KR101568630B1 - 적외선 차단재 - Google Patents

적외선 차단재 Download PDF

Info

Publication number
KR101568630B1
KR101568630B1 KR1020147026971A KR20147026971A KR101568630B1 KR 101568630 B1 KR101568630 B1 KR 101568630B1 KR 1020147026971 A KR1020147026971 A KR 1020147026971A KR 20147026971 A KR20147026971 A KR 20147026971A KR 101568630 B1 KR101568630 B1 KR 101568630B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
infrared ray
mass
ray blocking
shielding
parts
Prior art date
Application number
KR1020147026971A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140129297A (ko
Inventor
모토히코 요시즈미
아키라 나카바야시
Original Assignee
미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
미쓰비시마테리알덴시카세이가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤, 미쓰비시마테리알덴시카세이가부시키가이샤 filed Critical 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤
Publication of KR20140129297A publication Critical patent/KR20140129297A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101568630B1 publication Critical patent/KR101568630B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G30/00Compounds of antimony
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/64Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2231Oxides; Hydroxides of metals of tin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K3/2279Oxides; Hydroxides of metals of antimony

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

이 적외선 차단재는, 안티몬 산화 주석 분말로 이루어지는 적외선 차단재로서, 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 또한 상기 안티몬 산화 주석 분말의 (211) 면의 X 선 회절에 있어서의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하인 것을 특징으로 하는 적외선 차단재다.

