KR101564578B1 - Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function - Google Patents

Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function Download PDF

Info

Publication number
KR101564578B1
KR101564578B1 KR1020150091154A KR20150091154A KR101564578B1 KR 101564578 B1 KR101564578 B1 KR 101564578B1 KR 1020150091154 A KR1020150091154 A KR 1020150091154A KR 20150091154 A KR20150091154 A KR 20150091154A KR 101564578 B1 KR101564578 B1 KR 101564578B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
liquid contact
unit
liquid
scrubber
Prior art date
Application number
KR1020150091154A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
서익환
박대연
박승철
김지영
Original Assignee
서익환
박대연
박승철
김지영
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 서익환, 박대연, 박승철, 김지영 filed Critical 서익환
Priority to KR1020150091154A priority Critical patent/KR101564578B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101564578B1 publication Critical patent/KR101564578B1/en
Priority to PCT/KR2016/006662 priority patent/WO2016208978A1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
    • H01L21/02046—Dry cleaning only
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/06—Spray cleaning
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/60—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
    • H01L2021/60007—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation involving a soldering or an alloying process
    • H01L2021/60022—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation involving a soldering or an alloying process using bump connectors, e.g. for flip chip mounting
    • H01L2021/60097—Applying energy, e.g. for the soldering or alloying process
    • H01L2021/60172—Applying energy, e.g. for the soldering or alloying process using static pressure
    • H01L2021/60187—Isostatic pressure, e.g. degassing using vacuum or pressurised liquid
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

The present invention relates to a scrubber treating an exhaust gas by a multilayer combination of a gas-liquid contact means where a plurality of unit gas-liquid contact means having different gas-liquid contacting functions are combined, to be proper for treatment depending on a phase and concentration of a perfluorocarbon (PFC) exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process. The wet scrubber absorbing and purifying the exhaust gas by making a cleaner contact with the perfluorocarbon (PFC) exhaust gas comprises a gas-liquid contact means installed inside the scrubber having a multilayer structure where the plurality of unit gas-liquid contact means have different gas-liquid contacting functions combined.

Description

폐가스 성상에 따라 처리에 적합하도록 복수기능의 기액접촉수단으로 조합된 폐가스 처리 스크러버 {Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function}BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention [0001] The present invention relates to a scrubber for waste gas treatment,

본 발명은 폐가스를 처리하는 스크러버에 관한 것이며, 보다 구체적으로는 반도체 제조공정에서 배출하는 유독성 배기가스의 성상에 따라 처리에 적합하도록 복수기능의 기액접촉수단으로 조합한 폐가스 처리 스크러버에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a scrubber for treating waste gas, and more particularly to a waste gas treatment scrubber combined with gas-liquid contact means of a plurality of functions so as to be suitable for treatment according to properties of toxic exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process.

일반적으로, 반도체 제조공정의 웨이퍼 상에 박막을 형성 또는 식각 등의 공정으로부터 배출되는 배기가스(폐가스)에는 불화수소, 황산화물, 질소산화물, 황화수소, 아황산가스 등의 산성가스 및 암모니아 등의 알칼리성 가스들을 포함하고 있으므로 인체에 유해할 뿐만 아니라 환경오염을 유발시키기 때문에 반도체 제조공정에서 배출되는 배기가스는 정화시킨 후에 대기 중에 배출하여야 한다.Generally, an exhaust gas (waste gas) discharged from a process of forming a thin film on a wafer in a semiconductor manufacturing process or etching or the like includes an acidic gas such as hydrogen fluoride, sulfur oxide, nitrogen oxide, hydrogen sulfide, The exhaust gas discharged from the semiconductor manufacturing process must be purified and then discharged to the atmosphere because it is harmful to the human body and causes environmental pollution.

상기 반도체 제조공정에서 배출되는 불화수소, 황산화물, 질소산화물, 황화수소, 아황산가스 암모나아 등과 같은 유독성 가스성분을 제거하기 위한 방법으로 습식방법인 배기가스(폐가스)에 세정용액을 분무하여 기액접촉을 이용하는 스크러버 방식이 널리 알려져 있으며, 이와 관련된 선행기술로 예를 들면, 국내 등록특허공보 제10-0816822호에 하우징에 가스유로장치와 기액반응장치 및 제습장치를 설치하여서 된 것에 있어서, 가스유로장치를 굴곡 유로판(21)과 사선 유로판(22)으로 구성시키고, 기액반응장치를 충전재층을 가진 반응기(31)와 분사장치로 형성시키되 분사장치를 기액반응장치의 상부와 입측에 설치하여 구성시켜서 된 것을 특징으로 하는 복합오염물질을 동시에 처리하는 멀티스크러버를 개시하고 있으며, 국내 등록특허공보 등록번호 제10-1020258호에는 일측에 형성되는 폐가스 유입구와, 타측에 형성되는 폐가스 유출구를 포함하며, 내부가 박스 형상으로 형성되는 하우징과 상기 하우징의 일측 내부에 형성되어 하우징의 내부로 유입되는 산성가스를 포함하는 폐가스에 물을 분사하여 산성 가스를 제거하는 제1분사부 및 상기 하우징의 타측 내부에 형성되어 코로나 방전에 의하여 상기 제1분사부로부터 유입되는 산미스트를 집진하는 방전 집진부를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 산성 폐가스 처리 시스템을 개시하고 있다.In order to remove toxic gas components such as hydrogen fluoride, sulfur oxides, nitrogen oxides, hydrogen sulfide, and sulfurous acid gas ammonia discharged from the semiconductor manufacturing process, a cleaning solution is sprayed on the exhaust gas (waste gas) A gas flow path device, a gas-liquid reaction device, and a dehumidifying device are installed in a housing in a Korean Patent Registration No. 10-0816822, A gas-liquid reaction device is formed by a reactor 31 having a filler layer and an injector, and an injector is installed at an upper portion and an inlet of the gas-liquid reactor, And a multiscrubber for simultaneously treating a complex pollutant, No. 10-1020258 discloses a fuel cell system including a housing including a waste gas inlet formed at one side and a waste gas outlet formed at the other side, the inside of which is formed in a box shape, and an acid gas formed inside one side of the housing, And a discharge dust collecting part formed inside the other side of the housing and collecting the acid mist introduced from the first spray part by corona discharge And an acidic waste gas treatment system.

