KR101498187B1 - Photosensitive coating solution and coated conductive film for transparent electrode using the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a photosensitive coating composition and a coated conductive film for a transparent electrode using the same. A current is flowed in a specific pattern and insulation safety of an insulated part by forming difference in a local area of a conductive film by using a simple exposing and washing method without directly etching the conductive film including a conductive nano-material. Provided are a photosensitive coating composition for a coated conductive film for a transparent electrode, which includes 0.01-5 wt% of a conductive nano-material, 0.01-3 wt% of a connecting agent, 0.1-5 wt% of a photosensitive material, and 1 wt% or less of a binder, wherein the connecting agent includes acid, a photoacid generating agent, a thermal acid generating agent, or dichromate, and a coated conductive film for a transparent electrode using the same.

Description

감광성 코팅 조성물 및 그를 이용한 투명전극용 코팅 전도막{Photosensitive coating solution and coated conductive film for transparent electrode using the same}[0001] The present invention relates to a photosensitive coating composition and a coated conductive film for a transparent electrode using the same,

본 발명은 코팅 전도막에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 금속나노와이어 또는 나노탄소와 같은 전도성 나노 물질을 포함한 조성물을 습식 코팅 공정을 통해 코팅막을 형성하고, 해당 코팅막의 노광 및 세척을 통해 전기 흐름의 배선 패턴을 형성할 수 있는 감광성 코팅 조성물 및 그를 이용한 투명전극용 코팅 전도막에 관한 것이다.The present invention relates to a coated conductive film, and more particularly, to a method of forming a coating film by a wet coating process on a composition including a conductive nanomaterial such as a metal nanowire or nano carbon, A wiring pattern, and a coated conductive film for a transparent electrode using the same.

금속나노와이어 또는 나노탄소를 포함한 전도성 박막은 와이어, 튜브, 나노입자 형태의 전도성 나노 물질이 연속적으로 접촉되어 형성된 전도막으로써, 기판에 코팅되어 형성될 수 있다. 금속나노와이어 또는 나노탄소를 포함한 전도막은 간단한 용액 공정으로써 분산액을 형성하여 다양한 기판에 코팅함으로써, 전기전도성을 가지는 전도막으로 형성할 수 있기 때문에, 터치패널 및 디스플레이 등에서 투명 전극 및 회로 전극으로 사용될 수 있다.The conductive thin film including metal nanowires or nanocarbon can be formed by coating on a substrate as a conductive film formed by successive contact of conductive nanomaterials in the form of wires, tubes, and nanoparticles. The conductive film including metal nanowires or nanocarbon can be formed as a conductive film having electrical conductivity by forming a dispersion by coating with various substrates by a simple solution process and thus can be used as a transparent electrode and a circuit electrode in a touch panel, have.

금속나노와이어 또는 나노탄소로 구성된 전도막을 투명 전극 또는 회로 전극으로 사용하기 위해서는 전도막의 국부적 영역에서 전기적 연결성, 비연결성을 조절하여 특정 패턴 형태로 전기가 흐르게 하는 것이 필요하다. In order to use a conductive film composed of a metal nanowire or nano carbon as a transparent electrode or a circuit electrode, it is necessary to control electric connection and non-connection in a local region of the conductive film to conduct electricity in a specific pattern form.

전도막이 형성된 기판에서 배선 패턴을 형성하는 종래의 방법으로 포토리소그래피, 레이저 에칭 공정을 주로 적용하였다. 포토리소그래피 공정은 전도막 위에 포토레지스트를 도포하고, 자외선을 노광하고 현상함으로써 포토레지스트 패턴을 전도막 위에 형성한 후, 습식 또는 건식 방법으로 전도막을 특정 패턴 모양으로 식각함으로서 배선 패턴을 형성하였다. 그리고 레이저 에칭 방법은 전도막을 레이저를 이용하여 특정 패턴 모양으로 식각함으로서 배선 패턴을 형성하는 방법이다. Photolithography and a laser etching process are mainly applied as a conventional method of forming a wiring pattern on a substrate having a conductive film formed thereon. In the photolithography process, a photoresist is coated on a conductive film, a photoresist pattern is formed on the conductive film by exposing and developing ultraviolet rays, and then a wiring pattern is formed by etching the conductive film in a specific pattern by a wet or dry method. The laser etching method is a method of forming a wiring pattern by etching a conductive film in a specific pattern using a laser.

이러한 방법은 기존 알려진 공정을 이용하여 전도막의 미세 패턴을 형성할 수 있다. 하지만 배선 패턴이 형성된 전도막에서 식각된 영역과 식각되지 않은 영역에서 금속나노와이어 또는 나노탄소의 분포 차이로 인해 빛 반사도, 빛 투과도, 헤이즈 차이를 형성하고, 식각 부위와 비식각 부위의 높이 단차로 인해 전도막의 배선 패턴이 시인되는 문제점을 야기할 수 있다.This method can form a fine pattern of the conductive film using existing known processes. However, due to the difference in the distribution of metal nanowires or nano-carbons in the etched region and the non-etched region in the conductive film having the wiring pattern, light reflectance, light transmittance and haze difference are formed. Thereby causing a problem that the wiring pattern of the conductive film is visually recognized.

또한 포토리소그래피 공정의 경우 전도막의 배선 패턴을 형성하기 위해 별도의 공정을 진행해야 한다는 점에서 공정 비용이 추가적으로 소요되고 생산성이 떨어지는 단점이 있다.In addition, in the case of the photolithography process, a separate process is required to form a wiring pattern of the conductive film, which requires a further additional processing cost and low productivity.

미국등록특허 제8,018,568호(2011.09.13.)U.S. Patent No. 8,018,568 (September 23, 2011)

따라서 본 발명의 목적은 전도성 나노 물질을 포함하는 전도막의 직접 에칭 없이 간단한 노광 방법을 이용하여 전도막의 국부적 영역에서 전기전도도 차이를 형성하여 특정 패턴 형태로 전기가 흐를 수 있는 배선 패턴을 형성할 수 있는 감광성 코팅 조성물 및 그를 이용한 투명전극용 코팅 전도막을 제공하는 데 있다.It is therefore an object of the present invention to provide a method of forming a wiring pattern capable of electrically conducting electricity in a specific pattern form by forming a difference in electric conductivity in a local region of a conductive film by using a simple exposure method without direct etching of a conductive film including a conductive nanomaterial A photosensitive coating composition and a coated conductive film for a transparent electrode using the same.

본 발명의 다른 목적은 국부 영역에 있어 전기전도도가 차이가 있는 전도막을 형성하지만 전도막의 전도성 필러에 해당하는 전도성 나노 물질이 전기전도도가 서로 다른 영역에 대해서도 분포 밀도가 비슷하며 전도막 전체에 대해 균일하게 분포하는 감광성 코팅 조성물 및 그를 이용한 투명전극용 코팅 전도막을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a conductive film having a conductive layer having a different electric conductivity in a localized region but a conductive nanomaterial corresponding to a conductive filler of the conductive film has a similar distribution density to regions having different electric conductivity, And a coated conductive film for a transparent electrode using the same.

본 발명의 또 다른 목적은 전도막의 패턴 형성을 위해 특정 영역에서 화학적/물리적으로 에칭되지 않고, 화학적 방법으로 산화되거나 황화물이 형성되지 않고, 물리적으로 전도성 나노 물질이 거의 손상되지 않는 감광성 코팅 조성물 및 그를 이용한 투명전극용 코팅 전도막을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a photosensitive coating composition which is not chemically / physically etched in a specific region for patterning of a conductive film, is not oxidized or formed by a chemical method, is not formed and physically conductive nanomaterial is hardly damaged, To provide a coated conductive film for a transparent electrode.

본 발명의 또 다른 목적은 투명 전도막의 절연 영역에서 절연 안정성을 확보할 수 있는 감광성 코팅 조성물 및 그를 이용한 투명전극용 코팅 전도막을 제공하는 데 있다.It is still another object of the present invention to provide a photosensitive coating composition capable of ensuring insulation stability in an insulating region of a transparent conductive film, and a coated conductive film for a transparent electrode using the same.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 전도성 나노 물질 0.01~5 중량%, 연결제 0.01~3 중량%, 감광성 물질 0.1~5 중량% 및 바인더 1 중량% 이하를 포함하되, 상기 연결제는 산, 광산 발생제, 열산 발생제 또는 중크롬산염을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막 제조용 감광성 코팅 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a conductive nanomaterial comprising 0.01 to 5% by weight of a conductive nanomaterial, 0.01 to 3% by weight of a connecting agent, 0.1 to 5% by weight of a photosensitive material and 1% A photoacid generator, a photoacid generator, or a dichromate salt. The present invention also provides a photosensitive coating composition for the production of a coating film for a transparent electrode.

본 발명에 따른 감광성 코팅 조성물에 있어서, 상기 연결제는 0.01~3 중량%의 광산 발생제, 0.01~3 중량%의 열산 발생제, 0.01~1 중량%의 중크롬산염, 및 감광성 코팅 조성물의 pH가 3~6이 되도록 포함되는 산 중에 하나일 수 있다.In the photosensitive coating composition according to the present invention, the coupling agent preferably contains 0.01 to 3 wt% of a photoacid generator, 0.01 to 3 wt% of a thermal acid generator, 0.01 to 1 wt% of a dichromate, Lt; RTI ID = 0.0 > 3-6. ≪ / RTI >

본 발명에 따른 감광성 코팅 조성물에 있어서, 상기 전도성 나노 물질은 금속나노와이어 또는 탄소나노튜브이다. 상기 감광성 물질은 수산기 또는 카르복시기를 포함한 감광수지 또는 비감광수지이다. 상기 바인더는 수분산성 폴리우레탄 또는 양이온성 고분자전해질이다.In the photosensitive coating composition according to the present invention, the conductive nanomaterial is a metal nanowire or a carbon nanotube. The photosensitive material is a photosensitive resin or a non-photosensitive resin containing a hydroxyl group or a carboxyl group. The binder is a water-dispersible polyurethane or a cationic polymer electrolyte.

본 발명에 따른 감광성 코팅 조성물은, 그래핀, 산화그래핀, 탄소나노플레이트, 카본블랙 또는 전도성 고분자 0.01~3 중량%가 더 포함할 수 있다.The photosensitive coating composition according to the present invention may further comprise 0.01 to 3% by weight of graphene, oxide graphene, carbon nanoplate, carbon black or conductive polymer.

본 발명은 또한, 기판 상에 형성된 투명 전극용 코팅 전도막으로, 전도성 나노 물질, 연결제, 감광성 물질 및 바인더를 포함하며, 노광 및 세척에 의해 노광된 영역과 비노광된 영역이 형성되고, 상기 비노광된 영역이 노광된 영역 대비 2배 이상의 전기전도도를 가지며, 상기 연결제는 산, 광산 발생제, 열산 발생제 또는 중크롬산염을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막을 제공한다.The present invention also provides a transparent conductive film for a transparent electrode formed on a substrate, comprising a conductive nanomaterial, a connector, a photosensitive material and a binder, wherein the exposed region and the non-exposed region are formed by exposure and washing, Wherein the unexposed region has an electric conductivity two times or more higher than that of the exposed region, and the linking agent comprises an acid, a photoacid generator, a thermal acid generator, or a dichromate salt.

본 발명에 따른 코팅 전도막에 있어서, 상기 비노광된 영역은 상기 노광된 영역에 비해서 상기 감광성 물질이 세척 과정에서 더 많이 제거되어 그 잔류물 함량이 더 낮을 수 있다.In the coated conductive film according to the present invention, the non-exposed region may have a lower residual amount of the photosensitive material than the exposed region in the cleaning process.

그리고 본 발명에 따른 코팅 전도막에 있어서, 상기 노광된 영역은 상기 비노광된 영역에 비해 상기 전도성 나노 물질과 상기 연결제가 상기 감광성 물질에 더 많이 함침되어 있다.In the coated conductive film according to the present invention, the exposed region is more impregnated with the photosensitive material than the non-exposed region.

본 발명에 따르면, 기판 위에 전도성 나노 물질과 함께 감광성 물질 및 바인더를 포함하는 감광성 박막을 형성한 후, 형성할 배선 패턴의 형태에 맞게 노광한 후 세척함으로써, 노광된 영역과 비노광된 영역 간의 전기전도성 차이를 갖는 배선 패턴을 형성할 수 있다.According to the present invention, after forming a photosensitive thin film including a photosensitive material and a binder together with a conductive nanomaterial on a substrate, the photosensitive thin film is exposed and washed according to the shape of a wiring pattern to be formed, A wiring pattern having a conductivity difference can be formed.

