있다.These photocationic polymerization initiators can be easily obtained from commercially available products such as KAYARAD PCI-220 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Kayalard PCI-620 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ), Adeka Optomer SP-170 (manufactured by ADEKA), CI-5102 (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) (Manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), CIP-1866S (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), CIP-2048S (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) DPI-102 (manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.), DPI-103 (Midori Kagaku K.K.), CIP-2064S (manufactured by Nippon Soda Co., MPI-105 (manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.), BBI-101 (Midori Kagaku Co., Ltd.), DPI- (BBI-102 manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.), BBI-103 (Midori Kagaku K.K.) and BBI-105 (Midori Kagaku K.K.) 105 manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.), TPS-101 (Midori Kagaku K.K.), TPS-101 (Midori Kagaku K.K.), TPS- DDS-103 (manufactured by Midori Kagaku K.K.), MDS-105 (Midori Kagaku K.K.), MDS-103 (Midori Kagaku K.K.) Ltd.), PI-2074 (manufactured by Rhodia), and the like.

이들 광양이온 중합 개시제는, 각각 단독으로 사용해도 되고, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이들 중에서도 특히 방향족 술포늄염은, 300 ㎚ 이상의 파장 영역에서도 자외선 흡수 특성을 갖기 때문에, 경화성이 우수하고, 양호한 기계적 강도나 편광 필름 및 위상차판과의 양호한 밀착성을 갖는 경화물을 제공할 수 있기 때문에, 바람직하게 이용된다.These photo cationic polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Among these, aromatic sulfonium salts have ultraviolet ray absorption properties even in the wavelength range of 300 nm or more, and thus can provide a cured product having excellent curability, good mechanical strength and good adhesion with the polarizing film and the retarder, And is preferably used.

광양이온 중합 개시제의 배합량은, 에폭시계 화합물 및 옥세탄계 화합물을 포함하는 양이온 중합성 화합물의 합계량 100 중량부에 대하여, 통상 0.5 중량부∼20 중량부이고, 바람직하게는 1 중량부∼6 중량부이다. 광양이온 중합 개시제의 배합량이, 양이온 중합성 화합물의 합계량 100 중량부에 대하여 0.5 중량부를 하회하면, 경화가 불충분해져, 기계적 강도나 방현층과 편광 필름 및/또는 위상차판과의 밀착성이 저하되는 경향이 있다. 또한, 광양이온 중합 개시제의 배합량이, 양이온 중합성 화합물의 합계량 100 중량부에 대하여 20 중량부를 초과하면, 경화물 중의 이온성 물질이 증가함으로써 경화물의 흡습성이 높아져, 내구 성능이 저하될 가능성이 있다.The blending amount of the photocationic polymerization initiator is usually 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 6 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the cationic polymerizable compound including an epoxy compound and an oxetane compound to be. If the compounding amount of the photocationic polymerization initiator is less than 0.5 part by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the cationic polymerizable compound, the curing becomes insufficient and the mechanical strength and adhesiveness between the antiglare layer and the polarizing film and / . If the compounding amount of the photocationic polymerization initiator is more than 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the cationic polymerizable compound, the ionic substance in the cured product is increased, thereby increasing the hygroscopicity of the cured product, .

본 발명에 이용되는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 상술한 에폭시계 화합물 등의 양이온 중합성 화합물에 더하여, 중합 개시제의 존재하에서 활성 에너지선(예컨대, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등)의 조사에 의해 중합 가능한, 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 것이어도 된다. 라디칼 중합성 화합물로서는, 분자 중에 1개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물이 적합하게 이용된다. 또, 「(메트)아크릴계 화합물」이란, 아크릴산에스테르 유도체 및 메타크릴산에스테르 유도체를 의미한다. 본 명세서에서는, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 「(메트)아크릴로일기」라고, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 「(메트)아크릴레이트」라고, 아크릴산 또는 메타크릴산을 「(메트)아크릴산」이라고 각각 약기하는 경우가 있다. The active energy ray-curable resin composition used in the present invention can be prepared by adding an active energy ray (for example, ultraviolet ray, visible light, electron beam, X-ray, etc.) in the presence of a polymerization initiator in addition to the cationic polymerizable compound such as the above- Or a radical polymerizable compound which can be polymerized by a polymerization initiator. As the radical polymerizing compound, a (meth) acrylic compound having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule is suitably used. The term "(meth) acrylic compound" means an acrylate ester derivative and a methacrylate ester derivative. In the present specification, acryloyl or methacryloyl group is referred to as "(meth) acryloyl group", acrylate or methacrylate is referred to as "(meth) acrylate", acrylic acid or methacryloyl acid is referred to as " Quot ;, respectively.

분자 중에 1개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물로서는, 분자 중에 1개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머(이하, 「(메트)아크릴레이트 모노머」라고 호칭함), 분자 중에 2개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 올리고머(이하, 「(메트)아크릴레이트 올리고머」라고 호칭함) 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylic compound having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule include (meth) acrylate monomers having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule (Meth) acrylate oligomer having two or more (meth) acryloyloxy groups in the molecule (hereinafter referred to as "(meth) acrylate oligomer").

(메트)아크릴레이트 모노머로서는, 분자 중에 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머, 분자 중에 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 2관능 (메트)아크릴레이트 모노머, 및 분자 중에 적어도 3개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 들 수 있다. 또, (메트)아크릴레이트 모노머는 1종 또는 2종 이상 사용할 수 있다.(Meth) acrylate monomers include monofunctional (meth) acrylate monomers having one (meth) acryloyloxy group in the molecule, bifunctional (meth) acrylate monomers having two (meth) acryloyloxy groups in the molecule Monomers and multifunctional (meth) acrylate monomers having at least three (meth) acryloyloxy groups in the molecule. The (meth) acrylate monomers may be used alone or in combination of two or more.

단관능 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예로서는, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨모노(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트 외에, 카르복실기 함유의 (메트)아크릴레이트 모노머로서, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, N-(메트)아크릴로일옥시-N',N'-디카르복시-p-페닐렌디아민, 4-(메트)아크릴로일옥시에틸트리멜리트산 등을 들 수 있다. 또한, 4-(메트)아크릴로일아미노-1-카르복시메틸피페리딘과 같은 (메트)아크릴로일아미노기 함유 모노머도, 단관능의 (메트)아크릴계 화합물이 될 수 있다.Specific examples of monofunctional (meth) acrylate monomers include tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (Meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (Meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, 2- ( Methacryloyloxyethyl succinic acid, N- (meth) acryloyloxy-N ', N'-dicarboxy-p-phenylenediamine and 4- (meth) acryloyloxyethyltrimellitic acid. . In addition, the (meth) acryloylamino group-containing monomers such as 4- (meth) acryloylamino-1-carboxymethylpiperidine can also be monofunctional (meth) acrylic compounds.

2관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트류, 폴리옥시알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트류, 할로겐 치환 알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트류, 지방족 폴리올의 디(메트)아크릴레이트류, 수소 첨가 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메트)아크릴레이트류, 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메트)아크릴레이트류, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 알킬렌옥사이드 부가물의 디(메트)아크릴레이트류, 비스페놀 A 또는 비스페놀 F의 에폭시디(메트)아크릴레이트류 등이 대표적이지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 여러 가지의 것을 사용할 수 있다. 2관능 (메트)아크릴레이트 모노머의 구체예로서는, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨디(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 외에, 실리콘디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발산네오펜틸글리콜에스테르의 디(메트)아크릴레이트, 2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시페닐]프로판, 2,2-비스[4-(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시시클로헥실]프로판, 수소 첨가 디시클로펜타디에닐디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트, 1,3-디옥산-2,5-디일디(메트)아크릴레이트〔별명: 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트〕, 히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판과의 아세탈 화합물〔화학명: 2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메트)아크릴레이트, 1,3,5-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트의 디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional (meth) acrylate monomer include alkylene glycol di (meth) acrylates, polyoxyalkylene glycol di (meth) acrylates, halogen-substituted alkylene glycol di (meth) acrylates, (Meth) acrylates of di (meth) acrylates, hydrogenated dicyclopentadiene or tricyclodecanedialanol, di (meth) acrylates of dioxane glycol or dioxanedialanol, bisphenol A or bisphenol A Di (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol F and bisphenol A or epoxy di (meth) acrylates of bisphenol F are exemplified, but not limited thereto, and various ones can be used. Specific examples of the bifunctional (meth) acrylate monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (Meth) acrylate, poly (ethylene glycol) di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate and polytetramethylene glycol di (Meth) acryloyloxyethoxyethoxyphenyl] propane, 2,2-bis [4- (meth) acryloyloxyethoxy (meth) acrylate, (Meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, 1,3-dioxane-2,5-diyl di (meth) acrylate, hydrogenated dicyclopentadienyl Acetal compound of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane (chemical name: 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5-ethyl-5 Di (meth) acrylate of 1,3,5-tris (hydroxymethyl-1,3-dioxane), and di (meth) acrylate of 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate .

다관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 3가 이상의 지방족 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트가 대표적인 것이고, 그 외에, 3가 이상의 할로겐 치환 폴리올의 폴리(메트)아크릴레이트, 글리세린의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판의 알킬렌옥사이드 부가물의 트리(메트)아크릴레이트, 1,1,1-트리스[(메트)아크릴로일옥시에톡시에톡시]프로판, 1,3,5-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트의 트리(메트)아크릴레이트, 실리콘헥사(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional (meth) acrylate monomer include glycerin tri (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate, ditrimethylol propane tri (meth) acrylate, ditrimethylol propane tetra (meth) (Meth) acrylate such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta Poly (meth) acrylates of aliphatic polyols having three or more halogen-substituted polyols, tri (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of glycerin, trimethylolpropane Tri (meth) acrylate of an alkylene oxide adduct, 1,1,1-tris [(meth) acryloyloxy Ethoxy ethoxy] propane, 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, silicone hexa (meth) acrylate of the isocyanurate.

(메트)아크릴레이트 올리고머로서는, 2관능 이상의 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머(이하, 「다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머」라고 호칭함), 2관능 이상의 다관능 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머(이하, 「다관능 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머」라고 호칭함), 2관능 이상의 다관능 에폭시(메트)아크릴레이트 올리고머(이하, 「다관능 에폭시(메트)아크릴레이트 올리고머」라고 호칭함) 등을 들 수 있다. (메트)아크릴레이트 올리고머는 1종 또는 2종 이상 사용할 수 있다.(Meth) acrylate oligomer (hereinafter referred to as "polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer"), a bifunctional or higher polyfunctional polyester (meth) acrylate oligomer (Hereinafter referred to as "polyfunctional epoxy (meth) acrylate oligomer"), a polyfunctional epoxy (meth) acrylate oligomer having two or more functional groups ), And the like. The (meth) acrylate oligomer may be used alone or in combination of two or more.

다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머로서는, 1분자 중에 (메트)아크릴로일옥시기 및 수산기를 각각 적어도 1개 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머와 폴리이소시아네이트와의 우레탄화 반응 생성물, 폴리올류를 폴리이소시아네이트와 반응시켜 얻어지는 이소시아네이트 화합물과 1분자 중에 (메트)아크릴로일옥시기 및 수산기를 각각 적어도 1개 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머와의 우레탄화 반응 생성물 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer include urethane reaction products of a (meth) acrylate monomer having at least one (meth) acryloyloxy group and at least one hydroxyl group in one molecule with a polyisocyanate, polyisocyanates And (meth) acrylate monomers each having at least one (meth) acryloyloxy group and at least one hydroxyl group in one molecule, and the like.

우레탄화 반응에 이용되는 1분자 중에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기 및 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the (meth) acrylate monomer having at least one (meth) acryloyloxy group and the hydroxyl group in one molecule used in the urethanization reaction include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) (Meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, trimethylolpropane di Tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and the like.

우레탄화 반응에 이용되는 폴리이소시아네이트로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이들 디이소시아네이트 중 방향족의 이소시아네이트류를 수소 첨가하여 얻어지는 디이소시아네이트(예컨대, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트), 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 디메틸렌트리페닐트리이소시아네이트 등의 디- 또는 트리-이소시아네이트, 또는 디이소시아네이트를 다량화시켜 얻어지는 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the polyisocyanate used in the urethanization reaction include hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, aromatic isocyanates in these diisocyanates, (For example, diisocyanates such as hydrogenated tolylene diisocyanate and hydrogenated xylylene diisocyanate), di- or triisocyanates such as triphenylmethane triisocyanate and dimethylentriphenyl triisocyanate, and di- or triisocyanates such as diisocyanate And polyisocyanate obtained by increasing the amount of polyisocyanate.

우레탄화 반응에 이용되는 폴리올류로서는, 일반적으로 방향족, 지방족 및 지환식의 폴리올 외에, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 등이 사용된다. 통상, 지방족 및 지환식의 폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부틸리온산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등을 들 수 있다. As the polyols used for the urethanization reaction, polyester polyols, polyether polyols and the like are generally used in addition to aromatic, aliphatic and alicyclic polyols. Examples of the aliphatic and alicyclic polyols include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane, di Trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, dimethylolheptane, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutylionic acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A, and the like.

폴리에스테르폴리올은, 폴리올류와 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물과의 탈수 축합 반응에 의해 얻어지는 것이다. 다염기성 카르복실산 및 그 무수물의 구체예로서는, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, 헥사히드로(무수)프탈산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에테르폴리올로서는, 폴리알킬렌글리콜 외에, 상기 폴리올 또는 페놀류와 알킬렌옥사이드와의 반응에 의해 얻어지는 폴리옥시알킬렌 변성 폴리올을 들 수 있다.The polyester polyol is obtained by a dehydration condensation reaction between a polyol and a polybasic carboxylic acid or an anhydride thereof. Specific examples of the polybasic carboxylic acid and the anhydride thereof include succinic acid, adipic acid, (maleic anhydride) maleic acid, (anhydride) itaconic acid, (anhydrous) trimellitic acid, (anhydrous) pyromellitic acid, hexahydro Anhydrous) phthalic acid, (anhydrous) phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid and the like. Examples of the polyether polyols include polyalkylene glycols and polyoxyalkylene-modified polyols obtained by reacting the polyols or phenols with alkylene oxides.

다관능 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머는, (메트)아크릴산, 다염기성 카르복실산 또는 그 무수물 및 폴리올의 탈수 축합 반응에 의해 얻어진다. 탈수 축합 반응에 이용되는 다염기성 카르복실산 및 그 무수물로서는, (무수)숙신산, 아디프산, (무수)말레산, (무수)이타콘산, (무수)트리멜리트산, (무수)피로멜리트산, 헥사히드로(무수)프탈산, (무수)프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등을 들 수 있다. 또한 탈수 축합 반응에 이용되는 폴리올로서는, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 디메틸올헵탄, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부틸리온산, 글리세린, 수소 첨가 비스페놀 A 등을 들 수 있다.The polyfunctional polyester (meth) acrylate oligomer is obtained by a dehydration condensation reaction of (meth) acrylic acid, a polybasic carboxylic acid or an anhydride thereof and a polyol. Examples of the polybasic carboxylic acid and its anhydride used in the dehydration condensation reaction include succinic acid, adipic acid, maleic acid, anhydride, itaconic acid, (anhydrous) trimellitic acid, (anhydrous) pyromellitic acid , Hexahydrophthalic anhydride (phthalic anhydride), phthalic acid (anhydride), isophthalic acid, terephthalic acid and the like. Examples of the polyol used in the dehydration condensation reaction include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolethane, Trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, dimethylolheptane, dimethylolpropionic acid, dimethylolbutylionic acid, glycerin, hydrogenated bisphenol A, and the like.

다관능 에폭시(메트)아크릴레이트 올리고머는, 폴리글리시딜에테르와 (메트)아크릴산의 부가 반응에 의해 얻어진다. 폴리글리시딜에테르로서는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 등을 들 수 있다.The polyfunctional epoxy (meth) acrylate oligomer is obtained by the addition reaction of polyglycidyl ether and (meth) acrylic acid. Examples of the polyglycidyl ether include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl Ether, and the like.

