KR101542738B1 - Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate - Google Patents

Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate Download PDF

Info

Publication number
KR101542738B1
KR101542738B1 KR1020150024042A KR20150024042A KR101542738B1 KR 101542738 B1 KR101542738 B1 KR 101542738B1 KR 1020150024042 A KR1020150024042 A KR 1020150024042A KR 20150024042 A KR20150024042 A KR 20150024042A KR 101542738 B1 KR101542738 B1 KR 101542738B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
boiling point
high boiling
distillation
residue
distillation apparatus
Prior art date
Application number
KR1020150024042A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이호경
이인규
박명준
구기갑
김재경
Original Assignee
주식회사 코렉스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 코렉스 filed Critical 주식회사 코렉스
Priority to KR1020150024042A priority Critical patent/KR101542738B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101542738B1 publication Critical patent/KR101542738B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42—Stripping or agents therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02002—Preparing wafers
    • H01L21/02005—Preparing bulk and homogeneous wafers
    • H01L21/02032—Preparing bulk and homogeneous wafers by reclaiming or re-processing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02079—Cleaning for reclaiming

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

The present invention relates to a high boiling point waste photoresist stripper solution recycling device having an improved recycle yield rate. A main objective of the present invention is to provide a high boiling point waste photoresist stripper solution recycling device which can effectively resolve a problem of a bad odor caused by an alkaline by-product in a high boiling point residue during a second recycling process where the high boiling point residue discharged during a first recycling process is recycled for a second time to additionally collect a high boiling point stripper solvent during a waste stripper solution recycling process, and improve a recycle yield rate of the waste stripper solution recycling process compared to a conventional device. To achieve the objective, the high boiling point waste photoresist stripper solution recycling device having an improved recycle yield rate comprises: a neutralization reaction tank in which a high boiling point residue containing a high boiling point impurity removed and discharged by a second distillation device is neutralized, and the high boiling point impurity containing an alkaline by-product in the high boiling point residue is solidified during a neutralization process; a solidified material removal device to remove a solidified material from the high boiling point residue transported from the neutralization reaction tank; a moisture removing distillation device to receive the high boiling point residue from which the solidified material is removed by the solidified material removal device to heat the high boiling point residue to remove moisture; and a fourth distillation device to receive the high boiling point residue from which the moisture is removed by the moisture removing distillation device to additionally collect a high boiling point stripper solvent from the high boiling point residue during a second recycling process.

Description

재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치{Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoresist high boiling point photoresist stripper,

본 발명은 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 박리 폐액 재생 과정 중 1차 재생 공정에서 배출되는 고비점 잔류물을 2차적으로 재생 처리하여 고비점 박리용제를 추가적으로 회수함에 있어서 고비점 잔류물 내 염기성 부생성물로 인한 2차 재생 공정에서의 악취 발생 문제를 효과적으로 해결할 수 있고, 박리 폐액 재생 과정의 재생수율을 종래에 비해 더욱 증진시킬 수 있는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치에 관한 것이다.
More particularly, the present invention relates to a photoresist high boiling point remnant waste liquid regenerating apparatus, and more particularly, to a regenerating apparatus for high boiling point waste discharged from a primary regeneration process during regeneration of the exfoliation waste liquid, Which can effectively solve the problem of odor generation in the secondary regeneration process due to the basic byproducts in the high boiling point residue and can further improve the regeneration yield of the regeneration process of the exfoliated waste liquid compared to the prior art, .

최근 반도체 웨이퍼 및 회로기판 등의 미세 회로패턴 형성에 핵심이 되는 감광제와 이의 희석 및 제거에 사용되는 고가의 박리액에 대한 수요가 급격히 증가함에 따라서 사용되고 난 박리 폐액에 대한 재활용의 필요성이 대두하고 있는 실정에 있다.In recent years, there has been a growing need to recycle used photoresist, which is a key to forming fine circuit patterns on semiconductor wafers and circuit boards, as well as expensive separating liquids used for diluting and removing them, In fact.

예를 들어, 박리 폐액은 반도체 웨이퍼나 액정표시장치, 유리기판 등의 전자부품 제조 공정 중에 회로패턴을 형성하기 위한 포토 공정 중에 주로 발생하며, 박리 폐액 내에는 박리용제 이외에 포토레지스트 수지, 수분, 중금속 등과 같은 불순물이 함유되어 있다. For example, the peeling waste liquid mainly occurs in a photolithography process for forming a circuit pattern in an electronic component manufacturing process such as a semiconductor wafer, a liquid crystal display, or a glass substrate. In the peeling waste solution, a photoresist resin, moisture, And so on.

상기 박리 폐액은 대부분 간단한 전처리 과정을 거친 뒤 소각 또는 매립을 통하여 폐기 처리하고 있지만, 폐액 발생부터 제거까지 환경문제 및 처리비용 소요 문제 등이 있고, 궁극적으로는 IT 산업의 기업 경쟁력 약화를 초래하므로 폐용제의 재생을 통한 자원화 요구가 확대 강화되고 있다.The stripping waste liquid is mostly disposed of through a simple pretreatment process and then disposed of through incineration or landfilling. However, there is a problem of environmental problems and disposal costs from the generation and removal of waste liquid, and ultimately, Demand for resources through the regeneration of solvents is expanding.

IT 기술이 접목된 전자부품 및 기기들의 급속한 발달에 따라 제조 공정 중에 소요되는 시너와 박리액의 종류나 역할이 다양해지고 있고, 그럼에도 불구하고 현재 TET-LCD(초박막 액정표시장치) 등과 같은 전자부품 제조 공정에서 사용된 주요 박리액 용제들 중 회수 및 정제되어 재사용되는 양은 극히 일부분이다.Due to the rapid development of electronic parts and devices that incorporate IT technology, the types and roles of thinner and peeling liquid required during the manufacturing process have been diversified. Nevertheless, electronic components such as TET-LCD (ultra thin film liquid crystal display) Of the major exfoliant solvents used in the process, only a small fraction is recovered and refined and reused.

더욱이, TET-LCD 분야에서 기판이 대형화되고 패널 가격이 하락함에 따라 공정비용의 절감에 대한 요구가 증대되고 있고, 또한 최근 유가 상승의 영향으로 시너 및 박리액의 원재료 가격이 상승함에 따라 원가 경쟁력 확보의 필요성이 증가하고 있다.In addition, demand for reduction in process costs is growing as substrates are becoming larger in TET-LCD and panel prices are falling. In addition, raw material prices for thinner and peeling liquid have risen due to rising oil prices. Is increasing.

이에 따라, 폐박리액(즉, 박리 폐액)을 정제 과정을 거처 원재료로 다시 재활용함으로써 원자재 사용량의 절감, 그리고 점차 심각해지는 환경문제와 처리비용의 문제를 개선할 수 있는 기술이 요구되고 있는 실정이다.Accordingly, there is a need for a technique capable of reducing the amount of raw materials to be consumed by recycling the pulp removal liquid (i.e., the pulp waste liquid) to the raw material through the refining process, and to solve the problems of environmental problems and processing costs .

따라서, 종래 기술로서, 스트리퍼 폐액(즉, 박리 폐액)의 재생(Recycling) 기술, 스트리퍼 폐액으로부터 수분 등의 저비점 물질과 포토레지스트 수지 등의 고비점 물질 제거를 통한 스트리퍼 용제의 재생 기술, 그리고 재생 공정에서의 손실량을 최소로 하는 고회수율 재생 방법 등이 제안되어 있다.Therefore, as a conventional technique, a recycling technology of a stripper waste liquid (i.e., a stripper waste liquid), a recycling technology of a stripper solvent through removal of a high boiling point material such as moisture from a waste liquid of a stripper and a high- And a high recovery rate regeneration method that minimizes the amount of loss in the exhaust gas.

그러나, 최근에 LCD 및 반도체 소재산업의 급속한 발달에 수반하여 새로운 메모리 반도체 개발에 따른 새로운 구조의 감광성 수지가 사용되고 있고, 제조 공정 중 감광성 수지를 박리하는 공정에서도 감광성 수지를 쉽게 용해하여 박리시킬 수 있는 고기능성의 스트리퍼 유기용제가 필요하여 박리 용해도가 뛰어난 고비점의 박리용제들의 사용량이 증대되고 있지만, 상기한 종래 기술에서 채용한 재생법으로는 고비점의 박리용제를 재생하는데 한계가 있다.However, in recent years, with the rapid development of the LCD and semiconductor materials industry, a new structure of photosensitive resin has been used due to the development of a new memory semiconductor, and in the process of peeling the photosensitive resin during the manufacturing process, A high-performance stripper organic solvent is required, and the amount of high-boiling-point peeling solvent excellent in peelability and solubility is increased. However, the regeneration method adopted in the above-mentioned conventional technique has a limitation in regeneration of the peeling solvent having a high boiling point.

특히, 고비점 박리 유기용제들은 고점도, 열분해 및 색도 변화 등 고비점 특성으로 인해 헤비(Heavy)한 포토레지스트 수지 및 금속 성분들로부터 분리 정제가 잘 안되고, 공정 트러블(Trouble) 방지 차원에서 과량으로 잔류시킴으로써 대부분 고비점 불순물들과 함께 잔류 후 폐기 처리되는 한계를 보이고 있다.Particularly, high-boiling organic solvents are difficult to separate and refine from heavy photoresist resins and metal components due to high boiling point characteristics such as high viscosity, thermal decomposition and chromaticity change, And it has been shown that there is a limitation in that most of the high boiling point impurities are discarded after being left over.

또한, 고가의 고비점 박리 유기용제들의 자원 재활용화 회수 기술 개발에 대한 요구가 관련 업계에서 비등하고 있는 상황이나, 현재까지 국내외적으로 관련 대체 재생 기술이 전무한 실정에 있다.In addition, the demand for recycling and recovery technology of high-cost organic solvents for high-boiling point separation is booming in the related industry.

따라서, 포토레지스트 박리 폐액 중의 일반 박리 유기용제뿐만 아니라 고가의 고비점 박리 유기용제들까지도, 폐기 처리되고 있는 포토레지스트 잔여물(Residue)로부터 재생 정제하여 회수할 수 있는 고도의 재생 공정 기술의 확보가 시급하다. Therefore, even a general peeling organic solvent in a photoresist peeling waste liquid as well as an expensive high-boiling organic solvent can be recovered from a photoresist residue (waste residue) to be recovered and recovered. Urgent.

또한, 고도의 재생 공정 기술을 통해 해외에서 전량 수입되고 있는 고가의 유가 자원인 고비점 박리용제가 고회수율로 대량 회수되어 재활용된다면, 효율적 에너지 관리 측면에서뿐만 아니라, IT 관련 기업의 경쟁력 강화에 있어서도 그 효과가 배가될 것이고, 보다 실질적인 환경개선의 효과도 기대할 수 있을 것이다.In addition, if the high-boiling separation solvent, which is an expensive oil resource that is imported all over the world through advanced regeneration process technology, is recycled in large quantities at a high recovery rate, not only in terms of efficient energy management, but also in enhancing competitiveness of IT- The effect will be doubled, and a more substantial environmental improvement effect can be expected.

이에, 본원 출원인은 포토레지스트 고비점 박리 폐액에서 저비점 불순물을 제거하는 1차 증류장치와, 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물의 제거와 동시에 박리용제 조성물을 재생하는 2차 증류장치와, 재생된 박리용제 조성물로부터 미세 수분을 제거하는 3차 증류장치를 통하여 박리용제 조성물을 회수할 수 있고, 부가적으로 상기 고비점 잔류물로부터 박리용제를 추가로 회수하는 4차 증류장치 등을 통하여 고비점 불순물과 함께 증류 잔류물로 폐기되던 고비점 박리용제를 추가로 재생할 수 있도록 함으로써, 고가의 고비점 박리용제의 재생수율을 크게 향상시킬 수 있도록 한 「포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치」를 이미 특허 출원하여 등록받은 바 있다[선행특허 1: 한국 등록특허 제10-1330654호(2013.11.12)].Accordingly, the applicant of the present application has proposed a process for producing a photoresist high boiling point separation waste liquid which comprises a primary distillation apparatus for removing low boiling point impurities from a photoresist high boiling point waste liquid, a secondary distillation apparatus for regenerating the exfoliation solvent composition simultaneously with removal of high boiling point residues containing high boiling point impurities, A tertiary distillation device for removing fine moisture from the peeling solvent composition can be used to recover the peeling solvent composition and a high boiling point impurity can be recovered through a quaternary distillation device for additionally recovering the peeling solvent from the high boiling point residue, Which has been discarded as a distillation residue, can be further regenerated, thereby greatly improving the regeneration yield of an expensive high-boiling-point exfoliating solvent. [Prior Art 1: Korean Patent No. 10-1330654 (Nov. 13, 2013)].

또한, 본원 출원인은 포토레지스트 고비점 박리 폐액에서 저비점 불순물을 제거하는 제1제거 단계(즉, 1차 증류 과정)와, 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물의 제거와 동시에 박리용제 조성물을 재생하는 제2제거 단계(즉, 2차 증류 과정)와, 재생된 박리용제 조성물로부터 미세 수분을 제거하는 제3제거 단계(즉, 3차 증류 과정)를 통하여 박리용제 조성물을 회수할 수 있고, 부가적으로 상기 고비점 잔류물로부터 박리용제를 추가로 회수하는 단계(즉, 4차 증류 과정) 등을 통하여 고비점 불순물과 함께 증류 잔류물로 폐기되던 고비점 박리용제를 추가로 재생할 수 있도록 함으로써, 고가의 고비점 박리용제의 재생수율을 크게 향상시킬 수 있도록 한 「포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 방법」을 이미 특허 출원하여 등록받은 바 있다[선행특허 2: 한국 등록특허 제10-1330653호(2013.11.12)].In addition, the applicant of the present application has found that a first removing step (i.e., a first distillation step) for removing low boiling point impurities from a photoresist high boiling point stripping liquid and a high-boiling point method for regenerating the peeling solvent composition simultaneously with the removal of high boiling point residues containing high boiling point impurities The release agent composition can be recovered through a second removal step (i.e., a second distillation step) and a third removal step (i.e., a third distillation step) for removing fine moisture from the regenerated release agent composition, Point removal solvent that has been discarded as a distillation residue together with the high boiling point impurities can be further regenerated through the step of further recovering the peeling solvent from the high boiling point residue (i.e., the fourth distillation process) Has already been patented and registered as "photoresist high boiling point waste solution regeneration method" in which the regeneration yield of the high boiling point separation solvent of the present invention can be greatly improved [Prior Patent 2: Korean Patent No. 10-1330653 (Nov.

도 2는 선행특허 1 및 선행특허 2의 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 과정을 수행하는 장치의 구성도이다.2 is a configuration diagram of an apparatus for performing the photoresist high-boiling separation liquid waste regeneration process of the prior arts 1 and 2.

