KR100908657B1 - LCD panel and manufacturing method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 공정수를 줄임과 동시에 화질을 향상시킬 수 있는 액정표시패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display panel and a method of manufacturing the same that can reduce the number of steps and at the same time improve the image quality.

본 발명에 따른 액정표시패널은 제1 기판 상에 형성되는 블랙매트릭스와, 상기 블랙매트릭스에 고착되어 적어도 하나 이상 형성되는 고착형 볼스페이서를 구비하고, 상기 고착형 볼스페이서는 상기 블랙매트릭스와 동시에 패터닝되어 형성되는 것을 특징으로 한다.A liquid crystal display panel according to the present invention includes a black matrix formed on a first substrate, and a fixed ball spacer formed on at least one by being fixed to the black matrix, wherein the fixed ball spacer is simultaneously patterned with the black matrix. It is characterized in that the formed.

Description

액정표시패널 및 그 제조방법{Liquid Crystal Display Panel And Fabricating Method Thereof} Liquid Crystal Display Panel And Fabrication Method Thereof             

도 1은 종래 TN모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display panel of a conventional TN mode.

도 2는 종래 IPS모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도.2 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display panel of the conventional IPS mode.

도 3은 종래 패턴스페이서를 갖는 액정표시패널을 나타내는 단면도.3 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display panel having a conventional pattern spacer.

도 4a 내지 도 4d는 도 3에 도시된 패턴스페이서의 제조방법을 나타내는 단면도.4A to 4D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the pattern spacer shown in FIG. 3.

도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 TN모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도.5 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display panel in a TN mode according to a first embodiment of the present invention.

도 6a 내지 도 6d는 도 5에 도시된 액정표시패널의 제조방법을 나타내는 단면도.6A through 6D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the liquid crystal display panel illustrated in FIG. 5.

도 7a 내지 도 7c는 도 6c에 도시된 스페이서의 제조방법을 상세히 나타내는 단면도.7A to 7C are cross-sectional views illustrating in detail a method of manufacturing the spacer shown in FIG. 6C.

도 8은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 IPS모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도.8 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display panel in an IPS mode according to a second embodiment of the present invention.

도 9a 내지 도 9e는 도 8에 도시된 액정표시패널의 제조방법을 나타내는 단 면도.
9A to 9E are diagrams illustrating a method of manufacturing the liquid crystal display panel illustrated in FIG. 8.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>

1,31,51 : 기판 2,52 : 블랙매트릭스1,31,51: Substrate 2,52: Black Matrix

6,56 : 게이트전극 8,58 : 소스전극6,56 gate electrode 8,58 source electrode

10,60 : 드레인전극 12,62 : 게이트절연막10,60 drain electrode 12,62 gate insulating film

14,64 : 활성층 16,66 : 오믹접촉층14,64: active layer 16,66: ohmic contact layer

18,68 : 보호층 22,72 : 화소전극18,68 protective layer 22,72 pixel electrode

26,76 : 스페이서 28,78 : 공통전극26,76 spacer 28,78 common electrode

30,80 : 컬러필터
30,80: Color filter

본 발명은 액정표시패널에 관한 것으로, 특히 공정수를 줄임과 동시에 화질을 향상시킬 수 있는 액정표시패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display panel, and more particularly, to a liquid crystal display panel and a method of manufacturing the same which can improve image quality while reducing the number of processes.

통상, 액정표시소자(Liquid Crystal Display; LCD)는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상이 표시된다. 이를 위하여, 액정표시소자는 액정셀들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정표시패널과, 이 액정표시패널을 구동하기 위한 구동회로를 구비하게 된다. 액정표시패널에는 액정셀들 각각에 전계를 인가 하기 위한 화소전극들과 기준전극, 즉 공통전극이 마련되게 된다. 통상, 화소전극은 하부기판 상에 액정셀별로 형성되는 반면 공통전극은 상부기판의 전면에 일체화되어 형성된다. 화소전극들 각각은 스위칭소자로 사용되는 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하 "TFT"라 함)에 접속된다. 화소전극은 TFT를 통해 공급되는 데이터신호에 따라 공통전극과 함께 액정셀이 구동된다.In general, a liquid crystal display (LCD) displays an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal using an electric field. To this end, the liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel in which liquid crystal cells are arranged in a matrix, and a driving circuit for driving the liquid crystal display panel. The liquid crystal display panel is provided with pixel electrodes and a reference electrode, that is, a common electrode, for applying an electric field to each of the liquid crystal cells. In general, the pixel electrode is formed for each liquid crystal cell on the lower substrate, while the common electrode is integrally formed on the front surface of the upper substrate. Each of the pixel electrodes is connected to a thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT") used as a switching element. The liquid crystal cell is driven along with the common electrode in accordance with the data signal supplied through the TFT.

이와 같은 액정 표시소자는 액정을 구동시키는 전계의 방향에 따라 수직방향 전계가 인가되는 트위스티드 네마틱(Twisted Nematic : 이하 "TN"이라 함) 모드와 수평전계가 인가되어 시야각이 넓게 되는 인 플레인 스위치(In Plane Switch : 이하 "IPS"라 함) 모드로 대별될 수 있다. Such a liquid crystal display device has an in-plane switch in which a twisted nematic mode in which a vertical electric field is applied according to a direction of an electric field driving a liquid crystal and a horizontal electric field are applied, thereby widening the viewing angle. In Plane Switch: hereinafter referred to as "IPS" mode.

도 1은 종래 TN모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display panel of a conventional TN mode.