본 발명에서는 (메트)아크릴계 화합물 중에서도 특히, 밀착성과 탄성률이 모두 우수한 점에서, 하기 화학식 (XI)∼(XIV)로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 적어도 하나 사용하는 것이 바람직하다.Among the (meth) acrylic compounds, it is particularly preferred to use at least one (meth) acrylic compound represented by the following formulas (XI) to (XIV) in view of excellent both adhesion and elasticity.

화학식 (XI)(XI)

Figure 112010040225053-pat00012
Figure 112010040225053-pat00012

화학식 (XII)(XII)

Figure 112010040225053-pat00013
Figure 112010040225053-pat00013

화학식 (XIII)The compound of formula (XIII)

Figure 112010040225053-pat00014
Figure 112010040225053-pat00014

화학식 (XIV)(XIV)

Figure 112010040225053-pat00015
Figure 112010040225053-pat00015

상기 화학식 (XI) 및 (XII)에 있어서, Q1 및 Q2는 서로 독립적으로, (메트)아크릴로일옥시기 또는 (메트)아크릴로일옥시알킬기를 나타낸다. Q1 또는 Q2가 (메트)아크릴로일옥시알킬기인 경우, 그 알킬은, 직쇄 또는 분지쇄여도 되고, 1∼10의 탄소 수를 취할 수 있으나, 일반적으로는 탄소 수 1∼6 정도로 충분하다. 또한 화학식 (XII)에 있어서, Q는 수소 또는 탄소 수 1∼10의 탄화수소기이며, 탄화수소기는, 직쇄 또는 분지쇄여도 되고, 전형적으로는 알킬기일 수 있다. 이 경우의 알킬기도, 일반적으로는 탄소 수 1∼6 정도로 충분하다. 또한, 화학식 (XIII)에 있어서, T1, T2 및 T3은 서로 독립적으로, (메트)아크릴로일옥시기를 나타내고, 화학식 (XIV)에 있어서, T는 수산기 또는 (메트)아크릴로일옥시기를 나타낸다.In the above formulas (XI) and (XII), Q 1 and Q 2 independently represent a (meth) acryloyloxy group or a (meth) acryloyloxyalkyl group. When Q 1 or Q 2 is a (meth) acryloyloxyalkyl group, the alkyl may be straight-chain or branched and may have a carbon number of 1 to 10, but generally 1 to 6 carbon atoms is sufficient . In the formula (XII), Q is hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the hydrocarbon group may be a linear or branched chain, and typically an alkyl group. In this case, the number of carbon atoms is usually about 1 to 6 in the alkyl group. In the formula (XIV), T represents a hydroxyl group or a (meth) acryloyloxy group (XIII) wherein T 1 , T 2 and T 3 independently represent a (meth) acryloyloxy group. .

화학식 (XI)로 표시되는 화합물은, 수소 첨가 디시클로펜타디엔 또는 트리시클로데칸디알칸올의 디(메트)아크릴레이트 유도체이며, 그 구체예로서는, 앞에서도 예시한 것이지만, 수소 첨가 디시클로펜타디에닐디(메트)아크릴레이트〔화학식 (XI)에서, Q1=Q2=(메트)아크릴로일옥시기인 화합물〕, 트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트〔화학식 (XI)에서, Q1=Q2=(메트)아크릴로일옥시메틸기인 화합물〕 등을 들 수 있다.The compound represented by the formula (XI) is a di (meth) acrylate derivative of hydrogenated dicyclopentadiene or tricyclodecanedialcohol, and specific examples thereof include hydrogenated dicyclopentadienyldi in meth) acrylate formula (at XI), Q 1 = Q 2 = ( meth) a compound acryloyloxy group in], tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate formula (XI), Q 1 = Q 2 = (meth) acryloyloxymethyl group], and the like.

화학식 (XII)로 표시되는 화합물은, 디옥산글리콜 또는 디옥산디알칸올의 디(메트)아크릴레이트 유도체이며, 그 구체예로서는, 앞에서도 예시한 것이지만, 1,3-디옥산-2,5-디일디(메트)아크릴레이트〔별명: 디옥산글리콜디(메트)아크릴레이트, 화학식 (XII)에서, Q1=Q2=(메트)아크릴로일옥시기, Q=H인 화합물〕, 히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판과의 아세탈 화합물〔화학명: 2-(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산〕의 디(메트)아크릴레이트〔화학식 (XII)에서, Q1=(메트)아크릴로일옥시메틸기, Q2=2-(메트)아크릴로일옥시-1,1-디메틸에틸기, Q=에틸기인 화합물〕 등을 들 수 있다.The compound represented by the formula (XII) is a di (meth) acrylate derivative of dioxane glycol or dioxane dialkanol, and specific examples thereof include 1,3-dioxane-2,5-di A compound wherein Q 1 = Q 2 = (meth) acryloyloxy group, Q = H], hydroxypivalicdehyde (a compound represented by the formula (XII): diethoxyl glycol di (meth) acrylate Di (meth) acrylate of acetal compound [chemical name: 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5- ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane] with trimethylol propane A compound represented by the formula (XII) wherein Q 1 = (meth) acryloyloxymethyl group, Q 2 = 2- (meth) acryloyloxy-1,1-dimethylethyl group and Q = ethyl group have.

화학식 (XIII)으로 표시되는 화합물은, 앞에서도 예시한 것이지만, 1,3,5-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트의 트리아크릴레이트 또는 트리메타아크릴레이트이다. 또한, 화학식 (XIV)로 표시되는 화합물은, 펜타에리스리톨의 트리 또는 테트라-(메트)아크릴레이트이며, 그 구체예로서는, 앞에서도 예시한 것이지만, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트 및 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.The compound represented by the formula (XIII) is a triacrylate or trimethacrylate of 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, as exemplified above. The compound represented by the formula (XIV) is a tri- or tetra- (meth) acrylate of pentaerythritol, and specific examples thereof include pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra ) Acrylate.

본 발명에 이용되는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 있어서, (메트)아크릴계 화합물은, 활성 에너지선 경화성 화합물 전체의 양을 기준으로, 70 중량% 이하의 비율로 함유되는 것이 바람직하고, 나아가서는 35 중량%∼70 중량%, 특히 40 중량%∼60 중량%의 비율로 함유되는 것이 한층 바람직하다. (메트)아크릴계 화합물의 함유량이 70 중량%를 초과하면, 편광 필름과의 밀착성이 저하되는 경향이 있다. In the active energy ray-curable resin composition used in the present invention, the (meth) acrylic compound is preferably contained in a proportion of not more than 70% by weight based on the total amount of the active energy ray-curable compound, more preferably not more than 35% % To 70% by weight, particularly preferably 40% to 60% by weight. When the content of the (meth) acrylic compound exceeds 70% by weight, the adhesion with the polarizing film tends to be lowered.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물이 상기와 같은 (메트)아크릴계 화합물을 함유하는 경우에는, 광라디칼 중합 개시제가 배합되는 것이 바람직하다. 광라디칼 중합 개시제로서는, 활성 에너지선의 조사에 의해, 라디칼 중합성 화합물의 경화를 개시할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 것을 이용할 수 있다. 광라디칼 중합 개시제의 구체예를 들면, 아세토페논, 3-메틸아세토페논, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온을 비롯한 아세토페논계 개시제; 벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논을 비롯한 벤조페논계 개시제; 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르를 비롯한 벤조인에테르계 개시제; 4-이소프로필티오크산톤을 비롯한 티오크산톤계 개시제; 그 외, 크산톤, 플루오레논, 캄파퀴논, 벤즈알데히드, 안트라퀴논 등이 있다.When the active energy ray-curable resin composition contains the above-mentioned (meth) acrylic compound, it is preferable that the photo-radical polymerization initiator is blended. The photo radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it can initiate curing of the radical polymerizable compound by irradiation with an active energy ray and conventionally known ones can be used. Specific examples of the photoradical polymerization initiator include acetophenone, 3-methylacetophenone, benzyldimethylketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxypropyl- -1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; Benzophenone initiators including benzophenone, 4-chlorobenzophenone, and 4,4'-diaminobenzophenone; Benzoin ether initiators including benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether; Thioxanthone initiators including 4-isopropylthioxanthone; In addition, there are xanthone, fluorenone, camphorquinone, benzaldehyde, anthraquinone, and the like.

광라디칼 중합 개시제의 배합량은, (메트)아크릴계 화합물 등의 라디칼 중합성 화합물 100 중량부에 대하여, 통상 0.5 중량부∼20 중량부이고, 바람직하게는 1 중량부∼6 중량부이다. 광라디칼 중합 개시제의 양이 라디칼 중합성 화합물 100 중량부에 대하여 0.5 중량부를 하회하면, 경화가 불충분해져, 방현층, 보호층의 기계적 강도나 편광 필름과의 밀착성이 저하되는 경향이 있다. 또한, 광라디칼 중합 개시제의 양이 라디칼 중합성 화합물 100 중량부에 대하여 20 중량부를 초과하면, 경화성 수지 조성물 중의 활성 에너지선 경화성 화합물의 양이 상대적으로 적어져, 방현층 또는 보호층의 내구 성능이 저하될 가능성이 있다. The blending amount of the photo radical polymerization initiator is usually 0.5 parts by weight to 20 parts by weight, preferably 1 part by weight to 6 parts by weight, based on 100 parts by weight of the radically polymerizable compound such as a (meth) acrylic compound. If the amount of the photo radical polymerization initiator is less than 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the radical polymerizable compound, the curing becomes insufficient and the mechanical strength of the antiglare layer and the protective layer and the adhesion with the polarizing film tend to be lowered. If the amount of the photo-radical polymerization initiator is more than 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the radical polymerizable compound, the amount of the active energy ray-curable compound in the curable resin composition becomes relatively small, There is a possibility of degradation.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 필요에 따라, 광증감제를 더 함유하고 있어도 된다. 광증감제를 사용함으로써, 양이온 중합 및/또는 라디칼 중합의 반응성이 향상되어, 보호층의 기계적 강도나 방현층과 편광 필름과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 광증감제로서는, 예컨대, 카르보닐 화합물, 유기 유황 화합물, 과황화물, 레독스계 화합물, 아조 및 디아조 화합물, 할로겐 화합물, 광환원성 색소 등을 들 수 있다. 구체적인 광증감제로서는, 예컨대, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, α,α-디메톡시-α-페닐아세토페논과 같은 벤조인 유도체; 벤조페논, 2,4-디클로로벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논과 같은 벤조페논 유도체; 2-클로로티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤과 같은 티오크산톤 유도체; 2-클로로안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논과 같은 안트라퀴논 유도체; N-메틸아크리돈, N-부틸아크리돈과 같은 아크리돈 유도체; 그 외, α,α-디에톡시아세토페논, 벤질, 플루오레논, 크산톤, 우라닐 화합물, 할로겐 화합물 등을 들 수 있다. 이들은, 각각 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 광증감제는, 활성 에너지선 경화성 화합물 전체를 100 중량부로 하여, 0.1 중량부∼20 중량부의 범위에서 함유되는 것이 바람직하다.The active energy ray curable resin composition may further contain a photosensitizer, if necessary. By using the photosensitizer, the reactivity of the cationic polymerization and / or the radical polymerization is improved, and the mechanical strength of the protective layer and the adhesion between the antiglare layer and the polarizing film can be improved. Examples of the photosensitizer include carbonyl compounds, organic sulfur compounds, persulfates, redox compounds, azo and diazo compounds, halogen compounds, and photoreductive dyes. Specific photosensitizers include, for example, benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, and?,? -Dimethoxy-? -Phenylacetophenone; Benzophenone derivatives such as benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone; Thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone and 2-isopropylthioxanthone; Anthraquinone derivatives such as 2-chloro anthraquinone and 2-methyl anthraquinone; Acridone derivatives such as N-methyl acridone, N-butyl acridone; Other examples include?,? -Diethoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone, uranyl compound, halogen compound and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The photosensitizer is preferably contained in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the active energy ray-curable compound.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물에는, 고분자에 통상 사용되고 있는 공지된 고분자 첨가제를 첨가할 수도 있다. 예컨대, 페놀계나 아민계와 같은 일차 산화 방지제, 유황계의 이차 산화 방지제, 힌더드 아민계 광안정제(HALS), 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 벤조에이트계 등의 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.A known polymer additive usually used in a polymer may be added to the active energy ray-curable resin composition. Examples thereof include primary antioxidants such as phenol type and amine type, sulfur type secondary antioxidants, hindered amine type light stabilizers (HALS), benzophenone type, benzotriazole type, and benzoate type.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 편광 필름이나 기판 상에 도포할 때, 편광 필름이나 기재 상에의 도포성이 부족한 경우나, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물의 표면성이 나쁜 경우에는, 이들을 개선하기 위해서, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중에 레벨링제를 첨가할 수 있다. 레벨링제로서는, 실리콘계, 불소계, 폴리에테르계, 아크릴산 공중합물계, 티타네이트계 등의 여러 가지 화합물을 이용할 수 있다. 이들 레벨링제는, 각각 단독으로 이용해도 되고, 2종류 이상 혼합하여 이용할 수도 있다. 상기 레벨링제는, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 함유되는 활성 에너지선 경화성 화합물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부∼1 중량부 첨가되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1 중량부∼0.7 중량부, 더 바람직하게는 0.2 중량부∼0.5 중량부이다. 레벨링제의 첨가량이 활성 에너지선 경화성 화합물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 미만이면, 도포성이나 표면성의 개선이 충분하지 않은 경우가 있다. 레벨링제의 첨가량이 활성 에너지선 경화성 화합물 100 중량부에 대하여 1 중량부를 초과하면, 편광 필름과 방현층, 보호층과의 밀착성이 저하되는 경우가 있다.When the active energy ray-curable resin composition is coated on a polarizing film or a substrate, when the coating property on the polarizing film or the substrate is insufficient or when the surface property of the cured product of the active energy ray-curable resin composition is poor, A leveling agent can be added to the active energy ray curable resin composition. As the leveling agent, various compounds such as a silicone type, a fluorine type, a polyether type, an acrylic acid copolymer type, a titanate type and the like can be used. These leveling agents may be used alone or in combination of two or more. The leveling agent is preferably added in an amount of 0.01 part by weight to 1 part by weight, more preferably 0.1 part by weight to 0.7 part by weight, more preferably 0.1 part by weight to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray- Preferably 0.2 part by weight to 0.5 part by weight. When the amount of the leveling agent to be added is less than 0.01 part by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable compound, improvement in coatability and surface properties may not be sufficient. When the amount of the leveling agent added is more than 1 part by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable compound, the adhesion between the polarizing film and the antiglare layer and the protective layer may be deteriorated.

또한, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에는, 실리카 미립자를 첨가해도 된다. 실리카 미립자를 첨가함으로써, 얻어지는 방현층의 경도 및 기계적 강도를 보다 향상시킬 수 있다. 실리카 미립자는, 예컨대 유기 용제에 분산된 액상물로서 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 배합할 수 있다.Further, silica fine particles may be added to the active energy ray-curable resin composition. By adding silica fine particles, the hardness and the mechanical strength of the obtained antiglare layer can be further improved. The fine silica particles can be blended in the active energy ray curable resin composition as a liquid material dispersed in, for example, an organic solvent.

실리카 미립자는, 그 표면에 수산기, 에폭시기, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 반응성 관능기를 갖고 있어도 된다. 또한, 실리카 미립자의 입자 직경은, 통상 100 ㎚ 이하, 바람직하게는 5 ㎚∼50 ㎚이다. 미립자의 입자 직경이 100 ㎚를 초과하면, 광학적으로 투명한 방현층이 얻어지지 않는 경향이 있다.The fine silica particles may have a reactive functional group such as a hydroxyl group, an epoxy group, a (meth) acryloyl group, and a vinyl group on the surface thereof. The particle diameter of the fine silica particles is usually 100 nm or less, preferably 5 nm to 50 nm. If the particle diameter of the fine particles exceeds 100 nm, an optically transparent antiglare layer tends not to be obtained.

유기 용제에 분산된 실리카 미립자를 이용하는 경우, 그 실리카 농도는 특별히 한정되는 것은 아니며, 시판품으로서 입수 가능한, 예컨대 20 중량%∼40 중량%의 것을 이용할 수 있다. When silica fine particles dispersed in an organic solvent are used, the silica concentration is not particularly limited, and for example, 20% by weight to 40% by weight, which is commercially available, can be used.