이러한 기술을 통하여 효율적 에너지 관리 측면에서뿐만 아니라 IT 관련 기업의 경쟁력 강화에 있어서도 그 효과가 배가될 수 있고, 보다 실질적인 환경 개선의 효과도 기대할 수 있다.Through these technologies, the effect can be doubled not only in terms of efficient energy management but also in enhancing the competitiveness of IT-related companies.

하지만, 해외에서 전량 수입되고 있는 고가의 유가자원인 HEP(1-피페라진에탄올) 등의 고비점 박리용제를 고회수율로 대량 회수하여 대폭적인 비용 절감을 달성할 수 있는 수준, 즉 고품질의 재생 용제로 저렴하게 생산할 수 있는 수준이라 할 수 있는 50% 이상의 회수율에는 미치지 못하고 있는 상황이다.However, the high recovery rate of high-boiling separation solvents such as HEP (1-piperazine ethanol), which is a high-priced oil resource imported all over the world, can be recovered at a high recovery rate, Which is a level that can be produced inexpensively.

이에 따라, 본원 출원인은 포토레지스트 고비점 박리 폐액으로부터 고비점 박리용제인 HEP를 고순도 전자급으로 재생하는 과정에서 HEP의 재생수율을 50% 이상의 고회수율로 대량 회수하여 대폭적인 비용 절감을 통해 고품질의 재생 용제로 저렴하게 생산할 수 있는 장치 및 방법을 특허 출원하여 등록받은 바 있다[선행특허 3: 한국 등록특허 제10-1354523호(2014.1.14)/선행특허 4: 한국 등록특허 제10-1423967호(2014.7.22)].Accordingly, the applicant of the present invention has found that, in the process of regenerating HEP as a high boiling point separation solvent from photoresist high boiling point separation waste liquid, high recovery rate of HEP is recovered at a high recovery rate of 50% or more, Patent Document 1: Korean Patent No. 10-1354523 (Apr. 14, 2014) / Prior Patent 4: Korean Patent No. 10-1423967 (2014.7.22)].

또한, 선행특허 1, 2의 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치 및 방법에서는 고순도 재생 혼합 박리액을 얻을 수 있도록 한 1차 재생 공정 후, 1차 재생 공정의 제2제거 단계에 의하여 제거된 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물로부터 고비점 박리용제를 추가로 회수하는 2차 재생 공정의 4차 증류 과정에서 HEP(1-피페라진에탄올) 등 고비점 박리용제의 최종 회수율이 떨어지는 단점이 있다.In the photoresist high boiling point stripping liquid waste regenerating apparatus and method of the prior patents 1 and 2, after the primary regeneration process for obtaining the high-purity regenerative mixed stripping liquid, the high boiling point removed by the second removing step of the primary regeneration process There is a disadvantage in that the final recovery rate of the high boiling point separation solvent such as HEP (1-piperazine ethanol) in the quaternary distillation process of the secondary regeneration process for further recovering the high boiling point separation solvent from the high boiling point residue containing the impurities is low.

이러한 문제점을 해결하기 위하여, 본원 출원인은 포토레지스트 고비점 박리 폐액의 재생수율을 증진시킬 수 있는 장치 및 방법을 특허 출원하여 등록받은 바 있다[선행특허 5: 한국 등록특허 제10-1446542호(2014.9.25)/선행특허 6: 한국 등록특허 제10-1446541호(2014.9.25)].In order to solve these problems, the applicant of the present application filed a patent application for a device and a method for improving the regeneration yield of photoresist high boiling point separation waste solution [Prior Patent 5: Korean Patent No. 10-1446542 25) / Prior Patent 6: Korean Patent No. 10-1446541 (Aug. 25, 2014)].

선행특허 5와 6에 따르면, 기존의 2차 재생 공정의 4차 증류 과정 중, 고비점 잔류물에 함유된 고비점 박리용제(HEP 등)를 증류탑 상부로 증류, 추출하고 응축기를 통해 응축 및 분리 회수하는 단계에서, HEP 등이 함유된 응축회수액의 HEP 조성비율 수준을 모니터링하여 HEP 함유량이 "2차 점도상승 HEP 조성비"에 근접하게 되면, 추가 공급탱크로부터 NMP(N-메틸 피롤리돈) 또는 MDG(디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르)를 정량적으로 4차 증류장치의 재비기 내로 추가 공급하여 HEP의 함량을 응축회수액의 "1차 점도상승 HEP 조성비" 이하 수준까지 낮추어 줌으로써, 4차 증류장치의 증류탑으로 증류, 추출된 후 응축기에서 응축 및 분리 회수되는 고비점 박리용제의 응축회수액에 함유된 HEP의 조성비율을 최소한 응축회수액의 "2차 점도 상승 HEP 조성비" 이하 수준으로 유지시킬 수 있다.According to the prior art patents 5 and 6, in the fourth distillation process of the existing secondary regeneration process, the high boiling point separation solvent (HEP etc.) contained in the high boiling point distillate is distilled and extracted onto the distillation column and condensed and separated through the condenser In the recovering step, the level of the HEP composition ratio of the condensate recovery solution containing HEP and the like is monitored so that NEP (N-methylpyrrolidone) or NMP (N-methylpyrrolidone) is added from the additional supply tank when the HEP content approaches the " MDG (diethylene glycol monomethyl ether) was further quantitatively fed into the reboiler of the fourth distillation apparatus to lower the content of HEP to the level below the "primary viscosity elevated HEP composition ratio" of the condensate recovered, , And the composition ratio of HEP contained in the condensate recovery liquid of the high boiling point stripping solvent which is condensed and recovered in the condenser after the extraction and distillation is at least the level of the "second viscosity increase HEP composition ratio" Can not.

따라서, 응축기를 통해 응축 및 분리 회수되는 고비점 박리용제의 응축회수액의 점도를 감소시키면서 응축회수액의 성상이 세미 겔(Semi-gel)화 되지 않도록 억제할 수 있고, 결과적으로 HEP 등 고비점 박리용제의 2차적인 재생회수율을 증진시킬 수 있다. Therefore, the viscosity of the condensate recovery liquid of the high boiling point peeling solvent, which is condensed and recovered through the condenser, can be reduced, and the property of the condensate recovery liquid can be prevented from becoming semi-gel. As a result, It is possible to improve the secondary regeneration recovery rate.

한편, 전술한 선행특허 1~6의 기술에서는 다음과 같은 문제점에 대한 추가적인 개선의 필요성이 요구되고 있다. On the other hand, the above-mentioned prior arts 1 to 6 require a further improvement in the following problems.

선행특허에서는 2차 재생 공정(Additional stripper recycling)의 4차 증류 과정에서 포토레지스트 수지의 석출을 최대한 지연하면서 HEP의 재생수율을 최대한 증진시킬 수 있도록 재비기 내의 폐액에 대한 최저 수위 조절이 이루어지는 최적 제어법이 제시되어 있으나, 2차 재생 공정 내내 복합적인 공정 조작을 여러 차례 반복적으로 운용해야 하고, 그로 인해 재생 공정 운전 시간이 고온에서 장시간 유지됨에 따라 몇 가지 불가피한 공정적 문제가 발생할 수 있어 개선의 필요성이 있다 In the prior patent, the optimum control method is adopted in which the minimum water level is regulated for the waste liquid in the reboiler so as to maximize the regeneration yield of HEP while delaying the precipitation of the photoresist resin in the fourth distillation process of the second stripping process (additional stripper recycling) , It is necessary to repeatedly operate a complex process operation repeatedly during the secondary regeneration process, and as a result, the regeneration process operation time is maintained at a high temperature for a long time, so that some inevitable process problems may occur. have

특히, 생산성 저하, 복합적으로 연계된 공정 조작에 따른 공정 트러블의 가능성, 재생 용제의 투명도 저하(APHA 값 나빠짐, 열 변색), HEP 열분해도 증가 등에 대한 개선이 필요하다. Particularly, it is necessary to improve the productivity, the possibility of process trouble due to the combined process operation, the lowering of the transparency of the recycled solvent (the APHA value is lowered, the thermal discoloration), and the increase of the thermal decomposition degree of HEP.

또한, 선행특허에서는 포토레지스트 고비점 박리 폐액으로부터 HEP(1-피페라진에탄올)을 회수함에 있어서, 1차 제거 공정 중에 나타나는 비양자성 용매(NMP(N-메틸 피롤리돈), MMF(N-메틸 포름아미드))의 열분해에 따른 부생성물, 및 1차 재생 공정 중에 나타나는 HEP의 열분해에 따른 부생성물이 1차 재생 공정에서의 고온(120~160℃) 노출에 이어, 4차 증류장치(D-4)로의 이송 과정에 따른 냉각이 이루어진 뒤, 이어지는 2차 재생 공정에서 고온(120~160℃)에 지속적으로 재차 노출되어지면서, 농축된 포토레지스트 수지 및 감광제 등과의 상호 작용으로 휘발성이 강하고 악취가 심한 유증기를 생성하게 되어, 공정 유지 관리 및 지역주민의 불편을 초래하고 있고, 악취 문제로 인해 재생 공정 중 발생하는 폐기물의 처리가 어려워지는 등의 문제점이 나타나고 있다(위탁 폐기물업체의 반입 기피 등).
In the prior art, in the recovery of HEP (1-piperazine ethanol) from the photoresist high boiling point separation waste liquid, an aprotic solvent (NMP (N-methylpyrrolidone), MMF (120-160 ° C) exposure in the primary regeneration process followed by a fourth distillation apparatus (D- 4), it is continuously exposed again to a high temperature (120 to 160 ° C) in the subsequent secondary regeneration process, and is highly volatile due to interaction with a concentrated photoresist resin and a photosensitive agent, There are problems such as generation of severe vapor, inconveniences of process maintenance and local residents, and difficulty in disposing of wastes generated during the regeneration process due to odor problem Avoiding the importation of waste companies).

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출한 것으로서, 1차 재생 공정으로부터 배출되는 고비점 잔류물 내 염기성 부생성물로 인한 2차 재생 공정에서의 악취 발생을 효과적으로 방지할 수 있는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a photoresist composition which can effectively prevent the generation of odors in a secondary regeneration process due to basic by- And to provide a high-boiling point stripping liquid waste regenerating apparatus.

또한, 본 발명은 박리 폐액 재생 과정의 재생수율을 종래에 비해 더욱 증진시킬 수 있는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.
It is still another object of the present invention to provide a photoresist high boiling point waste liquid regeneration apparatus capable of further improving the regeneration yield in the regeneration process of stripping waste liquid.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따르면, 포토레지스트 고비점 박리 폐액에 대한 1차 재생 공정을 수행하는 증류장치로서, 포토레지스트 고비점 박리 폐액으로부터 저비점 불순물을 제거하는 1차 증류장치와, 상기 저비점 불순물이 제거된 포토레지스트 고비점 박리 폐액으로부터 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물을 제거하는 동시에 고비점 박리용제를 회수하는 2차 증류장치와, 상기 회수된 고비점 박리용제로부터 미세 수분을 제거하는 3차 증류장치를 포함하는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치에 있어서, 상기 2차 증류장치에서 제거되어 배출되는 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물의 중화가 이루어지고 중화 과정에서 고비점 잔류물 내 염기성 부생성물을 포함하는 고비점 불순물의 고형화가 이루어지는 중화반응탱크와; 상기 중화반응탱크로부터 이송되는 고비점 잔류물로부터 고형화물을 제거하는 고형화물 제거장치와; 상기 고형화물 제거장치에 의해 고형화물이 제거된 고비점 잔류물을 이송받아 상기 고비점 잔류물을 가열하여 수분을 제거하는 수분 제거용 증류장치와; 상기 수분 제거용 증류장치에서 수분이 제거된 상태의 고비점 잔류물을 공급받아 고비점 잔류물로부터 고비점 박리용제를 추가로 회수하는 2차 재생 공정을 위한 4차 증류장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치를 제공한다.According to the present invention, there is provided a distillation apparatus for performing a primary regeneration process for photoresist high boiling point stripping waste liquid, comprising: a primary distillation apparatus for removing low boiling point impurities from a photoresist high boiling point stripping waste liquid; A second distillation apparatus for removing high boiling point residues containing high boiling point impurities from the photoresist high boiling point stripping waste liquid from which the low boiling point impurities have been removed and recovering the high boiling point stripping solvent; Wherein the high boiling point residue containing the high boiling point impurity removed and discharged from the secondary distillation apparatus is neutralized and the high boiling point residue in the neutralization process is removed, Neutralization reaction in which solidification of high boiling point impurities including basic by-products in the residue is carried out And greater; A solid cargo removing device for removing the solid cargo from the high boiling point residue transferred from the neutralization reaction tank; A distillation device for removing moisture, which receives the high boiling point residue from which the solid cargo is removed by the solid lobe removing device and heats the high boiling point residue to remove moisture; And a fourth distillation apparatus for a secondary regeneration process for further recovering a high boiling point separation solvent from the high boiling point residue by receiving the high boiling point residue in the state where moisture is removed in the above water removal distillation apparatus Thereby improving the regeneration yield of the photoresist.

바람직한 실시예에서, 상기 중화반응탱크는 고비점 잔류물의 교반을 위한 교반기를 가지는 것을 특징으로 한다.In a preferred embodiment, the neutralization reaction tank is characterized by having a stirrer for stirring the high boiling point residue.

또한, 상기 중화반응탱크에서 고비점 잔류물의 pH를 6.5~8.5의 범위로 유지하도록 된 것을 특징으로 한다.The pH of the high boiling point residue in the neutralization reaction tank is maintained in the range of 6.5 to 8.5.

또한, 상기 고형화물 제거장치는 중화반응탱크에서 이송되는 고비점 잔류물을 여과하여 고형화물을 제거하는 고액분리용 필터인 것을 특징으로 한다.The solid lint removing apparatus is characterized by being a solid-liquid separating filter for removing solid matter by filtering a high boiling point residue transferred from a neutralization reaction tank.

또한, 상기 수분 제거용 증류장치가 1차 재생 공정의 1차 증류장치인 것을 특징으로 한다.In addition, the water removal distillation apparatus is a primary distillation apparatus in a primary regeneration step.

또한, 상기 고형화 제거장치와 1차 증류장치 사이의 관로에 설치되어 고형화물이 제거된 고비점 잔류물에 대하여 1차 증류장치로의 공급을 제어하기 위한 제5유량제어밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The apparatus further comprises a fifth flow control valve for controlling the supply of the high boiling point residue, which is provided in the channel between the solidification removing device and the first distillation device, from which solid matter has been removed, to the first distillation device .

또한, 상기 고형화물 제거장치 출구와 1차 증류장치 사이의 관로는 고형화물 제거장치의 출구로부터 연장되어 포토레지스트 고비점 박리 폐액을 1차 증류장치로 공급하기 위한 관로와 합관되고, 관로의 합관 지점에는 원료공급탱크로부터 공급되는 원료 폐액인 포토레지스트 고비점 박리 폐액과 고형화물 제거장치를 통과한 고비점 잔류물이 선택적으로 1차 증류장치에 공급되도록 하기 위한 3-웨이 밸브 형태의 제5유량제어밸브가 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the pipe between the outlet of the solid deodorizer and the primary distillation apparatus is extended from the outlet of the solid-state deodorizer and is integrated with the duct for supplying the photoresist high boiling point stripping waste liquid to the primary distillation apparatus, Way valve in the form of a three-way valve for selectively supplying the photoresist high boiling point separation waste liquid from the raw material supply tank and the high boiling point residue passed through the solid waste removal apparatus to the primary distillation apparatus, And a valve is installed.

