KR101560271B1 - 광학필름용 고분자 및 이를 포함하는 광학필름 - Google Patents

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Abstract

하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위 또는 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 광학 필름용 고분자를 제공한다:
(화학식 1) (화학식 2)
Figure 112012063854700-pat00012
Figure 112012063854700-pat00013

Description

광학필름용 고분자 및 이를 포함하는 광학필름{POLYMER FOR OPTICAL FILM, AND OPTICAL FILM INCLUDING SAME}
광학필름용 고분자, 및 이를 포함하는 광학필름에 관한 것이다.
현재 주로 사용되고 있는 평판 표시 장치는 스스로 발광하는 발광 표시 장치와 별도의 광원을 필요로 하는 수광형 표시 장치로 나눌 수 있으며, 이들의 화질을 개선하기 위한 방법으로 위상차 필름 등의 광학적 보상 필름이 자주 사용된다.
발광형 표시 장치, 예를 들어 유기 발광 표시 장치(organic light emitting display)의 경우, 전극 등의 금속에 의한 외부광의 반사로 인하여 시인성과 대비비가 떨어질 수 있다. 이를 줄이기 위하여 편광판과 위상차 필름을 사용하여 유기 발광 표시 장치에 의하여 반사된 외부광이 바깥으로 새어 나오지 않도록 하고 있다.
수광형 표시 장치인 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD)는 액정의 복굴절성과 직교 편광판 때문에 타원 편광이 발생하고, 이에 따라 빛이 새어 나가 대비비가 저하하고 색상이 변화할 수 있다. 광학 보상 필름은 타원 편광을 원 편광으로 바꾸어 줌으로써 화질을 개선하고 있다.
통상 역파장 분산 보상 필름을 제조하기 위하여 음의 복굴절 수지 및 양의 복굴절 수지를 공압출, 합지, 또는 공중합하는 등의 방법을 사용하고 있으며, 양의 복굴절을 나타내기 위해 고분자 주쇄의 배향 방향에 평행한 방향으로 굴절률이 가장 크게 나타나야 함이 알려져 있다. 이를 위해, 연신 배향 가능한 측쇄를 고분자 주쇄에 치환하기도 하지만 그 효과는 매우 미미한 수준이며, 효과적으로 주쇄 방향의 굴절률을 크게 하기 위해 고분자 주쇄를 환화(cyclization) 시키는 방법이 알려져 있다. 분자 주쇄를 환화시켜 양의 복굴절을 구현하는 상용 고분자로서　환형 올레핀계 고분자(COP: cyclic olefin polymer), 폴리카보네이트 (PC: polycarbonate) 고분자 등이 알려져 있으나, 이들은 제조 단가가 매우 비싸고 중합의 기술적 난이도가 높은 문제가 있다. 따라서, 역파장 분산 보상 필름 등, 광학 필름용으로 사용하기 위한 고분자에 대한 요구가 높다.
양의 복굴절성을 가지는 광학 필름용 고분자를 제공하는 것이다.
양의 복굴절성 및 음의 복굴절성을 갖는 단위체가 조합된 역파장 분산성을 갖는 광학 필름용 고분자를 제공하는 것이다.
상기 고분자를 포함하는 광학 필름을 제공하는 것이다.
상기 광학 필름을 포함하는 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
일 구현예는, 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위 또는 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 광학 필름용 고분자를 제공한다:
(화학식 1) (화학식 2)
Figure 112012063854700-pat00001
Figure 112012063854700-pat00002
상기 화학식 1 또는 화학식 2에서,
R1 및 R2는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 지방족 유기기이거나, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로 고리기이고; 상기 지방족 유기기, 상기 지환족 유기기, 또는 상기 헤테로 고리기는 각각 단독으로 존재하거나 또는 2개 이상이 서로 접합되어 축합 고리를 형성하거나, 또는 2개 이상이 단일결합, -O-, -S-, -C(=O)-, -CH(OH)-, -S(=O)2-, -Si(CH3)2-, -(CH2)p- (여기서, 1≤p≤10), -(CF2)q- (여기서, 1≤q≤10), -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -C(=O)NH-의 작용기에 의해 연결되어 있고,
상기 x 및 y 는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 0 보다 큰 정수이다.　
상기 광학필름용 고분자는 약 10,000 g/mol 내지 1,000,000 g/mol의 수평균　분자량(Mn)을 가질 수 있으며, 약 1.0 내지 약 5.0의 다분산 지수를 가질 수 있다.
상기 광학필름용 고분자는 약 1.40 내지 약 1.70의 굴절률을 가질 수 있다.
상기 광학필름용 고분자는 약 80℃ 내지 약 200℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다.
상기 광학필름용 고분자는 하기 화학식 3의 단량체를 중합하여 제조할 수 있다:
(화학식 3)
Figure 112012063854700-pat00003
상기 화학식 3에서, R1 및 R2는 상기 화학식 1 또는 화학식 2에 대해 정의한 바와 같다.
다른 구현예는 상기 광학필름용 고분자를 포함하는 광학필름을 제공한다.
상기 광학필름은 약 380 nm 내지 약 750 nm의 파장 범위에서 총 광선 투과율이 약 80% 이상일 수 있다.
상기 광학필름은 약 5% 이하의 헤이즈를 가질 수 있다.
상기 광학필름은 연신 온도 Tg-20℃ ≤ T℃ ≤ Tg+20℃ 의 범위에서, 연신 배율 0≤[(연신후 필름길이-연신전 필름길이)/연신전 필름길이]x100≤200인 범위에서 연신될 수 있다.
상기 광학필름은 약 550nm의 파장에서 약 0 nm 내지 약 200 nm의 면내 위상차 값(Ro)을 가질 수 있고, 약 550nm의 파장에서 약 0 nm 내지 약 500 nm의 두께 방향 위상차 값(Rth)을 가질 수 있다.