상기 실리카 미립자는, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 함유되는 활성 에너지선 경화성 화합물 100 중량부에 대하여, 5 중량부∼250 중량부 첨가되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 중량부∼100 중량부이다. 미립자의 첨가량이 활성 에너지선 경화성 화합물 100 중량부에 대하여 5 중량부 미만이면, 미립자의 첨가에 의한 방현층의 경도 향상이 충분하지 않은 경우가 있다. 한편, 미립자의 첨가량이 활성 에너지선 경화성 화합물 100 중량부에 대하여 250 중량부를 초과하면, 편광 필름과 방현층과의 밀착성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 미립자의 첨가량이 250 중량부를 초과하면, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중에 있어서의 미립자의 분산 안정성이 저하되거나, 그 수지 조성물의 점도가 과도하게 상승하는 경우가 있다.The silica fine particles are preferably added in an amount of 5 parts by weight to 250 parts by weight, more preferably 10 parts by weight to 100 parts by weight, per 100 parts by weight of the active energy ray-curable compound contained in the active energy ray- . If the addition amount of the fine particles is less than 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable compound, the hardness of the antiglare layer may not be sufficiently improved by the addition of the fine particles. On the other hand, if the added amount of the fine particles exceeds 250 parts by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable compound, the adhesion between the polarizing film and the antiglare layer may be deteriorated. When the added amount of the fine particles exceeds 250 parts by weight, the dispersion stability of the fine particles in the active energy ray-curable resin composition may deteriorate or the viscosity of the resin composition may excessively increase.

또한, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 대전 방지제를 더 함유할 수 있다. 도 1에 도시하는 바와 같은 편광 필름(2)의 한쪽 면에 방현층(3)을 형성하는 형태에 있어서는, 그 방현층(3)을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 대전 방지제를 함유시킴으로써, 얻어지는 편광판에 대전 방지 성능을 부여할 수 있다. 또한, 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같은 편광 필름(2)의 한쪽 면에 방현층(3)을 형성하고, 또 한쪽 면에 보호층(12)을 형성하는 형태에 있어서는, 방현층(3)을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 및/또는 보호층(12)을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 대전 방지제를 함유시킴으로써, 역시 얻어지는 편광판에 대전 방지 성능을 부여할 수 있다. 후자의 형태에 있어서는, 방현층(3) 및 보호층(12)의 형성에 동일한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 이용하는 것이 조작상 바람직하기 때문에, 이들 방현층(3) 및 보호층(12)의 형성에 이용되는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 대전 방지제를 배합해 두고, 방현층(3) 및 보호층(12)의 양쪽에 대전 방지제를 함유시키는 것이 유리하다. 이와 같이 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 대전 방지제를 함유시킴으로써. 그 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 방현층(3) 및/또는 보호층(12)에 대전 방지제가 분산되게 되어, 편광판의 대전을 방지할 수 있다. 이에 따라, 예컨대, 방현층(3) 상에 형성된 점착제를 갖는 표면 보호 필름을 박리할 때나, 보호층(12) 상에 직접 또는 위상차판을 통해 형성된 점착제층 표면에 접착된 박리 필름〔도 4의 (B) 및 도 4의 (C) 참조〕을 박리할 때, 또한, 점착제층을 통해 액정 셀에 편광판을 접합한 후, 어떠한 문제가 있어 그 편광판을 박리할 때에, 정전기에 의한 대전을 방지할 수 있고, 정전기에 의한 액정 표시 장치의 액정 드라이버 부위의 파괴를 효과적으로 억제할 수 있다.Further, the active energy ray-curable resin composition may further contain an antistatic agent. In the embodiment in which the antiglare layer 3 is formed on one side of the polarizing film 2 as shown in Fig. 1, by including an antistatic agent in the active energy ray curable resin composition for forming the antiglare layer 3 , An antistatic property can be imparted to the obtained polarizing plate. In the embodiment in which the antiglare layer 3 is formed on one side of the polarizing film 2 as shown in Figs. 2 and 3 and the protective layer 12 is formed on the other side, the antiglare layer 3 ) And / or the active energy ray-curable resin composition for forming the protective layer (12), antistatic properties can also be imparted to the resulting polarizing plate. In the latter form, since it is preferable in terms of operation to use the same active energy ray curable resin composition for forming the antiglare layer 3 and the protective layer 12, the formation of the antiglare layer 3 and the protective layer 12 It is advantageous to incorporate an antistatic agent into both of the antiglare layer 3 and the protective layer 12 so as to contain an antistatic agent. By thus containing an antistatic agent in the active energy ray curable resin composition. The antistatic agent is dispersed in the antiglare layer 3 and / or the protective layer 12, which is a cured product of the active energy ray-curable resin composition, and the electrification of the polarizing plate can be prevented. Thus, for example, when a surface protective film having a pressure-sensitive adhesive formed on the antiglare layer 3 is peeled off, or a release film adhered to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer formed directly on the protective layer 12 or through a retardation film (See Figs. 4B and 4C), and after the polarizing plate is bonded to the liquid crystal cell through the pressure-sensitive adhesive layer, there is no problem and the polarizing plate is peeled off, And destruction of the liquid crystal driver portion of the liquid crystal display device due to static electricity can be effectively suppressed.

대전 방지제는, 그 자체가 도전성을 가지며, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중에 분산할 수 있고, 그 경화물인 방현층 또는 보호층에 적당한 도전성을 부여하는 것이면 된다. 이러한 대전 방지제로서 예컨대, 이온성 화합물, 도전성 미립자, 도전성 고분자 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 적당한 대전 방지제를 각각 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다. 또한 물론, 이온성 화합물로 분류되는 대전 방지제를 2종 이상 조합하여 이용할 수도 있고, 도전성 미립자로 분류되는 대전 방지제를 2종 이상 조합하여 이용할 수도 있으며, 도전성 고분자로 분류되는 대전 방지제를 2종 이상 조합하여 이용할 수도 있다.The antistatic agent may be any one that has conductivity itself and can be dispersed in the active energy ray-curable resin composition and impart appropriate conductivity to the antiglare layer or the protective layer as the cured product. Examples of such antistatic agents include ionic compounds, conductive fine particles, and conductive polymers. Of these, suitable antistatic agents may be used alone or in combination of two or more. Of course, two or more types of antistatic agents classified as ionic compounds may be used in combination, two or more types of antistatic agents classified as conductive fine particles may be used in combination, and combinations of two or more types of antistatic agents classified as conductive polymers .

대전 방지제가 될 수 있는 이온성 화합물은, 유기 양이온을 갖는 이온성 화합물, 무기 양이온을 갖는 이온성 화합물, 유기 음이온을 갖는 이온성 화합물, 및 무기 음이온을 갖는 이온성 화합물로 분류할 수 있다. 유기 양이온을 갖는 이온성 화합물의 예를, 그 유기 양이온의 구조마다 분류하여 들면, 다음과 같은 것이 있다.The ionic compound which can be an antistatic agent can be classified into an ionic compound having an organic cation, an ionic compound having an inorganic cation, an ionic compound having an organic anion, and an ionic compound having an inorganic anion. Examples of the ionic compound having an organic cation are classified according to the structure of the organic cation, as follows.

피리디늄염:Pyridinium salts:

1-부틸피리디늄 테트라플루오로보레이트,1-butylpyridinium tetrafluoroborate,

1-부틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트,1-butylpyridinium hexafluorophosphate,

1-부틸-3-메틸피리디늄 테트라플루오로보레이트,1-butyl-3-methylpyridinium tetrafluoroborate,

1-부틸-3-메틸피리디늄 트리플루오로메탄술포네이트,1-butyl-3-methylpyridinium trifluoromethanesulfonate,

1-부틸-3-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,1-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

1-부틸-3-메틸피리디늄 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드,1-butyl-3-methylpyridinium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide,

1-부틸-4-메틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트,1-butyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate,

1-헥실피리디늄 테트라플루오로보레이트, 1-hexylpyridinium tetrafluoroborate,

1-헥실피리디늄 헥사플루오로포스페이트,1-hexylpyridinium hexafluorophosphate,

1-헥실-4-메틸-피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,1-hexyl-4-methyl-pyridinium bis (fluorosulfonyl) imide,

1-옥틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트,1-octylpyridinium hexafluorophosphate,

1-부틸피리디늄 N-(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드,1-butylpyridinium N- (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide,

1-부틸-3-메틸피리디늄 N-(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드 등.1-butyl-3-methylpyridinium N- (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide and the like.

이미다졸륨염:Imidazolium salt:

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,Ethyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,1-ethyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 아세테이트,Ethyl-3-methylimidazolium acetate,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트리플루오로아세테이트,Ethyl-3-methylimidazolium trifluoroacetate,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 헵타플루오로부틸레이트,1-ethyl-3-methylimidazolium heptafluorobutyrate,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트리플루오로메탄술포네이트,1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 퍼플루오로부탄술포네이트, 1-ethyl-3-methylimidazolium perfluorobutanesulfonate,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 p-톨루엔술포네이트,1-ethyl-3-methylimidazolium p-toluenesulfonate,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 디시아나미드,1-ethyl-3-methylimidazolium dicyanamide,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,1-ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드,1-ethyl-3-methylimidazolium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 트리스(트리플루오로메탄술포닐)메타나이드,1-ethyl-3-methylimidazolium tris (trifluoromethanesulfonyl) methanide,

1-에틸-3-메틸이미다졸륨 N-(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드,1-ethyl-3-methylimidazolium N- (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide,

1-부틸-3-메틸이미다졸륨 메탄술포네이트,1-butyl-3-methylimidazolium methanesulfonate,

1-부틸-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,1-butyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate,

1-부틸-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,1-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate,

1-부틸-3-메틸이미다졸륨 트리플루오로아세테이트,1-butyl-3-methylimidazolium trifluoroacetate,

1-부틸-3-메틸이미다졸륨 헵타플루오로부틸레이트,1-butyl-3-methylimidazolium heptafluorobutyrate,

1-부틸-3-메틸이미다졸륨 트리플루오로메탄술포네이트,1-butyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate,

1-부틸-3-메틸이미다졸륨 퍼플루오로부탄술포네이트,1-butyl-3-methylimidazolium perfluorobutanesulfonate,

1-부틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,1-butyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

1-헥실-3-메틸이미다졸륨 브로마이드,1-hexyl-3-methylimidazolium bromide,

1-헥실-3-메틸이미다졸륨 클로라이드,1-hexyl-3-methylimidazolium chloride,

1-헥실-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,1-hexyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate,

1-헥실-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,1-hexyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate,

1-헥실-3-메틸이미다졸륨 트리플루오로메탄술포네이트,1-hexyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonate,

1-옥틸-3-메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,1-octyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate,

1-옥틸-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,1-octyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate,

1-헥실-2,3-디메틸이미다졸륨 테트라플루오로보레이트,1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium tetrafluoroborate,

1,2-메틸-3-프로필이미다졸륨 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 등.1,2-methyl-3-propylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, and the like.

피롤리디늄염:Pyrrolidinium salt:

1-부틸-1-메틸피롤리디늄 헥사플루오로포스페이트 등.1-butyl-1-methylpyrrolidinium hexafluorophosphate and the like.

4급 암모늄염:Quaternary ammonium salts:

테트라부틸암모늄 헥사플루오로포스페이트,Tetrabutylammonium hexafluorophosphate, tetrabutylammonium hexafluorophosphate,

테트라부틸암모늄 p-톨루엔술포네이트,Tetrabutylammonium p-toluenesulfonate,

테트라헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Tetrahexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄 테트라플루오로보레이트,N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium tetrafluoroborate,

N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) ammonium bis (trifluoromethanesulfonyl)

디알릴디메틸암모늄 테트라플루오로보레이트,Diallyldimethylammonium tetrafluoroborate,

디알릴디메틸암모늄 트리플루오로메탄술포네이트,Diallyldimethylammonium trifluoromethanesulfonate, diallyldimethylammonium trifluoromethanesulfonate,

디알릴디메틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Diallyldimethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

디알릴디메틸암모늄 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드,Diallyldimethylammonium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide,

디알릴디메틸암모늄 N-(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드,Diallyldimethylammonium N- (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide,

글리시딜트리메틸암모늄 트리플루오로메탄술포네이트,Glycidyl trimethyl ammonium trifluoromethanesulfonate,

글리시딜트리메틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Glycidyltrimethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

글리시딜트리메틸암모늄 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드,Glycidyl trimethyl ammonium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide,

글리시딜트리메틸암모늄 N-(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드,Glycidyltrimethylammonium N- (trifluoromethanesulfonyl) trifluoroacetamide,

N,N-디메틸-N-에틸-N-프로필암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-ethyl-N-propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N-에틸-N-부틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-ethyl-N-butylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N-에틸-N-펜틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-ethyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl)

N,N-디메틸-N-에틸-N-헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-ethyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N-에틸-N-헵틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-ethyl-N-heptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl)

N,N-디메틸-N-에틸-N-노닐암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-ethyl-N-nonylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N-에틸-N-디프로필암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-ethyl-N-dipropylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N-프로필-N-부틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-propyl-N-butylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N-프로필-N-펜틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-propyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl)

N,N-디메틸-N-프로필-N-헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-propyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N-프로필-N-헵틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-propyl-N-heptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl)

N,N-디메틸-N-부틸-N-헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-butyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N-부틸-N-헵틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-butyl-N-heptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl)

N,N-디메틸-N-펜틸-N-헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N-pentyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디메틸-N,N-디헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dimethyl-N, N-dihexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

트리메틸헵틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Trimethylheptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디에틸-N-메틸-N-프로필암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-diethyl-N-methyl-N-propylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디에틸-N-메틸-N-펜틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-diethyl-N-methyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디에틸-N-메틸-N-헵틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-diethyl-N-methyl-N-heptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-diethyl-N-propyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

트리에틸프로필암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Triethylpropylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

트리에틸펜틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Triethylpentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

트리에틸헵틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Triethylheptylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디프로필-N-메틸-N-에틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dipropyl-N-methyl-N-ethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디프로필-N-메틸-N-펜틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dipropyl-N-methyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디프로필-N-부틸-N-헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dipropyl-N-butyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디프로필-N,N-디헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dipropyl-N, N-dihexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

N,N-디부틸-N-메틸-N-펜틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dibutyl-N-methyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl)

N,N-디부틸-N-메틸-N-헥실암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,N, N-dibutyl-N-methyl-N-hexylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

트리옥틸메틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Trioctylmethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

트리옥틸메틸암모늄 헥사플루오로포스페이트,Trioctylmethylammonium hexafluorophosphate,

N-메틸-N-에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
N-methyl-N-ethyl-N-propyl-N-pentylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl)

(2-히드록시에틸)트리메틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,(2-hydroxyethyl) trimethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

(2-히드록시에틸)트리메틸암모늄 디메틸포스피네이트 등.(2-hydroxyethyl) trimethylammonium dimethylphosphinate and the like.

무기 양이온을 갖는 이온성 화합물의 예를 들면, 다음과 같은 것이 있다.Examples of ionic compounds having inorganic cations include the following.

리튬 브로마이드, Lithium bromide,

리튬 아이오다이드,Lithium iodide,

리튬 테트라플루오로보레이트,Lithium tetrafluoroborate,

리튬 헥사플루오로포스페이트,Lithium hexafluorophosphate,

리튬 티오시아네이트,Lithium thiocyanate,

리튬 퍼클로레이트,Lithium perchlorate,

리튬 트리플루오로메탄술포네이트,Lithium trifluoromethanesulfonate,

리튬 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,Lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide,

리튬 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드,Lithium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide,

리튬 트리스(트리플루오로메탄술포닐)메타나이드,Lithium tris (trifluoromethanesulfonyl) methanide,

칼륨 비스(플루오로술포닐)이미드 등.Potassium bis (fluorosulfonyl) imide and the like.

