KR101656103B1 - Anti-static and anti-reflection film, polarizing plate and display apparatus including the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반사 방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시 장치에 관한 것이다. 상기 반사 방지 필름은 투명 기재, 상기 투명 기재상에 형성된 중굴절 하드 코팅층, 상기 중굴절 하드 코팅층 상에 형성되는 그라펜을 포함하는 대전 방지 고굴절 하드 코팅층 및 상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층 상에 형성되는 저굴절 하드 코팅층을 포함하여 구성된다. 본 발명에 따른 상기 반사 방지 필름은 우수한 대전 방지 성능 및 반사 방지 효과를 나타내어 편광판 및 표시 장치에 유용하게 적용될 수 있다.The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate including the same, and a display device. Wherein the antireflection film comprises a transparent substrate, an intermediate refraction hard coating layer formed on the transparent substrate, an antistatic high refraction hard coating layer comprising graphen formed on the refractory hard coating layer, and an antistatic high refractive index hard coating layer formed on the antistatic high refraction hard coating layer. And a refractive hard coat layer. The antireflection film according to the present invention exhibits excellent antistatic performance and antireflection effect and can be applied to a polarizing plate and a display device.
Description
본 발명은 반사 방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate including the same, and a display device.
액정 디스플레이(LCD), 플라스마 디스플레이(PDP), 브라운관(CRT), 전자 발광 디스플레이(EL) 등의 각종 표시 장치에는 반사광에 의한 눈부심과 디스플레이 전면의 반사로 인해 화질이 떨어지는 문제를 해소하기 위하여 방현(Anti-Glare)필름이 일반적으로 사용된다. 그러나, 일반적인 방현 필름은 해상도가 떨어진다는 단점을 가지고 있다.Various display devices such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), a cathode ray tube (CRT) and an electroluminescence display (EL) Anti-Glare film is commonly used. However, a general antiglare film has a disadvantage that resolution is low.
그에 따라 최근에는 해상도가 좋고 반사 방지 기능이 우수한 저 반사 방지 필름(Low Reflectance Film)의 수요가 증가되고 있는 추세이다. 이러한 저 반사 방지 필름은 특히 노트북에 많이 적용이 되고 있다. 그러나 반사 방지 필름은 방현 필름과 달리 표면에 요철이 없기 때문에 미세한 정전기에 의해 흡착된 이물로 인한 표면 불량이 많이 발생하는 문제점이 있다.
Accordingly, in recent years, a high-resolution, high-reflection anti-reflection The demand for film (Low Reflectance Film) is increasing. Such low reflection prevention Film is especially applied to notebooks. However, unlike the antiglare film, the antireflection film has no irregularities on its surface, and therefore, there is a problem that surface defects due to foreign substances adsorbed by fine static electricity are frequently generated.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 제안된 것으로, 대전 방지 성능이 뛰어나 정전기 발생을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 반사 방지 효과가 우수한 반사 방지 필름을 제공하는데 그 목적이 있다. An object of the present invention is to provide an antireflection film which is excellent in antistatic property and which can prevent static electricity and has an excellent antireflection effect.
또한 본 발명은 상기 반사 방지 필름을 포함하는 정전기가 방지되는 편광판을 제공하는데 다른 목적이 있다. Another object of the present invention is to provide an antistatic polarizer comprising the antireflection film.
또한 본 발명은 상기 반사 방지 필름을 포함하는 정전기가 방지되는 표시 장치를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.
Another object of the present invention is to provide an electrostatic discharge display device including the antireflection film.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 투명 기재와, 상기 투명 기재의 일면 또는 양면에 형성된 중굴절 하드 코팅층, 상기 중굴절 하드 코팅층 상에 형성된 그라펜(graphene)을 포함하는 대전 방지 고굴절 하드 코팅층 및 상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층 상에 형성된 저굴절 하드 코팅층을 포함하여 이루어지며, 표면 저항이 5×1010Ω/sq이하인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름을 제공한다. According to an aspect of the present invention, there is provided an antireflection high refractive index hard coating layer comprising a transparent substrate, a medium refractive hard coating layer formed on one or both surfaces of the transparent substrate, and a graphene formed on the medium refractive hard coating layer. And a low refractive hard coat layer formed on the antistatic high refractive index hard coat layer, wherein the antireflection film has a surface resistance of 5 x 10 < 10 > OMEGA / sq or less.
상기 대전 방지 하드 코팅층은 경화 수지 조성물과 그라펜을 포함하는 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 코팅하여 형성되며, 상기 그라펜은 상기 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.001 내지 50중량부 포함되는 것일 수 있다.The antistatic hard coating layer is formed by coating a coating composition for forming an antistatic high-refraction layer including a cured resin composition and graphene, wherein the graphene is present in an amount of 0.001 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire coating composition for forming an antistatic high- 50 parts by weight may be included.
상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층의 굴절률은 25℃에서 1.55 내지 2.20인 것이 바람직하다.The refractive index of the antistatic high refractive index hard coat layer is preferably 1.55 to 2.20 at 25 캜.
상기 저굴절 하드 코팅층의 굴절률은 25℃에서 1.20 내지 1.49인 것이 바람직하다.The refractive index of the low refractive hard coat layer is preferably 1.20 to 1.49 at 25 ° C.
본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 상기한 본 발명에 따른 반사 방지 필름을 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 편광판을 제공한다.In order to accomplish another object of the present invention, there is provided a polarizing plate comprising the anti-reflection film according to the present invention.
본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 상기한 본 발명에 따른 반사 방지 필름을 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시 장치를 제공한다.
In order to achieve still another object of the present invention, the present invention provides a display device comprising the anti-reflection film according to the present invention.
본 발명에 따른 반사 방지 필름은 저굴절 하드 코팅층과 중굴절 하드 코팅층 사이에 그라펜을 포함하는 대전 방지 고굴절 하드 코팅층이 구비되어 대전 방지 성능 및 반사 방지 성능이 탁월하다. 그에 따라 상기 반사 방지 필름은 편광판 및 표시 장치에 적용시 탁월한 정전기 방지 및 반사 방지 성능을 얻을 수 있다.
The antireflection film according to the present invention is excellent in antistatic performance and antireflection performance by providing an antistatic high refractive index hard coating layer containing graphen between a low refractive hard coat layer and a medium refractive hard coat layer. Accordingly, the antireflection film can exhibit excellent antistatic and antireflection performance when applied to a polarizing plate and a display device.
도 1은 본 발명에 따른 광학필름의 바람직한 구체적인 예의 단면을 나타내는 모식도이다.1 is a schematic view showing a cross section of a preferred specific example of the optical film according to the present invention.
이하 보다 상세히 설명한다.
This will be described in more detail below.
본 발명의 반사 방지 필름은 도 1에 도시된 바와 같이 투명 기재(1)와, 상기 투명 기재(1)의 일면 또는 양면에 형성된 중굴절 하드 코팅층(2), 상기 중굴절 하드 코팅층(2)상에 형성된 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3) 및 상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3) 상에 형성된 저굴절 하드 코팅층(4)을 포함하여 이루어진다. 이하에서 각 구성에 대하여 좀더 상세하게 설명하기로 한다.
1, the antireflection film of the present invention comprises a transparent substrate 1, a medium refractive hard coating layer 2 formed on one or both surfaces of the transparent substrate 1, And a low refractive hard coating layer 4 formed on the antistatic high refractive index hard coating layer 3. The antistatic high refractive index hard coating layer 3 is formed on the antistatic high refractive index hard coating layer 3, Hereinafter, each configuration will be described in more detail.
투명 기재(1)The transparent substrate (1)
상기 투명 기재(1)로서는 투명성이 있는 플라스틱 필름이면 어떤 것이라도 사용 가능하다. 상기 투명 기재(1)로는 예를 들면, 노르보넨이나 다환 노르보넨계 단량체와 같은 시클로올레핀을 포함하는 단량체의 단위를 갖는 시클로올레핀계 유도체, 셀룰로오스(디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스부틸레이트, 이소부틸에스테르셀룰로오스, 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스), 에틸렌아세트산비닐공중합체, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리에테르이미드, 폴리아크릴, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알콜, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 에폭시 중에서 선택된 것을 사용할 수 있으며, 미연신 1축 또는 2축 연신 필름을 사용할 수 있다.As the transparent substrate 1, any plastic film having transparency can be used. Examples of the transparent substrate 1 include cycloolefin-based derivatives having units of monomers including cycloolefins such as norbornene and polycyclic norbornene monomers, cellulose (including diacetylcellulose, triacetylcellulose, acetylcellulose butyrate , Isobutyl ester cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose), ethylene vinyl acetate copolymer, polyester, polystyrene, polyamide, polyetherimide, polyacryl, polyimide, polyethersulfone, polysulfone , Polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polymethylmethacrylate, polyethylene terephthalate, Polybutylene terephthalate, poly Ethylene naphthalate, polycarbonate, polyurethane, and epoxy. An unoriented uniaxial or biaxially oriented film may be used.