상기 화학식 1의 반복 단위를 가지는 고분자로 이루어지는 광학필름은 Re(450nm/550nm)의 파장 분산(wavelength dispersion)이 1 이상이고, Re(650nm/550nm)의 파장 분산은 1 이하이다.
상기 화학식 2의 반복 단위를 포함하는 고분자로 구성되는 광학필름은 Re(450nm/550nm)의 파장 분산이 1 이하일 수 있고, Re(650nm/550nm)의 파장 분산은 1 이상일 수 있다.
또 다른 구현예는 상기 광학필름을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
일 구현예에 따른 광학필름용 고분자는 음의 복굴절성, 내열성 및 내습성이 우수하여, 이를 포함하는 광학필름의 음의 복굴절성, 내열성 및 내습성을 개선할 수 있다.
도 1은 일 구현예에 따른 액정 표시 장치를 도시한 단면도이다.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 　다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(-F, -Cl, -Br 또는 -I), 하이드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R100) 또는 N(R101)(R102)이고, 여기서 R100, R101 및 R102는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 에스테르기, 케톤기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기, 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미하며, 상기 치환기들은 서로 연결되어 고리를 형성할 수도 있다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C30 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C30 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C30 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "에스테르기"란 C2 내지 C30 에스테르기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 에스테르기를 의미하고, "케톤기"란 C2 내지 C30 케톤기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 케톤기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C30 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C30 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C30 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C30 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "지방족 유기기"란 C1 내지 C30 알킬기, C2 내지 C30 알케닐기, C2 내지 C30 알키닐기, C1 내지 C30 알킬렌기, C2 내지 C30 알케닐렌기, 또는 C2 내지 C30 알키닐렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기, C2 내지 C15 알케닐기, C2 내지 C15 알키닐기, C1 내지 C15 알킬렌기, C2 내지 C15 알케닐렌기, 또는 C2 내지 C15 알키닐렌기를 의미하고, "지환족 유기기"란 C3 내지 C30 사이클로알킬기, C3 내지 C30 사이클로알케닐기, C3 내지 C30 사이클로알키닐기, C3 내지 C30 사이클로알킬렌기, C3 내지 C30 사이클로알케닐렌기, 또는 C3 내지 C30 사이클로알키닐렌기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C15 사이클로알킬기, C3 내지 C15 사이클로알케닐기, C3 내지 C15 사이클로알키닐기, C3 내지 C15 사이클로알킬렌기, C3 내지 C15 사이클로알케닐렌기, 또는 C3 내지 C15 사이클로알키닐렌기를 의미하고, "방향족 유기기"란 C6 내지 C30 아릴기 또는 C6 내지 C30 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴기 또는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미하고, "헤테로 고리기"란 O, S, N, P, Si 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자를 하나의 고리 내에 1개 내지 3개 함유하는 C2 내지 C30의 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알킬렌기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알케닐렌기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알키닐기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알키닐렌기, C2 내지 C30 헤테로아릴기, 또는 C2 내지 C30 헤테로아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 O, S, N, P, Si 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자를 하나의 고리 내에 1개 내지 3개 함유하는 C2 내지 C15의 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알킬렌기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알케닐렌기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알키닐기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알키닐렌기, C2 내지 C15 헤테로아릴기, 또는 C2 내지 C15 헤테로아릴렌기를 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 이때, "공중합"이란 랜덤 공중합, 블록 공중합 또는 그래프트 공중합을 의미한다.
또한 본 명세서에서 "＊"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.
일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위 또는 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위를 포함하는 광학필름용 고분자를 제공한다:
(화학식 1) (화학식 2)
Figure 112012063854700-pat00004
Figure 112012063854700-pat00005

상기 화학식 1 또는 화학식 2에서,
R1 내지 R2는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 지방족 유기기이거나, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로 고리기이고; 상기 지방족 유기기, 상기 지환족 유기기, 또는 상기 헤테로 고리기는 각각 단독으로 존재하거나 또는 2개 이상이 서로 접합되어 축합 고리를 형성하거나, 또는 2개 이상이 단일결합, -O-, -S-, -C(=O)-, -CH(OH)-, -S(=O)2-, -Si(CH3)2-, -(CH2)p- (여기서, 1≤p≤10), -(CF2)q- (여기서, 1≤q≤10), -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -C(=O)NH-의 작용기에 의해 연결되어 있고,
상기 x 및 y 는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 0 보다 큰 정수이다.　
상기에서 정의한 바와 같이, 상기 화학식 1 또는 화학식 2의 R1 및 R2에 대해 정의한 "지방족 유기기"란 C1 내지 C30 알킬기, C2 내지 C30 알케닐기, C2 내지 C30 알키닐기, C1 내지 C30 알킬렌기, C2 내지 C30 알케닐렌기, 또는 C2 내지 C30 알키닐렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기, C2 내지 C15 알케닐기, C2 내지 C15 알키닐기, C1 내지 C15 알킬렌기, C2 내지 C15 알케닐렌기, 또는 C2 내지 C15 알키닐렌기를 의미하고, "지환족 유기기"란 C3 내지 C30 사이클로알킬기, C3 내지 C30 사이클로알케닐기, C3 내지 C30 사이클로알키닐기, C3 내지 C30 사이클로알킬렌기, C3 내지 C30 사이클로알케닐렌기, 또는 C3 내지 C30 사이클로알키닐렌기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C15 사이클로알킬기, C3 내지 C15 사이클로알케닐기, C3 내지 C15 사이클로알키닐기, C3 내지 C15 사이클로알킬렌기, C3 내지 C15 사이클로알케닐렌기, 또는 C3 내지 C15 사이클로알키닐렌기를 의미하고, "헤테로 고리기"란 O, S, N, P, Si 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자를 하나의 고리 내에 1개 내지 3개 함유하는 C2 내지 C30의 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알킬렌기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알케닐렌기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알키닐기, C2 내지 C30의 헤테로사이클로알키닐렌기, C2 내지 C30 헤테로아릴기, 또는 C2 내지 C30 헤테로아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 O, S, N, P, Si 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 헤테로 원자를 하나의 고리 내에 1개 내지 3개 함유하는 C2 내지 C15의 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알킬렌기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알케닐렌기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알키닐기, C2 내지 C15의 헤테로사이클로알키닐렌기, C2 내지 C15 헤테로아릴기, 또는 C2 내지 C15 헤테로아릴렌기를 의미한다.