도 1을 참조하면, 종래 TN모드의 액정표시패널은 상부기판(31) 상에 순차적으로 형성된 블랙매트릭스(2)와 칼라필터(30), 공통전극(28) 및 상부배향막(24a)으로 구성되는 상판(UP)과, 하부기판(1) 상에 형성된 TFT, 화소전극(22) 및 하부배향막(24b)으로 구성되는 하판(DP)과, 상판(UP)과 하판(DP) 사이에 형성되는 볼스페이서(36)와, 상판(UP) 및 하판(DP)과 볼스페이서(36)에 의해 마련된 내부공간에 주입되는 액정(도시하지 않음)을 구비한다. Referring to FIG. 1, the liquid crystal display panel of the conventional TN mode includes a black matrix 2, a color filter 30, a common electrode 28, and an upper alignment layer 24a sequentially formed on the upper substrate 31. Balls formed between the upper plate UP, the lower plate DP formed of the TFT formed on the lower substrate 1, the pixel electrode 22, and the lower alignment layer 24b, and the upper plate UP and the lower plate DP. The spacer 36 and the liquid crystal (not shown) injected into the inner space provided by the upper plate UP, the lower plate DP, and the ball spacer 36 are provided.

상판(UP)에서 블랙매트릭스(2)는 상부기판(31) 상에 매트릭스 형태로 형성되어 상부기판(31)의 표면을 칼라필터(30)들이 형성되어질 다수의 셀영역들로 나눔과 아울러 인접 셀간의 광간섭을 방지하는 역할을 하게 된다. 이 블랙매트릭스(2)가 형성된 상부기판(31) 상에 적, 녹, 청 삼원색의 칼라필터(30)들이 순차적으로 형성 된다. 블랙매트릭스(2) 및 칼라필터(30)가 형성된 상부기판(31) 상에 그라운드 전위가 공급되는 공통전극(28)을 형성한다. 공통전극(28)이 형성된 상부기판(31) 상에 폴리이미드등과 같은 물질을 도포한 후 러빙공정을 수행함으로써 상부배향막(24a)이 형성된다.In the upper plate UP, the black matrix 2 is formed in a matrix form on the upper substrate 31 to divide the surface of the upper substrate 31 into a plurality of cell regions in which the color filters 30 are to be formed, as well as adjacent cells. It serves to prevent optical interference between the liver. On the upper substrate 31 on which the black matrix 2 is formed, color filters 30 of red, green, and blue primary colors are sequentially formed. The common electrode 28 to which the ground potential is supplied is formed on the upper substrate 31 on which the black matrix 2 and the color filter 30 are formed. The upper alignment layer 24a is formed by applying a material such as polyimide onto the upper substrate 31 on which the common electrode 28 is formed and then performing a rubbing process.

하판(DP)에서 액정셀의 구동을 스위칭하는 TFT는 게이트라인(도시하지 않음)에 연결된 게이트전극(6), 데이터라인(도시하지 않음)에 연결된 소스전극(8) 및 접촉홀(20)을 통해 화소전극(22)에 접속된 드레인전극(10)을 구비한다. 또한, TFT는 게이트전극(6)과 소스전극(8) 및 드레인 전극(10)의 절연을 위한 게이트절연막(12)과, 게이트전극(6)에 공급되는 게이트전압에 의해 소스전극(8)과 드레인전극(10)간에 도통채널을 형성하기 위한 반도체층(14,16)을 더 구비한다. 이러한 TFT는 게이트라인으로부터의 게이트신호에 응답하여 데이터라인으로부터의 데이터신호를 선택적으로 화소전극(22)에 공급한다. 화소전극(22)은 데이터라인과 게이트라인에 의해 분할된 셀영역에 위치하며 광투과율이 높은 투명전도성물질로 이루어진다. 화소전극(22)은 하부기판(1) 전면에 도포되는 보호막(18) 위에 형성되며, 보호막(18)에 형성된 접촉홀(20)을 통해 드레인전극(10)과 전기적으로 접속된다. The TFT for switching the driving of the liquid crystal cell on the lower plate DP includes a gate electrode 6 connected to a gate line (not shown), a source electrode 8 connected to a data line (not shown), and a contact hole 20. A drain electrode 10 connected to the pixel electrode 22 is provided. Further, the TFT is formed by the gate insulating film 12 for insulating the gate electrode 6, the source electrode 8, and the drain electrode 10, and the source electrode 8 by the gate voltage supplied to the gate electrode 6; The semiconductor layers 14 and 16 are further provided to form a conductive channel between the drain electrodes 10. This TFT selectively supplies the data signal from the data line to the pixel electrode 22 in response to the gate signal from the gate line. The pixel electrode 22 is formed of a transparent conductive material having a high light transmittance and positioned in a cell region divided by a data line and a gate line. The pixel electrode 22 is formed on the passivation layer 18 coated on the entire surface of the lower substrate 1, and is electrically connected to the drain electrode 10 through the contact hole 20 formed in the passivation layer 18.

도 2는 종래 IPS모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display panel in the conventional IPS mode.

도 2에 도시된 IPS모드의 액정표시패널은 공통전극(28)이 하부기판(1) 상에 형성되어 액정이 수평전계에 의해 수평방향을 기준으로 회전함으로써 시야각이 상대적으로 넓은 장점이 있다. 하부기판(1) 상에 형성된 공통전극(28)은 데이터라인(도시하지 않음)과 게이트라인(도시하지 않음)에 의해 분할된 표시영역 에 화소전극(22)과 교번되도록 스트라입형태로 형성된다. 공통전극(28)은 하부기판(1) 상에 게이트전극(6)과 동일금속으로 동시에 형성된다.In the IPS mode liquid crystal display panel shown in FIG. 2, the common electrode 28 is formed on the lower substrate 1, so that the liquid crystal is rotated relative to the horizontal direction by a horizontal electric field. The common electrode 28 formed on the lower substrate 1 is formed in a stripe shape so as to alternate with the pixel electrode 22 in a display area divided by a data line (not shown) and a gate line (not shown). . The common electrode 28 is simultaneously formed of the same metal as the gate electrode 6 on the lower substrate 1.