바람직하게는 상기 예시한 투명 기재(1) 중에서도 투명성 및 내열성이 우수한 1축 또는 2축 연신 폴리에스테르 필름이나, 투명성 및 내열성이 우수하면서 필름의 대형화에 대응할 수 있는 시클로올레핀계 유도체 필름 또는 투명성 및 광학적으로 이방성이 없다는 점으로 트리아세틸셀룰로오스 필름이 적합하게 사용된다. Preferably, a monoaxially or biaxially stretched polyester film excellent in transparency and heat resistance among the above-mentioned transparent substrates (1), a cycloolefin-based derivative film excellent in transparency and heat resistance, capable of coping with the enlargement of the film, A triacetylcellulose film is suitably used because it has no anisotropy.
상기 투명 기재(1)의 두께는 특별히 제한되지는 않으나 8~1000㎛이고, 바람직하게는 40~100㎛이다. 상기 투명 기재 필름의 두께가 8㎛ 미만이면 필름의 강도가 저하되어 가공성이 떨어지게 되고, 1000㎛ 초과이면 투명성이 저하되거나 편광판의 중량이 커지는 문제가 발생한다.
The thickness of the transparent substrate 1 is not particularly limited but is 8 to 1000 탆, preferably 40 to 100 탆. If the thickness of the transparent base film is less than 8 占 퐉, the strength of the film is lowered and the workability is lowered. If the thickness is more than 1000 占 퐉, the transparency is lowered or the weight of the polarizing plate is increased.
중굴절 하드 코팅층(2)The medium refractive hard coat layer (2)
상기 중굴절 하드 코팅층(2)은 중굴절층 형성용 코팅 조성물을 투명 기재의 일면 또는 양면에 코팅하여 형성된다.The medium refractive hard coat layer 2 is formed by coating a coating composition for forming a medium refractive index layer on one surface or both surfaces of a transparent substrate.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물로는 광경화형 수지, 광경화형 수지와 용제 건조형 수지(열가소성 수지 등, 도포 시에 고형분을 조제하기 위한 용제를 건조시키는 것만으로 피막이 되는 수지)와의 혼합물 또는 열경화형 수지를 사용할 수 있다.Examples of the coating composition for forming the medium refractive index layer include a mixture of a photocurable resin, a photocurable resin, and a solvent-drying resin (such as a thermoplastic resin, a resin that is formed by simply drying a solvent for preparing a solid content during coating) Resin can be used.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물로 광경화형 수지를 사용하는 경우 상기 광경화형 수지는 (메타)아크릴레이트기 등의 라디칼 중합성 관능기를 갖는 화합물, 예를 들면 (메타)아크릴레이트계의 올리고머, 프리폴리머 또는 모노머를 포함하는 것을 사용할 수 있다. When the photocurable resin is used as the coating composition for forming a medium refractive layer, the photocurable resin is a compound having a radically polymerizable functional group such as a (meth) acrylate group, for example, a (meth) acrylate oligomer, a prepolymer Or a monomer may be used.
상기 (메타)아크릴레이트계 올리고머 또는 플리폴리머는 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지, 다가 알코올 등의 다관능 화합물의 (메타)아크릴산에스테르로 이루어지는 올리고머 또는 프리폴리머 등을 들 수 있다. The (meth) acrylate oligomer or flip-polymer may be a polyester resin, a polyether resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, an alkyd resin, a spiroacetal resin, a polybutadiene resin, And oligomers or prepolymers of (meth) acrylic acid esters of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols.
상기 다관능 화합물의 (메타)아크릴산에스테르로 이루어지는 올리고머 또는 프리폴리머는 구체적으로 비스페놀A알킬렌옥사이드 부가체의 (메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트(비스페놀A형 에폭시(메타)아크릴레이트, 노볼락형 에폭시(메타)아크릴레이트 등), 폴리에스테르(메타)아크릴레이트(예를 들면 지방족 폴리에스테르형 (메타)아크릴레이트, 방향족 폴리에스테르형 (메타)아크릴레이트 등), (폴리)우레탄(메타)아크릴레이트(예를 들면 폴리에스테르형 우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에테르형 우레탄(메타)아크릴레이트), 실리콘(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. The oligomer or prepolymer of the (meth) acrylic acid ester of the polyfunctional compound specifically includes (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate (bisphenol A type epoxy (Meth) acrylate), (poly) urethane (meth) acrylate, and the like), polyester (meth) acrylate ) Acrylate (for example, polyester type urethane (meth) acrylate, polyether type urethane (meth) acrylate) and silicone (meth) acrylate.
상기 예시된 (메타)아크릴산에스테르로 이루어지는 올리고머 또는 프리폴리머는 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The oligomer or prepolymer composed of the (meth) acrylic acid ester exemplified above may be used alone or in combination of two or more thereof.
또한, 상기 (메타)아크릴레이트계 모노머는 구체적으로 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 트리메탄올프로판트리(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The (meth) acrylate monomer may be specifically selected from the group consisting of ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, trimethanol propanetri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (Meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6- Glycol di (meth) acrylate, and the like.
상기 예시된 (메타)아크릴레이트계 모노머는 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The above-exemplified (meth) acrylate-based monomers may be used alone or in combination of two or more thereof.
또한 상기 (메타)아크릴레이트계의 올리고머, 프리폴리머 또는 모노머는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The above (meth) acrylate oligomers, prepolymers or monomers may be used alone or in combination of two or more.
본 발명에서 (메타)아크릴레이트란 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트를 의미한다. In the present invention, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.
또한 상기 광경화형 수지는 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등의 단관능 또는 다관능 단량체, 비스페놀형 에폭시 화합물, 노볼락형 에폭시 화합물, 방향족 비닐에테르, 지방족 비닐에테르 등의 올리고머 또는 프리폴리머 등의 양이온 중합성 관능기를 갖는 화합물을 포함하는 것을 사용할 수 있다.The photocurable resin may be an oligomer or prepolymer such as a monofunctional or polyfunctional monomer such as styrene, methylstyrene or N-vinylpyrrolidone, a bisphenol-type epoxy compound, a novolak-type epoxy compound, an aromatic vinyl ether, or an aliphatic vinyl ether Of a compound having a cationic polymerizable functional group.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물로 광경화형 수지가 사용되는 경우에는 광중합 개시제를 함께 사용하는 것이 바람직하다. When a photocurable resin is used as the coating composition for forming the medium of refraction, it is preferable to use a photopolymerization initiator together.
상기 광중합 개시제는 구체적으로 아세토페논류, 벤조페논류, 벤조인류, 프로피오페논류, 벤질류, 아실포스핀옥사이드류, 미힐러즈벤조일벤조에이트(Michler's benzoyl benzoate), α-아밀옥심(amyloxime)에스테르, 테트라메틸퓨란모노설피드, 티옥산톤류 등을 들 수 있다. 또한, 상기 광중합 개시제는 광증감제를 혼합하여 사용할 수 있으며, 상기 광증감제는 구체적으로 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.The photopolymerization initiator may be specifically selected from the group consisting of acetophenones, benzophenones, benzoins, propiophenes, benzyls, acylphosphine oxides, Michler's benzoyl benzoate, , Tetramethylfuran monosulfide, and thioxanthones. The photopolymerization initiator may be a mixture of a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, and poly-n-butylphosphine.
상기 광중합 개시제는 중굴절층 형성용 코팅 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부 포함될 수 있다. 상기 광개시제가 상기의 기준으로 0.1중량부 보다 적게 포함되는 경우에는 중굴절층 형성용 코팅 조성물의 경화 속도가 늦고, 10중량부 보다 많게 포함되는 경우에는 과경화로 고분자 체인이 짧아져 중굴절 하드 코팅층(2)에 크랙이 발생할 수 있다. 따라서 상기 광중합 개시제는 상기 범위로 포함되는 것이 바람직하다.
The photopolymerization initiator may be contained in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total coating composition for forming a medium refractive index layer. When the amount of the photoinitiator is less than 0.1 parts by weight, the curing speed of the coating composition for forming a middle refractive layer is slow. When the amount of the photoinitiator is more than 10 parts by weight, the polymer chain is shortened due to over- 2) may be cracked. Therefore, the photopolymerization initiator is preferably included in the above range.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물로 광경화형 수지와 용제 건조형 수지를 혼합하여 사용하는 경우, 상기 용제 건조형 수지는 열가소성 수지를 포함하는 것을 사용할 수 있다. 상기 열가소성 수지는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것이 적용될 수 있다. When the photocurable resin and the solvent-drying resin are mixed with the coating composition for forming a middle refractive layer, the solvent-drying resin may include a thermoplastic resin. The thermoplastic resin can be applied to those commonly used in the art.
상기와 같이 중굴절층 형성용 코팅 조성물로 광경화형 수지와 용제 건조형 수지를 혼합 사용하는 경우 도포면의 도막 결함을 유효하게 방지할 수 있다.
When the photocurable resin and the solvent-drying resin are used in combination as the coating composition for forming a middle refractive layer as described above, it is possible to effectively prevent coating defects on the coated surface.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물로 열경화성 수지를 사용하는 경우, 상기 열경화성 수지는 구체적으로 페놀 수지, 요소 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라닌 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 멜라민-요소 공축합 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있다. When the thermosetting resin is used as the coating composition for forming the middle refractive layer, the thermosetting resin specifically includes a phenol resin, a urea resin, a diallyl phthalate resin, a melanin resin, a guanamine resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, A resin, an aminoalkyd resin, a melamine-urea co-condensation resin, a silicon resin, and a polysiloxane resin. These may be used alone or in combination of two or more.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물로 열경화성 수지를 이용하는 경우, 필요에 따라 가교제, 중합 개시제 등의 경화제, 중합 촉진제, 용제, 점도 조절제 등을 더 포함할 수 있다.