위에 예시한 유기 양이온을 갖는 이온성 화합물 및 무기 양이온을 갖는 이온성 화합물은, 각각 반대 이온(음이온)을 갖는다. 그래서, 앞서 서술한 유기 음이온을 갖는 이온성 화합물 및 무기 음이온을 갖는 이온성 화합물의 예는, 위에 게시한 화합물 중에 발견할 수 있다.The ionic compounds having an organic cation and the ionic compounds having an inorganic cation exemplified above have counter ions (anions), respectively. Thus, examples of the above-described ionic compounds having organic anions and ionic compounds having inorganic anions can be found in the above-mentioned compounds.

이온성 화합물을 구성하는 양이온 성분은, 특히 피리디늄환을 갖는 것이 바람직하다. 한편, 이온성 화합물을 구성하는 음이온 성분은, 불소 원자를 포함하는 것이, 대전 방지 성능이 우수한 이온성 화합물을 제공하기 때문에 바람직하고, 특히 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온〔(FSO2)2N-〕이 바람직하다.The cation component constituting the ionic compound preferably has a pyridinium ring in particular. On the other hand, the anion component constituting the ionic compound is preferably one containing a fluorine atom in order to provide an ionic compound having excellent antistatic property, and particularly, bis (fluorosulfonyl) imide anion [(FSO 2 ) 2 N - ] is preferable.

대전 방지제가 될 수 있는 도전성 미립자는, 일반적으로 도전성을 갖는 무기 입자일 수 있고, 예컨대, 안티몬이 도핑된 산화주석, 인이 도핑된 산화주석, 산화안티몬, 안티몬산아연, 산화티탄, 산화아연, ITO(인듐주석 복합 산화물; Indium Tin Oxide) 등을 들 수 있다.The conductive fine particles that can be an antistatic agent may be generally inorganic particles having conductivity, and examples thereof include antimony-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide, antimony oxide, zinc antimonate, titanium oxide, zinc oxide, ITO (Indium Tin Oxide), and the like.

대전 방지제가 될 수 있는 도전성 고분자는, 예컨대, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리티오펜 등이다.Examples of the conductive polymer that can be an antistatic agent include polyaniline, polypyrrole, polyacetylene, and polythiophene.

이상 설명한 대전 방지제 중에서는, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물과의 상용성이 우수하기 때문에, 이온성 화합물이 바람직하게 이용된다.Among the above-described antistatic agents, ionic compounds are preferably used since they are excellent in compatibility with the active energy ray-curable resin composition.

본 발명의 편광판에 형성되는 방현층 및 보호층은, 광학적으로 투명한 것이 바람직하기 때문에, 이용하는 대전 방지제는, 광산란을 발생시키지 않는 등, 방현층 및 보호층의 광학적 투명성을 저해하지 않는 것이 바람직하다. Since the antiglare layer and the protective layer formed on the polarizing plate of the present invention are preferably optically transparent, it is preferable that the antistatic agent used does not inhibit the optical transparency of the antiglare layer and the protective layer, such as not causing light scattering.

대전 방지제는, 활성 에너지선 경화성 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 0.5 중량부∼20 중량부의 비율로 배합되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 중량부∼15 중량부, 더 바람직하게는 4 중량부∼10 중량부이다. 대전 방지제의 배합량이 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.5 중량부 미만이면, 충분한 대전 방지 성능이 얻어지기 어려워진다. 한편 대전 방지제의 배합량이 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 20 중량부를 초과하면, 편광 필름과 방현층 및/또는 보호층과의 밀착성을 저하시키는 경우가 있다. 또, 대전 방지제의 최적량은, 이용하는 대전 방지제의 종류나, 활성 에너지선 경화성 화합물의 종류 등에 따라 다르기 때문에, 얻어지는 방현층 및/또는 보호층의 표면 저항값이 1×1012 Ω/□ 이하, 나아가서는 1×1011 Ω/□ 이하가 되도록, 상기 범위 내에서 배합량을 조정하는 것이 바람직하다.The antistatic agent is preferably blended at a ratio of 0.5 part by weight to 20 parts by weight, more preferably 2 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the active energy ray curable resin composition comprising the active energy ray curable compound and the photopolymerization initiator. 15 parts by weight, more preferably 4 parts by weight to 10 parts by weight. If the blending amount of the antistatic agent is less than 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable resin composition, it is difficult to obtain sufficient antistatic performance. On the other hand, if the blending amount of the antistatic agent exceeds 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the active energy ray curable resin composition, the adhesion between the polarizing film and the antiglare layer and / or the protective layer may be lowered. The optimum amount of the antistatic agent are, as used varies according to the type of the antistatic agent, or an active energy line type of the curable compound or the like, the obtained anti-glare layer and / or the surface resistance value of the protective layer 1 × 10 12 Ω / □ or less, And more preferably 1 x 10 < 11 > ohm / square or less.

또한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 필요에 따라 용제를 포함하고 있어도 된다. 용제는, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 구성하는 성분의 용해성에 따라 적절하게 선택된다. 일반적으로 이용되는 용제로서는, n-헥산이나 시클로헥산과 같은 지방족 탄화수소류; 톨루엔이나 크실렌과 같은 방향족 탄화수소류; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, n-부탄올과 같은 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논과 같은 케톤류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸과 같은 에스테르류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브와 같은 셀로솔브류; 염화메틸렌이나 클로로포름과 같은 할로겐화탄화수소류 등을 들 수 있다. 용제의 배합 비율은, 성막성 등의 가공상의 목적에 따른 점도 조정 등의 관점에서, 적절하게 결정된다. In addition, the active energy ray-curable resin composition may contain a solvent as required. The solvent is appropriately selected according to the solubility of the components constituting the active energy ray-curable resin composition. Commonly used solvents include aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and cyclohexane; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol and n-butanol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; Cellosolve such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve; And halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform. The blending ratio of the solvent is suitably determined from the viewpoint of viscosity adjustment depending on processing purposes such as film formability.

방현층, 보호층의 두께는, 박형 경량성, 보호 기능, 취급성 등의 관점에서 각각 1 ㎛∼35 ㎛인 것이 바람직하고, 나아가서는 20 ㎛ 이하인 것이 한층 바람직하다. 또, 표면에 요철을 갖는 방현층의 두께는, 요철의 정점과 바닥면(편광 필름측의 면) 사이의 직선 거리를 가리킨다. 이들 두께는, 예컨대 방현층 또는 보호층을 형성한 편광판 전체의 막 두께를 후술하는 실시예에 나타내는 바와 같은 접촉식 막 두께 측정기로 측정하고, 거기로부터 편광 필름의 막 두께를 빼서 구할 수 있다. 또한, 단면의 현미경 관찰에 의해 방현층 또는 보호층의 막 두께를 구할 수도 있다. 방현층의 표면의 요철은, 방현층이 후술하는 광학 특성(방현성)을 발휘할 수 있도록 당분야에서 잘 알려져 있는 방법으로 적절하게 형성될 수 있다.The thickness of the antiglare layer and the protective layer is preferably 1 mu m to 35 mu m, more preferably 20 mu m or less, from the viewpoints of thinness, light weight, protective function, handling property and the like. The thickness of the antiglare layer having irregularities on the surface indicates a straight line distance between the apex of the irregularities and the bottom surface (surface on the polarizing film side). These thicknesses can be obtained, for example, by measuring the film thickness of the entire polarizing plate on which an antiglare layer or a protective layer is formed with a contact type film thickness measuring instrument as shown in Examples to be described later and subtracting the film thickness of the polarizing film therefrom. Further, the film thickness of the antiglare layer or the protective layer can be obtained by observing a cross section of the film by a microscope. The irregularities on the surface of the antiglare layer can be appropriately formed by a method well known in the art so that the antiglare layer can exhibit the optical properties (flicker resistance) described later.

(편광판의 광학 특성)(Optical Properties of Polarizer)

편광 필름의 한쪽 면에 상술한 방현층이 직접 형성되어 있는 본 발명의 편광판은, 백화를 방지하고, 고선명도 화상 표시 장치에 적용했을 때의 번쩍임을 효과적으로 억제하기 위해서, 전체 헤이즈가 5%∼25%인 것이 바람직하다. 전체 헤이즈는, JIS K 7136에 나타나는 방법에 준거하여 측정할 수 있다. 전체 헤이즈가 25%를 상회하면, 화상 표시 장치에 적용했을 때에, 결과적으로 화면이 어두워져, 시인성이 손상되기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 5%를 하회하면, 충분한 방현성이 발휘되기 어려워진다.The polarizing plate of the present invention in which the above-mentioned antiglare layer is directly formed on one side of the polarizing film, has a haze of 5 to 25% as a whole in order to effectively prevent whitening and to prevent glare when applied to a high- %. The total haze can be measured in accordance with the method shown in JIS K7136. When the total haze exceeds 25%, it is undesirable because, when applied to an image display apparatus, the resultant screen becomes dark and visibility is impaired. On the other hand, if it is less than 5%, it becomes difficult to exhibit sufficient diffusibility.

본 발명의 편광판은 또한, 암부(暗部)와 명부(明部)의 폭이 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 3종류의 광학 빗을 이용하여 빛의 입사각 45°에서 측정되는 반사 선명도의 합이 40% 이하인 것이 바람직하다. 반사 선명도는, JIS K 7105에 규정되는 방법으로 측정된다. 이 규격에서는, 상(像) 선명도의 측정에 이용하는 광학 빗으로서, 암부와 명부의 폭의 비가 1:1이고, 그 폭이 0.125 ㎜, 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 4종류가 규정되어 있다. 이 중, 폭 0.125 ㎜의 광학 빗을 이용한 경우, 일반적으로 방현층이 되는 미세한 요철이 형성된 필름에 있어서는, 그 측정값의 오차가 커지기 때문에, 폭 0.125 ㎜의 광학 빗을 이용한 경우의 측정값은 합에 더하지 않는 것으로 하고, 폭이 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 3종류의 광학 빗을 이용하여 측정된 상 선명도의 합을 가지고 반사 선명도라고 부르기로 한다. 이 정의에 따른 경우의 반사 선명도의 최대값은 300%이다. 이 정의에 따른 반사 선명도가 40%를 초과하면, 광원 등의 상이 선명하게 반사되어, 방현성이 떨어지기 때문에 바람직하지 않다.The polarizing plate of the present invention is also characterized in that the sum of the reflection sharpness measured at an incident angle of light of 45 is measured using three kinds of optical combs having widths of 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm in a dark portion and a bright portion of 40 % Or less. The reflection sharpness is measured by the method specified in JIS K 7105. In this specification, four types of optical combs used for measurement of image clarity are defined, wherein the ratio of the width of the arm portion to the name portion is 1: 1, and the width is 0.125 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm . Among them, in the case of using an optical comb of 0.125 mm in width, in the case of a film in which fine irregularities are formed as an antiglare layer in general, an error in the measured value becomes large, so that the measured value when using an optical comb of 0.125 mm in width, , And the sum of the image sharpness measured by using three kinds of optical combs having widths of 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm is referred to as reflection sharpness. The maximum value of the reflection sharpness according to this definition is 300%. When the definition of reflectance according to this definition exceeds 40%, the image of the light source or the like is reflected clearly and the reflectivity is deteriorated, which is not preferable.

(편광판의 제조 방법)(Production method of polarizing plate)

편광 필름의 한쪽 면에 방현층을 구비하는 편광판을 제조하는 방법은, 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 이용할 수 있다. 예컨대, 필러(투광성 미립자)를 분산시킨 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 편광 필름 상에 도포하고, 도포막 두께를 조정하여 필러를 도막(塗膜) 표면에 노출시킴으로써 랜덤한 요철을 형성하는 방법이나, 필러를 함유시키지 않고, 도막의 표면에 형성된 미세한 요철만으로 방현성을 발현시키는 방법이 있다.The method for producing the polarizing plate having the antiglare layer on one side of the polarizing film is not particularly limited and conventionally known methods can be used. For example, a method of forming random irregularities by applying an active energy ray-curable resin composition in which fillers (light-transmitting fine particles) are dispersed on a polarizing film and adjusting the coating film thickness to expose the filler on the surface of the coating film, There is a method of manifesting the antifogging property only by the fine irregularities formed on the surface of the coating film without containing the filler.

필러를 분산시킨 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 편광 필름 상에 도포함으로써 방현층을 형성하는 경우, 필러는, 투광성인 한 특별히 제한되지 않고, 종래 공지된 무기 또는 유기의 입자를 이용할 수 있다. 예컨대, 무기 미립자로서는, 탄산칼슘, 황산바륨, 산화티탄, 수산화알루미늄, 실리카, 유리, 탤크, 마이카, 화이트 카본, 산화마그네슘, 산화아연 등, 및 이들 무기 입자에 지방산 등으로 표면 처리를 실시한 것 등을 대표적인 것으로서 들 수 있다. 또한 유기 미립자로서는, 멜라민 비드, 폴리메타크릴산메틸 비드, 메타크릴산메틸/스티렌 공중합체 수지 비드, 폴리카보네이트 비드, 폴리에틸렌 비드, 폴리염화비닐 비드, 실리콘 수지 비드 등의 수지 입자를 대표적인 것으로서 들 수 있다. 또, 필러의 입자 직경은, 예컨대 실리카 등의 무기 미립자를 이용하는 경우에는, 중량 평균 입자 직경이 1 ㎛∼5 ㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 예컨대 수지 입자를 이용하는 경우에는, 중량 평균 입자 직경이 2 ㎛∼10 ㎛의 범위 내인 것이 바람직하다. When the antiglare layer is formed by applying the active energy ray-curable resin composition in which the filler is dispersed on the polarizing film, the filler is not particularly limited as far as it is light-transmitting, and conventionally known inorganic or organic particles can be used. Examples of the inorganic fine particles include inorganic fine particles such as calcium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, aluminum hydroxide, silica, glass, talc, mica, white carbon, magnesium oxide, zinc oxide and the like, As a representative example. Examples of the organic fine particles include resin particles such as melamine beads, polymethylmethacrylate beads, methyl methacrylate / styrene copolymer resin beads, polycarbonate beads, polyethylene beads, polyvinyl chloride beads and silicone resin beads. have. When inorganic microfine particles such as silica are used, the particle diameter of the filler is preferably in the range of 1 m to 5 m, for example, when resin particles are used, the weight average particle diameter is preferably 2 Mu] m to 10 [mu] m.

필러를 함유시키지 않고, 도막의 표면에 형성된 미세한 요철만으로 방현성을 발현시키는 방법은, 예컨대 일본 특허 공개 제2006-53371호 공보(특허 문헌 6) 등에 개시되어 있는 바와 같이, 미세한 요철 형상이 형성된 틀을 이용하여, 그 틀의 표면 형상을 도막에 전사하면 된다. 표면 형상의 도막에의 전사는 엠보스에 의해 행해진다.As disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-53371 (Patent Document 6), there is disclosed a method in which a film having minute concavo-convex shapes is formed The surface shape of the mold can be transferred to the coating film. Transfer of the surface shape to the coating film is performed by embossing.

UV 엠보스법에서는, 편광 필름의 표면에 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 도막층(활성 에너지선 경화성 수지 조성물층)을 형성하고, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물층을 상술한 미세한 요철이 형성된 틀의 요철면에 밀어붙이면서 경화시킴으로써, 틀의 요철면이 활성 에너지선 경화성 수지 조성물층에 전사된다. 구체적으로는, 편광 필름 상에 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킨 후, 얻어지는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물층을 상기 틀의 요철면에 밀착시킨 상태에서, 가시광선, 자외선, X선, 전자선 등의 활성 에너지선을 조사하여 활성 에너지선 경화성 수지 조성물층을 경화시키며, 다음으로, 경화 후의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물층이 형성된 편광 필름을 상기 틀로부터 박리함으로써, 상기 틀의 형상을 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 도막층에 전사한다.In the UV embossing method, a coating layer (an active energy ray-curable resin composition layer) of an active energy ray-curable resin composition is formed on the surface of a polarizing film, and the active energy ray curable resin composition layer is coated with a concave- The surface of the frame is transferred to the active energy ray-curable resin composition layer by curing. Specifically, an active energy ray-curable resin composition is coated on a polarizing film, and after drying as required, a layer of the active energy ray-curable resin composition is brought into close contact with the uneven surface of the frame, and visible light, The active energy ray-curable resin composition layer is cured by irradiating active energy rays such as X-rays and electron beams, and then the polarizing film on which the active energy ray-curable resin composition layer after curing is formed is peeled off from the frame, Is transferred to the coating layer of the active energy ray-curable resin composition.

