KR101409696B1 - Liquid crystal display device and method fabricating for the same - Google Patents

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Abstract

제조 공정을 감소시켜 제조 비용을 감소시킬 수 있는 액정표시장치 및 그의 제조방법이 개시된다.Disclosed is a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that can reduce the manufacturing cost by reducing the manufacturing process.

본 발명에 따른 액정표시장치는 기판과, 상기 기판 상에 소정 간격 이격되어 형성된 복수의 블랙매트릭스와, 상기 복수의 블랙매트릭스가 형성된 기판 상의 이격된 사이에 순차적으로 적색, 녹색, 청색의 컬러수지로 형성된 적색, 녹색, 청색 컬러필터층과, 상기 청색의 컬러수지와 동일한 재료로 동일 공정을 통해 형성된 컬럼 스페이서 및 상기 적색, 녹색, 청색 컬러필터층 및 상기 컬럼 스페이서 상에 형성된 공통전극을 포함한다. A liquid crystal display device according to the present invention includes a substrate, a plurality of black matrices spaced apart from each other by a predetermined distance on the substrate, and a plurality of red, green, and blue color resins sequentially spaced apart from each other on the substrate on which the plurality of black matrices are formed And a common electrode formed on the red, green, and blue color filter layers and the column spacers, and a common electrode formed on the red, green and blue color filter layers and the column spacers.

컬럼 스페이서, 컬러필터 Column spacer, color filter

Description

액정표시장치 및 그의 제조방법{Liquid crystal display device and method fabricating for the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a liquid crystal display device,

도 1은 종래 액정표시장치의 액정패널을 상세히 나타낸 도면.1 is a detailed view of a liquid crystal panel of a conventional liquid crystal display device.

도 2는 도 1의 액정패널은 절단한 단면도.Fig. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel of Fig. 1; Fig.

도 3a 내지 도 3f는 종래에 따른 상부기판의 제조방법의 순서를 도시한 도면.3A to 3F are diagrams showing a procedure of a conventional method for manufacturing an upper substrate.

도 4는 본 발명에 따른 액정패널의 단면도.4 is a sectional view of a liquid crystal panel according to the present invention.

도 5a 내지 도 5h는 도 4의 상부기판을 제조하는 순서대로 나타낸 도면.FIGS. 5A to 5H are views showing the manufacturing steps of the upper substrate of FIG. 4;

<도면의 주요부분에 대한 간단한 설명>BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.

101:제 1 기판 102:액정패널101: first substrate 102: liquid crystal panel

103:제 2 기판 105:상부기판103: second substrate 105: upper substrate

106:블랙매트릭스 108a:적색 컬러필터106: black matrix 108a: red color filter

108b:녹색 컬러필터 108c:청색 컬러필터108b: green color filter 108c: blue color filter

114:액정 118:게이트 전극114: liquid crystal 118: gate electrode

120:게이트 절연층 122:하부기판120: gate insulating layer 122: lower substrate

124:소스 전극 126:드레인 전극124: source electrode 126: drain electrode

128:보호층 130:화소전극128: protection layer 130: pixel electrode

132:액티브층 132a:반도체층132: active layer 132a: semiconductor layer

132b:오믹 컨택층 138:공통전극132b: ohmic contact layer 138: common electrode

140:제 1 감광성 컬러 수지 142:컬럼 스페이서140: first photosensitive color resin 142: column spacer

145, 155, 165:마스크 150:제 2 감광성 컬러 수지145, 155, 165: mask 150: second photosensitive color resin

160:제 3 감광성 컬러 수지160: Third photosensitive color resin

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 제조 공정수를 감소시켜 제조 비용을 절감시킨 액정표시장치 및 그의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly, to a liquid crystal display having a reduced manufacturing cost by reducing the number of manufacturing steps and a manufacturing method thereof.

액정표시장치는(Liquid Crystal Display device)는 액정으로 영상을 디스플레이 한다. 영상을 디스플레이 하기 위해 상기 액정표시장치는 액정패널과 상기 액정패널을 구동하는 구동부 및 상기 액정패널로 광을 조사하기 위한 배라이트 유닛을 포함한다. A liquid crystal display device (Liquid Crystal Display device) displays an image with liquid crystal. In order to display an image, the liquid crystal display device includes a liquid crystal panel, a driving unit for driving the liquid crystal panel, and a backlight unit for irradiating light to the liquid crystal panel.

상기 액정패널은 제 1 및 제 2 기판과 액정으로 구성되고, 상기 제 1 및 제 2 기판은 서로 마주보도록 배치되며, 상기 액정은 상기 제 1 및 제 2 기판 사이에 주입된다. The liquid crystal panel is composed of first and second substrates and a liquid crystal, and the first and second substrates are arranged to face each other, and the liquid crystal is injected between the first and second substrates.