Description

적외선 차단재{INFRARED CUT MATERIAL}
본 발명은 투명한 적외선 차단 필름 (가시광에 투명하고, 근적외 이상의 파장의 광을 흡수 및/또는 반사하는 필름) 을 형성하기 위해서 사용되는 적외선 차단재에 관한 것이다.
본원은, 2012년 3월 29일에 일본에 출원된 일본 특허출원 2012-076045호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.
종래, 적외선 차단재로서 인듐 주석 산화물 분말 (이하, ITO 분말이라고 한다) 이나 안티몬 주석 산화물 분말 (이하, ATO 분말이라고 한다) 을 사용하는 것이 알려져 있다. 여기서, ITO 분말은 투명성 및 적외선 차단 성능이 우수하다는 이점을 가지고 있지만, 고가이기 때문에 고비용이 될 뿐만 아니라 희소 금속 사용의 문제가 있다. 한편, ATO 분말은 ITO 분말과 비교하여 저렴하지만, 가시광의 투과율이 낮고, 고투명의 요구에 대응할 수 없을 뿐만 아니라, 근적외선 차단 성능이 ITO 분말보다 열등하는 문제가 있다 (특허문헌 1). 예를 들어, ATO 분말로서 잘 알려져 있는 미츠비시 머테리얼 전자 화성사 제조 ATO 분말 (상품명 : T-1) 은, 가시광 투과율 80 % 에 있어서 IR 차폐율 (가시광 투과율 (%Tv)/일사 투과율 (%Ts)) 은 1.2 정도이다. 불소 도프 산화 주석 분말 (FTO 분말) 도 근적외 흡수는 있지만, IR 차폐율은 낮아 1.2 정도이다. 또, 란타넘보라이드, 텅스텐계 화합물 등의 적외선 차단재는, 가시광의 흡수가 있고 또한 근적외의 흡수 능력이 열등하다는 문제가 있다.
(특허 문헌 1) 일본 공개특허공보 평7-69632호
본 발명에서는, 종래의 SbO2 를 5 ∼ 10 질량% 함유하는 ATO 분말보다 다량의 SbO2 를 도프하고, 또한 특정한 결정성을 갖는 ATO 분말을 적외선 차단재로서 사용함으로써 상기 문제를 해결한다. 즉, 저렴하고 투명성이 높고, ITO 분말을 사용한 필름과 파장 2000 ㎚ 이상의 근적외선 차단 성능이 동등하고, 종래의 ATO 분말보다 IR 차폐율이 높은 투명 적외선 차단 필름을 형성하는 것이 가능한 적외선 차단재를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 이하의 구성을 가짐으로써 상기 문제를 해결한 적외선 차단재 및 투명 적외선 차단 필름에 관한 것이다.
[1] 안티몬 산화 주석 분말로 이루어지는 적외선 차단재로서, 상기 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 또한 X 선 회절 패턴에 있어서의 상기 안티몬 산화 주석 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하인 것을 특징으로 하는 적외선 차단재.
[2] 상기 [1] 에 기재된 적외선 차단재와 용매를 함유하는, 분산액.
[3] 상기 [1] 에 기재된 적외선 차단재와 수지와 용매를 함유하는, 투명 적외선 차단 필름용 조성물.
[4] 상기 [1] 에 기재된 적외선 차단재와 수지를 함유하는, 투명 적외선 차단 필름.
[5] 상기 적외선 차단재와 수지의 합계 100 질량부에 대해, 상기 적외선 차단재를 65 ∼ 80 질량부 함유하고, 두께가 1 ∼ 3 ㎛ 이고, 가시광 투과율 (%Tv) 80 % 에 있어서, 가시광 투과율 (%Tv) 의 일사 투과율 (%Ts) 에 대한 비 ([(%Tv)/(%Ts)]) 가 1.26 이상인 상기 [4] 에 기재된, 투명 적외선 차단 필름.
본 발명 [1] 에 의하면, 고투명하고 우수한 적외선 차단 성능을 가지고, 또한 저렴한 적외선 차단재를 제공할 수 있다. 따라서, 고투명하고 적외선 차단 성능이 우수한 투명 적외선 차단 필름을 형성할 수 있다.
본 발명 [2] 또는 [3] 에 의하면, 고투명하고 적외선 차단 성능이 우수한 투명 적외선 차단 필름을 용이하게 형성할 수 있다. 또, 본 발명 [4] 에 의하면, 고투명하고 적외선 차단 성능이 우수한 투명 적외선 차단 필름을 제공할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 적외선 차단재, ITO 분말 및 시판되는 ATO 분말의 IR 차폐율과, 가시광 투과율의 관계를 나타내는 그래프이다.
이하, 본 발명을 실시형태에 기초하여 구체적으로 설명한다. 또한, % 는 특별히 가리키지 않는 이상, 또 수치 고유의 경우를 제외하고 질량% 이다.
[적외선 차단재]
본 실시형태의 적외선 차단재 (이하, 본 적외선 차단재라고 한다) 는, 안티몬 산화 주석 분말 (ATO 분말) 로 이루어지는 적외선 차단재로서, 본 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 또한 X 선 회절 패턴에 있어서의 본 적외선 차단재의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하이다. 본 실시형태에서는, Sb 의 산화물은 SbO2 라고 표기한다. 적외선 차단재에서는, Sb 함유량을 ICP 분석으로 측정하여 SbO2 로 환산하였다.