또한, 상기 수분 제거용 증류장치에서 4차 증류장치로 연결되는 관로는 1차 증류장치에서 2차 증류장치로 연결된 관로로부터 분기되어 4차 증류장치로 연결되는 관로이고, 상기 관로의 분기 지점에 2차 증류장치로 연결된 관로와 4차 증류장치로 연결된 관로를 선택적으로 개폐하는 3-웨이 밸브의 제6유량제어밸브가 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the pipe connected to the fourth distillation apparatus in the water removal distillation apparatus is a pipe branched from the pipe connected to the second distillation apparatus in the first distillation apparatus and connected to the fourth distillation apparatus. And a sixth flow control valve of a three-way valve for selectively opening and closing the pipeline connected to the distillation unit and the pipeline connected to the fourth distillation unit.

또한, 상기 수분 제거용 증류장치는 고형화물 제거장치를 통해 고형화물이 제거된 고비점 잔류물에 대하여 0.1 중량% 이하의 수분 함량으로 수분을 제거하도록 설정된 것을 특징으로 한다.In addition, the water removal distillation apparatus is configured to remove moisture with a moisture content of 0.1 wt% or less with respect to the high boiling point residue from which the solid matter is removed through the solid waste removal apparatus.

또한, 상기 수분 제거용 증류장치는, 상기 고형화 제거장치로부터 공급되는 고비점 잔류물을 수용하는 증류탑과; 상기 증류탑 내로 이송된 고비점 잔류물을 가열하여 수분을 증발시키기 위해 증류탑의 탑저에 연결된 재비기와; 증류된 수분을 응축시키기 위해 증류탑의 상단에 연결되는 응축기와; 상기 응축기에 연결되어 응축기에서 응축된 수분을 임시저장하는 임시저장탱크와; 상기 증류탑 내의 고비점 잔류물이 가열될 때 증류탑 내 압력을 낮추는 감압운전이 이루어질 수 있도록 임시저장탱크의 상단에 연결된 감압펌프를 포함하고, 상기 감압펌프를 작동시켜 증류탑 내 압력을 낮추는 감압운전을 실시하되, 감압 증류 조작시 증류탑 내 압력이 110 torr 이하로, 재비기 내 온도는 110 ℃ 이하로 설정되는 것을 특징으로 한다.The distillation apparatus for removing moisture includes a distillation column for containing a high boiling point residue supplied from the solidification removing apparatus; A reboiler connected to the bottom of the distillation column for heating the high boiling point residue transferred into the distillation column to evaporate water; A condenser connected to the top of the distillation column for condensing the distilled water; A temporary storage tank connected to the condenser for temporarily storing condensed water in the condenser; And a decompression pump connected to the upper end of the temporary storage tank so as to perform a decompression operation for lowering the pressure in the distillation column when the high boiling point residue in the distillation column is heated and operates the decompression pump to reduce the pressure in the distillation tower Wherein the pressure in the distillation column during the reduced pressure distillation operation is set to 110 torr or less and the temperature in the reboiler is set to 110 DEG C or less.

또한, 상기 2차 증류장치와 중화반응탱크 입구 사이의 관로에 설치되어 2차 증류장치에서 배출되는 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물을 중화반응탱크로 이송하는 이송펌프와; 상기 중화반응탱크의 출구와 고형화물 제거장치 입구 사이의 관로에 설치되어 중화반응탱크 내 고형화물이 포함된 고비점 잔류물에 대하여 고형화물 제거장치로의 공급을 제어하기 위한 제4유량제어밸브 및 이송펌프와; 상기 고형화물 제거장치 출구와 수분 제거용 증류장치 사이의 관로에 설치되어 고형화물 제거장치를 통과한 고비점 잔류물을 수분 제거용 증류장치로 이송하는 이송펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.A transfer pump for transferring a high boiling point residue, which is installed in a pipe between the secondary distillation unit and the neutralization reaction tank inlet, and contains high boiling point impurities discharged from the secondary distillation unit, to a neutralization reaction tank; A fourth flow control valve provided in a pipeline between the outlet of the neutralization reaction tank and the inlet of the solid ladder removal device for controlling supply to the solid ladder removal device for the high boiling point residue containing the solidified product in the neutralization reaction tank, A transfer pump; And a transfer pump installed in a pipeline between the solid-liquid removal device and the water removal distillation device for transferring the high boiling point residue passed through the solid-type lint removal device to the water removal distillation device.

또한, 상기 수분 제거용 증류장치에서 4차 증류장치로 연결되는 관로에 설치되어 수분 제거용 증류장치에서 수분이 제거된 상태의 고비점 잔류물에 대하여 4차 증류장치로의 공급을 제어하기 위한 제6유량제어밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
The present invention also relates to a device for controlling the supply of the high-boiling point residue in a state in which moisture is removed in the water removal distillation apparatus to the fourth distillation apparatus, 6 flow control valve.

이에 따라, 상기한 본 발명의 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치에 의하면 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.Accordingly, the above-described photoresist high-boiling-off waste liquid remover of the present invention can achieve the following effects.

1) 1차 재생 공정의 2차 증류장치에서 고비점 박리용제의 재생시에 박리 폐액으로부터 제거된 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물을 중화 반응시키고, 중화 반응시에 생성된 고형화물을 제거한 후, 고형화물이 제거된 고비점 잔류물에 대하여 1차 증류장치에서 수분을 제거하고, 이어 수분이 제거된 고비점 잔류물로부터 HEP 등의 고비점 박리용제를 추가로 회수하는 2차 재생 공정이 수행될 수 있도록 함으로써, 고비점 잔류물 내 염기성 부생성물로 인한 2차 재생 공정에서의 악취 발생을 효과적으로 방지할 수 있다.1) In the secondary distillation apparatus of the primary regeneration step, a high boiling point residue containing high boiling point impurities removed from the exfoliation liquid at the regeneration of the high boiling point extinguishing agent is subjected to a neutralization reaction, and the solid matter produced during the neutralization reaction is removed , A secondary regeneration process is performed in which the high boiling point residue from which the solid matter has been removed is removed from the primary distillation apparatus and then the high boiling point removal solvent such as HEP is further recovered from the high boiling point residue from which water has been removed , It is possible to effectively prevent the generation of odor in the secondary regeneration process due to the basic by-product in the high boiling point residue.

2) 고비점 잔류물의 중화시에 석출된 염기성 부생성물의 고형화물이 고비점 잔류물 내에 농축되어 있는 포토레지스트 슬러리와 상호작용하여 고분자 응집제의 응집핵 역할을 하고, 이에 포토레지스트 슬러리에 함유된 많은 양의 포토레지스트 수지가 연쇄작용으로 고형화되면서 석출될 수 있는바, 중화 단계 후 고형화 제거장치에서 염기성 부생성물의 고형화물과 함께 포토레지스트 수지 등의 고형화물이 함께 제거될 수 있으므로, 고형화물이 제거된 고비점 잔류물을 대상으로 고비점 박리용제를 추가적으로 재생 정제하는 2차 재생 공정에서 종래에 비해 훨씬 용이하게 고비점 박리용제를 회수할 수 있게 되고, 결국 공정 조건의 개선 및 재생수율의 증진 효과를 얻을 수 있게 된다.2) Solids of basic byproducts precipitated upon neutralization of the high boiling point residues interact with the photoresist slurry concentrated in the high boiling point residue to serve as agglomeration nuclei of the polymer flocculant, and a large amount The positive photoresist resin can be precipitated while being solidified by the action of the chain. Since the solid product such as the photoresist resin can be removed together with the solid product of the basic byproduct in the solidifying device after the neutralization step, It is possible to recover the high-boiling-point separation solvent more easily than in the conventional secondary regeneration process for additionally regenerating and purifying the high boiling point separation solvent to the high-boiling point residue, and as a result, the improvement of the process conditions and the improvement of the regeneration yield .

3) 특히, 2차 재생 공정에서 전체적인 공정 운용 횟수를 대폭 줄일 수 있으며, 이전보다 훨씬 편리한 공정 조작이 가능해지고, 운용 횟수 및 공정시간의 단축이 가능해진다. 이는 회수하고자 하는 HEP 등 고비점 박리용제의 열분해도 저하를 가능하게 하며, 이 역시 고비점 박리용제의 재생수율을 증진시키는데 기여하는바, 전체적인 재생 공정의 재생수율이 크게 증진되는 효과가 있게 된다. 3) In particular, in the secondary regeneration process, the total number of process operations can be greatly reduced, the process operation can be more convenient than before, and the number of operation times and the process time can be shortened. This makes it possible to lower the thermal decomposition degree of the high boiling point peeling solvent such as HEP to be recovered, which also contributes to enhance the regeneration yield of the high boiling point peeling solvent, thereby greatly improving the regeneration yield of the entire regeneration process.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치를 도시한 구성도이다.
도 2는 종래기술에 따른 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치를 도시한 구성도이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing a photoresist high boiling point stripping liquid waste regenerating apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG.
2 is a configuration diagram showing a photoresist high boiling point stripping liquid waste regenerating apparatus according to the prior art.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains.

본 발명에서 사용되는 용어 중, "저비점 불순물"이란, 포토레지스트 고비점 박리 폐액에 포함되는 개별 박리용제보다 낮은 비점을 가지는 불순물로서, 통상적으로는 세정용 폐수인 수분이나 폐용제인 IPA와 같은 소량의 유기용제를 말한다.As used herein, the term "low boiling point impurity" means an impurity having a boiling point lower than that of the individual exfoliating solvent contained in the photoresist high boiling point exfoliating liquid, and usually contains a small amount of water such as IPA Organic solvent "

또한, 본 발명에서 사용되는 용어 중, "고비점 불순물"이란, 포토레지스트 고비점 박리 폐액에 포함되는 개별 박리용제보다 높은 비점을 가지는 불순물로서, 바람직하게는 비점이 235 ℃ 이상인 불순물이고, 대표적으로는 트랜지스터의 게이트 공정의 레지스트 패턴 형성에 사용된 후 박리된 포토레지스트 수지이며, 소량의 비이온 계면활성제 등 기타 불순물이 포함된다.Among the terms used in the present invention, the term "high boiling point impurity" means an impurity having a boiling point higher than that of the individual peeling solvent contained in the photoresist high boiling point separation waste liquid, preferably a boiling point of 235 DEG C or higher, Is a photoresist resin that has been peeled off after being used to form a resist pattern in the gate process of a transistor, and includes a small amount of nonionic surfactant and other impurities.

또한, 본 발명에서 사용되는 용어 중, "고비점 박리용제"란, 포토레지스트 고비점 박리 폐액에 포함되는 일반 박리용제의 비점 상한인 220℃ 내외보다 10℃ 이상 높은 비점을 가지는 개별 박리용제로서, 바람직하게는 비점이 235 ℃ 이상으로 박리공정에 사용되는 포토레지스트 스트리퍼 용제이고, 대표적으로는 유기아민 용제로서 박리용해도가 뛰어난 HEP 용제를 말한다.Among the terms used in the present invention, the term "high boiling point releasing solvent" means an individual peeling solvent having a boiling point higher by 10 DEG C or more than 220 DEG C, which is the boiling point of general peeling solvent contained in the photoresist high boiling point peeling waste liquid, Preferably, the photoresist stripper solvent is a photoresist stripper solvent having a boiling point of 235 DEG C or higher and is typically used as an organic amine solvent and has excellent peelability and solubility.

본 발명은 1차 재생 공정의 2차 증류장치에서 나오는 고비점 잔류물, 즉 염기성 부생성물, 포토레지스트 수지, 감광제 등의 고비점 불순물과 회수하고자 하는 HEP(1-피페라진에탄올) 등의 고비점 박리용제가 혼합된 고비점 잔류물에 대하여 중화 및 고형화물 제거의 공정을 수행하기 위한 장치 요소를 부가하여 구성되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액의 재생 장치에 관한 것으로서, 고비점 잔류물에 대한 중화 및 고형화물 제거 공정을 수행하는 상기의 장치 요소를 선행특허 5(한국 등록특허 제10-1446542호)의 재생수율 증진 장치와 함께 구비하여 재생수율이 극대화되는 본 발명의 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치를 구성할 수 있다.The present invention relates to a high-boiling point residue such as a high boiling point residue from a secondary distillation apparatus in a primary regeneration process, that is, a high boiling point impurity such as a basic by-product, a photoresist resin and a photosensitive agent, and a high boiling point such as HEP (1-piperazine ethanol) And a device for performing a neutralization and a solid removal process on the high boiling point residue mixed with the peeling solvent is added to the regeneration apparatus of the photoresist high boiling point separation waste liquid, The apparatus element for carrying out the solid cargo removing process is provided together with the regeneration yield increasing apparatus of the prior patent 5 (Korean Patent No. 10-1446542) to obtain the photoresist high boiling point waste liquid regeneration apparatus .

전술한 바와 같이, 비양자성 용매(NMP,MMF 등)의 열분해에 따른 부생성물, 및 1차 재생 공정 중 나타나는 고비점 박리용제(HEP 등)의 열분해에 따른 부생성물이 염기성 화합물이므로, 2차 재생 공정에서 고비점 잔류물에 상기한 염기성의 부생성물이 잔존할 경우 2차 재생 공정의 고온(120~160℃)에 염기성 부생성물이 재차 노출되면서 악취 현상이 발생한다.As described above, since by-products due to pyrolysis of aprotic solvents (NMP, MMF, etc.) and by-products resulting from pyrolysis of high boiling point separation solvent (HEP etc.) appearing in the primary regeneration process are basic compounds, If the above-mentioned basic by-product remains in the high-boiling residue in the process, the basic by-product is exposed again to the high temperature (120 to 160 ° C) of the secondary regeneration process, and the odor phenomenon occurs.

이에 따라, 본 발명에서는 고비점 잔류물에 대한 중화 및 고형화물 제거를 위한 고비점 잔류물 처리장치를 구비하고, 상기 고비점 잔류물 처리장치에서는 고비점 불순물을 포함하는 1차 재생 공정의 고비점 잔류물, 보다 상세하게는 1차 재생 공정 중 제2제거 단계를 수행하는 2차 증류장치에서 제거되어 배출되는 고비점 잔류물을 처리함에 있어서 2차 재생 공정에서의 악취 발생을 초래하는 염기성 부생성물을 고형화시킨 후 제거하게 된다.Accordingly, in the present invention, there is provided a high boiling point residue treatment apparatus for neutralization and removal of solid matter from a high boiling point residue, wherein in the high boiled point residue treatment apparatus, a high boiling point residue And more particularly to a method for treating a high boiling point residue removed from a secondary distillation apparatus that performs a second removal step during a primary regeneration process, Is solidified and then removed.