도 1은 종래 액정표시장치의 액정패널을 상세히 나타낸 도면이다.1 is a detailed view of a liquid crystal panel of a conventional liquid crystal display device.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 액정패널(2)은 블랙매트릭스(6)와 서브 컬러필터(R, G, B)(8)를 포함한 컬러필터(7)와, 상기 컬러필터(7) 상에 투명한 공통 전극(18)이 형성된 상부기판(5)과, 화소영역(P)상에 형성된 화소전극(17)과 박막트랜지스터(T)를 포함한 어레이 배선이 형성된 하부기판(22)으로 구성되며, 상기 상부기판(5)과 상기 하부기판(22) 사이에는 액정(14)이 충진되어 있다.1, a conventional liquid crystal panel 2 includes a color filter 7 including a black matrix 6 and sub color filters (R, G, B) 8, A pixel electrode 17 formed on the pixel region P and a lower substrate 22 on which an array wiring including the thin film transistor T is formed is formed on the upper substrate 5 on which the transparent common electrode 18 is formed, And a liquid crystal 14 is filled between the upper substrate 5 and the lower substrate 22.

도 2는 도 1의 액정패널은 절단한 단면도이다.Fig. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel of Fig. 1. Fig.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 액정패널(2)은 하부기판(22)과 상부기판(5)과 상기 하부기판(22) 및 상부기판(5) 사이에 주입된 액정(14)으로 이루어진다.1 and 2, the liquid crystal panel 2 includes a lower substrate 22, an upper substrate 5, a liquid crystal 14 injected between the lower substrate 22 and the upper substrate 5, Lt; / RTI &gt;

상기 하부기판(22)은 투명한 제 1 기판(1) 상에 상기 게이트라인(13)과 동일 공정으로 형성되는 게이트 전극(18)이 형성되고 상기 게이트 전극(18) 상에 게이트 절연층(20)이 형성되고, 상기 게이트 절연층(20) 상에 액티브층(22)이 형성되고, 상기 액티브층(22) 상에 상기 데이터라인(15)과 일체로 형성되어 소정 간격 이격된 소스 및 드레인 전극(24, 26)이 형성되고, 상기 소스 및 드레인 전극(24, 26) 상에 보호층(28)이 형성된다. 상기 보호층(28) 상에 상기 드레인 전극(26)이 노출되도록 컨택홀을 형성하고 상기 컨택홀 상에 화소전극(30)을 형성한다. The lower substrate 22 includes a transparent first substrate 1 on which a gate electrode 18 formed in the same process as the gate line 13 is formed and a gate insulating layer 20 is formed on the gate electrode 18. [ An active layer 22 is formed on the gate insulating layer 20 and source and drain electrodes formed integrally with the data line 15 and spaced apart from each other by a predetermined distance are formed on the active layer 22 24 and 26 are formed on the source and drain electrodes 24 and 26, and a protective layer 28 is formed on the source and drain electrodes 24 and 26. A contact hole is formed to expose the drain electrode 26 on the protective layer 28, and a pixel electrode 30 is formed on the contact hole.

상기 상부기판(5)은 투명한 제 2 기판(3) 상에 블랙매트릭스(6)와 서브 컬러필터(R, G, B)(8)을 포함한 컬러필터(7)와, 상기 컬러필터(7) 상에 투명한 공통전극(38)이 형성된다. The upper substrate 5 includes a color filter 7 including a black matrix 6 and sub color filters R, G and B 8 on a transparent second substrate 3, A transparent common electrode 38 is formed.

이와 같이 형성된 상부기판(5)과 하부기판(22)이 일정간격의 셀 갭을 두고 서로 대향 하여 부착되고, 그 사이에 액정(14)이 주입된다. 상기 셀 갭을 일정하게 유지하기 위해 상기 상부기판(5) 상에 컬럼 스페이서(42)가 형성되고 상기 액정 (14)이 밖으로 새어나오지 않도록 하기 위해 상기 상부기판(5) 및 하부기판(22)의 가장 자리부분에 씰재(44)로 봉합한다.The upper substrate 5 and the lower substrate 22 formed as described above are attached opposite to each other with a cell gap of a predetermined distance therebetween, and the liquid crystal 14 is injected therebetween. A column spacer 42 is formed on the upper substrate 5 to keep the cell gap constant and the upper surface of the upper substrate 5 and the lower substrate 22 And the seal member 44 is sewn to the edge portion.

한편, 상기 컬럼 스페이서(42)는 상기 상부기판(5) 또는 하부기판(22)에 형성할 수 있으며, 일예로 상부기판(5)상에 감광성 물질을 이용하여 형성하는 방법에 대해 설명한다.The column spacer 42 may be formed on the upper substrate 5 or the lower substrate 22. For example, a method of forming the column spacer 42 on the upper substrate 5 using a photosensitive material will be described.

도 3a 내지 도 3f는 종래에 따른 상부기판의 제조방법의 순서를 도시한 도면이다.3A to 3F are diagrams showing a procedure of a conventional method of manufacturing an upper substrate.