When a thermosetting resin is used as the coating composition for forming a middle refractive layer, it may further contain a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization promoter, a solvent, a viscosity controlling agent and the like, if necessary.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물은 용제를 더 포함할 수 있다. The coating composition for forming a medium refractive index layer may further include a solvent.
상기 용제로는 구체적으로 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 이소부틸알코올, 메틸글리콜, 메틸글리콜아세테이트, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 알코올류； 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤알코올 등의 케톤류； 포름산메틸, 초산메틸, 초산에틸, 젖산에틸, 초산부틸 등의 에스테르류； 니트로메탄, N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드 등의 함질소 화합물； 디이소프로필에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디옥솔란 등의 에테르류； 염화메틸렌, 클로로포름, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소； 디메틸술폭시드, 탄산프로필렌 등의 기타 물질을 들 수 있다. Specific examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutyl alcohol, methyl glycol, methyl glycol acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve and butyl cellosolve; Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and diacetone alcohol, esters such as methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate and butyl acetate, nitromethane, N-methylpyrrolidone, N, N A halogenated hydrocarbon such as methylene chloride, chloroform, trichloroethane or tetrachloroethane; an organic solvent such as dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran, dioxane or the like; And other substances such as propylene carbonate.
상기 예시된 용제들은 각각 단독으로 또는 둘 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The solvents exemplified above may be used alone or in combination of two or more thereof.
보다 바람직하게 상기 용제로는 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논에서 선택된 적어도 하나를 사용하는 것이 좋다.More preferably, at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone is used.
상기 용제는 반드시 제한되는 것은 아니지만, 상기 용제는 중굴절층 형성용 코팅 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.1 내지 85중량부 포함되는 것이 좋다. 상기 용제의 함량이 상기의 기준으로 0.1중량부 미만이면 중굴절층 형성용 코팅 조성물의 점도가 높아 작업성이 떨어지고, 85중량부를 초과할 경우에는 건조 및 경화 과정에서 많은 시간이 많이 소요되는 단점이 있다.
The solvent is not necessarily limited, but it is preferable that the solvent is contained in an amount of 0.1 to 85 parts by weight based on 100 parts by weight of the total coating composition for forming a medium refractive index layer. When the content of the solvent is less than 0.1 part by weight, the viscosity of the coating composition for forming a middle refractive layer is high, and the workability is poor. When the amount of the solvent is more than 85 parts by weight, the drying and curing process takes a long time have.
상기한 성분들 이외에도 상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물에는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 성분들, 예를 들어 항산화제, UV 흡수제, 광안정제, 열적고분자화 금지제, 레벨링제, 계면활성제, 윤활제, 방오제 등이 필요에 따라서 추가적으로 포함될 수 있다.
In addition to the above-mentioned components, the coating composition for forming a middle refractive layer may further contain components commonly used in the art such as antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, surfactants, An antifouling agent and the like may be additionally included as needed.
상기한 조성을 갖는 중굴절층 형성용 코팅 조성물을 투명 기재에 코팅하여 경화시키면 중굴절 하드 코팅층(2)을 얻을 수 있다. When the coating composition for forming a medium refractive index layer having the above composition is coated on a transparent substrate and cured, a medium refractive hard coat layer (2) can be obtained.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물의 코팅은 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드, 캐스팅, 그라비아, 마이크로 그라비아 또는 스핀코팅 등의 적당한 방식으로 도공(Coating Process)이 가능하다. The coating of the middle refractive layer forming coating composition can be coated by a suitable method such as die coater, air knife, reverse roll, spray, blade, casting, gravure, microgravure or spin coating.
상기 중굴절 하드 코팅층(2)은 예를 들어 다음과 같은 방법에 의해 형성할 수 있다. 중굴절층 형성용 코팅 조성물을 투명 기재에 도포한 후 30 내지 150℃의 온도에서 10초 내지 1시간 동안, 보다 바람직하게는 30초 내지 30분 동안 휘발물을 증발시켜 건조시킨다. 이후 중굴절층 형성용 코팅 조성물의 조성에 따라 선택적으로 열경화 또는 광경화시킨다. 광경화의 경우 UV광을 조사하여 경화시킨다. 상기 UV광의 조사량은 약 0.01 내지 10J/㎠인 것이 바람직하고, 0.1 내지 2J/㎠인 것이 보다 바람직하다. 열경화의 경우 30 내지 150℃의 온도에서 10초 내지 1시간 동안 열을 가하여 경화시킨다. The medium refractive hard coat layer 2 may be formed, for example, by the following method. The coating composition for forming a medium refractive layer is applied to a transparent substrate and then the volatiles are evaporated to dry at a temperature of 30 to 150 DEG C for 10 seconds to 1 hour, more preferably 30 seconds to 30 minutes. And then thermally cured or photocured selectively depending on the composition of the refractory layer-forming coating composition thereafter. In case of photo curing, UV light is irradiated to cure. The irradiation amount of the UV light is preferably about 0.01 to 10 J / cm 2, more preferably 0.1 to 2 J / cm 2. In the case of thermal curing, heat is applied at a temperature of 30 to 150 DEG C for 10 seconds to 1 hour to cure.
상기 중굴절층 형성용 코팅 조성물을 도포하여 형성된 상기 중굴절 하드 코팅층(2)의 두께는 0.5~10㎛인 것이 바람직하다. 상기 중굴절 하드 코팅층(2)의 두께가 상기 범위 내에 포함될 경우 우수한 반사 방지 효과를 얻을 수 있다. The thickness of the medium refractive hard coat layer 2 formed by applying the coating composition for forming a medium refractive index layer is preferably 0.5 to 10 탆. When the thickness of the medium refractive hard coat layer 2 is within the above range, an excellent antireflection effect can be obtained.
또한, 상기 중굴절 하드 코팅층(2)의 굴절률은 반사 방지 필름을 얻기 위한 광학설계로부터, 25℃에서의 굴절률이 1.50∼2.00의 범위에 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.50∼1.90이고, 더욱 바람직하게는 1.50∼1.80이다. 본 발명에 따른 반사 방지 필름은 중굴절 하드 코팅층(2) 위에 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3) 및 저굴절 하드 코팅층(4)이 형성되어 있기 때문에, 상기 중굴절 하드 코팅층(2)의 25℃에서의 굴절률이 1.50보다 작으면 반사 방지성이 저하되고, 2.00보다 크면 반사광의 색감이 강해지는 단점이 있다.
From the optical design for obtaining the antireflection film, the refractive index of the medium refractive hard coat layer 2 preferably has a refractive index at 25 DEG C in the range of 1.50 to 2.00, more preferably 1.50 to 1.90, Preferably 1.50 to 1.80. Since the antireflection high refractive index hard coat layer 3 and the low refractive index hard coat layer 4 are formed on the intermediate refractive index hard coat layer 2 according to the present invention, Is less than 1.50, the antireflection property is deteriorated. When the refractive index is larger than 2.00, there is a disadvantage in that the color of the reflected light becomes strong.
대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)Antistatic high refractive index hard coat layer (3)
상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)은 중굴절 하드 코팅층(2) 상에 형성된다. The antistatic high refractive index hard coat layer 3 is formed on the medium refractive hard coat layer 2.
상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)은 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 이용하여 형성된다.The antiglare high refractive index hard coat layer 3 is formed using a coating composition for forming an antistatic high refractive index layer.
본 발명에 따르면 상기 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물은 경화 수지 조성물과 대전 방지제로서 그라펜을 포함하여 이루어진다.According to the present invention, the coating composition for forming an antistatic high-refraction layer comprises a cured resin composition and graphen as an antistatic agent.
상기 경화 수지 조성물은 전술한 중굴절 하드 코팅층(2) 형성에 사용되는 광경화형 수지, 광경화형 수지와 용제 건조형 수지(열가소성 수지 등, 도포 시에 고형분을 조제하기 위한 용제를 건조시키는 것만으로 피막이 되는 수지)와의 혼합물 또는 열경화형 수지를 사용할 수 있다. The curable resin composition is used for forming the above-mentioned hard-core hard-coating layer (2) by using a photocurable resin, a photocurable resin and a solvent-drying resin (such as a thermoplastic resin) Or a thermosetting resin can be used.
바람직하게 상기 경화 수지 조성물은 전술한 중굴절 하드 코팅층(2) 형성에서 예시한 광경화형 수지 및 광중합 개시제를 포함하여 이루어진 것이 사용될 수 있다. Preferably, the cured resin composition may be one comprising the photocurable resin and the photopolymerization initiator exemplified in the above-mentioned formation of the medium refractive hard coat layer (2).
이때, 상기 광경화형 수지는 상기 경화 수지 조성물 전체 100중량부에 대하여 1 내지 80중량부를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 광경화형 수지가 상기 범위를 벗어날 경우 경화성이 저하되거나 그라펜과의 상용성이 저하되는 문제가 있다. In this case, the photocurable resin preferably comprises 1 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire cured resin composition. When the photocurable resin is out of the above range, there is a problem that the curability is lowered or the compatibility with graphene is lowered.