또한, 본 발명에서는 고비점 잔류물 처리장치를 거친 고비점 잔류물을 수분 제거를 위해 1차 재생 공정의 1차 증류장치를 거치도록 한 뒤, 고비점 잔류물 내 HEP 등의 고비점 박리액(즉, 고비점 박리용제)을 추가로 회수하기 위한 2차 재생 공정의 4차 증류 과정을 거치도록 한다.Further, in the present invention, the high boiling point residue passed through the high boiling point residue treatment apparatus is subjected to the primary distillation apparatus of the primary regeneration process for removing moisture, and then the high boiling point removal liquid such as HEP That is, a high-boiling-point separation solvent) is further subjected to a fourth distillation process of a secondary regeneration process.

상기 고비점 잔류물 처리장치에서는 고비점 잔류물을 pH 6.5~8.5의 범위로 조절 및 유지하면서 고비점 잔류물 내에서 염기성 부생성물 등의 고형화(Solidification)가 이루어지도록 하는 중화 단계와, 상기 중화 단계를 거친 고비점 잔류물에서 고형화물을 제거하는 고형화물 제거 단계가 수행된다.In the high-boiling residue treatment apparatus, a neutralization step is carried out in which solidification of a basic by-product or the like is performed in a high boiling point residue while controlling and maintaining a high boiling point residue in a pH range of 6.5 to 8.5, A solid cargo removal step is carried out to remove the solid cargo from the high boiling point residue passing through.

상기 중화 단계와 고형화물 제거 단계를 거친 고비점 잔류물은 1차 재생 공정의 1차 증류장치로 이송되는데, 고비점 잔류물 처리장치로부터 1차 증류장치로 이송되는 고비점 잔류물은 중화 단계 및 고형화물 제거 단계를 통하여 염기성 부생성물 등의 불순물이 상당량 제거되지만 잔여 고비점 불순물을 포함하고 있으면서 HEP 등의 고비점 박리액을 함께 포함하고 있는 고비점 잔류물 폐액이다.The high boiling point residue passed through the neutralization step and the solid deodorization step is transferred to the primary distillation apparatus in the primary regeneration step wherein the high boiling point residue transferred from the high boiling point residue treatment apparatus to the primary distillation apparatus is subjected to a neutralization step and Is a high-boiling residue waste liquid containing impurities such as basic by-products through a solid dehydration step but containing residual high boiling point impurities while containing a high boiling point exfoliation liquid such as HEP.

또한, 1차 재생 공정의 1차 증류장치에서는 고비점 잔류물 처리장치를 거친 고비점 잔류물, 즉 중화 단계 및 고형화물 제거 단계를 거친 고비점 잔류물 폐액에서 수분이 제거되고, 이어 1차 증류장치에서 수분이 제거된 고비점 잔류물 폐액은 2차 재생 공정으로 이송되어 고비점 잔류물로부터 HEP 등의 고비점 박리액을 추가로 회수하기 위한 2차 재생 공정의 4차 증류 과정을 거치게 된다.In the primary distillation apparatus of the primary regeneration process, water is removed from the high boiling point residue passed through the high boiling point residue treatment apparatus, that is, the high boiling point waste liquid through the neutralization step and the solid phase removal step, The high-boiling residue waste liquid from which moisture has been removed from the apparatus is transferred to a secondary regeneration process and subjected to a fourth distillation process of a secondary regeneration process for further recovery of a high boiling point exfoliation liquid such as HEP from a high boiling point residue.

상기 2차 재생 공정(Additional stripper recycling)은 1차 증류장치에 의해 수분이 제거된 고비점 잔류물 폐액을 4차 증류장치로 공급하는 단계와, 고비점 잔류물 폐액으로부터 고비점 불순물(고비점 불순물 폐액)을 추가로 제거하는 동시에 고비점 불순물이 제거됨에 따른 고순도 전자급 수준의 고비점 박리용제를 추출하여 회수하는 단계로 이루어진다.The additional stripper recycling includes a step of supplying a waste solution of a high boiling point residue, from which water has been removed by a primary distillation apparatus, to a fourth distillation apparatus, and a step of removing high boiling point impurities (high boiling point impurities Removing the high boiling point separation solvent having a high purity level as the high boiling point impurities are removed, and recovering the high boiling point separation solvent.

첨부한 도 1은 본 발명의 실시예에 따른 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치를 도시한 구성도로서, 본원 출원인에 의해 특허 등록된 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치(선행특허 5, 6의 발명)를 도시한 도 2에서 일부 구성의 도시를 생략하면서 재생 증진을 위한 고비점 잔류물 처리장치의 구성을 부가하여 도시한 것이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the invention and are incorporated in and constitute a part of this application, illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention. 2, the structure of a high boiling point residue treatment apparatus for enhancing reproduction is additionally illustrated while omitting some of the constitutional views.

먼저, 포토레지스트 고비점 박리 폐액 내의 수분 등 저비점 불순물을 제거하는 1차 증류장치(제1제거 단계 수행), 포토레지스트 수지 및 감광제 등의 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물을 제거하여 고비점 박리폐액의 실질적인 재생(즉, 고비점 박리액의 회수)이 이루어지는 2차 증류장치(제2제거 단계 수행), 2차 증류장치를 통해 회수된(즉, 고비점 잔류물이 제거된) 고비점 박리액으로부터 미세 수분을 제거하는 3차 증류장치(제3제거 단계 수행)를 포함하는 1차 재생 공정의 기본적인 장치 구성에 있어서는 선행특허 5의 구성과 비교할 때 차이가 없고, 더불어 고비점 잔류물을 2차 재생 처리하여 HEP와 같은 고비점 박리액을 추가적으로 회수하기 위한 4차 증류장치를 포함하는 2차 재생 공정의 기본적인 장치 구성 등에 있어서도 선행특허 1 내지 4 또는 선행특허 5, 6의 구성과 비교할 때 차이가 없다.First, a high-boiling residue containing a high-boiling point impurity such as a photoresist resin and a photosensitizer is removed from a primary distillation apparatus (a first removal step) for removing low boiling point impurities such as water in a photoresist high boiling point stripping liquid, A second distillation apparatus (performing a second removal step) in which substantial recovery (i.e., recovery of the high boiling point removal liquid) of the separation waste liquid is performed, a high boiling point recovery (that is, removal of the high boiling point residue) In the basic apparatus configuration of the primary regeneration process including the third distillation apparatus (the third removal step) for removing fine moisture from the exfoliation liquid, there is no difference when compared with the configuration of the prior patent 5, and the high boiling point residue Also in the basic apparatus configuration of the secondary regeneration process including the quaternary distillation apparatus for further regenerating the high boiling point liquid such as HEP and the like, There is no difference in comparison with the configurations of the prior patents 5 and 6.

다만, 선행특허에서는 1차 재생 공정의 2차 증류장치로부터 포토레지스트 수지 및 감광제, 그리고 비양자성 용매 및 HEP 등의 열분해에 따른 염기성 부생성물과 같은 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물 폐액이 그로부터 HEP 등의 고비점 박리액(고비점 박리용제)을 추가로 회수하기 위한 2차 재생 공정으로 바로 이송되었으나, 본 발명에서는 2차 재생 공정이 아닌 중화 및 고형화물 제거가 이루어지는 고비점 잔류물 처리 공정으로 이송된다.In the prior art, however, a waste solution of a high boiling point residue containing a high-boiling point impurity such as a photoresist resin and a photosensitizer, an aprotic solvent and a basic by-product resulting from pyrolysis such as HEP from the secondary distillation apparatus of the primary regeneration process (High-boiling point peeling solvent) such as HEP, but in the present invention, in the present invention, a high boiling point residue treatment process in which neutralization and solid cargo removal are performed instead of the secondary regeneration process .

이를 위해, 1차 재생 공정의 1차 증류장치에서 수분 등의 저비점 불순물(저비점 불순물 폐액)이 1차로 제거된 후 2차 증류장치(도면부호 D-2의 증류탑을 포함함)에서 제거되어 배출되는 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물 폐액을 고비점 잔류물 처리 공정으로 이송하기 위한 관로가 설치되는데, 여기서 관로는 2차 증류장치의 임시저장탱크(도 2에서 도면부호 13임)로부터 연장되는 관로가 될 수 있다.For this purpose, low boiling point impurities such as water (low boiling point impurity waste liquid) are firstly removed from the primary distillation apparatus of the primary regeneration process and then removed from the secondary distillation apparatus (including the distillation column of D-2) A conduit is provided for transferring the high boiling residue waste solution containing the high boiling point impurity to the high boiling point residue treatment process wherein the conduit is extended from the temporary storage tank of the secondary distillation apparatus It can be a pipeline.

상기 관로를 통해서는 고비점 불순물과 함께 2차 증류장치의 탑저(도 2에서 도면부호 6임) 및 재비기(도 2에서 도면부호 7임)에 잔류되는 HEP 등의 고비점 박리액이 상당량 혼합되어 있는 고비점 잔류물 폐액이 고비점 잔류물 처리장치로 이송된다.High-boiling stripping liquid such as HEP remaining in the bottom (6 in Fig. 2) and re-boiling (7 in Fig. 2) of the secondary distillation apparatus together with high boiling point impurities are mixed And the waste solution of the high boiling point residue is transferred to the high boiling point residue treatment apparatus.

상기 고비점 잔류물 처리장치는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 2차 증류장치(도면부호 D-2의 증류장치를 포함함)로부터 상기 관로를 통해 연결되고 내부에 교반기가 부착되어 있는 중화반응탱크(NT)와, 상기 중화반응탱크(NT)의 출구로부터 1차 증류장치의 입구 측으로 연결된 관로 상에 설치되어 중화반응탱크(NT)의 후단(하류측)에 배치되고 고비점 잔류물 폐액의 중화 과정에서 고형화된 고형화물을 제거하는 고형화물 제거장치를 포함한다.The high-boiling residue treatment apparatus comprises a neutralization reaction tank (not shown) having a stirrer attached thereto through the pipe from a secondary distillation apparatus (including a distillation apparatus of D-2) as shown in Fig. 1 And a neutralization reaction tank (NT) disposed on the downstream side (downstream side) of the neutralization reaction tank (NT) and disposed on a conduit connected to the inlet side of the primary distillation apparatus from the outlet of the neutralization reaction tank (NT) And a solid cargo removing device for removing the solidified solid matter in the process.

바람직한 실시예에서 고형화물 제거장치는 중화반응탱크에서 이송되는 고비점 잔류물 폐액을 여과하여 고형화물을 제거하는 고액분리용 필터(NT)가 될 수 있다.In a preferred embodiment, the solid cargo removing apparatus may be a solid-liquid separation filter (NT) for removing solid matter by filtering a waste solution of a high boiling point residue transferred from a neutralization reaction tank.

또한, 1차 재생 공정의 2차 증류장치와 중화반응탱크(NT) 사이의 관로에는 2차 증류장치로부터 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물 폐액을 중화반응탱크(NT)로 이송하기 위한 이송펌프(34)가 설치되고, 중화반응탱크(NT)의 출구와 필터(FT) 입구 사이를 연결하고 있는 관로에는 제4유량제어밸브(31)와 이송펌프(35)가 설치된다.In the pipeline between the secondary distillation unit and the neutralization reaction tank NT in the primary regeneration process, a high-boiling residue waste liquid containing high boiling point impurities is fed from the secondary distillation unit to the neutralization reaction tank NT And a fourth flow control valve 31 and a feed pump 35 are installed in a line connecting the outlet of the neutralization reaction tank NT and the inlet of the filter FT.

상기 제4유량제어밸브(31)는 중화반응탱크(NT)로부터 필터(FT)로 고비점 잔류물이 이송되는 관로를 개폐하는 밸브로서, 경우에 따라서는 중화반응탱크(NT)로부터 필터(FT)로 이송되는 고비점 잔류물의 이송량을 조절하는데 이용될 수 있다.The fourth flow control valve 31 is a valve that opens and closes a channel through which the high boiling point residue is transferred from the neutralization reaction tank NT to the filter FT and may be a valve from the neutralization reaction tank NT, ) Of the high boiling point residue.

상기 이송펌프(35)는 중화반응탱크(NT)의 고비점 잔류물을 필터(FT)로 이송시키기 위한 펌프이며, 이러한 제4유량제어밸브(31)와 이송펌프(35)는 중화반응탱크(NT) 내 고형화물이 포함된 고비점 잔류물에 대하여 고형화물 제거장치인 필터(FT)로의 공급을 제어하는데 이용된다.The transfer pump 35 is a pump for transferring the high boiling point residue of the neutralization reaction tank NT to the filter FT and the fourth flow control valve 31 and the transfer pump 35 are connected to the neutralization reaction tank NT) to the filter (FT) which is a solid cargo removing device for the high boiling point residue containing the solid cargo.

이와 함께 필터(FT)를 거친 고비점 잔류물이 1차 증류장치(도면부호 D-1의 증류탑을 포함함)로 이송될 수 있도록 필터(FT) 출구로부터 1차 증류장치의 입구단으로 연결되는 관로 상에 별도의 이송펌프(36)가 설치될 수 있다.(FT) outlet to the inlet end of the primary distillation apparatus so that the high boiling point residue passed through the filter (FT) can be transferred to the primary distillation apparatus (including the distillation column of D-1) A separate transfer pump 36 may be installed on the pipeline.

이때, 필터(FT)를 거친 고비점 잔류물을 1차 증류장치로 이송시키기 위한 관로는 원료공급탱크(T-1)로부터 1차 증류장치로 포토레지스트 고비점 박리 폐액이 공급되는 관로로 연결될 수 있으며, 일례로 필터(FT)를 거친 고비점 잔류물을 1차 증류장치로 이송시키기 위한 관로가 포토레지스트 고비점 박리 폐액을 공급하기 위한 원료공급탱크(T-1) 및 이송펌프(F-1)와 1차 증류장치 사이의 관로로 연결될 수 있다.At this time, the conduit for transferring the high boiling point residue passed through the filter (FT) to the primary distillation apparatus can be connected to the conduit through which the photoresist high boiling point separation waste liquid is supplied from the raw material supply tank (T-1) to the primary distillation apparatus A conduit for transferring the high boiling point residue passed through the filter FT to the primary distillation apparatus is connected to a raw material supply tank T-1 and a transfer pump F-1 for supplying photoresist high boiling point separation waste liquid, ) And the primary distillation unit.

또한, 포토레지스트 고비점 박리 폐액을 공급하기 위한 관로와 필터(FT)를 거친 고비점 잔류물을 공급하기 위한 관로의 합관 지점에는 포토레지스트 고비점 박리 폐액과 필터(FT)를 거친 고비점 잔류물(즉, 고비점 잔류물 처리장치를 거친 고비점 잔류물)이 선택적으로 1차 증류장치에 공급되도록 하기 위한 제5유량제어밸브(32)가 설치될 수 있고, 상기 제5유량제어밸브(32)는 1차 증류장치로의 고비점 잔류물 공급을 제어하기 위한 밸브로서, 통상의 3-웨이(way) 밸브가 될 수 있다.The photoresist high boiling point pulp waste liquid and the filter (FT) are passed through a pipe for supplying a high boiling point residue and a high boiling point residue A fifth flow control valve 32 may be provided to selectively supply the first flow control valve 32 (i.e., a high boiling point residue through the high boiling point residue treatment apparatus) to the first distillation apparatus, and the fifth flow control valve 32 ) Is a valve for controlling the supply of a high boiling point residue to the primary distillation apparatus and can be a normal three-way valve.