본 발명자들은, ATO 분말의 IR 차폐율을 높이기 위해서는, 통상적인 ATO 분말보다 다량의 SbO2 가 도프되어 있고, 또한 ATO 분말의 결정성이 특정 범위인 것이 중요하다는 것을 알아냈다. 또, 본 발명자들은, SbO2 함유량이 적은 ATO 분말에서는 ATO 분말의 결정성은 높아지지만 IR 차폐율은 낮아지고, 한편, SbO2 함유량이 많은 ATO 분말에서는 ATO 분말의 결정성은 낮아지고 IR 차폐율도 저하된다는 것도 알아냈다.
즉, 본 실시형태에 있어서, ATO 분말의 IR 차폐율을 높이기 위해서 이하의 구성을 채용한다.
본 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 는 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 13 질량부 이상 20 질량부 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본 적외선 차단재의 X 선 회절 패턴에 있어서의 ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하이고, 0.8°이상 1.1°이하인 것이 바람직하고, 0.8°이상 1.0°이하인 것이 보다 바람직하다. SbO2 함유량 및 ATO 분말의 결정성이 이들 범위 외에서는, 후술하는 방법에서 본 적외선 차단재를 사용하여 두께 : 1 ∼ 3 ㎛ 의 투명 적외선 차단 필름을 형성했을 때, IR 차폐율이 가시광 투과율 (%Tv) 80 % 에 있어서 1.26 보다 작아진다. 여기서, IR 차폐율은 가시광 투과율 (%Tv) 의 일사 투과율 (%Ts) 에 대한 비 ([(%Tv)/(%Ts)]) 이다. 상기한 범위 이외에서는, 투명 적외선 차단 필름의 막두께를 두껍게 해도, 가시광 투과율 (%Tv) 과 일사 투과율 (%Ts) 이 함께 병행하여 저하되기 때문에, IR 차폐율이 1.26 을 초과하는 경우는 없다. 또한, IR 차폐율이 1.26 보다 작으면 실용상 사용할 수 없는 경우가 많아진다.
적외선 차단재를 구성하는 ATO 분말은, SnO2 에 SbO2 가 도프된 구조이기 때문에, 이 ATO 분말의 X 선 회절 패턴은 SnO2 의 X 선 패턴과 동일하다. 여기서, X 선 회절 패턴은, X 선 회절 측정에 있어서 시료에 X 선 (CuKα 선) 을 조사하면서 입사각도 θ 를 소정 각도 범위에서 주사하고, 그 사이에 회절하는 X 선의 강도를 계수하여, 횡축에 회절 각도 2θ, 종축에 회절 강도를 플롯함으로써 얻어진다. SnO2 의 결정 구조와, 조사하는 X 선의 파장에 기초하여, 회절 각도 2θ 에 대응하는 SnO2 의 (211) 면은 52°로 관찰되고, ATO 분말의 회절 각도 2θ 에 있어서도 52°로 관측된다.
또한, 피크란, X 선 회절 패턴에 있어서의 산 형상의 부분을 말한다. 개개의 피크는 결정면에 대응한다. 반치폭이란, 피크의 강도 (피크 곡선의 정점의 X 선 회절 강도) 의 1/2 이 되는 X 선 회절 강도에 있어서의 당해 피크 곡선의 회절 각도 폭을 나타낸다. 반치폭이 작은 피크는 급준한 산 형상이 되고, 그 결정면의 결정성은 높다고 할 수 있다. 한편, 반치폭이 큰 피크는 스커트 형상의 완만한 산 형상이 되어, 그 결정면의 결정성은 낮다고 할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 본 적외선 차단재는, X 선 회절 패턴에 있어서의 ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하이고, 결정성이 특정 범위에 있다. ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°미만에서는, 결정성이 지나치게 높고 IR 차폐율은 낮아진다. 한편, ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 1.2°를 초과하면, 결정성이 지나치게 낮고 IR 차폐율은 낮아진다.
가시광 투과율 (%Tv) 은 JIS R 3106 (1998년 제정) 에 기초하여 구한 값이다 (가시광의 파장 범위 : 380 ∼ 789 ㎚).
즉, 가시광 투과율 (%Tv) 이란, 적외선 차단 필름에 수직으로 입사하는 주광 (晝光) 의 광속에 대해, 투과 광속의 입사 광속에 대한 비를 구한 것이다. 여기서 주광이란, 국제 조명 위원회 (CIE : International Commission on Illumination) 가 정한 CIE 주광을 의미한다. 또, 광속 (luminous flux) 이란, 방사의 파장별 방사속 (radiant energy flux) 과 시감도의 값의 곱한 수치를 파장에 대해 적분한 것이다. 본 실시형태에서는, 가시광 투과율 (%Tv) 을 분광 광도계를 사용하여 계측하였다.
일사 투과율 (%Ts) 은, JIS R 3106 (1998년 제정) 에 기초하여 구한 값이다 (일사의 파장 범위 : 300 ∼ 2500 ㎚).
즉, 일사 투과율 (%Ts) 이란, 적외선 차단 필름에 수직으로 입사하는 일사의 방사속에 대해, 투과 방사속의 입사 방사속에 대한 비를 구한 것이다. 여기서, 일사란, 직달 일사, 즉 대기권을 통과하여 지상에 직접 도달하는 근자외, 가시 및 근적외의 파장 영역 (상기 서술한 300 ∼ 2500 ㎚) 의 방사를 말한다. 본 실시형태에서는, 일사 투과율 (%Ts) 을 분광 광도계를 사용하여 계측하였다.