즉 감광성 박막을 형성하는 감광성 코팅 조성물에는 전도성 나노 물질 이외에, 감광성 물질, 바인더 및 기타 조성물이 포함되어 있다. 감광성 박막이 자외선에 노출되면, 감광성 물질 간, 감광성 물질과 기타 조성물 간의 물리적 또는 화학적 결합이 형성되거나 끊어져 물과 같은 특정 용매에 대해서 용해도 차이를 형성하게 된다. 용매에 접촉했을 때 감광성 물질 및 기타 조성물이 많이 제거된 영역은 높은 전기전도성을 나타내게 되고, 감광성 물질 및 기타 조성물이 적게 제거된 영역은 낮은 전기전도성을 나타내게 된다. 예컨대 감광성 박막에 대한 노광 후 용매로 세척하면, 노광된 부분에 비해서 노광되지 않은 부분에서 감광성 물질 및 기타 조성물이 상대적으로 많이 제거되기 때문에, 노광된 부분과 노광되지 않은 부분은 전기 흐름의 패턴을 형성할 수 있을 정도로 전기전도도의 차이를 갖게 된다.That is, the photosensitive coating composition forming the photosensitive thin film contains photosensitive materials, binders and other compositions in addition to the conductive nanomaterials. When the photosensitive thin film is exposed to ultraviolet rays, physical or chemical bonds between the photosensitive material and the photosensitive material and other compositions are formed or broken to form a difference in solubility with respect to a specific solvent such as water. The area where the photosensitive material and other compositions are removed much when exposed to the solvent exhibits high electrical conductivity and the area where the photosensitive material and other compositions are less removed shows a low electrical conductivity. For example, washing with a post-exposure solvent for a photosensitive film results in a relatively large amount of photosensitive material and other compositions being removed from the unexposed portion as compared to the exposed portion, so that the exposed and unexposed portions form a pattern of electrical current flow The difference in the electrical conductivity is enough to be able to do.

이와 같이 본 발명은 전도성 나노 물질을 포함하는 코팅 전도막에 대한 직접적인 에칭 없이 간단한 노광 방법을 이용하여 코팅 전도막의 국부적 영역에서 전기전도도 차이를 형성하여 특정 패턴 형태로 전기가 흐를 수 있는 배선 패턴을 형성할 수 있다.As described above, the present invention forms a wiring pattern capable of flowing electricity in a specific pattern form by forming a difference in electrical conductivity in a local region of a coated conductive film by using a simple exposure method without direct etching on a coated conductive film including a conductive nanomaterial can do.

본 발명에 따른 코팅 전도막은 노광 후 세척 공정으로 배선 패턴을 형성함으로써, 국부 영역에 있어 전기전도도 차이를 형성하지만, 코팅 전도막의 전도성 필러에 해당하는 전도성 나노 물질이 전기전도도가 서로 다른 영역에 모두 분포하며 유사한 분포 구조, 분포 밀도를 가진다.The coated conductive film according to the present invention forms a wiring pattern by a post-exposure cleaning process to form a difference in electric conductivity in the local region. However, the conductive nanomaterial corresponding to the conductive filler of the coated conductive film is distributed in different regions having different electric conductivity And has a similar distribution structure and distribution density.

또한 본 발명은 코팅 전도막의 패턴 형성을 위해 특정 영역에서 화학적 및 물리적으로 에칭 되지 않고, 화학적 방법으로 산화되거나 황화물이 형성되지 않고, 물리적으로 전도성 나노 물질이 손상되지 않는 전도성 나노 물질을 포함하는 코팅 전도막을 제공할 수 있다. 이로 인해 직접적인 코팅 전도막의 식각 없이 전도성 나노 물질의 전기적 흐름 특성을 조절할 수 있고, 기존에 지적되었던 전도성 나노 밀질의 분포 차이에 따른 패턴 시인성 문제를 해결할 수 있고, 코팅 전도막 및 그의 배선 패턴 형성 공정을 단순화할 수 있다.The present invention also relates to a coated conductive film comprising a conductive nanomaterial that is not chemically and physically etched in a specific region for pattern formation of a coated conductive film, is not oxidized or sulfide formed by a chemical method and is not physically damaged by the conductive nanomaterial Film. This makes it possible to control the electrical flow characteristics of the conductive nanomaterials without directly etching the coated conductive film and to solve the problem of pattern visibility due to the difference in the distribution of the conductive nanomaterials that have been pointed out, Can be simplified.

또한 본 발명에 따른 코팅 전도막은 산, 광산 발생제, 열산 발생제 또는 중크롬산염의 연결제를 포함하기 때문에, 연결제가 포함되지 않은 노광된 영역에 비해 구조적인 안정성을 제공한다. 이로 인해 투명 전도막은 절연 영역에의 구조적인 안정성을 바탕으로, 절연 안정성, 외부 충격, 환경 변화 등에 대한 신뢰성을 제공하고, 향상된 패턴 정밀도를 제공할 수 있다.Also, since the coated conductive film according to the present invention includes an acid, a photoacid generator, a thermal acid generator, or a coupling agent of a dichromate, it provides structural stability compared to an exposed area not containing a linking agent. Thus, the transparent conductive film can provide reliability for insulation stability, external impact, environmental change, etc., and provide improved pattern accuracy based on structural stability in an insulating region.

도 1은 본 발명에 따른 연결제를 포함하는 코팅 전도막이 형성된 전도성 기판을 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 "A" 부분의 확대도이다.
도 3은 도 1의 코팅 전도막의 제조 방법에 따른 흐름도이다.
도 4 내지 도 7은 도 3의 제조 방법에 따른 각 단계를 보여주는 도면들이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 코팅 전도막의 배선 패턴의 선폭에 따른 절연성 테스트 패턴 구조를 보여주는 도면이다.1 is a perspective view showing a conductive substrate on which a coating conductive film including a connecting agent according to the present invention is formed;
2 is an enlarged view of a portion "A" in Fig.
3 is a flow chart according to the method of manufacturing the coated conductive film of FIG.
FIGS. 4 to 7 are views showing respective steps according to the manufacturing method of FIG.
8 is a view showing a structure of an insulation test pattern according to a line width of a wiring pattern of a coated conductive film manufactured according to an embodiment of the present invention.

하기의 설명에서는 본 발명의 실시예를 이해하는데 필요한 부분만이 설명되며, 그 이외 부분의 설명은 본 발명의 요지를 흩트리지 않는 범위에서 생략될 것이라는 것을 유의하여야 한다.In the following description, only parts necessary for understanding embodiments of the present invention will be described, and descriptions of other parts will be omitted to the extent that they do not disturb the gist of the present invention.

이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념으로 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.The terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary meanings and the inventor is not limited to the meaning of the terms in order to describe his invention in the best way. It should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention. Therefore, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are merely preferred embodiments of the present invention, and are not intended to represent all of the technical ideas of the present invention, so that various equivalents And variations are possible.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 연결제를 포함하는 코팅 전도막이 형성된 전도성 기판을 보여주는 사시도이다. 도 2는 도 1의 "A" 부분의 확대도이다.1 is a perspective view showing a conductive substrate on which a coating conductive film including a connecting agent according to the present invention is formed; 2 is an enlarged view of a portion "A" in Fig.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 전도성 기판(100)은 기판(10)과, 기판(10) 위에 형성되며, 전도성 나노 물질(21), 연결제, 감광성 물질 및 바인더를 포함하며 노광 및 세척에 의해 배선 패턴(29)이 형성된 투명전극용 코팅 전도막(20)을 구비한다.1 and 2, a conductive substrate 100 according to the present invention includes a substrate 10, a conductive nanomaterial 21 formed on the substrate 10, a connector, a photosensitive material, and a binder And a coating conductive film 20 for a transparent electrode on which wiring patterns 29 are formed by exposure and cleaning.

여기서 기판(10)은 광투과성을 갖는 투명한 물질로 제조될 수 있다. 예컨대 기판(10)의 소재로는 유리, 석영(quartz), 투명 플라스틱 기판, 투명 고분자 필름 중 어느 하나가 사용될 수 있다. 투명 고분자 필름의 소재로는 PET, PC, PEN, PES, PMMA, PI, PEEK 등이 사용될 수 있으며, 이것에 한정되는 것은 아니다. 투명 고분자 필름 소재의 기판(10)은 1 내지 100,000㎛의 두께를 가질 수 있다.Here, the substrate 10 may be made of a transparent material having light transmittance. For example, as the material of the substrate 10, any one of glass, quartz, transparent plastic substrate, and transparent polymer film may be used. As the material of the transparent polymer film, PET, PC, PEN, PES, PMMA, PI, PEEK and the like can be used, but the present invention is not limited thereto. The substrate 10 of the transparent polymeric film material may have a thickness of 1 to 100,000 mu m.

그리고 코팅 전도막(20)을 형성하는 감광성 코팅 조성물로는 연결제, 전도성 나노 물질(21), 감광성 물질 및 바인더를 포함하며, 그 외 분산제, 첨가제 등의 기타 조성물을 포함할 수 있다. 예컨대 감광성 코팅 조성물은 전도성 나노 물질(21) 0.01~5 중량%, 연결제 0.01~3 중량%, 감광성 물질 0.01~3 중량%, 바인더 1 중량% 이하를 포함하며, 그 외는 물이 차지한다. 그리고 감광성 코팅 조성물은 기타 조성물 5 중량% 이하를 더 포함할 수 있다. The photosensitive coating composition for forming the coated conductive film 20 may include a binder, a conductive nanomaterial 21, a photosensitive material and a binder, and other compositions such as a dispersing agent, an additive, and the like. For example, the photosensitive coating composition comprises 0.01 to 5% by weight of the conductive nanomaterial 21, 0.01 to 3% by weight of a linking agent, 0.01 to 3% by weight of a photosensitive material, 1% by weight or less of a binder, And the photosensitive coating composition may further comprise up to 5% by weight of other composition.

전도성 나노 물질(21)은 코팅 전도막(20)의 전도성 네트워크를 형성하는 물질로서, 서로 전기적으로 서로 연결되어 기판(10)에 코팅되어 코팅 전도막(20)을 형성할 수 있게 된다. 이러한 전도성 나노 물질(21)로는 금속나노와이어 또는 탄소나노튜브가 사용될 수 있다. 예컨대 금속나노와이어로는 은나노와이어, 구리나노와이어, 금나노와이어 등이 사용될 수 있으며, 이것에 한정되는 것은 아니다. 금속나노와이어로는 직경 300 nm 이하, 길이 1㎛ 이상의 금속나노와이어가 사용될 수 있다. 금속나노와이어는 금속나노리본 또는 금속나노튜브를 포함한다.The conductive nanomaterial 21 is a material that forms a conductive network of the coated conductive film 20 and can be electrically connected to each other to be coated on the substrate 10 to form the coated conductive film 20. As the conductive nanomaterial 21, metal nanowires or carbon nanotubes can be used. For example, silver nanowires, copper nanowires, gold nanowires, and the like may be used as the metal nanowires, but the present invention is not limited thereto. As the metal nanowires, metal nanowires having a diameter of 300 nm or less and a length of 1 mu m or more may be used. Metal nanowires include metal nanoribbons or metal nanotubes.

감광성 코팅액에 포함되는 전도성 나노 물질(21)의 조성비가 높을수록 전기전도도가 증가하여 코팅 전도막(20)의 저항을 낮출 수 있다. 하지만 농도가 너무 진한 경우, 즉 5 중량%을 초과하는 경우 전도성 나노 물질(21)의 용액 상 분산이 어려운 단점이 있다. 따라서 바람직하게는 전도성 나노 물질(21)은 0.1~0.5 중량%를 사용하는 것이다.The higher the composition ratio of the conductive nanomaterial 21 included in the photosensitive coating liquid, the more the electric conductivity increases and the resistance of the coated conductive film 20 can be lowered. However, when the concentration is too high, that is, when it exceeds 5 wt%, there is a disadvantage that dispersion of the conductive nanomaterial 21 in solution is difficult. Therefore, the conductive nanomaterial 21 is preferably used in an amount of 0.1 to 0.5% by weight.

감광성 코팅액에 포함되는 연결제의 조성비가 높을수록 코팅 전도막(20)의 절연 안정성을 높일 수 있다. 하지만 농도가 너무 진한 경우, 즉 3 중량%을 초과하는 경우 코팅 전도막(20)의 비노광된 영역(27)에서의 세척 과정에서 많이 제거되지 않아 전기전도성을 떨어뜨릴 수 있거나 코팅 전도막(20)의 헤이즈를 높일 수 있다. 반대로 연결제의 함량이 0.01 중량% 이하인 경우, 코팅 전도막(20)의 절연 안정성에 거의 영향을 주지 못할 수 있다. 따라서 바람직하게는 연결제는 0.01~3 중량%를 사용하는 것이다.The higher the composition ratio of the coupling agent contained in the photosensitive coating liquid, the higher the insulation stability of the coating conductive film 20 can be. However, when the concentration is too high, that is, when it is more than 3% by weight, the coating conductive film 20 is not removed much in the cleaning process in the unexposed region 27, ) Can be increased. On the contrary, when the content of the coupling agent is 0.01% by weight or less, the insulating stability of the coated conductive film 20 may hardly be affected. Therefore, the binder is preferably used in an amount of 0.01 to 3% by weight.