구체적으로, 상기 화학식 1 및 화학식 2의 R1과 R2는 모두 지방족 유기기, 구체적으로 C1 내지 C30 알킬기, C2 내지 C30 알케닐기, 또는 C2 내지 C30 알키닐기이고, 더 구체적으로는 C1 내지 C6 알킬기, C2 내지 C6 알케닐기, 또는 C2 내지 C6 알키닐기이며, 더욱 구체적으로 R1과 R2는 모두 메틸기일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 화학식 1로 표시되는 반복 단위로 이루어지는 고분자는, 연신 배향시 고분자의 주쇄 방향으로 굴절률이 가장 크게 나타나는 양의 복굴절 특성을 나타나게 된다. 이러한 고분자로 이루어지는 광학 필름은 정파장 분산을 나타내지만, 거의 1.0에 가까운 낮은 파장분산 수치를 나타내며, 이는 당해 분야에서 상용화된 양의 복굴절 수지인 환형 올레핀계 고분자(COP)과 동등한 수준의 정파장 분산을 나타내게 된다. 따라서, 상기 고분자는, 당해 기술 분야에서 공지되고 상용화된 임의의 음의 복굴절 특성을 나타내는 고분자, 또는 하기에 설명하는 바와 같은, 상기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자와 함께 역파장 분산성을 나타내는 광학 보상 필름의 제조에 사용될 수 있다.
상기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자는, 반복 단위 내 환화된(cyclized) 부분은 양의 복굴절 특성을 나타내고, 환화되지 않은 부분은 음의 복굴절 특성을 나타내며, 따라서, 양과 음의 복굴절 특성이 조합됨으로써 상기 고분자 자체로서 역파장 분산 특성을 나타낼 수 있다. 따라서, 상기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자는 단독으로 광학 보상 필름을 제조하는데 사용될 수도 있고, 또는 당해 기술 분야에서 공지된 임의의 다른 양 또는 음의 복굴절 특성을 나타내는 고분자와 함께 광학 보상 필름을 제조하는데 사용될 수도 있다.
상기 화학식 2의 반복 단위에서, 환화된 부분과 환화되지 않은 부분의 몰비, 즉, x와 y의 비율을 조절함으로써, 적절한 양 또는 음의 복굴절 특성의 조합에 의해, 원하는 역파장 분산 특성을 구현하는 고분자를 제조할 수 있다.
일 예로서, 상기 화학식 2의 x와 y의 비율은 0.1:99.9 내지 99.9:0.1 일 수 있고, 구체적으로는 10:90 내지 90:10, 더 구체적으로는 20:80 내지 80:20 일 수 있다. 그러나, 상기 몰비는 이에 한정되지 않고, 상기 화학식 2의 반복 단위를 구성하는 치환기 R1 및 R2의 종류에 따라, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 기술자들이 적절한 양의 복굴절 특성 및 음의 복굴절 특성의 조합 및 그로 인한 역파장 분산 특성을 구현하는 고분자의 제조에 적절한 범위로 조절할 수 있음은 명백하다.
상기 광학필름용 고분자는 약 10,000 g/mol 내지 1,000,000 g/mol의 수평균　분자량(Mn)을 가질 수 있으며, 수평균 분자량(Mn)이 상기 범위 내인 경우, 상기 광학필름용 고분자는 적당한 용융 점도를 가져 필름을 형성하는데 용이하게 사용될 수 있다. 구체적으로는 상기 광학필름용 고분자는 약 10,000 g/mol 내지 약 500,000 g/mol의 수평균 분자량(Mn), 더 구체적으로는 약 10,000 g/mol 내지 약 200,000 g/mol의 수평균 분자량(Mn)을 가질 수 있다.
상기 광학필름용 고분자는 약 1.0 내지 약 5.0의 다분산 지수(poly dispersity index, PDI)를 가질 수 있다. 다분산 지수가 상기 범위 내인 경우, 광학필름용 고분자를 사용하여 필름을 제조할 때 필름의 우수한 품질 재현성 및 균일한 품질을 확보할 수 있다. 구체적으로는, 상기 광학필름용 고분자는 약 1.5 내지 약 4.0의 다분산 지수를 가질 수 있다. 더 구체적으로는, 약 1.8 내지 약 3.0의 다분산 지수를 가질 수 있다.
상기 광학필름용 고분자는 약 1.40 내지 약 1.70의 굴절률을 가질 수 있다. 굴절률이 상기 범위 내인 경우, 광학필름용 고분자를 사용하여 제조한 광학필름은 광학필름으로서 적절한 위상차 값을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 광학필름용 고분자는 약 1.40 내지 약 1.60의 굴절률을 가질 수 있다.
상기 광학필름용 고분자는 약 80℃ 내지 약 200℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다. 유리전이온도가 상기 범위 내인 경우, 광학필름용 고분자를 사용하여 제조한 광학필름은 우수한 내열성을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 광학필름용 고분자는 약 90℃ 내지 약 180℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있고, 더 구체적으로는, 약 100℃ 내지 약 160℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다.
이로써, 상기 광학필름용 고분자는 광 시야각을 보상하기 위한 다양한 광학필름의 재료로 사용될 수 있다.
이하 상기 광학필름용 고분자를 제조하는 방법에 대하여 설명한다.