또한, 필러를 함유시키지 않고, 도막의 표면에 형성된 미세한 요철만으로 방현성을 발현시키는 방법의 다른 형태로서, 표면에 미세한 요철을 갖는 부형(賦型) 필름을 이용하여, 그 부형 필름의 형상을 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 도막층(활성 에너지선 경화성 수지 조성물층)에 전사하는 방법도 채용할 수 있다. 구체적으로는, 유연성을 가지며, 또한 적어도 그 한쪽 면에 미세한 요철을 갖는 부형 필름의 요철면에, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킨 후, 그 도공면이 접합면이 되도록 편광 필름과 접합한다. 다음으로, 이 적층체에 활성 에너지선을 조사함으로써, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물로 이루어지는 도막을 경화시킨 후, 상기 부형 필름을 박리하여, 요철을 편광 필름의 표면에 형성된 도막층에 전사한다.As another mode of manifesting the anti-scattering property only by the fine irregularities formed on the surface of the coating film without containing the filler, a shape-forming film having fine irregularities on the surface is used, To the coating layer (energy ray-curable resin composition layer) of the energy ray-curable resin composition. Concretely, the active energy ray-curable resin composition is coated on the uneven surface of the negative film having flexibility and at least on one surface thereof, and dried if necessary, So that it is bonded to the polarizing film. Next, the laminate is irradiated with an active energy ray to cure the coating film comprising the active energy ray-curable resin composition, and then the film is peeled off, and the unevenness is transferred to the coating film layer formed on the surface of the polarizing film.

또한, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 편광 필름에 직접 도공하고, 필요에 따라 건조하며, 그 도공면이 접합면이 되도록, 상기 부형 필름의 요철면에 접합한 후, 상기와 동일한 방법에 의해 활성 에너지선 경화성 수지 조성물층의 경화, 및 부형 필름의 박리를 행해도 된다.Further, the active energy ray-curable resin composition is applied directly to the polarizing film, dried if necessary, and bonded to the uneven surface of the negative film so that the coated side becomes a bonding surface. Thereafter, The hardening of the ray-curable resin composition layer and the peeling of the film may be performed.

여기서, 부형 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리카보네이트 필름, 트리아세틸셀룰로오스 필름, 노르보르넨계 수지 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리스티렌 필름 등을 이용할 수 있다.Here, as the negative film, a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, a triacetylcellulose film, a norbornene resin film, a polyester film, a polystyrene film and the like can be used.

활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 도공 방법에 특별한 한정은 없고, 예컨대, 닥터 블레이드, 와이어바, 다이 코터, 콤마 코터, 그라비아 코터 등, 여러 가지 도공 방식을 이용할 수 있다. 또한, 편광 필름과 틀 또는 부형 필름 사이에 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 적하한 후, 롤 등으로 가압하여 균일하게 펴 넓히는 방법을 채용할 수도 있으며, 이 경우의 롤의 재질로서는, 금속이나 고무 등을 이용하는 것이 가능하다. 또한, 편광 필름과 틀 또는 부형 필름 사이에 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 적하한 것을 롤과 롤 사이에 통과시켜, 가압하여 펴 넓히는 방법을 채용하는 경우, 이들 2개의 롤은 동일한 재질이어도 되고, 다른 재질이어도 된다. There is no particular limitation on the coating method of the active energy ray curable resin composition, and various coating methods such as a doctor blade, a wire bar, a die coater, a comma coater, and a gravure coater can be used. A method of dropping the active energy ray-curable resin composition between the polarizing film and the frame or the film, pressing the film with a roll or the like and spreading it uniformly may be adopted. As the material of the roll in this case, And the like can be used. When a method in which the active energy ray-curable resin composition is dropped between a polarizing film and a frame or a film is passed between the rolls and rolls, and the rolls and rolls are pressed and expanded, these two rolls may be made of the same material, Other materials may be used.

본 발명에 있어서, 편광 필름의 방현층과는 반대면에, 또한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 보호층을 형성하는 경우, 그 방법은, 상기한 방현층을 형성하는 경우와 동일한 방법을 채용할 수 있다. 단, 여기서는 미세 요철 형상을 갖는 틀 또는 부형 필름을 사용할 필요는 없고, 평활한 롤이나 평활한 기재 필름을 사용할 수 있다. 편광 필름의 한쪽 면에 방현층을, 다른 면에 보호층을 형성하는 경우, 그 순서는, 방현층을 형성한 후에 보호층을 형성해도 되고, 그 반대여도 되며, 양면 동시에 행해도 된다. 이 중에서, 제조 공정을 고려하면, 편광 필름의 양면에 동시에 방현층 및 보호층을 형성하는 방법이 가장 바람직하다. 이 경우, 활성 에너지선의 조사는, 조사하는 측의 반대면의 도막이 충분히 경화한다면, 적층체의 한쪽측으로부터만 조사해도 되고, 적층체의 양면으로부터 조사해도 된다.In the present invention, when a protective layer composed of a cured product of the active energy ray-curable resin composition is formed on the opposite side of the antiglare layer of the polarizing film, the same method as that in the case of forming the above- Can be adopted. However, in this case, it is not necessary to use a frame or a negative film having a fine uneven shape, and a smooth roll or a smooth base film can be used. In the case where the antiglare layer is formed on one side of the polarizing film and the protective layer is formed on the other side, the protective layer may be formed after the antiglare layer is formed, or vice versa, or both surfaces may be formed. Of these, in consideration of the manufacturing process, a method of simultaneously forming the antiglare layer and the protective layer on both sides of the polarizing film is most preferable. In this case, irradiation of the active energy ray may be carried out only from one side of the laminate or from both sides of the laminate if the coating on the opposite side of the irradiation side is sufficiently cured.

활성 에너지선의 조사에 의해 경화를 행하는 경우, 이용되는 광원은 특별히 한정되지 않으나, 파장 400 ㎚ 이하에 발광 분포를 갖는, 예컨대, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로 웨이브 여기 수은등, 메탈핼라이드 램프 등을 이용할 수 있다. 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에의 조사 강도는, 조성물마다 다르지만, 광양이온 중합 개시제 및/또는 광라디칼 중합 개시제의 활성화에 유효한 파장 영역의 조사 강도가 10 mW/㎠∼2500 mW/㎠인 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에의 광조사 강도가 10 mW/㎠ 미만이면, 반응 시간이 지나치게 길어지고, 2500 mW/㎠를 초과하면, 램프로부터 복사되는 열 및 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 중합 시의 발열에 의해, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 황변이나 편광 필름의 열화를 발생시킬 가능성이 있다. 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에의 광조사 시간은, 조성물마다 제어되는 것이며, 역시 특별히 한정되지 않으나, 조사 강도와 조사 시간의 곱으로서 나타나는 적산 광량이 10 mJ/㎠∼2500 mJ/㎠가 되도록 설정되는 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에의 적산 광량이 10 mJ/㎠ 미만이면, 중합 개시제 유래의 활성종의 발생이 충분하지 않아, 얻어지는 방현층 및/또는 보호층의 경화가 불충분해질 가능성이 있다. 또한, 적산 광량이 2500 mJ/㎠를 초과하면, 조사 시간이 매우 길어져, 생산성 향상에는 불리한 것이 된다. 또, 활성 에너지선의 조사는, 편광 필름의 편광도, 투과율 등의 각종 성능이 저하되지 않는 범위에서 행해지는 것이 바람직하다.In the case of curing by irradiation of an active energy ray, the light source used is not particularly limited, but a light source having a light emission distribution of 400 nm or less, such as a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, , A microwave-excited mercury lamp, a metal halide lamp, or the like. The irradiation intensity to the active energy ray-curable resin composition is preferably from 10 mW / cm 2 to 2500 mW / cm 2 in the wavelength range effective for activating the photocationic polymerization initiator and / or the photoradical polymerization initiator, . When the irradiation intensity to the active energy ray-curable resin composition is less than 10 mW / cm 2, the reaction time becomes excessively long. When the irradiation energy exceeds 2500 mW / cm 2, the heat and active energy radiated from the lamp There is a possibility that yellowing of the active energy ray-curable resin composition or deterioration of the polarizing film may occur due to heat generation. The light irradiation time to the active energy ray-curable resin composition is controlled for each composition and is not particularly limited, but is set so that the integrated light quantity represented by the product of irradiation intensity and irradiation time is 10 mJ / cm 2 to 2500 mJ / cm 2 . If the amount of accumulated light in the active energy ray-curable resin composition is less than 10 mJ / cm 2, the generation of active species derived from the polymerization initiator is not sufficient, and the curing of the resulting antiglare layer and / or protective layer may be insufficient. If the accumulated light quantity exceeds 2500 mJ / cm 2, the irradiation time becomes very long, which is disadvantageous for the productivity improvement. The irradiation of the active energy ray is preferably performed within a range in which various performances such as the polarization degree and transmittance of the polarizing film are not deteriorated.

(복합 편광판)(Complex polarizer)

본 발명에 있어서, 편광 필름의 한쪽 면에 방현층이 형성되고, 다른쪽 면에 보호층이 형성된 경우, 도 3에 도시한 바와 같이, 그 보호층의 외면에는, 필요에 따라 위상차판을 적층하여, 복합 편광판으로 해도 된다. 여기서 위상차판은, 액정 셀에 의한 위상차의 보상 등을 목적으로 하여 사용되는 것이다. 그 예로서는, 각종 플라스틱의 연신 필름 등으로 이루어지는 복굴절성 필름, 디스코틱 액정이나 네마틱 액정이 배향 고정된 필름, 필름 기재 상에 상기한 액정층이 형성된 것 등을 들 수 있다. 이 경우, 배향 액정층을 지지하는 필름 기재로서, 트리아세틸셀룰로오스 등 셀룰로오스계 필름이 바람직하게 이용된다.In the present invention, when an antiglare layer is formed on one surface of a polarizing film and a protective layer is formed on the other surface, a retardation plate is laminated on the outer surface of the protective layer as needed , Or a composite polarizing plate. Here, the phase difference plate is used for the purpose of compensating the phase difference due to the liquid crystal cell or the like. Examples thereof include a birefringent film made of stretched films of various plastics, a film in which discotic liquid crystals or nematic liquid crystals are aligned and fixed, and those in which the liquid crystal layer is formed on a film substrate. In this case, a cellulose-based film such as triacetyl cellulose is preferably used as the film base for supporting the aligned liquid crystal layer.

복굴절성 필름을 형성하는 플라스틱의 구체예로서는, 폴리카보네이트, 폴리비닐알코올, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀, 노르보르넨계 수지, 폴리아릴레이트, 폴리아미드 등을 들 수 있다. 연신 필름은, 1축이나 2축 등의 적절한 방식으로 처리한 것이어도 된다. 또한, 열수축성 필름과의 접착하에 수축력 및/또는 연신력을 가함으로써 필름의 두께 방향의 굴절률을 제어한 복굴절성 필름이어도 된다. 또한, 위상차판은, 광대역화 등 광학 특성의 제어를 목적으로 하여, 2장 이상을 조합해서 사용해도 된다.Specific examples of the plastic forming the birefringent film include polyolefins such as polycarbonate, polyvinyl alcohol, polystyrene, polymethyl methacrylate and polypropylene, norbornene resins, polyarylates, and polyamides. The stretched film may be processed by a suitable method such as one-axis or two-axis. Further, the birefringent film may be a birefringent film in which the refractive index in the thickness direction of the film is controlled by applying a shrinking force and / or a stretching force under adhesion with the heat shrinkable film. Further, two or more retardation plates may be used in combination for the purpose of controlling optical characteristics such as broadening.

위상차판의 보호층에의 접합은, 보호층이 그 위상차판에 대하여 접착력을 갖고 있는 경우에는, 직접 양자를 접합함으로써 이루어져도 되고, 또는, 접착제 또는 점착제를 이용하여 행할 수도 있다. 위상차판끼리의 접합에도, 접착제나 점착제를 이용할 수 있다. 접착 작업의 간편성이나 광학 왜곡의 발생 방지 등의 관점에서, 점착제(감압 접착제라고도 불림)를 사용하는 것이 바람직하다. 점착제에는, 아크릴계 중합체나, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르나 폴리우레탄, 폴리에테르 등을 베이스 폴리머로 한 것을 이용할 수 있다. 그 중에서도 아크릴계 점착제와 같이, 광학적인 투명성이 우수하고, 적절한 젖음성이나 응집력을 유지하며, 접착성도 우수하고, 나아가서는 내후성이나 내열성 등을 가지며, 가열이나 가습의 조건하에서 들뜸이나 벗겨짐 등의 박리 문제를 발생시키지 않는 것을 선택하여 이용하는 것이 바람직하다. 아크릴계 점착제에 있어서는, 메틸기나 에틸기나 부틸기 등의 탄소수가 20 이하인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산의 알킬에스테르와, (메트)아크릴산이나 (메트)아크릴산히드록시에틸 등으로 이루어지는 관능기 함유 아크릴계 모노머를, 유리 전이 온도가 바람직하게는 25℃ 이하, 더 바람직하게는 0℃ 이하가 되도록 배합한, 중량 평균 분자량이 10만 이상인 아크릴계 공중합체가, 베이스 폴리머로서 유용하다.When the protective layer has an adhesive force to the retardation plate, the retardation plate may be bonded directly to the protective layer, or may be formed using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. An adhesive or a pressure-sensitive adhesive can also be used for joining the retarder plates. It is preferable to use a pressure-sensitive adhesive (also referred to as a pressure-sensitive adhesive) from the viewpoints of simplicity of the bonding operation and prevention of occurrence of optical distortion. As the pressure-sensitive adhesive, an acrylic polymer, a silicone-based polymer, a polyester, a polyurethane, a polyether, or the like may be used as the base polymer. Among them, as in the case of an acrylic pressure-sensitive adhesive, it has excellent optical transparency, maintains proper wettability and cohesive force, has excellent adhesiveness, further has weather resistance and heat resistance, and peeling problems such as lifting and peeling under heating or humidifying conditions It is preferable to select and use it. In the acrylic pressure-sensitive adhesive, an acrylic ester of a (meth) acrylic acid having an alkyl group having 20 or less carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group or a butyl group and an acrylic monomer containing a functional group comprising (meth) acrylic acid or (meth) An acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more, which is blended such that the glass transition temperature is preferably 25 占 폚 or lower, more preferably 0 占 폚 or lower, is useful as the base polymer.

또한, 위상차판은, 그대로 본 발명에 따른 복합 편광판의 제조에 이용해도 되지만, 보호층과의 접합면에 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리 등의 접착을 용이하게 하는 처리를 행하고 나서, 보호층과의 접합에 제공해도 된다.The retardation plate may be used as it is for the production of the composite polarizing plate according to the present invention. However, it is preferable that the bonding surface with the protective layer is subjected to a treatment for facilitating adhesion such as corona discharge treatment and plasma treatment, .