그리고 감광성 물질은 자외선 노광에 의해 가교 결합이 일어나는 물질로서, 노광 후 세척 과정에서 용매에 대한 용해도가 낮아 상대적으로 낮은 전기전도도의 영역을 형성할 수 있게 한다. 이러한 감광성 물질은 빛(적외선, 가시광선, 자외선), 열, 레이저 등 한 가지 이상의 에너지 조사에 따라 노광되는 물질을 사용하는 것이 바람직하며, 에너지원은 이것에 한정되는 것은 아니다.The photosensitive material is a material which undergoes cross-linking by ultraviolet exposure, and has a low solubility in a solvent in a post-exposure cleaning process, thereby forming a relatively low electric conductivity region. Such a photosensitive material is preferably a material that is exposed to one or more energy irradiation such as light (infrared light, visible light, ultraviolet light), heat, laser, etc., and the energy source is not limited thereto.

예컨대 감광성 물질로는 자외선에 대해서 감광성을 갖는 수용성 감광 물질이 사용될 수 있다. 수용성 감광 물질로는 감광성 작용기를 가진 폴리비닐알콜 물질로, 약칭으로 sbq-PVA로 불리는 "N-methyl-4(4'-formylstyryl) pyridinium methosulfate acetal" 등이 있으며, 그 외 수용성 감광 물질, 비수용성 감광 물질로 노광에 의해 화학결합이 형성되는 물질이 사용될 수 있다. 또는 감광성 물질은 수산기 또는 카르복시기를 포함한 감광수지 또는 비감광수지을 포함할 수 있다. 즉 감광수지 이외에도 비감광수지와 감광개시제를 같이 포함시켜 자외선 감광성 물질을 형성할 수 있다. 이때 감광성 코팅 조성물에서, 감광수지 또는 비감광수지의 함량은 0.1~5 중량%일 수 있다.For example, as the photosensitive material, an aqueous photosensitive material having photosensitivity to ultraviolet rays may be used. The water-soluble photosensitive material is a polyvinyl alcohol material having a photosensitive functional group and abbreviated as "N-methyl-4 (4'-formylstyryl) pyridinium methosulfate acetal" referred to as sbq-PVA. A material in which a chemical bond is formed by exposure to a photosensitive material can be used. Or the photosensitive material may include a photosensitive resin containing a hydroxyl group or a carboxyl group or a non-photosensitive resin. That is, in addition to the photosensitive resin, a non-photosensitive resin and a light-sensitive initiator may be included together to form an ultraviolet sensitive material. In this case, in the photosensitive coating composition, the content of the photosensitive resin or the non-photosensitive resin may be 0.1 to 5% by weight.

감광성 물질은 노광된 영역(25)과 비노광된 영역(27)의 목표 저항 차이에 따라 농도가 달라질 수 있다. 예컨대 투명 전극의 패턴 형성 시에는 주로 0.1~1 중량%가 적합하다. 하지만 감광성 물질이 너무 많이 첨가되면 노광 후 세척 과정에서 비노광된 영역(27)의 감광성 물질이 제거되면서 전도성 나노 물질(21)도 같이 제거되어 투명 전극이 훼손되거나 저항이 높아지는 현상이 발생할 수 있다.The photosensitive material may have a different concentration depending on the target resistance difference between the exposed region 25 and the unexposed region 27. [ For example, 0.1 to 1% by weight is suitable for forming the pattern of the transparent electrode. However, if the photosensitive material is added too much, the photosensitive material in the unexposed area 27 may be removed during the post-exposure cleaning process, and the conductive nanomaterial 21 may be removed as well, thereby causing the transparent electrode to be damaged or the resistance to be increased.

연결제는 코팅액 및 전도막 조성물이 자외선 감광에 의해 화학결합을 형성하게 하거나, 또는 코팅액 및 코팅 전도막(20)에 포함된 감광성 물질에 화학결합을 추가 형성하게 하여 노광된 영역(25)의 경화 및 강도를 향상시키기 위한 것이다. 이러한 물질은 노광된 영역(25)에서의 전도막 조성물의 열적, 기계적 안정성을 추가적으로 향상시킬 수 있다.  The linking agent allows the coating liquid and the conductive film composition to form a chemical bond by ultraviolet light sensitization or to form a chemical bond to the photosensitive material contained in the coating liquid and the coating conductive film 20, And strength. Such a material can further improve the thermal and mechanical stability of the conductive film composition in the exposed region 25. [

이러한 연결제로는 산, 광산 발생제(photo acid generator), 열산 발생제, 염의 형태이며, 자외선 감광 또는 열에 의해 화학반응을 개시하는 화학물질이 사용될 수 있다. Such linking agents may be in the form of acids, photo acid generators, thermal acid generators, salts, and chemicals that initiate chemical reactions by ultraviolet light exposure or heat.

이때 산의 종류로는 염산, 황산, 질산, 아세트산, 인산, 도데실벤젼술포닉산, 카브복시에틸아크릴레이트(2-carboxyethyl acrylate) 등이 있다. 이러한 산은 열에 의해 수산기 또는 카르복시기를 포함한 감광성 물질에 화학결합을 추가 형성할 수 있다. 이러한 물질은 노광 및 세척으로 인해 전기흐름의 배선 패턴(29)이 형성된 코팅 전도막(20)을 추가 열처리 하여 노광된 부분(25)의 감광성 물질에 추가 화학반응을 형성하여 절연영역의 절연성 및 열적, 기계적 안정성을 추가적으로 향상시킬 수 있다. 예컨대 연결제로 산을 사용하는 경우, 산도에 따라 따르지만 감광성 코팅 조성물의 pH가 3~6 수준이 되도록 포함될 수 있다. At this time, examples of the acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, phosphoric acid, dodecylbenzenesulfonic acid, and 2-carboxyethyl acrylate. Such an acid can form a chemical bond to the photosensitive material containing a hydroxyl group or a carboxyl group by heat. This material is subjected to additional heat treatment of the coated conductive film 20 on which the electrical current flow pattern 29 is formed due to exposure and cleaning to form a further chemical reaction in the photosensitive material of the exposed portion 25, , The mechanical stability can be further improved. For example, when an acid is used as the coupling agent, it may be included according to the acidity but the pH of the photosensitive coating composition is 3 to 6.

광산 발생제는 자외선 등과 같은 빛에 의해 산이 발생되는 물질로서, 다양한 상품명으로 상용화되어 있다. 대표적인 상품으로 일본 Wako사의 320-21193 제품으로 화학명은 "diphenyl-2,4,6-trimethylphenylsulfonium p-toluenesulfonate"이며, 그 외 다양한 광산 발생제 제품이 적용될 수 있다. 광산 발생제는 자외선 노광될 때 산이 발생되기 때문에, 국부 영역에 자외선을 노광함으로서 국부 영역에 산을 발생시켜 전도막 조성물에 화학반응시키거나 감광성 물질에 추가 화학반응을 일으킬 수 있다. 특히 수산기 또는 카르복시기를 포함한 전도막 조성물 및 감광성 물질에 대해서 반응성을 유도할 수 있다. 예컨대 연결제로 광산 발생제를 사용하는 경우, 감광성 코팅 조성물에 0.01~3 중량%가 포함되며, 바람직하게는 0.1~1 중량%가 포함되는 것이다. The photoacid generator is a substance which generates an acid by light such as ultraviolet rays and is commercialized as various product names. A typical product is 320-21193 manufactured by Wako Corporation of Japan, and its chemical name is "diphenyl-2,4,6-trimethylphenylsulfonium p-toluenesulfonate", and various other photo-acid generators may be applied. Since a photoacid generator generates an acid upon exposure to ultraviolet rays, it may generate an acid in a local region by exposing ultraviolet rays to a local region to cause a chemical reaction to the conductive film composition or cause a chemical reaction to the photosensitive substance. In particular, the reactivity can be induced in a conductive film composition and a photosensitive material containing a hydroxyl group or a carboxyl group. For example, when a photoacid generator is used as the coupling agent, the photosensitive coating composition contains 0.01 to 3% by weight, preferably 0.1 to 1% by weight.

열산 발생제는 열에 의해 산이 발생되는 물질이다. 열산발생제는 알칼리 가용성기 및/또는 술폰산(sulfonic acid)기를 작용기(functional group)로 함유하는 화합물이면 특별히 제한하지 않는다. 이러한 열산 발생제로는 Bis(4-t-부틸페닐이오도니움)트리플루오로메타네술포네이트(Bis (4-tbutylphenyliodonium) trifluoromethanesulfonate)), 트리아릴술포니움헥사플루오로안디모네이트(Triarylsulfoniumhexafluoroantimonate), 트리아릴술포니움헥사플로오로포스페이트(Triarylsulfoniumhexafluorophosphate), 테트라메틸암모늄트리플루오로메타네술포네이트(Tetramethylammoniumtrifluoromethanesulfonate), 트리에틸암네플루오로술포네이트(Triethylamnefluorosulfate) 등이 사용될 수 있다. 예컨대 연결제로 열산 발생제를 사용하는 경우, 감광성 코팅 조성물에 0.01~3 중량%가 포함되며, 바람직하게는 0.1~1 중량%가 포함되는 것이다.The thermal acid generator is a substance which generates acid by heat. The thermal acid generator is not particularly limited as long as it is a compound containing an alkali-soluble group and / or a sulfonic acid group as a functional group. Examples of the thermal acid generators include bis (4-t-butylphenyliodonium) trifluoromethanesulfonate), triarylsulfonium hexafluoroantimonate, Triarylsulfonium hexafluorophosphate, tetramethylammonium trifluoromethanesulfonate, triethylamnefluorosulfate, and the like can be used. For example, when a thermal acid generator is used as a coupling agent, the photosensitive coating composition contains 0.01 to 3% by weight, preferably 0.1 to 1% by weight.

염으로서 중크롬산암모늄, 중크롬산나트륨을 포함한 중크롬산염도 강산발생제와 비슷한 기능을 수행한다. 자외선에 의해 수산기 또는 카르복시기를 포함한 전도막 조성물 및 감광성 물질에 화학반응을 유도할 수 있어 국부 영역에 자외선을 노광함으로서 국부 영역에 화학반응을 유도하거나 감광성 물질에 화학반응을 추가할 수 있다. 예컨대 연결제로 중크롬산염을 사용하는 경우, 감광성 코팅 조성물에 0.01~1 중량%가 포함되며, 바람직하게는 0.01~0.1 중량%가 포함되는 것이다.  The salt of dichromate, including ammonium dichromate and sodium dichromate as a salt, performs a similar function as the strong acid generator. A chemical reaction can be induced in a conductive film composition or a photosensitive material containing a hydroxyl group or a carboxyl group by ultraviolet rays and a chemical reaction can be induced in a local region or a chemical reaction can be added to a photosensitive substance by exposing ultraviolet rays to a local region. For example, when a dichromate salt as a linking agent is used, 0.01 to 1% by weight, preferably 0.01 to 0.1% by weight, is included in the photosensitive coating composition.

바인더로는 수분산성 폴리우레탄 또는 양이온성의 고분자전해질(polyelectrolyte)이 사용될 수 있다. 예컨대 양이온성 전해질로는 poly(diallydimethylammonium chloride), poly(allyamine hydrochloride), poly(3,4-ethylenedioxythiophene)(PEDOT), poly(2-vinylpyridine), poly(ethylenenimine), poly(acrylamide-co-diallylmethylammonium chloride), cationic polythiophene, polyaniline, poly(vinylalcohol) 또는 이들의 유도체가 사용될 수 있다.As the binder, a water-dispersible polyurethane or a cationic polyelectrolyte may be used. Examples of cationic electrolytes include poly (diallydimethylammonium chloride), poly (allyamine hydrochloride), poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), poly (2-vinylpyridine), poly (ethylenenimine), acrylamide-co-diallylmethylammonium chloride ), cationic polythiophene, polyaniline, poly (vinylalcohol), or derivatives thereof.

이러한 바인더를 사용하는 이유는, 감광성 물질로 사용되는 폴리비닐알코올은 수용액에서 양의 전하를 형성하기 때문에, 바인더로 수분산성 폴리우레탄 또는 양이온성의 고분자전해질을 사용할 때 조성물의 침전이 형성되지 않고 노광 후 세척 과정에서 비노광된 영역(27)의 감광성 폴리비닐알콜 물질이 바인더와 전기적, 화학적 결합력을 형성되지 않아 세척으로 제거가 용이하기 때문이다.The reason for using such a binder is that the polyvinyl alcohol used as the photosensitive material forms a positive charge in the aqueous solution and therefore when the water dispersible polyurethane or the cationic polymer electrolyte is used as the binder, This is because the photosensitive polyvinyl alcohol material of the unexposed area 27 in the cleaning process does not form an electrical or chemical bonding force with the binder and is easily removed by washing.