또한, 상기 경화 수지 조성물은 용제를 더 포함할 수 있다. 상기 용제로는 전술한 중굴절 하드 코팅층(2) 형성에서 예시한 바와 같은 용제를 사용 할 수 있다. 이때 상기 용제는 경화 수지 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.1 내지 98.9중량부 포함되는 것이 좋다. 상기 용제의 함량이 상기의 기준으로 0.1중량부 미만이면 그라펜의 분산에 문제가 있고, 98.9중량부를 초과할 경우에는 고형분 함량이 낮아 원하는 코팅 두께의 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)을 형성하기 어렵다.
The cured resin composition may further include a solvent. As the solvent, a solvent such as those exemplified in the above-mentioned formation of the medium refractive hard coat layer (2) may be used. In this case, the solvent is preferably contained in an amount of 0.1 to 98.9 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire cured resin composition. When the content of the solvent is less than 0.1 part by weight, there is a problem in the dispersion of graphene. When the amount of the solvent is more than 98.9 parts by weight, the solid content is low and it is difficult to form an antistatic high refractive index hard coat layer 3 having a desired coating thickness .
본 발명에서는 반사 방지 필름에 대전 방지 성능을 부여하기 위하여 고굴절층 형성용 코팅 조성물에 그라펜이 사용된다. In the present invention, graphenes are used in a coating composition for forming a high-refractive-index layer in order to impart an antistatic property to an antireflection film.
상기 그라펜(graphene)은 산화 흑연의 표면의 각 층들이 박리된 시트 형상의 흑연이다. 일반적으로 흑연 분말을 산화시켜 산화 흑연을 제조한 후, 산화 흑연을 순간적으로 고온으로 가열하면 산화에 의해 생성된 산화 흑연 표면의 수개의 층, 예를 들어 1 내지 5개의 층들이 각각 박리되어 시트 형상의 흑연이 되는데, 이것이 그라펜이다. 이러한 그라펜은 저가의 흑연으로부터 간단한 방법으로 얻을 수 있어 경제적이다. 특히 그라펜은 탄소 나노 튜브와 비교하여 매우 낮은 저항 값을 나타낼 뿐만 아니라 결정 방향성을 조절함에 따라 전기적 특성을 변화시킬 수 있다는 특징이 있다. 또한, 그라펜은 복수개의 탄소 원자들이 서로 공유 결합으로 연결되어 있으며, 이들 공유 결합된 탄소 원자들은 기본 반복 단위로서 6원환을 형성하며 SP2 결합의 안정한 구조를 가지고 있기 때문에, 특히 고온 환경에서 방치한 후에도 우수한 대전 방지성을 유지할 수 있다. 또한 그라펜은 시트 형상의 크기를 조절함으로써 빛의 반사 및 산란을 효과적으로 방지할 수 있어 광 투과율의 저하도 방지할 수 있다.The graphene is sheet-like graphite in which each layer on the surface of oxidized graphite is peeled off. Generally, graphite powder is oxidized to produce graphite oxide. When graphite oxide is instantaneously heated to a high temperature, several layers of oxidized graphite surface, for example, 1 to 5 layers, Graphite, which is graphene. Such graphenes are economical because they can be obtained from low cost graphite in a simple manner. In particular, graphen exhibits a very low resistance value as compared to carbon nanotubes, and is characterized in that electrical characteristics can be changed by controlling the crystal orientation. In addition, graphene has a plurality of carbon atoms covalently bonded to each other, and these covalently bonded carbon atoms form a 6-membered ring as a basic repeating unit and have a stable structure of SP2 bond. Therefore, Excellent antistatic property can be maintained even after the above. In addition, graphen can effectively prevent reflection and scattering of light by controlling the size of the sheet shape, thereby preventing a decrease in light transmittance.
상기 시트 형상의 그라펜은 가로 및 세로의 길이가 각각 0.5㎚ 내지 1㎜인 것이 바람직하게 사용될 수 있고, 보다 바람직하게는 5㎚ 내지 0.1㎜, 가장 바람직하게는 5 내지 50㎚인 것이 좋다. 상기 그라펜의 길이가 0.5㎚ 미만인 경우에는 충분한 전도성을 얻기 어려우며, 1㎜를 초과하는 경우에는 분산성이 저하될 뿐만 아니라 광산란을 일으켜 광학용 필름에 적용이 곤란해진다.The sheet-like graphene preferably has a length of 0.5 to 1 mm in length and 5 to 50 mm in length, more preferably 5 to 0.1 mm, and most preferably 5 to 50 nm. When the length of the graphenes is less than 0.5 nm, it is difficult to obtain sufficient conductivity. When the length exceeds 1 mm, the dispersibility is lowered, and light scattering is caused, making it difficult to apply the graphenes to an optical film.
또한, 상기 그라펜은 분산 용매에 분산되어 있는 것이 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 분산 용매는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸알콜, 에틸알콜, 이소프로필알콜, 부틸알콜, 에틸렌글라이콜, 폴리에틸렌글라이콜, 테트라히드로푸란, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 헥산, 시클로헥사논, 톨루엔, 클로로포름, 증류수, 디클로로벤젠, 디메틸벤젠, 트리메틸벤젠, 피리딘, 메틸나프탈렌, 니트로메탄, 아크릴로니트릴, 옥타데실아민, 아닐린, 디메틸설폭사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 사용하는 것이 바람직하다.The graphenes may be preferably dispersed in a dispersion solvent. The dispersion solvent may be selected from the group consisting of acetone, methyl ethyl ketone, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, ethylene glycol, polyethylene glycol, tetrahydrofuran, dimethylformamide, dimethylacetamide, A group consisting of pyrrolidone, hexane, cyclohexanone, toluene, chloroform, distilled water, dichlorobenzene, dimethylbenzene, trimethylbenzene, pyridine, methylnaphthalene, nitromethane, acrylonitrile, octadecylamine, aniline, dimethylsulfoxide It is preferable to use at least one of them.
상기 그라펜을 분산 용매에 균일하게 분산시키기 위하여 초음파 분산법이나 볼 밀링법을 사용할 수 있다. In order to uniformly disperse the graphenes in the dispersion solvent, ultrasonic dispersion or ball milling may be used.
상기 초음파 분산법은 그라펜의 함량 및 분산 용매의 량에 따라 진동수 20kHz 내지 50kHz 범위의 파워(power) 50 내지 700W인 초음파기에서 1시간 내지 60시간 동안 적용하면 분산 용매에 그라펜을 균일하게 분산시킬 수 있다.The ultrasonic dispersion method is applied for 1 to 60 hours in an ultrasonic wave generator having a frequency of 20 kHz to 50 kHz and a power of 50 to 700 W according to the content of graphene and the amount of the dispersing solvent to uniformly disperse graphene in the dispersion solvent .
상기 그라펜을 분산 용매에 분산시 분산 안정제를 첨가할 수 있다. When the graphenes are dispersed in a dispersion solvent, a dispersion stabilizer may be added.
상기 분산 안정제는 트리톤 엑스백(Triton X-100), 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌옥사이드-폴리프로필렌옥사이드 공중합체, 폴리비닐피롤, 폴리비닐알코올, 가넥스(Ganax), 전분, 단당류(monosaccharide), 다당류(polysaccharide), 도데실벤젠술폰산나트륨(dodecyl benzene sulfate), 도데실벤젠설폰산나트륨(sodium dodecyl benzene sulfonate, NaDDBS), 도데실설폰산나트륨(sodium dodecylsulfonate, SDS), 4-비닐벤조산세실트리메틸암모늄(cetyltrimethylammounium 4-vinylbenzoate), 파이렌계 유도체(pyrene derivatives), 검 아라빅(Gum Arabic, GA), 나피온(nafion)에서 선택되는 적어도 하나를 사용하는 것이 바람직하다.
The dispersion stabilizer may be selected from the group consisting of Triton X-100, polyethylene oxide, polyethylene oxide-polypropylene oxide copolymer, polyvinylpyrrole, polyvinyl alcohol, Ganax, starch, monosaccharide, polysaccharide ), Dodecyl benzene sulfate, sodium dodecyl benzene sulfonate (NaDDBS), sodium dodecylsulfonate (SDS), 4-vinylbenzoic acid cetyltrimethylammounium 4- vinylbenzoate, pyrene derivatives, Gum Arabic, GA, and nafion are preferably used.
상기 그라펜은 상기 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.001 내지 50중량부 포함되는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1내지 10 중량부이다. 상기 그라펜이 상기의 기준으로 상기 범위 내에 포함될 경우 고굴절률이면서 대전 방지 성능이 양호하게 발휘될 수 있다.The graphene is preferably contained in an amount of 0.001 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire coating composition for forming an antistatic high refractive index layer. More preferably 0.1 to 10 parts by weight. When the graphene is contained within the above range based on the above-mentioned criteria, the antireflection performance can be exerted with a high refractive index.
상기한 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물에는 필요에 따라서 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 항산화제, UV 흡수제, 광안정제, 열적고분자화 금지제, 레벨링제, 계면활성제, 윤활제, 방오제 등이 필요에 따라서 추가적으로 포함될 수 있다.
