KR101458230B1 - Polyester film and manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 필름 자체가 광확산성을 가지면서 필름 전면에 걸쳐 고른 헤이즈값을 나타내어 궁극적으로는 광학 필름으로 적용시 균일한 휘도를 나타낼 수 있는 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a polyester film, and more particularly, to a polyester film having a light diffusing property and exhibiting a uniform haze value over the entire surface of the film, and ultimately exhibiting a uniform luminance when applied to an optical film.
Description
본 발명은 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 특히 각종 디스플레이용으로 사용될 수 있는 폴리에스테르 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a polyester film, and more particularly to a polyester film which can be used for various displays.
이축 연신 폴리에스테르 필름은 다른 플라스틱 필름에 비하여 우수한 투명성, 치수안정성 및 내화학성 등의 특성 때문에 광학용 필름의 기재필름으로 널리 사용되고 있다. The biaxially stretched polyester film is widely used as a substrate film for optical films because of its excellent transparency, dimensional stability and chemical resistance compared with other plastic films.
광확산 필름은 광원의 빛을 효과적으로 이용하기 위하여 투명한 기재 필름에 기능층으로서 광확산 층을 코팅하여 사용하는데, 이 경우 별도의 코팅 공정을 거쳐야 할 뿐만 아니라, 소정의 광학 특성을 유지하기 위하여 고가의 유기입자를 다량 사용해야 하기 때문에 제조비용이 매우 높다.In order to effectively utilize light of a light source, a light diffusion layer is coated on a transparent base film as a functional layer. In this case, a separate coating process is required. In addition, in order to maintain predetermined optical properties, The manufacturing cost is very high because a large amount of organic particles must be used.
또한, 코팅 시 건조 공정에 있어서, 변형이 발생하기 쉽고, 코팅 층에 의해 컬이 발생하기 쉬워 필름의 평활도가 불량해지는 문제를 안고 있으며, 제품 용도상 쉬트 성형 등 일련의 후 가공 공정을 거치는데, 이 경우 코팅층이 약하여 손상이 되기 쉽다.In addition, there is a problem that the film tends to be deformed and curling is generated by the coating layer in the drying process during coating, resulting in a poor smoothness of the film, and a series of post- In this case, the coating layer is fragile and prone to damage.
이러한 점에서, 이축 연신 폴리에스테르 필름 자체에 광확산성을 갖게 하는 시도가 제안되어 있다. 지금까지 제안되어 온 이축연신 폴리에스테르 필름 자체에 광확산성을 갖게 하는 시도는 이축연신 폴리에스테르 필름의 본래 가지고 있는 특징 중 어느 하나를 손실하는 것이거나, 광선투과율과 광확산성이라는 광확산성 필름이 구비해야 할 특성을 손실하는 것으로 실용화에는 이르지 못하고 있다.In view of this, an attempt has been made to provide light-diffusing properties to the biaxially stretched polyester film itself. An attempt to impart the light diffusing property to the biaxially stretched polyester film itself which has been proposed hitherto has the disadvantage that either one of the inherent characteristics of the biaxially stretched polyester film is lost or that the light diffusing film It is difficult to reach practical use because it loses characteristics to be provided.
예를 들면 일본국 공개특허 공개 제2001-272508호에는 기재 필름이 폴리에틸렌테레프탈레이트로 되고, 광확산층을 구성하는 수지로서 융점이 200℃ 이하인 저융점 폴리에스테르 수지를 사용한 다층 타입의 이축연신 폴리에스테르 필름이 개시되어 있다. 여기에 개시된 방법에 있어서는, 광확산제의 주위에 발현하고 투명성을 저해하는 보이드의 억제가 배려되어 있다. 이에 따라 광선 투과율과 광확산성의 균형은 이축연신 폴리에스테르 필름 표면에, 미립자를 함유하는 투명수지로 되는 광확산층을 코팅하여 얻어지는 종래 광확산성 필름의 그것과 필적한다. 그러나 여기에 기재된 방법으로 얻어지는 광확산성 필름은 기재층을 구성하는 폴리에스테르 수지와 광확산층을 구성하는 폴리에스테르 수지 사이에 큰 융점차가 있다. 그 결과 얻어진 이축연신 필름은 광확산층과 기재 필름간의 선팽창계수가 상이하므로 이축연신 필름 자체가 열처리시에 컬이 발생되기 쉬워진다. 이로 인해 후가공 공정에서의 열처리에 의해 컬이 발생하거나, 액정 디스플레이의 사용환경(온도)에 따라 컬이 발생하는 경우가 있어 백라이트 유닛에 있어서 광출사면의 휘도가 불균일해질 가능성이 있다. For example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2001-272508 discloses a multilayer type biaxially stretched polyester film using a low-melting-point polyester resin having a melting point of 200 占 폚 or less as a resin constituting the light diffusing layer and a base film made of polyethylene terephthalate . In the method disclosed here, suppression of voids which are expressed around the light-diffusing agent and hinder transparency is considered. Accordingly, a balance between light transmittance and light diffusibility is comparable to that of a conventional light-diffusing film obtained by coating a light diffusing layer made of a transparent resin containing fine particles on the surface of a biaxially stretched polyester film. However, the light-diffusing film obtained by the method described herein has a large melting point difference between the polyester resin constituting the base layer and the polyester resin constituting the light-diffusing layer. The resulting biaxially stretched film has a different coefficient of linear expansion between the light diffusing layer and the base film, so that the biaxially stretched film itself is liable to generate curl upon heat treatment. This may cause curling due to the heat treatment in the post-processing process, or curl may occur depending on the use environment (temperature) of the liquid crystal display, so that there is a possibility that the brightness of the light emitting surface in the backlight unit becomes uneven.
본 발명의 일 구현예에서는 필름 전면에 걸쳐 균일한 헤이즈값을 가지며, 필름 자체에 광확산성을 갖도록 한 이축연신 폴리에스테르 필름을 제공하고자 한다. In one embodiment of the present invention, there is provided a biaxially stretched polyester film having a uniform haze value over the entire surface of the film and having light diffusibility in the film itself.
본 발명의 일 구현예에서는 양 면에 표층이 있는, 폴리에스테르 중합체 기재층을 포함하고, An embodiment of the present invention includes a polyester polymer substrate layer having a surface layer on both faces,
(A) 표층을 제외한 폴리에스테르 중합체 기재층은 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 매트릭스로 하고;(A) the polyester polymer base layer excluding the surface layer is a polyester resin having a melting point of Tm 1 as a matrix;
(B) 표층은, (a) 투명한 수지 매트릭스에 분산된 광확산성 입자를 포함하고, (b) 투명한 수지 매트릭스는 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 20 내지 80중량%와 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지 20 내지 80중량%로 되며, (c) SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 갖고, (d) 각각의 표층에 포함되는 입자는 각 층간 서로 평균입경이 상이한 폴리에스테르 필름을 제공한다.(B) the transparent resin matrix comprises 20 to 80% by weight of a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and a melting point (Tm 2 ) And 20 to 80% by weight of a copolymer resin satisfying Tm 1 - 60 ° C <Tm 2 <Tm 1 - 10 ° C. (C) When the longitudinal section is observed by SEM, (D) the particles contained in each surface layer are different in the average particle diameter from each other among the layers.
본 발명의 일 구현예에 의하면, 투명한 수지 매트릭스는 폴리에틸렌테레프탈레이트와; 폴리에스테르 공중합체, 폴리카보네이트 공중합체 및 폴리설폰 공중합체 중에서 선택되는 1종 이상의 공중합체로 되는 것일 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the transparent resin matrix comprises polyethylene terephthalate; A polyester copolymer, a polycarbonate copolymer, and a polysulfone copolymer.
본 발명의 일 구현예에 의하면 표층 중 어느 한층은 평균입경이 2 ~ 10㎛인 입자를 적어도 1종 포함하고, 다른 한 층은 평균입경이 10 ~ 30㎛인 입자를 적어도 1종 포함하는 것일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, at least one of the surface layers contains at least one particle having an average particle diameter of 2 to 10 占 퐉, and the other layer contains at least one particle having an average particle diameter of 10 to 30 占 퐉 have.
본 발명의 일 구현예에 의하면, 표층에 사용되는 입자의 함량은 필름 전체 중량에 대해 0.2 ~ 15 중량%일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the content of particles used in the surface layer may be 0.2 to 15% by weight based on the total weight of the film.
또한 표층의 전체 두께는 전체 필름 두께에 대해 5 ~ 30%일 수 있다.The total thickness of the surface layer may be 5 to 30% of the total film thickness.
또한 표층은 공압출로 형성된 층일 수 있다.The surface layer may also be a layer formed by coextrusion.
광학적 용도를 고려할 때 본 발명이 폴리에스테르 필름은 헤이즈(Haze)가 60% 이상이고, 전광선 투과율(Total Transmittance)이 80% 이상인 것일 수 있다.Considering optical use, the polyester film of the present invention may have a haze of 60% or more and a total transmittance of 80% or more.
본 발명의 다른 일 구현예에 의하면, 폴리에스테르 필름의 적어도 일면에 아크릴계 수지 또는 우레탄계 수지 바인더에 분산된 평균입경 10 내지 500nm인 입자를 포함하는 코팅층을 포함할 수 있다. 이때 코팅층은 두께가 10 내지 1000nm일 수 있다. According to another embodiment of the present invention, at least one surface of the polyester film may include a coating layer containing particles having an average particle diameter of 10 to 500 nm dispersed in an acrylic resin or a urethane resin binder. The coating layer may have a thickness of 10 to 1000 nm.
본 발명의 일 구현예에서는 a) 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 제조하는 단계;In one embodiment of the present invention, there is provided a method for producing a polyester resin, comprising: a) preparing a polyester resin having a melting point Tm 1 ;
b) 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 20 내지 80중량% 및 융점(Tm2)이 Tm1-60℃ < Tm2 < Tm1-10℃을 만족하는 공중합체 수지 20 내지 80중량%로 되는 투명한 수지와; 평균입경이 2 내지 10㎛인 적어도 1종의 광확산성 입자를 컴파운딩하여 제1 마스터배치를 제조하는 단계;b) 20 to 80% by weight of a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 20 to 80% by weight of a copolymer resin having a melting point (Tm 2 ) satisfying Tm 1 -60 ° C <Tm 2 <Tm 1 -10 ° C A transparent resin; Compounding at least one light diffusing particle having an average particle diameter of 2 to 10 占 퐉 to produce a first master batch;
c) 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 20 내지 80중량% 및 융점(Tm2)이 Tm1-60℃ < Tm2 < Tm1-10℃을 만족하는 공중합체 수지 20 내지 80중량%로 되는 투명한 수지와; 평균입경이 10 내지 30㎛인 적어도 1종의 광확산성 입자를 컴파운딩하여 제2 마스터배치를 제조하는 단계;c) 20 to 80% by weight of a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 20 to 80% by weight of a copolymer resin having a melting point (Tm 2 ) satisfying Tm 1 -60 캜 <Tm 2 <Tm 1 -10 캜 A transparent resin; Compounding at least one light-diffusing particle having an average particle diameter of 10 to 30 占 퐉 to produce a second masterbatch;
d) 제1 마스터배치, 폴리에스테르 수지 및 제2 마스터배치를 폴리에스테르 수지 양면에 각각 제1 마스터배치 및 제2 마스터배치로부터 형성되는 층이 오도록 공압출하여 미연신 시트를 제조하는 단계;d) co-extruding a first master batch, a polyester resin and a second master batch on both sides of the polyester resin such that a layer formed from the first master batch and the second master batch is present, to produce an unstretched sheet;
e) 미연신 시트를 기계방향으로 연신하는 단계;e) stretching the unstretched sheet in the machine direction;
f) 기계방향으로 연신된 필름을 폭방향으로 연신하는 단계; 및 f) stretching the stretched film in the machine direction in the transverse direction; And
g) 열고정하는 단계를 포함하는 폴리에스테르 필름의 제조방법을 제공한다.g) heat setting the polyester film.