또한 바인더는 코팅 전도막(20)을 제조하기 위한 용매 세척 과정에서 전도성 필러에 해당하는 전도성 나노 물질(21)이 제조되는 코팅 전도막(20)에서 떨어져 나가지 않도록 고정하는 기능을 한다. 즉 바인더가 감광성 코팅액에 포함되지 않으면, 코팅 전도막(20)의 용매 세척 과정에서 전도성 나노 물질(21)이 감광성 물질과 같이 제거되거나 코팅 전도막(20)이 형성되지 않거나 저항 균일도가 크게 떨어지게 된다.In addition, the binder functions to fix the conductive nanomaterial 21 corresponding to the conductive filler so that the conductive nanomaterial 21 does not fall off the coated conductive film 20 from which the conductive nanomaterial 21 corresponding to the conductive filler is manufactured during the solvent cleaning process for manufacturing the coated conductive film 20. That is, if the binder is not contained in the photosensitive coating solution, the conductive nanomaterial 21 is removed as a photosensitive material, the coating conductive film 20 is not formed, or the resistance uniformity is greatly reduced during the solvent washing process of the coated conductive film 20 .

또한 바인더로 음이온성의 고분자전해질을 사용하지 않는 이유는, 바인더로 음이온성의 고분자 전해질을 사용할 경우 감광성 코팅액에서 침전을 발생시키고 노광 후 코팅 전도막 세척 시 비노광 부위의 감광성 물질이 제거되지 않아 비노광된 영역의 전기전도도가 낮아지는 문제가 발생하기 때문이다.The reason for not using an anionic polymer electrolyte as a binder is that when an anionic polymer electrolyte is used as a binder, precipitation occurs in a photosensitive coating solution, and a photosensitive material at a non-exposed portion is not removed when the conductive film is washed after the exposure, The electric conductivity of the region is lowered.

전술한 바와 같이 바인더는 노광 후 세척 시 전도성 나노 물질(21)이 기판(10)에서 떨어져나가는 것을 막기 위해 1 중량% 이하로 감광성 코팅액에 첨가된다. 이때 바인더의 함량이 높으면, 전도성 나노 물질(21)의 기판(10)에 대한 접착성은 향상되나 코팅 전도막(20)의 저항이 높아지는 문제가 발생될 수 있다. 또한 바인더가 없거나 너무 적으면 세척 시 전도성 나노 물질(21)이 기판(10)에서 탈락되어 코팅 전도막(20)의 특성이 나빠질 수 있다. 한편 감광성 물질의 함량이 0.5 중량% 이하로 아주 낮을 경우, 바인더가 없어도 전도성 나노 물질(21)의 기판(10)에 대한 접착성이 유지되어 본 발명에 따른 코팅 전도막(20)의 제조를 수행할 수도 있다.As described above, the binder is added to the photosensitive coating solution at 1 weight% or less to prevent the conductive nanomaterial 21 from falling off the substrate 10 during the post-exposure cleaning. At this time, if the content of the binder is high, the adhesion of the conductive nanomaterial 21 to the substrate 10 is improved, but the resistance of the coated conductive film 20 may increase. If the binder is absent or is too small, the conductive nanomaterial 21 may be detached from the substrate 10 during cleaning, and the characteristics of the coated conductive film 20 may deteriorate. On the other hand, if the content of the photosensitive material is as low as 0.5% by weight or less, the adhesion of the conductive nanomaterial 21 to the substrate 10 is maintained even without the binder, and the production of the coated conductive film 20 according to the present invention is performed You may.

분산제로는 사용되는 전도성 나노 물질(21)에 따라 금속나노와이어용 분산제와, 나노탄소용 분산제로 구분할 수 있다. 예컨대 은나노와이어의 분산제로는 HPMC(hydroxy propyl methyl cellulose), CMC (carboxymethyl cellulose), HC(2-hydroxy ethyl cellulose) 등이 사용될 수 있다. 탄소나노튜브의 분산제로는 SDS (Sodium dodecyl sulfate), LDS (Lithium dodecyl sulfate), SDBS (Sodium dodecylbenzenesulfonate), Sodium dodecylsulfonate), DTAB(Dodecyltrimethylammonium bromide), CTAB(Cetyltrimethylammonium bromide), Brij-series, Tween-series, Triton X-series, Poly(vinylpyrrolidone) 등이 사용될 수 있다.The dispersing agent may be classified into a dispersing agent for metal nanowires and a dispersant for nanocarbon according to the conductive nanomaterial (21) to be used. For example, hydroxypropyl methyl cellulose (HPMC), carboxymethyl cellulose (CMC), and 2-hydroxy ethyl cellulose (HC) may be used as the dispersing agent of the silver nano wire. Examples of dispersants for carbon nanotubes include sodium dodecyl sulfate (SDS), lithium dodecyl sulfate (LDS), sodium dodecylbenzenesulfonate (SDBS), sodium dodecylsulfonate (DTBS), dodecyltrimethylammonium bromide (DTAB), cetyltrimethylammonium bromide (CTAB) , Triton X-series, and poly (vinylpyrrolidone).

그리고 첨가제는 감광성 코팅액의 코팅성 개선, 분산성 향상, 금속나노와이이어 부식 방지, 코팅 전도막(20)의 내구성 향상 목적으로 선택적으로 사용될 수 있다. 예컨대 첨가제는 감광성 코팅액의 안정성을 촉진할 수 있고(예를 들어, 유처리제), 습윤성 및 코팅 특성에 도움을 줄 수 있고(예를 들어, 계면활성제, 용매 첨가제, 등), 이차적인 입자의 형성 및 분열을 도울 수 있거나, 또는 코팅 전도막(20) 형성에서 상 분리 구조를 형성 방지에 도움을 줄 수 있고, 건조를 촉진시키는데 도움을 줄 수 있다.The additives can be selectively used for the purpose of improving the coating property of the photosensitive coating liquid, improving dispersibility, preventing metal nano wire corrosion, and improving the durability of the coated conductive film 20. [ For example, the additive can promote the stability of the photosensitive coating fluid (e.g., an oil treatment agent), help wettability and coating properties (e.g., surfactant, solvent additive, etc.), form secondary particles And may assist in the formation of a phase separation structure in the formation of the coating conductive film 20, and may help promote drying.

또한 코팅 전도막(20)의 추가적인 전도성 향상 및 접착성 향상을 위해 그래핀, 산화그래핀, 탄소나노플레이트, 카본블랙 또는 전도성 고분자 등도 감광성 코팅액에 포함될 수 있다. 예컨대 감광성 코팅액에는 그래핀, 산화그래핀, 탄소나노플레이트, 카본블랙 또는 전도성 고분자 0.01~3 중량%가 더 포함될 수 있다.Also, graphene, oxide graphene, carbon nano plate, carbon black, or conductive polymer may be included in the photosensitive coating solution for further improving the conductivity and improving the adhesion of the coating conductive film 20. For example, the photosensitive coating liquid may further contain 0.01 to 3% by weight of graphene, oxide graphene, carbon nanoplate, carbon black or conductive polymer.

이러한 본 발명에 따른 코팅 전도막(20)은 기판(10) 위에 균일하게 형성된 전도성 나노 물질(21)을 포함한다. 코팅 전도막(20)은 노광된 영역(25)과 비노광된 영역(27)을 포함하고, 비노광된 영역(27)이 배선 패턴(29)을 형성할 수 있다. 노광된 영역(25)과 비노광된 영역(27)의 전기전도도는 2배 이상의 차이를 가질 수 있다.The coated conductive film 20 according to the present invention includes a conductive nanomaterial 21 uniformly formed on a substrate 10. The coated conductive film 20 may include an exposed area 25 and an unexposed area 27 and the unexposed area 27 may form a wiring pattern 29. [ The electrical conductivity of the exposed region 25 and the non-exposed region 27 may have a difference of two times or more.

또한 코팅 전도막(20)은 전도성 나노 물질(21), 감광성 물질 및 바인더를 포함하여 하나의 층으로 형성되거나, 전도성 나노 물질층 위에 감광성 물질층이 형성된 구조를 가질 수 있다.The coated conductive film 20 may be formed of one layer including the conductive nanomaterial 21, the photosensitive material and the binder, or may have a structure in which a layer of the photosensitive material is formed on the conductive nanomaterial layer.

이와 같이 본 발명에 따른 코팅 전도막(20)에 있어서, 노광된 영역(25)과 비노광된 영역(27) 간에 전기전도도에 있어서 차이가 발생하는 이유는 다음과 같다. 코팅 전도막(20)으로 형성되기 전, 즉 자외선 노광 및 세척되기 전의 전도성 나노 물질(21), 감광성 물질 및 바인더를 포함하는 감광성 박막은 감광성 물질 및 바인더에 의해 아주 낮은 전기전도도를 갖는다.As described above, in the coated conductive film 20 according to the present invention, the difference in electrical conductivity between the exposed region 25 and the unexposed region 27 is as follows. The photosensitive thin film including the conductive nanomaterial 21, the photosensitive material and the binder before being formed into the coating conductive film 20, that is, before the ultraviolet light exposure and cleaning, has a very low electric conductivity by the photosensitive material and the binder.

그런데 감광성 박막을 자외선으로 노광하게 되면, 감광성 물질 간, 또는 감광성 물질과 기타 조성물 간의 물리적 또는 화학적 결합이 형성되거나 끊어져 특정 용매에 대해 용해도 차이를 형성하게 된다. 반면에 노광 과정에서 전도성 나노 물질(21)의 화학적 또는 물리적 특성 변화는 거의 없다. 이때 특정 용매는 감광성 물질에 대해서 선택적으로 높은 용해도를 갖는 용매일 수 있다. 예컨대 감광성 물질로 수용성 감광 물질을 사용할 경우, 물에 대해서 용해도 차이를 형성하게 된다.However, when the photosensitive thin film is exposed to ultraviolet rays, physical or chemical bonds between the photosensitive materials or between the photosensitive material and other compositions are formed or broken to form a difference in solubility with respect to a specific solvent. On the other hand, there is little change in the chemical or physical properties of the conductive nanomaterial 21 during the exposure process. Where a particular solvent can be a solvent with high solubility selectively for the photosensitive material. For example, when a water-soluble photosensitive material is used as a photosensitive material, a difference in solubility with respect to water is formed.

즉 감광성 물질은 노광되기 전에는 특정 용매에 대해 높은 용해도 특성을 갖지만, 노광되면 경화되기 때문에 해당 용매에 대한 용해도가 떨어지는 특성을 가질 수 있다. 따라서 본 발명은 감광성 물질이 갖는 특정 용매에 대한 용해도 차이를 이용하여 배선 패턴(29)을 형성한다.That is, the photosensitive material has a high solubility characteristic with respect to a specific solvent before being exposed, but may have a property of being insoluble in the solvent because it is cured upon exposure. Accordingly, the present invention forms the wiring pattern 29 using the difference in solubility of the photosensitive material with respect to a specific solvent.

따라서 감광성 박막에 있어서, 노광된 영역(25)과 비노광된 영역(27)은 특정 용매에 대해서 용해도 차이를 형성한다. 특히 감광성 박막에 기타 조성물이 다량 포함되어 있는 경우에는, 두 영역 간의 전기전도도 차이가 크게 형성되어 투명 전극 및 회로 전극의 패턴을 형성할 만큼 전기전도도 차이가 크게 나타난다. 보통 용매에 접촉했을 때 감광성 물질 및 기타 조성물이 많이 제거된 영역은 높은 전기전도성을 나타내게 되고, 감광성 물질 및 기타 조성물이 적게 제거된 영역은 낮은 전기전도성을 나타내게 된다.Therefore, in the photosensitive thin film, the exposed region 25 and the unexposed region 27 form a solubility difference with respect to a specific solvent. Particularly, when the photosensitive thin film contains a large amount of other composition, a difference in electric conductivity between the two regions is greatly formed, and a difference in electric conductivity is large enough to form a pattern of a transparent electrode and a circuit electrode. A region in which a photosensitive material and other compositions are largely removed when exposed to a solvent usually exhibits a high electrical conductivity and a region in which a photosensitive material and other compositions are less removed exhibits a low electrical conductivity.

예컨대 비노광된 영역(27)이 노광된 영역(25)에 비해서 용매에 대한 용해도가 높은 경우, 비노광된 영역(27)이 배선 패턴(29)으로 형성된다.For example, if the unexposed area 27 is more soluble in solvent than the exposed area 25, the unexposed area 27 is formed in the wiring pattern 29.