또한, 가시광 투과율 (%Tv) 및 일사 투과율 (%Ts) 을 나타내고 있는 JIS R 3106 (1998년 제정) 은, 1990년에 제 1 판으로서 발행된 ISO 9050 (Glass in building - Determination of light transmittance, solar direct transmittance, total solar energy transmittance and ultraviolet transmittance, and related glazing factors) 의 기술적 내용을 변경하지 않고 작성된 규격으로서, ISO 9050 을 참조할 수도 있다.
본 적외선 차단재의 입경은, 특별히 한정되지 않지만, 가시광 투과율 및 일사 투과율의 관점에서 0.005 ∼ 0.03 ㎛ 가 바람직하고, 0.01 ∼ 0.02 ㎛ 가 보다 바람직하다. 여기서, 입경이란, 비표면적으로부터 환산한 BET 직경을 가리킨다. 또, 본 적외선 차단재의 형상은 입상이 바람직하다.
본 적외선 차단재는, 안티몬 및 주석을 함유하는 수용액으로부터 안티몬 및 주석의 수산화물을 공침시킨 후, 안티몬 및 주석의 수산화물을 소성함으로써 제조할 수 있다.
안티몬 및 주석을 함유하는 수용액으로부터 안티몬 및 주석의 수산화물을 공침시키는 방법으로는, (1) 알칼리 용액에 사염화주석 용액, 염산, 염화안티몬 용액의 혼합 용액을 교반 하에서 적하하여, 안티몬 및 주석의 수산화물을 공침시키는 방법, (2) 알칼리 용액에 사염화주석 용액, 염화 안티몬 용액을 각각 교반 하에서 동시에 적하하여, 안티몬 및 주석의 수산화물을 공침시키는 방법, (3) 수중에 알칼리 용액과 사염화주석 용액, 염산, 염화 안티몬의 혼합 용액을 교반 하에서 적하하여, 안티몬 및 주석의 수산화물을 공침시키는 방법 등의, 일반적인 방법을 들 수 있다. 이 방법의 종류, 각 방법에서의 적하 속도 등에 따라, 공침물의 1 차 입자경을 제어할 수 있지만, 균일한 적외선 차단재를 얻기 위해서는 (3) 의 공침법을 사용하는 방법이 바람직하다.
상기 서술한 바와 같이, 안티몬 및 주석의 수산화물의 공침은 가수 분해 반응 등에 의해 발생하지만, 본 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 또한 원하는 결정성을 갖는 안티몬 산화 주석 분말을 얻기 위해서는, 가수 분해 반응 등을 촉진시키기 위해서, 소정량의 안티몬 및 주석을 함유하는 수용액을 40 ∼ 70 ℃ 로 가열하는 것이 바람직하다.
안티몬 및 주석의 수산화물의 소성은 대기 중 750 ∼ 850 ℃ 에서 0.5 ∼ 3시간 실시하고, 또한 소성에 의해 얻어진 본 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이면, X 선 회절 패턴에 있어서의 ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하가 된다. 또한, 본 적외선 차단재를 사용한 후술하는 투명 적외선 차단 필름의 가시광 투과율 80 % 에 있어서의 IR 차폐율이 1.26 이상이 된다.
SbO2 가 본 적외선 차단재 100 질량부에 대해, 13 질량부 이상 30 질량부 이하에서 소성 온도가 750 ℃ 보다 낮으면, ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 1.2°보다 커져 ATO 분말의 결정성이 낮아지기 때문에, ATO 분말의 IR 차폐율도 1.26 보다 작아진다. 한편, SbO2 가 적외선 차단재 100 질량부에 대해 13 질량부 이상 30 질량부 이하에서 소성 온도가 850 ℃ 보다 높으면, 적외선 차단재의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°보다 작아져 ATO 분말의 결정성이 높아지지만, 적외선 차단재의 IR 차폐율이 1.26 보다 작아진다.
[분산액]
본 실시형태의 분산액은 본 적외선 차단재와 용매를 함유한다. 용매로는, 물, 톨루엔, 자일렌, 아세톤, 에탄올 등을 들 수 있다.
[투명 적외선 차단 필름용 조성물]
본 실시형태의 투명 적외선 차단 필름용 조성물은, 본 적외선 차단재와 수지와 용매를 함유한다. 용매는 상기 서술한 바와 같다. 여기서, 수지는 사용하는 용매에 용해할 수 있고, 본 적외선 차단재를 분산할 수 있고, 본 적외선 차단재를 결합하여 투명 적외선 차단 필름을 형성할 수 있는 것이면, 일반적으로 분산액, 도료, 페이스트 등으로 사용되고 있는 임의의 수지를 사용할 수 있다. 여기서, 수지로는, 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 우레탄 수지 등을 들 수 있다. 또, 수지 고형분과 용매가 미리 혼합된 아크릴 도료, 폴리에스테르 도료, 우레탄 도료 등도 적합하게 사용된다. 시판 제품으로는, 칸사이 페인트사 제조 아크리릭, DIC 제조 아크리딕 등을 들 수 있다.
[투명 적외선 차단 필름]
본 실시형태의 투명 적외선 차단 필름 (이하, 본 투명 적외선 차단 필름이라고 한다) 은 본 적외선 차단재와 수지를 함유한다. 또, 본 적외선 차단재를, 본 적외선 차단재와 수지의 합계 100 질량부에 대해, 65 ∼ 80 질량부 함유하는, 두께 : 1 ∼ 3 ㎛ 의 투명 적외선 차단 필름일 때, 이 투명 적외선 차단 필름의 가시광 투과율 (%Tv) 80 % 에 있어서, 가시광 투과율 (%Tv) 의 일사 투과율 (%Ts) 에 대한 비 ([(%Tv)/(%Ts)]), 즉 IR 차폐율을 1.26 이상으로 할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, IR 차폐율의 상한치는 특별히 한정되지 않지만, IR 차폐율을 1.30 정도까지 향상시킬 수 있다.