본 발명의 일 구현예에 의한 제조방법에 있어서, 투명한 수지로 폴리에틸렌테레프탈레이트와 폴리에스테르 공중합체, 폴리카보네이트 공중합체 및 폴리설폰 공중합체 중에서 선택되는 1종 이상의 공중합체와의 블렌드물을 사용할 수 있다. In the production method according to an embodiment of the present invention, a blend of polyethylene terephthalate with at least one copolymer selected from a polyester copolymer, a polycarbonate copolymer and a polysulfone copolymer may be used as the transparent resin .
본 발명의 바람직한 일 구현예에 의한 제조방법에 있어서, 공중합체 수지는 테레프탈산을 포함하는 디카르복실산과, 네오펜틸글리콜 및 에틸렌글리콜을 포함하는 글리콜로부터 얻어지는 코폴리에스테르를 포함하는 것일 수 있다. In the production method according to a preferred embodiment of the present invention, the copolymer resin may include a copolyester obtained from a dicarboxylic acid containing terephthalic acid and a glycol containing neopentyl glycol and ethylene glycol.
본 발명의 일 구현예에 의한 제조방법에 있어서, 기계방향 연신은 IR-Heater 500~900℃의 온도하에서 연신비 2.5 ~ 4.5배 되도록 연신하는 방법으로 수행될 수 있고, 폭방향 연신은 105 ~ 165℃의 온도에서 연신비 2.5 ~ 4.5배 되도록 연신하는 방법으로 수행될 수 있다.In the production method according to an embodiment of the present invention, the machine direction stretching may be performed by stretching the IR-Heater at a temperature of 500 to 900 ° C. so that the stretching ratio is 2.5 to 4.5 times, and the stretching in the width direction may be performed at 105 to 165 ° C. At a stretching ratio of 2.5 to 4.5 times the stretching ratio.
본 발명의 일 구현예에 의한 제조방법에 있어서, 열고정은 Tm2 보다는 높고 Tm1 보다 낮은 온도에서 열처리하는 방법으로 수행될 수 있다. In the production method according to an embodiment of the present invention, the heat setting may be performed by a method of heat treatment at a temperature higher than Tm 2 and lower than Tm 1 .
본 발명의 다른 일 구현예에 의한 제조방법에서는, 기계방향으로 연신된 필름을 폭방향으로 연신하는 단계 이전에, 기계방향으로 연신된 공압출 시트의 적어도 일면에 평균입경이 10 내지 500nm인 입자를 포함하는 아크릴계 수지 또는 우레탄 수지 코팅액을 인라인 코팅하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이때 인라인 코팅하는 단계는 건조 후 코팅층 두께가 10 내지 1000nm 되도록 수행할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method for producing a coextrusion sheet, comprising the steps of: preparing a coextruded sheet stretched in the machine direction, at least one side of which has an average particle diameter of 10 to 500 nm, Coating the acrylic resin or urethane resin coating liquid containing the acrylic resin or the urethane resin coating liquid. The inline coating may be performed so that the coating layer thickness after drying is 10 to 1000 nm.
본 발명의 일 구현예에 의한 폴리에스테르 필름은 양면에 표층이 있는 폴리에스테르 중합체 기재층을 포함하는 것으로, 여기서 "양면에 표층이 있는 폴리에스테르 중합체 기재층"의 의미는 폴리에스테르 중합체 기재층과, 폴리에스테르 중합체 기재층의 양면 상에 형성되는 별도의 접착층, 라미네이션층 또는 코팅층 형태의 표층을 포함한다는 것이 아니라, 폴리에스테르 중합체 기재층 자체가 양 표면 상에 표층이 형성된 것으로 이해될 것이다. The polyester film according to one embodiment of the present invention includes a polyester polymer base layer having a surface layer on both sides, wherein the meaning of "a polyester polymer base layer having a surface layer on both sides" It will be understood that the polyester polymer base layer itself does not include a surface layer in the form of a separate adhesive layer, lamination layer or coating layer formed on both sides of the polyester polymer base layer, but a surface layer is formed on both surfaces.
본 발명의 일 구현예에 의하면 표층을 제외한, 폴리에스테르 중합체 기재층(이하, '기재층'이라 약칭한다.)은 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 매트릭스로 한다. 보다 구체적으로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지를 매트릭스로 한다. 폴리에스테르 수지 매트릭스는 융점(Tm1)이 230 ~ 280℃인 것이 기계적 물성과 열적 형태안정성 측면에서 바람직할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, a polyester polymer base layer (hereinafter abbreviated as base layer) excluding a surface layer is a polyester resin having a melting point Tm 1 as a matrix. More specifically, a polyethylene terephthalate (PET) resin is used as a matrix. The polyester resin matrix preferably has a melting point (Tm 1 ) of 230 to 280 ° C in terms of mechanical properties and thermal stability.
기재층의 표면을 형성하는 층, 즉 표층은, (a) 투명한 수지 매트릭스에 분산된 광확산성 입자를 포함하고, (b) 투명한 수지 매트릭스는 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 20 내지 80중량%와 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지 20 내지 80중량%로 되며, (c) SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 가지는 것이다. (A) a light-diffusing particle dispersed in a transparent resin matrix; (b) the transparent resin matrix comprises 20 to 80 wt% of a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 % And a melting point (Tm 2 ) of 20 to 80% by weight of a copolymer resin satisfying Tm 1 - 60 ° C <Tm 2 <Tm 1 - 10 ° C. (C) All have a protruding shape formed by the particles.
표층을 구성하는 투명한 수지 매트릭스에 포함되는 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지는 기재층 표층을 형성함에 있어서 광확산성 입자의 돌출을 유도하기 위한 것으로, 만일 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ 미만인 경우는 폭방향(TD) 연신 및 열처리시 열에 의해 변형이 일어나 입자가 필름의 변부로 뭉치게 되어 표면이 불균일해져 광학용으로 사용할 수 없으며, 융점(Tm2)이 Tm1 - 10℃ 초과인 경우는 열처리 구간에서 입자돌출을 위해 고온으로 열처리를 행하여야 하며, 표면으로의 입자돌출이 낮아 광학적 특성이 떨어질 뿐만 아니라 필름의 물성저하가 심하여 기계적 강도가 낮아 필름으로 사용이 곤란하다.The copolymer resin having a melting point (Tm 2 ) contained in the transparent resin matrix constituting the surface layer satisfies a relationship of Tm 1 - 60 ° C <Tm 2 <Tm 1 - 10 ° C. If the melting point (Tm 2 ) is lower than Tm 1 - 60 ° C, the film is deformed due to heat during the stretching in the transverse direction (TD) and heat treatment to aggregate the particles into the edges of the film, When the melting point (Tm 2 ) is in the range of Tm 1 - 10 ° C, it is necessary to perform heat treatment at a high temperature for protruding the particles in the heat treatment zone. Since the particle protrusion on the surface is low, It is difficult to use the film as a film because the mechanical strength is low due to severe degradation of physical properties.
그러나 이와 같이 융점이 Tm2인 공중합체 수지로만 표층의 매트릭스를 형성 하는 경우 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지 매트릭스로 되는 기재층과의 융점 차이로 인하여 열처리시에 표층의 매트릭스가 녹아 균일한 층의 형성이 어려우며, 이로 인해 결과적으로 얻어지는 폴리에스테르 필름은 전면에 걸쳐 헤이즈값의 불균일이 발생할 수 있다. 이러한 필름 전면에 대한 헤이즈값의 불균일은 궁극적으로 광학용도로 적용시 휘도의 불균일을 초래할 수 있다. However, when the matrix of the surface layer is formed only of the copolymer resin having the melting point Tm 2 , the matrix of the surface layer is melted due to the melting point difference with the base layer made of the polyester resin matrix having the melting point Tm 1 , The resulting polyester film may have unevenness in haze value over the entire surface thereof. Such unevenness of the haze value over the entire surface of the film may ultimately lead to uneven brightness when applied to optical applications.
이러한 점에서 본 발명의 일 구현예에 의한 폴리에스테르 필름은 표층의 투명한 수지 매트릭스는 상기한 융점이 Tm2인 공중합체 수지 및 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지로 되는 것이 바람직하다.In this regard, it is preferable that the transparent resin matrix of the surface layer of the polyester film according to one embodiment of the present invention is made of a copolymer resin having a melting point of Tm 2 and a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 .
구체적으로 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 20 내지 80중량%와 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지 20 내지 80중량%로 되는 투명한 수지 매트릭스인 것이 바람직하다. Specifically, 20 to 80% by weight of a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 20 to 80% by weight of a copolymer resin having a melting point (Tm 2 ) satisfying Tm 1 - 60 ° C <Tm 2 <Tm 1 - 10 ° C It is preferable that it is a transparent resin matrix.
더욱 바람직하게는 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 30 내지 50중량%와 융점(Tm2)이 Tm1 - 60℃ < Tm2 < Tm1 - 10℃을 만족하는 공중합체 수지 50 내지 70중량%로 되는 투명한 수지 매트릭스인 것이다. More preferably 30 to 50% by weight of a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 50 to 70% by weight of a copolymer resin having a melting point (Tm 2 ) satisfying Tm 1 - 60 ° C <Tm 2 <Tm 1 - Is a transparent resin matrix.
만일, 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지가 표층을 구성하는 수지 매트릭스 중 20중량% 미만이면 필름 전면에 걸친 헤이즈 편차를 줄이기에 미흡하고, 80중량% 초과면 광확산성 입자의 돌출이 적어져 휘도가 떨어질 수 있다. If the homopolyester resin having a melting point of Tm 1 is less than 20% by weight of the resin matrix constituting the surface layer, it is insufficient to reduce the haze deviation over the entire film. If the homopolyester resin has a melting point exceeding 80% by weight, The brightness may be lowered.
한편 융점이 Tm2인 공중합체 수지의 일예로는 폴리에스테르 공중합체, 폴리 카보네이트 공중합체 및 폴리설폰 공중합체에서 선택되는 공중합체를 들 수 있으나, 이 중 융점이 180 ~ 225℃인 폴리에스테르 공중합체를 사용하는 것이 연신 후, 열처리 시에 공중합 폴리머가 용융되어 코팅(Coating)공정과 동일한 입자돌출 효과를 표층에 형성할 수 있기 때문에 바람직하다. 좀 더 구체적으로 폴리에스테르 공중합체는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트에서 선택되는 폴리에스테르계 공중합체를 사용할 수 있으며, 첨가제를 더 포함하는 것도 가능하다. Examples of the copolymer resin having a melting point of Tm 2 include a copolymer selected from a polyester copolymer, a polycarbonate copolymer and a polysulfone copolymer. Among these, a polyester copolymer having a melting point of 180 to 225 ° C Is preferably used since the copolymerized polymer is melted at the time of heat treatment after stretching to form a particle projecting effect the same as that of the coating process on the surface layer. More specifically, a polyester copolymer selected from polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate and polytrimethylene terephthalate may be used as the polyester copolymer, and it is also possible to further include additives.