한편 전도성 나노 물질로 금속나노와이어 또는 탄소나노튜브 만을 사용하여 코팅 전도막을 형성할 경우, 낮은 전기전도도를 가지는 노광된 영역(25)은 그 절연 안정성이 조금은 떨어질 수 있다. 이유는 높은 전기전도도를 가지는 금속나노와이어 또는 탄소나노튜브가 노광된 영역(25)에 그대로 존재하고 있기 때문에, 외부 충격이 주어졌을 때 또는 온도에 따른 부피 변화로 인해 전도성 나노 물질(21)이 사로 연결되는 경우 절연성이 조금은 떨어질 수 있다.On the other hand, when the coated conductive film is formed by using only the metal nanowire or the carbon nanotube as the conductive nanomaterial, the exposed region 25 having a low electrical conductivity may slightly lose its insulation stability. The reason for this is that since the metal nanowires having high electrical conductivity or the carbon nanotubes are present in the exposed region 25, when the external impact is applied or the volume of the conductive nanomaterial 21 changes due to temperature change, If it is connected, the insulation may drop a little.

따라서 이를 보완하기 위해서, 코팅액에 연결제를 포함시킴으로서, 노광되어 형성된 절연영역에 물리, 화학적 안정성을 향상시킬 수 있다.Therefore, in order to compensate for this, it is possible to improve the physical and chemical stability of the insulating region formed by exposure by including a coupling agent in the coating liquid.

비노광된 영역(27)에 포함된 연결제는 세척 과정에서 감광성 물질 및 기타 조성물과 함께 세척되어 대부분 제거되기 때문에, 비노광된 영역(27)의 전기전도도에는 큰 영향을 미치지는 않는다.The electrical conductivity of the unexposed area 27 is not greatly affected since the coupler contained in the unexposed area 27 is largely removed by cleaning with the photosensitive material and other composition during the cleaning process.

그리고 본 발명에서는 비노광된 영역(27)이 노광된 영역(25)에 비해서 용해도가 높은 예를 개시하였지만, 감광성 물질의 종류에 따라서 반대의 특성을 나타낼 수도 있다. 즉 노광된 영역(25)이 비노광된 영역(27)에 비해서 용해도가 높은 경우, 노광된 영역(25)이 배선 패턴으로 형성될 수 있다.In the present invention, the non-exposed region 27 has a higher solubility than the exposed region 25, but may exhibit opposite characteristics depending on the type of the photosensitive substance. That is, when the exposed region 25 has a higher solubility than the unexposed region 27, the exposed region 25 can be formed as a wiring pattern.

코팅 전도막(20)을 형성하는 노광된 영역(25)과 비노광된 영역(27)의 폭은 1㎛ 이상이며, 배선 패턴(29)의 형상은 노광에 의해 결정된다. 통상 배선 패턴(29)의 형상은 노광에 사용되는 마스크의 형태에 따라 결정된다.The widths of the exposed region 25 and the non-exposed region 27 forming the coated conductive film 20 are 1 탆 or more and the shape of the wiring pattern 29 is determined by exposure. The shape of the wiring pattern 29 is usually determined according to the shape of the mask used for exposure.

이 밖에 코팅액에 포함될 수 있는 물질로 바인더가 있는데, 바인더는 세척 과정에서 금속나노와이어 또는 탄소나노튜브가 제거되지 않도록 고정하는 역할을 한다. 그리고 코팅성 향상, 환경내구성 향상, 접착성 향상, 내부식성 향상을 위한 첨가제 등이 포함될 수 있다.In addition, there is a binder that can be included in the coating liquid, and the binder serves to fix the metal nanowire or the carbon nanotube not to be removed during the cleaning process. And additives for improving coating properties, improving environmental durability, improving adhesion, and improving corrosion resistance.

이와 같은 본 발명에 따른 코팅 전도막(20)의 제조 방법에 대해서 도 1 내지 도 7을 참조하여 설명하면 다음과 같다. 여기서 도 3은 도 1의 코팅 전도막(20)의 제조 방법에 따른 흐름도이다. 그리고 도 4 내지 도 7은 도 3의 제조 방법에 따른 각 단계를 보여주는 도면들이다.The method of manufacturing the coated conductive film 20 according to the present invention will now be described with reference to FIGS. 1 to 7. FIG. Here, FIG. 3 is a flow chart according to the method of manufacturing the coating conductive film 20 of FIG. And FIGS. 4 to 7 are views showing respective steps according to the manufacturing method of FIG.

먼저 도 4에 도시된 바와 같이, 코팅 전도막을 형성할 기판(10)을 준비한다.First, as shown in FIG. 4, a substrate 10 on which a coated conductive film is to be formed is prepared.

다음으로 도 5에 도시된 바와 같이, S51단계에서 기판(10) 위에 전도성 나노 물질, 연결제, 감광성 물질 및 바인더를 포함하는 감광성 박막(23)을 형성을 형성한다. 즉 본 발명에 따른 감광성 코팅 조성물을 도포하여 감광성 박막(23)을 형성한다. 이때 감광성 코팅 조성물은 전도성 나노 물질, 연결제, 감광성 물질, 바인더 및 물을 포함하며, 기타 조성물을 더 포함할 수 있다. 예컨대 전도성 나노 물질 0.01~5 중량%, 연결제 0.01~3 중량%, 감광성 물질 0.01~3 중량%, 바인더 1 중량% 이하, 기타 조성물 5 중량% 이하가 포함되며, 그 외는 물이 차지할 수 있다.Next, as shown in FIG. 5, a photosensitive thin film 23 including a conductive nanomaterial, a connecting agent, a photosensitive material, and a binder is formed on the substrate 10 in step S51. That is, the photosensitive coating composition according to the present invention is applied to form a photosensitive thin film 23. Wherein the photosensitive coating composition comprises a conductive nanomaterial, a linking agent, a photosensitive material, a binder and water, and may further comprise other compositions. 0.01 to 5% by weight of a conductive nanomaterial, 0.01 to 3% by weight of a binder, 0.01 to 3% by weight of a photosensitive material, 1% by weight or less of a binder and 5% by weight or less of other components.

한편 감광성 박막(23)은 전도성 나노 물질, 연결제, 감광성 물질 및 바인더를 포함하여 하나의 층으로 형성되거나, 전도성 나노 물질층 위에 감광성 물질층이 형성된 구조를 가질 수 있다. 전자와 같이 감광성 박막(23)이 하나의 층으로 형성하는 경우, 분산제, 첨가제 등의 기타 조성물이 함께 포함될 수 있다. 후자의 감광성 박막(23)의 경우, 연결제가 전도성 나노물질 층 또는 감광성 물질층에 포함되며 그 밖에 바인더, 분산제, 첨가제 등의 기타 조성물은 전도성 나노 물질층에 포함된다.Meanwhile, the photosensitive thin film 23 may be formed of one layer including a conductive nanomaterial, a connecting agent, a photosensitive material and a binder, or may have a structure in which a photosensitive material layer is formed on the conductive nanomaterial layer. When the photosensitive thin film 23 is formed as a single layer such as an electron, other compositions such as a dispersing agent, an additive, etc. may be included together. In the case of the latter photosensitive thin film 23, the linking agent is contained in the conductive nanomaterial layer or the photosensitive material layer, and other compositions such as a binder, a dispersant, an additive and the like are included in the conductive nanomaterial layer.

이어서 도 6에 도시된 바와 같이, S53단계에서 감광성 박막(23)의 일부 영역을 노광한다. 즉 노광할 영역에 대응되게 패턴홀(31)이 형성된 마스크(30)를 이용하여 감광성 박막(23)을 자외선으로 노광한다.Subsequently, as shown in FIG. 6, in step S53, a part of the photosensitive thin film 23 is exposed. That is, the photosensitive thin film 23 is exposed to ultraviolet rays by using a mask 30 having a pattern hole 31 corresponding to an area to be exposed.

노광 과정에서 자외선 노출 시간은 일반적으로 수 분 이내, 바람직하게는 수초 이내)이다. 노광 과정에서 전도성 나노 물질과 나노입자의 화학적, 물리적 특성 변화는 거의 없다.The ultraviolet exposure time in the exposure process is generally within a few minutes, preferably within a few seconds). There is little change in the chemical and physical properties of conductive nanomaterials and nanoparticles during the exposure process.

그리고 도 7에 도시된 바와 같이, S55단계에서 노광된 감광성 박막을 용매로 세척 및 건조함으로써, 배선 패턴(29)을 갖는 코팅 전도막(20)이 형성된 전도성 기판(100)을 제조할 수 있다. 즉 비노광된 영역(27)이 노광된 영역(25)에 비해서 용매에 대한 용해도가 상대적으로 높기 때문에, 비노광된 영역(27)에서 감광성 물질 및 기타 조성물의 제거가 더 많이 이루어진다.7, the conductive thin film, which has been exposed in step S55, is washed with a solvent and dried to produce the conductive substrate 100 having the coating conductive film 20 having the wiring pattern 29 formed thereon. The removal of the photosensitive material and other composition in the unexposed area 27 is more likely because the unexposed area 27 is relatively more soluble in solvent than the exposed area 25.

이와 같은 본 발명의 제조 방법으로 제조된 전도성 기판(100)은 코팅 전도막(20)의 직접 식각이 없으며, 코팅 전도막(20)의 특정 영역에서 코팅 전도막(20)의 전도성 필러인 전도성 나노 물질의 손상 및 화학적 변환이 없이 특정 영역에서 전기전도성을 조절하여 전기흐름을 형성할 수 있는 배선 패턴(29)을 갖는 코팅 전도막(20)을 형성할 수 있다.The conductive substrate 100 manufactured by the manufacturing method of the present invention is free from direct etching of the coating conductive film 20 and can be formed in the conductive nano- It is possible to form the coated conductive film 20 having the wiring pattern 29 capable of regulating the electric conductivity in a specific region to form an electric current without damage and chemical conversion of the material.

본 발명에 따른 감광성 박막은 전도성 나노 물질, 연결제, 감광성 물질 및 바인더가 포함되어 있으며, 분산제 및 첨가제 등 기타 조성물 물질이 포함될 수 있다.The photosensitive thin film according to the present invention includes a conductive nanomaterial, a connecting agent, a photosensitive material and a binder, and may include other composition materials such as a dispersant and an additive.

이와 같이 본 발명에 따른 전도성 기판(100)은 기판(10) 위에 전도성 나노 물질 및 연결제와 함께 감광성 물질을 포함하는 감광성 박막을 형성한 후, 형성할 배선 패턴(29)의 형태에 맞게 노광한 후 세척함으로써, 노광된 영역(25)과 비노광된 영역(27) 간의 전기전도도 차이를 갖는 배선 패턴(29)을 갖는 코팅 전도막(20)을 형성할 수 있다.As described above, the conductive substrate 100 according to the present invention is formed by forming a photosensitive thin film containing a photosensitive material together with a conductive nanomaterial and a coupling agent on a substrate 10, exposing the photosensitive thin film to the shape of the wiring pattern 29 to be formed The coated conductive film 20 having the wiring pattern 29 having the electrical conductivity difference between the exposed region 25 and the unexposed region 27 can be formed.

즉 감광성 박막에는 전도성 나노 물질, 연결제 이외에, 분산제 및 첨가제 등과 같은 기타 조성물이 포함되어 있다. 감광성 박막이 광에 노출되면, 감광성 물질 간 또는 감광성 물질과 기타 조성물 간의 물리적 또는 화학적 결합이 형성되거나 끊어져 물과 같은 특정 용매에 대해서 용해도 차이를 형성하게 된다. 용매에 접촉했을 때 감광성 물질 및 기타 조성물이 많이 제거된 영역은 높은 전기전도성을 나타내게 되고, 감광성 물질 및 기타 조성물이 적게 제거된 영역은 낮은 전기전도성을 나타내게 된다. 예컨대 감광성 박막에 대한 노광 후 용매로 세척하면, 노광된 영역(25)에 비해서 비노광된 영역(27)에서 감광성 물질 및 기타 조성물이 상대적으로 많이 제거되기 때문에, 노광된 영역(25)과 비노광된 영역(27)은 전기 흐름의 패턴을 형성할 수 있을 정도로 전기전도도의 차이를 갖게 된다.That is, the photosensitive thin film includes conductive nanomaterials, a linking agent, and other compositions such as dispersants and additives. When the photosensitive thin film is exposed to light, physical or chemical bonds between the photosensitive materials or between the photosensitive material and the other composition are formed or broken to form a difference in solubility with respect to a specific solvent such as water. The area where the photosensitive material and other compositions are removed much when exposed to the solvent exhibits high electrical conductivity and the area where the photosensitive material and other compositions are less removed shows a low electrical conductivity. For example, washing with a post-exposure solvent for the photosensitive film results in a relatively high removal of photosensitive materials and other compositions in the unexposed areas 27 relative to the exposed areas 25, The region 27 has a difference in electric conductivity so as to form a pattern of electric current.