적외선 차단재가 65 질량% 미만 또는 본 투명 적외선 차단 필름의 필름 두께가 1 ㎛ 미만에서는, IR 차폐율이 1.26 미만이 된다. 또, 적외선 차단재가 80 질량% 보다 많거나, 또는 투명 적외선 차단 필름의 필름 두께가 3 ㎛ 보다 두꺼워지면, 가시광 투과율이 75 % 이하가 되어, 사용 방법이 한정되어 버린다.
또한, IR 차폐율은 적외선 차단 성능을 나타내고, 표준적인 양태에 있어서, 대체로 이하에 나타내는 수준이다.
(1) 산화 주석 분말 함유막은, 가시광 투과율 (%Tv) 이 84 % 전후의 투명성을 갖는 경우, 일사 투과율 (%Ts) 도 81 % 전후로 높고, 따라서, IR 차폐율은 1.0 정도로 낮다.
(2) 일반적인 ATO 분말 함유막은, 가시광 투과율 (%Tv) 이 80 % 전후의 투명성을 갖는 경우, 일사 투과율 (%Ts) 은 대체로 65 % 전후이고, 따라서, IR 차폐율은 1.2 정도이고, 산화 주석 분말을 함유하는 것보다 IR 차폐율은 높다.
(3) ITO 분말 함유막은, 상기 (1), (2) 의 산화 주석 분말이나 일반적인 ATO 분말과 동일한 정도의 함유량인 경우, 가시광 투과율 (%Tv) 은 90 % 전후이고, 투명성이 우수하고, 또 일사 투과율 (%Ts) 은 59 % 로 낮고, 따라서, IR 차폐율은 1.4 이상으로 높다.
한편, 본 적외선 차단재를 함유하는 본 투명 적외선 차단 필름에서는, 본 적외선 차단재가 종래의 ATO 분말보다 다량의 안티몬을 도프하고 있고, 본 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 또한 X 선 회절 패턴에 있어서의 ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하이다. 이와 같은 구성의 적외선 차단재를 사용하면, 고가의 인듐을 사용하지 않아도, 가시광 투과율 (%Tv) 80 % 에 있어서의 일사 투과율 (%Ts) 은 64 % 미만으로 낮고, IR 차폐율이 1.26 이상인 적외선 차단 필름을 형성할 수 있다.
도 1 에, 참고를 위해, 본 적외선 차단재, ITO 분말 (도 1 에는「ITO」라고 기재한다) 및 시판되는 미츠비시 마테리알 전자 화성사 제조 ATO 분말 (상품명 : T-1, 도 1 에는「T-1」이라고 기재한다) 의 IR 차폐율과, 가시광 투과율의 관계를 나타내는 그래프를 나타낸다. 도 1 에 나타낸 범위에서는, IR 차폐율과 가시광 투과율은 직선 관계로 되어 있다. 또, 도 1 로부터, 본 적외선 차단재는 가시광 투과율 80 % 에 있어서 IR 차폐율이 1.26 이상인 것을 알 수 있다.
투명 적외선 차단 필름의 제조 방법의 구체예를 나타낸다. 먼저, 톨루엔·자일렌 (체적비 : 1 : 1) 에, 시판 아크릴 도료 (DIC 사 제조, 상표명 : 아크리딕) 를 용해하고, 이것에 적외선 차단재를 첨가하고, 적외선 차단재의 도포막 중 함유량 ([본 적외선 차단재의 질량/(본 적외선 차단재 + 수지의 질량)]) 이 70 질량% 가 되도록 조제하고, 분산된 투명 적외선 차단 필름 형성용 조성물을 제조한다. 다음으로, 제조된 투명 적외선 차단 필름 형성용 조성물을 막두께 가변식 애플리케이터로 PET 필름 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 건조시켜, 두께 : 1 ∼ 3 ㎛ 의 투명 적외선 차단 필름을 제조한다.
제조된 본 투명 적외선 차단 필름은, 가시광 투과율 (%Tv) 80 % 에 있어서, IR 차폐율 ([(%Tv)/(%Ts)]) : 1.26 이상을 가진다.
실시예
이하에, 실시예에 의해 본 발명을 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
[적외선 차단재의 제조]
표 1, 2 에 나타내는 비율의 적외선 차단재를 제조하였다. 55 질량% 사염화주석 용액 : 92 g, 17 질량% 염산 : 14 g, 소정량의 삼염화안티몬 용액을 혼합하고, 25 질량% 수산화나트륨 용액과 함께 60 ℃ 로 유지한 물 : 1 dm3 중에 적하하였다. pH 는 5 ∼ 6 으로 유지하였다. 얻어진 안티몬 및 주석의 수산화물로부터 데칸테이션에 의해 잔존 염을 제거하고, 여과하고, 건조시킨 후, 대기 중 700 ∼ 900 ℃ 에서 2 시간 소성하였다.
[적외선 차단재의 정량 분석]
얻어진 시료를 ICP 분석에 의해 Sn, Sb 량을 측정하고, 적외선 차단재 100 질량부에 대한 SbO2 의 질량부를 산출하였다. 표 1, 표 2 에, 실시예 1 ∼ 9, 비교예 1 ∼ 26 에서의 분석 결과를 나타낸다.
[적외선 차단재의 X 선 회절 측정]
또, 얻어진 시료의 X 선 회절 측정을, 리가쿠 전기사 제조 X 선 회절 장치 (형번 : MiniFlex) 로 실시하였다. X 선 회절 측정 조건은 이하로 하였다.
X 선원 : CuKα
관 전압, 관 전류 : 30 ㎸, 15 ㎃
고니오미터 : 미니플렉스 고니오미터
산란 슬릿 : 4.2°
