KR101408461B1 - Barrel apparatus, barrel plating apparatus and method - Google Patents
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Abstract
본 발명은 배럴 장치, 배럴 도금 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 하나의 실시예에 따라, 배럴 도금장치에 사용되는 배럴 장치에 있어서, 동력을 전달받아 도금액면과 수평 방향으로 회전하는 회전 전달축; 및 도금액면에 경사지도록 회전 전달축에 경사지게 설치되어 회전 전달축의 회전에 따라 공전 운동하고 동시에 회전 전달축에 결합된 자체 축의 회전에 따른 자전 운동을 수행하되, 내부에 구비된 피도금물이 도금조 내의 도금용액에 잠기도록 형성된 다수의 배럴드럼; 을 포함하여 이루어지는 배럴 장치가 제안된다. 또한, 배럴 도금 장치 및 방법이 제안된다.The present invention relates to a barrel apparatus, a barrel plating apparatus and a method. According to one embodiment of the present invention, there is provided a barrel apparatus for use in a barrel plating apparatus, comprising: a rotation transmitting shaft that receives power and rotates in a horizontal direction with a plating liquid surface; And a tilting means for tilting the plating liquid surface so as to be inclined with respect to the rotation transmitting shaft so as to revolve in accordance with the rotation of the rotation transmitting shaft and to rotate while rotating its own shaft coupled to the rotation transmitting shaft, A plurality of barrel drums formed to be submerged in the plating solution in the plating bath; A barrel device is proposed. A barrel plating apparatus and method are also proposed.
Description
본 발명은 배럴 장치, 배럴 도금 장치 및 방법에 관한 것이다. 구체적으로는 공전 및 자전을 동시에 수행하여 액순환이 용이한 배럴 장치, 배럴 도금 장치 및 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a barrel apparatus, a barrel plating apparatus and a method. More particularly, the present invention relates to a barrel apparatus, a barrel plating apparatus, and a method which simultaneously perform revolving and rotating to facilitate liquid circulation.
MLCC 등의 소형 부품의 도금에 있어서 배럴 도금이 널리 행해지고 있다. 배럴 도금의 경우 메쉬의 개구율 저하에 의한 액순환 및 배럴 내 칩부착에 의한 미도금의 위험성이 있다. Barrel plating has been widely carried out in the plating of small parts such as MLCC. In the case of barrel plating, there is a danger of liquid circulation due to lowering of the opening ratio of the mesh and unplating due to adhesion of chips in the barrel.
특히, 종래의 일반적으로 사용하던 수평형 배럴(barrel) 도금 장치의 경우 더욱 그러하다. 수평형 배럴 도금장치 도금조에 도금용액을 넣고, 도금용액에 침지시킨 배럴드럼 내에 다수의 피도금물을 투입하고, 도금액면과 수평한 회전축을 중심으로 배럴드럼을 회전시키면서 도금이 행해진다. 그러나, 금속편 형태의 피도금물이 수평하게 배럴드럼 내에 존재하므로, 배럴드럼이 도금액면과 수평한 회전축을 중심으로 회전하더라도 배럴드럼 내에서 상하방향으로 이동하나 쉽게 뒤집어지지 않아 미도금되는 부분이 생기게 된다.
In particular, this is more so in the case of a conventionally used horizontal flat barrel plating apparatus. A horizontal plating barrel plating apparatus A plating solution is placed in a plating bath, a large number of objects to be plated are put into a barrel drum immersed in a plating solution, and the plating is performed while rotating the barrel drum around a rotation axis horizontal to the plating liquid surface. However, since the object to be plated in the form of a metal piece lies horizontally in the barrel drum, even if the barrel drum rotates about the horizontal rotation axis with respect to the plating liquid surface, the barrel drum moves vertically in the barrel drum but is not easily reversed, do.