이와 같이 본 발명은 전도성 나노 물질을 포함하는 코팅 전도막(20)에 대한 직접적인 에칭 없이 간단한 노광 방법을 이용하여 코팅 전도막(20)의 국부적 영역에서 전기전도도 차이를 형성하여 특정 패턴 형태로 전기가 흐를 수 있는 배선 패턴(29)을 형성할 수 있다.Thus, the present invention provides a method of forming an electrical conductivity difference in a localized region of a coated conductive film 20 using a simple exposure method without direct etching of the coated conductive film 20 comprising the conductive nanomaterial, It is possible to form the wiring pattern 29 which can flow.

또한 본 발명에 따른 전도성 기판(100)은 노광 후 세척 공정으로 배선 패턴(29)을 형성함으로써, 국부 영역에 있어 전기전도도가 차이가 있는 코팅 전도막(20)을 형성하지만 코팅 전도막(20)의 전도성 필러에 해당하는 전도성 나노 물질이 전기전도도가 서로 다른 영역에 대해서도 비슷하게 분포하며 코팅 전도막(20) 전체에 대해 균일하게 분포시킬 수 있다.In addition, the conductive substrate 100 according to the present invention forms a coating conductive film 20 having a different electrical conductivity in the local region by forming the wiring pattern 29 in the post-exposure cleaning process, The conductive nanomaterials corresponding to the conductive filler of the conductive film 20 may be uniformly distributed over the entire coated conductive film 20 even in regions having different electric conductivities.

또한 본 발명은 코팅 전도막(20)의 특정 영역에서 화학적 및 물리적으로 에칭 되지 않고, 화학적 방법으로 산화되거나 황화물이 형성되지 않고, 물리적으로 전도성 나노 물질이 손상되지 않는 전도성 나노 물질을 포함하는 전도성 기판(100)을 제공할 수 있다.The present invention also relates to a conductive substrate 20 comprising a conductive nanomaterial that is not chemically and physically etched in a particular region of the coated conductive film 20, is not oxidized or sulfide formed by a chemical method, and is not physically damaged by the conductive nanomaterial (100).

또한 본 발명에 따른 코팅 전도막(20)은 노광 및 세척을 진행하더라도 노광된 영역(25) 및 비노광된 영역(27)이 전도성 나노 물질이 유사하게 존재하기 때문에, 패턴 시인성 문제가 발생되는 것을 방지할 수 있다.In addition, the coated conductive film 20 according to the present invention has a problem that a pattern visibility problem occurs due to the presence of the conductive nanomaterials in the exposed region 25 and the unexposed region 27 similarly even when the exposure and cleaning are performed .

또한 본 발명에 따른 코팅 전도막(20)은 연결제를 포함하기 때문에, 나노입자가 포함되지 않은 노광된 영역(25)에 비해 구조적인 안정성을 제공한다. 이로 인해 투명 전도막(20)은 절연 영역에의 구조적인 안정성을 바탕으로, 절연 안정성, 외부 충격, 환경 변화 등에 대한 신뢰성을 제공하고, 향상된 패턴 정밀도를 제공할 수 있다.Also, because the coated conductive film 20 according to the present invention includes a coupling agent, it provides structural stability compared to the exposed areas 25 without nanoparticles. Therefore, the transparent conductive film 20 can provide reliability for insulation stability, external impact, environmental change, and the like, and can provide improved pattern accuracy based on the structural stability in the insulating region.

이와 같은 본 발명에 따른 전도성 기판에 대해서 구체적인 실시예를 통하여 코팅 전도막의 특성을 알아보면 다음과 같다.The characteristics of the coated conductive film will be described below with reference to the conductive substrate according to the present invention.

제1 실시예First Embodiment

본 발명의 제1 실시예에 따른 전도성 기판은 기판으로는 PET 필름을 사용하였고, 전도성 나노 구조체로는 은나노와이어를 사용하였다.The conductive substrate according to the first embodiment of the present invention uses a PET film as a substrate and silver nano wire as a conductive nanostructure.

즉 제1 실시예에서는, 은나노와이어와 수용성 감광 물질인 감광성 폴리비닐알콜, 수분산성 폴리우레탄 바인더를 포함하는 은나노와이어 코팅액을 기판에 코팅하여 노광 및 세척 방법에 의해 전도도가 높은 영역과 전도도가 낮은 영역으로 구성된 패턴을 형성하였다. 은나노와이어는 직경 20~40nm, 길이 10~30㎛ 이었다. 이때 은나노와이어 코팅액에는 은나노와이어(0.15 중량%), 수용성 감광성 물질인 감광성 폴리비닐알콜(0.6 중량%), 분산제 HPMC (0.2 중량%), 수분산성 폴리우레탄 바인더(0.01 중량%)가 포함되어 있다.That is, in the first embodiment, a silver nano wire coating liquid containing a silver nanowire, a photosensitive polyvinyl alcohol as a water-soluble photosensitive material, and a water-dispersible polyurethane binder is coated on a substrate and exposed and washed to form a high conductivity region and a low conductivity region To form a pattern. The silver wire was 20 to 40 nm in diameter and 10 to 30 탆 in length. At this time, silver nano wire (0.15 wt%), photosensitive polyvinyl alcohol (0.6 wt%) as a water-soluble photosensitive material, dispersant HPMC (0.2 wt%) and water dispersible polyurethane binder (0.01 wt%) were contained in the silver nano wire coating solution.

은나노와이어 수분산액은 바코팅 방법으로 기판에 코팅하였고, 코팅된 기판은 온도 130℃에서 1분 동안 건조하였다. 건조된 감광성 박막의 면저항 값은 면저항 측정기로 측정이 되지 않는 정도로 높은 저항을 가지고 있었다(10MΩ/sq 이상). 감광성 박막을 크롬 포토마스크를 이용하여 특정 패턴 형태로 자외선을 3초 동안 조사하였고 130℃에서 5분간 후속 열처리(post baking)하였다. 그리고 용매인 물로 세척하고 건조함으로써, 기판 위에 형성된 제1 실시예에 따른 코팅 전도막을 얻을 수 있다.The silver nano wire aqueous dispersion was coated on the substrate by a bar coating method, and the coated substrate was dried at a temperature of 130 ° C for 1 minute. The sheet resistance value of the dried photosensitive thin film was high (not less than 10 MΩ / sq) so as not to be measured by the sheet resistance meter. The photosensitive thin film was irradiated with ultraviolet rays for 3 seconds in a specific pattern form using a chromium photomask, and post baking was performed at 130 캜 for 5 minutes. Then, the coated conductive film according to the first embodiment formed on the substrate can be obtained by washing with water as a solvent and drying.

제1 실시예에 따른 코팅 전도막의 노광된 영역은, 도 8과 같이 다양한 선폭의 직선으로 형성되고, 노광 라인 폭에 따른 절연성을 조사하였다. 여기서 도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따라 제조된 코팅 전도막의 배선 패턴의 선폭에 따른 절연성 테스트 패턴 구조를 보여주는 도면이다.The exposed areas of the coated conductive film according to the first embodiment were formed by straight lines having various line widths as shown in Fig. 8, and the insulating properties according to the exposure line width were examined. 8 is a view showing a structure of an insulation test pattern according to a line width of a wiring pattern of a coated conductive film manufactured according to the first embodiment of the present invention.

자외선 노광 라인이 약간의 반투명 선으로 시인되는 투명 전도막으로 형성되지만, 그 위에 다른 고분자 물질을 오버코팅하거나 또는 다른 필름을 접합시켰을 때 노광 라인의 반투명 선은 시인되지 않았다.Although the ultraviolet exposure line is formed of a transparent conductive film that is visible with some translucent lines, the translucent lines of the exposure line are not visible when over polymerizing another polymeric material or bonding other films thereon.

노광 라인은 선폭이 다른 직선 형태로 되어 있는데 각각의 노광 라인을 경계로 하여 저항을 측정하였다. A 영역과 B 영역 사이에 형성된 제1 노광 라인(41)은 선폭이 150㎛이다. B 영역과 C 영역 사이에 형성된 제2 노광 라인(42)은 선폭이 100㎛이다. C 영역과 D 영역 사이에 형성된 제3 노광 라인(43)은 선폭이 60㎛이다. D 영역과 E 영역 사이에 형성된 제4 노광 라인(44)은 선폭이 40㎛이다. E 영역과 F 영역 사이에 형성된 제5 노광 라인(45)은 선폭이 30㎛이다. 그리고 F 영역과 G 영역 사이에 형성된 제6 노광 라인(46)은 선폭이 20㎛이다. 제1 내지 제6 노광 라인은 80mm의 길이로 형성하였다.The exposure line has a linear shape with different line widths, and the resistance is measured with each exposure line as a boundary. The first exposure line 41 formed between the A region and the B region has a line width of 150 mu m. And the second exposure line 42 formed between the B region and the C region has a line width of 100 mu m. The third exposure line 43 formed between the C region and the D region has a line width of 60 mu m. The fourth exposure line 44 formed between the D region and the E region has a line width of 40 mu m. The fifth exposure line 45 formed between the E region and the F region has a line width of 30 mu m. And the sixth exposure line 46 formed between the F region and the G region has a line width of 20 mu m. The first to sixth exposure lines were formed to have a length of 80 mm.

제1 내지 제4 노광 라인(41,42,43,44)의 저항 값은 모두 10MΩ/sq 이상으로 저항측정기로 저항 측정이 불가능할 만큼 노광 라인의 절연성이 높았다. 제5 노광 라인(45)의 저항 값은 20~30 kΩ, 제6 노광 라인(46)의 저항 값은 2kΩ 수준의 저항이 측정되었다.The resistance values of the first to fourth exposure lines 41, 42, 43 and 44 were all 10 MΩ / sq or more, and the insulation of the exposure line was high enough that the resistance measurement by the resistance measuring device was impossible. The resistance value of the fifth exposure line 45 was 20 to 30 kΩ, and the resistance value of the sixth exposure line 46 was measured to be 2 kΩ.

A, B, C, D, E, F, G 영역은 각각의 비노광된 영역으로 세척에 의해 감광성 물질이 제거된 영역으로 높은 전기전도도를 가지는 영역이다. 이 영역에서 면저항 값은 120~150Ω/sq 수준이며, 광투과율은 90%, 헤이즈는 1.5 이었다.The regions A, B, C, D, E, F, and G are regions that have a high electrical conductivity to a region where the photosensitive material is removed by washing into each unexposed region. In this region, the sheet resistance value was 120 ~ 150? / Sq, the light transmittance was 90%, and the haze was 1.5.

또한 자외선 노광으로 인해 은나노와이어 자체의 손상 없음을 전기적 특성으로 확인하기 위해, 제1 실시예에 따른 전도성 기판을 같은 조건의 자외선에 다시 5초가 노출한 후 그림 A, B, C, D, E, F, G 각각 영역의 면저항을 다시 측정하였다. 측정 결과, 자외선 노광 전의 A, B, C, D, E, F, G 영역의 면저항은 120~150Ω/sq 이였고 광투과율 90%이었는데, 자외선 5초 노광 후 A, B, C, D, E, F, G 영역의 면저항도 120~150Ω/sq 이였고 광투과율도 90%로 나타나 5초 이내 자외선 노광으로 은나노와이어의 손상은 거의 없음을 알 수 있다.B, C, D, E, and E after exposing again 5 seconds to ultraviolet rays of the same condition on the conductive substrate according to the first embodiment, in order to confirm the damage of the silver nano wire itself by the ultraviolet ray exposure, F, and G, respectively. The sheet resistances of A, B, C, D, E, F and G before UV exposure were 120 ~ 150 Ω / sq and the light transmittance was 90% , The surface resistances of the F and G regions were 120 ~ 150 Ω / sq and the light transmittance was 90%, indicating that the ultraviolet exposure did not damage the silver nano wire within 5 seconds.

노광된 영역의 절연 안정성을 확인하기 위해, 제1 실시예에 따른 코팅 전도막을 130도 오븐에서 1시간 동안 보관한 후, A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항, D-E저항 , E-F 저항, F-G저항 값을 측정하였다. 측정 결과 A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항은 10MΩ/sq 이상으로 저항 측정기의 측정 범위를 벗어나는 것을 확인하였다. 하지만 D-E저항 4.6 kΩ, E-F저항, F-G 저항은 모두 1kΩ 이하 수준의 저항이 감소하였다. 즉 130도 열처리 과정에서 노광된 영역에서 감광성 물질과 전도성 나노 물질이 재배열 되어 전기적인 연결이 형성되어 절연성이 일부 떨어진 것으로 판단된다.In order to confirm the insulation stability of the exposed area, the coated conductive film according to the first embodiment was stored in an oven at 130 ° C for 1 hour, and AB resistance, BC resistance, CD resistance, DE resistance, EF resistance, Respectively. As a result, it was confirmed that the A-B resistance, B-C resistance, and C-D resistance exceeded the measurement range of the resistance measuring device by more than 10 MΩ / sq. However, the D-E resistance of 4.6 kΩ, the E-F resistance, and the F-G resistance all decreased to less than 1 kΩ. That is, it is judged that the insulating property is partially deteriorated due to the electrical connection by rearranging the photosensitive material and the conductive nanomaterial in the exposed region in the 130 ° heat treatment process.