이러한 공통전극(28) 및 화소전극(22)이 형성된 하판(DP)은 볼스페이서(36)를 사이에 두고 블랙매트릭스(2), 칼라필터(30)가 형성된 상판(UP)과 대면되게 형성된다.The lower plate DP on which the common electrode 28 and the pixel electrode 22 are formed is formed to face the upper plate UP on which the black matrix 2 and the color filter 30 are formed with the ball spacer 36 interposed therebetween. .

이와 같이 도 1 및 도 2에 도시된 액정표시패널의 상판(UP)과 하판(DP) 사이에는 볼스페이서(36)가 형성된다. 이 볼스페이서(36)는 상판(UP)과 하판(DP) 사이에 액정(도시하지 않음)을 주입할 수 있는 공간을 마련하는 역할을 하게 된다. 이러한 볼스페이서(36)는 상판(UP)과 하판(DP) 중 적어도 어느 하나의 기판(1,31) 상에 분사되어 형성된다.As such, a ball spacer 36 is formed between the upper plate UP and the lower plate DP of the liquid crystal display panel illustrated in FIGS. 1 and 2. The ball spacer 36 serves to provide a space for injecting liquid crystal (not shown) between the upper plate UP and the lower plate DP. The ball spacer 36 is formed by being sprayed on at least one of the substrates 1 and 31 of the upper plate UP and the lower plate DP.

이러한 종래 볼스페이서(36)는 액정셀의 셀갭을 균일하게 유지하기 위해 고르게 산포되어야 한다. 그러나, 볼스페이서(36)는 산포방식의 균일도의 한계에 의해 고르게 산포되기 어려운 문제점이 있다. 볼스페이서(36)가 불균일하게 산포된경우 셀갭이 불균일해져 화면에 얼룩이 발생하는 현상이 나타나는 문제점이 있다. This conventional ball spacer 36 should be evenly distributed to maintain the cell gap of the liquid crystal cell uniformly. However, the ball spacer 36 has a problem that it is difficult to distribute evenly due to the limitation of the uniformity of the scattering method. When the ball spacer 36 is unevenly distributed, there is a problem in that a phenomenon occurs in which a cell gap is uneven and a stain occurs on the screen.

또한, 볼스페이서(36) 사용시 대면적 액정표시패널의 표시영역에 압력을 가하게 되면 표시영역에 물결모양으로 어두워지는 리플현상이 발생한다. 이는 볼스페이서(36)가 상판(UP)과 하판(DP) 사이에서 움직이기 때문이다. In addition, when the ball spacer 36 is used, when a pressure is applied to the display area of the large-area liquid crystal display panel, ripple phenomena darkening in the display area occurs. This is because the ball spacer 36 moves between the upper plate UP and the lower plate DP.

최근에는 볼스페이서의 문제점을 해결하기 위해 도 3에 도시된 바와 같이 특정위치에 고정되어 형성되는 패턴스페이서(26)가 제안되었다.Recently, in order to solve the problem of the ball spacer, as shown in FIG. 3, a pattern spacer 26 fixed to a specific position is proposed.

이 패턴스페이서(26)의 제조방법을 도 4a 내지 도 4d를 결부하여 설명하기로 한다.The manufacturing method of the pattern spacer 26 will be described with reference to Figs. 4A to 4D.

먼저, 기판(11) 상에 도 4a에 도시된 바와 같이 용매, 바인더, 모노머(monomer), 광개시제(photoinitiator)를 혼합한 물질을 인쇄하고 건조하면 용매가 증발되어 바인더, 모노머 및 광개시제가 혼합된 스페이서물질(26a)이 형성된다. 여기서, 기판(11)은 하부기판(1) 및 상부기판(31) 중 적어도 어느 하나를 이용한다. First, as shown in FIG. 4A, a material mixed with a solvent, a binder, a monomer, and a photoinitiator is printed and dried on a substrate 11, and then the solvent is evaporated to form a spacer in which the binder, monomer, and photoinitiator are mixed. Material 26a is formed. Here, the substrate 11 uses at least one of the lower substrate 1 and the upper substrate 31.

스페이서물질(26a)이 형성된 기판(11) 상에 포토레지스트(32)를 도포한 후, 도 4b에 도시된 바와 같이 포토마스크(MS)가 정렬된다. 포토마스크(MS)는 차단영역(S1)에 형성되는 차단층(36)과, 노광영역(S2)에 형성되는 투과층을 구비한다. 포토마스크(MS)는 노광영역(S2)에서 투명한 포토마스크기판(34)이 그대로 노출된다. 이러한 포토마스크(MS)를 이용하여 자외선광을 포토레지스트(32)에 선택적으로 조사하는 노광공정과 노광된 포토레지스트를 현상하는 현상공정으로 도 4c에 도시된 바와 같이 포토레지스트패턴(38)이 형성된다. 이 포토레지스트패턴(38)을 마스크로 이용한 식각공정으로 스페이서물질(26a)이 패터닝됨으로써 도 4d에 도시된 바와 같이 소정 높이를 갖는 패턴스페이서(26)가 형성된다.After applying the photoresist 32 on the substrate 11 on which the spacer material 26a is formed, the photomask MS is aligned as shown in FIG. 4B. The photomask MS includes a blocking layer 36 formed in the blocking region S1 and a transmission layer formed in the exposure region S2. In the photomask MS, the transparent photomask substrate 34 is exposed as it is in the exposure area S2. The photoresist pattern 38 is formed by an exposure process of selectively irradiating the ultraviolet light to the photoresist 32 using the photomask MS and a developing process of developing the exposed photoresist, as shown in FIG. 4C. do. The spacer material 26a is patterned by an etching process using the photoresist pattern 38 as a mask to form a pattern spacer 26 having a predetermined height as shown in FIG. 4D.