도 3a에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 기판(3) 상에 상기 블랙매트릭스 재료(16) 로 사용되는 감광성 블랙 유기물질을 증착하고 패터닝된 마스크(23)를 위치시킨다. 상기 블랙매트릭스 재료(16)의 상부에 투과부(A)와 차단부(B)로 구성되는 마스크(23)를 위치시킨다. 이어 도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 마스크(23)의 투과부(A)에 대응하는 블랙매트릭스 재료(16) 빛을 조사한 후 현상하여, 복수의 블랙매트릭스(6)를 형성한다.3A, a photosensitive black organic material used as the black matrix material 16 is deposited on the second substrate 3, and the patterned mask 23 is placed. A mask 23 composed of a transmitting portion A and a blocking portion B is placed on the black matrix material 16. 3B, a black matrix material 16 corresponding to the transmissive portion A of the mask 23 is irradiated with light and developed to form a plurality of black matrices 6. Then, as shown in Fig.

그 다음 도 3c에 도시된 바와 같이, 상기 블랙매트릭스(6)가 형성된 제 2 기판(3) 상에 적색, 녹색, 청색을 띄는 컬러수지를 이용한 컬러필터층(8)을 형성하게 된다. 보다 상세히 설명하면, 먼저 적(R), 녹(G), 청(B) 컬러수지 중 적색을 띄는 컬러 수지를 상기 블랙매트릭스(6)가 형성되는 제 2 기판(3)의 전면에 도포한 후 선택적으로 노광하여, 원하는 영역에 적색 컬러필터층을 형성한다. (색을 입히는 순서는 임의로 적(R), 녹(G), 청(B)의 색순서로 정하여 설명한다.)Next, as shown in FIG. 3C, a color filter layer 8 using a color resin having red, green, and blue colors is formed on the second substrate 3 on which the black matrix 6 is formed. More specifically, a color resin having a red color among red (R), green (G) and blue (B) color resin is applied to the entire surface of the second substrate 3 on which the black matrix 6 is formed And selectively exposed to form a red color filter layer in a desired area. (The order in which the colors are applied is arbitrarily set in the color order of red (R), green (G), and blue (B).)

다음으로, 상기 적색 컬러필터층이 형성된 제 2 기판(3)의 전면에 녹색 컬러 수지를 도포한 후 선택적으로 노광하여, 녹색 컬러필터층을 형성한다. 연속하여, 상기 적색 및 녹색 컬러필터층이 형성된 제 2 기판(3)의 전면에 청색 컬러수지를 도포한 후 선택적으로 노광하여, 청색 컬러필터층을 형성한다. 상기 적색, 녹색, 청색 컬러필터층은 각각 마스크를 이용해서 패터닝되어 상기 제 2 기판(3) 상에 형성된다. Next, green color resin is coated on the entire surface of the second substrate 3 on which the red color filter layer is formed, and then selectively exposed to form a green color filter layer. Subsequently, a blue color resin is coated on the entire surface of the second substrate 3 on which the red and green color filter layers are formed, and then selectively exposed to form a blue color filter layer. The red, green, and blue color filter layers are patterned using a mask and formed on the second substrate 3, respectively.

이어서, 도 3d에 도시된 바와 같이, 상기 형성된 컬러필터층(8)의 전면에 ITO(Indium Tin Oxide)를 스퍼터링에 의해 증착한다. 상기 공통전극(38)으로서의 ITO는 별도의 패턴 형성을 하지 않는다. 참고적으로, 상기 공통전극(38) 형성전에 상기 패턴 된 컬러필터층(8)의 보호와 평탄화를 위하여 아크릴(Acryl)계 수지 또는 폴리이미드(Polyimide)계 수지를 사용하여 평탄화막(오버코트층)을 형성하는 경우도 있지만 제조공정 코스트를 감소시키기 위해 생략하기도 한다.Then, as shown in FIG. 3D, ITO (Indium Tin Oxide) is deposited on the entire surface of the formed color filter layer 8 by sputtering. ITO as the common electrode 38 does not form a separate pattern. For the reference, before forming the common electrode 38, a planarizing film (overcoat layer) is formed by using an acrylic resin or a polyimide resin for protection and planarization of the patterned color filter layer 8 However, it may be omitted in order to reduce manufacturing process cost.

다음으로, 도 3e에 도시된 바와 같이, 상기 공통전극(38)이 형성된 제 2 기판(3)의 전면에 감광성 유기물질을 코팅하여 감광성 유기막(42)을 형성한다. 상기 감광성 유기막(42)은 일반적으로 네가티브 타입(negative type)을 사용한다.Next, as shown in FIG. 3E, a photosensitive organic material is coated on the entire surface of the second substrate 3 on which the common electrode 38 is formed to form a photosensitive organic film 42. Next, as shown in FIG. The photosensitive organic layer 42 generally uses a negative type.

상기 감광성 유기막(42)이 형성된 제 2 기판(3)의 상부에 투과부와 차단부로 구성된 마스크(미도시)를 위치시킨다. 상기 투과부는 제 2 기판(3) 상에 스페이서 패턴을 형성할 부분에 대응하여 위치하도록 한다. 다음으로 상기 마스크(미도시)의 상부에서 빛을 조사한 후, 상기 감광성 유기막(42)을 현상(develop)한다. 마지막으로, 상기 결과로 도 3f에 도시된 바와 같이, 소정의 형상으로 패턴 된 컬럼 스페이서(42)가 형성할 수 있다. 이와 같은 공정으로 상기 제 2 기판(3) 상에 컬럼 스페 이서(42)를 형성할 수 있다. A mask (not shown) composed of a transmissive portion and a blocking portion is placed on the second substrate 3 on which the photosensitive organic layer 42 is formed. The transmissive portion is positioned on the second substrate 3 in correspondence with a portion for forming a spacer pattern. Next, after the light is irradiated on the upper portion of the mask (not shown), the photosensitive organic layer 42 is developed. Finally, as a result of this, as shown in FIG. 3F, a column spacer 42 patterned in a predetermined shape can be formed. By this process, the column spacer 42 can be formed on the second substrate 3.