폴리에스테르 공중합체는 디카르복실산을 주성분으로 하는 산성분과 알킬글리콜을 주성분으로 하는 글리콜 성분을 축중합하여 얻어진다. 디카르복실산의 주성분으로는 테레프탈산 또는 그의 알킬에스테르나 페닐에스테르 등을 주로 사용하지만, 그의 일부를 예컨대 이소프탈산, 옥시에톡시 안식향산, 아디핀산, 세바신산, 5-나트륨설포이소프탈산 등의 이관능성 카르본산 또는 그의 에스테르형성 유도체로 대체하여 사용할 수 있다. The polyester copolymer is obtained by condensation polymerization of an acid component containing a dicarboxylic acid as a main component and a glycol component containing an alkyl glycol as a main component. As the main component of the dicarboxylic acid, terephthalic acid or an alkyl ester thereof or a phenyl ester thereof is mainly used, but a part of the dicarboxylic acid is converted into a dicarboxylic acid such as isophthalic acid, oxyethoxybenzoic acid, adipic acid, sebacic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, It may be used in place of the functional carboxylic acid or an ester-forming derivative thereof.
또한, 글리콜성분으로는 에틸렌글리콜을 주된 대상으로 하지만, 그 일부를 예컨대 프로필렌 글리콜, 트리메틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 1,4-사이클로헥산디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,4-비스옥시에톡시벤젠, 비스페놀, 폴리옥시에틸렌글리콜로 대체하여 사용한다.As the glycol component, ethylene glycol is a main object, and a part thereof is treated with a solvent such as propylene glycol, trimethylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, Bisoxyethoxybenzene, bisphenol, and polyoxyethylene glycol.
한편 각각의 표층에는 광확산성 입자를 포함하며, 다만 각 표층간의 광확산성 입자의 평균입경은 서로 상이하다. 구체적으로, 어느 하나의 표층은 광확산성 입자의 평균입경이 2 내지 10㎛이고, 다른 하나의 표층은 광확산성 입자의 평균입경이 10 내지 30㎛인 것일 수 있으며, 각각의 표층을 구성하는 광확산성 입자 서로 간은 평균입경이 서로 같거나 다른 적어도 1종의 입자를 포함할 수 있다. On the other hand, each surface layer contains light-diffusing particles, but the average particle diameters of the light-diffusing particles between the respective surface layers are different from each other. Specifically, one of the surface layers may have an average particle diameter of the light-diffusing particles of 2 to 10 mu m and the other surface layer may have an average particle diameter of the light-diffusing particles of 10 to 30 mu m, The light diffusing particles may include at least one kind of particles whose mean particle diameters are different from each other or different from each other.
이와 같이 표층 간의 광확산성 입자의 평균입경을 달리한 것은, 통상 광확산의 기능을 하는 광학시트들은 광학시트의 후면으로부터 빛이 조사되며, 이에 광학시트의 하면의 경우에는 안티블로킹 및 확산기능을 담당하고 있으며, 상면의 경우에는 휘도를 높이는 것을 그 주된 역할로 하고 있다. 통상 입자 크기가 작을수록 확산성능은 높으나, 빛의 투과도는 떨어지게 된다.The reason why the average particle diameter of the light diffusing particles between the surface layers is different is that the optical sheets normally functioning as light diffusing are irradiated with light from the back side of the optical sheet and the anti- In the case of the upper surface, the main role is to increase the luminance. Usually, the smaller the particle size, the higher the diffusion performance, but the lower the transmittance of light.
이러한 점을 고려하여 본 발명의 일 구현예에 의한 폴리에스테르 필름은, 일 표층은 광확산성 입자의 평균입경이 2 내지 10㎛로, 그리고 다른 일 표층은 평균입경이 10 내지 30㎛ 되도록 조성한 것으로, 평균입경이 2 내지 10㎛인 광확산성 입자를 포함하는 일 표층에 있어서 평균입경이 2㎛미만인 경우에는 확산성능은 우수하나 빛의 투과가 어려워 결과적으로 제품의 광학특성이 떨어지게 되며, 평균입경이 10㎛를 초과하는 경우에는 투과특성은 좋으나, 확산성능이 떨어져 사용하기 곤란해질 수 있다. 또한 평균입경이 10 내지 30㎛인 광확산성 입자를 포하하는 일 표층에 있어서 평균입경이 10㎛미만인 경우에는 빛의 투과 특성이 떨어져 요구되는 제품의 광학특성을 얻기 어려우며, 평균입경이 30㎛를 초과하는 경우에는 투과특성은 좋으나, 제막공정 중 롤러(Roller)와의 마찰에 의한 입자의 탈락과 연신성 저하에 의한 파단이 심하여 제막이 어려워질 수 있다. In consideration of this point, the polyester film according to one embodiment of the present invention is one in which the average particle diameter of the light-diffusing particles is 2 to 10 mu m and the other surface layer is formed such that the average particle diameter is 10 to 30 mu m , When the average particle diameter is less than 2 占 퐉 in one surface layer including the light-diffusing particles having an average particle diameter of 2 to 10 占 퐉, the diffusion property is excellent but the light transmission is difficult, If it exceeds 10 탆, the transmission characteristics are good, but the diffusion performance is poor and it may become difficult to use. When the average particle diameter is less than 10 占 퐉 in one surface layer containing the light-diffusing particles having an average particle diameter of 10 to 30 占 퐉, it is difficult to obtain the optical characteristics of the product requiring light transmission characteristics, , The permeation characteristics are good, but the film may be difficult to be formed due to the drop of the particles due to the friction with the rollers during the film forming process and the breakage due to the deterioration of the stretchability.
이때 입자의 종류는 제한되지 않으며, 유기계 또는 무기계 입자를 사용할 수 있다. 또한, 입자의 형태도 제한되지 않으나, 구형의 입자를 사용하는 것이 광학 특성상 바람직할 수 있다. 또한, 입자는 단독 또는 1종 이상을 혼용하여 사용하는 것도 가능하다. 입자의 제한되지 않는 일예로는, 경질 탄산칼슘(CaO), 실리카졸, 황산바륨(BaSO4), 산화나트륨(NaO2), 황산나트륨(Na2SO4), 고령토, 카오린, 탈크 등의 안티블로킹 무기입자, 실리콘 수지, 가교디비닐벤젠폴리메타아크릴레이트, 가교폴리메타아크릴레이트 등의 가교 아크릴 수지 및 가교폴리스타이렌수지, 벤조구아나민-포름알데히드수지, 벤조구아나민-멜라민-포름알데히드수지, 멜라민-포름알데히드 수지 등의 유기입자를 들 수 있다. The kind of particles is not limited, and organic or inorganic particles can be used. The shape of the particles is not limited, but it may be preferable to use spherical particles in view of optical properties. The particles may be used singly or in combination. As non-limiting examples of the particles include light calcium (CaO), silica sol, barium sulfate (BaSO 4), oxidation of sodium (NaO 2), sodium sulfate (Na 2 SO 4), china clay, anti-blocking of kaolin, talc, etc. Crosslinked acrylic resins and crosslinked polystyrene resins such as inorganic particles, silicone resin, crosslinked divinylbenzene polymethacrylate and crosslinked polymethacrylate, benzoguanamine-formaldehyde resins, benzoguanamine-melamine-formaldehyde resins, melamine- Formaldehyde resin, and the like.
바람직하게는 실리콘 비드 또는 폴리메틸메타크릴레이트 비드 등을 입자로 포함하는 것일 수 있다. Preferably, it may contain particles such as silicon beads or polymethyl methacrylate beads.
양 표층에 포함되는 입자의 총 함량은 전체 필름 중량 중 0.2 내지 15중량%이면 확산성 내지 광투과도 측면에서 유리할 수 있다. The total content of the particles contained in both surface layers may be advantageous in terms of diffusibility and light transmittance in the range of 0.2 to 15 wt% of the total film weight.
양 표층의 총 두께는 전체 필름 두께에 대해 5 내지 30%인 것이 기계적 물성, 광학적 특성 측면에서 바람직할 수 있다. The total thickness of both surface layers may be preferably 5 to 30% with respect to the total film thickness in terms of mechanical properties and optical properties.
폴리에스테르 필름 전체 두께는 한정이 있는 것은 아니나, 공압출층의 형태안정성 측면을 고려할 때 100 내지 250㎛일 수 있다.The total thickness of the polyester film is not limited, but may be 100 to 250 탆 in consideration of the aspect stability of the coextruded layer.
본 발명의 일 구현예에 의해 얻어지는 표층은 SEM에 의해 종단면을 관찰하였 을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 가지도록 기재층 표면 상에 형성되는 것으로, 이러한 표면 형상은 기재층을 이루는 수지 매트릭스로부터 필름을 제조함에 있어서 표층을 이루는 투명한 수지 매트릭스와 광확산성 입자를 포함하는 수지 조성을 공압출하여 함께 연신 과정을 거치는 방법을 통해, 또한 광확산 가능한 층을 이루는 투명한 수지 매트릭스 중에 융점이 Tm2인 공중합체 수지를 포함하여 열처리 공정을 거침으로써 달성될 수 있다. 구체적인 공정은 후술한다. The surface layer obtained by one embodiment of the present invention is formed on the surface of the base layer such that both the top and bottom surfaces have a protruding shape formed by the particles when the longitudinal section is observed by SEM, The resin composition containing the transparent resin matrix and the light-diffusing particles forming the surface layer is co-extruded and subjected to a stretching process, and a transparent resin matrix constituting the light-diffusible layer is melted Can be achieved by carrying out a heat treatment process including a copolymer resin having Tm < 2 >. The specific process will be described later.
또한 본 발명의 폴리에스테르 필름은 필요에 따라 적어도 일면에 코팅층을 더 포함할 수 있는데, 이와 같이 별도의 코팅층을 더 포함하는 것은 광투과도를 좀 더 향상시킬 수 있는 측면에서 유리할 수 있는데, 구체적으로 코팅층은 평균입경이 10 ~ 500nm인 입자를 포함하는 아크릴 또는 우레탄 코팅층일 수 있다. 또한 코팅층은 두께가 10 ~ 1000nm인 것이 바람직할 수 있다. In addition, the polyester film of the present invention may further include a coating layer on at least one surface, if necessary. The additional coating layer may be advantageous from the viewpoint of further improving light transmittance. Specifically, May be an acrylic or urethane coating layer containing particles having an average particle size of 10 to 500 nm. The coating layer may preferably have a thickness of 10 to 1000 nm.
코팅층 중 포함되는 입자의 평균입경이 상기 범위 이내인 것이 광투과 특성 및 안티블록킹 효과 측면에서 유리할 수 있고, 또한 코팅층 두께가 상기 범위 이내인 것이 광투과 특성 및 안티블록킹 효과 측면에서 유리할 수 있다. The average particle diameter of the particles included in the coating layer may be within the above range in view of the light transmission property and the anti-blocking effect, and the thickness of the coating layer within the above range may be advantageous in view of the light transmission property and the anti-blocking effect.
이러한 코팅층을 형성하는 방법은 각별한 한정이 있는 것은 아니나, 인라인 코팅(ILC)을 통하여 필름 표면에 코팅층을 형성하는 경우 광투과도를 더욱 향상시킬 수 있다. 일예로, 인라인 코팅을 하는 경우 인라인 코팅하지 않는 경우에 비하여 광투과도를 약 2% 정도까지 상승시킬 수 있다. 인라인 코팅에 사용되는 코팅액 은 굴절율이 1.50 ~ 1.55인 폴리우레탄 수지층을 형성하기 위한 코팅액 또는 굴절율이 1.40 ~ 1.48인 아크릴수지층을 형성하기 위한 코팅액이라면 제한되지 않고 사용할 수 있다.There is no particular limitation on the method for forming such a coating layer, but when the coating layer is formed on the film surface through the in-line coating (ILC), the light transmittance can be further improved. For example, in the case of in-line coating, the light transmittance can be increased to about 2% as compared with the case where in-line coating is not performed. The coating solution used for in-line coating is not limited as long as it is a coating solution for forming a polyurethane resin layer having a refractive index of 1.50 to 1.55 or a coating solution for forming an acrylic resin layer having a refractive index of 1.40 to 1.48.