종래 액정표시소자의 패턴스페이서(26)는 기판(1,11)의 면적에 약 2%를 차지하고 있다. 이 패턴스페이서(26)를 형성하기 위해 기판(1,11) 상에 전면 인쇄된 스페이서물질(26a)은 노광, 현상 및 식각공정을 거치면서 약 95%이상이 제거될만큼 재료비 및 제조비가 많이 든다. 또한, 패턴스페이서(26)를 형성하기 위한 인쇄, 노광, 현상, 식각공정 등의 공정이 복잡한 문제점이 있다.
The pattern spacer 26 of the conventional liquid crystal display device occupies about 2% of the area of the substrates 1 and 11. The spacer material 26a printed on the substrates 1 and 11 to form the pattern spacer 26 is expensive enough to be removed by about 95% during exposure, development and etching. . In addition, a process such as printing, exposure, development, and etching processes for forming the pattern spacer 26 is complicated.

따라서, 본 발명의 목적은 공정수를 줄임과 동시에 화질을 향상시킬 수 있는 액정표시패널 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display panel and a method of manufacturing the same which can reduce the number of processes and improve image quality.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시패널은 제1 기판 상에 형성되는 블랙매트릭스와, 상기 블랙매트릭스에 고착되어 적어도 하나 이상 형성되는 고착형 볼스페이서를 구비하고, 상기 고착형 볼스페이서는 상기 블랙매트릭스와 동시에 패터닝되어 형성되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the liquid crystal display panel according to the present invention comprises a black matrix formed on the first substrate, and a fixed ball spacer formed on at least one by being fixed to the black matrix, the fixed ball spacer Is characterized in that the pattern is formed at the same time as the black matrix.

상기 액정표시패널은 제1 기판 상에 형성되는 컬러필터와, 상기 컬러필터와 블랙매트릭스 사이에 형성되는 공통전극을 추가로 구비하는 것을 특징으로 한다.The liquid crystal display panel may further include a color filter formed on the first substrate and a common electrode formed between the color filter and the black matrix.

상기 액정표시패널은 제1 기판과 대면되게 형성되는 제2 기판과, 제2 기판 상에 형성되는 공통전극을 추가로 구비하는 것을 특징으로 한다.The liquid crystal display panel may further include a second substrate formed to face the first substrate, and a common electrode formed on the second substrate.

상기 고착형 볼스페이서는 경화성물질인 것을 특징으로 한다.The fixed ball spacer is characterized in that the curable material.

상기 고착형 볼스페이서는 광에 반응하는 물질인 것을 특징으로 한다.The fixed ball spacer is characterized in that the material that reacts to light.

상기 블랙매트릭스는 불투명감광성수지로 형성되는 것을 특징으로 한다.The black matrix is characterized in that it is formed of an opaque photosensitive resin.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시패널의 제조방법은 제1 기판 상에 불투명물질을 코팅하는 단계와, 불투명물질 상에 고착형 볼스페이서물질을 산포하여 고착시키는 단계와, 고착형 볼스페이서물질과 불투명물질을 동시에 패터닝하여 블랙매트릭스를 형성함과 동시에 상기 블랙매트릭스 상에 적어도 하 나 이상의 고착형 볼스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the manufacturing method of the liquid crystal display panel according to the present invention comprises the steps of coating an opaque material on the first substrate, the step of spreading and fixing the fixed ball spacer material on the opaque material, the fixed type And simultaneously patterning a ball spacer material and an opaque material to form a black matrix and simultaneously forming at least one fixed ball spacer on the black matrix.

상기 액정표시패널의 제조방법은 상기 제1 기판 상에 컬러필터를 형성하는 단계와, 컬러필터와 블랙매트릭스 사이에 공통전극을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the liquid crystal display panel may further include forming a color filter on the first substrate, and forming a common electrode between the color filter and the black matrix.

상기 액정표시패널의 제조방법은 제1 기판과 대면되는 제2 기판을 마련하는 단계와, 제2 기판 상에 공통전극을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 한다.The method of manufacturing the liquid crystal display panel may further include preparing a second substrate facing the first substrate, and forming a common electrode on the second substrate.

상기 고착형 볼스페이서는 경화성물질로 형성되는 것을 특징으로 한다.The fixed ball spacer is characterized in that formed of a curable material.

상기 고착형볼스페이서는 광에 반응하는 물질로 형성되는 것을 특징으로 한다.The fixed ball spacer is characterized in that formed of a material that reacts to light.

상기 블랙매트릭스는 불투명감광성수지로 형성되는 것을 특징으로 한다.The black matrix is characterized in that it is formed of an opaque photosensitive resin.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will be apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 5 내지 도 9e를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 to 9E.

도 5는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 TN모드의 액정표시패널의 상판과 하판을 나타내는 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating an upper plate and a lower plate of the liquid crystal display panel of the TN mode according to the first embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 TN모드의 액정표시패널은 상부기판(61) 상에 순차적으로 형성된 칼라필터(80), 공통전극(78), 블랙매트릭스(52) 및 상부배향막(74a)으로 구성되는 상판(UP)과, 하부기판(51) 상 에 형성된 TFT, 화소전극(72) 및 하부배향막(74b)으로 구성되는 하판(DP)과, 상판(UP)의 블랙매트릭스(52)와 동시에 형성되는 볼스페이서(76)를 구비한다. Referring to FIG. 5, the liquid crystal display panel of the TN mode according to the first embodiment of the present invention may include a color filter 80, a common electrode 78, a black matrix 52, and a color filter 80 sequentially formed on the upper substrate 61. The upper plate UP formed of the upper alignment layer 74a, the TFT formed on the lower substrate 51, the lower plate DP composed of the pixel electrode 72 and the lower alignment layer 74b, and the black of the upper plate UP. And a ball spacer 76 formed simultaneously with the matrix 52.

