KR101453194B1 - 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에 관한 것으로, (a) 유리기판에 다수의 터치스크린 윈도우 패널용 셀을 설계하는 단계와, (b) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀의 곡선부를 완전히 절단 가공하는 단계와, (c) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀의 직선부를 부분적으로 가공하는 단계와, (d) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀을 강화 처리하는 단계와, (e) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀에 전극 패턴을 형성하는 단계와, (f) 상기 (c) 단계에서 미가공된 직선부를 완전히 절단 가공하는 단계 및 (g) 상기 윈도우 패널용 셀의 절단면을 후가공하는 단계를 포함하여 원장 단위 방식을 유지하면서도 셀 단위 방식의 강화 효과를 얻을 수 있다.

Description

터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법{Manufacturing method of window panel for touch screen}

본 발명은 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에 관한 것으로, 특히, 곡선부 및 홀의 가공이 용이하고, 절단면의 강화 특성도 향상시킬 수 있는 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에 관한 것이다.

최근 스마트폰이나 태블릿 PC 등과 같은 IT 기기의 입력장치로 사용되는 터치스크린에는 정전용량터치(Projective capacitive touch) 방식이 주로 적용되고 있다. 이러한 정전용량 방식의 터치스크린은 터치센서를 구성하는 투명 전도성 필름 2장과 강화유리 윈도우가 결합된 GFF 타입과, 양면에 터치센서가 형성된 한 장의 필름과 강화유리 윈도우가 결합된 GF2 타입과, 터치센서를 구성하는 투명전극이 강화유리와 한 장의 필름에 형성된 G1F 타입 및 양면에 터치센서가 형성된 유리에 강화유리 윈도우를 부착한 GG, GG2, G2 타입 등으로 분류될 수 있다.

한편, 터치스크린 제조기술에 있어서는 제조공정을 단순화하고, 사용자 환경에서 충분한 신뢰성을 확보하기 위해 내구성 및 품질을 개선하고자 하는 노력이 진행되고 있는데, 터치스크린은 기본적으로 디스플레이 기기의 전면에 장착되기 때문에 기존 휘도를 저하시키지 않고, 특히, 휴대 기기의 경우에는 소비전력을 최소화하기 위하여 터치스크린 자체의 높은 광투과율이 필수적이라고 할 수 있으며, 이를 위해 보다 얇은 두께의 터치스크린 패널이 요구되고 있다.

따라서 최근에는 휴대폰용 터치스크린의 경우 두께가 1.0mm 이하인 유리 윈도우 패널을 사용하고 있으나, 이러한 터치스크린은 손가락이나 펜 등을 이용하여 정보를 입력할 때 터치스크린 패널에 스크래치가 발생할 수 있고, 사용자가 휴대폰을 바지 뒷주머니에 넣고 앉을 경우 파손 발생의 위험이 있기 때문에 일반유리가 아닌 강화 처리된 유리를 사용하는 것이 일반적이다.

유리의 강화방법은 열강화와 화학강화로 구별될 수 있는데, 휴대폰과 같은 모바일 기기에 사용되는 1.0mm 정도의 얇은 유리의 경우에는 화학강화가 주로 사용되고 있다.

이러한 화학강화는 Na⁺ 이온을 함유한 유리를 K⁺ 이온을 함유한 염에 접촉시켜 유리의 표면에서 내부로 Na⁺와 K⁺의 이온 교환을 진행시키는 방식으로 이루어진다. 따라서 유리 구조 중에서 Na⁺가 점유한 위치에 K⁺가 들어가게 되고, 이 때 K⁺의 이온반경(1.33Å)이 Na⁺의 이온반경(0.98Å)보다 크기 때문에 망목 구조 주위에 압축력이 발생하게 되는데 이러한 현상을 crowing 또는 stuffing이라 한다.

한편, 화학강화는 얇은 유리도 강화가 가능하고, 투과상에 응력이 발생하지 않는 장점이 있으나, 열강화와 비교할 때 표면의 압축응력 층이 얇기 때문에 표면에 깊은 흠집이 생기면 강화 효과가 상실되기 쉬운 단점이 있다.