또 스크러버에 이용되는 기액접촉장치와 관련하여 국내 등록특허공보 등록번호 제10-1320638호에 소정의 형상으로 이루어진 판상체(10)와; 상기 판상체(10)의 가운데를 접어서 일정한 곡률을 갖는 절곡부(20)로 구성되고, 상기 판상체(10)는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀(polyolefin)이나, 염화비닐리덴, 폴리에스테르, 나일론, 아라미드, 탄소섬유 등의 유기섬유나, 무기섬유, 금속섬유로 구성되며, 상기 판상체(10)에는 내부에 소정의 형상으로 이루어진 격자망(12)이 형성되며, 상기 격자망(12)은 가로 2∼10㎜, 세로 2∼10㎜로 형성되며, 상기 절곡부(20)는 단면형상이 U형 또는 V형으로 형성됨을 특징으로 하는 다공성 필터 및 이를 이용한 기액접촉장치를 개시하고 있다.Also, in relation to the gas-liquid contact device used in the scrubber, a plate-shaped body 10 having a predetermined shape is disclosed in Korean Patent Registration No. 10-1320638; The plate member 10 is formed of a polyolefin such as polyethylene or polypropylene or a polyolefin such as vinylidene chloride, A grid 12 made of a predetermined shape is formed in the plate 10, and the grid 12 is made of a metal such as aluminum, A width of 2 to 10 mm and a length of 2 to 10 mm, and the bent portion 20 has a U-shaped or V-shaped cross-sectional shape, and a gas-liquid contact device using the porous filter.

상기 선행기술들은 폐가스의 유형 즉 성분, 농도와 상관없이 일률적으로 기액접촉체에 의해 폐가스를 분리 제거하는 기술이므로 폐가스의 유형에 따라 폐가스의 분리 제거효율에 문제점을 지니고 있다.The above prior arts have a problem in the efficiency of separating and removing waste gas depending on the type of waste gas because it is a technique for separating and removing waste gas by a gas-liquid contactor uniformly regardless of the type,

본 발명은 폐가스의 유형 특히, 반도체 제조공정에서 배출되는 배기가스 중에 불화수소, 황산화물, 질소산화물, 황화수소, 아황산가스 암모니아 등과 같은 유독성 가스성분의 종류 및 농도에 따라 그 처리에 적합하게 기능이 상이한 단위 기액접촉수단을 복수개 조합하여 다층으로 적용함으로써 배기가스 제거효율을 향상시키는 것을 확인하고 본 발명을 완성하였다.The present invention relates to an exhaust gas purifying catalyst which is different in function from the exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process according to the type and concentration of toxic gas components such as hydrogen fluoride, sulfur oxides, nitrogen oxides, hydrogen sulfide, It is confirmed that the exhaust gas removing efficiency is improved by applying a plurality of unit gas-liquid contact means in combination to each other to complete the present invention.

본 발명은 유독성 폐가스를 제거하는 스크러버의 제공을 목적으로 하며, 구체적으로는 폐가스의 성상에 따라 처리에 적합하도록 기액접촉 기능이 상이한 단위 기액접촉수단을 복수개 조합한 다층의 기액접촉수단 조합체에 의해 배기가스를 처리하는 스크러버의 제공을 목적으로 하는 것이다.The present invention aims to provide a scrubber for removing toxic waste gas, and more particularly, to a scrubber for removing toxic waste gas by means of a multi-layered gas-liquid contact means combination in which a plurality of unit gas- And to provide a scrubber for treating gas.

보다 구체적으로는 본 발명은 반도체 제조공정에서 배출하는 과불화탄소(PFC) 배기가스의 농도에 따라 그 처리에 적합하도록 기액접촉 기능이 상이한 단위 기액접촉수단을 복수개 조합한 다층의 기액접촉수단 조합체에 의해 배기가스를 처리하는 스크러버의 제공을 목적으로 하는 것이다.More specifically, the present invention relates to a multi-layered gas-liquid contact member assembly in which a plurality of unit gas-liquid contact members differing in gas-liquid contact function are suitable for the treatment according to the concentration of perfluorocarbon (PFC) And an object of the present invention is to provide a scrubber for treating an exhaust gas.

일반적으로 반도체 제조공정에서는 NF3, CF4, C2F6, C3F8, F2, OF2, SiO2, SiF4, NH3, HF 등을 함유하는 과불화탄소(PFC: Per-Fluorocompounds) 배기가스, HF, HCl, Cl2 등을 함유하는 산성 배기가스, NH3 등을 함유하는 알칼리성 배기가스 및 SiF4, HF 등을 함유하는 가연 배기가스인 유독성 폐가스가 배출되고 있으며, 상기 과불화탄소(PFC) 배기가스, 산성 배기가스, 알칼리성 배기가스, 가연 배기가스는 반도체 제조공정의 조건, 가동시간, 생산제품에 따라 유형을 달리하여 배출되고 있을 뿐 아니라 고농도(50~500ppm) 내지 저농도(50ppm 미만)로 배출되고 있다.Generally, in the semiconductor manufacturing process, perfluorocompounds (PFC) containing NF 3 , CF 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , F 2 , OF 2 , SiO 2 , SiF 4 , NH 3 , ) Exhaust gas, acidic exhaust gas containing HF, HCl, Cl 2 and the like, alkaline exhaust gas containing NH 3 and the like, and poisonous waste gas which is a flammable exhaust gas containing SiF 4 , HF and the like are discharged, (50 to 500ppm) to low concentration (50ppm), as well as exhaust gas, PFC (exhaust gas), acidic exhaust gas, alkaline exhaust gas and flammable exhaust gas are discharged in different types according to conditions of semiconductor manufacturing process, .

본 발명은 상기 폐가스(G)의 유형과 농도에 따라 그 처리를 최적화하여 처리효율을 향상시키기 위하여 기하학적 구조의 상이성에 의해 기액접촉의 기능이 상이한 기액접촉수단 단위체를 2이상 조합한 폐가스 처리 스크러버로 이루어진다.The present invention relates to a waste gas treatment scrubber in which two or more gas-liquid contact means units having different gas-liquid contact functions due to the difference in geometry are optimized in order to optimize the treatment according to the type and concentration of the waste gas (G) .