상판(UP)에서 상부기판(61) 상에 적, 녹, 청 삼원색의 칼라필터들(80)이 순차적으로 형성된다. 이 칼라필터(80)가 형성된 상부기판(61) 상에 상에 액정의 움직임을 제어하기 위한 공통전압이 공급되는 공통전극(78)이 형성된다. 공통전극(78)이 형성된 상부기판(61) 상에 볼스페이서(76)와 동시에 매트릭스 형태로 블랙매트릭스(52)가 형성된다. 이 블랙매트릭스(52)는 상부기판(61)의 표면을 칼라필터(80)들이 형성되는 다수의 셀영역들로 나눔과 아울러 인접 셀간의 광간섭을 방지하는 역할을 하게 된다. 상부배향막(74a)은 공통전극(78) 상에 폴리이미드 등과 같은 배향물질을 도포한 후 러빙공정을 수행함으로써 형성된다. In the upper plate UP, color filters 80 of red, green, and blue primary colors are sequentially formed on the upper substrate 61. On the upper substrate 61 on which the color filter 80 is formed, a common electrode 78 to which a common voltage for controlling the movement of the liquid crystal is supplied is formed. The black matrix 52 is formed in a matrix form simultaneously with the ball spacer 76 on the upper substrate 61 on which the common electrode 78 is formed. The black matrix 52 divides the surface of the upper substrate 61 into a plurality of cell regions in which the color filters 80 are formed, and serves to prevent optical interference between adjacent cells. The upper alignment layer 74a is formed by applying an alignment material such as polyimide onto the common electrode 78 and then performing a rubbing process.

하판(DP)에서 액정셀의 구동을 스위칭하는 TFT는 게이트라인(도시하지 않음)에 연결된 게이트전극(56), 데이터라인(도시하지 않음)에 연결된 소스전극(58) 및 접촉홀을 통해 화소전극(72)에 접속된 드레인전극(60)을 구비한다. 또한, TFT는 게이트전극(56)과 소스전극(58) 및 드레인전극(60)의 절연을 위한 게이트절연막(62)과, 게이트전극(56)에 공급되는 게이트전압에 의해 소스전극(58)과 드레인전극(60)간에 도통채널을 형성하기 위한 반도체층(64,66)을 더 구비한다. 이러한 TFT는 게이트라인으로부터의 게이트신호에 응답하여 데이터라인으로부터의 데이터신호를 선택적으로 화소전극(72)에 공급한다. 화소전극(72)은 데이터라인과 게이트라인에 의해 분할된 셀영역에 위치하며 광투과율이 높은 투명전도성물질로 이루어진다. 화소전극(72)은 하부기판(51) 전면에 도포되는 보호막(68) 위에 형성 되며, 보호막(68)에 형성된 접촉홀을 통해 드레인전극(60)과 전기적으로 접속된다. The TFT for switching the driving of the liquid crystal cell on the lower plate DP includes a gate electrode 56 connected to a gate line (not shown), a source electrode 58 connected to a data line (not shown), and a pixel electrode through a contact hole. A drain electrode 60 connected to the 72 is provided. The TFT is formed by the gate insulating film 62 for insulating the gate electrode 56, the source electrode 58, and the drain electrode 60, and the source electrode 58 by the gate voltage supplied to the gate electrode 56. Further, semiconductor layers 64 and 66 are formed to form a conductive channel between the drain electrodes 60. This TFT selectively supplies the data signal from the data line to the pixel electrode 72 in response to the gate signal from the gate line. The pixel electrode 72 is located in a cell region divided by a data line and a gate line and is made of a transparent conductive material having high light transmittance. The pixel electrode 72 is formed on the passivation layer 68 coated on the entire surface of the lower substrate 51, and is electrically connected to the drain electrode 60 through the contact hole formed in the passivation layer 68.

볼스페이서(76)는 상판(UP)과 하판(DP) 사이에 액정을 주입할 수 있는 공간을 마련하는 역할을 하게 된다. 이러한 볼스페이서(76)는 블랙매트릭스(52)와 동시에 형성되며 블랙매트릭스(52) 상에 적어도 하나 이상 형성된다. 이 볼스페이서(76)는 스페이서물질 내에 경화성수지를 포함하는 고착형 볼스페이서를 이용한다.The ball spacer 76 serves to provide a space for injecting liquid crystal between the upper plate UP and the lower plate DP. The ball spacer 76 is formed at the same time as the black matrix 52 and at least one formed on the black matrix 52. The ball spacer 76 utilizes a fixed ball spacer comprising a curable resin in a spacer material.

이러한 액정표시패널의 상판의 제조방법을 도 6a 내지 도 6d를 결부하여 설명하기로 한다.A method of manufacturing the upper plate of the liquid crystal display panel will be described with reference to FIGS. 6A to 6D.

먼저, 상부기판(61) 상에 백색광원을 흡수하여 특정파장(적색, 녹색, 또는 청색)의 광만을 투과시키는 물질을 도포한 후 패터닝함으로써 도 6a에 도시된 바와 같이 삼원색의 칼라필터(80)가 형성된다. 이러한 칼라필터(80) 상에는 칼라필터(80)가 형성된 상부기판(61)을 평탄화하기 위해 유기물질로 오버코트층(도시하지 않음)이 형성될 수 있다.First, by applying a material that absorbs a white light source on the upper substrate 61 and transmits only a light having a specific wavelength (red, green, or blue), and then patterning the color filter 80 having three primary colors as shown in FIG. 6A. Is formed. An overcoat layer (not shown) may be formed of an organic material on the color filter 80 to planarize the upper substrate 61 on which the color filter 80 is formed.