유리의 파괴 패턴은 몇 가지 특징을 나타내는데, 보다 상세하게는 강도의 편차가 크고, 표면에서 파괴가 발생하며, 인장응력이 작용하는 경우 파손이 일어난다. 이러한 특징으로부터 유리재료의 경우 고유 강도를 유지하기가 어려울 뿐 아니라 강도가 외적인 요인에 의해 좌우됨을 알 수 있다.

이러한 파괴에 대한 연구는 Griffith 이론으로 정리될 수 있다. 이 이론에서 강도를 좌우하는 외적인 요인은 Griffith Flaw라고 하는 유리 표면의 미세한 흠으로 정의되고 있다. 즉, 유리에 인장응력이 작용하면 Griffith Flaw의 선단에 응력 집중이 발생하고, 이로 인해 재료에 균열이 발생하면서 파괴가 일어나는 것이다. 따라서 유리 제품의 강도를 유지하기 위해서는 유리 표면의 미세한 흠을 제거하거나, 흠 발생을 억제하고, 흠이 확대되는 것을 방지하는 방법 등을 고려할 수 있다. 특히, 화학강화는 이러한 방법들 중 흠이 확대되는 것을 방지하기 위해 표면에 압축응력을 생성시키는 하나의 방법이라고 할 수 있다.

한편, 터치스크린 패널의 두께를 최소화하기 위한 방법으로는 유리 자체의 두께를 줄이는 방법 뿐 아니라 강화 처리된 윈도우 패널의 일면에 터치 전극 등을 형성하여 터치스크린 패널을 위한 별도의 기판이 필요하지 않도록 함으로써 두께를 줄이는 방법도 제시되어 왔다.

이러한 터치스크린 윈도우 패널의 제조방법으로는 원판유리(이하, ‘원장’이라 함) 상태의 유리기판을 셀 단위로 절단한 후 이를 개별적으로 강화 처리하여 윈도우 패널을 형성하는 셀 단위 방식과, 원장 상태의 유리기판을 먼저 강화 처리한 후 이를 셀 단위로 절단하여 윈도우 패널을 형성하는 원장 단위 윈도우 패널 방식이 사용되고 있다.

셀 단위 방식의 경우 도 1에 도시된 바와 같이 원장 상태의 유리기판을 셀 단위로 절단하고, 셀 단위 기판 각각에 대하여 강화 처리를 한 후 표면에 터치 전극을 형성하여 터치스크린을 제조하기 때문에 기본적으로 지그를 사용해야 하는데, 셀 단위 윈도우 패널이 장착되는 지그의 자체 가공 공차와, 셀 단위 윈도우 패널 자체의 절단 공차 등의 각각의 편차로 인해 제조 수율이 저하되는 문제점이 있다.

반면, 원장 단위 방식의 경우에는 도 2에 도시된 바와 같이 원장 상태의 유리를 한 번에 강화 처리하기 때문에 강화 처리에 소요되는 시간을 절약할 수 있고, 원장 단위 윈도우 패널에 터치 전극 등을 형성하여 터치스크린 제조가 가능하므로 셀 단위 방식에 비해 공정이 단순하고, 제조 수율을 높일 수 있는 장점이 있다.

그러나 현재 사용되고 있는 원장 방식은 강화 처리 후 셀 단위 절단시 절단면 부위의 강화층 손실과, 절단 가공시 발생하는 미세 균열의 존재로 인해 강도가 저하되는 문제점이 있으며, 강화 깊이에 따라 가공방법 등이 제한되어 공정비용이 증가하는 단점도 있다. 특히, 강화 처리 후 가공시 얻을 수 있는 가공 단면의 품질 측면에서 볼 때 직선 가공보다는 곡선 및 홀 가공이 매우 어려울 뿐 아니라 그 표면정도가 기존 셀 단위 방식 제품 기준의 가공 단면 품질 기준에 미치지 못하는 상황이다.

이에, 최근에는 절단면의 미세 균열을 제거하기 위해 연마기를 이용하여 절단면을 연마하고, 2차 강화를 위해 폴리싱 공정 등을 도입하고 있기는 하나 이러한 후공정의 경우도 직선 가공부는 비교적 쉽게 진행할 수 있으나 상대적으로 곡선부나 홀 가공부는 2차 강화 처리가 매우 어려워 양산 적용이 어려운 실정이다.