(점착제층)(Pressure-sensitive adhesive layer)

또한, 본 발명의 편광판에는 점착제층을 형성해도 된다. 이러한 점착제층은, 예컨대 액정 셀과의 접합, 상기 위상차판과의 접합, 그 외의 층과의 접합에 이용할 수 있다. 점착제에는, 아크릴계 중합체나, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르나 폴리우레탄, 폴리에테르 등을 베이스 폴리머로 한 것을 이용할 수 있다. 그 중에서도, 아크릴계 점착제와 같이, 광학적인 투명성이 우수하고, 적절한 젖음성이나 응집력을 유지하며, 접착성도 우수하고, 나아가서는 내후성이나 내열성 등을 가지며, 가열이나 가습의 조건하에서 들뜸이나 벗겨짐 등의 박리 문제를 발생시키지 않는 것을 선택하여 이용하는 것이 바람직하다. 아크릴계 점착제에 있어서는, 메틸기나 에틸기나 부틸기 등의 탄소수가 20 이하인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산의 알킬에스테르와, (메트)아크릴산이나 (메트)아크릴산히드록시에틸 등으로 이루어지는 관능기 함유 아크릴계 모노머를, 유리 전이 온도가 바람직하게는 25℃ 이하, 더 바람직하게는 0℃ 이하가 되도록 배합한, 중량 평균 분자량이 10만 이상인 아크릴계 공중합체가, 베이스 폴리머로서 유용하다.A pressure sensitive adhesive layer may be formed on the polarizing plate of the present invention. Such a pressure-sensitive adhesive layer can be used, for example, for bonding with a liquid crystal cell, bonding with the retarder, and bonding with other layers. As the pressure-sensitive adhesive, an acrylic polymer, a silicone-based polymer, a polyester, a polyurethane, a polyether, or the like may be used as the base polymer. Among them, as in the case of an acrylic pressure-sensitive adhesive, it has excellent optical transparency, maintains proper wettability and cohesive force, has excellent adhesiveness, further has weather resistance and heat resistance, and peeling problems such as peeling and peeling under heating or humidifying conditions It is preferable to select and use it. In the acrylic pressure-sensitive adhesive, an acrylic ester of a (meth) acrylic acid having an alkyl group having 20 or less carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group or a butyl group and an acrylic monomer containing a functional group comprising (meth) acrylic acid or (meth) An acrylic copolymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more, which is blended such that the glass transition temperature is preferably 25 占 폚 or lower, more preferably 0 占 폚 or lower, is useful as the base polymer.

점착제층의 형성은, 예컨대, 톨루엔이나 아세트산에틸 등의 유기 용매에 상기한 바와 같은 베이스 폴리머 등의 점착제 조성물을 용해 또는 분산시켜 10 중량%∼40 중량%의 용액을 조제하고, 프로텍트 필름 상에 점착제층을 형성해 두며, 그것을 편광판 상에 옮겨 부착함으로써 점착제층을 형성하는 방식 등에 의해 행할 수 있다. 점착제에는, 바람직하게는 전술한 아크릴계 중합체를 베이스 폴리머로 한 것 등을 이용할 수 있다. 점착제층의 두께는, 그 접착력 등에 따라 결정되지만, 통상은 1 ㎛∼50 ㎛의 범위이다.The pressure-sensitive adhesive layer can be formed, for example, by dissolving or dispersing a pressure-sensitive adhesive composition such as a base polymer as described above in an organic solvent such as toluene or ethyl acetate to prepare a 10 wt% to 40 wt% solution, A method of forming a pressure-sensitive adhesive layer by transferring it onto a polarizing plate, or the like. As the pressure-sensitive adhesive, it is preferable to use the above-mentioned acrylic polymer as the base polymer. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is determined depending on the adhesive force and the like, but is usually in the range of 1 to 50 mu m.

점착제층에는 필요에 따라, 유리 섬유, 유리 비드, 수지 비드, 금속 분말 등의 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 등이 배합되어 있어도 된다. 자외선 흡수제에는, 살리실산에스테르계 화합물, 벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 시아노아크릴레이트계 화합물, 니켈 착염계 화합물 등이 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may contain a filler, pigment, colorant, antioxidant, ultraviolet absorber or the like, which is composed of inorganic powder such as glass fiber, glass bead, resin bead or metal powder, if necessary. Examples of the ultraviolet absorber include a salicylate ester compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, a cyanoacrylate compound, and a nickel complex salt compound.

(액정 표시 장치)(Liquid crystal display device)

본 발명의 편광판 또는 복합 편광판은, 액정 표시 장치에 적합하게 적용할 수 있다. 이때, 본 발명의 편광판 또는 복합 편광판을 구성하는 방현층과 편광 필름 중, 편광 필름이 액정 셀측이 되도록 적층된다.The polarizing plate or the composite polarizing plate of the present invention can be suitably applied to a liquid crystal display device. At this time, among the antiglare layer and the polarizing film constituting the polarizing plate or the composite polarizing plate of the present invention, the polarizing film is laminated on the liquid crystal cell side.

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것은 아니다. 예 중, 사용량 내지 함유량을 나타내는 「부」 및 「%」는, 특별히 언급이 없는 한 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, " parts " and "% " representing amounts used or contents are by weight unless otherwise specified.

(제조예 1: 편광 필름의 제작)(Production Example 1: Production of polarizing film)

평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9 몰% 이상이고 두께 75 ㎛의 폴리비닐알코올 필름을, 30℃의 순수(純水)에 침지한 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 중량비가 0.02/2/100인 수용액에 30℃에서 침지하여, 요오드 염색을 행하였다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 중량비가 12/5/100인 수용액에 56.5℃에서 침지하여, 붕산 처리(가교 처리)를 행하였다. 계속해서 8℃의 순수로 세정한 후, 65℃에서 건조하여, 폴리비닐알코올에 요오드가 흡착 배향된 편광 필름을 얻었다. 연신은, 주로 요오드 염색 및 붕산 처리의 공정에서 행하고, 토탈 연신 배율은 5.3배였다.A polyvinyl alcohol film having an average degree of polymerization of about 2400, a degree of saponification of 99.9 mol% or more and a thickness of 75 탆 was immersed in pure water at 30 캜 and then an aqueous solution having a weight ratio of iodine / potassium iodide / water of 0.02 / At 30 캜 to perform iodine staining. Subsequently, the substrate was immersed in an aqueous solution having a weight ratio of potassium iodide / boric acid / water of 12/5/100 at 56.5 ° C, and subjected to boric acid treatment (crosslinking treatment). Subsequently, the film was washed with pure water at 8 占 폚 and then dried at 65 占 폚 to obtain a polarizing film in which iodine was adsorbed and oriented on polyvinyl alcohol. The stretching was carried out mainly in a step of iodine dyeing and boric acid treatment, and the total stretching magnification was 5.3 times.

(제조예 2: 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A의 조제)(Preparation Example 2: Preparation of active energy ray-curable resin composition A)

이하의 각 성분을 혼합하여, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A를 조제하였다.The following components were mixed to prepare an active energy ray curable resin composition A.

·3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(셀록사이드 2021P, 다이셀 가가쿠(주) 제조): 35부35 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celloxide 2021P, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)

·비스〔(3-에틸-3-옥세타닐) 메틸〕에테르(아론옥세탄 OXT-221, 도아 고세이(주) 제조): 15부15 parts of bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methyl] ether (Aroonoxetane OXT-221, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

·히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판과의 아세탈 화합물의 디아크릴레이트(A-DOG, 신나카무라 가가쿠 고교(주) 제조): 50부· 50 parts of a diacrylate of an acetal compound of hydroxypivalic aldehyde and trimethylol propane (A-DOG, Shin Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)

·2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온(DAROCUR 1173, 치바사 제조, 광라디칼 중합 개시제): 2.5부2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (DAROCUR 1173, photoradical polymerization initiator manufactured by Chiba): 2.5 parts

·4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술파이드 비스헥사플루오로포스페이트계의 광양이온 중합 개시제(SP-150, (주)ADEKA 제조): 2.5부.2.5 parts of 4,3'-bis (diphenylsulfonyl) diphenyl sulfide bishexafluorophosphate based light cation polymerization initiator (SP-150, manufactured by ADEKA Corporation).

또, 상기한 A-DOG(히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판과의 아세탈 화합물의 디아크릴레이트)는, 하기 식의 구조를 갖는 화합물이다.The above-mentioned A-DOG (diacrylate of acetal compound of hydroxypivalic aldehyde and trimethylolpropane) is a compound having the structure of the following formula.

Figure 112010040225053-pat00016
Figure 112010040225053-pat00016

(제조예 3: 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B의 조제)(Preparation Example 3: Preparation of active energy ray-curable resin composition B)

이하의 각 성분을 혼합하여, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B를 조제하였다. The following components were mixed to prepare an active energy ray curable resin composition B.

·3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(셀록사이드 2021P, 다이셀 가가쿠(주) 제조): 35부35 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celloxide 2021P, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)

·비스〔(3-에틸-3-옥세타닐) 메틸〕에테르(아론옥세탄 OXT-221, 도아 고세이(주) 제조): 15부15 parts of bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methyl] ether (Aroonoxetane OXT-221, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

·1,3,5-트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트의 트리아크릴레이트(A-9300, 신나카무라 가가쿠 고교(주) 제조): 50부Triacrylate of 1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate (A-9300, Shin Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.): 50 parts

·2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온(DAROCUR 1173, 치바사 제조, 광라디칼 중합 개시제): 2.5부2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (DAROCUR 1173, photoradical polymerization initiator manufactured by Chiba): 2.5 parts

·4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술파이드 비스헥사플루오로포스페이트계의 광양이온 중합 개시제(SP-150, (주)ADEKA 제조): 2.5부.2.5 parts of 4,3'-bis (diphenylsulfonyl) diphenyl sulfide bishexafluorophosphate based light cation polymerization initiator (SP-150, manufactured by ADEKA Corporation).

(제조예 4: 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 C의 조제)(Preparation Example 4: Preparation of active energy ray-curable resin composition C)

이하의 각 성분을 혼합하여, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 C를 조제하였다. The following components were mixed to prepare an active energy ray curable resin composition C.

·3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(셀록사이드 2021P, 다이셀 가가쿠(주) 제조): 35부35 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celloxide 2021P, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)

·비스〔(3-에틸-3-옥세타닐) 메틸〕에테르(아론옥세탄 OXT-221, 도아 고세이(주) 제조): 15부15 parts of bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methyl] ether (Aroonoxetane OXT-221, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

·펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(A-TMMT, 신나카무라 가가쿠 고교(주) 제조): 50부Pentaerythritol tetraacrylate (A-TMMT, Shin Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.): 50 parts

·2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온(DAROCUR 1173, 치바사 제조, 광라디칼 중합 개시제): 2.5부2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (DAROCUR 1173, photoradical polymerization initiator manufactured by Chiba): 2.5 parts

·4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술파이드 비스헥사플루오로포스페이트계의 광양이온 중합 개시제(SP-150, (주)ADEKA 제조): 2.5부.2.5 parts of 4,3'-bis (diphenylsulfonyl) diphenyl sulfide bishexafluorophosphate based light cation polymerization initiator (SP-150, manufactured by ADEKA Corporation).

이하의 예에서는, 부형 필름으로서, 스미또모 가가쿠(주)가 판매하는 편광판 「스미카란」의 방현 필름으로서 사용되고 있고, 자외선 경화 수지 중에 필러가 분산되어 이루어지는 방현 필름 「AG6」을 사용하였다.In the following example, an antiglare film "AG6" in which a filler is dispersed in an ultraviolet curing resin is used as an antiglare film of a polarizing plate "Sumikaran" marketed by Sumitomo Chemical Co., Ltd. as a negative film.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

상기 부형 필름의 요철면 및 평활한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(에스테르 필름 E5100, 도요 보세키(주) 제조)의 한쪽 면에, 각각 도공기(다이이치 리카(주) 제조, 바코터)를 이용하여, 제조예 2에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A를 경화 후의 두께가 8.5 ㎛가 되도록 도공하였다. 이때, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 도공했을 때의 막 두께는 점도에 따라 변화하기 때문에, 바코터의 번선(番線)의 번호를 바꿈으로써 막 두께를 조절하였다. 다음으로, 제조예 1에서 제작한 편광 필름의 양면에, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A의 도막을 갖는 부형 필름 및 PET 필름을, 각각의 도막측에서 편광 필름을 끼워 넣도록, 접착 장치(LPA3301, 후지플라(주) 제조)를 이용하여 접합하였다. 이 접합품에, 퓨전 UV 시스템즈사 제조의 D벌브에 의해, 자외선을 적산 광량 1500 mJ/㎠로 조사하여, 편광 필름의 양면에 배치된 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A를 경화시켰다. 그 후, 부형 필름 및 PET 필름을 박리하여, 편광 필름의 한쪽 면에 방현층, 또 한쪽 면에 방현성이 없는 보호층이 직접 형성된 편광판을 제작하였다.(Bar Coater, manufactured by Dai-ichi Licharic Co., Ltd.) was applied to one side of the uneven surface of the above-mentioned negative film and a smooth polyethylene terephthalate (PET) film (ester film E5100, manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) , The active energy ray-curable resin composition A prepared in Production Example 2 was coated so as to have a thickness after curing of 8.5 mu m. At this time, since the film thickness when the active energy ray-curable resin composition was coated changes depending on the viscosity, the film thickness was adjusted by changing the number of the bar coater. Next, a negative film and a PET film having a coating film of the above-mentioned active energy ray-curable resin composition A were placed on both sides of the polarizing film produced in Production Example 1, and a polarizing film was adhered to each side of the coating film by a bonding apparatus (LPA3301 , Manufactured by Fuji Plasma Co., Ltd.). The active energy ray-curable resin composition A disposed on both sides of the polarizing film was cured by irradiating ultraviolet rays with a cumulative light quantity of 1,500 mJ / cm 2 by a D bulb manufactured by Fusion UV Systems. Thereafter, the polarizing film and the PET film were peeled off to prepare a polarizing plate having an antiglare layer on one side of the polarizing film and a protective layer having no light-blocking property directly on the other side.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A 대신에, 제조예 3에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B를 이용하여, 경화 후의 두께가 6.5 ㎛가 되도록 도공한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 편광판을 제작하였다.A polarizing plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable resin composition B prepared in Preparation Example 3 was used instead of the active energy ray curable resin composition A to have a thickness after curing of 6.5 μm Respectively.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A 대신에, 제조예 4에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 C를 이용하여, 경화 후의 두께가 6.5 ㎛가 되도록 도공한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 편광판을 제작하였다.A polarizing plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable resin composition C prepared in Preparation Example 4 was used instead of the active energy ray curable resin composition A so as to have a thickness after curing of 6.5 탆 Respectively.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

실시예 1에서 이용한 것과 동일한 PET 필름의 한쪽 면에, 실시예 1과 동일한 도공기를 이용하여, 제조예 2에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A를 경화 후의 두께가 7.5 ㎛가 되도록 도공하였다. 이때의 막 두께 조절은, 실시예 1에 나타낸 것과 동일한 방법으로 행하였다. 다음으로, 제조예 1에서 제작한 편광 필름의 양면에, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A의 도막을 갖는 PET 필름을, 각각 도막측이 편광 필름과의 접합면이 되도록, 실시예 1과 동일한 접착 장치를 이용하여 접합하였다. 이 접합품에, 실시예 1과 동일한 조건으로 자외선을 조사하여, 편광 필름의 양면에 배치된 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A를 경화시켰다. 그 후, PET 필름을 박리하여, 편광 필름의 양면에 방현성이 없는 보호층을 갖는 편광판을 제작하였다.The active energy ray-curable resin composition A prepared in Production Example 2 was coated on one side of the same PET film as used in Example 1 to have a thickness after curing of 7.5 mu m using the same coating machine as in Example 1. [ At this time, the film thickness was adjusted by the same method as that shown in Example 1. Next, a PET film having a coating film of the above-mentioned active energy ray-curable resin composition A was applied on both sides of the polarizing film produced in Production Example 1, and the same adhesion as in Example 1 Device. This bonding product was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 to cure the active energy ray curable resin composition A disposed on both sides of the polarizing film. Thereafter, the PET film was peeled off to produce a polarizing plate having a protective layer having no scattering property on both sides of the polarizing film.

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A 대신에, 제조예 3에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 B를 이용하여, 경화 후의 두께가 8 ㎛가 되도록 도공한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여, 편광판을 제작하였다. A polarizing plate was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the active energy ray curable resin composition B prepared in Preparation Example 3 was used instead of the active energy ray curable resin composition A so that the thickness after curing was 8 占 퐉 Respectively.

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

활성 에너지선 경화성 수지 조성물 A 대신에, 제조예 4에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 C를 이용하여, 경화 후의 두께가 7.5 ㎛가 되도록 도공한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여, 편광판을 제작하였다.A polarizing plate was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the active energy ray curable resin composition C prepared in Preparation Example 4 was used instead of the active energy ray curable resin composition A so that the thickness after curing was 7.5 占 퐉 Respectively.