칼라필터(80)가 형성된 상부기판(61) 상에 투명금속층을 증착함으로써 도 6b에 도시된 바와 같이 공통전극(78)이 형성된다. 공통전극(78)이 형성된 상부기판(61) 상에 불투명감광성수지를 코팅하고 볼 스페이서물질을 산포한 후 이들을 패터닝함으로써 도 6c에 도시된 바와 같이 블랙매트릭스(52)와 볼스페이서(76)가 형성된다. 블랙매트릭스(52)와 볼스페이서(76)가 형성된 상부기판(61) 상에 폴리이미드를 전면 도포하여 도 6d에 도시된 바와 같이 상부배향막(74a)을 형성하게 된다. The common electrode 78 is formed as shown in FIG. 6B by depositing a transparent metal layer on the upper substrate 61 on which the color filter 80 is formed. The black matrix 52 and the ball spacer 76 are formed by coating the opaque photosensitive resin on the upper substrate 61 on which the common electrode 78 is formed, scattering the ball spacer material, and patterning them, as shown in FIG. 6C. do. The polyimide is entirely coated on the upper substrate 61 on which the black matrix 52 and the ball spacer 76 are formed to form the upper alignment layer 74a as shown in FIG. 6D.                     

도 7a 내지 도 7c는 도 6c에 도시된 볼스페이서와 블랙매트릭스의 제조방법을 상세히 나타내는 단면도이다.7A to 7C are cross-sectional views illustrating in detail a method of manufacturing the ball spacer and the black matrix shown in FIG. 6C.

먼저, 컬러필터(80) 및 공통전극(78)이 형성된 상부기판(61) 상에 도 7a에 도시된 바와 같이 네거티브(negative)형 불투명감광성수지(52a)가 전면 코팅되거나 크롬(Cr) 등의 불투명금속이 전면 증착된다. 여기서, 네거티브형 불투명감광성수지는 광에 반응하지 않는 영역이 현상공정에서 제거되며, 이 네거티브형 불투명감광성수지 대신에 광에 반응하는 영역이 현상공정에서 제거되는 포지티브(positive)형 불투명감광성수지를 이용할 수도 있다. First, as illustrated in FIG. 7A, a negative opaque photosensitive resin 52a is entirely coated on the upper substrate 61 on which the color filter 80 and the common electrode 78 are formed, or chromium (Cr) or the like. An opaque metal is deposited all over. Here, the negative opaque photosensitive resin uses a positive opaque photosensitive resin in which areas that do not react to light are removed in the developing process, and a region that reacts to light is removed in the developing process instead of the negative opaque photosensitive resin. It may be.

이 불투명감광성수지(52a)가 전면 코팅된 상부기판(61) 상에 고착형 볼스페이서물질(76a)을 산포한 후 소프트베이킹(soft-baking)하게 되며 고착형 볼스페이서물질(76a)은 불투명감광성수지(52a)에 고착된다. 여기서, 고착형 볼스페이서물질(76a)은 감광성물질로 형성될 수도 있다.The opaque photosensitive resin 52a is soft-baked after dispersing the fixed ball spacer material 76a on the upper substrate 61 coated with the front surface, and the fixed ball spacer material 76a is opaque photosensitive. It adheres to resin 52a. Here, the fixed ball spacer material 76a may be formed of a photosensitive material.

소프트베이킹된 볼스페이서물질(76a)이 형성된 상부기판(61) 상에 도 7b에 도시된 바와 같이 포토마스크(MS)가 정렬된다. 여기서, 포토마스크(MS)는 차단영역(S1)에 형성되는 차단층(92)과, 노광영역(S2)에 형성되는 투과층을 구비한다. 투과층은 투명한 포토마스크기판(90)이 그대로 노출되게 형성된다. The photomask MS is aligned on the upper substrate 61 on which the soft baked ball spacer material 76a is formed, as shown in FIG. 7B. Here, the photomask MS includes a blocking layer 92 formed in the blocking region S1 and a transmission layer formed in the exposure region S2. The transparent layer is formed such that the transparent photomask substrate 90 is exposed as it is.

이 포토마스크(MS)를 이용한 노광공정으로 포토마스크(MS)의 노광영역(S2)을 통해 볼스페이서물질(76a)을 노광한 후 현상공정으로 차단영역(S1)을 통해 차광된 볼스페이서물질(76a)과 불투명감광성수지(52a)는 모두 제거되고, 노광영역(S2)을 통해 노광된 볼스페이서물질(76a)과 불투명감광성수지(52a)는 도 7c에 도시된 바와 같이 볼스페이서(76)와 블랙매트릭스(52)로 형성된다. 이 때, 볼스페이서물질(76a)이 감광성물질이면 노광공정으로 불투명감광성수지(52a)와의 고착성이 상대적으로 좋아지게 된다.After the ball spacer material 76a is exposed through the exposure area S2 of the photomask MS in the exposure process using the photomask MS, the ball spacer material shielded through the blocking area S1 in the developing process ( 76a) and the opaque photosensitive resin 52a are all removed, and the ball spacer material 76a and the opaque photosensitive resin 52a exposed through the exposure area S2 are separated from the ball spacer 76 as shown in FIG. 7C. It is formed of a black matrix 52. At this time, if the ball spacer material 76a is a photosensitive material, the adhesion with the opaque photosensitive resin 52a is relatively improved in the exposure process.

현상공정 후 볼스페이서(76)을 소정온도로 하드베이킹(hard-baking)하게 된다.After the developing process, the ball spacer 76 is hard-baked at a predetermined temperature.

도 8은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 IPS모드의 액정표시패널을 나타내는 단면도이다.8 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display panel in an IPS mode according to a second embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 IPS모드의 액정표시패널은 도 5에 도시된 TN모드의 액정표시패널과 비교하여 공통전극이 하부기판 상에 형성되는 것을 제외하고는 동일한 구성요소를 구비한다.Referring to FIG. 8, the liquid crystal display panel of the IPS mode according to the second embodiment of the present invention is the same except that the common electrode is formed on the lower substrate as compared to the liquid crystal display panel of the TN mode shown in FIG. 5. With components.