제2 실시예Second Embodiment

제2 실시예에서는 제1 실시예에 따른 은나노와이어 수분산액과 수용성 감광 물질인 감광성 폴리비닐알콜, 수분산성 폴리우레탄 바인더 이외에, 연결제에 해당하는 중크롬산암모늄을 포함한 코팅액을 기판에 코팅하여 동일하게 패턴을 형성하였다. 이때 코팅액에는 은나노와이어(0.15 중량%), 중크롬산암모늄(0.1 중량%), 수용성 감광성 물질인 감광성 폴리비닐알콜(0.6 중량%), 분산제 HPMC (0.2 중량%), 수분산성 폴리우레탄 바인더(0.01 중량%)가 포함되어 있다.In the second embodiment, in addition to the silver nanowire dispersion according to the first embodiment, a coating liquid containing ammonium dichromate corresponding to a coupling agent, in addition to photosensitive polyvinyl alcohol and water-dispersible polyurethane binder, which is an aqueous photosensitive material, . (0.1 wt%), ammonium dichromate (0.1 wt%), photosensitive polyvinyl alcohol (0.6 wt%) as a water-soluble photosensitive material, dispersant HPMC (0.2 wt%), water- dispersible polyurethane binder (0.01 wt% ).

도 8에 도시된 바와 같이, A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항, D-E저항 값은 모두 10MΩ/sq 이상으로 저항 측정기로 저항 측정이 불가능할 만큼 노광 라인의 절연성이 높았으며, E-F저항은 36 kΩ, F-G 저항은 3kΩ 수준의 저항이 측정되었다. 즉 A, B, C, D, E, F, G 영역은 각각의 비노광된 영역으로 세척에 의해 감광성 물질 및 기타조성물이 제거된 영역으로 높은 전기전도도를 가지는 영역이다. 이 영역에서 면저항 값은 120~150Ω/sq 수준이며 광투과율은 90%, 헤이즈 1.7 이었다.As shown in FIG. 8, the AB resistance, the BC resistance, the CD resistance, and the DE resistance were all 10 M OMEGA / sq or more, and the insulation resistance of the exposure line was high enough to make resistance measurement impossible with the resistance meter. The resistance was measured at the level of 3kΩ. That is, the A, B, C, D, E, F, and G regions are areas having high electrical conductivity to the areas where photosensitive materials and other compositions have been removed by washing into respective unexposed areas. In this region, the sheet resistance value was 120 ~ 150? / Sq, the light transmittance was 90%, and the haze was 1.7.

또한 자외선 노광으로 인해 은나노아이어 자체의 손상 없음을 전기적 특성으로 확인하기 위해, 제2 실시예에 따른 전도성 기판을 같은 조건의 자외선에 다시 5초 동안 노출한 후 그림 A, B, C, D, E, F, G 각각 영역의 면저항을 측정하였다. 자외선 노광 전의 A, B, C, D, E, F, G 영역의 면저항은 120~150Ω/sq 이였고, 광투과율 90%, 헤이즈는 1.7이었다. 하지만 자외선 5초 노광 후 A, B, C, D, E, F, G 영역의 면저항도 120~150Ω/sq 이였고, 광투과율 90%, 헤이즈 1.7로 나타나 5초 이내 자외선 노광으로 은나노와이어의 손상은 거의 없음을 알 수 있다.B, C, D, and E after exposure to the ultraviolet rays of the same condition for 5 seconds in order to confirm the absence of damage of the silver nanoaire itself due to the ultraviolet ray exposure, , F, and G, respectively. The sheet resistances of the regions A, B, C, D, E, F, and G before UV exposure were 120-150? / Sq, the light transmittance was 90%, and the haze was 1.7. However, after 5 seconds exposure to ultraviolet rays, the sheet resistance of the regions A, B, C, D, E, F, and G was 120-150? / Sq. The light transmittance was 90% It can be seen that there is almost no.

그리고 고온에서의 절연 안정성을 확인하기 위해, 제2 실시예에 따른 코팅 전도막을 130도 오븐에서 1시간 동안 보관한 후, A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항, D-E저항, E-F 저항, F-G저항 값을 측정하였다. 측정 결과 A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항, D-E 저항은 10MΩ/sq 이상으로 저항 측정기의 측정 범위를 벗어났고, E-F저항 57kΩ, F-G 저항은 3kΩ 수준으로 저항 변화가 거의 없는 것을 확인할 수 있다.In order to confirm the insulation stability at a high temperature, the coated conductive film according to the second embodiment was stored in an oven at 130 ° C for 1 hour, and AB resistance, BC resistance, CD resistance, DE resistance, EF resistance, Respectively. As a result, the A-B resistance, the B-C resistance, the C-D resistance and the D-E resistance exceed 10 MΩ / sq and the resistance of the E-F resistance is 57 kΩ and the F-G resistance is 3 kΩ.

이와 같이 제2 실시예에 따른 코팅 전도막은 중크롬산암모늄과 같은 연결제를 포함하기 때문에, 중크롬산암모늄이 포함되지 않은 노광된 영역에 비해 절연 안정성이 향상된 것을 확인할 수 있다.As described above, since the coated conductive film according to the second embodiment includes the coupling agent such as ammonium dichromate, it can be confirmed that the insulation stability is improved as compared with the exposed area not containing ammonium dichromate.

제3 실시예Third Embodiment

제3 실시예로 탄소나노튜브/은나노와이어 감광성 코팅액을 이용하여 전도도가 높은 영역과 전도도가 낮은 영역으로 구성된 패턴을 형성하였다.In the third embodiment, a pattern composed of a region having a high conductivity and a region having a low conductivity was formed using a carbon nanotube / silver nano wire photosensitive coating solution.

탄소나노튜브/은나노와이어 감광성 코팅액에는 단일벽 탄소나노튜브와 직경 20~40nm, 길이 10~30㎛의 은나노와이어, 그리고 폴리에틸렌이민 바인더가 포함되어 있다. 이때 탄소나노튜브/은나노와이어 수분산액에는 탄소나노튜브 0.1 중량%, 은나노와이어 0.1 중량 %, HPMC 0.1 중량% 수용성 감광성 물질인 감광성 폴리비닐알콜 0.6 중량%, 폴리에틸렌이민 바인더 0.01 중량%가 포함되어 있다.The carbon nanotube / silver nanowire photosensitive coating solution includes single wall carbon nanotubes, silver nanowires of 20 to 40 nm in diameter, 10 to 30 μm in length, and polyethylene imine binders. At this time, 0.1 wt% of carbon nanotubes, 0.1 wt% of silver nanowires, 0.1 wt% of HPMC, 0.6 wt% of photosensitive polyvinyl alcohol as a water-soluble photosensitive material, and 0.01 wt% of a polyethyleneimine binder are contained in the carbon nanotube / silver nano wire aqueous dispersion.

탄소나노튜브/은나노와이어 수분산액에는 단일벽 탄소나노튜브와 직경 20~40nm, 길이 10~30㎛의 은나노와이어가 포함되어 있고, 폴리우레탄 바인더가 포함되어 있다. 탄소나노튜브/은나노와이어 수분산액은 바코팅 방법으로 PET 필름에 코팅하였고, 코팅된 기판은 온도 130℃에서 1분 동안 건조하였다. 건조된 감광성 박막의 면저항 값은 면저항 측정기로 측정이 되지 않는 정도로 높은 저항을 가지고 있었다(10MΩ/sq 이상). 감광성 박막을 크롬 포토마스크를 이용하여 특정 패턴 형태로 자외선을 3초 동안 조사하였고 130℃에서 5분간 후속 열처리하였다. 그리고 용매인 물로 세척하고 건조함으로써, 기판 위에 형성된 제3 실시예에 따른 코팅 전도막을 얻을 수 있다.The carbon nanotube / silver nanowire aqueous dispersion includes single wall carbon nanotubes, silver nano wires having a diameter of 20 to 40 nm and a length of 10 to 30 μm, and a polyurethane binder. The carbon nanotube / silver nanowire water dispersion was coated on a PET film by a bar coating method, and the coated substrate was dried at a temperature of 130 ° C for 1 minute. The sheet resistance value of the dried photosensitive thin film was high (not less than 10 MΩ / sq) so as not to be measured by the sheet resistance meter. The photosensitive thin film was irradiated with ultraviolet rays for 3 seconds in a specific pattern form using a chromium photomask and subjected to subsequent heat treatment at 130 캜 for 5 minutes. Then, the coated conductive film according to the third embodiment formed on the substrate can be obtained by washing with water as a solvent and drying.

제3 실시예에 따른 코팅 전도막의 노광된 영역은, 도 8과 같이 다양한 선폭의 직선으로 형성되고, 노광 라인 폭에 따른 절연성을 조사하였다.The exposed regions of the coated conductive film according to the third embodiment were formed by straight lines having various line widths as shown in Fig. 8, and the insulating properties according to the exposure line width were examined.

그 결과 자외선 노광 라인이 약간의 반투명 선으로 시인되는 투명 전도막으로 형성되지만, 그 위에 다른 고분자 물질을 오버코팅하거나 또는 다른 필름을 접합시켰을 때 노광 라인의 반투명 선은 시인되지 않았다.As a result, the ultraviolet exposure line is formed of a transparent conductive film that is visible with a slight translucent line, but the translucent line of the exposure line is not visible when over polymerizing another polymeric material thereon or joining another film.

제1 내지 제4 노광 라인(41,42,43,44)의 저항 값은 모두 10MΩ/sq 이상으로 저항측정기로 저항 측정이 불가능할 만큼 노광 라인의 절연성이 높았다. 제5 노광 라인(45)의 저항 값은 30~50 kΩ, 제6 노광 라인(46)의 저항 값은 3kΩ 수준의 저항이 측정되었다.The resistance values of the first to fourth exposure lines 41, 42, 43 and 44 were all 10 MΩ / sq or more, and the insulation of the exposure line was high enough that the resistance measurement by the resistance measuring device was impossible. The resistance value of the fifth exposure line 45 was 30 to 50 kΩ, and the resistance value of the sixth exposure line 46 was measured to be 3 kΩ.

A, B, C, D, E, F, G 영역은 각각의 비노광된 영역으로 세척에 의해 감광성 물질이 제거된 영역으로 높은 전기전도도를 가지는 영역이다. 이 영역에서 면저항 값은 110~140Ω/sq 수준이며, 광투과율은 89%, 헤이즈는 1.3 이었다.The regions A, B, C, D, E, F, and G are regions that have a high electrical conductivity to a region where the photosensitive material is removed by washing into each unexposed region. In this region, the sheet resistance value was 110 ~ 140? / Sq, the light transmittance was 89%, and the haze was 1.3.

또한 자외선 노광으로 인해 은나노와이어 자체의 손상이 없음을 전기적 특성으로 확인하기 위해, 제3 실시예에 따른 전도성 기판을 같은 조건의 자외선에 다시 5초가 노출한 후 그림 A, B, C, D, E, F, G 각각 영역의 면저항을 측정하였다. 측정 결과, 자외선 노광 전의 A, B, C, D, E, F, G 영역의 면저항은 110~140Ω/sq로 측정되었으며 광투과율 89%, 헤이즈 1.3 이었는데, 자외선 5초 노광 후 A, B, C, D, E, F, G 영역의 면저항도 110~135Ω/sq 이였고 광투과율도 89%, 헤이즈 1.3으로 나타나, 5초 이내 자외선 노광으로 코팅 전도막의 특성 저하가 거의 없음을 확인할 수 있다.B, C, D and E after exposing the conductive substrate according to the third embodiment to ultraviolet rays of the same condition for 5 seconds to confirm that there is no damage to the silver nano wire itself due to ultraviolet exposure. , F, and G, respectively. The sheet resistances of the A, B, C, D, E, F and G regions before UV exposure were measured at 110 to 140 Ω / sq, with a light transmittance of 89% and a haze of 1.3. , The sheet resistance of the D, E, F, and G regions was 110 to 135? / Sq, the light transmittance was 89%, and the haze was 1.3, indicating that the characteristics of the coated conductive film were hardly degraded by ultraviolet exposure within 5 seconds.