이러한 폴리우레탄수지층을 형성하기 위한 조성으로 통상적으로 폴리올로서 에스테르나 카보네이트 타입을 사용하고, 이소시아네이트로서는 지방족 이소시아네이트를 사용하며, 사슬연장제로서 디올이나 디아민계를 함유하는 조성물을 코팅액으로 사용할 수 있다. 또한 아크릴수지층을 형성하기 위한 조성으로 통상적으로 메틸테트라아크릴레이트, 메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 아크릴산 등의 혼합물을 함유하는 코팅액을 사용할 수 있다. 상기 코팅액에 사용되는 바인더 성분은 Tg가 20℃ ~ 100℃인 것이 바람직하고, 코팅액은 고형분이 코팅액의 중량에 대하여 2 ~ 10중량% 이고, 코팅액의 점도가 20cps(25℃)이하인 것이 좋다. 고형분의 농도가 2중량% 미만이면 원하는 코팅층의 두께를 얻기 위하여 웨트 도포량을 증가하여야 하며, 이를 건조하기 위해서 많은 에너지가 필요하여 베이스필름의 제조단가 상승이 발생할 수 있고, 고형분의 농도가 10중량%를 초과하는 경우 점도가 20cps이상으로 높아져 코팅성의 저하를 발생 시킬 수 있다. As a composition for forming such a polyurethane resin layer, an ester or carbonate type is generally used as the polyol, an aliphatic isocyanate is used as the isocyanate, and a diol or diamine type as the chain extender. In addition, a coating liquid containing a mixture of methyltetraacrylate, methacrylate, butyl acrylate, acrylic acid and the like can be used as a composition for forming an acrylic resin layer. The binder component used in the coating liquid is preferably in the T g is 20 ℃ ~ 100 ℃, and the coating solution solids content, and 2-10% by weight based on the weight of the coating solution, it is preferable that the viscosity of the coating liquid is not more than 20cps (25 ℃). If the concentration of the solid content is less than 2% by weight, it is necessary to increase the wet application amount to obtain the thickness of the desired coating layer, By weight, the viscosity may increase to 20 cps or more, and the coating property may be lowered.
본 발명에 따른 폴리에스테르 필름은 광학적 용도를 고려할 때 헤이즈(Haze)가 60% 이상, 보다 구체적으로는 60 ~ 99%, 전광선 투과율(Total Transmittance) 이 80% 이상, 보다 구체적으로는 80 ~ 99%인 것일 수 있다. The polyester film according to the present invention has a haze of 60% or more, more specifically 60 to 99%, a total transmittance of 80% or more, more specifically 80 to 99% Lt; / RTI >
헤이즈(Haze)가 60% 미만이면 도광판 광원의 패턴(Pattern)이 그대로 나타나 선광을 면광으로 바꾸는 효율이 떨어지고, 전광선 투과율(Total Transmittance)이 80% 미만이면 휘도(Brightness)가 떨어질 수 있다. If the haze is less than 60%, the pattern of the light guide plate light source will remain as it is, and the efficiency of changing the front light to the plane light will decrease. If the total transmittance is less than 80%, the brightness may decrease.
또한, 본 발명에 따른 광학용 폴리에스테르 필름을 사용한 프리즘 필름도 본 발명의 범위에 포함된다. 이때 프리즘 필름을 형성하기 위한 방법은 공지의 것으로, 통상적으로 해당 분야에서 사용되는 코팅방법을 사용하여 본 발명의 광학용 폴리에스테르 필름의 일면 또는 양면에 프리즘을 코팅할 수 있다.Further, a prism film using the optical polyester film according to the present invention is also included in the scope of the present invention. The method for forming the prism film is known, and a prism may be coated on one or both surfaces of the optical polyester film of the present invention by using a coating method commonly used in the field.
상술한 폴리에스테르 필름을 제조하는 방법의 일예는, An example of a method for producing the above-mentioned polyester film,
a) 융점이 Tm1인 폴리에스테르 수지를 제조하는 단계; b) 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 20 내지 80중량% 및 융점(Tm2)이 Tm1-60℃ < Tm2 < Tm1-10℃을 만족하는 공중합체 수지 20 내지 80중량%로 되는 투명한 수지와, 평균입경 2 내지 10㎛인 입자를 컴파운딩하여 제1 마스터배치를 제조하는 단계; c) 융점이 Tm1인 호모 폴리에스테르 수지 20 내지 80중량% 및 융점(Tm2)이 Tm1-60℃ < Tm2 < Tm1-10℃을 만족하는 공중합체 수지 20 내지 80중량%로 되는 투명한 수지와, 평균입경이 10 내지 30㎛인 광확산성 입자를 컴파운딩하여 제2 마스터배치를 제조하는 단계; d) 제1 마스터배치, 폴리에스테르 수지 및 제2 마스터배치로부터, 폴리에스테르 수지층의 양면에 각각 제1 마스터배치 및 제2 마스터배치로 되는 층이 오도록 공압출하여 미연신 시트를 제조하는 단계; e) 미연신 시트를 기계방향으로 연신하는 단계; f) 기계 방향으로 연신된 필름을 폭방향으로 연신하는 단계; 및 g) 열고정하는 단계를 포함한다. a) preparing a polyester resin having a melting point Tm 1 ; b) 20 to 80% by weight of a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 20 to 80% by weight of a copolymer resin having a melting point (Tm 2 ) satisfying Tm 1 -60 ° C <Tm 2 <Tm 1 -10 ° C Preparing a first master batch by compounding a transparent resin and particles having an average particle diameter of 2 to 10 占 퐉; c) 20 to 80% by weight of a homopolyester resin having a melting point of Tm 1 and 20 to 80% by weight of a copolymer resin having a melting point (Tm 2 ) satisfying Tm 1 -60 캜 <Tm 2 <Tm 1 -10 캜 Preparing a second masterbatch by compounding a transparent resin and light diffusing particles having an average particle diameter of 10 to 30 占 퐉; d) co-extruding the first master batch, the polyester resin and the second master batch such that the first master batch and the second master batch are on both sides of the polyester resin layer to produce an unstretched sheet; e) stretching the unstretched sheet in the machine direction; f) stretching the stretched film in the machine direction in the transverse direction; And g) thermally setting.
상기 열고정 단계 후 기계방향(MD)및 폭방향(TD)으로 완화(relax)하는 단계를 더 추가할 수 있다. 제한되는 것은 아니나 완화는 필름의 길이에 대해 1 내지 5% 되도록 수행할 수 있다. After the heat fixing step, a step of relaxing in the machine direction (MD) and the width direction (TD) may be further added. The relaxation can be carried out so as to be 1 to 5% relative to the length of the film, although it is not limited.
또한 상기 e)단계 후, 평균입경이 10 ~ 500nm인 입자를 포함하는 아크릴 혹은 우레탄 코팅액을 인라인코팅(in-line coating, ILC)하는 단계를 더 추가할 수 있다. 인라인 코팅을 통하여 필름 표면에 코팅층을 형성하는 것과 관련하여서는 상술한 것과 같다. After step e), an in-line coating (ILC) step may be further performed on an acrylic or urethane coating solution containing particles having an average particle diameter of 10 to 500 nm. As described above in connection with forming a coating layer on the film surface through in-line coating.
단계 e)에서 기계방향(MD) 연신은 IR-Heater의 온도가 500 ~ 900℃의 온도하에서 연신비 2.5 ~ 4.5배 되도록 연신하고, 단계 f)에서 폭방향(TD) 연신은 105 ~ 165℃의 온도에서 연신비 2.5 ~ 4.5배 되도록 연신하는 것이 바람직하다.In the machine direction (MD) stretching in step e), the stretching ratio is 2.5 to 4.5 times the temperature of the IR-heater at a temperature of 500 to 900 占 폚. In step f), the stretching in the transverse direction (TD) The stretching ratio is preferably 2.5 to 4.5 times.
기계방향(MD) 연신 시 IR-Heater의 온도가 상기 범위인 것이 연신성 및 표층의 저융점 공중합체의 변형 방지 측면에서 유리할 수 있다. 또한 상기 범위인 것이 기계적 물성 및 후속되는 폭방향 연신을 가능케할 수 있는 점에서 유리할 수 있다. When the temperature in the machine direction (MD) stretching is within the above range, it may be advantageous in terms of stretchability and prevention of deformation of the low-melting-point copolymer in the surface layer. Also within this range may be advantageous in that mechanical properties and subsequent widthwise stretching may be possible.
한편 폭방향(TD) 연신 시, 연신온도가 상기 범위 이내인 것이 파단발생을 방지할 수 있고 연신을 가능케할 수 있는 측면에서 유리할 수 있다. 또한 폭방향(TD) 연신비가 상기 범위 이내인 것이 물성 및 두께 제어 측면에서 유리하고, 또한 공정성 측면에서 유리할 수 있다. On the other hand, in the stretching in the transverse direction (TD), if the stretching temperature is within the above range, it can be advantageous in terms of preventing breakage and enabling stretching. In addition, the stretching ratio in the width direction (TD) is within the above range, which is advantageous from the viewpoints of physical properties and thickness control, and may be advantageous from the viewpoint of processability.
또한 열고정은 Tm2 보다는 높고, Tm1 보다는 낮은 온도에서 열처리하는 것이 폴리에스테르 필름의 표층 면에 요철을 형성할 수 있는 점에서 유리할 수 있다. 이렇게 형성된 요철은 광확산성 및 휘도를 향상시킬 수 있다. In addition, heat treatment at a temperature higher than Tm < 2 > and lower than Tm < 1 > may be advantageous in that unevenness can be formed on the surface layer surface of the polyester film. The unevenness thus formed can improve light diffusibility and brightness.
이하는 본 발명의 구체적인 설명을 위하여 일예를 들어 설명하는 바, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
1) 열수축율 1) Heat shrinkage
필름을 20cm×2 20cm의 정방향으로 재단하여 필름의 기계방향(MD) 및 폭방향(TD)의 길이를 측정한 후, 이를 150℃의 오븐(Oven)중에 무하중 상태에서 30분간 열수축 시킨 후, 열수축된 필름의 기계방향(MD) 및 폭방향(TD)의 길이를 측정하여 기계방향(MD) 및 폭방향(TD)의 열수축율을 하기 식 1에 따라 구하였다.The film was cut in a normal direction of 20 cm x 20 cm to measure the lengths of the film in the machine direction (MD) and the width direction (TD), and then heat shrunk in an oven at 150 캜 for 30 minutes in an oven, The lengths of the heat shrinkable films in the machine direction (MD) and the width direction (TD) were measured, and the heat shrinkage ratios in the machine direction (MD) and the width direction (TD)
<식 1><Formula 1>
(수축 전 길이 - 수축 후 길이) (Length before shrinkage - length after shrinkage)
열수축율 (%) = --------------------------------×2 100Heat shrinkage (%) = -------------------------------- × 2 100
수축 전 길이 Length before shrinkage
2) 강신도 2)
필름을 폭 15mm로 하고, 시료장 (Gauge Length)을 50mm하고, 인장속도(Cross head-up speed)를 500mm/min로 하여 만능인장 시험기(Instron社 Tensile Test Machine)을 이용하여 필름의 기계방향(MD) 및 폭방향(TD)에 대한 인장 특성을 측정하였다. The film was stretched in the machine direction (direction) of the film by using a universal tensile tester (Instron Tensile Test Machine) with a width of 15 mm, a gauge length of 50 mm and a crosshead-up speed of 500 mm / MD) and the transverse direction (TD).