<비교예 4>&Lt; Comparative Example 4 &

폴리비닐알코올에 요오드가 흡착 배향된 편광 필름의 양면에, 각각 두께 80 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스(TAC)로 이루어지는 보호 필름이 접합되어 있고, 한쪽의 보호 필름의 표면에 필러가 분산되어 있는 자외선 경화 수지로 이루어지는 방현층을 갖는 편광판(TRW842A-AG6, 스미또모 가가쿠(주) 제조)을 비교예 4로서 이용하였다.A protective film made of triacetylcellulose (TAC) having a thickness of 80 占 퐉 was bonded to both surfaces of a polarizing film in which iodine was adsorbed and oriented on polyvinyl alcohol, and an ultraviolet curable resin (Trade name: TRW842A-AG6, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) having an antiglare layer was used as Comparative Example 4.

<평가 시험>&Lt; Evaluation test >

이상의 실시예 1∼3 및 비교예 1∼4에서 제작한 편광판에 대해서, 이하의 평가 시험을 행하고, 결과를 표 1에 나타내었다.The following evaluation tests were carried out on the polarizing plates produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4, and the results are shown in Table 1.

[편광판의 두께 측정][Measurement of Thickness of Polarizer]

접촉식 막 두께 측정기(ZC-101, (주)니콘 제조)를 이용하여, 제작한 편광판 전체의 두께를 측정하고, 이하의 기준으로 평가하였다.The thickness of the entire polarizing plate thus produced was measured using a contact type film thickness meter (ZC-101, manufactured by Nikon Corporation) and evaluated according to the following criteria.

A: 두께가 50 ㎛ 미만,A: Thickness of less than 50 占 퐉,

B: 두께가 50 ㎛ 이상 75 ㎛ 미만,B: Thickness of 50 占 퐉 or more and less than 75 占 퐉,

C: 두께가 75 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만,C: Thickness of 75 占 퐉 or more and less than 100 占 퐉,

D: 두께가 100 ㎛ 이상.D: Thickness of 100 占 퐉 or more.

또한, 얻어진 편광판 전체의 두께로부터 편광 필름의 두께(30 ㎛)를 빼고, 그것을 2분한 값을, 방현층 및 보호층 각각의 두께로서, 표 1에 나타내었다. 단, 비교예 1∼3의 방현층의 란에 기재한 두께는, 실제로는 표면에 요철을 갖지 않는 편면 보호층의 값이다. 또한, 비교예 4에서는, 공칭값(보호층에 상당하는 것은 두께 80 ㎛의 TAC 필름, 방현층에 상당하는 것은 두께 80 ㎛의 TAC 필름+두께 3 ㎛의 자외선 경화 수지로 이루어지는 방현층)을 그대로 표 1에 기재하였다.The values obtained by subtracting the thickness (30 占 퐉) of the polarizing film from the total thickness of the obtained polarizing plate and dividing it by 2 are shown in Table 1 as the thicknesses of the antiglare layer and the protective layer. However, the thicknesses described in the columns of the antiglare layer of Comparative Examples 1 to 3 are actually values of the single-sided protective layer having no irregularities on the surface. In Comparative Example 4, the nominal value (a TAC film having a thickness of 80 占 퐉 corresponding to the protective layer, a TAC film having a thickness of 80 占 퐉 and an antiglare layer comprising an ultraviolet curing resin having a thickness of 3 占 퐉 corresponding to the antiglare layer) Are shown in Table 1.

[헤이즈 측정][Measuring Haze]

편광판을 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여 방현층 형성면과는 반대측의 면(비교예 1∼3에 대해서는, 한쪽의 보호층 측)에서 유리 기판에 접합하고, 그 유리 기판에 접합된 편광판에 대해서, JIS K 7136에 준거한 헤이즈 미터(HM-150형, (주)무라카미 시키사이 기쥬쯔 겐큐쇼 제조)를 이용하여, 전체 헤이즈를 측정하였다. 전체 헤이즈가 5%∼25%인 것을 ○, 그 범위 외의 전체 헤이즈를 갖는 것을 ×라고 평가하였다.The polarizing plate was bonded to the glass substrate on the side opposite to the antiglare layer forming side (on the side of one of the protective layers for Comparative Examples 1 to 3) using an optically transparent pressure-sensitive adhesive, The total haze was measured using a haze meter (HM-150 type, manufactured by Murakami Shikisai Co., Ltd.) in accordance with JIS K 7136. A sample having a total haze of 5% to 25% was evaluated as?, And a sample having a total haze outside the range was evaluated as?.

[반사 선명도 측정][Reflection sharpness measurement]

JIS K 7105에 준거한 사상성 측정기(ICM-1T, 스가 시켄키(주) 제조)를 이용하여, 방현 필름의 반사 선명도를 측정하였다. 이때, 샘플의 휘어짐을 방지하기 위해서, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여 평가면이 표측(빛을 입사시키는 면)이 되도록 유리 기판에 접합하고, 또한 이면 유리면으로부터의 반사를 방지하기 위해서, 방현 필름을 붙인 유리판의 유리면에 2 ㎜ 두께의 흑색 아크릴 수지판을 물로 밀착시켜 접착하였다. 이 상태에서 편광판 측으로부터 빛을 45°의 각도로 입사시켜, 측정을 행하였다. 여기서의 측정값은, 암부와 명부의 폭이 각각 0.5 ㎜, 1.0 ㎜ 및 2.0 ㎜인 3종류의 광학 빗을 이용하여 측정된 값의 합계값이다. 반사 선명도가 40% 미만인 경우에는 ○, 40% 이상인 경우에는 ×라고 평가하였다.The reflection sharpness of the antiglare film was measured using a mismatch measuring device (ICM-1T, Suga Shikeki Co., Ltd.) conforming to JIS K 7105. At this time, in order to prevent the sample from warping, an optically transparent pressure-sensitive adhesive is used to bond the glass substrate to the glass substrate so that the evaluation surface becomes the surface side (light incidence surface), and the antiglare film A black acrylic resin plate having a thickness of 2 mm was adhered to the glass surface of the attached glass plate with water and adhered. In this state, light was incident at an angle of 45 degrees from the polarizing plate side, and measurement was performed. Here, the measured values are the sum of the values measured using three types of optical combs having widths of the dark portion and the bright portion of 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm, respectively. When the reflection sharpness was less than 40%, it was evaluated as &amp; cir &amp;

Figure 112010040225053-pat00017
Figure 112010040225053-pat00017

실시예 1∼3의 편광판은, 현재 일반적으로 사용되고 있는 방현성 편광판인 비교예 4의 것에 비하여, 거의 동등한 방현 성능(전체 헤이즈 및 반사 선명도)을 나타내면서, 박형화되어 있는 것을 알 수 있다. It can be seen that the polarizing plates of Examples 1 to 3 are thinner than those of Comparative Example 4 which is a polarizing plate which is generally used in the present day, while exhibiting almost equivalent anti-glare performance (total haze and reflection sharpness).

(제조예 5: 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D의 조제)(Preparation Example 5: Preparation of active energy ray-curable resin composition D)

이하의 각 성분을 혼합하여, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D를 조제하였다.The following components were mixed to prepare an active energy ray-curable resin composition D.

·3,4-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(셀록사이드 2021P, 다이셀 가가쿠(주) 제조): 70부· 3,4-Epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Celloxide 2021P, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.): 70 parts

·비스〔(3-에틸-3-옥세타닐) 메틸〕에테르(아론옥세탄 OXT-221, 도아 고세이(주) 제조): 30부30 parts of bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methyl] ether (Aromoxetane OXT-221, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

·4,4'-비스(디페닐술포니오)디페닐술파이드 비스헥사플루오로포스페이트계의 광양이온 중합 개시제(SP-150, (주)ADEKA 제조): 4.5부.4.5 parts of 4,3'-bis (diphenylsulfonyl) diphenyl sulfide bishexafluorophosphate based photocationic polymerization initiator (SP-150, manufactured by ADEKA Corporation).

(제조예 6: 대전 방지제 함유 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D1의 조제)(Preparation Example 6: Preparation of antistatic agent-containing active energy ray-curable resin composition D1)

제조예 5에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D의 전체 100부에 대하여, 대전 방지제로서, 1-헥실-4-메틸피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드(하기 식의 구조를 갖는 이온성 화합물)를 4부 혼합해서, 대전 방지제 함유 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D1을 조제하였다.1-hexyl-4-methylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide (ionic (meth) acrylate having a structure of the following formula) was used as an antistatic agent in 100 parts of the total of the active energy ray- Compound) were mixed to prepare an active energy ray-curable resin composition D1 containing an antistatic agent.

Figure 112010040225053-pat00018
Figure 112010040225053-pat00018

(제조예 7: 대전 방지제 함유 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D2의 조제)(Preparation Example 7: Preparation of antistatic agent-containing active energy ray-curable resin composition D2)

제조예 6에 있어서, 이온성 화합물의 배합량을 10부로 한 것 이외에는, 동일하게 하여 대전 방지제 함유 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D2를 조제하였다. An actinic energy ray-curable resin composition D2 containing an antistatic agent was prepared in the same manner as in Production Example 6, except that the amount of the ionic compound was changed to 10 parts.

<실시예 4><Example 4>

실시예 1에서 이용한 것과 동일한 부형 필름 및 평활한 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 이용하고, 부형 필름의 요철면 및 평활한 PET 필름의 한쪽 면에, 각각 도공기(다이이치 리카(주)제조, 바코터)를 이용하여, 제조예 5에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D를 경화 후의 두께가 5 ㎛가 되도록 도공하였다. 이때, 막 두께의 조절은 실시예 1에 나타낸 것과 동일한 방법으로 행하였다. 다음으로, 제조예 1에서 제작한 편광 필름의 양면에, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D의 도막을 갖는 부형 필름 및 PET 필름을, 각각의 도막측에서 편광 필름을 끼워 넣도록, 접착 장치(LPA3301, 후지플라(주) 제조)를 이용하여 접합하였다. 이 접합품에, 실시예 1과 동일한 조건으로 자외선을 조사하여, 편광 필름의 양면에 배치된 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D의 도막층을 경화시켰다. 그 후, 부형 필름 및 PET 필름을 박리하여, 편광 필름의 한쪽 면에 방현층, 또 한쪽 면에 방현성이 없는 보호층이 직접 형성된 편광판을 제작하였다.The same negative film and the same smooth polyethylene terephthalate (PET) film as used in Example 1 were used, and on one surface of the uneven surface of the negative film and the smooth PET film, a coating machine (manufactured by Dai- Bar coater), the active energy ray curable resin composition D prepared in Production Example 5 was coated so as to have a thickness after curing of 5 占 퐉. At this time, the adjustment of the film thickness was carried out in the same manner as in Example 1. Next, on both sides of the polarizing film produced in Production Example 1, a negative film and a PET film having a coating film of the above-mentioned active energy ray-curable resin composition D were adhered to each other with a bonding apparatus LPA3301 , Manufactured by Fuji Plasma Co., Ltd.). This bonding product was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 to cure the coating layer of the active energy ray curable resin composition D disposed on both sides of the polarizing film. Thereafter, the polarizing film and the PET film were peeled off to prepare a polarizing plate having an antiglare layer on one side of the polarizing film and a protective layer having no light-blocking property directly on the other side.

<실시예 5>&Lt; Example 5 >

활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D 대신에, 제조예 6에서 조제한 대전 방지제 함유 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D1을 이용하여, 경화 후의 두께가 4.5 ㎛가 되도록 도공한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여, 편광판을 제작하였다.Except that the active energy ray curable resin composition D1 containing an antistatic agent prepared in Preparation Example 6 was used instead of the active energy ray curable resin composition D so that the thickness after curing was 4.5 占 퐉, To prepare a polarizing plate.

<실시예 6>&Lt; Example 6 >

활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D 대신에, 제조예 7에서 조제한 대전 방지제 함유 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D2를 사용하고, 그 외에는 실시예 4와 동일하게 하여, 편광판을 제작하였다.A polarizing plate was produced in the same manner as in Example 4 except that the active energy ray curable resin composition D2 containing the antistatic agent prepared in Preparation Example 7 was used in place of the active energy ray curable resin composition D. [

<비교예 5>&Lt; Comparative Example 5 &

실시예 4에서 이용한 것과 동일한 PET 필름의 한쪽 면에, 실시예 4와 동일한 도공기를 이용하여, 제조예 5에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D를 경화 후의 두께가 5 ㎛가 되도록 도공하였다. 이때의 막 두께 조절은, 실시예 1에 나타낸 것과 동일한 방법으로 행하였다. 다음으로, 제조예 1에서 제작한 편광 필름의 양면에, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D의 도막을 갖는 PET 필름을, 각각의 도막측이 편광 필름과의 접합면이 되도록, 실시예 4와 동일한 접착 장치를 이용하여 접합하였다. 이 접합품에, 실시예 1과 동일한 조건으로 자외선을 조사하여, 편광 필름의 양면에 배치된 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 D의 도막층을 경화시켰다. 그 후, 양면의 PET 필름을 박리하여, 편광 필름의 양면에 방현성이 없는 보호층을 갖는 편광판을 제작하였다.The active energy ray-curable resin composition D prepared in Production Example 5 was coated on one side of the same PET film as used in Example 4 to have a thickness after curing of 5 mu m using the same coating machine as in Example 4. [ At this time, the film thickness was adjusted by the same method as that shown in Example 1. Next, on both sides of the polarizing film produced in Production Example 1, a PET film having a coating film of the above-mentioned active energy ray-curable resin composition D was prepared so that the side of each coated film was a bonding surface with the polarizing film, Using a bonding apparatus. This bonding product was irradiated with ultraviolet rays under the same conditions as in Example 1 to cure the coating layer of the active energy ray curable resin composition D disposed on both sides of the polarizing film. Thereafter, the PET film on both sides was peeled off to produce a polarizing plate having a protective layer having no scattering property on both sides of the polarizing film.

<평가 시험>&Lt; Evaluation test >

이상의 실시예 4∼6 및 비교예 5에서 제작한 편광판에 대해서, 앞의 실시예 1∼3 및 비교예 1∼4와 동일한 방법으로, 두께 측정, 헤이즈 측정 및 반사 선명도 측정을 행하여 평가하고, 그 결과를 표 2에 나타내었다. 단 비교예 4의 방현층의 란에 기재한 두께는, 표 1의 비교예 1∼3과 마찬가지로, 실제로는 표면에 요철을 갖지 않는 편면 보호층의 값이다. 또한, 제작 직후의 편광판에 대해서, 표면 고유 저항 측정 장치〔미쯔비시 가가쿠(주) 제조의 「Hirest-up MCP-HT450」(상품명)〕를 이용하여, 온도 23℃, 상대 습도 55%의 조건하에서 표면 저항값을 측정하고, 대전 방지성을 평가하였다. 결과를 아울러 표 2에 나타내었다.With respect to the polarizing plates produced in Examples 4 to 6 and Comparative Example 5, thickness measurement, haze measurement and reflection sharpness measurement were carried out in the same manner as in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4, The results are shown in Table 2. However, the thickness described in the column of the antiglare layer of Comparative Example 4 is the value of the single-sided protective layer which does not have concavities and convexities on the surface, as in Comparative Examples 1 to 3 in Table 1. The polarizing plate immediately after fabrication was measured under the conditions of a temperature of 23 DEG C and a relative humidity of 55% using a surface intrinsic resistance measuring apparatus ("Hirest-up MCP-HT450" (trade name), manufactured by Mitsubishi Kagaku Co., The surface resistance value was measured, and the antistatic property was evaluated. The results are also shown in Table 2.

Figure 112010040225053-pat00019
Figure 112010040225053-pat00019

실시예 4∼6의 편광판은, 박형 경량화된 편광판인 비교예 5의 것에 비하여, 방현 성능(전체 헤이즈 및 반사 선명도)이 우수하고, 또한, 방현층 및 보호층의 형성에 이온성 화합물이 배합된 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 이용한 실시예 5 및 6의 것은, 양호한 대전 방지 성능을 갖고 있는 것을 알 수 있다.The polarizing plates of Examples 4 to 6 are excellent in the anti-glare performance (total haze and reflection sharpness) as compared with the polarizing plate of Comparative Example 5, which is a thin and lightweight polarizing plate, It can be seen that those of Examples 5 and 6 using the active energy ray-curable resin composition have good antistatic properties.