수광 슬릿 : 0.3 ㎜
스캔 스피드 : 1°/min
표 1, 표 2 에, 실시예 1 ∼ 9, 비교예 1 ∼ 26 에서의 ATO 분말의, X 선 회절 측정으로 얻어진 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 을 나타낸다. 또, 표 3 에, 종축에 SbO2 의 질량부, 횡축에 소성 온도를 나타내고, ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 을 기재한 결과를 나타낸다. 표 3의 굵은 실선의 내부는 실시예 1 ∼ 9 가 해당되고, 굵은 실선의 외부는 비교예 1 ∼ 26 이 해당된다.
[투명 적외선 차단 필름용 조성물의 조제]
얻어진 시료를, 시판 아크릴 도료 (DIC 사 제조, 상표명 : 아크리딕) 를 톨루엔·자일렌 (체적비 : 1 : 1) 에 용해한 용액 중에 넣고, 적외선 차단재를 도포막 중 함유량 (투명 적외선 차단 필름 형성용 조성물 건조시의 [그 적외선 차단재의 질량/(그 적외선 차단재 + 아크릴 도료 중의 수지분의 질량)]) 이 70 질량% 가 되도록 조제하고, 비드를 넣은 용기에 넣고, 페인트 쉐이커로 10 시간 교반하여, 투명 적외선 차단 필름용 조성물을 제조하였다.
[투명 적외선 차단 필름의 형성]
제조된 투명 적외선 차단 필름 형성용 조성물을 애플리케이터로 PET 필름 상에 도포하고, 100 ℃ 에서 건조시켜, 두께 1 ∼ 3 ㎛ 의 투명 적외선 차단 필름을 형성하였다.
[IR 차폐율의 평가]
형성된 투명 적외선 차단 필름에 대해, 히타치사 제조 분광 광도계 (형번 : U-4000) 를 사용하여, 대기의 [%Tv], [%Ts] 를 베이스라인으로 하고, 가시광 투과율 (%Tv), 일사 투과율 (%Ts) 을 측정하여 IR 차폐율을 산출하였다. 여기서, IR 차폐율은 가시광 투과율에 의해 변화한다. 한편, 가시광 투과율은 투명 적외선 차단 필름의 두께에 의해 변화한다. 그러나, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 가시광 투과율이 75 ∼ 85 % 에 있어서는, 가시광 투과율과 IR 차폐율은 직선 관계에 있고, 또한 실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 26 의 가시광 투과율의 실측치가 75 ∼ 85 % 이기 때문에, 이 범위의 중앙치인 가시광 투과율 80 % 에 있어서의 IR 차폐율을 평가하였다. 표 1, 2 에, 실시예 1 ∼ 9, 비교예 1 ∼ 26 에서의 가시광 투과율 80 % 에 있어서의 IR 차폐율의 결과를 나타낸다. 또, 표 4 에, 종축에 SbO2 의 질량부, 횡축에 소성 온도를 나타내고, 가시광 투과율 80 % 에 있어서의 IR 차폐율을 기재한 결과를 나타낸다. 표 4 의 굵은 실선의 내부는 실시예 1 ∼ 9 가 해당되고, 굵은 실선의 외부는 비교예 1 ∼ 26 이 해당된다.
Figure 112014091350973-pct00001
Figure 112014091350973-pct00002
Figure 112014091350973-pct00003
Figure 112014091350973-pct00004
표 1, 표 3, 표 4 에 나타내는 바와 같이, 적외선 차단재의 SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 또한 ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하인 실시예 1 ∼ 9 에서는, IR 차폐율 [(%Tv)/(%Ts)] 이 안정되어 1.26 이상으로 양호한 결과였다. 또, 실시예 1 ∼ 9 의 투명성은 양호하였다. 이에 반하여, 표 2 ∼ 표 4 에 나타내는 바와 같이, 상기 범위 외의 비교예 1 ∼ 26 에서는 IR 차폐율이 1.26 보다 낮았다. 비교예 4, 5, 9, 10, 12, 14, 16, 21 은 ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 지나치게 낮아, IR 차폐율이 1.26 보다 낮았다. 한편, 비교예 6, 11, 13, 15, 17 ∼ 20, 22 는, ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 지나치게 높아, IR 차폐율이 1.26 보다 낮았다. 또, 비교예 1 ∼ 3, 7, 8은, ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 원하는 범위 내였지만, SbO2 가 소량이었기 때문에 IR 차폐율이 1.26 보다 낮았다. 비교예 23 ∼ 26 은, ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 원하는 범위 내였지만, SbO2 가 다량이었기 때문에 IR 차폐율이 1.26 보다 낮았다.
본 발명은, 종래의 ATO 분말보다 다량의 안티몬을 도프하고 있고, 본 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고, 또한 X 선 회절 패턴에 있어서의 ATO 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하임으로써, 저렴하고 투명성이 높은 투명 적외선 차단 필름을 형성할 수 있는 적외선 차단재를 제공할 수 있다.