3) 광학적 특성 평가 (헤이즈, 헤이즈 편차 및 광투과도 측정)3) Evaluation of optical characteristics (haze, haze deviation and light transmittance measurement)
측정방법은 ASTM D-1003 을 기준으로 측정하였으며, 폴리에스테르 필름을 변부 2개소, 중심부 1개소에서 무작위로 7 개 부분을 추출한 후 각 5cmㅧ 5cm 크기로 절편하여 헤이즈 측정기(니혼덴쇼쿠 NDH 300A)에 넣고 555nm 파장의 빛을 투과시켜 헤이즈(Haze; %) 및 전체광선 투과율(Total Transmittance; %)를 측정하여 최대값 및 최소값을 제외한 5개 값에 대한 평균치를 구하여 헤이즈 및 전체광선투과율을 산출하였다.The measuring method was based on ASTM D-1003. Seven portions were randomly extracted from two locations on the edge of the polyester film, one at the center, and then cut into a size of 5 cm to 5 cm. The haze was measured with a haze meter (NDH 300A, And haze and total light transmittance were calculated by measuring the haze (%) and the total transmittance (%) of light with a wavelength of 555 nm and calculating an average value for five values excluding the maximum value and the minimum value .
한편, 헤이즈 편차는 측정된 헤이즈값 중 최대값과 최소값을 제외한 5개 값의 표준편차를 구하여 평균에 대한 표준편차값인 변동계수(CV%)로 그 값을 나타내었다. On the other hand, the haze deviation is obtained by calculating the standard deviation of the five values excluding the maximum value and the minimum value among the measured haze values, and the value is represented by the coefficient of variation (CV%), which is a standard deviation value with respect to the average.
<식 2 ><Formula 2>
CV% = 표준편차/ 헤이즈값 평균×2 100CV% = standard deviation / haze value average x 2 100
4) Melting Point (Tm) 측정 및 정의 4) Melting Point (Tm) measurement and definition
폴리머를 액체질소에 30초 동안 넣었다가 꺼낸 후에 분쇄기(Hico-10-6-388)를 이용하여 분말상태로 만든 후, 이를 Capillary tube (2×2 100mm)에 넣는다. Capillary Tube에는 표시선이 되어 있으며, 표시선 이상의 높이(통상 전체 Tube길이의 2/3이상의 높이)로 분말상태의 폴리머로 채워 넣은 후, Melting Point측정 기(Thomas Hoover Capillary Melting Point Apparatus)에 넣고, 30℃/min의 속도로 승온시키면서 Capillary tube내 폴리머가 녹는 지점의 온도를 온도계로부터 확인하여, 이를 Melting Point(Tm)로 정의한다. Put the polymer in liquid nitrogen for 30 seconds, remove it, make it into powder by using a grinder (Hico-10-6-388), and put it into a capillary tube (2 × 2 100 mm). The capillary tube is filled with powdered polymer at a height above the marking line (usually 2/3 or more of the total tube length), placed in a Melting Point measuring instrument (Thomas Hoover Capillary Melting Point Apparatus) / min, the temperature at the melting point of the polymer in the capillary tube is determined from the thermometer and defined as Melting Point (Tm).
[참고예 1][Referential Example 1]
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 124몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.64dl/g, 융점(Melting Point) 256℃인 호모폴리에스테르(HOMO-PET)를 제조하였다. An intrinsic viscosity of 0.64 dl / g, which is obtained by condensation of 100 mol% of terephthalic acid with 124 mol% of ethylene glycol as glycol component and 0.05 mol (based on acid component) of antimony trioxide as a catalyst by direct esterification, Point) Homo-polyester (HOMO-PET) of 256 占 폚 was prepared.
또한, 테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 100몰%와 네오펜틸 글리콜 24몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67dl/g, 유리전이온도 76℃,융점(Melting Point) 203℃인 코폴리에스테르(CO-PET)를 만들었다.Further, it is also possible to use a copolymer obtained by directly condensing 100 mol% of terephthalic acid, 100 mol% of ethylene glycol as a glycol component and 24 mol% of neopentyl glycol with 0.05 mol of antimony trioxide (as acid component) (CO-PET) having a viscosity of 0.67 dl / g, a glass transition temperature of 76 占 폚 and a melting point of 203 占 폚.
평균입경 5㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)를 상기 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 10중량%를 가지는 제1 마스터배치를 제조하였다.Silicone beads having an average particle diameter of 5 탆 were compounded with the copolyester to prepare a first master batch having a particle content of 10% by weight.
또한, 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)를 상기 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 10중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. Further, a polymethylmethacrylate bead (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉 was compounded with the copolyester to prepare a second master batch having a particle content of 10% by weight.
상기 호모폴리에스테르를 275℃로 압출하였으며, 표층을 이루는 제1 마스터배치와 제2 마스터배치를 각각 270℃에서 압출하고 피드블록(Feed block)을 사용하 여 “제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)가 5/85/10인 시트를 제조하였다. 이때 층간의 두께비는 토출량으로 제어하였다. 토출된 시트(Sheet)를 30℃의 캐스팅 롤러(Casting Roller)를 거치면서 냉각을 행하여 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 연속적으로 기계적 방향으로 이송되는 롤러군(MDO : Machine Direction Organization)에서 750℃의 온도로 가열된 IR-Heater에서 3.5배 연신을 하였다. 기계방향으로의 연신을 거친 후, 연속하여 95℃의 예열구간을 거쳐 135℃에서 폭에 대하여 3.5배 연신시킨 후, 210℃에서 열처리를 행하고, 180℃에서 3.5%의 완화(Relax)를 적용하여 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. The homopolyester was extruded at 275 DEG C, and the first masterbatch and the second masterbatch forming the surface layer were extruded at 270 DEG C, respectively, and a "first masterbatch / base layer / 2 master batch " was 5/85/10 in thickness ratio (A / B / C). At this time, the thickness ratio between the layers was controlled by the discharge amount. The discharged sheet was cooled while passing through a casting roller at 30 ° C to prepare an unoriented film. The unstretched film was stretched 3.5 times in an IR-heater heated at a temperature of 750 ° C in a machine direction machine (MDO) machine which was continuously fed in a mechanical direction. After stretching in the machine direction, the film was stretched to 3.5 times the width at 135 DEG C through a preheating section of 95 DEG C successively, followed by heat treatment at 210 DEG C and 3.5% relaxation at 180 DEG C A film having a thickness of 188 탆 was produced.
[참고예 2][Reference Example 2]
상기 참고예 1에 있어서 제1 마스터배치 중의 입자함량을 50중량%로, 제2 마스터배치 중의의 입자함량을 50중량%로 변경하고, "제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)를 10/70/20으로 변경한 것을 제외하고 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. The particle content in the first masterbatch was changed to 50% by weight and the content of the second masterbatch in the second masterbatch was changed to 50% by weight in Reference Example 1, and the content of the "first masterbatch / base layer / A film having a thickness of 188 탆 was prepared in the same manner except that the thickness ratio (A / B / C) was changed to 10/70/20.
[참고예 3][Referential Example 3]
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 108몰%와 네오펜틸 글리콜 16몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67dl/g, 유리전이온도 76℃,융 점(Melting Point) 220℃인 코폴리에스테르(CO-PET)를 제조하였다.100 mol% of terephthalic acid, 108 mol% of ethylene glycol and 16 mol% of neopentyl glycol as a glycol component, 0.05 mol of antimony trioxide (relative to acid component) as a catalyst, and intrinsic viscosity of 0.67 dl / g, a glass transition temperature of 76 占 폚 and a melting point of 220 占 폚.
평균입경 2㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)를 상기 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 30중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다.Silicone beads having an average particle diameter of 2 탆 were compounded with the copolyester to prepare a first master batch having a particle content of 30% by weight.
또한, 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)와 평균입경 20㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)를 무게비로 9 : 1로 혼합하여 이를 상기 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 30중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. Further, polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 20 占 퐉 were mixed at a weight ratio of 9: 1, and this was mixed with the copolyester To prepare a second master batch having a particle content of 30% by weight.
기재층의 수지 매트릭스인 호모폴리에스테르는 참고예 1과 동일한 것을 사용하여 275℃로 압출하였으며, 표층을 이루는 제1 마스터배치와 제2 마스터배치를 각각 270℃에서 압출하고 피드블록(Feed block)을 사용하여 "제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)가 5/75/20인 시트를 제조하였다. 이때 층간의 두께비는 토출량으로 제어하였다. 토출된 시트(Sheet)를 30℃의 캐스팅 롤러(Casting Roller)를 거치면서 냉각을 행하여 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 연속적으로 기계적 방향으로 이송되는 롤러군(MDO : Machine Direction Organization)에서 850℃의 온도로 가열된 IR-Heater에서 3.5배 연신을 하였다. 기계방향으로의 연신을 거친 후, 연속하여 95℃의 예열구간을 거쳐 155℃에서 폭에 대하여 3.5배 연신시킨 후, 235℃에서 열처리를 행하고, 180℃에서 3.5%의 완화(Relax)를 적용하여 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. The homopolyester as the resin matrix of the substrate layer was extruded at 275 DEG C using the same material as that of Reference Example 1. The first master batch and the second master batch constituting the surface layer were extruded at 270 DEG C and fed block (A / B / C) of 5/75/20 of the thickness of the "first masterbatch / base layer / second masterbatch" was controlled by controlling the thickness ratio between the layers. (MDO: Machine Direction Organization) was continuously cooled at a temperature of 850 DEG C in a machine direction (MDO) conveyed continuously in a machine direction by cooling the sheet through a casting roller at 30 DEG C to prepare an unstretched film. After the stretching in the machine direction, the film was stretched 3.5 times at 155 DEG C over a preheating section of 95 DEG C successively, and then heat-treated at 235 DEG C , 180 DEG C Applying a relief (Relax) of up to 3.5% to prepare a film having a thickness of 188㎛.
[참고예 4][Reference Example 4]
평균입경 2㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)와 평균입경 5㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)를 무게비로 7 : 3로 혼합하여 상기 참고예 3의 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 10중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다.Silicone beads having an average particle diameter of 2 탆 and silicon beads having an average particle diameter of 5 탆 were mixed at a weight ratio of 7: 3 and compounded with the copolyester of the above-mentioned Reference Example 3, ≪ / RTI > was prepared.
또한, 평균입경 15㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)와 평균입경 10㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)를 무게비로 8 : 2로 혼합하여 이를 상기 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 10중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. Polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 15 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 10 占 퐉 were mixed at a weight ratio of 8: 2, and the mixture was mixed with the copolyester To prepare a second master batch having a particle content of 10% by weight.
상기 마스터배치를 사용하여 “제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)를 5/80/15로 하는 시트를 제조하는 것을 제외하고 참고예 3과 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. The same procedure as in Reference Example 3 was carried out except that a sheet having a thickness ratio (A / B / C) of 5/80/15 of "first masterbatch / base layer / second masterbatch" To prepare a film having a thickness of 188 탆.
[참고예 5][Reference Example 5]
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 97몰%와 네오펜틸 글리콜 27몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67dl/g, 유리전이온도 74℃,융점(Melting Point) 197℃인 코폴리에스테르(CO-PET)를 제조하였다.100% by mole of terephthalic acid, 97% by mole of ethylene glycol and 27% by mole of neopentyl glycol as a glycol component and 0.05% by mole (based on acid component) of antimony trioxide as a catalyst, dl / g, a glass transition temperature of 74 占 폚 and a melting point of 197 占 폚.