구체적으로는 본 발명의 목적을 달성하기 위한 해결수단으로서, 폐가스의 성상에 적합하도록 복수기능의 기액접촉수단으로 조합한 폐가스 처리 스크러버는 상측으로 정화가스가 배출되는 배기관(1a)이 설치되며, 내부에는 상부에 세정액 분사노즐(1b)이 설치되고, 중간부에 기액접촉수단 조합체(MS)가 장착되며, 하부에 폐액저장조(1c)가 설치되는 스크러버(1)와, 상기 폐액저장조(1c)의 일측에 연결되는 폐가스 유입관(2) 및 스크러버(1)의 내부의 상부에 설치된 세정액 분사노즐(1b)에 연결되는 세정액 공급관(3)을 포함하는 스크러버에 있어서, 상기 기액접촉수단 조합체(MS)는 유입되는 폐가스(G)인 NF3, CF4, C2F6, C3F8, F2, OF2, SiO2, SiF4, NH3, HF 등을 함유하는 과불화탄소(PFC: Per-Fluorocompounds) 배기가스의 농도 변화에 따라 처리에 적합하도록 기하학적 구조가 상이한 복수개의 기액접촉수단 단위체(M1) 내지 기액접촉수단 단위체(M3)로부터 선택되는 2이상의 기액접촉수단 단위체를 조합한 다층구조로 이루어진다.Specifically, as a solution for achieving the object of the present invention, the waste gas treatment scrubber combined with gas-liquid contact means of plural functions suited to the characteristics of the waste gas is provided with an exhaust pipe 1a through which purge gas is discharged upward, A scrubber 1 in which a cleaning liquid injection nozzle 1b is provided at an upper portion thereof, a gas-liquid contact means combination MS is installed at an intermediate portion thereof and a waste liquid reservoir 1c is installed at a lower portion thereof, (MS) connected to a waste gas inlet pipe (2) connected to one side and a cleaning liquid injection nozzle (1b) installed in an upper part of the interior of the scrubber (1) (PFC: Per) containing perfluorocarbons such as NF 3 , CF 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , F 2 , OF 2 , SiO 2 , SiF 4 , NH 3 , -Fluorocompounds) Geometry suitable for treatment according to concentration change of exhaust gas Structure is composed of a plurality of different gas-liquid contacting means unit (M1) to the gas-liquid contact means unit (M3) a multi-layered combination of two or more gas-liquid contact device unit selected from a.

본 발명은 상기한 폐가스(G) 즉 과불화탄소(PFC: Per-Fluorocompounds) 배기가스의 농도에 따라 그 처리를 최적화하고, 처리효율을 높이기 위하여 본 발명에 따른 상기 기액접촉수단 조합체(MS)에 조합되는 복수개의 기액접촉수단 단위체(M1) 내지 기액접촉수단 단위체(M3)들은 상호 기하학적 구조를 달리하고 있으며, 기하학적 구조의 상이성에 의해 기액접촉의 기능이 상이하게 나타난다.The present invention is applicable to a combination of the gas-liquid contact member assembly (MS) according to the present invention in order to optimize its treatment according to the concentration of exhaust gas G, that is, Perfluorocompounds exhaust gas, Liquid contacting means M1 and the gas-liquid contact means unit M3 differ from each other in geometry, and the function of gas-liquid contact is different due to the difference in geometrical structure.

상기 본 발명에 따른 기액접촉수단 단위체(M1) 내지 기액접촉수단 단위체(M3)의 기능 및 구조를 구체적으로 설명하면, (a). 기액접촉수단 단위체(M1)는 2겹으로 엮어진 일정두께의 망상시트가 다수의 수직하는 격벽사이로 지그재그식으로 배치된 필터구조체의 구조이며, 거품발생을 유도하여 거품에 의해 폐가스에 함유된 오염입자물질 및 기액 접촉시 발생하는 입자물질, 미스트 등을 여과 및 흡수하는 기능을 가지며, (b). 기액접촉수단 단위체(M2)는 막대형상의 원형봉이 간격을 두고 다수개 평행되게 배치되면서 다수의 층으로 설치되고, 층간에는 간격과 원형봉이 교대로 배치된 구조이며, 기체의 유속에 따라 재비산과 조대화가 반복되어 기체의 흡수를 촉진시키는 기능을 가지며, (c). 기액접촉수단 단위체(M3)는 다수의 판상체를 절곡하여 일정간격으로 평행되게 상하로 배치하되 단면형상이 ‘

Figure 112015062113092-pat00001
’가 되게 복수로 설치하고, 망상시트가 상부의 절곡된 판상체의 하면에 접하면서 지그재그식으로 배치된 구조이며, 기체의 흐름을 반전 및 체류시키면서 기액접촉시간을 연장시키는 기능을 가지는 것으로 이루어진다.The function and structure of the gas-liquid contact unit unit M1 to the gas-liquid contact unit unit M3 according to the present invention will be described in detail. The gas-liquid contact unit M1 is a structure of a filter structure in which a network sheet having a predetermined thickness of two layers is arranged in a zigzag manner between a plurality of vertical partition walls. The gas-liquid contact unit unit M1 induces bubbles, (B) has the function of filtering and absorbing particulate matter, mist, and the like, which occurs upon contact with a substance and gas-liquid. The gas-liquid contact unit unit M2 has a plurality of rod-shaped circular rods arranged in parallel with a plurality of spaced-apart circular rods arranged alternately, and spacers and circular rods are alternately arranged between the layers. Repeated coarsening has the function of promoting absorption of gas, (c). The gas-liquid contact member unit M3 is formed by bending a plurality of plate members and arranging them vertically in parallel at regular intervals,
Figure 112015062113092-pat00001
', And the mesh sheet is arranged in a zigzag manner while being in contact with the lower surface of the upper bent plate, and has a function of extending the gas-liquid contact time while reversing and retaining the flow of the gas.

그리고 본 발명에 따른 스크러버(1)는 폐가스(G) 즉 NF3, CF4, C2F6, C3F8, F2, OF2, SiO2, SiF4, NH3, HF 등이 함유된 과불화탄소(PFC: Per-Fluorocompounds) 배기가스의 농도 즉 고농도(50 ~ 500ppm) 내지 저농도(50ppm 미만)에 따라 상기 기액접촉수단 단위체(M1) 내지 기액접촉수단 단위체(M3)로부터 선택되는 2 이상의 기액접촉수단 단위체를 조합함으로써 본 발명에 따른 기액접촉수단 조합체(MS)가 이루어진다.The scrubber 1 according to the present invention is a scrubber 1 containing a waste gas G, i.e., NF 3 , CF 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , F 2 , OF 2 , SiO 2 , SiF 4 , NH 3 , Which is selected from the gas-liquid contact means unit M1 to the gas-liquid contact unit unit M3 in accordance with the concentration of the exhaust gas, that is, the concentration (50 to 500 ppm) to the low concentration (less than 50 ppm) of the perfluorocompound (PFC) The gas-liquid contact member assembly (MS) according to the present invention is formed by combining the gas-liquid contact member unit.