하부기판(51) 상에 형성된 공통전극(78)은 데이터라인(도시하지 않음)과 게이트라인(도시하지 않음)에 의해 분할된 표시영역에 화소전극(72)과 교번되도록 스트라입형태로 형성된다. 공통전극(78)은 하부기판(51) 상에 게이트전극(56)과 동일금속으로 동시에 형성된다. 공통전극(78)이 하부기판(51) 상에 형성되는 IPS모드의 액정표시패널은 액정이 수평전계에 의해 수평방향을 기준으로 회전함으로써 시야각이 상대적으로 넓은 장점이 있다. The common electrode 78 formed on the lower substrate 51 is formed in a stripe shape so as to alternate with the pixel electrode 72 in a display area divided by a data line (not shown) and a gate line (not shown). . The common electrode 78 is simultaneously formed of the same metal as the gate electrode 56 on the lower substrate 51. The liquid crystal display panel of the IPS mode in which the common electrode 78 is formed on the lower substrate 51 has the advantage that the viewing angle is relatively wide because the liquid crystal rotates with respect to the horizontal direction by a horizontal electric field.

공통전극(78)이 형성된 하판(DP)은 블랙매트릭스(52)와 동시에 형성되는 볼스페이서(76)에 의해 상판(UP)과 대면되게 형성된다.The lower plate DP on which the common electrode 78 is formed is formed to face the upper plate UP by the ball spacer 76 formed at the same time as the black matrix 52.

볼스페이서(76)는 상판(UP)과 하판(DP) 사이에 액정을 주입할 수 있는 공간을 마련하는 역할을 하게 된다. 이러한 볼스페이서(76)는 블랙매트릭스(52)와 동 시에 형성되어 블랙매트릭스(52) 상에 적어도 하나 이상 형성된다. 볼스페이서(76)는 스페이서물질 내에 경화성수지를 포함하는 고착형 볼스페이서를 이용한다.The ball spacer 76 serves to provide a space for injecting liquid crystal between the upper plate UP and the lower plate DP. The ball spacer 76 is formed at the same time as the black matrix 52 is formed on at least one on the black matrix (52). The ball spacer 76 utilizes a fixed ball spacer comprising a curable resin in the spacer material.

이러한 본 발명의 제2 실시 예에 따른 IPS모드의 액정표시패널의 상판의 제조방법을 도 9a 내지 도 9e를 결부하여 설명하기로 한다.A method of manufacturing the top plate of the liquid crystal display panel of the IPS mode according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 9A to 9E.

먼저, 상부기판(61) 상에 백색광원을 흡수하여 특정파장(적색, 녹색, 또는 청색)의 광만을 투과시키는 물질을 도포한 후 패터닝함으로써 도 9a에 도시된 바와 같이 삼원색의 칼라필터(80)가 형성된다. 이러한 칼라필터(80) 상에는 칼라필터(80)가 형성된 상부기판(61)을 평탄화하기 위해 유기물질로 오버코트층(도시하지 않음)이 형성될 수 있다.First, by applying a material that absorbs a white light source on the upper substrate 61 to transmit only a light having a specific wavelength (red, green, or blue), and then patterning the color filter 80 having three primary colors as shown in FIG. 9A. Is formed. An overcoat layer (not shown) may be formed of an organic material on the color filter 80 to planarize the upper substrate 61 on which the color filter 80 is formed.

칼라필터(80)가 형성된 상부기판 (61) 상에 도 9b에 도시된 바와 같이 네거티브(negative)형 불투명감광성수지(52a)가 전면 코팅된다. 여기서, 네거티브형 불투명감광성수지는 광에 반응하지 않는 영역이 현상공정에서 제거되며, 이 네거티브형 불투명감광성수지 대신에 광에 반응하는 영역이 현상공정에서 제거되는 포지티브(positive)형 불투명감광성수지를 이용할 수도 있다. 이 불투명감광성수지(52a)가 전면 코팅된 상부기판(61) 상에 고착형 볼스페이서물질(76a)을 산포한 후 소프트베이킹하여 불투명감광성수지(52a)에 고착형 볼스페이서물질(76a)은 고착된다. 여기서, 고착형 볼스페이서물질(76a)은 감광성물질로 형성되면, 추후에 실행되는 노광공정에서 볼스페이서물질(76a)과 불투명감광성수지(52a)와의 고착성이 상대적으로 좋아지게 된다. On the upper substrate 61 on which the color filter 80 is formed, a negative type opaque photosensitive resin 52a is completely coated as shown in FIG. 9B. Here, the negative opaque photosensitive resin uses a positive opaque photosensitive resin in which areas that do not react to light are removed in the developing process, and a region that reacts to light is removed in the developing process instead of the negative opaque photosensitive resin. It may be. After the opaque photosensitive resin 52a is completely coated, the fixed ball spacer material 76a is dispersed on the upper substrate 61, and then softbaked to fix the ball spacer material 76a to the opaque photosensitive resin 52a. do. Here, when the fixed ball spacer material 76a is formed of a photosensitive material, the adhesion between the ball spacer material 76a and the opaque photosensitive resin 52a is relatively improved in an exposure process performed later.                     