상기 광학필름용 고분자는 하기 화학식 3의 단량체를 중합하여 제조할 수 있다:
(화학식 3)
Figure 112012063854700-pat00006
상기 화학식 3에서, R1 및 R2는 상기 화학식 1 또는 화학식 2에 대해 정의한 바와 같다.
상기 화학식 3의 단량체는, 당해 기술 분야에서 잘 알려져 있는 중합 방법으로 중합하여, 상기 화학식 1 또는 화학식 2의 반복 단위를 가지는 고분자로 제조될 수 있으며, 그 제조 방법에 특별한 한정이 있는 것은 아니다. 예를 들어, 자유 라디칼 중합법을 이용하여 괴상중합, 용액중합, 현탁중합, 유화중합 등의 방법으로 중합할 수 있다.
일 예로서, 상기 화학식 3으로 표시되는 단량체를 적절한 유기 용매에 용해시켜 중합할 수 있다. 예를 들어, 상기 화학식 1의 반복단위로 이루어진 고분자를 제조하고자 하는 경우, 상기 화학식 3의 단량체를 디메틸포름아미드, 디에틸포름아미드 등의 포름아미드계 용매; 디메틸아세트아미드, 디에틸아세트아미드 등의 아세트아미드계 용매; 사이클로헥사논(cyclohexanone); 또는 아크릴로니트릴(acrylonitrile)과 같은 용매에서 중합 반응시켜 제조할 수 있고, 이들 용매를 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 사용 가능한 용매는 상기 용매에 제한되지 않는다.
화학식 2의 반복단위를 포함하는 고분자의 경우, 상기 화학식 3의 단량체를 디메틸설폭사이드(DMSO) 또는 디에틸설폭사이드(DESO)와 같은 설폭사이드계 용매에서 중합시킴으로써, 화학식 3의 단량체가 일부는 환화되고 일부는 환화되지 않은 상태로 중합되도록 하여 제조할 수 있다. 상기 용매는 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있으며, 사용 가능한 용매는 이들 용매에 제한되지 않는다.
상기한 중합 방법은 당해 기술 분야에서 공지된 것으로서, 상기에서 언급한 용매 외에도, 화학식 3의 단량체로부터 상기 화학식 1 또는 화학식 2의 고분자를 중합하기에 적절하다면, 그러한 용매 또한 충분히 사용 가능하다. 이들 용매는 단독으로 또는 2 이상의 용매를 조합하여 사용할 수도 있다.
용매를 사용하는 경우, 용매는 상기 화학식 3의 단량체 전체 100 중량부에 대하여 약 50 중량부 내지 약 1,000 중량부로 사용할 수 있으나, 원하는 분자량 및 분산도를 위해 적절히 선택할 수 있으며, 상기 범위에 한정되는 것은 아니다.
상기 중합 반응은 통상의 아조계 또는 퍼옥사이드계 중합 개시제에 의해 용이하게 중합이 개시될 수 있고, 따라서, 금속 촉매를 사용하지 않고도 광학필름용 고분자를 용이하게 제조할 수 있어 우수한 공정성 및 경제성을 확보할 수 있다.
퍼옥사이드계 개시제 대신 금속 촉매를 개시제로 사용할 수도 있으나, 금속 촉매를 개시제로 사용하는 경우, 제조 공정의 제어가 어렵고, 금속의 정제 과정이 복잡하여, 공정성 및 경제성이 열악하다. 또한, 금속 촉매가 완전히 정제되지 않아 잔존하는 경우, 빛을 산란시킬 수 있고, 색상을 나타낼 수도 있다.
상기 퍼옥사이드계 개시제로는 벤조일 퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸 헥사노에이트, 디큐밀 퍼옥사이드, t-부틸 퍼옥사이드, 1,1-디(t-부틸퍼옥시)사이클로헥산, 디벤조일 퍼옥사이드, 2-부타논 퍼옥사이드, t-부틸 퍼벤조에이트, 2,5-비스(t-부틸퍼옥시)-2,5-디메틸헥산, 비스(t-부틸퍼옥시이소프로필)벤젠, t-부틸 하이드로퍼옥사이드 및 이들의 조합에서 선택되는 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 퍼옥사이드계 개시제는 상기 단량체 전체 100 중량부에 대하여 약 0.001 중량부 내지 약 10 중량부로 사용할 수 있다.
상기 중합 단계는 약 60℃ 내지 약 200℃의 온도에서 수행할 수 있고, 구체적으로는 약 70℃ 내지 약 150℃, 더욱 구체적으로는 약 80℃ 내지 약 120℃의 온도에서 수행할 수 있다. 또한, 상기 중합 반응은 약 1 시간 내지 약 48 시간 동안 이루어질 수 있고, 구체적으로는 약 10 시간 내지 약 24 시간 동안 이루어질 수 있다.
상기 중합 반응은 불활성 기체, 예를 들어 질소, 헬륨, 아르곤 등의 기체 존재 하에서 수행할 수 있다.
중합이 상기 공정 조건 범위 내에서 수행되는 경우, 원하는 수준의 수평균 분자량 및 분산도를 갖는 고분자를 안정적인 중합 수율, 예를 들어 약 60% 이상의 중합 수율로서 제조할 수 있다.
다른 구현예는 상기 광학필름용 고분자를 포함하는 광학필름을 제공한다.
상기 화학식 1의 반복 단위로 이루어지는 고분자는 연신 배향시 고분자의 주쇄 방향으로 굴절률이 가장 크게 나타나는 양의 복굴절 특성을 나타내며, 따라서, 당해 기술 분야에서 공지된 임의의 음의 복굴절 특성을 나타내는 고분자와 함께, 또는 상기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자와 함께 사용되어 역파장 분산성을 나타내는 광학 보상 필름으로 제조될 수 있다.