If necessary, antioxidants, UV absorbers, photostabilizers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, surfactants, lubricants, antifouling agents, and the like, which are commonly used in the art, are required for the coating composition for forming an antistatic high- And thus can be additionally included.
상기한 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 전술한 중굴절 하드 코팅층(2)상에 코팅하여 경화시키면 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)을 얻을 수 있다. When the above-mentioned coating composition for forming an antistatic high refractive index layer is coated on the medium refractive hard coating layer 2 and cured, an antistatic high refractive index hard coating layer 3 can be obtained.
이때 상기한 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)은 25℃에서의 굴절률이 1.55 내지 2.20인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 1.65 내지 2.00인 것이 좋다. 상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)의 굴절률이 상기 범위 내에 포함될 경우 우수한 반사 방지 효과를 실현할 수 있다.At this time, the refractive index of the antistatic high refractive index hard coat layer 3 at 25 ° C is preferably 1.55 to 2.20, more preferably 1.65 to 2.00. When the refractive index of the antistatic high refractive index hard coat layer 3 is within the above range, an excellent antireflection effect can be realized.
상기 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물의 코팅은 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드, 캐스팅, 그라비아, 마이크로 그라비아 또는 스핀코팅 등의 적당한 방식으로 도공(Coating Process)이 가능하다. The coating of the coating composition for forming an antistatic high refractive index layer can be coated by an appropriate method such as die coater, air knife, reverse roll, spray, blade, casting, gravure, microgravure or spin coating.
상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)은 예를 들어 이하와 같은 방법으로 형성할 수 있다. 상기 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 중굴절 하드 코팅층(2)상에 도포한 후 30 내지 150℃의 온도에서 10초 내지1시간 동안, 보다 바람직하게는 30초 내지 30분 동안 휘발물을 증발시켜 건조시킨다. 이후 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물에 따라 선택적으로 열경화 또는 광경화시킨다. 상기 열경화 또는 광경화는 전술한 중굴절 하드 코팅층(2)에서 예시한 바와 같은 조건으로 실시하면 용이하게 실시할 수 있다The antistatic high refractive index hard coat layer 3 may be formed, for example, by the following method. The coating composition for forming an antistatic high refractive index layer is coated on the medium refractive hard coat layer 2, and then the volatiles are evaporated at a temperature of 30 to 150 DEG C for 10 seconds to 1 hour, more preferably 30 seconds to 30 minutes And dried. And then selectively thermosetting or photo-curing the coating composition for forming an antistatic high-refractive-index layer. The thermosetting or photo-curing can be easily carried out under the conditions as exemplified in the above-mentioned medium refractive hard coat layer 2
상기 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 도포하여 형성된 상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)의 두께는 80 내지 120nm가 바람직하고, 90 내지 105nm가 더욱 바람직하다. 상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)이 두께가 상기 범위 내에 포함될 경우 우수한 반사 방지 효과 및 대전 방지 효과를 얻을 수 있다. The thickness of the antistatic high refractive index hard coating layer 3 formed by applying the coating composition for forming an antistatic high refractive index layer is preferably 80 to 120 nm, more preferably 90 to 105 nm. When the antistatic high refractive index hard coat layer 3 has a thickness within the above range, excellent antireflection effect and antistatic effect can be obtained.
상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)의 형성에 의해 본 발명에 따른 반사 방지 필름은 표면 저항이 5×1010Ω/sq이하가 된다.
By forming the antiglare high refractive index hard coat layer 3, the antireflection film according to the present invention has a surface resistance of 5 10 10 ? / Sq or less.
저굴절 하드 코팅층(4)The low refractive hard coat layer (4)
상기 저굴절 하드 코팅층(4)은 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3) 상에 형성되는 것으로서, 저굴절층 형성용 코팅 조성물을 이용하여 형성된다. The low refractive hard coat layer 4 is formed on the antistatic high refractive index hard coat layer 3 and is formed using a coating composition for forming a low refractive layer.
상기 저굴절 하드 코팅층(4)은 굴절률이 25℃에서 1.20 내지 1.49, 바람직하게는 1.30 내지 1.44의 굴절률을 가진다. 상기 저굴절 하드 코팅층(4)의 굴절률이 상기 범위 내에 포함될 경우 우수한 반사 방지 효과를 얻을 수 있다. The low refractive hard coat layer 4 has a refractive index of 1.20 to 1.49, preferably 1.30 to 1.44 at 25 DEG C. When the refractive index of the low refractive hard coat layer 4 is within the above range, an excellent antireflection effect can be obtained.
상기 저굴절 하드 코팅층(4)은 상기한 범위의 굴절률을 만족시킬 수 있는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 저굴절층 형성용 코팅 조성물을 사용하여 형성할 수 있다. The low refractive hard coat layer 4 may be formed using a coating composition for forming a low refractive layer generally used in the art which can satisfy the refractive index in the above-mentioned range.
보다 바람직하게 상기 저굴절 하드 코팅층(4)은 불소 함유 중합성 화합물, 공극을 갖는 미립자, 개시제 및 용제를 포함하여 이루어진 저굴절층 형성용 코팅 조성물을 상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)상에 도포한 후 경화시켜 형성된 것이 바람직하다. More preferably, the low refractive hard coat layer 4 is formed by applying a coating composition for forming a low refractive index layer comprising a fluorine-containing polymerizable compound, fine particles having voids, an initiator and a solvent onto the antistatic high refractive index hard coat layer 3 And then curing it.
상기 불소 함유 중합성 화합물은 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 불소 함유 비율이 60~70%인 것이 좋고, 더욱 바람직하게는 불소 함유 비율이 62~70%, 특히 바람직하게는 불소 함유 비율이 64~68%인 것이 좋다. 상기 범위 내의 불소 함유 비율을 갖는 불소 함유 중합체는 용제에 대해서 양호한 용해성을 가지며, 다양한 기재에 대해서 뛰어난 밀착성을 가진다. 특히 상기 범위 내의 불소 함유 비율을 갖는 불소 함유 중합체는 높은 투명성과 낮은 굴절률을 가짐과 함께 충분히 뛰어난 기계적 강도를 갖는 박막을 형성하기 때문에, 박막이 형성된 표면의 내스크래치성 등의 기계적 특성을 충분히 높일 수 있어 매우 적합하다. The fluorine-containing polymerizable compound may be used without limitation as long as it is generally used in the art. Preferably, the fluorine-containing polymerizable compound has a fluorine content of 60 to 70%, more preferably a fluorine content of 62 to 70% Preferably, the fluorine content ratio is 64 to 68%. The fluorine-containing polymer having a fluorine-containing ratio within the above range has good solubility in a solvent and excellent adhesion to various substrates. In particular, the fluorine-containing polymer having a fluorine-containing ratio within the above range has a high transparency and a low refractive index, and forms a thin film having sufficiently high mechanical strength. Therefore, it is possible to sufficiently increase the mechanical properties such as scratch resistance It is very suitable.
상기 불소 함유 중합성 화합물은 특별히 제한되지는 않으나 상기 저굴절층 형성용 코팅 조성물 전체 100중량부에 대하여 10 내지 90중량부 함유되는 것이 바람직하다. 상기 불소 함유 중합성 화합물의 함량이 상기 기준으로 10 내지 90중량부 범위 내에 포함될 경우 우수한 반사 방지 특성을 나타내므로 바람직하다. The fluorine-containing polymerizable compound is not particularly limited, but is preferably contained in an amount of 10 to 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire coating composition for forming a low refractive index layer. When the content of the fluorine-containing polymerizable compound is within the range of 10 to 90 parts by weight based on the above-mentioned standard, it is preferable since it exhibits excellent antireflection characteristics.
상기 공극을 갖는 미립자는 저굴절 하드 코팅층(4)의 강도를 유지하면서 굴절률을 낮추는 것을 가능하게 한다. The fine particles having the voids make it possible to lower the refractive index while maintaining the strength of the low refractive hard coat layer 4.
상기 공극을 갖는 미립자란 미립자의 내부에 기체가 충전된 구조 및/또는 기체를 포함하는 다공질 구조체로서, 미립자 본래의 굴절률에 비해 미립자중의 기체의 점유율에 반비례해서 굴절률이 저하하는 미립자를 의미한다. 본 발명에 있어서는 미립자의 형태, 구조, 응집 상태, 도포막 내부에서의 미립자의 분산 상태에 의해, 내부, 및/또는 표면의 적어도 일부에 나노포러스 구조의 형성이 가능한 미립자도 포함된다. The fine particles having the voids mean fine particles having a structure in which the gas is filled in the fine particles and / or a porous structure including a gas, wherein the refractive index of the fine particles is inversely proportional to the occupancy of the gas in the fine particles. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure on at least a part of the inside and / or the surface depending on the shape, structure, aggregation state of the fine particles, and dispersion state of the fine particles inside the coating film.
상기 공극을 갖는 미립자는 제조가 용이하고 그 자신의 경도가 높기 때문에, 저굴절 하드 코팅층(4)의 강도가 향상되고 아울러 저굴절 하드 코팅층(4)의 굴절률을 1.20~1.49 정도의 범위 내로 조절 가능하게 한다. Since the fine particles having the voids are easy to manufacture and have high hardness of their own, the strength of the low refractive hard coat layer 4 can be improved and the refractive index of the low refractive hard coat layer 4 can be adjusted within a range of about 1.20 to 1.49 .