그리고, 1차 재생 공정의 1차 증류장치로부터 2차 재생 공정의 4차 증류장치(도면부호 D-4의 증류탑을 포함함) 사이에는 고비점 잔류물 처리장치를 거친 뒤 1차 증류장치의 증류탑(D-1)에 의해 수분이 제거된 고비점 잔류물을 2차 재생 공정의 4차 증류장치로 이송시키기 위한 관로가 설치된다.Then, after passing through a high-boiling residue treatment device between the primary distillation device of the primary regeneration process and the quadratic distillation device of the secondary regeneration process (including the distillation column of D-4), the distillation column (D-1) to the fourth distillation apparatus in the secondary regeneration step.

이때, 4차 증류장치로 연결되는 관로는 1차 증류장치에서 2차 증류장치로 연결되는 관로로부터 분기되어 4차 증류장치로 연결될 수 있는데, 2차 증류장치로 연결된 관로와 4차 증류장치로 연결된 관로의 분기 지점에는 2차 증류장치 쪽의 관로와 4차 증류장치 쪽으로의 관로를 선택적으로 개폐하는 제6유량제어밸브(33)가 설치될 수 있고, 상기 제6유량제어밸브(33)는 1차 증류장치로부터 2차 증류장치 및 4차 증류장치로의 고비점 잔류물 공급을 제어하기 위한 밸브로서, 통상의 3-웨이 밸브가 될 수 있다.At this time, the conduit connected to the fourth distillation unit can be branched from the conduit connected to the second distillation unit from the first distillation unit and connected to the fourth distillation unit. The conduit connected to the second distillation unit is connected to the fourth distillation unit A sixth flow control valve 33 for selectively opening and closing a pipeline to the second distillation apparatus and a pipeline to the fourth distillation apparatus may be provided at a branch point of the pipeline, A valve for controlling the supply of a high boiling point residue from a tea distillation apparatus to a secondary distillation apparatus and a quaternary distillation apparatus can be a conventional three-way valve.

한편, 포토레지스트 고비점 박리 폐액이 원료공급탱크(T-1)로부터 공급되어 재생이 이루어지는 동안 상기 중화반응탱크(NT)에는 1차 재생 공정의 2차 증류장치로부터 고비점 불순물과 고비점 박리액이 혼합된 고비점 잔류물이 이송되어 채워진다.On the other hand, while the photoresist high boiling point separation waste liquid is supplied from the raw material supply tank (T-1) and regeneration is performed, high boiling point impurities and high boiling point exfoliation liquid The mixed high boiling point residue is transferred and filled.

여기서, 고비점 불순물은 비양자성 용매(NMP,MMF)의 열분해에 따른 부생성물, 및 1차 재생 공정 중에 나타나는 HEP의 열분해에 따른 부생성물 등의 염기성 부생성물, 포토레지스트 수지, 감광제 등이며, 이러한 고비점 불순물과 HEP와 같은 다량의 고비점 박리액(즉, 고비점 박리용제)이 혼합되어 있는 고비점 잔류물 폐액이 중화반응탱크(NT)로 이송된다.Here, the high boiling point impurity is a by-product resulting from pyrolysis of an aprotic solvent (NMP, MMF), a basic by-product such as byproducts due to pyrolysis of HEP during a primary regeneration process, a photoresist resin, A high boiling residue waste liquid in which a high boiling point impurity and a large amount of high boiling point exfoliation liquid such as HEP are mixed is transferred to the neutralization reaction tank NT.

상기 중화반응탱크(NT)에서는 교반기를 작동시킨 상태에서 1차 재생 공정의 2차 증류장치로부터 이송된 고비점 잔류물 폐액의 pH를 6.5~8.5의 범위로 조절 및 유지하는 중화 공정이 이루어진다.In the neutralization reaction tank (NT), the pH of the waste solution of the high-boiling point residue transferred from the secondary distillation unit in the primary regeneration process is adjusted and maintained in the range of 6.5 to 8.5 while the agitator is operated.

이와 같은 중화 단계에서는 중화반응탱크(NT)의 고비점 잔류물 폐액 내에서 염기성 부생성물이 고형화(Solidification)되어 석출되는데, 이때 석출된 고형화물은 고비점 잔류물 폐액에 농축되어 포함되어 있는 포토레지스트 슬러리와 상호작용하여 고분자 응집제와 같은 효과의 응집핵 역할을 하게 되고, 결국 상기 슬러리에 함유된 많은 양의 포토레지스트 수지가 연쇄작용으로 고형화되면서 석출된다.In this neutralization step, the basic byproducts are solidified and precipitated in the waste solution of the high boiling point residues of the neutralization reaction tank (NT). At this time, the precipitated solid product is concentrated in the waste solution of the high boiling point residues, The slurry reacts with the slurry to serve as a coagulating nuclei of the same effect as the polymer coagulant. As a result, a large amount of the photoresist resin contained in the slurry solidifies and precipitates by the action of the chain.

이에 따라, 중화반응탱크(NT) 내부의 고비점 잔류물 폐액은 중화 과정에서 염기성 부생성물과 포토레지스트 수지가 고형화되어 나타나는 고형화물을 포함하고 있게 되는데, 이러한 고비점 잔류물 폐액이 이송펌프(35)에 의해 고형화물 제거장치인 필터(FT)로 이송되고, 필터(FT)에서 고비점 잔류물 폐액의 여과가 이루어지면서 고형화물이 제거된다.Accordingly, the waste residues of the high-boiling point residues in the neutralization reaction tank NT include solid by-products that are solidified by the solidification of the basic by-products and the photoresist resin in the neutralization process. The waste residues of the high- To the filter (FT), which is a solid cargo removing apparatus, and the filtrate of the waste solution of the high-boiling residue is removed from the filter (FT), thereby removing the solid matter.

이와 같이 고형화물이 제거된 고비점 잔류물 폐액은 1차 재생 공정의 1차 증류장치로 이송되어 수분이 제거되고, 이후 수분이 제거된 고비점 잔류물 폐액을 4차 증류장치로 공급하여 2차 재생 처리함으로써 HEP와 같은 고비점 박리액을 추가로 회수하게 된다.The waste residue of high-boiling residue from which the solid cargo is removed is transferred to the primary distillation apparatus of the primary regeneration process to remove water, and then the waste residue of high boiling point from which moisture has been removed is supplied to the fourth distillation apparatus, By the regeneration process, a high-boiling peeling liquid such as HEP is further recovered.

이러한 2차 재생 처리를 위해서는 제5유량제어밸브(32)를 이용하여 원료 폐액, 즉 원료공급탱크(T-1)의 포토레지스트 고비점 박리 폐액이 1차 증류장치로 이송되지 않도록 원료공급탱크(T-1) 쪽 관로를 차단하고, 필터(FT) 쪽 관로를 열어 필터(FT)를 거친 고비점 잔류물 폐액이 1차 증류장치로 이송되도록 하는데, 이때 1차 증류장치에서는 중화반응탱크의 중화 공정 중에 생성된 고비점 잔류물 폐액 내 3 중량% 이하 소량의 수분을 0.1 중량% 이하의 수분 함량 수준으로 제거하는 공정이 수행된다.In order to perform such secondary regeneration processing, the fifth flow control valve 32 is used so that the raw material waste liquid, that is, the photoresist high boiling point stripping waste liquid of the raw material supply tank T-1 is not transferred to the primary distillation apparatus (T-1) pipe is opened and the filter (FT) side pipe is opened to transfer the waste solution of the high boiling point residue passed through the filter (FT) to the first distillation apparatus. In this case, in the first distillation apparatus, A process of removing a water content of less than 3% by weight in the waste solution of the high boiling point residue produced in the process to a moisture content level of 0.1% by weight or less is carried out.

상기 수분 제거 공정의 조건은 HEP의 열분해와 같은 열손상을 방지하기 위하여 1차 증류장치의 증류탑(D-1)과 연결된 감압펌프(21)를 작동시켜 증류탑(D-1) 내 압력을 낮추는 감압운전을 실시하는데, 바람직하게는 감압 증류 조작 압력은 110 torr 이하로, 재비기(3) 내 온도는 110℃ 이하로 설정한다.The condition of the water removal step is that the decompression pump 21 connected to the distillation column D-1 of the primary distillation apparatus is operated in order to prevent thermal damage such as pyrolysis of HEP to reduce the pressure in the distillation column D- Preferably, the reduced pressure distillation operation pressure is set to 110 torr or less, and the temperature in the reboiler (3) is set to 110 DEG C or less.

전술한 고비점 잔류물의 중화 및 고형화물 제거 과정을 거쳐 1차 증류장치로 이송된 고비점 잔류물에서 포토레지스트 수지의 농도가 농축 이전의 낮은 농도 수준으로 저감될 수 있으므로, 1차 증류장치의 증류탑(D-1) 이론단수가 3차 증류장치의 증류탑(D-3)만큼 높지 않음에도 상기 조건하에서 3차 증류장치에서와 동등하게 수분 함량 0.1 중량% 이하 수준의 수분 제거 공정이 수행될 수 있다.Since the concentration of the photoresist resin in the high-boiling residue transferred to the primary distillation apparatus through neutralization and solid removal of the above-mentioned high-boiling residue can be reduced to a low concentration level before the concentration, (D-1) The number of theoretical stages is not as high as that of the distillation column (D-3) of the third distillation apparatus. Under these conditions, a water removal process with a water content of 0.1% .

상기 1차 증류장치는 선행특허 1(한국 등록특허 제10-1330653) 및 선행특허 2(한국 등록특허 제10-1330654)에 개시되어 있는 바와 같이 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 과정에서 박리 폐액으로부터 수분, IPA 등의 저비점 불순물을 제거하는 역할을 수행하지만, 본 발명에서는 2차 재생 공정이 수행되는 동안 중화반응탱크(NT)와 고형화물 제거장치(필터)(FT)를 거친 고비점 잔류물에 대하여 수분을 제거하는데 이용된다.The primary distillation apparatus has a structure in which water is removed from the peeling waste liquid during the photoresist high boiling point waste liquid regeneration process as disclosed in the prior patent 1 (Korean Patent No. 10-1330653) and the prior patent 2 (Korean Patent No. 10-1330654) , IPA, and the like. However, in the present invention, a high boiling point residue passed through a neutralization reaction tank (NT) and a solid cargo removal device (filter) (FT) during a secondary regeneration process It is used to remove moisture.

이때, 상기 1차 증류장치는 포토레지스트 고비점 박리 폐액의 재생을 위하여 도 2에 나타낸 바와 같이 포토레지스트 고비점 박리 폐액을 수용하는 증류탑(D-1), 증류탑(D-1) 내로 이송된 박리 폐액을 가열하여 저비점 불순물을 증발시키기 위해 증류탑(D-1)의 탑저에 연결된 재비기(3), 추출된 저비점 불순물을 응축시키기 위해 증류탑(D-1)의 상단에 연결된 응축기(1), 응축기(1)에 연결되어 응축기에서 응축된 저비점 불순물을 임시저장하는 임시저장탱크(2), 임시저장탱크(2) 내에 회수된 저비점 불순물을 배출시키기 위해 임시저장탱크(2)의 출구 측에 연결된 제2이송펌프(1-1) 및 수거탱크(T-2), 저비점 불순물이 제거된 박리 폐액을 2차 증류장치로 이송시키기 위해 재비기(3)의 출구에 연결된 제3이송펌프(1-2)를 포함한다.As shown in FIG. 2, the primary distillation apparatus includes a distillation column (D-1) for containing photoresist high boiling point stripping waste liquid, a stripping unit (D-1) (3) connected to the bottom of the distillation column (D-1) to evaporate the low boiling point impurities by heating the waste liquid, a condenser (1) connected to the top of the distillation column (D-1) for condensing the extracted low boiling point impurities, A temporary storage tank 2 connected to the temporary storage tank 2 for temporarily storing the low boiling point impurities condensed in the condenser, a temporary storage tank 2 connected to the outlet side of the temporary storage tank 2 for discharging the low boiling point impurities recovered in the temporary storage tank 2, A third transfer pump 1-2 connected to the outlet of the re-boiler 3 for transferring the stripping waste liquid from which the low boiling point impurities have been removed to the second distillation apparatus, the second transfer pump 1-1 and the collection tank T- ).

이에 더하여, 증류탑(D-1) 내의 고비점 박리 폐액이 가열될 때 열분해 촉진을 방지하기 위하여 증류탑(D-1) 내 압력을 낮추는 감압운전이 실시될 수 있도록 임시저장탱크(2)의 상단에 감압펌프(21)가 연결된다.In addition, in order to prevent pyrolysis acceleration when the high boiling point waste liquid in the distillation column (D-1) is heated, a decompression operation for lowering the pressure in the distillation column (D-1) The decompression pump 21 is connected.

상기한 구성을 가지는 1차 증류장치는 앞서 언급한 바와 같이 2차 재생 공정이 수행되는 동안에 중화반응탱크(NT)와 고형화물 제거장치인 필터(FT)를 거친 고비점 잔류물의 수분을 제거하는 수분 제거용 증류장치로 이용될 수 있는데, 증류탑(D-1)에 제5유량제어밸브(32)를 통해 공급되는 고비점 잔류물(중화반응탱크와 필터를 거친 고비점 잔류물)이 수용되고, 재비기(3)를 이용하여 증류탑(D-1) 내로 이송된 고비점 잔류물을 가열하여 수분을 증발시키며, 증류된 수분을 응축시키기 위해 증류탑(D-1)의 상단에 연결된 응축기(1)가 이용된다.As described above, the primary distillation apparatus having the above-described structure is a device for removing water from a high boiling point residue passed through a neutralization reaction tank (NT) and a filter (FT) (High boiling point residues passed through the neutralization reaction tank and the filter) supplied through the fifth flow control valve 32 to the distillation column D-1 are accommodated in the distillation column D- The condenser 1 connected to the upper end of the distillation column D-1 for heating the high boiling point residue transferred into the distillation column D-1 using the re-boiling 3 to evaporate water and condense the distilled water, Is used.

상기 응축기(1)에서 응축된 수분은 임시저장탱크(2)에 저장되고, 상기 증류탑(D-1) 내의 고비점 잔류물이 가열될 때 증류탑 내 압력을 낮추는 감압운전이 이루어질 수 있도록 감압펌프(21)가 작동된다.The condensed water in the condenser 1 is stored in the temporary storage tank 2 and is supplied to the decompression pump D-1 so that the decompression operation for lowering the pressure in the distillation column can be performed when the high boiling point residue in the distillation column D- 21 are operated.