또 본 발명에 따른 기액접촉수단 조합체(MS)는 상기 기액접촉수단 단위체(M1) 내지 기액접촉수단 단위체(M3)로부터 선택되는 2 이상의 기액접촉수단 단위체가 조합될 때, 본 발명에 따른 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S1) 및 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S2)가 기액접촉수단 조합체(MS)의 최상층 및 기액접촉수단 단위체 사이에 장착되는 것으로 이루어진다.The gas-liquid contact member assembly (MS) according to the present invention is characterized in that when two or more gas-liquid contact member unit members selected from the gas-liquid contact member unit M1 to the gas-liquid contact member unit M3 are combined, The dispersion body S1 having a distribution function and the dispersion body S2 having a uniform distribution function of the cleaning liquid are mounted between the uppermost layer of the gas-liquid contact means combination MS and the gas-liquid contact means unit.

상기 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S1)은 격벽에 의해 4각형 통공이 사방연속으로 형성되며, 인접하는 4개의 사각형 통공이 중앙에서 유통되는 구조로 이루어지며, 상기 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S2)는 격벽에 의해 사각형 통공이 사방연속으로 배열된 구조로 이루어진다.The dispersion (S1) having the function of distributing the cleaning liquid uniformly has a structure in which quadrangular holes are formed continuously in four directions by partition walls and four adjacent rectangular holes are communicated at the center, and even distribution The dispersing element S2 having a function has a structure in which quadrangular holes are arranged continuously in four directions by partition walls.

상기한 본 발명에 따른 폐가스의 성상에 따라 처리가 적합하도록 복수기능의 기액접촉수단으로 조합한 폐가스 처리 스크러버는 반도체 제조공정에서 배출되는 유독성 폐가스(G) 즉 과불화탄소(PFC: Per-Fluorocompounds) 배기가스의 농도에 따라 처리에 적합하도록 최적화된 기액접촉수단 조합체를 적용함으로써 스크러버의 가스처리 효율을 향상시키는 작용효과를 나타낸다.The waste gas treatment scrubber combined with the gas-liquid contact means of a plurality of functions so as to be suitably treated according to the characteristics of the waste gas according to the present invention can be used for the production of toxic waste gas G discharged from the semiconductor manufacturing process, that is, Perfluorocompounds (PFC) The gas treatment efficiency of the scrubber is improved by applying the gas-liquid contact means combination optimized for the treatment according to the concentration of the gas.

또한 본 발명은 폐가스의 성상변화에 대하여 처리에 적합한 기액접촉수단 조합체로 간편하게 교체하여 대처할 수 있는 장점이 있으므로 스크러버의 변경에 따른 소요경비도 감소되는 장점이 있다.Further, the present invention is advantageous in that it can be easily replaced with a gas-liquid contact means combination suitable for the treatment of a change in property of the waste gas, and thus the cost required for the change of the scrubber is also reduced.

도 1은 본 발명에 따른 일 실시예의 스크러버를 개략적으로 나타내는 정면도.
도 2는 본 발명에 따른 일 실시예의 스크러버를 개략적으로 나타내는 배면도.
도 3 내지 도 7은 본 발명에 기액접촉수단 단위체 및 분산체를 개략적으로 나타내는 도면.1 is a front view schematically showing a scrubber of an embodiment according to the present invention;
2 is a rear view schematically showing a scrubber of an embodiment according to the present invention.
Figs. 3 to 7 are views schematically showing a gas-liquid contact unit unit and a dispersion body according to the present invention. Fig.

이하에서는 본 발명을 첨부한 도면에 의해 구체적으로 설명하기로 하겠으나, 본 발명은 하기의 설명에 의하여 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited by the following description.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 일 실시예로 과불화탄소(PFC) 배기가스를 50 ~ 500ppm 함유하는 고농도의 폐가스(G)를 처리하기 위한 스크러버를 개략적으로 나타내는 정면도 및 배면도로써, 도 1 및 도 2를 참조하여, 본 발명에 따른 스크러버를 설명한다. 1 and 2 are a front view and a rear view schematically showing a scrubber for treating a high concentration waste gas G containing 50 to 500 ppm of perfluorocarbon (PFC) exhaust gas according to an embodiment of the present invention. 1 and 2, a scrubber according to the present invention will be described.

본 발명의 스크러버(1)는 그 상단에 정화가스가 배출되는 배기관(1a)과 하단에 폐액저장조(1c)가 설치되고, 스크러버(1)의 내측으로 상부에 세정액 분사노즐(1b)이 설치되고, 폐액저장조(1c)의 상측에는 유입되는 고농도의 과불화탄소(PFC) 배기가스인 폐가스(G)의 처리에 최적화되도록 조합된 기액접촉수단 조합체(MS)가 장착된다.The scrubber 1 of the present invention is provided with an exhaust pipe 1a through which purge gas is exhausted at the upper end thereof and a waste liquid reservoir 1c at the lower end thereof and a cleaning liquid injection nozzle 1b provided above the scrubber 1 And a gas-liquid contact means combination MS, which is combined with the waste liquid storage tank 1c so as to be optimized for the treatment of waste gas G, which is a high-concentration perfluorocarbon (PFC) exhaust gas flowing into the upper side of the waste liquid storage tank 1c.

상기 기액접촉수단 조합체(MS)는 위에서부터 순차적으로 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S1), 거품발생을 유도하여 거품에 의해 폐가스에 함유된 오염입자물질 및 기액 접촉시 발생하는 입자물질, 미스트 등을 여과 및 흡수하는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M1), 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S2), 거품발생을 유도하여 거품에 의해 폐가스에 함유된 오염입자물질 및 기액 접촉시 발생하는 입자물질, 미스트 등을 여과 및 흡수하는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M1), 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S2) 및 기체의 흐름을 반전 및 체류시키면서 기액접촉시간을 연장시키는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M3)가 적층되어 있다.The gas-liquid contact member assembly (MS) comprises a dispersion (S1) having a function of uniformly distributing the cleaning liquid from the top, a foamed substance which is generated in the waste gas by bubbles, (M1) having a function of filtering and absorbing mist, etc., a dispersion (S2) having an even distribution function of a cleaning liquid, a foamed material containing a contaminant particle substance contained in a waste gas by bubbling and a gas Liquid contacting means (M1) having a function of filtering and absorbing particle material, mist, etc. generated at the time of contact, a dispersion (S2) having an even distribution function of the cleaning liquid, and a gas-liquid contact time Liquid contacting unit unit M3 having a function of extending the gas-liquid contact unit unit M3.