한편, 상기 공정에서 살펴본 바와 같이, 상기 컬럼 스페이서(42)를 형성하는데 있어서, 마스크 공정은 포토 레지스트(photo resist) 코팅, 노광, 현상, 식각 공정을 통해 패터닝하게 된다. 따라서, 하나의 패턴을 형성하기 위해 상기 과정을 반복적으로 수행해야 되므로 제조 비용을 높이는 문제가 발생된다. Meanwhile, as described in the above process, in forming the column spacer 42, the mask process is patterned through photo resist coating, exposure, development, and etching processes. Therefore, since the above process is repeatedly performed in order to form one pattern, a problem of increasing manufacturing cost arises.

본 발명은 상부기판을 제조하는 공정에서 컬러필터층 및 컬럼 스페이서를 동시에 형성함으로써 공정을 단순화시키고 제조 비용을 감소시킬 수 있는 액정표시장치 및 그의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that can simplify a process and reduce manufacturing cost by simultaneously forming a color filter layer and a column spacer in a process of manufacturing an upper substrate.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는 기판과, 상기 기판 상에 소정 간격 이격되어 형성된 복수의 블랙매트릭스와, 상기 복수의 블랙매트릭스가 형성된 기판 상의 이격된 사이에 순차적으로 적색, 녹색, 청색의 컬러수지로 형성된 적색, 녹색, 청색 컬러필터층과, 상기 청색의 컬러수지와 동일한 재료로 동일 공정을 통해 형성된 컬럼 스페이서 및 상기 적색, 녹색, 청색 컬러필터층 및 상기 컬럼 스페이서 상에 형성된 공통전극을 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display comprising a substrate, a plurality of black matrices spaced apart from each other by a predetermined distance on the substrate, A color filter layer formed of a blue color resin and a column spacer formed through the same process using the same material as the blue color resin and a color filter layer formed on the red, green, and blue color filter layers and the common electrode .

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법은 기판 상에 소정 간격 이격된 복수의 블랙매트릭스를 형성하는 단계와, 상기 복수의 블랙매트릭스가 형성된 기판 상의 이격된 사이에 적색 컬러 수지를 도포한 후 패터닝 하여 적색 컬러필터를 형성하는 단계와, 상기 적색 컬러필터와 상기 복수의 블랙매 트릭스가 형성된 기판 상의 이격된 사이에 녹색 컬러 수지를 도포한 후 패터닝하여 녹색 컬러필터를 형성하는 단계와, 상기 적색 및 녹색 컬러필터와 상기 복수의 블랙매트릭스가 형성된 기판 상의 이격된 사이에 청색 컬러 수지를 도포한 후 제 1 내지 제 3 영역으로 구성된 마스크를 위치시키고 빛을 조사하여 상기 청색 컬러 수지를 노광하는 단계와, 상기 노광된 청색 컬러 수지를 현상하여, 상기 마스크의 제 1 영역의 위치에 컬럼 스페이서를 형성하고, 상기 마스크의 제 2 영역에 청색 컬러필터를 형성하는 단계 및 상기 적색, 녹색, 청색 컬러필터 및 상기 컬럼 스페이서 상에 공통전극을 형성하는 단계를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: forming a plurality of black matrices spaced apart from each other on a substrate by a predetermined distance; Forming a green color filter by applying a green color resin between the red color filter and the spacers on the substrate on which the plurality of black matrixes are formed and patterning the resultant to form a green color filter; A blue color resin is applied between the red and green color filters and the substrate on which the plurality of black matrices are formed, and then a mask composed of the first to third regions is positioned and light is irradiated to the blue color resin And exposing the exposed blue color resin to a first area of the mask, Forming a column spacer, and a step and forming a common electrode on the red, green, and blue color filter and the column spacer to form a blue color filter on a second region of the mask.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 설명한다.Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 액정패널의 단면도이다.4 is a sectional view of a liquid crystal panel according to the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정패널(102)은 상부기판(105)과 하부기판(122)과, 상기 상부기판(105) 및 하부기판(122) 사이에 주입된 액정(114)으로 이루어져 있다. 4, the liquid crystal panel 102 according to the present invention includes an upper substrate 105 and a lower substrate 122, and a liquid crystal 114 (see FIG. 4) injected between the upper substrate 105 and the lower substrate 122, ).