소프트베이킹된 볼스페이서물질(76a)이 형성된 상부기판(61) 상에 도 9c에 도시된 바와 같이 포토마스크(MS)가 정렬된다. 여기서, 포토마스크(MS)는 차단영역(S1)에 형성되는 차단층(92)과, 노광영역(S2)에 형성되는 투과층을 구비한다. 투과층은 투명한 포토마스크기판(90)이 그대로 노출되게 형성된다. The photomask MS is aligned on the upper substrate 61 on which the soft baked ball spacer material 76a is formed, as shown in FIG. 9C. Here, the photomask MS includes a blocking layer 92 formed in the blocking region S1 and a transmission layer formed in the exposure region S2. The transparent layer is formed such that the transparent photomask substrate 90 is exposed as it is.

이 포토마스크(MS)를 이용한 노광공정으로 포토마스크(MS)의 노광영역(S2)을 통해 볼스페이서물질(76a)을 노광한 후 현상공정으로 차단영역(S1)을 통해 차광된 볼스페이서물질(76a)과 불투명감광성수지(52a)는 모두 제거되고, 노광영역(S2)을 통해 노광된 볼스페이서물질(76a)과 불투명감광성수지(52a)는 볼스페이서(76)와 블랙매트릭스(52)로 형성된다. 현상공정 후 볼스페이서(76)을 소정온도로 하드베이킹(hard-baking)하게 된다.After the ball spacer material 76a is exposed through the exposure area S2 of the photomask MS in the exposure process using the photomask MS, the ball spacer material shielded through the blocking area S1 in the developing process ( 76a) and the opaque photosensitive resin 52a are all removed, and the ball spacer material 76a and the opaque photosensitive resin 52a exposed through the exposure area S2 are formed of the ball spacer 76 and the black matrix 52. do. After the developing process, the ball spacer 76 is hard-baked at a predetermined temperature.

블랙매트릭스(52)와 볼스페이서(76)가 형성된 상부기판(51) 상에 폴리이미드를 전면 도포하여 도 9e에 도시된 바와 같이 상부배향막(74a)을 형성하게 된다.
The polyimide is entirely coated on the upper substrate 51 on which the black matrix 52 and the ball spacer 76 are formed to form the upper alignment layer 74a as shown in FIG. 9E.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시패널 및 그 제조방법은 불투명수지 및 불투명금속 중 적어도 어느 하나인 불투명물질 상에 볼스페이서를 분사한 후 불투명물질과 볼스페이서를 동시에 패터닝하여 블랙매트릭스와 볼스페이서를 동시에 형성한다. 이에 따라, 표시영역에 위치하는 볼스페이서는 제거되고 볼스페이서는 블랙매트릭스 상에 위치하게 되어 화질이 향상된다. 또한, 볼스페이서는 블랙매트릭스와 동시에 형성되므로 공정수를 줄일 수 있다. As described above, the liquid crystal display panel and the manufacturing method according to the present invention is sprayed on the opaque material which is at least one of the opaque resin and the opaque metal and then sprayed the ball spacer on the black matrix and the ball by patterning at the same time The spacers are formed simultaneously. Accordingly, the ball spacer positioned in the display area is removed and the ball spacer is positioned on the black matrix, thereby improving image quality. In addition, since the ball spacer is formed at the same time as the black matrix can reduce the number of processes.                     

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다. Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (12)

제1 기판 상에 형성되는 블랙매트릭스와,A black matrix formed on the first substrate, 상기 블랙매트릭스에 고착되어 적어도 하나 이상 형성되는 고착형 볼스페이서를 구비하고,It is fixed to the black matrix is provided with a fixed ball spacer formed at least one, 상기 고착형 볼스페이서는 상기 블랙매트릭스와 동시에 패터닝되어 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.And wherein the fixed ball spacer is patterned and formed simultaneously with the black matrix. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 기판 상에 상기 블랙매트릭스에 의해 구획된 영역에 위치하는 컬러필터와,A color filter positioned in a region partitioned by the black matrix on the first substrate; 상기 컬러필터와 블랙매트릭스 사이에 형성되는 공통전극을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.And a common electrode formed between the color filter and the black matrix. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 기판과 대면되게 형성되는 제2 기판과,A second substrate formed to face the first substrate, 상기 제2 기판 상에 형성되는 공통전극을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.And a common electrode formed on the second substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 고착형 볼스페이서는 경화성물질인 것을 특징으로 하는 액정표시패널.The fixing ball spacer is a curable material, characterized in that the liquid crystal display panel. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 고착형 볼스페이서는 광에 반응하는 물질인 것을 특징으로 하는 액정표시패널.The fixed ball spacer is a material that reacts with light. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 블랙매트릭스는 불투명감광성수지로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.And the black matrix is formed of an opaque photosensitive resin. 제1 기판 상에 불투명물질을 코팅하는 단계와,Coating an opaque material on the first substrate, 상기 불투명물질 상에 고착형 볼스페이서물질을 산포하여 고착시키는 단계와,Dispersing and fixing the fixed ball spacer material on the opaque material; 상기 고착형 볼스페이서물질과 불투명물질을 동시에 패터닝하여 블랙매트릭스를 형성함과 동시에 상기 블랙매트릭스 상에 적어도 하나 이상의 고착형 볼스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.And simultaneously patterning the fixed ball spacer material and the opaque material to form a black matrix and simultaneously forming at least one fixed ball spacer on the black matrix. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제1 기판 상에 컬러필터를 형성하는 단계와,Forming a color filter on the first substrate; 상기 컬러필터와 블랙매트릭스 사이에 공통전극을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.And forming a common electrode between the color filter and the black matrix. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제1 기판과 대면되는 제2 기판을 마련하는 단계와,Providing a second substrate facing the first substrate; 상기 제2 기판 상에 공통전극을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.And forming a common electrode on the second substrate. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 고착형 볼스페이서는 경화성물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.The fixing ball spacer is formed of a curable material. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 고착형볼스페이서는 광에 반응하는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.The fixed ball spacer is formed of a material that reacts to light. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 블랙매트릭스는 불투명감광성수지로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조방법.And said black matrix is formed of an opaque photosensitive resin.
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