또 상기 스크러버(1)의 상부에는 일 측으로 세정액 분사노즐(1b)에 세정액 공급관(3)이 연결되고, 그 하단에 설치된 폐액저장조(1c)에는 일 측으로 폐가스 유입펌프(P1)에 의해 유입되는 폐가스 유입관(2)이 접속되고, 타 측에는 폐액배출관(1d)이 설치되어 있으며, 상기 세정액 공급관(3)에는 세정액 저장조(3a)로부터 세정액을 유입시키기 위한 세정액 공급펌프(P2)가 장착되어 있다.A cleaning liquid supply pipe 3 is connected to the cleaning liquid injection nozzle 1b to one side of the scrubber 1 and a waste liquid inflow pump P 1 is connected to the waste liquid storage tank 1c provided at the lower end thereof, A waste liquid discharge pipe 1d is provided on the other side and a cleaning liquid supply pump P 2 for introducing the cleaning liquid from the cleaning liquid storage tank 3 a is installed in the cleaning liquid supply pipe 3 have.

상기 도 1 및 도 2를 참조하여, 상기한 본 발명에 따른 따른 복수기능의 기액접촉수단(MS)을 이용하여 과불화탄소(PFC) 배기가스를 50 ~ 500ppm 함유하는 고농도의 폐가스(G)를 처리하는 과정을 설명하면,Referring to FIGS. 1 and 2, a high-concentration waste gas G containing 50 to 500 ppm of perfluorocarbon (PFC) exhaust gas is treated using the multiple function gas-liquid contact means MS according to the present invention To explain the process,

폐가스(G)를 폐가스 유입펌프(P1)에 의해 폐가스 유입관(2)을 통하여 폐액저장조(1c)의 폐액 내부로 유입시키고, 이와 함께 세정액 저장조(3a)로부터 세정액이 세정액 공급펌프(P2)에 의해 세정액 공급관(3)을 통하여 스크러버(1) 내부에 설치된 세정액 분사노즐(1b)에 공급되면서 세정액이 스크러버(1) 내부에 분사되면서 하강한다.The waste gas G is introduced into the waste liquid in the waste liquid storage tank 1c through the waste gas inflow pipe 2 by the waste gas inflow pump P 1 and the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid storage tank 3a to the cleaning liquid feed pump P 2 Is supplied to the cleaning liquid injection nozzle 1b provided in the inside of the scrubber 1 through the cleaning liquid supply pipe 3 by means of the cleaning liquid supply pipe 3 and descends while spraying the cleaning liquid into the scrubber 1.

상기 폐액저장조(1c)의 폐액 내부로 유입된 폐가스는 폐액저장조(1c)의 폐액에의해 예비 처리되고, 고농도의 과불화탄소(PFC) 배기가스인 폐가스(G)의 처리에 최적화되도록 조합된 기액접촉수단 조합체(MS)를 통과하면서 하강하는 세정액과 기액접촉이 이루어지면서 폐가스는 정화되어 스크러버(1) 상단에 설치된 배기관(1a)을 통하여 외부로 배출된다.The waste gas introduced into the waste liquid in the waste liquid storage tank 1c is preliminarily treated by the waste liquid in the waste liquid storage tank 1c and is combined with the combined vapor-liquid contact (Pc) so as to be optimized for the treatment of waste gas G which is a high- Liquid contact with the descending cleaning liquid passing through the means combination MS and the waste gas is purified and discharged to the outside through the exhaust pipe 1a installed at the upper end of the scrubber 1. [

상기 폐가스가 복수기능의 기액접촉수단(MS)을 통과하면서 하강하는 세정액과 기액접촉이 이루어지는 과정을 보다 구체적으로 설명하면,More specifically, the process of gas-liquid contact with the cleaning liquid that descends while the waste gas passes through the gas-liquid contact means MS having a plurality of functions will be described in more detail.

상기 분사되어 하강하는 세정액은 1차적으로 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S1)에 의해 보다 더 넓게 분산되면서 하강하고, 상승하는 폐가스는 기액접촉수단 단위체(M3)에 의해 반전 및 체류하는 과정에서 기액접촉시간이 연장되고 또 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S2)에 의해 균등하게 분배되어 상승하게 되고, 2단으로 적층된 여과 및 흡수하는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M1)에 의해 거품이 발생되어 거품에 의해 폐가스에 함유된 오염입자물질 및 기액 접촉시 발생하는 입자물질, 미스트 등을 여과 및 흡수 작용이 반복적으로 수행되면서 고농도의 과불화탄소(PFC) 배기가스가 보다 효율적으로 처리된다.The lowered spraying liquid is dispersed more widely by the dispersion S1 having the function of evenly distributing the cleaning liquid, and the rising waste gas is reversed and stagnated by the gas-liquid contact unit unit M3 Liquid contacting means unit M1 (M1) having a function of filtering and absorbing the two-layered filtration and absorption, is extended evenly by the dispersing body S2 having the function of distributing the liquid-vapor-liquid contacting liquid evenly ), The particulate matter contained in the waste gas due to bubbles and the particulate matter and mist generated during gas-liquid contact are repeatedly filtered and absorbed, so that a high concentration of perfluorocarbon (PFC) .

<기액접촉단위체 및 분산체의 구체적 예>&Lt; Specific examples of gas-liquid contact unit and dispersion >

그리고 3 도 내지 7도를 참조하여 본 발명에 따른 기액접촉수단 단위체(M1) 내지 (M3)와 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S1) 및 (S2)를 아래에서 구체적으로 설명하면, (a). 거품발생을 유도하여 거품에 의해 폐가스에 함유된 오염입자물질 및 기액 접촉시 발생하는 입자물질, 미스트 등을 여과 및 흡수하는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M1)는 프레임(F) 내부에 2겹으로 엮어진 일정두께의 망상시트(4)가 일정간격으로 배치된 대략‘Π’형상의 수직하는 격벽(5)들 사이로 지그재그식으로 통과하면서 배치된 필터구조체의 구조로 이루어져 있다.(M1) to (M3) according to the present invention and dispersions (S1) and (S2) having the function of evenly distributing the cleaning liquid are described below with reference to FIGS. 3 to 7, (a). Liquid contact means unit M1 having a function of filtering and absorbing particulate matter, mist, or the like, which is generated when bubbles are generated by the bubbles, And the mesh sheet 4 having a predetermined thickness is arranged in a zigzag manner between the substantially Π-shaped vertical partitions 5 arranged at regular intervals.