상기 공극을 갖는 미립자는 구체적으로 충전용 컬럼 및 표면의 다공질부에 각종 화학 물질을 흡착시키는 제방재(除放材), 촉매 고정용으로 사용되는 다공질 미립자 또는 단열재나 저유전재에 편입시키는 것을 목적으로 하는 중공 미립자의 분산체나 응집체를 들 수 있다. 보다 구체적인 예로서는 시판품으로서 일군촉매화학 제품인 상품명 ELECON중공 실리카 입자, 일본 실리카 공업 주식회사 제품인 상품명 닙실(Nipsil)이나 닙젤(Nipgel) 중에서 다공질 실리카 미립자의 집합체, 닛산화학 공업(주) 제품인 실리카 미립자가 사슬 형상으로 연결된 구조를 갖는 콜로이달 실리카 UP 시리즈(상품명)에서 선택된 것을 사용할 수 있다.The fine particles having the voids are specifically intended to be incorporated into a porous column of a charging column and a porous portion of a surface thereof, into a porous fine particle or a heat insulating material or a low dielectric constant material used for fixing a catalyst, Dispersed hollow particles or agglomerates thereof. As a more specific example, a commercially available product, ELECON hollow silica particles, a product of Nippon Silica Kogyo Co., Ltd., Nipsil or Nipgel, a collection of porous silica fine particles, and silica fine particles manufactured by Nissan Chemical Industries, And a colloidal silica UP series (trade name) having a connected structure can be used.
상기 공극을 갖는 미립자의 평균 입자 지름은 5nm~300nm이며, 바람직하게는 8nm~100nm이며, 더 바람직하게는 40nm~80nm이다. 상기 공극을 갖는 미립자의 평균 입자 지름이 상기 범위 내에 있을 경우 저굴절 하드 코팅층(4)에 뛰어난 투명성을 부여하는 것이 가능하게 된다.The average particle diameter of the fine particles having the voids is 5 nm to 300 nm, preferably 8 nm to 100 nm, and more preferably 40 nm to 80 nm. When the average particle diameter of the fine particles having the voids is in the above range, excellent transparency can be imparted to the low refractive hard coat layer 4.
상기 공극을 갖는 미립자는 상기 저굴절층 형성용 코팅 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.5 내지 10중량부 포함되는 것이 바람직하다. 상기 공극을 갖는 미립자가 상기의 기준으로 상기 범위 내에 포함될 경우 저굴절 하드 코팅층(4)의 굴절률 조절이 가능하고, 반사 방지 효과가 우수하다. It is preferable that the fine particles having the voids are contained in an amount of 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire coating composition for forming a low refractive index layer. The refractive index of the low refractive hard coat layer 4 can be adjusted and the antireflection effect is excellent when the fine particles having the voids are included in the above range within the above range.
상기 용제 및 개시제는 전술한 중굴절층 형성용 하드 코팅 조성물에서 예시한 광중합 개시제와 용제가 사용될 수 있다. 아울러 상기 용제 및 개시제는 전술한 하드 코팅 조성물에서 제시한 광중합 개시제 및 용제의 함량 범위 내에서 사용될 수 있다.As the solvent and the initiator, the photopolymerization initiator and the solvent exemplified in the above-mentioned hard-coating composition for forming a refraction layer can be used. The solvent and the initiator may be used within the range of the content of the photopolymerization initiator and the solvent proposed in the hard coating composition described above.
또한 상기 저굴절층 형성용 코팅 조성물은 필요에 따라서 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 항산화제, UV 흡수제, 광안정제, 열적고분자화 금지제, 레벨링제, 계면활성제, 윤활제, 방오제 등이 추가적으로 포함될 수 있다.The coating composition for forming a low refractive index layer may further include an antioxidant, a UV absorber, a light stabilizer, a thermal polymerization inhibitor, a leveling agent, a surfactant, a lubricant, and an antifouling agent, which are generally used in the art have.
상기한 조성을 갖는 저굴절층 형성용 코팅 조성물을 대전 방지 고굴절 하드 코팅층(3)상에 코팅하면 저굴절 하드 코팅층(4)을 얻을 수 있다. When the coating composition for forming a low refractive index layer having the above composition is coated on the antistatic high refractive index hard coat layer 3, a low refractive hard coat layer 4 can be obtained.
상기 저굴절층 형성용 코팅 조성물의 코팅은 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드, 캐스팅, 그라비아, 마이크로 그라비아 또는 스핀코팅 등의 적당한 방식으로 도공(Coating Process)이 가능하다. The coating of the coating composition for forming a low refractive index layer can be coated by an appropriate method such as die coater, air knife, reverse roll, spray, blade, casting, gravure, microgravure or spin coating.
상기 저굴절 하드 코팅층(4)은 예를 들어 이하와 같은 방법으로 형성할 수 있다. 상기 저굴절층 형성용 코팅 조성물을 투명 기재에 도포한 후 30 내지 150℃의 온도에서 10초 내지 1시간 동안, 보다 바람직하게는 30초 내지 30분 동안 휘발물을 증발시켜 건조시킨다. 이후 UV광을 조사하여 경화시킨다. 상기 UV광의 조사량은 약 0.01 내지 10J/㎠인 것이 바람직하고, 0.1 내지 2J/㎠인 것이 보다 바람직하다. The low refractive hard coat layer 4 may be formed, for example, in the following manner. The coating composition for forming a low refractive index layer is applied to a transparent substrate, and then the volatiles are evaporated at a temperature of 30 to 150 DEG C for 10 seconds to 1 hour, more preferably 30 seconds to 30 minutes. And then cured by irradiating UV light. The irradiation amount of the UV light is preferably about 0.01 to 10 J / cm 2, more preferably 0.1 to 2 J / cm 2.
이때, 상기 저굴절 하드 코팅층(4)의 두께는 80 내지 120nm가 바람직하고, 90 내지 105nm가 더욱 바람직하다. 상기 저굴절 하드 코팅층(4)이 두께가 상기 범위 내에 포함될 경우 우수한 반사 방지 효과를 얻을 수 있다.
At this time, the thickness of the low refractive hard coat layer 4 is preferably 80 to 120 nm, more preferably 90 to 105 nm. When the thickness of the low refractive hard coat layer 4 is within the above range, an excellent antireflection effect can be obtained.
상기한 구조를 갖는 본 발명에 따른 반사 방지 필름은 표면 저항이 5×1010Ω/sq 이하로 뛰어난 대전 방지 성능을 가진다. 뿐만 아니라 반사율이 0.6% 이하로 매우 뛰어난 반사 방지 효과를 나타낸다. 그에 따라 상기와 같이 제조된 본 발명에 따른 반사 방지 필름은 반사 방지를 필요로 하는 물품, 특히 이하에 언급되는 편광판이나 각종의 표시 장치에 이용될 수 있다.
The antireflection film according to the present invention having the above-mentioned structure has an excellent antistatic performance with a surface resistance of 5 10 10 ? / Sq or less. In addition, the reflectance is 0.6% or less. Accordingly, the antireflection film according to the present invention can be used for an article requiring antireflection, particularly in the polarizing plate or various display devices described below.
편광판Polarizer
본 발명에 따른 반사 방지 필름은 편광판에 구비될 수 있다.The antireflection film according to the present invention may be provided in a polarizing plate.
상기 편광판은 특별하게 제한되지 않으며, 다양한 종류가 사용될 수도 있다. 상기 편광판으로서, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 및 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2색성 염료 등의 2색성 물질을 흡착시켜 1축 연신한 필름 폴리비닐알코올의 탈수처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등이 사용될 수 있다. 이들 중에서도, 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 2색성 물질로 이루어지는 편광판이 바람직하다. 이들 편광판의 두께는 특별하게 제한되지 않지만, 일반적으로는 5~80㎛ 정도이다.The polarizing plate is not particularly limited, and various types may be used. As the polarizing plate, for example, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol film and an ethylene-vinyl acetate copolymerization system partially saponified film may be produced by adsorbing a dichroic substance such as iodine or a dichromatic dye to a uniaxially stretched film poly A polyene-based oriented film such as a dehydrated product of vinyl alcohol or dehydrochlorinated product of polyvinyl chloride may be used. Among them, a polarizing plate made of a dichromatic material such as a polyvinyl alcohol-based film and iodine is preferable. The thickness of these polarizing plates is not particularly limited, but is generally about 5 to 80 탆.
상기 편광판의 투과율은, 파장 550nm의 빛에 있어서, 30~50%의 범위에 있는 것이 바람직하고, 35~50%의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 편광도는, 파장 550nm의 빛에 있어서, 90~100%의 범위에 있는 것이 바람직하고, 95~100%의 범위에 있는 것이 보다 바람직하고, 99~100%의 범위에 있는 것이 가장 바람직하다.
The transmittance of the polarizing plate is preferably in the range of 30 to 50%, and more preferably in the range of 35 to 50% in the light having a wavelength of 550 nm. The degree of polarization is preferably in a range of 90 to 100%, more preferably in a range of 95 to 100%, and most preferably in a range of 99 to 100% in a light having a wavelength of 550 nm.