평균입경 2㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)와 평균입경 10㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)를 무게비로 9 : 1로 혼합하여 이를 상기 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 5중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다.(Silicone Bead) having an average particle diameter of 2 탆 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 10 탆 were mixed at a weight ratio of 9: 1 and compounded with the copolyester to obtain a mixture having a particle content of 5 wt% % ≪ / RTI >
또한, 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)와 평균입 경 10㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)를 무게비로 7 : 3로 혼합하여 이를 상기 코폴리에스테르와 컴파운딩하여 입자함량 10중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. Further, polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average diameter of 10 占 퐉 were mixed at a weight ratio of 7: 3, And a second master batch having a particle content of 10% by weight was produced by pouring.
기재층의 수지 매트릭스인 호모폴리에스테르는 상기 참고예 1과 동일한 것을 사용하여 275℃로 압출하였으며, 표층을 이루는 제1 마스터배치와 제2 마스터배치를 각각 270℃에서 압출하고 피드블록(Feed block)을 사용하여 “제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)가 5/88/7인 시트를 제조하였다. 이때 층간의 두께비는 토출량으로 제어하였다. 토출된 시트(Sheet)를 30℃의 캐스팅 롤러(Casting Roller)를 거치면서 냉각을 행하여 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 연속적으로 기계적 방향으로 이송되는 롤러군(MDO : Machine Direction Organization)에서 600℃의 온도로 가열된 IR-Heater에서 3.5배 연신을 하였다. 기계방향으로의 연신을 거친 후, 연속하여 95℃의 예열구간을 거쳐 125℃에서 폭에 대하여 3.5배 연신시킨 후, 210℃에서 열처리를 행하고, 180℃에서 3.5%의 완화(Relax)를 적용하여 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. The homopolyester as the resin matrix of the substrate layer was extruded at 275 DEG C using the same material as that of Reference Example 1. The first master batch and the second master batch constituting the surface layer were extruded at 270 DEG C and fed to a feed block, , A sheet having a thickness ratio (A / B / C) of 5/88/7 of "first masterbatch / base layer / second masterbatch" was prepared. At this time, the thickness ratio between the layers was controlled by the discharge amount. The discharged sheet was cooled while passing through a casting roller at 30 ° C to prepare an unoriented film. The unstretched film was stretched 3.5 times in an IR-heater heated at a temperature of 600 ° C in a machine direction machine (MDO) machine which was continuously transported in a mechanical direction. After stretching in the machine direction, the laminate was stretched to 3.5 times the width at 125 DEG C through a preheating section of 95 DEG C successively, followed by heat treatment at 210 DEG C and 3.5% relaxation at 180 DEG C A film having a thickness of 188 탆 was produced.
[참고예 6][Referential Example 6]
상기 참고예 5에 있어서 제1 마스터배치 및 제2 마스터배치를 적용하여 시트를 제조함에 있어, 수지 매트릭스로 상기 참고예1의 호모폴리에스테르를 무게비로 제1 마스터배치 : 호모폴리에스테르를 7 : 3되도록 섞어 제1 마스터배치로 적용하였으며, 이를 이용하여“제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께 비(A/B/C)가 5/85/10인 시트를 제조하였다. In the above Reference Example 5, the first master batch and the second master batch were applied to prepare a sheet. The first master batch: homopolyester was mixed with the homopolyester of Reference Example 1 in a weight ratio of 7: 3 (A / B / C) of 5/85/10 of the "first masterbatch / base layer / second masterbatch" was prepared by using the mixture as the first masterbatch.
또한, 기계방향(MD) 연신시 IR-Heater온도를 850℃로 하고, 폭방향(TD) 연신온도 145℃, 열처리 온도 235℃로 한 것을 제외하고 실시예 5와 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. A film having a thickness of 188 占 퐉 was obtained in the same manner as in Example 5 except that the IR-Heater temperature was 850 占 폚 in the machine direction (MD) stretching and the stretching temperature in the transverse direction (TD) was 145 占 폚 and the heat treatment temperature was 235 占 폚 .
[실시예 1][Example 1]
상기 참고예 5에 있어서 제1 마스터배치 및 제2 마스터배치를 적용하여 시트를 제조함에 있어, 각각의 마스터배치의 수지 매트릭스로 상기 참고예 1의 호모폴리에스테르를 무게비로 마스터배치 : 호모폴리에스테르 7 : 3 되도록 섞어 제1 마스터 배치 및 제2 마스터배치로 적용하였으며, 이를 이용하여 “제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)가 5/85/10인 시트를 제조하였다. In the above Referential Example 5, the first masterbatch and the second masterbatch were applied to prepare a sheet. The masterbatches of the above-mentioned Reference Example 1 were mixed in a masterbatch in terms of a weight ratio of the resin matrix of each masterbatch: homopolyester 7 : 3, and applied as a first master arrangement and a second master arrangement. By using this, it was confirmed that the thickness ratio (A / B / C) of "first master arrangement / base layer / second master arrangement" was 5/85/10 Sheet.
또한, 기계방향(MD) 연신 시 IR-Heater온도를 850℃로 하고, 폭방향(TD) 연신온도 145℃, 열처리 온도 235℃로 한 것을 제외하고 참고예 5와 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. A film having a thickness of 188 占 퐉 was obtained in the same manner as in Reference Example 5 except that the IR-Heater temperature was 850 占 폚 in the machine direction (MD) stretching and the stretching temperature in the transverse direction (TD) was 145 占 폚 and the heat treatment temperature was 235 占 폚 .
이와 같이 얻어진 양면에 표층이 있는 폴리에스테르 필름에 대하여 상술한 방법에 의해 측정된 SEM 사진을 도 1로 나타내었다. The thus obtained SEM photograph of the polyester film having the surface layer on both sides measured by the above-mentioned method is shown in Fig.
도 1로부터, 각각의 층은 SEM에 의해 종단면을 관찰하였을 때 상, 하면 모두가 입자에 의해 형성되는 돌출 형상을 가짐을 알 수 있다.From Fig. 1, it can be seen that when the longitudinal cross-section is observed by SEM, each layer has a protruding shape formed by the particles on both the top and bottom surfaces.
[실시예 2][Example 2]
평균입경 5㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)를 상기 참고예 1의 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 20중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다.Silicone beads having an average particle diameter of 5 탆 were compounded with the copolyester of Reference Example 1 to prepare a first master batch having a particle content of 20% by weight.
또한, 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead), 평균입경 20㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead) 및 평균입경 15㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)를 무게비로 7 : 2 :1로 혼합하여 이를 참고예1의 코폴리에스테르와 컴파운딩하여 입자함량 50중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. Polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉, polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 20 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 15 占Mixed at a weight ratio of 7: 2: 1 and compounded with the copolyester of Reference Example 1 to prepare a second master batch having a particle content of 50% by weight.
제1 마스터배치 및 제2 마스터배치를 적용하여 시트를 제조함에 있어, 각각의 마스터배치의 수지 매트릭스로 상기 참고예 1의 호모폴리에스테르를 무게비로 마스터배치 : 호모폴리에스테르를 7 : 3 으로 섞어 적용하였으며, “제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)가 10/70/20인 시트를 제조한 것을 제외하고 참고예 6과 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. In the production of the sheet by applying the first master batch and the second master batch, master batches of the homopolyester of Reference Example 1 were mixed with the homo-polyesters in a ratio of 7: 3 And a sheet having a thickness ratio (A / B / C) of 10/70/20 of the "first masterbatch / base layer / second masterbatch" was prepared in the same manner as in Reference Example 6, A film was prepared.
[실시예 3][Example 3]
“제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)를 2/94/4로 하고, 기계방향(MD) 연신 후, 제2 마스터배치가 포함된 층에 인라인코팅(In-Line Coating; ILC)을 하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다.(MD), the thickness ratio (A / B / C) of the first masterbatch / base layer / second masterbatch is set to 2/94/4, A film having a thickness of 188 탆 was prepared in the same manner as in Example 1 except that in-line coating (ILC) was performed.
인라인코팅(In-Line Coating; ILC)은 굴절율이 1.44인 아크릴계 바인더 4g, 실리콘계웨팅제(TEGO社 폴리에스테르 실록산 공중합체) 0.1g, 200nm 콜로이드 실리 카 입자 0.1g, 멜라민(Melamine)계 경화제(DIC社) 0.15g을 용매로서 물에 첨가한 후 3시간 교반하여 고형분의 농도가 4.35%, 점도 12cps의 코팅액을 상온으로 냉각하여 준비하였으며, 이를 바코팅(Bar Coating; Mayer-Bar적용)방법으로 제2 마스터배치로 되는 층 상에 코팅하였으며, 코팅후, 코팅층의 두께가 80nm가 되도록 메이버바(Mayer-Bar)의 Wire굵기를 조정하여 코팅층을 가지는 필름을 제조하였다. In-line coating (ILC) was prepared by mixing 4 g of an acrylic binder having a refractive index of 1.44, 0.1 g of a silicone-based wetting agent (TEGO polyester siloxane copolymer), 0.1 g of 200 nm colloidal silica particles, a melamine- Ltd.) was added to water as a solvent and stirred for 3 hours to prepare a coating liquid having a solid content concentration of 4.35% and a viscosity of 12 cps at room temperature. The coating liquid was prepared by bar coating (Mayer-Bar application) 2 masterbatch. After coating, the thickness of the wire of the Mayer-Bar was adjusted so that the thickness of the coating layer was 80 nm to prepare a film having a coating layer.
[실시예 4][Example 4]
실시예 2과 동일한 방법으로 필름을 제조함에 있어, 인라인코팅을 제1 마스터배치층면과 제2 마스터배치층면에 모두 처리하는 것을 제외하고, 실시예 2와 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다.A film having a thickness of 188 탆 was prepared in the same manner as in Example 2, except that the inline coating was applied to both the first master batch surface and the second master batch surface in the same manner as in Example 2 .
[실시예 5][Example 5]
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 필름을 제조함에 있어, 하기와 같이 제1 마스터 배치 및 제2 마스터배치를 제조하는 방법을 제외하고 나머지 조건은 동일하게 하여 필름을 제조하였다. A film was produced in the same manner as in Example 1 except that the first master batch and the second master batch were produced as described below.
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 124몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.64dl/g, 융점(Melting Point) 256℃인 호모폴리에스테르(HOMO-PET)를 제조하여 이를 기재층의 수지 매트릭스로 하였다. An intrinsic viscosity of 0.64 dl / g, which is obtained by condensation of 100 mol% of terephthalic acid with 124 mol% of ethylene glycol as glycol component and 0.05 mol (based on acid component) of antimony trioxide as a catalyst by direct esterification, Point Homo-polyester (HOMO-PET) of 256 DEG C was prepared and used as a resin matrix of the substrate layer.
또한, 테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 97몰%와 네오펜틸 글리콜 27몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67dl/g, 유리전이온도 74℃,융점(Melting Point) 197℃인 코폴리에스테르(CO-PET)와; 상기 기재층의 수지 매트릭스와 동일한 호모폴리에스테르를 7.5:2.5중량비로 혼합하고, 여기에 평균입경 2㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)와 평균입경 10㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)가 무게비로 9 : 1로 혼합되어 있는 혼합 입자와 컴파운딩하여 입자함량 5중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다.Further, it was confirmed that an ethylene-propylene copolymer having 100 mol% of terephthalic acid, 97 mol% of ethylene glycol as glycol component and 27 mol% of neopentyl glycol as a glycol and 0.05 mol of antimony trioxide (as acid component) A co-polyester (CO-PET) having a viscosity of 0.67 dl / g, a glass transition temperature of 74 占 폚 and a melting point of 197 占 폚; The same homopolyester as the resin matrix of the base layer was mixed at a weight ratio of 7.5: 2.5. Silicone beads having an average particle diameter of 2 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads having an average particle diameter of 10 占 퐉 (PMMA bead) To prepare a first master batch having a particle content of 5% by weight by compounding with mixed particles having a weight ratio of 9: 1.