종래의 수평형 배럴 도금장치의 문제를 개선하고자 경사진 배럴 도금장치를 일본 공개공보 특개제2000-212800호(2000년 8월 2일 공개)나 일본 공개공보 특개제2002-339100호(2002년 11월 27일 공개) 등에서 제안되고 있다.
In order to solve the problem of the conventional horizontal barrel plating apparatus, a slanting barrel plating apparatus is disclosed in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-212800 (published on August 2, 2000) and Japanese Laid-Open Publication No. 2002-339100 On May 27).
그러나, 수평형 배럴 도금장치를 개선한 경사 배럴 도금장치의 경우에도 배럴드럼의 회전방향이 순환방향와 역순환방향 두 가지의 회전만 가능하여 배럴드럼 내에서의 도금용액의 순환이 원활하게 이루어지지 않는 문제가 있다.
However, even in the case of the warp barrel plating apparatus in which the horizontal barrel plating apparatus is improved, the rotation direction of the barrel drum is only capable of rotating in the circulation direction and in the counter-circulation direction so that circulation of the plating solution in the barrel drum is not smooth there is a problem.
본 발명은 전술한 문제를 해결하기 위한 것으로, 피도금물을 내부에 구비한 배럴드럼이 공전 및 자전을 동시에 수행하며 액순환이 원활하게 이루어지는 배럴 도금 기술을 제안하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a barrel plating technique in which a cylinder drum having an object to be plated is simultaneously rotated and rotated to smoothly circulate the fluid.
전술한 문제를 해결하기 위하여, 본 발명의 제1 실시예에 따라, 배럴 도금장치에 사용되는 배럴 장치에 있어서, 동력을 전달받아 도금액면과 수평 방향으로 회전하는 회전 전달축; 및 도금액면에 경사지도록 회전 전달축에 경사지게 설치되어 회전 전달축의 회전에 따라 공전 운동하고 동시에 회전 전달축의 회전에 따라 회전 전달축에 결합된 자체 축의 회전에 따른 자전 운동을 수행하되, 내부에 구비된 피도금물이 도금조 내의 도금용액에 잠기도록 형성된 다수의 배럴드럼; 을 포함하여 이루어지는 배럴 장치가 제안된다.
In order to solve the above-mentioned problems, according to a first embodiment of the present invention, there is provided a barrel apparatus for use in a barrel plating apparatus, comprising: a rotation transmitting shaft that receives power and rotates in a horizontal direction with a plating liquid surface; And a tilting means for tilting the surface of the plating liquid so as to perform an idling motion in accordance with the rotation of the rotation transmitting shaft while rotating the rotation transmitting shaft according to the rotation of its own shaft coupled to the rotation transmitting shaft, A plurality of barrel drums in which objects to be plated are immersed in a plating solution in a plating bath; A barrel device is proposed.
또한, 하나의 예에서, 배럴드럼은 내부의 피도금물을 포함하여 몸체의 일부가 도금용액에 잠기도록 형성될 수 있다.
Further, in one example, the barrel drum may be formed so that a part of the body including the object to be plated is immersed in the plating solution.
또 하나의 예에서, 공전 운동과 자전 운동에 따라 배럴드럼 내부의 도금용액에 와류가 형성될 수 있다.
In another example, a vortex can be formed in the plating solution in the barrel drum according to the idle motion and the rotating motion.
또한, 하나의 예에 따르면, 배럴드럼은 도금액면에 30~60° 경사지게 설치될 수 있다.
Further, according to one example, the barrel drum may be installed at an inclination of 30 to 60 degrees on the plating liquid surface.
또 하나의 예에 따르면, 공전 운동과 자전 운동의 회전 비율은 1:1 일 수 있다.
According to another example, the revolving rate of idle motion and revolving motion may be 1: 1.
또 하나의 예에 있어서, 배럴드럼의 상부는 개방되고 둘레는 메쉬구조를 가질 수 있다.
In another example, the top of the barrel drum may be open and the perimeter may have a mesh structure.