상기 하부기판(122)은 투명한 제 1 기판(101) 상에 게이트 전극(118)이 형성되고, 상기 게이트 전극(118) 상에 게이트 절연층(120)이 형성된다. 상기 게이트 절연층(120) 상에 상기 게이트 전극(118)과 대응되는 위치에 반도체층(122a)과 오믹 콘택층(122b)으로 구성된 액티브층(122)이 형성되고, 상기 액티브층(122) 상에 소정 간격 이격되어 소스 전극(124)과 드레인 전극(126)이 형성된다. The lower substrate 122 has a gate electrode 118 formed on a transparent first substrate 101 and a gate insulating layer 120 formed on the gate electrode 118. An active layer 122 composed of a semiconductor layer 122a and an ohmic contact layer 122b is formed on the gate insulating layer 120 at a position corresponding to the gate electrode 118, A source electrode 124 and a drain electrode 126 are formed.

상기 소스 전극(124)과 드레인 전극(126)이 형성된 제 1 기판(101) 상에 보호층(128)이 형성되고, 상기 보호층(128) 상에 상기 드레인 전극(126)이 노출되도 록 컨택홀을 형성하고 상기 컨택홀 상에 투명한 ITO 전극으로 된 화소전극(130)을 형성한다. 상기 게이트 전극(118)과 상기 액티브층(122)과 상기 소스 및 드레인 전극(124, 126)은 박막트랜지스터(TFT)를 구성한다. A protective layer 128 is formed on the first substrate 101 on which the source electrode 124 and the drain electrode 126 are formed and the drain electrode 126 is exposed on the protective layer 128. [ And a pixel electrode 130 made of a transparent ITO electrode is formed on the contact hole. The gate electrode 118, the active layer 122, and the source and drain electrodes 124 and 126 constitute a thin film transistor (TFT).

상기 상부기판(105)은 투명한 제 2 기판(103) 상에 복수의 블랙매트릭스(106)가 형성되고, 상기 블랙매트릭스(106) 상에 적색, 녹색, 청색의 컬러수지로 된 컬러필터(108a, 108b, 108c)가 형성된다. 상기 청색의 컬러수지(108c)와 일체로 컬럼 스페이서(142)가 형성되고, 상기 컬럼 스페이서(142)는 상기 청색의 컬러수지(108c)와 동일 공정을 통해 형성된다. 또한, 상기 컬럼 스페이서(142)는 상기 블랙매트릭스(106)와 대응되는 위치에 형성되며 상기 하부기판(122)의 박막트랜지스터(TFT)와 대응되는 위치에 형성된다. The upper substrate 105 includes a plurality of black matrices 106 formed on a transparent second substrate 103 and color filters 108a and 108b made of red, 108b, and 108c are formed. A column spacer 142 is formed integrally with the blue color resin 108c and the column spacer 142 is formed through the same process as the blue color resin 108c. The column spacer 142 is formed at a position corresponding to the black matrix 106 and is formed at a position corresponding to the TFT of the lower substrate 122.

도 5a 내지 도 5h는 도 4의 상부기판을 제조하는 순서대로 나타낸 도면이다.Figs. 5A to 5H are views showing the order of manufacturing the upper substrate of Fig. 4. Fig.

도 5a에 도시된 바와 같이, 투명한 제 2 기판(103) 상에 포토 공정을 통해 복수의 블랙매트릭스(106)를 형성한다. 상기 블랙매트릭스(106)는 소정 간격 이격되어 상기 제 2 기판(103) 상에 형성된다. 또한, 상기 블랙매트릭스(106)의 재질로는 크롬(Cr) 또는 크롬(Cr)/크롬 옥사이드(CrOx) 등의 금속박막이나 감광성 수지 BM의 유기 재료가 주로 사용된다. 따라서, 목적에 따라 위에서 언급한 재료 중 임의의 재료를 사용하여 상기 복수의 블랙매트릭스(106)를 형성한다. As shown in FIG. 5A, a plurality of black matrices 106 are formed on a transparent second substrate 103 through a photo process. The black matrix 106 is formed on the second substrate 103 at predetermined intervals. As the material of the black matrix 106, a metal thin film such as chromium (Cr) or chromium (Cr) / chromium oxide (CrOx) or an organic material of photosensitive resin BM is mainly used. Therefore, the plurality of black matrices 106 are formed using any of the above-mentioned materials according to purposes.

이때, 목적에 따라 위에서 언급한 재료 중 임의의 재료를 사용하여 상기 블랙매트릭스(106)를 형성하게 되는데, 상기 블랙매트릭스(106)로 사용되는 재료에 따라 패터닝하는 방법을 선택적으로 적용할 수 있다.At this time, the black matrix 106 is formed using any of the above-mentioned materials according to the object. The patterning method according to the material used for the black matrix 106 can be selectively applied.

상기 복수의 블랙매트릭스(106)가 소정 간격 이격되어 형성된 제 2 기판(103) 상에 도 5b에 도시된 바와 같이, 제 1 감광성 컬러 수지(140)를 도포한다. 상기 제 1 감광성 컬러 수지(140)의 주요성분은 광 중합 개시제, 모노머(monomer),바인더(binder)등의 광 중합형 감광 조성물과 적색 색상을 띄는 유기안료로 구성되어 있다.The first photosensitive color resin 140 is applied onto the second substrate 103 formed with the plurality of black matrices 106 spaced apart from each other by a predetermined distance, as shown in FIG. 5B. The main component of the first photosensitive color resin 140 is a photopolymerizable photosensitive composition such as a photopolymerization initiator, a monomer and a binder, and an organic pigment having a red color.