Claims (5)

  1. 안티몬 산화 주석 분말로 이루어지는 적외선 차단재로서,
    상기 적외선 차단재 100 질량부에 대해, SbO2 가 13 질량부 이상 30 질량부 이하이고,
    X 선 회절 패턴에 있어서의 상기 안티몬 산화 주석 분말의 (211) 면의 반치폭 (회절 각도 2θ : 52°) 이 0.8°이상 1.2°이하인 것을 특징으로 하는 적외선 차단재.
  2. 제 1 항에 기재된 적외선 차단재와 용매를 함유하는, 분산액.
  3. 제 1 항에 기재된 적외선 차단재와 수지와 용매를 함유하는, 투명 적외선 차단 필름용 조성물.
  4. 제 1 항에 기재된 적외선 차단재와 수지를 함유하는, 투명 적외선 차단 필름.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 적외선 차단재와 수지의 합계 100 질량부에 대해, 상기 적외선 차단재를 65 ∼ 80 질량부 함유하고,
    두께가 1 ∼ 3 ㎛ 이고,
    가시광 투과율 (%Tv) 80 % 에 있어서, 가시광 투과율 (%Tv) 의 일사 투과율 (%Ts) 에 대한 비 ([(%Tv)/(%Ts)]) 가 1.26 이상인, 투명 적외선 차단 필름.
KR1020147026971A 2012-03-29 2013-03-28 적외선 차단재 KR101568630B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2012-076045 2012-03-29
JP2012076045 2012-03-29
PCT/JP2013/059280 WO2013147033A1 (ja) 2012-03-29 2013-03-28 赤外線カット材