또한, 전술한 문제를 해결하기 위하여, 본 발명의 제2 실시예에 따라, 배럴 도금장치에 있어서, 회전 전달축 및 다수의 배럴드럼을 포함하는 전술한 제1 실시예 중의 어느 하나에 따른 배럴 장치; 다수의 배럴드럼 내의 피도금물을 통전시키는 음극구조; 및 다수의 배럴드럼의 공전 운동 궤도 주위에 일정 반경으로 형성된 양극구조; 를 포함하는 배럴 도금장치가 제안된다.
In order to solve the above problems, according to a second embodiment of the present invention, there is provided a barrel plating apparatus comprising a barrel device according to any one of the above-described first embodiments, including a rotation transmission shaft and a plurality of barrel drums, ; A negative electrode structure for energizing the objects to be plated in a plurality of barrel drums; And a positive electrode structure formed with a certain radius around the orbital movement orbits of the plurality of barrel drums; A barrel plating apparatus is proposed.
또한, 하나의 예에서, 회전 전달축으로 동력을 전달하는 동력 전달축을 더 포함하되, 동력 전달축과 회전 전달축, 그리고 회전 전달축과 배럴드럼의 자체 축은 각각 베벨기어로 결합할 수 있다.
In addition, in one example, the power transmission shaft further includes a power transmission shaft for transmitting power to the rotation transmission shaft, wherein the power transmission shaft and the rotation transmission shaft, and the rotation shaft and the barrel drum have their own axes, respectively.
또 하나의 예에 따르면, 양극구조는 공전 운동 궤도 주위에 일정 반경으로 형성된 환형의 애노드 바스켓 내에 양극판이 설치될 수 있다.
According to another example, the anode structure may be provided with an anode plate in an annular anode basket formed around the orbital motion orbit with a certain radius.
또한 하나의 예에서, 음극구조는 슬립링을 이용하여 다수의 배럴드럼 내의 피도금물에 전하를 공급하되, 배럴드럼 별로 다른 세기의 전류를 통전시킬 수 있다.Also, in one example, the cathode structure can supply electricity to the objects to be plated in a plurality of the barrel drums by using the slip ring, but electric currents of different intensities can be supplied to the respective barrel drums.
또 하나의 예에서, 음극구조는 다수의 배럴드럼의 상측에 회전 전달축을 둘러싸는 음극판을 구비하여 다수의 배럴드럼 내의 피도금물에 전하를 공급할 수 있다.
In another example, the negative electrode structure may include a negative electrode plate surrounding the rotation transmitting axis on the upper side of the plurality of barrel drums to supply electric charges to the objects to be plated in the plurality of barrel drums.
또 하나의 예에 따르면, 도금조의 하부에는 도금용액 순환펌프가 구비될 수 있다.
According to another example, a plating solution circulation pump may be provided at the bottom of the plating bath.
다음으로, 전술한 문제를 해결하기 위하여, 본 발명의 제3 실시예에 따라, 배럴 도금 방법에 있어서, 도금액면과 경사지게 설치된 다수의 배럴드럼 내에 피도금물이 도금용액에 잠기도록 장착하고 다수의 배럴드럼에 대하여 회전 전달축의 회전에 의한 동일 궤도에 따른 공전 운동과 동시에 회전 전달축의 회전에 따른 회전 전달축에 결합된 각각의 자체 축에 의한 각각의 자체 축에 따른 자전 운동을 진행시켜 피도금물에 대한 도금을 수행하는 배럴 도금 방법이 제안된다.
Next, in order to solve the above-mentioned problems, according to a third embodiment of the present invention, there is provided a barrel plating method comprising the steps of: mounting a plated material in a plated solution in a plurality of barrel drums, The revolving motion along the same orbit by rotation of the rotary transmission shaft relative to the barrel drum and the rotating motion of each of its own axes coupled to the rotary transmission shaft due to the rotation of the rotary transmission shaft, A method of barrel plating is proposed.