따라서 셀 단위 방식의 양산성 및 수율 문제를 고려하면 원장 단위 방식이 바람직하다고 할 수 있으나, 이러한 원장 단위 방식이 경쟁력을 갖기 위해서는 곡선 및 홀 가공 단면의 품질이 기존 셀 단위 방식에서 얻을 수 있는 품질 수준에 만족할 수 있는 공정 개발이 중요하다고 할 수 있다.

본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 원장 단위 방식에서 강화 처리 후 가공이 어려운 곡선부나 홀의 문제를 해소하고, 강화 처리 후 셀 단위 절단시 발생하는 강화 특성의 저하를 방지할 수 있는 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법을 제공하는 데 목적이 있다.

전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 수단으로서,

본 발명은 (a) 유리기판에 다수의 터치스크린 윈도우 패널용 셀을 설계하는 단계와, (b) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀의 곡선부를 완전히 절단 가공하는 단계와, (c) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀의 직선부를 부분적으로 가공하는 단계와, (d) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀을 강화 처리하는 단계와, (e) 상기 (c) 단계에서 미가공된 직선부를 완전히 절단 가공하는 단계 및 (f) 상기 윈도우 패널용 셀의 절단면을 후가공하는 단계를 포함하는 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법을 제공한다.

이 경우, 본 발명은 (g) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀에 전극 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하되, 상기 (g) 단계는 상기 (d) 단계 이후 또는 상기 (f) 단계 이후에 실시될 수 있다.

이 경우, 상기 (b) 단계는 선택적으로 상기 윈도우 패널용 셀에 홀을 완전히 절단 가공하는 공정을 더 포함할 수 있다.

이 경우, 상기 (c) 단계는 상기 직선부의 단면 중심부가 상기 유리기판과 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀 사이에 연결된 상태를 유지하도록 상기 직선부의 상부와 하부를 동일한 깊이로 가공할 수 있다.

이 경우, 상기 직선부의 단면 중심부 두께는 상기 (d) 단계에 의한 강화 깊이의 2배 이하일 수 있다.

이 경우, 상기 직선부의 단면 중심부 두께는 100㎛일 수 있다.

이 경우, 상기 (c) 단계는 상기 직선부를 부분적으로 습식에칭하거나 기계적 가공 또는 습식에칭과 기계적 가공을 복합적으로 실시한 후 가공면을 표면 처리할 수 있다.

이 경우, 상기 (e) 단계는 상기 미가공 직선부를 펄스레이저로 절단하거나 불화수소를 이용하여 에칭할 수 있다.

이 경우, 상기 (f) 단계는 절단면을 그라인딩하거나 폴리싱한 후 표면 처리할 수 있다.

본 발명에 따르면, 상대적으로 가공이 어려운 곡선부나 홀을 강화 처리 전 완전하게 절단 가공하고, 직선부를 부분적으로 가공하여 강화 처리한 후 완가공함으로써 기존 원장 단위 방식에서 발생하는 강화 효과 저하 문제를 해결할 수 있다.

또한, 기존 셀 단위 방식 제조 공정에 비해 공정의 단순화가 가능하여 작업성 및 생산수율을 향상시킬 수 있을 뿐 아니라 공정비용도 절감할 수 있다.

도 1은 종래기술에 따른 셀 단위 방식의 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법을 도시한 공정도,
도 2는 종래기술에 따른 원장 단위 방식의 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법을 도시한 공정도,
도 3 내지 도 5는 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법을 도시한 공정도,
도 6은 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법의 유리기판 설계예시도,
도 7은 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에서 직선부가 부분 가공된 후의 단면 구조를 도시한 도면,
도 8은 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에서 직선부가 강화 처리된 후의 단면 구조를 도시한 도면.

이하에서는, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙여 설명한다.