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140129297A KR20140129297A (ko) 2014-11-06
KR101568630B1 true KR101568630B1 (ko) 2015-11-11

Family

ID=49260278

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147026971A KR101568630B1 (ko) 2012-03-29 2013-03-28 적외선 차단재

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP2832699A4 (ko)
JP (1) JP5740046B2 (ko)
KR (1) KR101568630B1 (ko)
CN (1) CN104220376B (ko)
WO (1) WO2013147033A1 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015068283A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 赤外線吸収性オフセット印刷インキ
WO2015068282A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 赤外線吸収性インクジェット印刷インク
WO2015068291A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 印刷物
WO2015068292A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 印刷物
WO2015068290A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 赤外線吸収性凹版印刷インキ
WO2015068281A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 赤外線吸収性スクリーン印刷インキ
WO2015068289A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 赤外線吸収性活版印刷インキ
WO2015068276A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 赤外線吸収性フレキソ印刷インキ
WO2015068280A1 (ja) * 2013-11-08 2015-05-14 共同印刷株式会社 赤外線吸収性グラビア印刷インキ
KR101732244B1 (ko) * 2015-01-16 2017-05-04 김정엽 적외선 차단 금속산화물 분말의 제조방법
US10486982B2 (en) 2015-09-30 2019-11-26 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared absorbing fine particles, dispersion liquid using the same, dispersion body, laminated transparent base material, film, glass, and method for producing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003176132A (ja) 2001-09-28 2003-06-24 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物粒子および日射遮蔽膜形成用塗布液ならびに日射遮蔽膜
JP2004075510A (ja) 2001-09-27 2004-03-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽材料の製造方法、日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜並びに日射遮蔽用透明基材
JP2004083397A (ja) 2002-07-01 2004-03-18 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物微粒子とこれを用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体並びに日射遮蔽用透明基材
JP2004149329A (ja) 2002-10-29 2004-05-27 Nissan Chem Ind Ltd 導電性酸化スズの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5891777A (ja) * 1981-11-25 1983-05-31 Mitsubishi Metal Corp 導電性透明塗料
JP3250125B2 (ja) 1993-06-30 2002-01-28 三菱マテリアル株式会社 赤外線カットオフ粉末
JP4088721B2 (ja) * 1997-03-13 2008-05-21 日産化学工業株式会社 導電性酸化スズ微粉末及び導電性酸化スズゾルの製造方法
AU2003221199A1 (en) * 2003-03-17 2004-10-11 Hae-Wook Lee Composition for cutting off heat-ray, film formed thereform and method for forming the composition and the film
WO2008127409A2 (en) * 2006-11-07 2008-10-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Infrared absorber
JP5308635B2 (ja) * 2007-05-30 2013-10-09 三菱マテリアル株式会社 近赤外線吸収組成物の吸収性制御方法
CN101708958B (zh) * 2009-11-25 2012-04-25 深圳清华大学研究院 可释放负离子的建筑玻璃隔热涂料及制备方法
CN101864230B (zh) * 2010-06-12 2013-07-31 重庆龙者低碳环保科技有限公司 一种红外屏蔽型玻璃隔热涂料及其制备方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004075510A (ja) 2001-09-27 2004-03-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽材料の製造方法、日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜並びに日射遮蔽用透明基材
JP2003176132A (ja) 2001-09-28 2003-06-24 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物粒子および日射遮蔽膜形成用塗布液ならびに日射遮蔽膜
JP2004083397A (ja) 2002-07-01 2004-03-18 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物微粒子とこれを用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体並びに日射遮蔽用透明基材
JP2004149329A (ja) 2002-10-29 2004-05-27 Nissan Chem Ind Ltd 導電性酸化スズの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2013147033A1 (ja) 2015-12-14
KR20140129297A (ko) 2014-11-06
EP2832699A4 (en) 2015-11-25
JP5740046B2 (ja) 2015-06-24
WO2013147033A1 (ja) 2013-10-03
EP2832699A1 (en) 2015-02-04
CN104220376A (zh) 2014-12-17
CN104220376B (zh) 2016-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101568630B1 (ko) 적외선 차단재
Zhu et al. Composite film of vanadium dioxide nanoparticles and ionic liquid–nickel–chlorine complexes with excellent visible thermochromic performance
Huang et al. Solvothermal synthesis of Sb: SnO2 nanoparticles and IR shielding coating for smart window
EP2860226B1 (en) Black pigment, glaze and paint containing same
JP6982914B2 (ja) 非放射性安定同位元素を用いた優環境熱遮蔽フィルム及びその製造方法
Soumya et al. Sn and Ag doped ZnO quantum dots with PMMA by in situ polymerization for UV/IR protective, photochromic multifunctional hybrid coatings
Shen et al. Synthesis and characterization of Sb-doped SnO2 with high near-infrared shielding property for energy-efficient windows by a facile dual-titration co-precipitation method
Sameera et al. Influence of (LiLa) 1/2MoO4 substitution on the pigmentary properties of BiVO4
JP2005226008A (ja) 日射遮蔽体形成用分散液及び日射遮蔽体並びにその製造方法
JP5387925B2 (ja) 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子
US20220388861A1 (en) Bismuth sulfide particles, method for producing same, and use of same
JP4904714B2 (ja) 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子
US20190019910A1 (en) Cover glass for solar cell, solar cell module provided with cover glass for solar cell, and transparent protective film
JP4182825B2 (ja) 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物微粒子とこれを用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体並びに日射遮蔽用透明基材
Oliveira et al. Influence of pH in obtaining indium tin oxide nanoparticles by microwave assisted solvothermal method
JP5326058B2 (ja) 赤外線カット材、赤外線カット材の分散液、赤外線カット膜形成用組成物、および赤外線カット膜
JP2019130509A (ja) チタン酸ストロンチウム系粒子、チタン酸ストロンチウム系粒子の製造方法、光触媒形成用組成物、光触媒、光触媒膜、及び構造体
Zhou et al. Expanding the spectral tunability of TiO2 nanocrystals by codoping with fluorine and tungsten for energy-efficient windows
JP6623944B2 (ja) 熱線遮蔽微粒子および熱線遮蔽微粒子分散液
JP6164132B2 (ja) 熱線遮蔽用チタン酸リチウム粒子
US20190144691A1 (en) Coloring ultraviolet protective agent
US20230357582A1 (en) Coloring ultraviolet protective agent
Heiba et al. The Influence of CdS on the Structural and Optical Properties of Nano ZnWO4
JP6164133B2 (ja) 熱線遮蔽用塗料及び熱線遮蔽膜の製造方法
JP2015179139A (ja) 熱線遮蔽材の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191002

Year of fee payment: 5