표시 장치Display device
본 발명의 반사 방지 필름은 각종 표시 장치에 적용될 수 있다. 상기 표시 장치는 예를 들면, Twisted Nematic(TN), Super Twisted Nematic(STN), Vertical Alignment(VA), In-Plane Switching(IPS) 또는 Opically Compensated Bend Cell(OCB) 등의 모드의 투과형, 반사형, 또는 반투과형의 액정 표시 장치일 수 있다.The antireflection film of the present invention can be applied to various display devices. The display device may be of a transmissive type, a reflective type, a reflective type, a transmissive type or a reflective type, for example, a mode such as a twisted nematic (TN) mode, a super twisted nematic (STN) mode, a vertical alignment mode, an in- , Or a transflective liquid crystal display device.
특히 본 발명에 따른 반사 방지 필름은 시판되는 휘도 향상 필름(편광 선택층을 갖는 편광 분리 필름, 예를 들면, 스미토모 3M(주) 제조의 D－BEF 등)과 함께 투과형 또는 반투과형의 액정 표시 장치에 사용될 때, 그 표시 장치는 더 큰 시인성을 얻을 수 있다.Particularly, the antireflection film according to the present invention can be applied to a transmissive or semi-transmissive liquid crystal display device (for example, a polarized light separating film having a polarization selective layer, for example, D-BEF manufactured by Sumitomo 3M Co., The display device can obtain greater visibility.
투과형, 반사형, 및 반투과형의 액정 표시 장치에 있어서 액정 셀의 전면에 공기를 통하여 아크릴 판 등의 전면판을 배치하는 경우에는, 액정 셀 표면측의 편광판 뿐만 아니라, 전면판의 내측 및/또는 외측에 점착제 등으로 반사 방지 필름을 적층하는 것이 바람직한데, 왜냐하면 그렇게 함으로써 전면판과 액정 셀 사이의 계면에서의 반사를 감소시킬 수 있기 때문이다. 상기 반사 방지 필름이 λ/4 필름과 결합된다면, 반사형 또는 반투과형의 LCD 또는 유기 EL 디스플레이용 표면 보호판으로서 이용될 수 있다.When a front plate such as an acrylic plate is disposed on the entire surface of a liquid crystal cell in a transmissive type, a reflective type, and a semi-transmissive type liquid crystal display device, not only the polarizing plate on the front side of the liquid crystal cell but also the inside and / It is preferable to laminate an antireflection film on the outside with an adhesive or the like because the reflection at the interface between the front plate and the liquid crystal cell can be reduced. If the antireflection film is combined with a? / 4 film, it can be used as a reflective or semi-transmissive LCD or a surface protection plate for an organic EL display.
또한, 본 발명의 반사 방지 필름이 PET, PEN 등의 투명 기재상에 형성된다면, PDA, 휴대 전화의 표면 보호판, 터치 패널, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 이나 음극관 표시 장치(CRT)와 같은 화상 표시 장치에 적용될 수 있다.
If the antireflection film of the present invention is formed on a transparent substrate such as PET, PEN or the like, it is possible to use an image display device such as a PDA, a surface protection plate of a mobile phone, a touch panel, a plasma display panel (PDP) Lt; / RTI >
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 구체화될 것이며, 하기 실시예는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하며, 본 발명의 보호범위를 한정하거나 제한하고자 하는 것은 아니다.The present invention will be further illustrated by the following examples, which should not be construed as limiting or limiting the scope of protection of the present invention.
[중굴절층 형성용 코팅 조성물의 제조][Preparation of coating composition for forming a medium refractive layer]
[제조예 1][Production Example 1]
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA, 미원상사제) 21중량부, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(DPHA, 일본합성사제) 9중량부, 광경화 개시제로 이가큐어184(시바사제) 2중량부, 광경화 개시제로 이가큐어 907(시바 사제) 0.5중량부 및 실리콘계 레벨링제 BYK378(BYK사제) 0.5중량부에 메틸에틸케톤：시클로헥사논이 8：2인 용제를 전체 고형분이 40중량%가 되도록 첨가하여 충분히 혼합하고 이를 공경 3㎛의 폴리프로필렌제 필터로 여과하여 25℃에서의 굴절률 1.51인 중굴절층 형성용 하드 코팅 조성물을 제조하였다., 21 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (PETA, produced by Mi-won Chemical Co., Ltd.), 9 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Japan Synthetic Company), 2 parts by weight of IGACURE 184 0.5 parts by weight of Irgacure 907 (manufactured by Shiba Chemical Co., Ltd.) as initiator and 0.5 part by weight of silicone leveling agent BYK378 (manufactured by BYK) were added with a solvent of methyl ethyl ketone: cyclohexanone in an amount of 8: 2 so that the total solids content became 40% And the mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 3 탆 to prepare a hard coating composition for forming a medium refractive index layer having a refractive index of 1.51 at 25 캜.
[대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물의 제조][Preparation of coating composition for forming antistatic high refractive index layer]
[제조예 2][Production Example 2]
그라펜(가로, 세로 각각 10㎚) 5중량부, 제조예 1에서 제조한 조성물 10중량부, 시클로헥산 32중량부를 충분히 혼합한 후 3㎛의 포어 크기를 갖는 폴리프로필렌제 필터를 통해 여과하여 25℃에서의 굴절률이 1.78인 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.5 parts by weight of graphene (10 nm in length and 10 nm in length), 10 parts by weight of the composition prepared in Preparation Example 1 and 32 parts by weight of cyclohexane were sufficiently mixed and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3 μm to obtain 25 A refractive index of 1.78 was prepared.
[제조예 3][Production Example 3]
유기 대전 방지제로 1-메틸-3-부틸이미다졸륨테트라플루오르보론(알드리치사) 1중량부, 고굴절 무기입자(촉매화성사, 지르코니아졸, 고형분농도 20 중량%, 사이즈:20nm, 굴절률 1.9) 2중량부, 제조예 1에서 제조한 조성물 10중량부, 시클로헥산 32중량부를 충분히 혼합한 후 3㎛의 포어 크기를 갖는 폴리프로필렌제 필터를 통해 여과하여 25℃에서의 굴절률이 1.59인 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.1 part by weight of 1-methyl-3-butylimidazolium tetrafluoroboron (Aldrich) as an organic antistatic agent, 2 parts by weight of high refractive index inorganic particles (catalytically converted yarn, zirconia sol, 10 parts by weight of the composition prepared in Preparation Example 1 and 32 parts by weight of cyclohexane were thoroughly mixed and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3 mu m to obtain an antistatic high refractive index layer having a refractive index of 1.59 at 25 DEG C Coating compositions were prepared.
[제조예 4][Production Example 4]
무기 대전 방지제로 안티몬틴옥사이드(촉매화성사, 고형분농도 10 중량%, 사이즈: 30nm) 5중량부, 고굴절 무기입자(촉매화성사, 지르코니아졸, 고형분농도 20 중량%, 사이즈: 20nm, 굴절률 1.9) 2중량부, 제조예 1에서 제조한 조성물 10중량부, 시클로헥산 32중량부를 충분히 혼합한 후 3㎛의 포어 크기를 갖는 폴리프로필렌제 필터를 통해 여과하여 25℃에서의 굴절률이 1.60인 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.5 parts by weight of antimony tin oxide (catalysed yarn, solid content concentration: 10% by weight, size: 30 nm) as inorganic antistatic agent, high refractive index inorganic particles (catalytically converted yarn, zirconia sol, solid content concentration: 20% by weight, , 10 parts by weight of the composition prepared in Preparation Example 1 and 32 parts by weight of cyclohexane were thoroughly mixed and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3 mu m to obtain an antistatic high refractive index layer having a refractive index of 1.60 at 25 DEG C To prepare a coating composition for forming a layer.
[저굴절층 형성용 하드 코팅 조성물의 제조][Preparation of hard coating composition for forming low refractive layer]
[제조예 5][Production Example 5]
시판되는 저굴절층 형성용 코팅 조성물인 중공실리카 함유 UV코팅액(MB1030: 촉매화성사제: 고형분 농도 5 중량% 이며, 고형분 중 중공실리카 약 3 중량% 함유, 불소 함유 중합성 화합물, 중합개시제 함유) 10중량부에, 이소프로판올 5중량부와 에틸아세테이트 3중량부를 첨가하고 실온에서 30분 동안 교반한 후, 이를 3㎛의 포어 크기를 갖는 폴리프로필렌제 필터를 통해 여과하여 굴절률이 25℃에서의 1.35인 저굴절층 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.(MB1030: a catalyst having a solid concentration of 5% by weight, containing about 3% by weight of hollow silica in a solid content, containing a fluorine-containing polymerizable compound and a polymerization initiator) 10, which is a commercially available coating composition for forming a low refractive layer 5 parts by weight of isopropanol and 3 parts by weight of ethyl acetate were added to the mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3 mu m to obtain a resin having a refractive index of 1.35 at 25 DEG C A coating composition for forming a refractive layer was prepared.