도 3 내지 5는 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법을 도시한 공정도, 도 6은 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법의 유리기판 설계예시도, 도 7은 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에서 직선부가 부분 가공된 후의 단면 구조를 도시한 도면, 도 8은 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에서 직선부가 강화 처리된 후의 단면 구조를 도시한 도면이다.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법은 높은 제조 수율을 얻기 위해 원장 방식을 적용하되, 강화 처리 후 가공이 어려운 곡선부나 홀을 강화 처리 전 가공하고, 직선부를 부분 가공하여 강화 처리한 후 완전 가공함으로써 셀 단위 윈도우 패널의 강화층 손실을 최소화한 것에 기술적 특징이 있는 바 이하 각 공정에 대해 차례대로 설명하도록 한다.

먼저, 도 6에 도시된 바와 같이 원장, 즉, 원판유리 상태의 유리기판(110)에 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)을 일정한 간격으로 다수 설계한다.

상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)은 대략 장방형으로 이루어지는데, 보다 상세하게는 네 변에 형성되는 직선부(100a)와, 네 모서리에 라운드지게 형성되는 곡선부(100b)로 구성되며, 선택적으로 중앙 하단에 형성되는 홀(100c)을 더 포함할 수 있다. 즉, 본 발명은 가공이 용이한 직선부와, 상대적으로 가공이 어려운 곡선부 및 홀을 포함하는 터치스크린 윈도우 패널용 셀을 대상으로 한다.

그러나 본 발명에서 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)이 상술한 바와 같이 장방형으로 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 원형, 타원형 또는 다른 다각형 형태로 이루어질 수 있으며, 상기 직선부(100a)와, 상기 곡선부(100b) 및 상기 홀(100c)의 위치도 자유롭게 변형 가능한 것으로 이해되어야 한다.

또한, 여기서는 설명의 편의를 위해 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)이 상기 유리기판(110)에 6×5의 형태로 총 30개가 배열된 것만을 예시하였으나, 본 발명의 셀 개수가 이에 한정되는 것은 아니며 상기 유리기판(110)의 크기를 고려하여 적절하게 증감될 수 있음은 물론이다.

상술한 바와 같이 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)의 설계가 완료되면, 상기 곡선부(100b)와 상기 홀(100c)을 완전하게 절단 가공한다. 여기서, 상기 곡선부(100b)를 절단할 때에는 셀 주변에 배치된 다른 셀과 유리기판의 모서리 등을 고려하여 절단 부위를 T자형, 십자형 또는 ㄱ자형 등으로 적절하게 설계하여 가공하는 것이 바람직하다.

상기 곡선부(100b)와 상기 홀(100c)의 절단 가공 방법으로는 레이저 절삭, CNC 가공, 다이아몬드 휠 커팅, 워터젯 커팅 등과 같은 물리적인 방식이 바람직하나, 불화수소(HF)를 이용한 에칭과 같은 화학적인 방식 또는 물리적인 방식과 화학적인 방식을 혼합한 복합 방식도 모두 가능하다. 이 경우, 상술한 가공 방법은 이미 공지되어 확립된 기술들이므로 여기서는 상세한 설명을 생략하기로 한다.

이후, 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)의 직선부(100a)를 부분 가공한다.

상기 직선부(100a)의 부분 가공은 도 7에 도시된 바와 같이 상기 직선부(100a)의 상부와 하부를 동일한 깊이로 가공하여 상기 직선부(100a)의 단면 중심부가 상기 유리기판(110)과 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100) 사이에 연결된 상태를 유지하도록 한다.

이 경우, 상기 직선부(100a)의 단면 중심부 두께는 일반적으로 강화 처리시 형성되는 강화층 깊이의 2배 이내, 예컨대, 대략 100㎛ 내외인 것이 바람직하다. 왜냐하면 중심부의 두께가 강화층 깊이의 2배를 초과할 경우에는 셀 단위로 절단시 강화되지 않은 부분의 면적이 넓어져 절단면의 후가공에 의해서도 강화 효과를 얻을 수 없기 때문이다.

본 발명에서 상기 직선부(100a)의 부분 가공은 상기 곡선부(100b) 및 상기 홀(100c)의 가공에서와 마찬가지로 습식에칭이나 기계적 가공 또는 양자를 혼합한 방식에 의해 이루어질 수 있는데, 어떤 경우라도 가공 후 가공면의 표면 균열을 방지하기 위해 표면처리가 수반되는 것이 바람직하다.