이때, 감압펌프(21)를 작동시켜 증류탑(D-1) 내의 압력을 낮추는 감압운전을 실시하되, 감압 증류 조작시 증류탑(D-1) 내 압력을 110 torr 이하로, 재비기(3) 내 온도를 110 ℃ 이하로 설정하게 된다.At this time, the depressurization pump 21 is operated to lower the pressure in the distillation column D-1. The pressure in the distillation column D-1 is reduced to 110 torr or less during the reduced pressure distillation operation, The temperature is set to 110 DEG C or lower.

상기 수분 제거 공정 동안 1차 증류장치의 증류탑(D-1)에서 수분이 제거된 고비점 잔류물은 제3이송펌프(1-2)의 작동으로 재비기(3)와 제6유량조절밸브(33)를 거쳐 4차 증류장치의 증류탑(D-4)으로 이송되는데, 0.1 중량% 이하의 수준으로 수분이 제거된 고비점 잔류물이 4차 증류장치의 증류탑(D-4)으로 이송되고, 이어서 HEP 등의 고비점 박리액을 추가로 회수하기 위한 기존의 2차 재생 공정이 수행된다. The high-boiling residue from which moisture has been removed from the distillation column (D-1) of the primary distillation apparatus during the water removal process is returned to the reboiler (3) and the sixth flow control valve (D-4) of the fourth distillation apparatus. The high boiling point residue of which water content has been removed to a level of 0.1% by weight or less is transferred to the distillation column (D-4) of the fourth distillation apparatus, Subsequently, an existing secondary regeneration process for further recovering a high boiling point exfoliation liquid such as HEP is performed.

결국, 본 발명에서는 교반기가 부착된 중화반응탱크(NT)와, 고형화물을 제거하는 고형화물 제거장치(필터)(FT)를 포함하는 고비점 잔류물 처리장치를 이용함으로써, 고형화, 침전 및 여과를 통해 고비점 잔류물로부터 염기성 부생성물을 제거할 수 있고, 이를 통해 종래와 같이 2차 재생 공정에서 고비점 잔류물의 염기성 부생성물이 고온(120~160℃)에 재차 노출됨으로써 발생하였던 악취 현상이 방지될 수 있게 된다.As a result, in the present invention, by using a high boiling point residue treatment apparatus including a neutralization reaction tank NT equipped with a stirrer and a solid cargo removing apparatus (filter) (FT) for removing solid cargo, solidification, precipitation and filtration The basic byproducts can be removed from the high boiling point residue through the high boiling point residue, and the odor phenomenon, which is caused by the secondary exposure of the basic byproduct of the high boiling point residue to the high temperature (120 to 160 ° C) .

이와 더불어, 포토레지스트 수지가 높은 농도로 농축된 포토레지스트 수지 슬러리 형태로 포함되어 있는 고비점 잔류물에 대한 2차 재생 공정이 이루어지던 종래와 달리, 본 발명에서는 포토레지스트 수지의 농도가 초기 원료 폐액(포토레지스트 고비점 박리 폐액) 중의 농도 수준인 2~5%의 범위로 저감된 고비점 잔류물에 대해서 2차 재생 처리(4차 증류 과정)가 이루어질 수 있다.In addition, unlike the conventional method in which a secondary regeneration process for a high boiling point residue, which is contained in the form of a photoresist resin slurry concentrated to a high concentration, is performed, in the present invention, (4th distillation process) can be performed on a high boiling point residue reduced to a concentration of 2 to 5%, which is a concentration level in the high-boiling point waste solution (photoresist high boiling point stripping solution).

따라서, 4차 증류장치를 이용하는 2차 재생 공정에서 종래에 비해 훨씬 용이하게 고비점 잔류물로부터 고비점 박리액을 추가적으로 재생 정제할 수 있게 되고, 이전보다 향상된 추가적인 회수율 증진 효과까지 기대할 수 있는바, 염기성 부생성물의 제거에 따른 악취 제거 효과는 물론, 공정 조건의 개선 및 재생수율의 증진 효과까지 얻을 수 있게 된다.Therefore, in the secondary regeneration process using the quaternary distillation apparatus, the high boiling point exfoliation liquid can be additionally regenerated and purified from the high boiling point residue much more easily than in the prior art, and further improvement in the recovery rate can be expected, It is possible to obtain not only the effect of removing the bad byproducts but also the improvement of process conditions and the improvement of the regeneration yield.

특히, 선행특허 1(한국 등록특허 제10-1330653) 및 선행특허 2(한국 등록특허 제10-1330654)에서 2차 재생 공정(Additional stripper recycling)의 4차 증류 과정에서 수행되는 제어법, 즉 포토레지스트 수지의 석출을 최대한 지연하면서 HEP의 재생수율을 증진시킬 수 있도록 재비기 내의 폐액에 대한 최저 수위 조절이 이루어지는 최적 제어법에서는 2차 재생 공정 내내 복합적인 공정 조작을 여러 차례 반복적으로 운용하여야 하지만, 본 발명에서의 2차 재생 공정에서는 전체적인 공정 운용 횟수를 대폭(대략 1/3 이하 수준으로) 줄일 수 있으며, 따라서 이전보다 훨씬 편리한 공정 조작이 가능해지고, 운용 횟수 및 공정시간의 단축이 가능해진다.Particularly, the control method performed in the fourth distillation process of the additional stripper recycling in the prior patent 1 (Korean Patent No. 10-1330653) and the prior patent 2 (Korean Patent No. 10-1330654) In the optimum control method in which the minimum water level is regulated for the waste liquid in the reboiler so as to improve the regeneration yield of HEP while delaying the precipitation of the resin as much as possible, a complex process operation must be repeatedly operated within the second regeneration process. In the second regeneration process in the second regeneration process, the number of process operations can be greatly reduced (to about 1/3 or less), so that the process operation can be performed more conveniently than before, and the number of operation times and the process time can be shortened.

또한, HEP의 열분해를 추가적으로 저감시킬 수 있고, 나아가 이전보다 향상된 추가적인 고비점 박리액의 재생회수율 증진 효과를 얻을 수 있는바, 전체 재생 공정을 통한 최종적인 HEP 총 회수율이 크게 증진될 수 있게 된다(총 회수율 최대 70% 수준). In addition, it is possible to further reduce the thermal decomposition of HEP, further improve the regeneration recovery rate of the high-boiling stripping liquid, which is more improved than before, and thus the total recovery rate of the final HEP through the entire regeneration process can be greatly improved Total recovery rate of 70%).

이하, 도 1을 참조하여 포토레지스트 고비점 박리 폐액의 재생이 이루어지는 과정에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to FIG. 1, the process of regeneration of photoresist high boiling point separation waste liquid will be described.

먼저, 포토레지스트 고비점 박리 폐액이 원료공급탱크(T-1)로 보내진 후, 제1이송펌프(F-1)를 작동시켜 원료공급탱크(T-1)의 포토레지스트 고비점 박리 폐액을 1차 증류장치의 증류탑(D-1)로 이송시킨다.First, after the photoresist high boiling point separation waste liquid is sent to the raw material supply tank T-1, the first transfer pump F-1 is operated so that the photoresist high boiling point separation waste liquid of the raw material supply tank T- To the distillation column (D-1) of the tea distillation apparatus.

이때, 제5유량제어밸브(32)는 이것이 수조작 밸브인 경우 원료공급탱크(T-1)의 포토레지스트 고비점 박리 폐액이 1차 증류장치로 공급될 수 있게 원료공급탱크(T-1) 쪽의 관로를 개방하도록 수조작되거나, 만약 전자식 밸브라면 미도시된 컨트롤러의 전기적인 신호(밸브 제어신호)에 의해 원료공급탱크(T-1) 쪽의 관로를 개방하도록 제어된다.At this time, the fifth flow control valve 32 is connected to the raw material supply tank T-1 so that the photoresist high boiling point separation waste liquid of the raw material supply tank T-1 can be supplied to the primary distillation apparatus, Or if the valve is an electronic valve, it is controlled to open the pipe on the side of the raw material supply tank T-1 by an electric signal (valve control signal) of a controller (not shown).

본 발명에서 제5유량제어밸브(32)뿐만 아니라, 후술하는 제4유량제어밸브(31) 및 제6유량제어밸브(33)의 경우에도 이들이 수조작 밸브인 경우 작업자의 수조작을 통해 동작되거나, 전자식 밸브인 경우 컨트롤러의 전기적인 신호에 의해 동작이 제어될 수 있다.In the present invention, not only the fifth flow control valve 32 but also the fourth flow control valve 31 and the sixth flow control valve 33, which will be described later, are operated through the operator's manipulation , And in the case of an electronic valve, the operation can be controlled by the electrical signal of the controller.

또한, 본 발명에서 전 공정의 이송펌프는 작업자의 수조작을 통해 그 작동이 온(On)/오프(Off) 되거나, 컨트롤러의 전기적인 신호(펌프 제어신호)에 의해 작동이 제어될 수 있다.Further, in the present invention, the operation of the feed pump in the previous process can be turned on / off by the operation of the operator, or the operation can be controlled by the electric signal (pump control signal) of the controller.

상기 1차 증류장치에서는 1차 재생 공정의 1차 증류 과정, 즉 박리 폐액으로부터 수분, IPA 등의 저비점 불순물을 제거하기 위한 제1제거 단계가 수행되는데, 1차 증류장치의 증류탑(D-1)에서는 수분, IPA 등 저비점 불순물의 증발이 가능하도록 수분의 비점 이상으로 박리 폐액에 대한 가열이 이루어진다. In the primary distillation apparatus, a first distillation process for removing the low boiling point impurities such as moisture and IPA from the stripping waste liquid is performed. The distillation column (D-1) The heating of the exfoliated waste liquid is performed at a boiling point or more of water so as to allow evaporation of low boiling point impurities such as water and IPA.

즉, 증류탑(D-1)에서 소정의 정제 조건을 유지하면서 증류탑 상부로 수분, IPA 등의 저비점 불순물을 증류, 추출하고, 추출된 저비점 불순물 등은 응축기(1)에서 응축되어 임시저장탱크(2)로 회수된 후, 제2이송펌프(1-1)를 작동시켜 수거탱크(T-2)로 이송시켜 폐기한다.That is, low-boiling point impurities such as water and IPA are distilled and extracted into the upper portion of the distillation column while maintaining a predetermined purification condition in the distillation column (D-1), and the extracted low boiling point impurities are condensed in the condenser 1, , The second transfer pump 1-1 is operated to be transferred to the collection tank T-2 for disposal.

이어 1차 재생 공정의 1차 증류 과정(제1제거 단계)을 통해 저비점 불순물이 제거된 포토레지스트 고비점 박리 폐액은 제3이송펌프(1-2)의 작동으로 재비기(도 2에서 도면부호 3임)를 경유하여 2차 증류장치의 증류탑(D-2)로 이송된다.The photoresist high boiling point stripping waste liquid from which the low boiling point impurities have been removed through the first distillation process (first stripping process) of the primary regeneration process is re-boiled by the operation of the third feeding pump 1-2 3) to the distillation column (D-2) of the secondary distillation apparatus.

이때, 제6유량제어밸브(33)는 저비점 불순물이 제거된 포토레지스트 고비점 박리 폐액이 제3이송펌프(1-2)에 의해 2차 증류장치로 이송될 수 있도록 2차 증류장치 쪽의 관로를 개방하고 4차 증류장치 쪽의 관로를 차단한 상태가 되도록 한다.At this time, the sixth flow control valve 33 is connected to a pipe on the side of the secondary distillation apparatus so that the photoresist high boiling point separation waste liquid from which the low boiling point impurities are removed can be transferred to the secondary distillation apparatus by the third transfer pump 1-2. And the channel on the side of the fourth distillation unit is shut off.

상기 2차 증류장치에서는 저비점 불순물이 제거된 박리 폐액으로부터 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물(다량의 고비점 박리액을 포함하고 있음)을 제거하기 위한 1차 재생 공정의 2차 증류 과정, 즉 제2제거 단계가 수행되는데, 2차 증류장치의 증류탑(D-2)에서는 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물을 제거하여 고비점 박리폐액의 실질적인 재생(즉, 고비점 박리액의 회수)이 이루어지게 된다.In the secondary distillation apparatus, a secondary distillation process of a primary regeneration process for removing high boiling point residues (including a large amount of high boiling point exclusion liquid) containing high boiling point impurities from the exfoliating liquid from which low boiling point impurities have been removed, In the distillation column (D-2) of the secondary distillation apparatus, a high boiling point residue containing high boiling point impurities is removed to substantially regenerate the high boiling point waste liquid (that is, the recovery of the high boiling point stripping liquid ).

즉, 2차 증류장치의 증류탑(D-2)에서 박리용제 성분들 중에서 비점이 가장 높은 성분의 비점 이상의 온도로 저비점 불순물이 제거된 박리 폐액을 가열하고, 이를 통해 증류탑(D-2) 상부로 박리액을 구성하는 전체 박리용제 조성물(고순도 재생 혼합 박리액)을 한꺼번에 증류, 추출하게 된다.That is, in the distillation column (D-2) of the secondary distillation apparatus, the peeling waste liquid from which the low boiling point impurities are removed at the temperature higher than the boiling point of the component having the highest boiling point is heated, The entire peeling solvent composition (high-purity regenerated and mixed peeling solution) constituting the peeling solution is distilled and extracted at once.

또한, 추출된 전체 박리용제 조성물은 응축기(도 2에서 도면부호 4임)로 보내져서 응축됨으로써 분리되고, 이때 박리 폐액에 용해되어 있던 포토레지스트 수지 등의 고비점 불순물은 탑저(도 2에서 도면부호 6임) 및 재비기(도 2에서 도면부호 7임)에 농축되어 잔류하게 된다.2). The high-boiling point impurities, such as photoresist resin, dissolved in the peeling waste solution are separated from the bottom (reference numeral 2 in Fig. 2) 6) and re-boiling (reference numeral 7 in Fig. 2).

또한, 2차 증류 과정(제2제거 단계)에서 증류탑(D-2)에 의해 박리 폐액으로부터 추출된 박리용제 조성물은 응축기(도 2에서 도면부호 4임)에서 응축된 후 임시저장탱크(5)로 회수되며, 이와 같이 고비점 잔류물이 제거되고 임시저장탱크(5)로 회수된 고비점 박리액은 이송펌프(도 2에서 도면부호 2-1, 2-2임)에 의해 3차 증류장치의 증류탑(D-3)으로 이송된다.The stripping solvent composition extracted from the stripping waste liquid by the distillation column (D-2) in the second distillation process (second stripping process) is condensed in the condenser (reference numeral 4 in FIG. 2) The high boiling point removing liquid thus removed from the high boiling point residue and recovered to the temporary storage tank 5 is recovered by the transfer pump (2-1, 2-2 in Fig. 2) to the tertiary distillation apparatus To the distillation column (D-3).