또 하나의 예에서, 공전 운동과 자전 운동에 따라 배럴드럼 내부의 도금용액에 와류를 형성시켜 도금을 수행할 수 있다.
In another example, plating may be performed by forming a vortex in the plating solution in the barrel drum according to the idle motion and the rotating motion.
또한 하나의 예에 따르면, 공전 운동과 자전 운동의 회전 비율은 1:1 일 수 있다.
Also, according to one example, the rotation rate of the idle motion and the rotating motion may be 1: 1.
또한, 하나의 예에서, 피도금물을 통전시키는 음극 구조와 다수의 배럴드럼의 궤도 주위에 일정 반경으로 형성된 양극 구조 하에서 도금을 수행할 수 있다.Further, in one example, plating can be performed under a cathode structure that energizes the object to be coated and an anode structure that is formed around the orbits of the plurality of cylinder drums with a certain radius.
이때, 하나의 예에서, 음극 구조는 다수의 배럴드럼 내의 피도금물과 접촉되어 통전하되, 슬립링을 이용하여 다른 세기의 전류의 통전이 이루어지며 도금이 수행될 수 있다.
At this time, in one example, the cathode structure is energized in contact with the objects to be plated in a plurality of the barrel drums, electric currents of different intensities are conducted using the slip rings, and plating can be performed.
본 발명의 실시예에 따라, 피도금물을 내부에 구비한 배럴드럼이 공전 및 자전을 동시에 수행하며 액순환이 원활하게 이루어질 수 있다.
According to the embodiment of the present invention, the barrel drum having the object to be plated can simultaneously perform revolution and rotation, and liquid circulation can be smoothly performed.
본 발명의 하나의 예에 따라, 기존의 배럴 도금장치에 비하여 4~8배 이상 생산성이 증대되는 효과를 가지게 된다.According to one embodiment of the present invention, the productivity is increased by 4 to 8 times or more as compared with the conventional barrel plating apparatus.
또한, 하나의 도금조 내에서 2대 이상의 정류기 개별 전류인가가 가능하여 다품종 대량 생산에 유리하다.
In addition, it is possible to apply a separate current to two or more rectifiers in one plating tank, which is advantageous for mass production of multiple products.
본 발명의 다양한 실시예에 따라 직접적으로 언급되지 않은 다양한 효과들이 본 발명의 실시예들에 따른 다양한 구성들로부터 당해 기술분야에서 통상의 지식을 지닌 자에 의해 도출될 수 있음은 자명하다.
It is apparent that various effects not directly referred to in accordance with various embodiments of the present invention can be derived by those of ordinary skill in the art from the various configurations according to the embodiments of the present invention.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배럴 장치 및 배럴 도금 장치의 일부를 개략적으로 나타낸 정방향 단면도이다.
도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배럴 장치 및 배럴 도금 장치의 일부를 개략적으로 나타낸 측방향 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a cross-sectional view in a forward direction schematically showing a part of a barrel apparatus and a barrel plating apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a side sectional view schematically showing a part of a barrel apparatus and a barrel plating apparatus according to one embodiment of the present invention.
전술한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명될 것이다. 본 설명에 있어서, 동일부호는 동일한 구성을 의미하고, 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 이해를 도모하기 위하여 부차적인 설명은 생략될 수도 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a block diagram showing the configuration of a first embodiment of the present invention; Fig. In the description, the same reference numerals denote the same components, and a detailed description may be omitted for the sake of understanding of the present invention to those skilled in the art.
본 명세서에서 하나의 구성요소가 다른 구성요소와 연결, 결합 또는 배치 관계에서 '직접'이라는 한정이 없는 이상, '직접 연결, 결합 또는 배치'되는 형태뿐만 아니라 그들 사이에 또 다른 구성요소가 개재됨으로써 연결, 결합 또는 배치되는 형태로도 존재할 수 있다.As used herein, unless an element is referred to as being 'direct' in connection, combination, or placement with other elements, it is to be understood that not only are there forms of being 'directly connected, They may also be present in the form of being connected, bonded or disposed.