(b). 기체의 유속에 따라 재비산과 조대화가 반복되어 기체의 흡수를 촉진시키는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M2)는 프레임(F) 내부에 막대형상의 원형봉(6)이 일정간격을 두고 다수개 평행되게 배치되면서 다수의 층으로 설치되고, 층과 층간에는 간격과 원형봉(6)이 교대로 배치된 구조로 이루어져 있다.(b). Liquid contact means unit M2 having a function of repeating the re-scattering and coarsening in accordance with the flow velocity of the gas to accelerate the absorption of the gas is characterized in that a bar-shaped circular rod 6 is arranged inside the frame F Are disposed in parallel with each other and are arranged in a plurality of layers, and the spacing and the circular rods (6) are alternately arranged between the layers and the layers.

(c). 기체의 흐름을 반전 및 체류시키면서 기액접촉시간을 연장시키는 기능을 갖는 액접촉수단 단위체(M3)는 프레임(F) 내부에 다수의 판상체(7, 8)를 절곡하여 일정간격으로 평행되게 상하로 배치하되, 단면형상이 ‘

Figure 112015062113092-pat00002
’가 되게 복수로 설치하고, 망상시트(7a)가 상부의 절곡된 판상체(7)의 하면에 접하면서 지그재그식으로 배치된 구조로 이루어져 있다.(c). The liquid contact means unit M3 having the function of extending the gas-liquid contact time while inverting and retaining the gas flow is formed by bending a plurality of plate bodies 7 and 8 in the frame F and vertically and horizontally The cross-sectional shape is &quot;
Figure 112015062113092-pat00002
And the mesh sheet 7a is arranged in a zigzag manner while being in contact with the lower surface of the upper bent plate 7. [

그리고 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S1)은 프레임(F) 내에 격벽으로 이루어진 사각형 통공(Ha)이 사방연속으로 형성되고, 인접하는 4개의 사각형 통공(Ha)이 중앙에서 유통되는 구조이며, 분산체(S2)는 프레임(F) 내에 격벽으로 이루어진 사각형 통공(Hb)이 사방연속으로 배열된 구조로 이루어진다.The dispersion body S1 having the function of distributing the cleaning liquid uniformly has a structure in which a rectangular through hole Ha made of barrier ribs is formed continuously in the frame F in the frame F and four adjacent rectangular through holes Ha are distributed in the center , And the dispersion body S2 has a structure in which square through holes Hb made of partition walls are arranged in a row in the frame F in a row.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

처리되는 폐가스(G)가 과불화탄소(PFC) 배기가스를 50ppm 미만으로 함유하는 저농도의 배기가스이고, 기액접촉수단 조합체(MS)가 위에서부터 순차적으로 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S1), 거품발생을 유도하여 거품에 의해 폐가스에 함유된 오염입자물질 및 기액 접촉시 발생하는 입자물질, 미스트 등을 여과 및 흡수하는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M1), 기체의 유속에 따라 재비산과 조대화가 반복되어 기체의 흡수를 촉진시키는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M2), 거품발생을 유도하여 거품에 의해 폐가스에 함유된 오염입자물질 및 기액 접촉시 발생하는 입자물질, 미스트 등을 여과 및 흡수하는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M1), 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S2) 및 기체의 흐름을 반전 및 체류시키면서 기액접촉시간을 연장시키는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M3)가 적층되어 있는 것을 제외하고는 위 <실시예 1>과 동일한 스크러버(1)에 의해 폐가스를 처리하였다.The gas-liquid contact means combination MS is a low-concentration exhaust gas containing less than 50 ppm of perfluorocarbon (PFC) exhaust gas, and the dispersed material S1 having the function of uniformly distributing the cleaning liquid Liquid contacting means unit M1 having a function of filtering and absorbing particulate matter, mist, etc., which are generated in the waste gas by inducing bubbles to generate bubbles and gas-liquid contact occurring in gas-liquid contact, Liquid contacting means unit M2 having a function of promoting the absorption of gas by repetition of scattering and coarse conversions, contaminated particulate matter contained in the waste gas by inducing bubbles to generate bubbles, and particulate matter, mist, etc. (M1) having a function of filtering and absorbing water, a dispersion (S2) having an even distribution function of a cleaning liquid, and a gas-liquid contacting unit Was treated with the waste gas and is by the above <Example 1> and the same scrubber 1, except that in which the gas-liquid contact means unit (M3) laminate having a function of extending.

상기한 기액접촉수단 단위체(M1) 내지 (M3)은 일체로 조립되기 위하여 동일한 규격으로 제작되는 것이 바람직하며, 각각의 기액접촉수단 단위체의 재질은 합성수지 재질이 바람직하다.It is preferable that the gas-liquid contact unit units (M1) to (M3) are fabricated in the same standard so as to be assembled together, and the material of each gas-liquid contact unit unit is preferably a synthetic resin material.

또 상기 각각의 기액접촉수단 단위체의 규격의 크기 및 높이는 스크러버(1)에서 폐가스의 처리용량에 따라 정하여지므로 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야의 숙련가이면 폐가스 처리용량에 따라 어려움 없이 제작할 수가 있다고 하겠다.The size and height of each of the gas-liquid contact member unit bodies are not limited as they are determined according to the processing capacity of the waste gas in the scrubber 1, and if they are skilled in the art to which the present invention pertains, I will say.

상기에서 설명한 본 발명에 따른 복수기능의 기액접촉수단을 이용한 폐가스 처리 스크러버는 반도체 제조공정에서 베출되는 유독성 폐가스(G) 즉 과불화탄소(PFC) 배기가스의 농도에 따라 처리에 적합하도록 최적화된 기액접촉수단 조합체를 적용함으로써 스크러버의 가스처리 효율을 향상시키는 작용효과를 나타내며, 폐가스의 성상변화에 대하여 처리에 적합한 기액접촉수단 조합체로 간편하게 대처할 수 있는 장점이 있다.The waste gas treatment scrubber using the multiple function gas-liquid contacting means according to the present invention described above can be suitably used in a gas-liquid contact type scrubber which is optimized for treatment according to the concentration of toxic waste gas G, that is, PFC exhaust gas, It is possible to easily cope with the change of the shape of the waste gas by the combination of the gas-liquid contact means suitable for the treatment.