이어 3차 증류장치의 증류탑(D-3)에서는 2차 증류 과정을 통해 재생된 고비점 박리액으로부터 미세 수분을 제거하는 1차 재생 공정의 3차 증류 과정, 즉 제3제거 단계가 수행되며, 3차 증류 과정을 통해 고순도 전자급 수준의 재생 박리용제를 회수할 수 있게 된다.Then, in the distillation column (D-3) of the third distillation apparatus, a third distillation process, that is, a third removal process, of the first regeneration process for removing fine moisture from the high boiling point regeneration solution regenerated through the second distillation process is performed, The tertiary distillation process enables to recover the regeneration removing solvent of the high purity level.

이와 같이 하여, 1차 재생 공정에서는 1차 증류 과정을 통해 박리 폐액 원료로부터 저비점 불순물을 제거하는 제1제거 단계가 수행되고, 이어 2차 증류 과정을 통해 저비점 불순물이 제거된 박리 폐액으로부터 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물을 제거하는 동시에 폐액 내 박리용제 조성물을 추출, 정제 및 회수하여 고비점 박리액으로 재생하는 제2제거 단계가 수행되며, 3차 증류 과정을 통해서는 상기와 같이 재생된 고비점 박리액으로부터 미세 수분을 제거하여 고순도 전자급 수준의 재생 박리용제를 회수하는 제3제거 단계가 수행되는바, 연속된 공정으로 진행되는 상기한 1차, 2차, 3차의 증류 과정을 통해 고순도의 박리액을 재생, 회수할 수 있게 된다.Thus, in the first regeneration step, a first removing step of removing low boiling point impurities from the stripped waste liquid raw material is performed through a first distillation process, and then a high boiling point impurity is removed from the stripped waste liquid from which low boiling point impurities have been removed through a secondary distillation process And a second removing step of regenerating the peeling solvent composition in the waste liquid by extracting, purifying and recovering the high-boiling point residue, and regenerating the high-boiling point residue by means of a high boiling-point removing solution. In the third distillation step, A third removing step of removing fine moisture from the high boiling point removing liquid and recovering the regeneration removing solvent having a high purity level is carried out so that the above first, It is possible to regenerate and recover the high-purity peeling liquid.

위에서 연속 공정으로 이루어지는 1차, 2차, 3차 증류 과정에 대해 설명하였는바, 이러한 1차 재생 공정은 선행특허 1 내지 6과 비교할 때 공정상 차이가 없으므로 더 이상 상세히 설명하지는 않는다.The primary, secondary, and tertiary distillation processes consisted of the continuous processes described above. The primary regeneration process is not described in detail because it is not different in process from the prior patents 1 to 6.

한편, 1차 증류 과정을 통해 저비점 불순물이 제거된 포토레지스트 고비점 박리 폐액은 2차 증류장치의 증류탑(D-2)로 보내진 후, 2차 증류장치에서 박리 폐액으로부터 박리용제 조성물이 추출되는 동시에 추출 과정에서 일부 회수되지 못한 HEP 등의 고비점 박리용제가 고비점 불순물과 함께 임시저장탱크(도 2의 도면부호 13)에 저장된다.On the other hand, the photoresist high boiling point stripping waste liquid from which the low-boiling point impurities have been removed through the primary distillation process is sent to the distillation column (D-2) of the secondary distillation apparatus and then the stripping solvent composition is extracted from the stripping waste liquid in the secondary distillation apparatus A high boiling point exfoliation solvent such as HEP which has not been recovered in the extraction process is stored in a temporary storage tank (13 in FIG. 2) together with high boiling point impurities.

여기서, 고비점 불순물은 전술한 바와 같이 비양자성 용매(NMP,MMF)의 열분해에 따른 부생성물, 및 1차 재생 공정 중 나타나는 HEP의 열분해에 따른 부생성물 등의 염기성 화합물과 포토레지스트 수지 등을 포함하는 것으로, 임시저장탱크(13)에 저장되는 고비점 잔류물은 이와 같은 고비점 불순물과 함께 회수되지 못한 HEP 등의 고비점 박리액을 다량 포함하고 있으며, 1차 재생 공정(연속 공정인 1차, 2차, 3차 증류 과정)을 포함하는 전체 박리 폐액 재생 공정이 진행되는 동안 이러한 고비점 잔류물은 이송펌프(34)의 작동으로 전술한 고비점 잔류물 처리장치로 이송되어 처리된다.As described above, the high boiling point impurities include a by-product resulting from pyrolysis of an aprotic solvent (NMP, MMF) and a basic compound such as a by-product resulting from pyrolysis of HEP in a primary regeneration process, a photoresist resin, etc. The high boiling point residue stored in the temporary storage tank 13 contains a large amount of a high boiling point exfoliation liquid such as HEP that can not be recovered together with such high boiling point impurities. In the primary regeneration process , Secondary, and tertiary distillation processes), these high boiling point residues are transferred to the above-mentioned high boiling residue treatment apparatus by the operation of the transfer pump 34 and processed.

상기 2차 증류장치로부터 배출된 고비점 잔류물의 처리 공정에서는, 먼저 염기성 부생성물 및 포토레지스트 수지 등의 고비점 불순물과 HEP 등의 고비점 박리액을 포함하고 있는 고비점 잔류물이 이송펌프(34)에 의해 교반기가 부착된 중화반응탱크(NT)로 이송되어 채워진다. In the process of treating the high boiling point residue discharged from the secondary distillation apparatus, a high boiling point residue such as a basic by-product and a high boiling point impurity such as a photoresist resin and a high boiling point peeling liquid such as HEP is introduced into the transfer pump 34 To a neutralization reaction tank (NT) to which an agitator is attached.

이어 중화반응탱크(NT)에서는 교반기가 작동되는 상태로 고비점 잔류물을 pH 6.5~8.5의 범위로 조절 및 유지하여 고비점 잔류물 내에 존재하는 염기성 부생성물, 포토레지스트 수지 등의 고형화가 이루어지는 중화 단계가 진행된다.In the neutralization reaction tank (NT), a high boiling point residue is controlled and maintained in a pH range of 6.5 to 8.5 in a state in which the agitator is operated, so that basic byproducts present in the high boiling point residues, neutralization The step proceeds.

이어 소정 시간의 중화 과정이 이루어지고 난 뒤, 제4유량제어밸브(31)를 개방하고 이송펌프(35,36)을 작동시켜 고형화물이 포함되어 있는 중화반응탱크(NT) 내 고비점 잔류물을 1차 증류장치의 증류탑(D-1)로 이송시킨다.After the neutralization process for a predetermined period of time has elapsed, the fourth flow control valve 31 is opened and the transfer pumps 35 and 36 are operated to remove the high boiling point residue in the neutralization reaction tank NT To the distillation column (D-1) of the primary distillation apparatus.

이때, 고비점 잔류물은 중화반응탱크(NT)로부터 제5유량제어밸브(32)가 위치한 지점까지 연장되어 있는 관로 상에 설치된 고형화물 제거장치, 즉 필터(FT)를 통과하게 되며, 이 필터(FT)에 의해 고형화물이 제거된 고비점 잔류물이 1차 증류장치의 증류탑(D-1)으로 이송된다.At this time, the high-boiling residue passes through the solid-liquid removing device installed on the pipe extending from the neutralization reaction tank NT to the point where the fifth flow control valve 32 is located, that is, the filter FT, The high boiling point residue, from which the solid cargo has been removed by the FT, is transferred to the distillation column (D-1) of the primary distillation apparatus.

또한, 이때 상기와 같이 필터(FT)에 의해 고형화물이 제거된 고비점 잔류물, 즉 고비점 잔류물 처리장치에 의해 처리된 고비점 잔류물이 1차 증류장치의 증류탑(D-1)으로 이송될 수 있도록 제5유량제어밸브(32)는 고비점 잔류물 처리장치의 필터(FT)로부터 연장된 관로를 개방하도록 조작되거나 제어된다.At this time, the high boiling point residue, that is, the high boiling point residue processed by the high boiling point residue treatment apparatus, which has been removed by the filter (FT) as described above, is fed to the distillation column (D-1) of the primary distillation apparatus The fifth flow control valve 32 is operated or controlled to open a conduit extending from the filter FT of the high boiling point residue treatment apparatus so that it can be transferred.

상기 고비점 잔류물 처리 공정 중 1차 증류장치의 증류탑(D-1)에서는 고비점 잔류물로부터 수분을 제거하는 증류 과정이 진행되고, 1차 증류장치에서 수분이 제거된 고비점 잔류물은 이송펌프(4-1)의 작동으로 제6유량제어밸브(33)를 통해 2차 재생 공정이 이루어지는 4차 증류장치로 이송된다.In the distillation column (D-1) of the primary distillation apparatus during the high-boiling residue treatment process, a distillation process for removing moisture from the high boiling point residue proceeds, and the high boiling point residue in which the moisture is removed in the primary distillation apparatus is transferred And is conveyed to the fourth distillation apparatus through the sixth flow control valve 33 by the operation of the pump 4-1.

이때, 제6유량제어밸브(33)는 4차 증류장치로 연결된 관로를 개방하고 2차 증류장치로 연결된 관로를 차단하도록 조작되거나 제어된다.At this time, the sixth flow control valve 33 is operated or controlled to open a conduit connected to the fourth distillation apparatus and shut off the conduit connected to the second distillation apparatus.

상기 중화반응탱크(NT)에 의해 이루어지는 중화 단계, 고형화물 제거장치(FT)에 의해 이루어지는 고형화물 제거 단계, 그리고 1차 증류장치에서 이루어지는 수분 제거 단계에 대해서는 앞에서 상세히 설명하였으므로 더 이상의 설명은 생략하기로 한다.Since the neutralization step performed by the neutralization reaction tank NT, the solid contaminant removal step performed by the solid contaminant removal unit FT, and the water removal step performed in the first distillation unit have been described in detail in the foregoing, .

상기 중화반응탱크(NT) 및 고형화물 제거장치(FT)를 포함하는 고비점 잔류물 처리장치와 1차 증류장치의 증류탑(D-1)에서의 처리 과정을 거친 고비점 잔류물에 대하여 HEP 등의 고비점 박리액을 추가적으로 회수하는 2차 재생 공정에 대해 설명하면 다음과 같다.The high boiling point residue treatment apparatus including the neutralization reaction tank NT and the solid cargo removal apparatus FT and the high boiling point residue subjected to the treatment in the distillation column D-1 of the primary distillation apparatus were subjected to HEP A secondary regeneration process for additionally recovering a high boiling point exfoliation liquid will be described.

기본적으로 2차 재생 공정은 선행특허 5 및 선행특허 6과 비교할 때 차이가 없으며, 본 발명의 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치를 나타내고 있는 도 2에서 2차 재생 공정을 수행하는 4차 증류장치의 구성, 즉 증류탑(D-4)을 포함한 4차 증류장치의 구성에 있어서 선행특허 1 내지 4, 또는 선행특허 5 및 6과 비교할 때 차이가 없다.Basically, the secondary regeneration process is not different when compared with the prior art 5 and the prior patent 6, and the secondary regeneration process of FIG. 2 showing the photoresist high boiling point waste liquid regeneration apparatus of the present invention There is no difference in the construction of the fourth distillation apparatus including the distillation column (D-4), as compared with the prior arts 1 to 4, or the prior arts 5 and 6.

다만, 본 발명에서 2차 재생 공정의 공정 대상물이 고비점 잔류물 처리장치와 1차 증류장치를 거친 고비점 잔류물이라는 점, 즉 고비점 잔류물 처리 공정에서 염기성 부생성물과 함께 포토레지스트 수지 등의 불순물이 어느 정도 제거된 후 1차 증류장치의 수분 제거 공정에서 수분 함량 0.1 중량% 이하의 수준으로 수분이 제거된 고비점 잔류물이라는 점에서 선행특허 1 내지 6과 차이가 있다. However, in the present invention, the object to be processed in the secondary regeneration step is a high boiling point residue passed through the high boiling point residue treatment apparatus and the primary distillation apparatus, that is, in the step of treating the high boiling point residue, Is a high-boiling residue in which moisture is removed to a level of a moisture content of 0.1% by weight or less in the water removal process of the primary distillation apparatus after the impurities of the product are removed to some extent.

이와 같이 1차 증류장치의 증류탑(D-1)에서 수분이 제거된 고비점 잔류물은 4차 증류장치로 이송된 후, 4차 증류장치의 증류탑(D-4)을 통해 고비점 잔류물로부터 HEP 등의 고비점 박리액이 추가적으로 회수된다.Thus, the high-boiling residue from which the water was removed in the distillation column (D-1) of the primary distillation apparatus was transferred to the fourth distillation apparatus, and then passed through the distillation column (D-4) of the fourth distillation apparatus A high boiling point exfoliation liquid such as HEP is further recovered.

이상으로 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였는바, 본 발명의 권리범위가 이에 한정되는 것이 아니며, 다음의 특허청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당 업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 포함된다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the scope of the present invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Forms are also included within the scope of the present invention.