상기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자는, 반복 단위 내 환화된(cyclized) 부분은 양의 복굴절 특성을 나타내고, 환화되지 않은 부분은 음의 복굴절 특성을 나타내며, 따라서, 양과 음의 복굴절 특성이 조합됨으로써, 상기 고분자 자체로서 역파장 분산 특성을 나타낼 수 있다. 따라서, 상기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자는 단독으로 광학 보상 필름을 제조하는데 사용될 수도 있고, 또는 당해 기술 분야에서 공지된 임의의 다른 양 또는 음의 복굴절 특성을 나타내는 고분자와 함께 광학 보상 필름을 제조하는데 사용될 수도 있다.
상기 화학식 2의 반복 단위에서, 환화된 부분과 환화되지 않은 부분의 몰비, 즉, x와 y의 비율을 조절함으로써, 적절한 양 또는 음의 복굴절 특성의 조합에 의해, 원하는 역파장 분산 특성을 구현하는 광학 필름을 제조할 수 있다.
예를 들어, 상기 기술한 바와 같이, 화학식 2의 x와 y는 0.1:99.9 내지 99.9:0.1의 비율, 구체적으로는 10:90 내지 90:10의 비율, 더 구체적으로는 20:80 내지 80:20의 비율로서 조합되어, 화학식 2의 반복 단위를 포함하는 고분자는 적절한 역파장 분산성을 구현하는 광학 필름으로 제조될 수 있다.
상기 화학식 1 또는 화학식 2의 반복 단위를 포함하는 고분자는, 당해 기술 분야에서 공지되고 상용화된 양의 복굴절 수지인 환형 올레핀계 고분자(COP) 또는 폴리카보네이트(PC) 고분자에 비해 그 중합 방법이 간단하고 제조 비용이 낮으며, 따라서, 가격 경쟁력을 가진다. 또한, 상기 화학식 2의 반복 단위를 포함하는 고분자의 경우, 중합시 상기 화학식 3의 단량체의 환화(cyclization) 비율을 조절함으로써, 적절한 양과 음의 복굴절 단위의 조합을 포함함으로써, 추가의 양의 복굴절 또는 음의 복굴절 특성을 나타내는 고분자 없이 단독으로 역파장 분산 특성을 가지는 광학 필름을 제공할 수 있다.
상기 광학필름은 약 380 nm 내지 약 750 nm의 파장 범위에서 총 광선 투과율이 약 80% 이상일 수 있다. 광선 투과율이 상기 범위 내인 경우, 상기 광학필름은 휘도 특성 및 색 재현성을 저해하지 않을 수 있다. 구체적으로는 상기 광학필름은 약 380 nm 내지 약 780 nm의 파장 범위에서 총 광선 투과율이 약 90% 이상일 수 있다.
상기 광학필름은 약 5% 이하의 헤이즈를 가질 수 있다. 광학필름의 헤이즈의 범위가 상기 범위 내인 경우, 상기 광학필름은 충분히 투명하여 우수한 선명도를 가질 수 있다. 구체적으로는 상기 광학필름은 약 3% 이하, 더욱 구체적으로는 약 1.5% 이하, 보다 구체적으로는 약 1% 이하의 헤이즈를 가질 수 있다.
상기 광학필름은 약 550nm의 파장에서 약 0 nm 내지 약 200 nm의 면내 위상차 값(Re)을 가질 수 있고, 약 550nm의 파장에서 약 0 nm 내지 약 500 nm의 두께방향 위상차 값(Rth)을 가질 수 있다. 광학필름의 면내 위상차 값(Re) 및 두께 방향 위상차 값(Rth)이 상기 범위 내인 경우, 다양한 용도의 광학필름으로 효과적으로 사용될 수 있다.
상기 화학식 1의 반복 단위를 가지는 고분자로 이루어지는 광학필름은 Re(450nm/550nm)의 파장 분산(wavelength dispersion)이 1 이상이고, Re(650nm/550nm)의 파장 분산은 1 이하이다.
상기 화학식 2의 반복 단위를 포함하는 고분자로 구성되는 광학필름은 Roe(450nm/550nm)의 파장 분산이 1 이하일 수 있고, Re(650nm/550nm)의 파장 분산은 1 이상일 수 있다.
상기 Re(450nm/550nm)는 약 450nm의 파장에서의 면내 위상차 값을 약 550nm의 파장에서의 면내 위상차 값으로 나눈 값을 의미하고, 상기 Re(650nm/550nm)는 약 650nm의 파장에서의 면내 위상차 값을 약 550nm의 파장에서의 면내 위상차 값으로 나눈 값을 의미한다.
상기 화학식 1의 반복 단위를 가지는 고분자로 이루어진 광학필름의 파장 분산이 상기 범위인 경우, 이는 양의 복굴절 특성을 나타내므로, 음의 복굴절을 나타내는 고분자와 조합되어 역파장 분산 특성을 나타내는 광학 필름을 제조할 수 있다. 상기 화학식 2의 반복 단위를 포함하는 고분자로 이루어진 광학필름의 파장 분산이 상기 범위 내인 경우, 상기 광학필름은 양의 복굴절과 음의 복굴절의 조합에 의해 효과적인 역파장 분산 특성을 나타냄을 알 수 있다.
상기 광학필름은 약 5 이하의 황색도(yellow index, YI)를 가질 수 있다. 상기 광학필름의 황색도가 상기 범위 내인 경우, 투명하게 무색으로 나타날 수 있다. 구체적으로는 상기 광학필름은 약 0.1 내지 약 3의 황색도(YI)를 가질 수 있다.
상기 광학필름은 약 0.01 ㎛ 내지 약 1,000 ㎛의 두께를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 용도에 따라 두께를 적절하게 조절할 수 있다.