1 : 스크러버 1a : 배기관
1b : 분사노즐 1c : 폐액저장조
2 : 폐가스 유입관 3 : 세정액 공급관
3a : 세정액 저장조 Ms : 복수기능의 기액접촉수단 조립체
P1 : 유입펌프 4 : 2중 망상시트
5 : ‘Π’형상의 수직하는 격벽 6 : 원형봉
7, 8 : 판상체 7a : 망상시트
M1 내지 M3 : 기액접촉수단 단위체 S1, S2 : 분산체1: scrubber 1a: exhaust pipe
1b: injection nozzle 1c: waste liquid storage tank
2: waste gas inlet pipe 3: cleaning liquid supply pipe
3a: Cleaning liquid reservoir Ms: Multifunctional gas-liquid contact assembly
P1: inflow pump 4: double mesh sheet
5: Vertical partition 6 of 'Π' shape 6: Round bar
7, 8: plate member 7a: mesh sheet
M1 to M3: gas-liquid contact unit unit S1, S2:

Claims (4)

삭제delete 상측으로 정화가스가 배출되는 배기관(1a)이 설치되며, 내부에는 상부에 세정액 분사노즐(1b)이 설치되고, 분사노즐(1b)의 하측으로 거품발생을 유도하여 거품에 의해 폐가스에 함유된 오염입자물질 및 기액 접촉시 발생하는 입자물질, 미스트를 여과 및 흡수하는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M1), 기체의 유속에 따라 재비산과 조대화가 반복되어 기체의 흡수를 촉진시키는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M2) 및 기체의 흐름을 반전 및 체류시키면서 기액접촉시간을 연장시키는 기능을 갖는 기액접촉수단 단위체(M3)로부터 선택되는 2이상의 기액접촉수단 단위체를 조합하여, 유입되는 반도체 제조공정에서 배출되는 과불화탄소(PFC) 배기가스인 폐가스(G)의 농도 변화에 따라 처리에 적합하도록 다층구조로 이루어진 기액접촉수단 조합체(MS)가 장착되고, 또 상기 기액접촉수단 조합체(MS)의 최상층에 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S1)가 장착되면서, 세정액의 균등한 분배기능을 갖는 분산체(S2)가 상기 기액접촉수단 단위체들 사이에 장착되며, 하부에 폐액저장조(1c)가 설치되는 스크러버(1)와, 상기 폐액저장조(1c)의 일측에 연결되는 폐가스 유입관(2) 및 스크러버(1)의 내부의 상부에 설치된 세정액 분사노즐(1b)에 연결되는 세정액 공급관(3)을 포함하는 상기 폐가스(G)를 처리하는 스크러버(1)에 있어서,
상기 기액접촉수단 단위체(M1)는 프레임(F) 내부에 2겹으로 엮어진 일정두께의 망상시트(4)가 일정간격으로 배치된 ‘Π’형상의 수직하는 격벽(5)들 사이로 지그재그식으로 통과하면서 배치된 필터구조체의 구조이고, 상기 기액접촉수단 단위체(M2)는 프레임(F) 내부에 막대형상의 원형봉(9)이 일정간격을 두고 다수개 평행되게 배치되면서 다수의 층으로 설치되고, 층과 층간에는 간격과 원형봉(9)이 교대로 배치된 구조이고, 상기 기액접촉수단 단위체(M3)는 프레임(F) 내부에 다수의 판상체(7,8)를 절곡하여 일정간격으로 평행되게 상하로 배치하되, 단면형상이 ‘
Figure 112015090034905-pat00011
’가 되게 복수로 설치하고, 망상시트(7a)가 상부의 절곡된 판상체(7)의 하면에 접하면서 지그재그식으로 배치된 구조이고,
또 상기 분산체(S1)는 프레임(F) 내에 격벽으로 이루어진 사각형 통공(Ha)이 사방연속으로 형성되고, 인접하는 4개의 사각형 통공(Ha)이 중앙에서 유통되는 구조이며, 상기 분산체(S2)는 프레임(F) 내에 격벽으로 이루어진 사각형 통공(Hb)이 사방연속으로 배열된 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 폐가스 성상에 따라 처리에 적합하도록 복수기능의 기액접촉수단으로 조합된 폐가스 처리 스크러버.A cleaning liquid injection nozzle 1b is provided at an upper portion of the exhaust pipe 1a and a bubble is generated at a lower side of the injection nozzle 1b to remove contaminants contained in the waste gas the function of re-scattering is the roughness is repeated facilitate the absorption of the gas in accordance with the particulate material and a gas-liquid particle material generated on contact, the flow rate of the gas-liquid contact means unit (M1), a gas having a function for filtering and absorbing the mist Liquid contact means unit M2 having a function of increasing the gas-liquid contact time while inverting and retaining the flow of the gas and combining the two or more gas-liquid contact unit units M2 and M3, (MS) having a multi-layer structure adapted to the treatment according to the concentration change of the waste gas (G), which is a PBC (PFC) exhaust gas discharged from the process Liquid contact member unit MS and the dispersion member S1 having the function of evenly distributing the cleaning liquid is mounted on the uppermost layer of the gas-liquid contact member assembly MS, And a waste gas inlet pipe 2 connected to one side of the waste liquid storage tank 1c and disposed in the upper part of the inside of the scrubber 1. The scrubber 1 is installed in the lower part of the waste liquid storage tank 1c, A scrubber (1) for treating the waste gas (G) comprising a cleaning liquid supply pipe (3) connected to a cleaning liquid injection nozzle (1b)
The gas-liquid contact member unit M1 is arranged in a zigzag manner between the vertical partition walls 5 of the '?' Shape in which the mesh sheets 2 of a certain thickness and doubled into the frame F are arranged at regular intervals And the gas-liquid contact member unit M2 is installed in a plurality of layers while a plurality of bar-shaped circular bars 9 are arranged in parallel at regular intervals in the frame F, Liquid contact means unit M3 has a structure in which a plurality of plate bodies 7 and 8 are bent into a frame F and are arranged at regular intervals Parallel and vertically arranged,
Figure 112015090034905-pat00011
', And the mesh sheet 7a is arranged in a staggered manner while being in contact with the lower surface of the upper bent plate-like member 7,
In addition, the dispersion body S1 has a structure in which a rectangular through hole Ha made of barrier ribs is formed continuously in the frame F and four adjoining rectangular through holes Ha flow from the center, and the dispersion body S2 Characterized in that the frame (F) has a structure in which rectangular through holes (Hb) made of barrier ribs are arranged in a row in a row in the frame (F). The waste gas treatment scrubber according to claim 1, 청구항 2에 있어서, 폐가스(G)가 과불화탄소(PFC) 배기가스를 50 ~ 500ppm 고농도로 함유하고, 기액접촉수단 조합체(MS)가 상기 분산체(S1), 상기 기액접촉수단 단위체(M1), 상기 분산체(S2), 상기 기액접촉수단 단위체(M1), 상기 분산체(S2) 및 상기 기액접촉수단 단위체(M3)가 위로부터 순차 적층되는 것을 특징으로 하는 폐가스 성상에 따라 처리에 적합하도록 복수기능의 기액접촉수단으로 조합된 폐가스 처리 스크러버.The gas-liquid contact member assembly according to claim 2, wherein the waste gas (G) contains a perfluorocarbon (PFC) exhaust gas at a high concentration of 50 to 500 ppm, Wherein the dispersion medium (S2), the gas-liquid contact unit unit (M1), the dispersion (S2) and the gas-liquid contact unit unit (M3) are sequentially laminated from the top. Gas contact means of the gas scrubber. 청구항 2에 있어서, 폐가스(G)가 과불화탄소(PFC) 배기가스를 50ppm 미만의 저농도로 함유하고, 기액접촉수단 조합체(MS)가 상기 분산체(S1), 상기 기액접촉수단 단위체(M1), 상기 기액접촉수단 단위체(M2), 상기 기액접촉수단 단위체(M1), 상기 분산체(S2) 및 기액접촉수단 단위체(M3)가 위로부터 순차 적층되는 것을 특징으로 하는 폐가스 성상에 따라 처리에 적합하도록 복수기능의 기액접촉수단으로 조합된 폐가스 처리 스크러버.The gas-liquid contact member assembly (MS) according to claim 2, wherein the waste gas (G) contains perfluorocarbon (PFC) exhaust gas at a low concentration of less than 50 ppm, Wherein the gas-liquid contact unit unit M2, the gas-liquid contact unit unit M1, the dispersion S2, and the gas-liquid contact unit unit M3 are sequentially stacked from the top. Liquid scrubbing means is combined with gas-liquid contact means of plural functions.
KR1020150091154A 2015-06-26 2015-06-26 Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function KR101564578B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150091154A KR101564578B1 (en) 2015-06-26 2015-06-26 Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function
PCT/KR2016/006662 WO2016208978A1 (en) 2015-06-26 2016-06-23 Waste gas-treating scrubber formed of combination of gas-liquid contact means having multiple functions so as to be appropriate for treating according to waste gas properties