노광된 영역의 절연 안정성을 확인하기 위해, 도 8에 도시된 바와 같은 형태의 제3 실시예에 따른 코팅 전도막을 130도 오븐에서 1시간 동안 보관하고, A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항, D-E 저항 , E-F 저항, F-G 저항 값을 측정하였다. 측정 결과 A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항은 10MΩ/sq 이상으로 저항 측정기의 측정 범위를 벗어났지만, D-E 저항 10 kΩ, E-F 저항, F-G 저항은 각각 3kΩ 이하 수준의 저항이 감소하였다. 즉 130도 열처리 과정에서 노광된 영역에서 감광성 물질과 전도성 나노 물질이 재배열 되어 전기적인 연결이 형성되어 절연성이 일부 떨어진 것으로 판단된다.In order to confirm the insulation stability of the exposed area, the coated conductive film according to the third embodiment of the form as shown in Fig. 8 was stored in a 130 degree oven for 1 hour, and AB resistance, BC resistance, CD resistance, DE resistance , EF resistance, and FG resistance were measured. As a result, the resistances of A-B, B-C and C-D resistors exceeded 10 MΩ / sq, but resistance of D-E resistors of 10 kΩ, E-F resistance and F-G resistance decreased to 3 kΩ or less. That is, it is judged that the insulating property is partially deteriorated due to the electrical connection by rearranging the photosensitive material and the conductive nanomaterial in the exposed region in the 130 ° heat treatment process.

제4 실시예Fourth Embodiment

제4 실시예에서는 제3 실시예에 따른 탄소나노튜브/은나노와이어 수분산액과 수용성 감광 물질인 감광성 폴리비닐알콜, 폴리에틸렌이민 바인더 이외에, 연결제에 해당하는 카브복시에틸아크릴레이트를 포함한 코팅액을 기판에 코팅하여 동일하게 패턴을 형성하였다. 이때 코팅액에는 탄소나노튜브 0.1 중량%, 은나노와이어 0.1 중량 %, 카브복시에틸아크릴레이트 0.1 중량%, HPMC 0.1 중량%, 수용성 감광성 물질인 감광성 폴리비닐알콜 0.6 중량%, 폴리에틸렌이민 바인더 0.01 중량%가 포함되어 있다.In the fourth embodiment, a coating solution containing carboboxy ethyl acrylate corresponding to the coupling agent, in addition to the dispersion of the carbon nanotube / silver nano wire aqueous dispersion according to the third embodiment, the photosensitive polyvinyl alcohol as the water-soluble photosensitive material, and the polyethyleneimine binder, And the same pattern was formed. At this time, 0.1 wt% of carbon nanotubes, 0.1 wt% of silver nanowires, 0.1 wt% of carboxy ethyl acrylate, 0.1 wt% of HPMC, 0.6 wt% of photosensitive polyvinyl alcohol as a water-soluble photosensitive material, and 0.01 wt% of a polyethyleneimine binder .

도 8에 도시된 바와 같이, A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항, D-E 저항 값은 모두 10MΩ/sq 이상으로 저항 측정기로 저항 측정이 불가능할 만큼 노광 라인 영역의 절연성이 높았으며, E-F 저항은 55 kΩ, F-G 저항은 6kΩ 수준의 저항이 측정되었다. A, B, C, D, E, F, G 영역은 각각의 비노광된 영역으로 세척에 의해 감광성 물질 및 기타조성물이 제거된 영역으로 높은 전기전도도를 가지는 영역이다. 이 영역에서 면저항 값은 130Ω/sq 수준이며 광투과율은 89.5%, 헤이즈 1.6 이었다. 8, the AB resistance, the BC resistance, the CD resistance, and the DE resistance were all 10 M OMEGA / sq or more and the insulating property of the exposure line area was high enough to make resistance measurement impossible with the resistance measuring instrument. The EF resistance was 55 kΩ, The FG resistance was measured at a resistance of 6kΩ. The areas A, B, C, D, E, F, and G are areas with high electrical conductivity to areas where photosensitive materials and other compositions have been removed by washing into respective unexposed areas. In this region, the sheet resistance value was 130? / Sq, the light transmittance was 89.5%, and the haze was 1.6.

또한 자외선 노광으로 인해 은나노와이어 자체의 손상이 없음을 전기적 특성으로 확인하기 위해, 제4 실시예에 따른 전도성 기판을 같은 조건의 자외선에 다시 5초가 노출한 후, A, B, C, D, E, F, G 각각 영역의 면저항을 측정하였다. 자외선 노광 전의 A, B, C, D, E, F, G 영역의 면저항은 110~140Ω/sq로 측정되었으며, 광투과율 89%, 헤이즈 1.3으로 수준이었는데, 자외선 5초 노광 후 A, B, C, D, E, F, G 영역의 면저항도 110~135Ω/sq 이였고, 광투과율 89.4%, 헤이즈 1.6으로 5초 이내 자외선 노광으로 전도막의 특성 저하가 거의 없음을 확인할 수 있다. In order to confirm that the silver nano wire itself is not damaged due to ultraviolet ray exposure, the conductive substrate according to the fourth embodiment is exposed to ultraviolet rays of the same condition for 5 seconds, and then A, B, C, D, E , F, and G, respectively. The sheet resistances of the regions A, B, C, D, E, F and G before UV exposure were 110-140? / Sq and the light transmittance was 89% and the haze was 1.3. , And the sheet resistance of the D, E, F, and G regions was 110 to 135? / Sq. The light transmittance was 89.4% and the haze was 1.6.

그리고 고온에서의 절연 안정성을 확인하기 위해, 도 8에 도시된 바와 같은 형태의 제4 실시예에 따른 코팅 전도막을 130도 오븐에서 1시간 동안 보관하고, A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항, D-E 저항, E-F 저항, F-G저항 값을 측정하였다. 그 결과 A-B 저항, B-C 저항, C-D 저항, D-E 저항은 10MΩ/sq 이상으로 저항 측정기의 측정 범위 이상으로 절연성이 뛰어났으며, E-F저항 32kΩ, F-G 저항은 2kΩ 수준으로 저항 변화가 거의 없는 것을 확인할 수 있다.In order to confirm the insulation stability at a high temperature, the coated conductive film according to the fourth embodiment as shown in Fig. 8 was stored in a 130 degree oven for 1 hour, and AB resistance, BC resistance, CD resistance, DE resistance , EF resistance, and FG resistance were measured. As a result, AB resistance, BC resistance, CD resistance, and DE resistance were more than 10MΩ / sq, and the insulation was excellent beyond the measurement range of the resistance measuring device. The EF resistance was 32kΩ and the FG resistance was 2kΩ. have.

이와 같이 제4 실시예에 따른 코팅 전도막은 카브복시에틸아크릴레이트를 포함하기 때문에, 카브복시에틸아크릴레이트가 포함되지 않은 노광된 영역에 비해 절연 안정성이 향상된 것을 확인할 수 있다.As described above, since the coated conductive film according to the fourth embodiment includes the covarbose ethyl acrylate, it can be confirmed that the insulation stability is improved as compared with the exposed area not containing the covarbose ethyl acrylate.

한편, 본 명세서와 도면에 개시된 실시예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명한 것이다.It should be noted that the embodiments disclosed in the present specification and drawings are only illustrative of specific examples for the purpose of understanding, and are not intended to limit the scope of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art that other modifications based on the technical idea of the present invention are possible in addition to the embodiments disclosed herein.

10 : 기판
20 : 코팅 전도막
21 : 전도성 나노 물질
23 : 감광성 박막
25 : 노광된 영역
27 : 비노광된 영역
29 : 배선 패턴
30 : 마스크
31 : 패턴홀
100 : 전도성 기판10: substrate
20: Coated conductive film
21: Conductive nanomaterials
23: Photosensitive thin film
25: exposed area
27: unexposed area
29: wiring pattern
30: Mask
31: pattern hole
100: conductive substrate

Claims (8)

전도성 나노 물질 0.01~5 중량%, 연결제 0.01~3 중량%, 자외선 감광성 물질 0.1~5 중량% 및 바인더 1 중량% 이하를 포함하되,
상기 연결제는 산, 광산 발생제, 열산 발생제 또는 중크롬산염을 포함하고,
상기 자외선 감광성 물질은 감광성 작용기로 N-methyl-4(4'-formylstyryl)pyridinium methosulfate acetal 작용기를 가진 폴리비닐알콜인 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막 제조용 감광성 코팅 조성물.0.01 to 5% by weight of a conductive nanomaterial, 0.01 to 3% by weight of a linking agent, 0.1 to 5% by weight of an ultraviolet sensitive material and 1% by weight or less of a binder,
Wherein the linking agent comprises an acid, a photoacid generator, a thermal acid generator or a dichromate salt,
Wherein the ultraviolet light sensitive material is a photosensitive functional group and is polyvinyl alcohol having N-methyl-4 (4'-formylstyryl) pyridinium methosulfate acetal functional group. 제1항에 있어서, 상기 연결제는
0.01~3 중량%의 광산 발생제, 0.01~3 중량%의 열산 발생제, 0.01~1 중량%의 중크롬산염, 및 감광성 코팅 조성물의 pH가 3~6이 되도록 포함되는 산 중에 하나인 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막 제조용 감광성 코팅 조성물.2. The connector according to claim 1,
0.01 to 3% by weight of a photoacid generator, 0.01 to 3% by weight of a thermal acid generator, 0.01 to 1% by weight of a dichromate, and an acid contained in the photosensitive coating composition such that the pH of the photosensitive coating composition is 3 to 6 Wherein the photosensitive coating composition is a transparent conductive film. 제1항에 있어서,
상기 전도성 나노 물질은 금속나노와이어 또는 탄소나노튜브이고,
상기 바인더는 수분산성 폴리우레탄 또는 양이온성 고분자전해질인 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막 제조용 감광성 코팅 조성물.The method according to claim 1,
The conductive nanomaterial is a metal nanowire or a carbon nanotube,
Wherein the binder is a water-dispersible polyurethane or a cationic polymer electrolyte. 제1항에 있어서,
그래핀, 산화그래핀, 탄소나노플레이트, 카본블랙 또는 전도성 고분자 0.01~3 중량%가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막 제조용 감광성 코팅 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the conductive coating layer further comprises 0.01 to 3% by weight of graphene, oxide graphene, carbon nanoplate, carbon black or conductive polymer. 기판 상에 형성된 투명 전극용 코팅 전도막으로,
전도성 나노 물질, 연결제, 자외선 감광성 물질 및 바인더를 포함하며, 자외선 노광 및 세척에 의해 노광된 영역과 비노광된 영역이 형성되고, 상기 비노광된 영역이 노광된 영역 대비 2배 이상의 전기전도도를 가지며, 상기 연결제는 산, 광산 발생제, 열산 발생제 또는 중크롬산염을 포함하고, 상기 노광된 영역과 비노광된 영역에 균일하게 상기 전도성 나노 물질이 분포하는 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막.A coated conductive film for a transparent electrode formed on a substrate,
Wherein the exposed and unexposed areas are formed by ultraviolet exposure and cleaning, and wherein the unexposed area is at least two times the electrical conductivity of the exposed area, wherein the exposed area comprises a conductive nanomaterial, a connector, an ultraviolet sensitive material and a binder. And the conductive agent includes an acid, a photoacid generator, a thermal acid generator, or a dichromate, and the conductive nanomaterial is uniformly distributed in the exposed region and the unexposed region. membrane. 제5항에 있어서,
상기 전도성 나노 물질은 금속나노와이어 또는 탄소나노튜브이고,
상기 자외선 감광성 물질은 감광성 작용기로 N-methyl-4(4'-formylstyryl)pyridinium methosulfate acetal 작용기를 가진 폴리비닐알콜이고,
상기 바인더는 수분산성 폴리우레탄 또는 양이온성 고분자전해질인 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막.6. The method of claim 5,
The conductive nanomaterial is a metal nanowire or a carbon nanotube,
The ultraviolet sensitive material is a photosensitive functional group, polyvinyl alcohol having N-methyl-4 (4'-formylstyryl) pyridinium methosulfate acetal functional group,
Wherein the binder is a water-dispersible polyurethane or a cationic polymer electrolyte. 제5항에 있어서,
상기 비노광된 영역은 상기 노광된 영역에 비해서 상기 자외선 감광성 물질이 세척 과정에서 더 많이 제거되어 그 잔류물 함량이 더 낮은 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막.6. The method of claim 5,
Wherein the unexposed region is further removed in the cleaning process so that the ultraviolet sensitive material is lower in residual content than the exposed region. 제5항에 있어서,
상기 노광된 영역은 상기 비노광된 영역에 비해 상기 전도성 나노 물질과 상기 연결제가 상기 자외선 감광성 물질에 더 많이 함침되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 전극용 코팅 전도막.6. The method of claim 5,
Wherein the exposed region is more impregnated with the ultraviolet sensitive material than the non-exposed region. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI >
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