상기 광학필름은 약 80℃ 내지 약 200℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다. 광학필름의 유리전이온도가 상기 범위 내인 경우, 우수한 내열성을 가질 수 있고, 연신 공정 등에서의 공정 조건 범위도 보다 넒게 가져갈 수 있다. 구체적으로, 상기 광학필름은 약 90℃ 내지 약 180℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있고, 더 구체적으로는, 약 100℃ 내지 약 160℃의 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다.
상기 광학필름은, 광학필름용 고분자를 용융(melt)하거나 유기 용매에 용해시켜 벨트나 드럼상에서 시트로 제조한 후, 연신함으로써 제조할 수 있다. 이때, 연신은 1축 또는 2축으로 축차 연신하거나 동시 연신할 수 있다. 연신에 의해 연신 축 방향으로 고분자 주쇄가 배향을 하게 되며, 따라서, 상기 화학식 1로 표시한 반복 단위로 이루어지는 고분자는 상기 고분자 내 반복 단위의 고리 구조가 배향축과 평행하게 늘어서게 되므로 효과적인 양의 복굴절성을 나타낼 수 있고, 상기 화학식 2로 표시한 반복 단위에서는, 화학식 2의 반복단위 내 x로 표시한 반복 단위는 배향축과 평행한 방향으로 늘어서고, y로 표시한 반복 단위는 배향축과 직교하여 늘어서게 되므로, 양과 음의 복굴절성이 조합된 광학 필름의 특성을 나타낼 수 있다.
구체적으로, 상기 시트를 제조하는 단계는 약 200℃ 내지 약 300℃의 온도에서 고압 프레스기로 가압하여 형성하거나, 또는 티다이(T-die)를 통해 칠롤(chill roll)에 토출하여 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 광학필름은 연신 온도 Tg-20℃ ≤ T℃ ≤ Tg+20℃ 의 범위에서, 연신 배율 0≤[(연신후 필름길이-연신전 필름길이)/연신전 필름길이]x100≤200인 범위에서 연신될 수 있다.
구체적으로, 상기 시트를 연신하는 단계는 약 80℃ 내지 약 150℃의 온도에서 수행할 수 있다.
또한, 상기 시트를 연신하는 단계는 약 10% 내지 약 300%의 연신율로 연신할 수 있고, 구체적으로는 약 20% 내지 약 200%, 더욱 구체적으로는 약 20% 내지 약 100%의 연신율로 연신할 수 있다. 여기서, 연신율은 하기 수학식 1에 따라 계산할 수 있다.
[수학식 1]
연신율(%) = (L-Lo/Lo)ⅹ100
상기 수학식 1에서,
Lo는 시트의 연신 전의 길이이고,
L은 시트의 연신 후의 길이이다.
상기 광학필름이 상기 화학식 1의 반복 단위로 이루어지는 고분자로만 제조되는 경우 양의 복굴절 특성을 나타냄으로써, 당업계에서 공지된 음의 복굴절 고분자를 포함하는 필름을 상기 광학필름 위에 적층함으로써, 역파장 분산 특성을 가져 광 시야각을 보상할 수 있는 보상 필름을 형성할 수 있다.
그러나, 상기 광학필름이 상기 화학식 2의 반복 단위를 포함하는 고분자로 제조되는 경우, 이는 양과 음의 복굴절 특성의 조합에 의해 역파장 분산 특성을 나타내는 필름을 형성할 수 있고, 이 경우, 단독으로 보상 필름을 형성할 수도 있다. 또는, 상기 화학식 2의 반복 단위를 포함하는 고분자로 제조되더라도, 상기 필름의 양과 음의 복굴절 특성에 따라, 추가의 양의 복굴절 고분자 또는 음의 복굴절 고분자 필름과 함께 보상 필름을 형성할 수도 있다.
보상 필름이 역파장 분산 특성을 가지는 경우, 색 변이(color shift)를 방지 내지 완화할 수 있고, 콘트라스트 비(contrast ratio)를 증가시킬 수 있다.
또 다른 일 구현예에 따르면 상기 광학필름을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. 구체적으로는 상기 디스플레이 장치는 액정 표시 장치(liquid cryatal display device, LCD), 유기발광다이오드(organic light emitting diode, OLED) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
이하 일 예로서 상기 광학필름을 포함한 액정 표시 장치(LCD)에 대하여 도 1을 참고하여 설명한다.
도 1은 일 구현예에 따른 액정 표시 장치를 도시한 단면도이다.
도 1을 참고하면, 액정 표시 장치는 액정 표시 패널(10) 및 상기 액정 표시 패널(10)의 하부 및 상부에 위치하는 광학필름(20)을 포함한다.
액정 표시 패널(10)은 트위스트 네마틱(twist nematic, TN) 모드, 수직 배향(patterned vertical alignment, PVA) 모드일 수 있다.
액정 표시 패널(10)은 제1 표시판(100), 제2 표시판(200) 및 제1 표시판(100)과 제2 표시판(200) 사이에 개재되어 있는 액정층(300)을 포함한다.
제1 표시판(100)은, 예컨대, 기판(도시하지 않음) 위에 형성되어 있는 박막 트랜지스터(도시하지 않음) 및 이에 연결되어 있는 제1 전기장 생성 전극(도시하지 않음)을 포함할 수 있고, 제2 표시판(200)은, 예컨대, 기판(도시하지 않음) 위에 형성되어 있는 색 필터(도시하지 않음) 및 제2 전기장 생성 전극(도시하지 않음)을 포함할 수 있다.