또한, 상기 코폴리에스테르와 호모폴리에스테르를 7.5:2.5중량비로 혼합하고 여기에 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)와 평균입경 10㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)가 무게비로 7 : 3로 혼합되어 있는 혼합 입자와 컴파운딩하여 입자함량 10중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. The copolyester and homopolyester were mixed at a weight ratio of 7.5: 2.5. To the mixture were added polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle size of 25 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead ) Was mixed with the mixed particles in a weight ratio of 7: 3 to prepare a second master batch having a particle content of 10% by weight.
[실시예 6][Example 6]
상기 실시예 2와 동일한 방법으로 필름을 제조함에 있어, 하기와 같이 제1 마스터 배치 및 제2 마스터배치를 제조하는 방법을 제외하고 나머지 조건은 동일하게 하여 필름을 제조하였다. A film was prepared in the same manner as in Example 2 except that the first masterbatch and the second masterbatch were produced as described below.
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 124몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.64dl/g, 융점(Melting Point) 256℃인 호모폴리에스테르(HOMO-PET)를 제조하여 이를 기재층의 수지 매트릭스로 하였다. An intrinsic viscosity of 0.64 dl / g, which is obtained by condensation of 100 mol% of terephthalic acid with 124 mol% of ethylene glycol as glycol component and 0.05 mol (based on acid component) of antimony trioxide as a catalyst by direct esterification, Point Homo-polyester (HOMO-PET) of 256 DEG C was prepared and used as a resin matrix of the substrate layer.
또한, 테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 100몰%와 네오펜틸 글리콜 24몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67dl/g, 유리전이온도 76℃,융점(Melting Point) 203℃인 코폴리에스테르(CO-PET)와; 상기 기재층의 수지 매트릭스와 동일한 호모폴리에스테르를 2.5:7.5중량비로 혼합하고, 여기에 평균입경 5㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)를 컴파운딩하여 입자함량 20중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다. Further, it is also possible to use a copolymer obtained by directly condensing 100 mol% of terephthalic acid, 100 mol% of ethylene glycol as a glycol component and 24 mol% of neopentyl glycol with 0.05 mol of antimony trioxide (as acid component) A copolyester (CO-PET) having a viscosity of 0.67 dl / g, a glass transition temperature of 76 占 폚 and a melting point of 203 占 폚; The same homopolyester as the resin matrix of the base layer was mixed at a weight ratio of 2.5: 7.5, and a silicone bead (Silicone Bead) having an average particle diameter of 5 탆 was compounded to prepare a first master batch having a particle content of 20% by weight .
또한, 상기 코폴리에스테르와 호모폴리에스테르를 2.5:7.5중량비로 혼합하고 여기에 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead), 평균입경 20㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead) 및 평균입경 15㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)가 무게비로 7 : 2 :1로 혼합되어 있는 혼합 입자와 컴파운딩하여 입자함량 50중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다.The copolyester and the homopolyester were mixed at a weight ratio of 2.5: 7.5. Then, a polymethylmethacrylate bead (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉 and a polymethylmethacrylate bead (PMMA bead ) And polymethylmethacrylate beads (PMMA beads) having an average particle diameter of 15 탆 were mixed in a weight ratio of 7: 2: 1 to prepare a second master batch having a particle content of 50% by weight.
[실시예 7][Example 7]
상기 참고예 5에 있어서 제1 마스터배치 및 제2 마스터배치를 적용하여 시트를 제조함에 있어, 각각의 마스터배치의 수지 매트릭스로 상기 참고예 1의 호모폴리에스테르를 무게비로 마스터배치 : 호모폴리에스테르 6 : 4 되도록 섞어 제1 마스터 배치 및 제2 마스터배치로 적용하였으며, 이를 이용하여 “제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)가 5/85/10인 시트를 제조하였다. In preparing the sheet by applying the first masterbatch and the second masterbatch in Reference Example 5, the homopolyester of Reference Example 1 was masterbatched with the resin matrix of each masterbatch in a weight ratio: homopolyester 6 : 4, and applied as a first master arrangement and a second master arrangement. By using this, the ratio of thickness (A / B / C) of "first master arrangement / base layer / second master arrangement" was 5/85/10 Sheet.
또한, 기계방향(MD) 연신 시 IR-Heater온도를 850℃로 하고, 폭방향(TD) 연 신온도 145℃, 열처리 온도 235℃로 한 것을 제외하고 참고예 5와 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. In the same manner as in Reference Example 5, except that in the machine direction (MD) stretching, the IR-Heater temperature was 850 占 폚 and the stretching temperature in the width direction (TD) was 145 占 폚 and the heat treatment temperature was 235 占 폚. A film was prepared.
[실시예 8][Example 8]
평균입경 5㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)를 상기 참고예 1의 코폴리에스테르와 컴파운딩을 하여 입자함량 20중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다.Silicone beads having an average particle diameter of 5 탆 were compounded with the copolyester of Reference Example 1 to prepare a first master batch having a particle content of 20% by weight.
또한, 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead), 평균입경 20㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead) 및 평균입경 15㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)를 무게비로 7 : 2 :1로 혼합하여 이를 참고예1의 코폴리에스테르와 컴파운딩하여 입자함량 50중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. Polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉, polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 20 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 15 占Mixed at a weight ratio of 7: 2: 1 and compounded with the copolyester of Reference Example 1 to prepare a second master batch having a particle content of 50% by weight.
제1 마스터배치 및 제2 마스터배치를 적용하여 시트를 제조함에 있어, 각각의 마스터배치의 수지 매트릭스로 상기 참고예 1의 호모폴리에스테르를 무게비로 마스터배치 : 호모폴리에스테르를 6 : 4 으로 섞어 적용하였으며, “제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)가 10/70/20인 시트를 제조한 것을 제외하고 참고예 6과 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. In the production of the sheet by applying the first master batch and the second master batch, the master batch of the homopolyester of Reference Example 1 was mixed with the homo polyester in the ratio of 6: 4 by the resin matrix of each master batch And a sheet having a thickness ratio (A / B / C) of 10/70/20 of the "first masterbatch / base layer / second masterbatch" was prepared in the same manner as in Reference Example 6, A film was prepared.
[실시예 9 내지 12][Examples 9 to 12]
상기 실시예 1 내지 4에 있어서, 각 표층을 구성하는 제1 마스터배치 및 제2 마스터배치를 적용하여 시트를 제조함에 있어 각각의 마스터배치를 참고예 1의 호 모폴리에스테르와 중량비로 5:5 되도록 블렌딩하여 사용한 것을 제외하고 동일한 방법으로 필름을 제조하였다. In the above Examples 1 to 4, in the production of the sheet by applying the first masterbatch and the second masterbatch constituting each surface layer, each masterbatch was mixed with the homopolyester of Reference Example 1 at a weight ratio of 5: 5 To prepare a film in the same manner as above except that it was blended.
[참고예 7] [Reference Example 7]
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 124몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)를 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.64dl/g, 융점(Melting Point) 256℃인 호모폴리에스테르(HOMO-PET)를 제조하였다., An intrinsic viscosity of 0.64 dl / g, which is obtained by condensation of 100 mol% of terephthalic acid with 124 mol% of ethylene glycol as glycol component and 0.05 mol (based on acid component) of antimony trioxide as a catalyst by direct esterification, Point) Homo-polyester (HOMO-PET) of 256 占 폚 was prepared.
평균입경 2㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)를 상기 호모폴리에스테르와 컴파운딩하여 입자함량 10중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다.Silicone beads having an average particle diameter of 2 탆 were compounded with the homopolyester to prepare a first master batch having a particle content of 10% by weight.
또한, 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)와 평균입경 20㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)가 무게비로 9 : 1로 혼합되어 있는 혼합입자를 상기 호모폴리에스테르와 컴파운딩하여 입자함량 20중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. Further, mixed particles in which polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 20 占 퐉 were mixed at a weight ratio of 9: 1 were mixed with the homopolyester To prepare a second master batch having a particle content of 20% by weight.
기재층의 수지 매트릭스인 호모폴리에스테르를 275℃로 압출하였으며, 표층을 이루는 제1 마스터배치와 제2 마스터배치를 각각 270℃에서 압출하고 피드블록(Feed block)을 사용하여 “제1 마스터배치/ 기재층/ 제2 마스터배치”의 두께비(A/B/C)가 5/85/10인 시트를 제조하였다. 이때 층간의 두께비는 토출량으로 제어하였다. 토출된 시트(Sheet)를 30℃의 캐스팅 롤러(Casting Roller)를 거치면서 냉각을 행하여 미연신 필름을 제조하였다. 상기 미연신 필름을 연속적으로 기계적 방 향으로 이송되는 롤러군(MDO : Machine Direction Organization)에서 850℃의 온도로 가열된 IR-Heater에서 3.5배 연신을 하였다. 기계방향으로의 연신을 거친 후, 연속하여 95℃의 예열구간을 거쳐 155℃에서 폭에 대하여 3.5배 연신시킨 후, 235℃에서 열처리를 행하고, 180℃에서 3.5%의 완화(Relax)를 적용하여 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. The homopolyester as a resin matrix of the substrate layer was extruded at 275 DEG C and the first master batch and the second master batch constituting the surface layer were extruded at 270 DEG C respectively and fed to the first master batch / Base layer / second master batch " was 5/85/10 in thickness ratio (A / B / C). At this time, the thickness ratio between the layers was controlled by the discharge amount. The discharged sheet was cooled while passing through a casting roller at 30 ° C to prepare an unoriented film. The unstretched film was stretched 3.5 times in an IR-heater heated at a temperature of 850 ° C in a machine direction machine (MDO) conveyed continuously in a mechanical direction. After stretching in the machine direction, the film was stretched to 3.5 times the width at 155 DEG C through a preheating section of 95 DEG C successively, followed by heat treatment at 235 DEG C and a relaxation of 3.5% at 180 DEG C A film having a thickness of 188 탆 was produced.
[참고예 8][Referential Example 8]
기계방향(MD) 연신 후, 양면에 인라인코팅(In-Line Coating; ILC)을 하는 것을 제외하고 참고예 7과 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다.After stretching in the machine direction (MD), a film having a thickness of 188 탆 was produced in the same manner as in Reference Example 7, except that in-line coating (ILC) was performed on both sides.
인라인코팅(In-Line Coating; ILC)은 굴절율이 1.44인 아크릴계 바인더 4g, 실리콘계웨팅제(TEGO社 폴리에스테르 실록산 공중합체) 0.1g, 200nm 콜로이드 실리카 입자 0.1g, 멜라민(Melamine)계 경화제(DIC社) 0.15g을 용매로서 물에 첨가한 후 3시간 교반하여 고형분의 농도가 4.35%, 점도 12cps의 코팅액을 상온으로 냉각하여 준비하였으며, 이를 바코팅(Bar Coating; Mayer-Bar적용)방법으로 제1 마스터배치로 되는 층 및 제2 마스터배치로 되는 층 상에 코팅하였으며, 코팅후, 코팅층의 두께가 80nm가 되도록 메이어바(Mayer-Bar)의 Wire굵기를 조정하여 코팅층을 가지는 필름을 제조하였다. In-line coating (ILC) was prepared by mixing 4 g of an acrylic binder having a refractive index of 1.44, 0.1 g of a silicone-based wetting agent (TEGO polyester siloxane copolymer), 0.1 g of 200 nm colloidal silica particles, a melamine- ) Was added to water as a solvent and stirred for 3 hours to prepare a coating solution having a solid content concentration of 4.35% and a viscosity of 12 cps at room temperature. This was prepared by bar coating (Mayer-Bar application) The master layer and the second master layer. After coating, the thickness of the wire of the Mayer-Bar was adjusted so that the thickness of the coating layer was 80 nm to prepare a film having a coating layer.