상기 제 1 감광성 컬러 수지(140)가 전면으로 형성된 상기 제 2 기판(103) 상에 차단부(C)와 투과부(D)로 구성된 마스크(145)를 위치시킨다. 상기 마스크(145)에 빛을 조사한 후 현상하게 되면 상기 투과부(D)와 대응된 제 1 감광성 컬러 수지(140)가 남아 도 3c에 도시된 바와 같이, 적색 컬러필터(108a)를 형성한다.(색을 입히는 순서는 임의로 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 색순서로 정하여 설명한다.)The mask 145 composed of the blocking portion C and the transmissive portion D is placed on the second substrate 103 on which the first photosensitive color resin 140 is formed. When the mask 145 is irradiated with light and developed, the first photosensitive color resin 140 corresponding to the transmissive portion D remains, thereby forming a red color filter 108a as shown in FIG. 3C. The coloring order is arbitrarily set in the color order of red (R), green (G), and blue (B).)

연속하여, 상기 적색 컬러필터(108a)가 형성된 제 2 기판(103) 상에 도 5d에 도시된 바와 같이, 제 2 감광성 컬러 수지(150)를 도포한다. 상기 제 2 감광성 컬러 수지(150)의 주요성분은 광 중합 개시제, 모노머(monomer), 바인더(binder) 등의 광중합형 감광 조성물과 녹색 색상을 띄는 유기안료로 구성되어 있다.Subsequently, the second photosensitive color resin 150 is applied onto the second substrate 103 on which the red color filter 108a is formed, as shown in Fig. 5D. The main component of the second photosensitive color resin 150 is a photopolymerizable photosensitive composition such as a photopolymerization initiator, a monomer and a binder, and an organic pigment having a green color.

상기 제 2 감광성 컬러 수지(150)가 전면으로 형성된 상기 제 2 기판(103) 상에 차단부(E)와 투과부(F)로 구성된 마스크(155)를 위치시킨다. 상기 마스크(155)에 빛을 조사한 후 현상하게 되면 상기 투과부(F)와 대응된 제 2 감광성 컬러 수지(150)가 남아 도 5e에 도시된 바와 같이, 녹색 컬러필터(108b)를 형성한다.A mask 155 composed of a blocking portion E and a transmissive portion F is placed on the second substrate 103 on which the second photosensitive color resin 150 is formed. When the mask 155 is irradiated with light and then developed, the second photosensitive color resin 150 corresponding to the transmissive portion F remains to form a green color filter 108b as shown in FIG. 5E.

이어, 상기 녹색 컬러필터(108b)가 형성된 제 2 기판(103) 상에 도 5f에 도 시된 바와 같이, 제 3 감광성 컬러 수지(160)를 도포한다. 상기 제 3 감광성 컬러 수지(160)의 주요성분은 광 중합 개시제, 모노머(monomer), 바인더(binder) 등의 광중합형 감광 조성물과 청색 색상을 띄는 유기안료로 구성되어 있다.Next, a third photosensitive color resin 160 is applied onto the second substrate 103 on which the green color filter 108b is formed, as shown in Fig. 5F. The main component of the third photosensitive color resin 160 is a photopolymerizable photosensitive composition such as a photopolymerization initiator, a monomer and a binder, and an organic pigment having a blue color.

또한, 상기 제 3 감광성 컬러 수지(160)가 상기 제 2 기판(103) 상에 도포될때, 상기 제 3 감광성 컬러 수지(160)는 상기 제 1 및 제 2 감광성 컬러 수지(140, 150)의 보다 더 두껍게 상기 제 2 기판(103) 상에 도포된다. 적어도 상기 제 3 감광성 컬러 수지(160)의 두께는 상기 제 1 및 제 2 감광성 컬러 수지(140, 150)의 두배 이상이 되도록 상기 제 2 기판(103) 상에 도포된다. When the third photosensitive color resin 160 is coated on the second substrate 103, the third photosensitive color resin 160 may be coated on the first and second photosensitive color resins 140 and 150, And is applied to the second substrate 103 thicker. The thickness of the third photosensitive color resin 160 is at least twice that of the first and second photosensitive color resins 140 and 150 and is applied on the second substrate 103.

상기 제 3 감광성 컬러 수지(160)가 전면으로 형성된 상기 제 2 기판(103) 상에 차단부(I)와, 투과부(H) 및 반 투과부(G)로 구성된 마스크(165)를 위치시킨다. 상기 마스크(155)에 빛을 조사한 후 현상하게 되면 상기 투과부(H)와 대응된 제 3 감광성 컬러 수지(150)가 100% 다 남고, 상기 반 투과부(G)와 대응된 제 3 감광성 컬러 수지(160)는 대략 20% 정도가 남게 된다. A blocking portion I and a mask 165 composed of a transmissive portion H and a transflective portion G are positioned on the second substrate 103 on which the third photosensitive color resin 160 is formed. When the mask 155 is irradiated with light and developed, 100% of the third photosensitive color resin 150 corresponding to the transmissive portion H remains and the third photosensitive color resin 150 corresponding to the transflective portion G 160) is about 20%.