액정층(300)은 복수의 액정 분자를 포함할 수 있다. 액정 분자는 양 또는 음의 유전율 이방성을 가질 수 있다. 액정 분자가 양의 유전율 이방성을 가지는 경우, 전기장이 없는 상태에서 그 장축이 제1 표시판(100)과 제2 표시판(200)의 표면에 대하여 거의 평행을 이루도록 배향되고, 전기장이 인가된 상태에서 그 장축이 제1 표시판(100)과 제2 표시판(200)의 표면에 대하여 거의 수직을 이루도록 배향될 수 있다. 이와 반대로, 액정 분자가 음의 유전율 이방성을 가지는 경우, 전기장이 없는 상태에서 그 장축이 제1 표시판(100)과 제2 표시판(200)의 표면에 대하여 거의 수직하게 배향되고, 전기장이 인가된 상태에서 그 장축이 제1 표시판(100)과 제2 표시판(200)의 표면에 대하여 거의 평행하게 배향될 수 있다.
광학필름(20)은 액정 표시 패널(10)의 외측에 위치하며, 도면에는 액정 표시 패널(10)의 하부 및 상부에 각각 형성된 것으로 도시하였지만, 이에 한정되지 않고 액정 표시 패널(10)의 하부 및 상부 중 어느 하나에만 형성될 수도 있다.
광학필름(20)은, 상술한 바와 같이, 상기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 반복단위를 포함하는 고분자를 연신하여 제조될 수 있으며, 보상 필름으로 사용될 수 있다.
실시예
이하에서는 실시예　및 비교예를 통하여 상기 구현예들을 보다 상세하게 설명하고자 하나, 이러한 실시예　및 비교예는 설명의 목적을 위한 것으로, 이들 실시예 또는 비교예에 의해 발명의 범위가 제한되는 것은 아니다.
실시예 1: 광학필름용 고분자의 제조
메타크릴산 무수물 약 10 g(약 65 mmol)을 DMF (디메틸포름아미드) 약 10 g(약 137 mmol)에 녹인 후, 광개시제로서 Perhexa C (79% 순도, NOF社, 일본) 약 120 mg (약 0.46 mmol)을 넣고, 질소(N2) 분위기, 약 110℃에서 환류시키면서, 약 24 시간 동안 교반하여 반응시켜, 하기 반응식에 따라 광학필름용 고분자를 제조한다.
Figure 112012063854700-pat00007
상기 사이클릭 폴리 메타크릴산 무수물의 수율은 약 91%이다.
상기 제조된 광학필름용 고분자의 중량평균 분자량(Mw)은 약 193,000 g/mol이고, 수평균 분자량(Mn)은 약 96,000 g/mol이고, 다분산 지수(PDI)는 약 2.00이다. 또한, 상기 제조한 광학필름용 고분자의 유리전이온도(Tg)는 약 150 ℃ 이고, 굴절율(n)은 1.51이다.
실시예 2: 광학필름용 고분자의 제조
하기 표 1에 나타낸 바와 같은 비율로, 메타크릴산 무수물을, 용매로서 DMSO(디메틸 설폭사이드)를 사용하고, 광개시제로서 Perhexa C(79% 순도, NOF社, 일본)를 사용하여, 실시예 1에서와 같이, 질소(N2) 분위기, 약 110℃에서 환류시키면서, 약 16 시간 동안 교반하여 반응시켜, 하기 반응식에 따라 광학필름용 고분자를 제조한다. 각 반응물로부터 제조된 광학필름용 고분자의 수율 및 고분자 내 반복단위 x와 y의 비율도 표 1에 기재하였다.
Figure 112012063854700-pat00008
메타크릴산 무수물 Perhexa C DMSO 광학필름용 고분자의 수율 고분자 내 x:y
반응물 1 5 g 0.06 g 5 g 67% 73:27
반응물 2 50 g 0.3 g 150 g 65% 78:22
반응물 3 5 g 0.03 g 50 g 60% 80:20
상기 제조된 광학필름용 고분자의 유리전이온도(Tg)는 약 115℃이고, 굴절율은 약 1.52 이다.
시험예 1: 광학필름의 제조 및 필름의 광학 특성 분석
실시예 1과 실시예 2에서 제조한 광학필름용 고분자를, 각각 50 중량%의 DMF 및 45 중량%의 DMF에 용해시켜 용매 캐스팅(solvent casting), 즉, 기판 위에 고분자 용액을 붓고 용매를 휘발시켜 시트로 제조한 후, 연신하여 광학필름을 제조한다. 이때, 실시예 1에 따라 제조된 고분자를 사용한 광학필름 3 종류(필름 A, 필름 B, 및 필름 C), 및 실시예 2에 따라 제조된 광학필름 한 종류(필름 D)에 대해 연신 및 분석을 행하였다.
각 광학필름의 연신 조건, 및 연신, 제조된 광학필름의 광학 특성을 하기 표 2에 나타내었다.
파장 분산 배향각 두께 연신 조건
450nm/550nm 650nm/550nm
필름 A 1.02 0.99 2.44° 145㎛ 80℃, 30%
필름 B 1.02 0.99 1.06° 75㎛ 80℃, 50%
필름 C 1.00 1.00 4.4° 89㎛ 90℃, 50%
필름 D 0.87 1.07 -1.0° 85㎛ 125℃, 50%
상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예 1에 따라 제조된 고분자를 사용하여 제조된 광학필름용 필름 A 내지 필름 C의 경우, 모두 양의 복굴절 특성을 가짐을 알 수 있었고, 이들 필름은 연신 온도에 따른 파장 분산의 변화가 있음을 확인할 수 있었다.
실시예 2에 따라 제조된 고분자를 사용하여 제조된 광학필름용 필름 D 역시, 배향각이 -1.0°로 나와 양의 복굴절 특성을 나타내나, 상기 파장 분산 결과로부터 이는 역파장 분산을 나타냄을 확인할 수 있다.