상기 직선부(100a)의 부분 가공이 완료되면 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)을 강화 처리한다. 강화 처리 방법으로는 화학강화를 적용할 수 있으며, 보다 상세하게는 KNO₃ 염을 함유한 염욕에 상기 유리기판(110)을 침지시켜 450℃에서 6시간 동안 유지할 수 있다.

상술한 바와 같이 상기 유리기판(110)을 강화 처리하면 상기 곡선부(100b)와 상기 홀(100c)은 완전히 관통 가공되어 있기 때문에 절단면이 완전하게 강화될 수 있고, 원장 방식을 유지하기 위해 남겨 놓은 상기 직선부(100a)의 경우에도 상부와 하부가 가공되어 표면이 노출되어 있기 때문에 도 8에 도시된 바와 같이 상기 곡선부(100b)와 동일하게 강화가 진행된다. 즉, 상기 직선부(100a)의 미가공된 단면 중심부는 두께가 약 100㎛ 정도이기 때문에 강화깊이(DOL: Depth of Layer)가 50㎛인 강화 조건을 선택하면 단면 중심부의 상부와 하부에서도 각각 50㎛씩 강화가 진행되어 전체적으로 강화 효과를 얻을 수 있다. 참고적으로, 화학강화에 의한 강화 깊이는 강화유리의 종류에 따라 달라질 수 있는데, Sodalime 글라스의 경우에는 일반적으로 8~12㎛ 정도가 강화된다.

이후, 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)에 전극 패턴을 형성한다. 구체적으로, 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)의 일면에 스크린 인쇄 등의 방식으로 데코를 인쇄하고 건조시킨 후 ITO를 증착하고 에칭하여 터치 투명 전극을 패터닝한다. 본 발명에서는 이러한 전극 패턴 형성 과정이 원장 단위로 이루어지기 때문에 셀 단위 방식에 비해 생산 수율이 현저하게 향상될 수 있다.

이 경우, 상술한 전극 패턴 형성 공정은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 절단 공정이 완료된 후 실시되는 것도 가능하다. 즉, 본 발명에서는 앞서 설명한 바와 같이 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)의 절단면을 강화 처리할 수 있다면 전극 패턴 형성 공정의 순서는 특별히 제한되지 않으며, 원장 단위나 셀 단위로 모두 가능한 것으로 이해되어야 한다.

전극 패턴의 형성이 완료되면 상기 직선부(100a)의 미가공된 부분을 완전하게 절단 가공한다. 이 경우, 미가공 부분의 절단은 강화 처리 후 단면을 가공할 수 있는 펄스레이저를 이용하거나 불화수소를 이용하여 에칭하는 것이 바람직하다.

마지막으로, 상술한 바와 같이 셀 단위로 절단 가공된 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀(100)의 절단면을 후가공한다. 구체적으로, 절단면을 그라인딩하거나 폴리싱한 후 균열을 방지하기 위해 가공면을 표면 처리하면 모든 공정이 완료된다. 즉, 스크린 프린팅 및 ITO 패터닝 후 최종 절단할 경우 두께 단면의 최대 5% 이내의 매우 작은 면적이 충분하게 강화되지 않을 수 있는데, 이를 상술한 바와 같은 후가공을 통해 보완함으로써 측면 강화 부족의 문제를 해결할 수 있다.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 곡선부나 홀과 같이 강화 처리 후 가공이 어려운 부분은 강화 처리 전에 미리 완가공하고, 상대적으로 가공이 용이한 직선부는 상부와 하부 일정한 깊이로 부분 가공하여 강화 처리 후 완가공함으써 기존 원장 단위 방식의 제조방법에서 문제가 되었던 가공성과 강화 효과 저하 문제를 해결할 수 있다.

이상으로 본 발명에 따른 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에 대해 설명하였다. 이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예에 대해 설명한다. 본 발명은 아래의 실시예에 의해 보다 명확하게 이해될 수 있으나, 이러한 실시예는 본 발명의 예시를 위한 것에 불과하고 발명의 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.