상기 반 투과부(G)로 상기 빛이 조사되면 상기 반 투과부(G)와 대응되는 제 3 감광성 컬러 수지(150)는 일반적으로 50% 이하 정도가 남게 된다. When the light is irradiated to the transflective portion G, the third photosensitive color resin 150 corresponding to the transflective portion G generally remains at about 50% or less.

상기 투과부(H)는 상기 블랙매트릭스(106)와 대응되는 부분에 위치되도록 하고, 상기 차단부(I)는 상기 적색 컬러필터(108a)와 녹색 컬러필터(108b)가 형성된 부분에 위치되도록 하고, 상기 반 투과부(G)는 나머지 부분에 위치되도록 한다. The transmissive portion H is located at a portion corresponding to the black matrix 106 and the blocking portion I is positioned at a portion where the red color filter 108a and the green color filter 108b are formed, And the transflective portion G is located in the remaining portion.

상기 반 투과부(G)와 대응되어 20% 정도 남은 제 3 감광성 컬러 수지(160)는 청색 컬러필터(108c)가 되고, 상기 투과부(H)와 대응된 제 3 감광성 컬러 수지 (160)는 컬럼 스페이서(142)가 된다. 상기 컬럼 스페이서(142)를 형성하기 위해서 상기 제 3 감광성 컬러 수지(160)를 상기 제 1 및 제 2 감광성 컬러 수지(140, 150)보다 더 두껍게 상기 제 2 기판(102) 상에 도포한다. The third photosensitive color resin 160 corresponding to the transflective portion G is left to be a blue color filter 108c and the third photosensitive color resin 160 corresponding to the transmissive portion H is formed by a column spacer (142). The third photosensitive color resin 160 is applied on the second substrate 102 to be thicker than the first and second photosensitive color resins 140 and 150 to form the column spacer 142. [

상기 컬럼 스페이서(142)는 상기 상부기판(도 4의 105)과 상기 하부기판(122)의 셀 갭을 유지하는 기능을 하기 때문에 일정 높이를 가져야 한다. 이를 위해 상기 제 3 감광서 컬러 수지(160)를 상기 제 1 및 제 2 감광성 컬러 수지(140, 150) 보다 두껍게 상기 제 2 기판(103) 상에 도포한다. The column spacer 142 has a certain height since it functions to maintain a cell gap between the upper substrate (105 in FIG. 4) and the lower substrate 122. To this end, the third photoresist color resin 160 is coated on the second substrate 103 thicker than the first and second photosensitive color resins 140 and 150.

이로인해, 상기 청색 컬러필터(108c)와 상기 컬럼 스페이서(142)가 하나의 포토 공정을 통해 동시에 형성될 수 있다. Accordingly, the blue color filter 108c and the column spacer 142 can be simultaneously formed through a single photo process.

상기 청색 컬러필터(108c)와 상기 컬럼 스페이서(142)가 형성된 제 2 기판(103)의 전면에 투과성과 도전성이 좋으며 화학적, 열적 안정성이 우수한 투명 전극 재료인 ITO(Indium Tin Oxide)를 스퍼터링에 의해 증착한 후, 공통전극(138)을 형성한다. ITO (Indium Tin Oxide), which is a transparent electrode material having good transparency and conductivity and excellent chemical and thermal stability, is formed on the entire surface of the second substrate 103 on which the blue color filter 108c and the column spacer 142 are formed by sputtering After the deposition, a common electrode 138 is formed.

상기 컬럼 스페이서(142)는 상기 블랙매트릭스(106)와 대응되는 위치에 형성되고, 또한 상기 하부기판(도 4의 122)의 보호층(128)과 대응되도록 위치된다. The column spacer 142 is formed at a position corresponding to the black matrix 106 and is positioned so as to correspond to the protective layer 128 of the lower substrate 122 (FIG. 4).

상기 컬럼 스페이서(142)는 상기 청색 컬러필터(108c)가 형성될때 동시에 형성되므로 상기 컬럼 스페이서(142)를 형성하기 위해 별도의 마스크가 사용되지 않아도 된다. Since the column spacer 142 is formed at the same time when the blue color filter 108c is formed, a separate mask may not be used to form the column spacer 142.

위에서 설명한 실시예에서는 제 1 내지 제 3 감광성 컬러 수지를 네가티브형 감광성 컬러 수지로 설명했지만, 포지티브형 감광성 컬러 수지를 사용할 수도 있 다.In the above-described embodiments, the first to third photosensitive color resins are described as negative photosensitive color resins, but positive photosensitive color resins may also be used.