필름 D가 양의 복굴절 특성을 나타내는 것은, 상기 표 1에서 나타낸 바와 같이, 실시예 2에 따라 제조된 고분자 내 x:y의 몰비가 약 70:30 내지 약 80:20의 범위에 있음으로써, 고분자 내에서 배향축에 평행인 환화된 반복단위가 배향축에 수직인 환화되지 않은 반복단위에 비해 높은 비율로 존재함에 따른 결과인 것으로 생각된다. 따라서, 실시예 2에서와 같은 광학필름용 고분자를 제조하는 경우, 고분자 내 x와 y의 비율을 조절함으로써, 원하는 양의 복굴절 또는 음의 복굴절, 또는 정파장 분산 또는 역파장 분산 특성을 갖는 광학 필름을 제조할 수 있다.
이상 살펴본 바와 같이, 상기 화학식 1 또는 화학식 2의 반복단위를 포함하는 고분자를 이용하여 광학 필름을 제조하는 경우, 공지의 상용화된 고분자에 비해 간단한 방법으로 중합 가능하며, 또한 제조 비용이 낮아 가격 경쟁력이 있는 양의 복굴절 특성을 갖는 광학필름, 또는 양과 음의 복굴절 특성이 조합된 광학필름을 용이하게 제조할 수 있다. 나아가, 화학식 2의 반복단위를 포함하는 고분자를 사용하는 경우, 추가의 고분자 없이 단독으로도 원하는 역파장 분산 특성을 갖는 광학 필름을 제조할 수 있음을 알 수 있다.
이상을 통해 본 발명의 구체적인 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
10: 액정 표시 패널, 20: 광학필름,
100: 제1 표시판, 200: 제2 표시판,
300: 액정층

Claims (20)

  1. 하기 화학식 2로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자를 포함하는 광학 필름:
    (화학식 2)
    Figure 112015041019410-pat00010


    상기 화학식 2에서,
    R1 및 R2는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 지방족 유기기이거나, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로 고리기이고;
    상기 지방족 유기기, 상기 지환족 유기기, 또는 상기 헤테로 고리기는 각각 단독으로 존재하거나 또는 2개 이상이 서로 접합되어 축합 고리를 형성하거나, 또는 2개 이상이 단일결합, -O-, -S-, -C(=O)-, -CH(OH)-, -S(=O)2-, -Si(CH3)2-, -(CH2)p- (여기서, 1≤p≤10), -(CF2)q- (여기서, 1≤q≤10), -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -C(=O)NH-의 작용기에 의해 연결되어 있고,
    상기 x 및 y 는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 0 보다 큰 정수이다.　
  2. 제1항에서,
    R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로, C1 내지 C6 알킬기, C2 내지 C6 알케닐기, 또는 C2 내지 C6 알키닐기인 광학 필름.
  3. 제1항에서,
    상기 화학식 2의 x:y의 비율이 0.1:99.9 내지 99.9:0.01의 범위 내인 광학 필름.
  4. 제1항에서,
    상기 고분자는 10,000 g/mol 내지 500,000 g/mol의 수평균　분자량(Mn)을 갖는 광학 필름.
  5. 제1항에서,
    상기 고분자는 1.40 내지 1.70의 굴절률을 갖는 것인 광학 필름.
  6. 제1항에서,
    상기 고분자는 80℃ 내지 200℃의 유리전이온도(Tg)를 갖는 것인 광학 필름.
  7. 제1항에서,
    상기 고분자는 1.0 내지 5.0의 다분산 지수(PDI)를 갖는 것인 광학 필름.
  8. 제1항에서,
    상기 광학필름은 380 nm 내지 750 nm의 파장 범위에서 총 광선 투과율이 80% 이상인 광학 필름.
  9. 제1항에서,
    상기 광학필름은 5% 이하의 헤이즈를 가지는 광학 필름.
  10. 제1항에서,
    상기 광학필름은 연신 온도 Tg-20℃ ≤ T℃ ≤ Tg+20℃ 의 범위에서, 연신 배율 0≤[(연신후 필름길이-연신전 필름길이)/연신전 필름길이]x100≤200의 범위에서 연신된 것인 광학 필름.
  11. 제1항에서,
    상기 광학필름은 550nm의 파장에서 0 nm 내지 200 nm의 면내 위상차 값(Re)을 가지고, 550nm의 파장에서 0 nm 내지 500 nm의 두께 방향 위상차 값(Rth)을 가지는 광학 필름.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 제1항에서,
    Re(450nm/550nm)의 파장 분산이 1 이하이고, Re(650nm/550nm)의 파장 분산이 1 이상인 광학 필름.
  16. 제1항에서,
    양의 복굴절 특성을 나타내는 고분자 또는 음의 복굴절 특성을 나타내는 고분자를 더 포함하는 광학 필름.
  17. 제1항 내지 제11항, 제15항, 및 제16항 중 어느 한 항에 따른 광학 필름의 제조 방법으로서, 하기 화학식 3의 화합물을 용매 내에서 중합하는 단계를 포함하는 광학 필름의 제조 방법:
    (화학식 3)
    Figure 112015041019410-pat00011

    상기 화학식 3에서,
    R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 지방족 유기기이거나, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C30 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C30 헤테로 고리기이고;
    상기 지방족 유기기, 상기 지환족 유기기, 또는 상기 헤테로 고리기는 각각 단독으로 존재하거나 또는 2개 이상이 서로 접합되어 축합 고리를 형성하거나, 또는 2개 이상이 단일결합, -O-, -S-, -C(=O)-, -CH(OH)-, -S(=O)2-, -Si(CH3)2-, -(CH2)p- (여기서, 1≤p≤10), -(CF2)q- (여기서, 1≤q≤10), -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -C(=O)NH-의 작용기에 의해 연결되어 있다.
  18. 삭제
  19. 제17항에서, 상기 용매가 디메틸설폭사이드(DMSO), 디에틸설폭사이드(DESO), 또는 이들의 혼합 용매로부터 선택되는 방법.
  20. 제1항 내지 제11항, 제15항, 및 제16항 중 어느 한 항에 따른 광학 필름을 포함하는 디스플레이 장치.
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