본 명세서에 비록 단수적 표현이 기재되어 있을지라도, 발명의 개념에 반하거나 명백히 다르거나 모순되게 해석되지 않는 이상 복수의 구성 전체를 대표하는 개념으로 사용될 수 있음에 유의하여야 한다. 본 명세서에서 '포함하는', '갖는', '구비하는', '포함하여 이루어지는' 등의 기재는 하나 또는 그 이상의 다른 구성요소 또는 그들의 조합의 존재 또는 부가 가능성이 있는 것으로 이해되어야 한다.It should be noted that, even though a singular expression is described in this specification, it can be used as a concept representing the entire constitution unless it is contrary to, or obviously different from, or inconsistent with the concept of the invention. It is to be understood that the phrases "including", "having", "having", "including", and the like in the present specification are to be construed as present or absent from one or more other elements or combinations thereof.
본 명세서에서 참조되는 도면들은 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 예시로써, 모양, 크기, 두께 등은 기술적 특징의 효과적인 설명을 위해 과장되게 표현된 것일 수 있다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other features and advantages of the present invention will become more apparent by describing in detail exemplary embodiments thereof with reference to the attached drawings, in which: FIG.
우선, 본 발명의 제1 실시예에 따른 배럴 장치를 도면을 참조하여 구체적으로 살펴본다. 이때, 참조되는 도면에 기재되지 않은 도면부호는 동일한 구성을 나타내는 다른 도면에서의 도면부호일 수 있다.First, a barrel apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Here, reference numerals not shown in the drawings to be referred to may be reference numerals in other drawings showing the same configuration.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배럴 장치 및 배럴 도금 장치의 일부를 개략적으로 나타낸 정방향 단면도이고, 도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배럴 장치 및 배럴 도금 장치의 일부를 개략적으로 나타낸 측방향 단면도이다.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a part of a barrel apparatus and a barrel plating apparatus according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic sectional view of a barrel apparatus and a part of a barrel plating apparatus according to an embodiment of the present invention. Fig.
도 1 및 2를 참조하여 살펴보면, 배럴 도금장치에 사용되는 배럴 장치는 회전 전달축(10) 및 다수의 배럴드럼(30)을 포함하여 이루어진다.Referring to FIGS. 1 and 2, the barrel apparatus used in the barrel plating apparatus includes a
이때, 도 1 및 2를 참조하면, 회전 전달축(10)은 동력을 전달받아 도금액면과 수평 방향으로 회전한다. 즉, 회전 전달축(10)은 배럴 도금장치의 동력 전달축(70)으로부터 동력을 전달받아 도금조(90)의 도금액면 상부에서 수평방향으로 회전한다. 이때, 도 1에 도시된 바와 같이, 회전 전달축(10)은 동력 전달축(70)과의 베벨기어 결합(10b, 70b)을 통하여 동력 전달축(70)의 회전을 도금액면과 수평 방향의 회전으로 90° 변환하여 회전할 수 있다. 즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 동력 전달축(70)과 회전 전달축(10)은 베벨기어(10b, 70b)로 결합할 수 있다.
1 and 2, the
다음으로, 도 1 및 2를 참조하여 배럴드럼(30)을 살펴본다. 다수의 배럴드럼(30)은 도금액면에 경사지도록 회전 전달축(10)에 경사지게 설치되어 있다. 배럴드럼(30)은 도금액면에 경사지게 설치되어 도금조(90)의 도금용액(3)에 잠기게 된다. 예컨대, 이때, 도 1 및 2를 참조하면, 회전 전달축(10)과 배럴드럼(30)의 자체 축(33)은 베벨기어(10a, 33a)로 결합할 수 있다. 도금용액(3)에 잠기는 배럴드럼(30)의 내부에는 피도금물(1)이 구비되어 있다. 피도금물(1)은 MLCC와 같은 소형부품일 수 있다. 예컨대, 배럴드럼(30)의 수는 2 ~ 8 개일 수 있다.