[참고예 9][Referential Example 9]
참고예 3에 있어서 열처리온도를 215℃로 한 것을 제외하고, 참고예 3과 동 일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다. A film having a thickness of 188 占 퐉 was produced in the same manner as in Reference Example 3, except that the heat treatment temperature in Reference Example 3 was 215 占 폚.
[참고예 10][Referential Example 10]
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 118몰%와 네오펜틸 글리콜 6몰%을 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67dl/g, 유리전이온도 76℃,융점(Melting Point) 248℃인 코폴리에스테르(CO-PET)를 표층의 수지 매트릭스로 적용하고, 열처리온도를 250℃로 한 것을 제외하고, 참고예 3과 동일한 방법으로 두께 188㎛의 필름을 제조하였다.100 mol% of terephthalic acid, 118 mol% of ethylene glycol as glycol component and 6 mol% of neopentyl glycol, 0.05 mol of antimony trioxide (relative to acid component) as a catalyst, and intrinsic viscosity of 0.67 (CO-PET) having a glass transition temperature of 76 ° C and a melting point of 248 ° C was applied as a resin matrix of the surface layer and the heat treatment temperature was 250 ° C. A film having a thickness of 188 탆 was produced in the same manner.
[참고예 11][Referential Example 11]
상기 실시예 1에 있어서 하기와 같이 제1 마스터 배치 및 제2 마스터배치를 제조하는 방법을 제외한 나머지 조건은 동일하게 하여 필름을 제조하였다. A film was produced in the same manner as in Example 1 except that the first master batch and the second master batch were produced as described below.
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 124몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.64dl/g, 융점(Melting Point) 256℃인 호모폴리에스테르(HOMO-PET)를 제조하여 이를 기재층의 수지 매트릭스로 하였다. An intrinsic viscosity of 0.64 dl / g, which is obtained by condensation of 100 mol% of terephthalic acid with 124 mol% of ethylene glycol as glycol component and 0.05 mol (based on acid component) of antimony trioxide as a catalyst by direct esterification, Point Homo-polyester (HOMO-PET) of 256 DEG C was prepared and used as a resin matrix of the substrate layer.
또한, 테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 97몰%와 네오펜틸 글리콜 27몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67dl/g, 유리전이온도 74℃,융 점(Melting Point) 197℃인 코폴리에스테르(CO-PET)와; 상기 기재층의 수지 매트릭스와 동일한 호모폴리에스테르를 1:9중량비로 혼합하고, 여기에 평균입경 2㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)와 평균입경 10㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)가 무게비로 9 : 1로 혼합되어 있는 혼합 입자와 컴파운딩하여 입자함량 5중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다.Further, it was confirmed that an ethylene-propylene copolymer having 100 mol% of terephthalic acid, 97 mol% of ethylene glycol as glycol component and 27 mol% of neopentyl glycol as a glycol and 0.05 mol of antimony trioxide (as acid component) A copolyester (CO-PET) having a viscosity of 0.67 dl / g, a glass transition temperature of 74 캜 and a melting point of 197 캜; Homo-polyesters identical to the resin matrix of the base layer were mixed in a weight ratio of 1: 9, and silicone beads having an average particle size of 2 m and polymethyl methacrylate beads having an average particle size of 10 m (PMMA bead) To prepare a first master batch having a particle content of 5% by weight by compounding with mixed particles having a weight ratio of 9: 1.
또한, 상기 코폴리에스테르와 호모폴리에스테르를 1:9중량비로 혼합하고 여기에 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)와 평균입경 10㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)가 무게비로 7 : 3로 혼합되어 있는 혼합 입자와 컴파운딩하여 입자함량 10중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다. The copolyester and homopolyester were mixed in a weight ratio of 1: 9, and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉 and polymethylmethacrylate beads (PMMA bead ) Was mixed with the mixed particles in a weight ratio of 7: 3 to prepare a second master batch having a particle content of 10% by weight.
[참고예 12][Referential Example 12]
상기 실시예 2에 있어서 하기와 같이 제1 마스터 배치 및 제2 마스터배치를 제조하는 방법을 제외한 나머지 조건은 동일하게 하여 필름을 제조하였다. Except that the first master batch and the second master batch were produced in the same manner as in Example 2, except that the first master batch and the second master batch were produced as described below.
테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 124몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.64dl/g, 융점(Melting Point) 256℃인 호모폴리에스테르(HOMO-PET)를 제조하여 이를 기재층의 수지 매트릭스로 하였다. An intrinsic viscosity of 0.64 dl / g, which is obtained by condensation of 100 mol% of terephthalic acid with 124 mol% of ethylene glycol as glycol component and 0.05 mol (based on acid component) of antimony trioxide as a catalyst by direct esterification, Point Homo-polyester (HOMO-PET) of 256 DEG C was prepared and used as a resin matrix of the substrate layer.
또한, 테레프탈산 100몰%, 글리콜 성분으로 에틸렌글리콜 100몰%와 네오펜틸 글리콜 24몰%를 사용하고 촉매로 3산화안티몬 0.05몰(산성분에 대하여)을 사용하여 직접에스테르화법에 의하여 축중합한 고유 점도 0.67dl/g, 유리전이온도 76℃,융 점(Melting Point) 203℃인 코폴리에스테르(CO-PET)와; 상기 기재층의 수지 매트릭스와 동일한 호모폴리에스테르를 9:1중량비로 혼합하고, 여기에 평균입경 5㎛의 실리콘 비드 (Silicone Bead)를 컴파운딩하여 입자함량 20중량%인 제1 마스터배치를 제조하였다. Further, it is also possible to use a copolymer obtained by directly condensing 100 mol% of terephthalic acid, 100 mol% of ethylene glycol as a glycol component and 24 mol% of neopentyl glycol with 0.05 mol of antimony trioxide (as acid component) A copolyester (CO-PET) having a viscosity of 0.67 dl / g, a glass transition temperature of 76 占 폚 and a melting point of 203 占 폚; Homo-polyesters identical to the resin matrix of the base layer were mixed at a weight ratio of 9: 1, and a silicone bead (Silicone Bead) having an average particle diameter of 5 탆 was compounded to prepare a first master batch having a particle content of 20% by weight .
또한, 상기 코폴리에스테르와 호모폴리에스테르를 9:1중량비로 혼합하고 여기에 평균입경 25㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead), 평균입경 20㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead) 및 평균입경 15㎛의 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(PMMA bead)가 무게비로 7 : 2 :1로 혼합되어 있는 혼합 입자와 컴파운딩하여 입자함량 50중량%인 제2 마스터배치를 제조하였다.The copolyester and the homopolyester were mixed in a weight ratio of 9: 1, and a polymethylmethacrylate bead (PMMA bead) having an average particle diameter of 25 占 퐉 and a polymethylmethacrylate bead (PMMA bead ) And polymethylmethacrylate beads (PMMA beads) having an average particle diameter of 15 탆 were mixed in a weight ratio of 7: 2: 1 to prepare a second master batch having a particle content of 50% by weight.
하기 표 1 내지 2에 상기 실시예 및 참고예를 요약 정리하였다.The above Examples and Reference Examples are summarized in Tables 1 and 2 below.
* Homo-PET : 호모폴리에스테르, Co-PET : 폴리에스테르 공중합체* Homo-PET: Homopolyester, Co-PET: Polyester copolymer
상기 실시예, 참고예 및 비교예에 의해 제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 3 내지 표 4에 나타내었다.The physical properties of the films prepared by the above-mentioned Examples, Reference Examples and Comparative Examples were measured and shown in Tables 3 to 4 below.
(kg/㎟)burglar
(kg / mm2)
CV (%)Haze deviation
CV (%)
시
예room
city
Yes
(kg/㎟)burglar
(kg / mm2)
CV (%)Haze deviation
CV (%)
참고예 1 내지 6의 경우, 광확산층에 사용된 수지의 융점이 너무 낮아 입자가 필름의 주변부로 몰려 광학 필름으로 사용하기 곤란하며, 참고예 9의 경우 광확산층의 수지 대비 열처리 온도가 낮아 표면에 입자돌출 효과가 나타나지 않아 헤이즈(Haze)는 높으나, 투과율이 낮음을 알 수 있다. In the case of Reference Examples 1 to 6, since the melting point of the resin used for the light diffusion layer is too low, it is difficult to use particles as an optical film because the particles are gathered around the periphery of the film. In Reference Example 9, The haze is high but the transmittance is low because the particle protruding effect does not appear.
또한, 참고예 10의 경우 광확산층의 융점이 너무 높아 열처리 온도가 올라가므로 필름의 두께 제어가 어려워 전체적으로 광학특성이 불균일하여 광학필름으로 사용하기 곤란하다. In the case of Reference Example 10, since the melting point of the light-diffusing layer is too high, the heat treatment temperature is increased, so that it is difficult to control the thickness of the film.
참고예 7 내지 8의 경우, 기재층과 광확산층에 동일한 수지를 사용하여 열처리함으로써, 헤이즈는 높으나 전체 광선 투과율이 낮은 것을 알 수 있다.In the case of Reference Examples 7 to 8, it can be seen that the heat treatment is performed using the same resin for the base layer and the light diffusion layer, whereby the haze is high but the total light transmittance is low.
또한, 참고예 11 내지 12의 경우 CO-PET과 HOMO-PET의 혼용비가 소정 범위를 벗어나는 경우로, CO-PET함량이 지나치게 높은 경우 입자의 고정력이 낮아 열처리시 입자가 변부로 몰림 현상이 일부 발생하며 HOMO-PET가 지나치게 높은 경우에는 저융점에 의한 입자돌출 효과를 기대하기 어려워 적정의 CO-PET과 HOMO-PET이 혼용된 실시예에 비하여 전광선 투과율이 낮음을 알 수 있다. In the case of Reference Examples 11 to 12, when the mixed ratio of CO-PET and HOMO-PET is out of a predetermined range, when the CO-PET content is too high, the fixing force of the particles is low, And when the HOMO-PET is excessively high, it is difficult to expect a particle protrusion effect due to the low melting point. Thus, it can be seen that the total light transmittance is low as compared with the case where the appropriate CO-PET and HOMO-PET are mixed.
광확산층 형성에 있어서 필름 양면에 입자 돌출에 의한 집광 및 확산기능을 강화시켜주는 광확산층을 부여함으로써 헤이즈 및 전체광선투과율이 높은 광확산 필름을 제조할 수 있음을 알 수 있다. It can be seen that a light diffusion film having high haze and total light transmittance can be manufactured by providing a light diffusion layer for enhancing the light converging and diffusing function by particle projection on both sides of the film in the light diffusion layer formation.
도 1은 실시예 1로부터 얻어진 폴리에스테르 필름의 SEM 사진.1 is a SEM photograph of a polyester film obtained from Example 1. Fig.
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002178472A (en) | 2000-12-13 | 2002-06-26 | Mitsubishi Polyester Film Copp | Laminated polyester film |
| JP2002326330A (en) | 2001-05-07 | 2002-11-12 | Mitsubishi Polyester Film Copp | Laminated polyester film |
| KR20040034431A (en) * | 2002-10-14 | 2004-04-28 | 미쓰비시 폴리에스테르 필름 지엠비에치 | Multilayer, biaxially oriented polyester film, process for its production and its use |
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-
2009
- 2009-11-03 KR KR1020090105702A patent/KR101458230B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
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