T-1 : 원료공급탱크
T-2, T-3 : 수거탱크
T-4, T-5, T-6, T-7, T-8 : 재생 박리용제 저장 탱크
F-1, 1-1, 1-2, 2-1, 2-2, 3-1, 3-2, 4-1, 4-2, 4-3, 4-4, 4-5 : 이송펌프
D-1, D-2, D-3, D-4, D-5 : 증류탑
1, 4, 8, 9, 14 : 응축기
2, 5, 10, 13, 15 : 임시저장탱크
3, 7, 11, 16 : 재비기
6, 17 : 탑저
12 : 마이크로 필터
18 : 점도측정계
18A : 제어기
19, 20 : 유량제어밸브
21, 22, 23, 24, 25 : 감압펌프
31 : 제4유량제어밸브
32 : 제5유량제어밸브
33 : 제6유량제어밸브
34, 35, 36 : 이송펌프
NT : 중화반응탱크
FT : 고형화물 제거장치(필터)T-1: Feed tank
T-2, T-3: Collection tank
T-4, T-5, T-6, T-7 and T-8:
F-1, 1-1, 1-2, 2-1, 2-2, 3-1, 3-2, 4-1, 4-2, 4-3, 4-4, 4-5:
D-1, D-2, D-3, D-4,
1, 4, 8, 9, 14: condenser
2, 5, 10, 13, 15: temporary storage tank
3, 7, 11, 16: Rebid
6, 17:
12: Micro filter
18: Viscometer
18A:
19, 20: Flow control valve
21, 22, 23, 24, 25: Decompression pump
31: fourth flow control valve
32: fifth flow control valve
33: Sixth flow control valve
34, 35, 36: Feed pump
NT: Neutralization reaction tank
FT: Solid cargo removal device (filter)

Claims (12)

포토레지스트 고비점 박리 폐액에 대한 1차 재생 공정을 수행하는 증류장치로서, 포토레지스트 고비점 박리 폐액으로부터 저비점 불순물을 제거하는 1차 증류장치와, 상기 저비점 불순물이 제거된 포토레지스트 고비점 박리 폐액으로부터 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물을 분리하는 동시에 상기 고비점 잔류물이 분리된 고비점 박리용제를 회수하는 2차 증류장치와, 상기 회수된 고비점 박리용제로부터 미세 수분을 제거하는 3차 증류장치를 포함하는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치에 있어서,
상기 2차 증류장치에서 상기 저비점 불순물이 제거된 포토레지스트 고비점 박리 폐액으로부터 분리된 뒤 2차 증류장치로부터 배출되는 상기 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물의 중화가 이루어지고 중화 과정을 통해 1차 재생 공정의 1차 증류장치와 2차 증류장치에서 생성된 상기 고비점 잔류물 내 염기성 부생성물을 포함하는 고비점 불순물의 고형화가 이루어지는 중화반응탱크와;
상기 중화반응탱크로부터 이송되는 고비점 잔류물로부터 고형화물을 제거하는 고형화물 제거장치와;
상기 고형화물 제거장치에 의해 고형화물이 제거된 고비점 잔류물을 이송받아 상기 고비점 잔류물을 가열하여 수분을 제거하는 수분 제거용 증류장치와;
상기 증류장치에서 수분이 제거된 상태의 고비점 잔류물을 공급받아 고비점 잔류물로부터 고비점 박리용제를 추가로 회수하는 2차 재생 공정을 위한 4차 증류장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
1. A distillation apparatus for performing a primary regeneration process for photoresist high boiling point stripping waste liquid, comprising: a primary distillation apparatus for removing low boiling point impurities from a photoresist high boiling point stripping waste liquid; and a photoresist high boiling point stripping waste liquid from which the low boiling point impurities have been removed A second distillation apparatus for separating high boiling point residues containing high boiling point impurities and for recovering the high boiling point separation solvent from which the high boiling point residues have been separated, a third distillation apparatus for removing fine moisture from the recovered high boiling point separation solvent, A photoresist high boiling point waste liquid remover comprising a distillation apparatus,
The high boiling point residue containing the high boiling point impurities discharged from the secondary distillation apparatus is separated from the photoresist high boiling point separation waste liquid from which the low boiling point impurities have been removed in the secondary distillation apparatus, A neutralization reaction tank in which solidification of high boiling point impurities including a basic by-product in the high boiling point residue produced in the primary distillation apparatus and the secondary distillation apparatus in the regeneration process is performed;
A solid cargo removing device for removing the solid cargo from the high boiling point residue transferred from the neutralization reaction tank;
A distillation device for removing moisture, which receives the high boiling point residue from which the solid cargo is removed by the solid lobe removing device and heats the high boiling point residue to remove moisture;
And a fourth distillation apparatus for a secondary regeneration process for further recovering a high boiling point separation solvent from the high boiling point residue by receiving a high boiling point residue in a state in which moisture is removed from the distillation apparatus. The photoresist high-boiling-off waste liquid waste regenerating apparatus.
청구항 1에 있어서,
상기 중화반응탱크는 고비점 잔류물의 교반을 위한 교반기를 가지는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the neutralization reaction tank has an agitator for agitating the high boiling point residue, wherein the regeneration yield is enhanced.
청구항 1에 있어서,
상기 중화반응탱크에서 고비점 잔류물의 pH를 6.5~8.5의 범위로 유지하도록 된 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the pH of the high boiling point residue in the neutralization reaction tank is maintained in the range of 6.5 to 8.5.
청구항 1에 있어서,
상기 고형화물 제거장치는 중화반응탱크에서 이송되는 고비점 잔류물을 여과하여 고형화물을 제거하는 고액분리용 필터인 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the solid lint removing device is a solid-liquid separating filter for removing solid matter by filtering a high boiling point residue transferred from a neutralization reaction tank.
청구항 1에 있어서,
상기 수분 제거용 증류장치가, 상기 포토레지스트 고비점 박리 폐액에 대한 1차 재생 공정이 수행되고 난 후 상기 고형화물 제거장치로부터 이송된 상기 고형화물이 제거된 고비점 잔류물을 가열하여 수분을 제거하도록 된 상기 1차 증류장치인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the water removal distillation apparatus is configured to heat the high boiling point residue from which the solid matter transferred from the solid waste removal apparatus after the primary regeneration process for the photoresist high boiling point separation waste liquid is performed to remove moisture Wherein the primary distillation apparatus is a primary distillation apparatus for regenerating a high-boiling point waste liquid.
청구항 5에 있어서,
상기 고형화 제거장치와 1차 증류장치 사이의 관로에 설치되어 고형화물이 제거된 고비점 잔류물에 대하여 1차 증류장치로의 공급을 제어하기 위한 제5유량제어밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method of claim 5,
Further comprising a fifth flow control valve for controlling the supply of the high boiling point residue to the first distillation apparatus, which is installed in a channel between the solidification removing apparatus and the first distillation apparatus and from which the solid matter has been removed, Wherein the regeneration yield is improved.
청구항 6에 있어서,
상기 고형화물 제거장치 출구와 1차 증류장치 사이의 관로는 고형화물 제거장치의 출구로부터 연장되어 포토레지스트 고비점 박리 폐액을 1차 증류장치로 공급하기 위한 관로와 합관되고,
관로의 합관 지점에는 원료공급탱크로부터 공급되는 원료 폐액인 포토레지스트 고비점 박리 폐액과 고형화물 제거장치를 통과한 고비점 잔류물이 선택적으로 1차 증류장치에 공급되도록 하기 위한 3-웨이 밸브 형태의 제5유량제어밸브가 설치되는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method of claim 6,
The conduit between the outlet of the solid deodorizer and the primary distillation apparatus is extended from the outlet of the solid deodorizer and is integrated with a conduit for supplying the photoresist high boiling point stripping waste to the primary distillation apparatus,
Way valve type in order to selectively feed the photoresist high boiling point separation waste liquid from the raw material supply tank supplied from the raw material supply tank and the high boiling point residue passed through the solid waste removal apparatus to the primary distillation apparatus Wherein a fifth flow rate control valve is provided in the second flow rate control valve.
청구항 5에 있어서,
상기 수분 제거용 증류장치에서 4차 증류장치로 연결되는 관로는 1차 증류장치에서 2차 증류장치로 연결된 관로로부터 분기되어 4차 증류장치로 연결되는 관로이고,
상기 관로의 분기 지점에 2차 증류장치로 연결된 관로와 4차 증류장치로 연결된 관로를 선택적으로 개폐하는 3-웨이 밸브의 제6유량제어밸브가 설치되는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method of claim 5,
The conduit connected to the fourth distillation apparatus in the moisture removal distillation apparatus is a conduit branched from the conduit connected to the second distillation apparatus in the first distillation apparatus and connected to the fourth distillation apparatus,
And a sixth flow control valve for selectively opening and closing a conduit connected to the branch point of the conduit by a second distillation device and a conduit connected to the fourth distillation device are installed in the second conduit. A high boiling point separation liquid waste regenerating device.
청구항 1 또는 청구항 5에 있어서,
상기 수분 제거용 증류장치는 고형화물 제거장치를 통해 고형화물이 제거된 고비점 잔류물에 대하여 0.1 중량% 이하의 수분 함량으로 수분을 제거하도록 설정된 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method according to claim 1 or 5,
Characterized in that the water removal distillation apparatus is set to remove moisture with a moisture content of not more than 0.1% by weight with respect to a high boiling point residue from which solid matter has been removed through a solid waste elimination apparatus. Removing device.
청구항 1 또는 청구항 5에 있어서,
상기 수분 제거용 증류장치는
상기 고형화 제거장치로부터 공급되는 고비점 잔류물을 수용하는 증류탑과;
상기 증류탑 내로 이송된 고비점 잔류물을 가열하여 수분을 증발시키기 위해 증류탑의 탑저에 연결된 재비기와;
증류된 수분을 응축시키기 위해 증류탑의 상단에 연결되는 응축기와;
상기 응축기에 연결되어 응축기에서 응축된 수분을 임시저장하는 임시저장탱크와;
상기 증류탑 내의 고비점 잔류물이 가열될 때 증류탑 내 압력을 낮추는 감압운전이 이루어질 수 있도록 임시저장탱크의 상단에 연결된 감압펌프를 포함하고,
상기 감압펌프를 작동시켜 증류탑 내 압력을 낮추는 감압운전을 실시하되, 감압 증류 조작시 증류탑 내 압력이 110 torr 이하로, 재비기 내 온도는 110 ℃ 이하로 설정되는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method according to claim 1 or 5,
The water removal distillation apparatus
A distillation column for containing a high boiling point residue supplied from the solidification removing device;
A reboiler connected to the bottom of the distillation column for heating the high boiling point residue transferred into the distillation column to evaporate water;
A condenser connected to the top of the distillation column for condensing the distilled water;
A temporary storage tank connected to the condenser for temporarily storing condensed water in the condenser;
And a decompression pump connected to the upper end of the temporary storage tank so that a decompression operation for lowering the pressure in the distillation column can be performed when the high boiling point residue in the distillation column is heated,
Wherein the pressure in the distillation column is set to 110 torr or lower and the temperature in the reboiler is set to 110 deg. C or less during the reduced pressure distillation operation, wherein the depressurization pump is operated to lower the pressure in the distillation column. Photoresist high boiling point remover.
청구항 1에 있어서,
상기 2차 증류장치와 중화반응탱크 입구 사이의 관로에 설치되어 2차 증류장치에서 배출되는 고비점 불순물을 포함하는 고비점 잔류물을 중화반응탱크로 이송하는 이송펌프와;
상기 중화반응탱크의 출구와 고형화물 제거장치 입구 사이의 관로에 설치되어 중화반응탱크 내 고형화물이 포함된 고비점 잔류물에 대하여 고형화물 제거장치로의 공급을 제어하기 위한 제4유량제어밸브 및 이송펌프와;
상기 고형화물 제거장치 출구와 수분 제거용 증류장치 사이의 관로에 설치되어 고형화물 제거장치를 통과한 고비점 잔류물을 수분 제거용 증류장치로 이송하는 이송펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method according to claim 1,
A feed pump installed in a channel between the secondary distillation unit and the neutralization reaction tank inlet for transferring high boiling point residues containing high boiling point impurities discharged from the secondary distillation unit to a neutralization reaction tank;
A fourth flow control valve provided in a pipeline between the outlet of the neutralization reaction tank and the inlet of the solid ladder removal device for controlling supply to the solid ladder removal device for the high boiling point residue containing the solidified product in the neutralization reaction tank, A transfer pump;
Further comprising a transfer pump installed in a pipeline between the solid-liquid removal device outlet and the water removal distillation device for transferring the high-boiling residue passing through the solid-type lint removal device to the water removal distillation device. The photoresist high-boiling-off waste liquid waste regenerating apparatus.
청구항 11에 있어서,
상기 수분 제거용 증류장치에서 4차 증류장치로 연결되는 관로에 설치되어 수분 제거용 증류장치에서 수분이 제거된 상태의 고비점 잔류물에 대하여 4차 증류장치로의 공급을 제어하기 위한 제6유량제어밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 재생수율이 증진되는 포토레지스트 고비점 박리 폐액 재생 장치.
The method of claim 11,
A distillation device for removing moisture from a high boiling point residue in a water removal distillation device installed in a pipe connected to the fourth distillation device from the water removal distillation device and for controlling the supply to the fourth distillation device, Further comprising a control valve, wherein the regeneration yield is improved.
KR1020150024042A 2015-02-17 2015-02-17 Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate KR101542738B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150024042A KR101542738B1 (en) 2015-02-17 2015-02-17 Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150024042A KR101542738B1 (en) 2015-02-17 2015-02-17 Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101542738B1 true KR101542738B1 (en) 2015-08-07

Family

ID=53886657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150024042A KR101542738B1 (en) 2015-02-17 2015-02-17 Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101542738B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108873627A (en) * 2018-05-29 2018-11-23 四川久远化工技术有限公司 A kind of photoresist minimizing technology of stripper regeneration technology section

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012096131A (en) * 2010-10-29 2012-05-24 Swing Corp Method of treating electronic component factory waste liquid and apparatus therefor
KR101330654B1 (en) * 2013-03-06 2013-11-19 주식회사 코렉스 Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper
KR101330653B1 (en) 2013-02-25 2013-11-19 주식회사 코렉스 Recycling process of waste high boiling point photoresist stripper
KR101354523B1 (en) 2013-11-27 2014-01-21 주식회사 코렉스 Recycling apparatus for recycling 1-piperazineethanol from waste high boiling point photoresist stripper

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012096131A (en) * 2010-10-29 2012-05-24 Swing Corp Method of treating electronic component factory waste liquid and apparatus therefor
KR101330653B1 (en) 2013-02-25 2013-11-19 주식회사 코렉스 Recycling process of waste high boiling point photoresist stripper
KR101330654B1 (en) * 2013-03-06 2013-11-19 주식회사 코렉스 Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper
KR101354523B1 (en) 2013-11-27 2014-01-21 주식회사 코렉스 Recycling apparatus for recycling 1-piperazineethanol from waste high boiling point photoresist stripper

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108873627A (en) * 2018-05-29 2018-11-23 四川久远化工技术有限公司 A kind of photoresist minimizing technology of stripper regeneration technology section

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101330653B1 (en) Recycling process of waste high boiling point photoresist stripper
JP4476356B2 (en) Photoresist stripper waste liquid recycling method and recycling apparatus, and method for improving its recovery rate
KR101547195B1 (en) Recycling process of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate
US8961744B2 (en) System and method for recycling high-boiling-point waste photoresist stripper
US8466257B2 (en) Process and apparatus for purifying solid salt compositions
KR100901001B1 (en) Recycling process of waste photoresist stripper
KR101266897B1 (en) A recycling method for resist stripper scrapped and a recycling device for same
RU2687612C2 (en) Treatment of produced water concentrate
CA2755756A1 (en) Methods and systems for treatment of aqueous oily solutions
KR101330654B1 (en) Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper
KR101446541B1 (en) Method for increasing recycle yield rate of waste high boiling point photoresist stripper
JP2008229576A (en) Disposal method for incineration ash
KR101542738B1 (en) Recycling system of waste high boiling point photoresist stripper with improved recycle yield rate
CN103694101B (en) A kind of method of comprehensive utilization of sodium hydrosulfite waste residue
CN101134824A (en) Method for reclaiming solvent from aramid fiber polymeric compound
WO2009141968A1 (en) Method for treating separated mother liquor from terephthalic acid refinement
KR101354523B1 (en) Recycling apparatus for recycling 1-piperazineethanol from waste high boiling point photoresist stripper
CN105733664B (en) A kind of crude oil electric desalting decalcification process
KR20090025104A (en) Enhancement of the recovery efficiency in the waste photoresist stripper recycling process
JP3861191B2 (en) Wastewater recovery and reuse method
KR101446542B1 (en) Device for increasing recycle yield rate of waste high boiling point photoresist stripper
WO2005082831A1 (en) Method of processing methacrylic-ester-containing solution
JP2014078643A (en) Regeneration method and regeneration apparatus for resist stripping solution
CN111039894A (en) Method for producing DM (direct methanol gasoline) by utilizing recycled rubber accelerator M waste
JP2009227980A (en) Method for decomposition and recovery of plastic

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150806

Year of fee payment: 6