Next, the
이때, 도 1을 참조하여 하나의 예를 살펴보면, 배럴드럼(30)의 몸체(31)의 일부가 도금용액(3)에 잠기도록 형성될 수 있다. 이때, 배럴드럼(30) 내부의 피도금물(1)은 전부가 도금용액(3)에 잠기도록 할 수 있다. 배럴드럼(30)의 몸체(31)는 도금용액(3)에 경사지게 잠기게 된다.1, a part of the
또한, 도 1 및 2를 참조하면, 하나의 예에서, 배럴드럼(30)은 도금액면에 30~60° 경사지게 설치될 수 있다. 이때, 도 1에서와 같이 배럴드럼(30)의 일부만 도금용액(3)에 잠기도록 할 수 있다.
1 and 2, in one example, the
다시, 도 1 및 2를 참조하면, 배럴드럼(30)은 회전 전달축(10)의 회전에 따라 공전 운동한다. 즉, 회전 전달축(10)이 동력을 전달받아 도금액면과 수평방향으로 회전함에 따라 회전 전달축(10)에 경사지게 설치된 다수의 배럴드럼(30)이 회전하게 된다. 이때, 예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이 회전 전달축(10)과 배럴드럼(30)의 자체 축(33)은 베벨기어(10a, 33a)로 결합되어 있어, 배럴드럼(30)은 회전 전달축(10)의 회전에 따라 자체 축(33)을 기준으로 자전하면서 동시에 회전 전달축(10)의 회전에 따라 회전 전달축(10) 둘레를 공전할 수 있다. 본 명세서에서 배럴드럼(30)의 공전운동이라 함은 회전 전달축(10)의 도금액면과의 수평방향 회전에 따라 회전 전달축(10)에 경사지게 설치된 배럴드럼(30)이 회전 전달축(10) 주위를 돌며 회전하게 되는 것을 의미한다.
Referring again to Figs. 1 and 2, the
또한, 배럴드럼(30)은 회전 전달축(10)의 회전에 따른 공전 운동과 동시에 회전 전달축(10)의 회전에 따라 회전 전달축(10)에 결합된 자체 축(33)의 회전에 따른 자전 운동을 수행한다. 이때, 자전운동은 예컨대, 도 1 및 2에 도시된 바와 같이 회전 전달축(10)과 배럴드럼(30)의 자체 축(33)의 베벨기어(10a, 33a) 결합에 의하여 회전 전달축(10)의 회전에 따라 배럴드럼(30)의 자체 축(33)을 기준으로 배럴드럼(30)이 회전하는 것을 의미한다.
The
또한, 하나의 예에 따르면, 배럴드럼(30)은 회전 전달축(10)의 회전에 따른 공전운동과 각자의 자체 축(33)을 기준으로 하는 자전운동을 동시에 수행함에 따라, 배럴드럼(30) 내부의 도금용액(3)에 와류가 형성될 수 있다. 배럴드럼(30) 내부의 용액에서 와류가 형성되어 액순환이 용이해져 배럴드럼(30) 내부에 구비된 피도금물(1)에 대해 효율적으로 도금이 이루어질 수 있다. According to one example, since the
또 하나의 예에 따르면, 배럴드럼(30)의 공전 운동과 자전 운동의 회전 비율은 1:1 일 수 있다. 즉, 배럴드럼(30)이 회전 전달축(10)의 1회전에 따라 1회 공전하는 동안 자체 축(33)을 기준으로 1회 자전할 수 있다. 또는, 다른 실시예에서 공전운동과 회전운동의 비율을 달리할 수도 있다.