위에서 언급한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 상부기판 상에 형성되는 컬러필터와 컬럼 스페이서를 하나의 마스크 공정을 통해 동시에 형성하게 되어 상기 컬럼 스페이서를 형성하기 위해 별도의 마스크 공정이 필요했던 종래의 액정표시장치에 비해 마스크 수가 감소하게 되어 제조 비용이 감소될 수 있다.As described above, in the liquid crystal display according to the present invention, a color filter and a column spacer formed on an upper substrate are simultaneously formed through a single mask process, and a separate mask process is required to form the column spacer The number of masks is reduced as compared with the conventional liquid crystal display device, and the manufacturing cost can be reduced.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는 컬러필터와 컬럼 스페이서를 동일 물질을 사용하여 동일한 공정으로 형성하기 때문에 공정을 단순화하는 동시에 마스크 수를 감소시키고 이에 따라 제조 비용이 감소될 수 있다.As described above, since the color filter and the column spacer are formed by the same process using the same material, the liquid crystal display according to the present invention can simplify the process, reduce the number of masks, and reduce manufacturing cost accordingly .

Claims (11)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 기판 상에 소정 간격 이격된 복수의 블랙매트릭스를 형성하는 단계;Forming a plurality of black matrices spaced a predetermined distance on a substrate; 상기 복수의 블랙매트릭스가 형성된 기판상의 이격된 사이에 적색 컬러 수지를 도포하는 단계;Applying a red color resin between the spaced apart portions of the substrate on which the plurality of black matrices are formed; 상기 적색 컬러 수지가 도포된 기판상에 차단부와 투과부로 구성된 제1 마스크를 위치시키고, 상기 제1 마스크에 빛을 조사하여 상기 투과부에 대응된 영역에 적색 컬러필터를 형성하는 단계;Placing a first mask composed of blocking portions and transmissive portions on the substrate coated with the red color resin and irradiating light to the first mask to form a red color filter in a region corresponding to the transmissive portion; 상기 적색 컬러필터와 상기 복수의 블랙매트릭스가 형성된 기판상의 이격된 사이에 녹색 컬러 수지를 도포하는 단계;Applying green color resin between the red color filter and spaced apart on the substrate on which the plurality of black matrices are formed; 상기 녹색 컬러 수지가 도포된 기판상에 차단부와 투과부로 구성된 제2 마스크를 위치시키고, 상기 제2 마스크에 빛을 조사하여 상기 제2 마스크의 투과부에 대응된 영역에 녹색 컬러필터를 형성하는 단계;Placing a second mask composed of a shielding portion and a transmissive portion on the substrate coated with the green color resin and irradiating light to the second mask to form a green color filter in an area corresponding to the transmissive portion of the second mask ; 상기 적색 및 녹색 컬러필터와 상기 복수의 블랙매트릭스가 형성된 기판상에 상기 적색 및 녹색 컬러 수지 보다 적어도 2배 이상의 두께를 갖는 청색 컬러 수지를 도포하는 단계;Applying a blue color resin having a thickness of at least two times greater than the red and green color resin on the substrate on which the red and green color filters and the plurality of black matrices are formed; 상기 청색 컬러 수지가 도포된 기판상에 차단부, 투과부, 반 투과부로 구성된 제3 마스크를 상기 제3 마스크의 차단부가 상기 적색 컬러필터와 녹색 컬러필터가 형성된 영역, 상기 제3 마스크의 투과부가 상기 블랙매트릭스가 형성된 영역, 상기 제3 마스크의 반 투과부가 상기 청색 컬러 수지가 도포된 기판상의 나머지 영역에 대응하도록 위치시키고, 상기 제3 마스크에 빛을 조사하여 상기 제3 마스크의 투과부에 대응된 영역에 상기 청색 컬러 수지와 동일한 두께를 갖는 컬럼 스페이서를 형성하고, 상기 제3 마스크의 반 투과부에 대응된 영역에 상기 컬럼 스페이서 두께의 절반 이하의 두께를 갖는 청색 컬러필터를 상기 컬럼 스페이서와 일체로 형성하는 단계; A third mask composed of a blocking portion, a transmitting portion, and a transflective portion is formed on the substrate coated with the blue color resin, and the shielding portion of the third mask has a region where the red color filter and the green color filter are formed, Wherein the second mask is disposed in a region corresponding to the transmissive portion of the third mask so that the transflective portion of the third mask corresponds to the remaining region on the substrate coated with the blue color resin, A color filter having a thickness equal to or less than half the thickness of the column spacer is formed integrally with the column spacer in a region corresponding to the transflective portion of the third mask, ; 상기 적색, 녹색, 청색 컬러필터 및 상기 컬럼 스페이서상에 공통전극을 형성하는 단계를 포함하고,Forming a common electrode on the red, green, and blue color filters and the column spacers, 상기 컬럼 스페이서는 상기 청색 컬러필터와 동일한 공정으로 형성되며 상기 청색 컬러필터로부터 연장되어 상기 블랙 매트릭스와 대응되도록 위치하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Wherein the column spacer is formed in the same process as the blue color filter and extends from the blue color filter and is positioned to correspond to the black matrix. 삭제delete 제 6항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 청색 컬러필터는 상기 컬러 스페이서의 두께의 20%에 해당되는 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Wherein the blue color filter has a thickness corresponding to 20% of the thickness of the color spacer. 삭제delete 제 6항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 적색, 녹색, 청색 컬러 수지는 네가티브 감광성 유기물 또는 포지티브 감광성 유기물인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.Wherein the red, green, and blue color resin is a negative photosensitive organic material or a positive photosensitive organic material. 삭제delete
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