Claims (17)

폴리비닐알코올계 수지에 이색성 색소가 흡착 배향되어 있고 전체 광선 투과율이 50% 이하인 편광 필름의 한쪽 면에, 활성 에너지선 경화성 화합물과 중합 개시제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지고 표면에 요철을 갖는 방현층이 직접 형성되어 있고,
상기 활성 에너지선 경화성 화합물은, 지환식 환에 결합한 에폭시기를 갖는 에폭시계 화합물 및 분자 내에 1개 이상의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물을 포함하고,
상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 화합물의 함유량은 활성 에너지선 경화성 화합물의 전량을 기준으로 35∼70 중량%인 것인 편광판.
A cured product of an active energy ray-curable resin composition containing an active energy ray-curable compound and a polymerization initiator is formed on one side of a polarizing film having a dichroic dye adsorbed on a polyvinyl alcohol-based resin and having a total light transmittance of 50% The antiglare layer having irregularities on its surface is directly formed,
The active energy ray-curable compound includes an epoxy compound having an epoxy group bonded to an alicyclic ring and a (meth) acrylic compound having at least one (meth) acryloyloxy group in the molecule,
In the above active energy ray-curable resin composition, the content of the (meth) acrylic compound is 35 to 70% by weight based on the total amount of the active energy ray-curable compound.
제1항에 있어서, 상기 에폭시계 화합물은 지환식 환에 결합한 에폭시기를 분자 내에 2개 갖는 것인 편광판. The polarizing plate according to claim 1, wherein the epoxy compound has two epoxy groups bonded to an alicyclic ring in the molecule. 제2항에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화성 화합물은 옥세탄계 화합물을 추가로 포함하는 것인 편광판. The polarizing plate according to claim 2, wherein the active energy ray-curable compound further comprises an oxetane-based compound. 제1항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 화합물은 하기 화학식 (XI)∼(XIV)로 표시되는 (메트)아크릴계 화합물을 1개 이상 포함하는 것인 편광판:
화학식 (XI)
Figure 112016059056219-pat00024

화학식 (XII)
Figure 112016059056219-pat00025

화학식 (XIII)
Figure 112016059056219-pat00026

화학식 (XIV)
Figure 112016059056219-pat00027

[상기 화학식 (XI) 및 (XII) 중, Q1 및 Q2는 서로 독립적으로, (메트)아크릴로일옥시기 또는 (메트)아크릴로일옥시알킬기를 나타내고, 알킬의 탄소 수는 1∼10이고;
상기 화학식 (XII) 중, Q는 수소 또는 탄소 수 1∼10의 탄화수소기를 나타내고;
상기 화학식 (XIII) 중, T1, T2 및 T3은 서로 독립적으로, (메트)아크릴로일옥시기를 나타내고;
상기 화학식 (XIV) 중, T는 수산기 또는 (메트)아크릴로일옥시기를 나타낸다.]
The polarizing plate according to claim 1, wherein the (meth) acrylic compound comprises at least one (meth) acrylic compound represented by the following formula (XI) to (XIV)
(XI)
Figure 112016059056219-pat00024

(XII)
Figure 112016059056219-pat00025

The compound of formula (XIII)
Figure 112016059056219-pat00026

(XIV)
Figure 112016059056219-pat00027

[In the formulas (XI) and (XII), Q 1 and Q 2 independently represent a (meth) acryloyloxy group or a (meth) acryloyloxyalkyl group, the number of carbon atoms in the alkyl group is 1 to 10 ;
In the above formula (XII), Q represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms;
In the formula (XIII), T 1 , T 2 and T 3 independently represent a (meth) acryloyloxy group;
In the above formula (XIV), T represents a hydroxyl group or a (meth) acryloyloxy group.
제1항에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은 미립자를 추가로 함유하는 것인 편광판. The polarizing plate according to claim 1, wherein the active energy ray-curable resin composition further contains fine particles. 제1항에 있어서, 상기 방현층을 형성하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은 대전 방지제를 추가로 함유하고, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 방현층은 그 표면 저항값이 1012 Ω/□ 이하인 것인 편광판. The method of claim 1, wherein the active energy ray-curable resin composition for forming the antiglare layer further contains an antistatic agent, and an anti-glare layer composed of a cured product of the active energy ray curable resin composition is 10 12 Ω is the surface resistance value / &Amp; squ &amp;. 제1항에 있어서, 상기 방현층의 두께가 1 ㎛∼35 ㎛인 편광판. The polarizing plate according to claim 1, wherein the antiglare layer has a thickness of 1 탆 to 35 탆. 제1항에 있어서, 상기 편광 필름의 상기 방현층이 형성되어 있는 측과는 반대측의 표면 상에, 활성 에너지선 경화성 화합물과 중합 개시제를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 보호층이 직접 형성되어 있는 편광판. The polarizing plate according to claim 1, further comprising a protective layer made of a cured product of an active energy ray-curable resin composition containing an active energy ray-curable compound and a polymerization initiator on a surface of the polarizing film opposite to the side on which the antiglare layer is formed And the polarizer is directly formed. 제8항에 있어서, 상기 보호층은 편광 필름의 반대측에 형성되는 상기 방현층과 동일한 조성물로 형성되어 있는 것인 편광판. The polarizing plate according to claim 8, wherein the protective layer is formed of the same composition as the antiglare layer formed on the opposite side of the polarizing film. 제8항에 있어서, 상기 보호층의 두께가 1 ㎛∼35 ㎛인 편광판.The polarizing plate according to claim 8, wherein the thickness of the protective layer is 1 mu m to 35 mu m. 제8항에 기재된 편광판의 보호층 상에 위상차판이 적층되어 있는 복합 편광판. A composite polarizer comprising a retardation film laminated on a protective layer of the polarizing plate according to claim 8. 제1항에 기재된 편광판 또는 제11항에 기재된 복합 편광판과, 액정 셀을 구비하고 편광판 또는 복합 편광판을 구성하는 방현층과 편광 필름 중 편광 필름이 액정 셀 측이 되도록 적층되어 있는 액정 표시 장치. 12. A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 1 or the composite polarizing plate according to claim 11 and a polarizing plate comprising a liquid crystal cell and constituting a polarizing plate or a composite polarizing plate and a polarizing film among the polarizing films to be on the liquid crystal cell side. 제1항에 있어서, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에 있어서, 상기 에폭시계 화합물의 함유량은 활성 에너지선 경화성 화합물의 전량을 기준으로 30 중량% 이상인 것인 편광판.The polarizing plate according to claim 1, wherein in the active energy ray-curable resin composition, the content of the epoxy compound is 30% by weight or more based on the total amount of the active energy ray-curable compound. 제1항에 있어서, 전체 헤이즈가 5%∼25%인 편광판. The polarizing plate according to claim 1, wherein the total haze is 5% to 25%. 제1항에 있어서, 반사 선명도가 40% 이하인 편광판. The polarizing plate according to claim 1, wherein the polarizing plate has a reflection sharpness of 40% or less. 제6항에 있어서, 상기 대전 방지제는 유기 양이온을 갖는 이온성 화합물을 포함하는 것인 편광판.7. The polarizer of claim 6, wherein the antistatic agent comprises an ionic compound having an organic cation. 제6항에 있어서, 상기 대전 방지제의 배합량은 활성 에너지선 경화성 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 100 중량부에 대하여, 0.5 중량부∼20 중량부인 것인 편광판.The polarizing plate according to claim 6, wherein the blending amount of the antistatic agent is 0.5 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the active energy ray curable resin composition comprising the active energy ray curable compound and the photopolymerization initiator.
KR1020100059394A 2009-06-25 2010-06-23 Polarizing plate, composite polarizing plate and liquid crystal display device KR101685707B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009151295 2009-06-25
JPJP-P-2009-151295 2009-06-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100138811A KR20100138811A (en) 2010-12-31
KR101685707B1 true KR101685707B1 (en) 2016-12-12

Family

ID=43390536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100059394A KR101685707B1 (en) 2009-06-25 2010-06-23 Polarizing plate, composite polarizing plate and liquid crystal display device

Country Status (4)

Country Link
JP (2) JP5788646B2 (en)
KR (1) KR101685707B1 (en)
CN (2) CN106443857B (en)
TW (2) TWI591392B (en)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6164810B2 (en) 2012-09-03 2017-07-19 日東電工株式会社 Resin film
JP6297772B2 (en) 2012-09-03 2018-03-20 日東電工株式会社 Laminate
JP5613276B2 (en) * 2013-03-01 2014-10-22 日東電工株式会社 Laminated body
TWI475321B (en) * 2013-03-06 2015-03-01 Chi Mei Corp Photosensitive resin composition and uses thereof
JP2014199348A (en) * 2013-03-29 2014-10-23 富士フイルム株式会社 Film mirror and method for manufacturing film mirror
JP6164609B2 (en) * 2013-08-23 2017-07-19 東亞合成株式会社 Photocurable adhesive composition, polarizing plate and method for producing the same, optical member and liquid crystal display device
KR101496617B1 (en) * 2013-09-30 2015-02-25 주식회사 엘지화학 Polarizing Plate
KR101620188B1 (en) * 2013-09-30 2016-05-12 주식회사 엘지화학 Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
KR101650235B1 (en) * 2013-09-30 2016-08-22 주식회사 엘지화학 Polarizing Plate
JP6707807B2 (en) * 2014-12-24 2020-06-10 住友化学株式会社 Polarizing plate and liquid crystal display device
KR101892856B1 (en) 2016-05-02 2018-08-31 주식회사 엘지화학 Polarizing plate and liquid crystal display comprising the same
KR102548461B1 (en) * 2016-06-10 2023-06-28 삼성디스플레이 주식회사 Display device and method for manufacturing the same
KR102022690B1 (en) * 2016-10-20 2019-09-18 주식회사 엘지화학 Method for preparing of polarizer protecting film
US10654982B2 (en) 2016-10-20 2020-05-19 Lg Chem, Ltd. Method for preparing polarizer protecting film
CN109425922A (en) * 2017-08-21 2019-03-05 上海和辉光电有限公司 A kind of polaroid and preparation method thereof, display panel and display device
KR102092471B1 (en) * 2017-09-22 2020-03-23 주식회사 엘지화학 Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
KR101917963B1 (en) * 2017-11-24 2018-11-12 주식회사 엘지화학 Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
KR101941649B1 (en) 2017-11-24 2019-01-23 주식회사 엘지화학 Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
KR102244789B1 (en) * 2017-12-15 2021-04-26 주식회사 엘지화학 Polarzing plate, polarizing plate-carrier film laminate, the method for manufacturing the polarizing plate and the active energy beam-cured composition for protective layer of polarizer
JP6824939B2 (en) * 2018-09-13 2021-02-03 株式会社ダイセル Anti-glare film and its manufacturing method and application
JPWO2020203359A1 (en) * 2019-03-29 2020-10-08

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004245924A (en) * 2003-02-12 2004-09-02 Sumitomo Chem Co Ltd Polarizing plate, its manufacturing method, optical member and liquid crystal display device

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4081217B2 (en) * 1999-03-17 2008-04-23 互応化学工業株式会社 UV curable resin composition, photo solder resist ink, pre-dried film, substrate and printed wiring board
JP4705311B2 (en) * 2000-09-14 2011-06-22 互応化学工業株式会社 UV curable resin composition and photo solder resist ink containing the composition
CN1178996C (en) * 2002-08-31 2004-12-08 中国化工建设总公司常州涂料化工研究院 Ultraviolet ray cured paint
JP2004094063A (en) * 2002-09-03 2004-03-25 Nitto Denko Corp Polarizing plate, optical film and image display device
US8704211B2 (en) * 2004-06-30 2014-04-22 General Electric Company High integrity protective coatings
JP2005004163A (en) * 2002-09-30 2005-01-06 Fuji Photo Film Co Ltd Optical functional film, polarizing plate and image display device
JP2005092112A (en) * 2003-09-19 2005-04-07 Kuraray Co Ltd Polarizing plate and its manufacturing method
CN1930258B (en) * 2004-03-09 2011-08-03 三菱丽阳株式会社 Active energy ray-curable coating composition and method for forming protective coating film
KR101236100B1 (en) * 2004-12-15 2013-02-21 가부시키가이샤 구라레 Actinic energy ray curable resion composition and use thereof
JP4681913B2 (en) * 2005-03-02 2011-05-11 富士フイルム株式会社 Optical laminate, polarizing plate and liquid crystal display device
KR101290846B1 (en) * 2005-07-28 2013-07-29 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Curable resin composition, cured product thereof, various articles derived from those
CN100533186C (en) * 2006-05-16 2009-08-26 日东电工株式会社 Polarizing plate and image display including the same
JP4740184B2 (en) * 2006-05-16 2011-08-03 日東電工株式会社 Polarizing plate and image display device using the same
JP4363429B2 (en) * 2006-08-31 2009-11-11 セイコーエプソン株式会社 Polarizing plate, liquid crystal device, and electronic device
JP2008129427A (en) * 2006-11-22 2008-06-05 Sumitomo Chemical Co Ltd Polarizing plate and its manufacturing method
JP5232403B2 (en) * 2007-05-10 2013-07-10 日東電工株式会社 OPTICAL LAMINATED FILM, LONG OPTICAL LAMINATED FILM MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
JP2009037223A (en) * 2007-07-12 2009-02-19 Sumitomo Chemical Co Ltd Polarizing plate and optical member
JP4849563B2 (en) * 2007-08-07 2012-01-11 住友化学株式会社 Polarizing plate and manufacturing method thereof
JP4849564B2 (en) * 2007-08-27 2012-01-11 住友化学株式会社 Iodine polarizing film and method for producing polarizing plate
JP4448183B2 (en) * 2007-09-28 2010-04-07 日東電工株式会社 Polarizing plate, manufacturing method thereof, optical film, and image display device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004245924A (en) * 2003-02-12 2004-09-02 Sumitomo Chem Co Ltd Polarizing plate, its manufacturing method, optical member and liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
TWI591392B (en) 2017-07-11
JP2011028245A (en) 2011-02-10
JP6084665B2 (en) 2017-02-22
TW201617655A (en) 2016-05-16
KR20100138811A (en) 2010-12-31
JP2016006519A (en) 2016-01-14
JP5788646B2 (en) 2015-10-07
TWI578030B (en) 2017-04-11
CN106443857A (en) 2017-02-22
TW201109747A (en) 2011-03-16
CN106443857B (en) 2019-05-17
CN101937113A (en) 2011-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101685707B1 (en) Polarizing plate, composite polarizing plate and liquid crystal display device
KR101686666B1 (en) Polarizing plate, optical member and liquid crystal display
KR101626158B1 (en) Polarizing plate and its production method
WO2018139358A1 (en) Polarizing plate and image display device
KR101653416B1 (en) Polarizing plate, optical member, and liquid crystal display device
KR101722778B1 (en) Polarizing plate and its production method, and liquid crystal display
JP5855947B2 (en) Photocurable adhesive, polarizing plate and laminated optical member using the same
JP2013160775A (en) Polarizer and optical member
KR102155921B1 (en) Photocurable adhesive, polarizing plate using same, multilayer optical member and liquid crystal display device
KR102527505B1 (en) Polarizing plate
KR20090006759A (en) Polarizer and optical element
JP2010277063A (en) Liquid crystal display device
JP6394011B2 (en) Manufacturing method of polarizing plate
WO2012133163A1 (en) Polarizing plate and laminated optical member
JP2020173458A (en) Polarizing plate
JP2009216874A (en) Polarizing plate and liquid crystal display
KR20190106752A (en) Polarizing plate and image display device comprising the same
KR20180111559A (en) Optical laminate
JP2016206684A (en) Polarizer and optical member
KR102312479B1 (en) Radical curable adhesive composition, adhesive layer, polarizing plate and image display apparatus
JP2010102311A (en) Composite polarizing plate and liquid crystal display device using the same
JP2016126070A (en) Polarizing plate

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191118

Year of fee payment: 4