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150091154A KR101564578B1 (en) 2015-06-26 2015-06-26 Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101564578B1 true KR101564578B1 (en) 2015-11-06

Family

ID=54601218

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150091154A KR101564578B1 (en) 2015-06-26 2015-06-26 Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR101564578B1 (en)
WO (1) WO2016208978A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101783373B1 (en) 2016-07-28 2017-10-23 (주)효진아이디에스 Scrubber for removing waste gas discharged from a semiconductor process

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006272034A (en) * 2005-03-28 2006-10-12 Kurita Water Ind Ltd Contamination gas treatment device and method using photocatalyst
KR101320638B1 (en) 2013-06-04 2013-10-23 엔텍이앤씨 주식회사 Porous filter and using the gas-liquid contact device
KR101478973B1 (en) * 2014-09-05 2015-01-05 (주)효진엔지니어링 Scrubber for removing acidic gases using multi gas-liquid contact device
KR101513682B1 (en) 2014-12-19 2015-04-21 (주)한국테크 Cleansing-type Multistage Deodorising Apparatus

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100816822B1 (en) * 2006-01-13 2008-03-31 신도건공 주식회사 Multi Scrubber for treat complex pollutant stimultaneously

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006272034A (en) * 2005-03-28 2006-10-12 Kurita Water Ind Ltd Contamination gas treatment device and method using photocatalyst
KR101320638B1 (en) 2013-06-04 2013-10-23 엔텍이앤씨 주식회사 Porous filter and using the gas-liquid contact device
KR101478973B1 (en) * 2014-09-05 2015-01-05 (주)효진엔지니어링 Scrubber for removing acidic gases using multi gas-liquid contact device
KR101513682B1 (en) 2014-12-19 2015-04-21 (주)한국테크 Cleansing-type Multistage Deodorising Apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101783373B1 (en) 2016-07-28 2017-10-23 (주)효진아이디에스 Scrubber for removing waste gas discharged from a semiconductor process

Also Published As

Publication number Publication date
WO2016208978A1 (en) 2016-12-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101564580B1 (en) Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function
KR101478973B1 (en) Scrubber for removing acidic gases using multi gas-liquid contact device
KR101783373B1 (en) Scrubber for removing waste gas discharged from a semiconductor process
KR101827121B1 (en) High efficiency multistage vortex type wet scrubber
KR101722232B1 (en) Exhaust gas purification device of a ship engine
JP5794775B2 (en) Gas-liquid contact plate, gas-liquid contact laminate block body, gas-liquid contact laminate structure, and gas purification device
KR101769538B1 (en) Demister filter module
KR101564581B1 (en) Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function
KR101844749B1 (en) Horizontal Type Scrubber to remove waste gases by combination of gas-liquid contact device with multi function
KR101947733B1 (en) Horizontal Type Scrubber to remove waste gases by combination of gas-liquid contact device with multi function
KR101898890B1 (en) Filter Assembly for Horizontal Wet Scrubber and Method of Structuring Thereof
KR101564579B1 (en) Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function
US20150145152A1 (en) Scrubber with multi-filtering system
CN107413179A (en) A kind of cleaning system for VOCs treatment
CN104128059A (en) Impinging stream gas purification system
KR101564578B1 (en) Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function
KR101546227B1 (en) Scrubber
KR101726299B1 (en) Filter Assembly for Horizontal Wet Scrubber and Method of Structuring Thereof
KR101783376B1 (en) Assemble type gas-liquid contact devic unit for Scrubber
KR102260160B1 (en) Movable scrubber device
KR20180055343A (en) Gas Scrubber
KR101652312B1 (en) Horizontal Type Scrubber for waste gases removing by combination of gas-liquid contact device with multi function
KR101105267B1 (en) Cleaning and air conditioning system of circulating air
CN109569198B (en) Gas-liquid contact body
KR102192344B1 (en) Gas-liquid contact device for Waste gas removal scrub and Waste gas removal scrub using the same

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181106

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191217

Year of fee payment: 5