실시예

0.7mm 두께의 터치스크린 패널용 Sodalime 유리기판을 370mm×470mm 크기로 준비하고, 준비된 유리기판에 총 30개의 셀을 6× 5의 형태로 배열되도록 설계하였다. 이후, 기계 가공을 통해 곡선부와 홀을 완전하게 절단 가공하고, 동일한 방식으로 직선부를 부분 가공하였다. 직선부는 상면으로부터 0.34mm, 하면으로부터 0.34mm의 깊이로 가공하여 단면 중심부가 0.02mm 정도 남아 있도록 하였다. 이 경우, 취급시 가공면의 미세 균열로 인하여 원장 단위의 취급이 어려울 수 있으므로 표면 미세 균열의 진전을 방지하기 위하여 불화수소(HF)가 함유된 페이스트를 이용하여 후처리를 진행한 후 세정하였다. 이후, KNO₃ 염을 함유한 염욕에서 450℃의 온도로 6시간 동안 유지하여 화학강화를 진행하고, 스크린 프린팅, ITO 증착 및 에칭 공정을 진행하여 원장 방식으로 투명 전극을 패터닝함으로써 데코 인쇄 및 투명 전극 형성을 완료하였다. 계속하여, 직선부의 미가공 부분을 기계 가공을 통해 최종적으로 절단 가공하고, 절단면을 다이아몬드 휠을 이용하여 그라인딩 및 폴리싱한 후 절단면에 잔류 미세 균열이 더 이상 진전되지 않도록 표면 처리하여 강화 효과를 완성하였다.

상술한 바와 같이 제조된 터치스크린 패널의 강도를 측정한 결과 초기 강도인 550MPa에 근접한 530MPa의 강도를 얻을 수 있었으며, 이를 통해 본 발명에 의할 경우 셀 단위 방식으로 절단한 경우와 거의 동등한 강화 효과를 나타냄을 알 수 있다. 따라서 본 발명에 의하면 셀 측면부의 강도 저하를 방지할 수 있고, 원장 방식으로 다수의 셀을 공정에 투입하기 때문에 공정 로트(Lot)의 편차를 줄일 수 있을 뿐 아니라 생산시간 단축이 가능하여 취급성 불량을 최소화할 수 있을 것으로 기대된다.

이상으로 본 발명의 바람직한 실시예를 도면을 참고하여 상세하게 설명하였다. 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다.

따라서 본 발명의 범위는 상술한 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미, 범위, 및 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

100 : 터치스크린 윈도우 패널용 셀
100a : 직선부 100b : 곡선부
100c : 홀 110 : 유리기판

Claims (9)

1. 직선부와 곡선부 및 홀을 포함하는 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법에 있어서,
   (a) 유리기판에 다수의 터치스크린 윈도우 패널용 셀을 설계하는 단계와;
   (b) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀의 곡선부와 홀을 완전히 절단 가공하는 단계와;
   (c) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀의 직선부를 부분적으로 가공하는 단계와;
   (d) 부분적으로 가공된 직선부를 포함하여 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀을 강화 처리하는 단계와;
   (e) 상기 (c) 단계에서 미가공된 직선부를 완전히 절단 가공하는 단계; 및
   (f) 상기 윈도우 패널용 셀의 절단면을 후가공하는 단계;
   를 포함하는 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법.
2. 제 1 항에 있어서,
   (g) 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀에 전극 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하되, 상기 (g) 단계는 상기 (d) 단계 이후 또는 상기 (f) 단계 이후에 실시되는 것을 특징으로 하는 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법.
3. 삭제
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 (c) 단계는 상기 직선부의 단면 중심부가 상기 유리기판과 상기 터치스크린 윈도우 패널용 셀 사이에 연결된 상태를 유지하도록 상기 직선부의 상부와 하부를 동일한 깊이로 가공하는 것을 특징으로 하는 터치스크린용 윈도우 패널의 제조방법.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 직선부의 단면 중심부 두께는 상기 (d) 단계에 의한 강화 깊이의 2배 이하인 것을 특징으로 하는 터치스크린 윈도우 패널의 제조방법.
6. 삭제
7. 삭제
8. 삭제
9. 삭제

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