[제조예 6][Production Example 6]
시판되는 저굴절층 형성용 코팅 조성물인 중공실리카 함유 UV코팅액(MB1030: 촉매화성사제: 고형분 농도 5중량%이며, 고형분 중 중공실리카 약 6 중량% 함유, 불소 함유 중합성 화합물, 중합개시제 함유) 10중량부에, 이소프로판올 5중량부와 에틸아세테이트 3중량부를 첨가하고 실온에서 30분 동안 교반한 후, 이를 3㎛의 포어 크기를 갖는 폴리프로필렌제 필터를 통해 여과하여 25℃에서의 굴절률이 1.30인 저굴절층 형성용 코팅 조성물을 제조하였다.
(MB1030: a product with catalytic activity: solid content of 5% by weight, containing about 6% by weight of hollow silica in a solid content, containing a fluorine-containing polymerizable compound and a polymerization initiator), which is a commercially available coating composition for forming a low refractive layer, 10 5 parts by weight of isopropanol and 3 parts by weight of ethyl acetate were added to the mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 3 mu m to obtain a resin having a refractive index of 1.30 A coating composition for forming a refractive layer was prepared.
[실시예 1, 2 및 비교예 1 내지 4][Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4]
상기 제조예 1에서 제조한 중굴절층 형성용 코팅 조성물을 80㎛ 두께의 셀룰로오스트리아세테이트 투명 기재에 그라비어 코팅기를 사용하여 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분 동안 건조시키고, 자외선 조사에 의해 경화시켜 두께가 4㎛인 중굴절 하드 코팅층을 형성하였다.The coating composition for forming a medium refractive index layer prepared in Preparation Example 1 was coated on a cellulose triacetate transparent substrate having a thickness of 80 μm using a gravure coater, dried at 80 ° C. for 1 minute, To form a medium refractive hard coat layer having a thickness of 4 m.
상기 중굴절 하드 코팅층 상에 상기 제조예 2, 3 또는 4에서 제조한 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물을 그라비어 코팅기를 사용하여 도포하고, 80℃ 에서 1 분 동안 건조시키고 UV조사에 의해 경화시켜 두께가 100nm인 대전 방지 고굴절 하드 코팅층을 형성하였다.The antistatic high refractive index layer coating composition prepared in Preparation Example 2, 3 or 4 was coated on the above medium refractive hard coating layer using a gravure coater, dried at 80 ° C for 1 minute, and cured by UV irradiation Lt; RTI ID = 0.0 > 100nm. ≪ / RTI >
상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층 상에 상기 제조예 5 또는 6에서 제조한 저굴절층 형성용 코팅 조성물을 그라비어 코팅기를 사용하여 도포하고, 80℃ 에서 1 분 동안 건조시키고 UV조사에 의해 경화시켜 두께가 90nm인 저굴절 하드 코팅층을 형성하여 반사 방지 필름을 제조하였다.The coating composition for forming a low refraction layer prepared in Preparation Example 5 or 6 was coated on the antistatic high refractive index hard coating layer using a gravure coater, dried at 80 ° C for 1 minute and cured by UV irradiation to have a thickness of 90 nm To form an antireflective hard coat layer.
이때 각 실시예 및 비교예에서 사용한 중굴절층 형성용 코팅 조성물, 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물 및 저굴절층 형성용 코팅 조성물은 하기 표 1에 나타낸 바와 같다. The coating composition for forming the medium refractive index layer, the coating composition for forming the antistatic high refractive index layer, and the coating composition for forming the low refractive index layer used in Examples and Comparative Examples are shown in Table 1 below.
<실험예><Experimental Example>
상기 실시예 1, 2 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 반사 방지 필름에 대하여 하기와 같이 물성을 측정하였으며, 그 결과는 하기 표 2에 나타내었다. The properties of the antireflection films prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 were measured as follows. The results are shown in Table 2 below.
(1) 내스크래치성 (1) scratch resistance
스틸울테스트기(WT-LCM100, 한국 프로텍 사제)를 이용하여 1kg/(2cm x 2cm) 하에서 10회 왕복운동시켜 내스크래치성을 시험하였다. 스틸울은 #0000을 사용하였다. Scratch resistance was tested by reciprocating 10 times under 1 kg / (2 cm x 2 cm) using a steel wool tester (WT-LCM100, Korea Protec Co.). Steel wool used # 0000.
A: 스크래치가 0개 A: 0 scratches
A': 스크래치가 1~10개 A ': 1 to 10 scratches
B: 스크래치가 11~20개 B: 11-20 scratches
C: 스크래치가 21~30개 C: 21 ~ 30 scratches
D: 스크래치가 31개 이상 D: More than 31 scratches
(2) 밀착성 (2) Adhesion
필름의 도포된 면에 1mm 간격으로 가로 세로 각각 11개의 직선을 그어 100개의 정사각형을 만든 후, 테이프(CT-24, 일본 니치방 사제)을 이용하여 3회 박리 테스트를 진행하였다. 100개의 사각형 3개를 테스트하여 평균치를 기록하였다. 11 straight lines were drawn at intervals of 1 mm on the coated surface of the film to form 100 squares, and then peel test was conducted three times using a tape (CT-24, manufactured by Nihon Nichiban Co., Ltd.). Three 100 squares were tested and the average was recorded.
밀착성은 다음과 같이 기록하였다. The adhesion was recorded as follows.
밀착성 = n / 100 Adhesion = n / 100
n: 전체 사각형 중 박리되지 않는 사각형 수 n: the number of rectangles that are not to be peeled out of the entire rectangle
100: 전체 사각형의 개수 100: total number of squares
따라서 하나도 박리되지 않았을 시 100 / 100으로 기록하였다. Therefore, when one of them was not peeled off, it was recorded as 100/100.
(3) 대전 방지성(표면 저항률)(3) Antistatic property (surface resistivity)
Hiresta의 MCP-HT450을 사용하여 표면 저항을 측정하였다.Surface resistance was measured using Hiresta's MCP-HT450.
(4) 표면 반사율(4) Surface reflectance
분광 광도계 UV2450(시마주사) 에 어댑터 MPC2200를 장착하여, 380 내지 780nm의 파장 영역에서 입사각 5°에서의 출사각 5°대한 경면 반사율을 측정하고, 450 내지 650nm의 평균 반사율을 산출하였다.An adapter MPC2200 was attached to a spectrophotometer UV2450 (Shimadzu) to measure the specular reflectance at an exit angle of 5 deg. At an incident angle of 5 deg. In a wavelength range of 380 to 780 nm, and an average reflectance of 450 to 650 nm was calculated.
상기 표 2에서 확인할 수 있는 바와 같이 그라펜을 포함하는 대전 방지 고굴절 하드 코팅층이 포함된 실시예 1, 2의 경우 대전 방지제로 그라펜을 포함하지 않는 비교예에 비하여 표면 저항이 5×1010Ω/sq 이하로서 대전 방지 성능이 매우 뛰어날 뿐만 아니라 표면 반사율이 0.6% 이하로 매우 낮아 반사 방지 효과가 뛰어난 것을 확인할 수 있다.
As can be seen from the above Table 2, in Examples 1 and 2 including an antistatic high refractive index hard coating layer containing graphene, the surface resistance was 5 10 10 ? / sq, which is excellent not only in antistatic performance but also very low in surface reflectance of 0.6% or less.
1: 투명 기재 2: 중굴절 하드 코팅층
3: 대전 방지 고굴절 하드 코팅층 4: 저굴절 하드 코팅층1: transparent substrate 2: medium refractive hard coat layer
3: antiglare high refractive index hard coat layer 4: low refractive hard coat layer
Claims (6)
상기 투명 기재의 일면 또는 양면에 형성된 중굴절 하드 코팅층;
상기 중굴절 하드 코팅층 상에 형성된 그라펜을 포함하는 대전 방지 고굴절 하드 코팅층; 및
상기 대전 방지 고굴절 하드 코팅층 상에 형성된 저굴절 하드 코팅층을 포함하여 이루어지며,
표면 저항이 5×1010Ω/sq 이하이고,
상기 그라펜은 가로 및 세로의 길이가 각각 5 내지 50nm인 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
Transparent substrate;
A medium refractive hard coat layer formed on one side or both sides of the transparent substrate;
An antistatic high refractive index hard coating layer comprising graphen formed on the medium refractive hard coating layer; And
And a low refractive hard coat layer formed on the antistatic high refractive index hard coat layer,
A surface resistance of 5 x 10 < 10 > / sq or less,
Wherein the graphenes are 5 to 50 nm in length and 5 to 50 nm in length, respectively.
상기 그라펜은 상기 대전 방지 고굴절층 형성용 코팅 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.001 내지 50중량부 포함되는 것임을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
The antistatic hard coating layer according to claim 1, wherein the antistatic hard coating layer is formed by coating a coating composition for forming an antistatic high-refraction layer including a cured resin composition and graphene,
Wherein the graphene is contained in an amount of 0.001 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the entire coating composition for forming an antistatic high refractive index layer.
The antireflection film according to claim 2, wherein the antiglare hard refractory hard coating layer has a refractive index of 1.55 to 2.20 at 25 ° C.
4. The antireflection film of claim 3, wherein the refractive index of the low refractive hard coat layer is 1.20 to 1.49 at 25 ° C.
A polarizing plate comprising the antireflection film according to any one of claims 1 to 4.
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