According to another example, the revolving rate of revolving and rotating motion of the
또한, 하나의 예에 있어서, 배럴드럼(30)의 상부는 개방된 형태일 수 있다. 예컨대, 배럴드럼(30)은 배럴드럼 몸체(31)와 배럴드럼 자체 축(33)을 포함하여 이루어질 수 있고, 이때 몸체(31)의 상부는 개방된 형태일 수 있다. 또한, 배럴드럼(30)의 둘레는 메쉬구조를 가질 수 있다. 이때, 메쉬구조는 배럴드럼(30)의 둘레에 형성된 예컨대 격자형의 윈도우(창) 틀 각각에 메쉬가 형성되도록 할 수 있다. 메쉬의 사이즈는 예컨대 0.20 이하로 하더라도 자전과 공전 시 배럴드럼(30)이 도금용액(3)에 잠겨 회전하므로 안정적인 도금액의 공급이 가능해진다.Also, in one example, the top of the
또한, 배럴드럼(30)의 몸체(31)는 회전 전달축(10)과 베벨기어(10a, 33a)로 결합된 자체 축(33)에 착탈이 가능하게 설치될 수 있다. 이에 따라, 배럴드럼(30)의 몸체(31)를 쉽게 착탈할 수 있어 도금 전후 공정을 단축할 수 있다.
The
다음으로, 본 발명의 제2 실시예에 따른 배럴 도금장치를 구체적으로 살펴본다. 이때, 전술한 제1 실시예에 따른 배럴 장치들 및 도 1 및 2가 참조될 수 있고, 그에 따라 중복되는 설명들은 생략될 수 있다.Next, a barrel plating apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described in detail. At this time, it is possible to refer to the barrel apparatuses according to the first embodiment described above and FIGS. 1 and 2, and thus redundant explanations can be omitted.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배럴 도금 장치의 일부를 개략적으로 나타낸 정방향 단면도이고, 도 2는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배럴 도금 장치의 일부를 개략적으로 나타낸 측방향 단면도이다. 도 2의 단면도에서는 도 1과 달리 양극구조(50)를 더 포함하여 도시하고 있다.
1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a part of a barrel plating apparatus according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side sectional view schematically showing a part of a barrel plating apparatus according to one embodiment of the present invention . The cross-sectional view of FIG. 2 further includes an
본 발명의 제2 실시예에 따른 배럴 도금장치의 하나의 예에 따르면, 배럴 도금장치는 회전 전달축(10), 다수의 배럴드럼(30), 음극구조(40) 및 양극구조(50)를 포함하여 이루어진다. 이때, 회전 전달축(10) 및 다수의 배럴드럼(30)은 전술한 제1 실시예 중의 어느 하나에 따른 배럴 장치의 구성과 동일할 수 있다. 따라서, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.According to one example of the barrel plating apparatus according to the second embodiment of the present invention, the barrel plating apparatus includes a
또한, 하나의 예에서, 도 1을 참조하면, 배럴 도금장치는 회전 전달축(10)으로 동력을 전달하는 동력 전달축(70)을 더 포함할 수 있다. 이때, 동력 전달축(70)과 회전 전달축(10)은 베벨기어(10b, 70b)로, 그리고 회전 전달축(10)과 배럴드럼(30)의 자체 축(33)은 베벨기어(10a, 33a)로 결합할 수 있다.
1, the barrel plating apparatus may further include a
배럴 도금장치의 음극구조(40)는 다수의 배럴드럼(30) 내의 피도금물(1)을 통전시킨다. 이때, 도 1을 참조하면, 예컨대, 음극구조(40)의 피도금물 통전라인(43)이 피도금물(1)에 접촉되게 된다. 예컨대, 도 1 및 2에서, 음극구조(40)는 음극판(41), 피도금물 통전라인(43), 및 음극판(41)과 피도금물 통전라인(43)을 통전시키는 하부 연장부(45)를 포함하고 있다. The cathode structure (40) of the barrel plating apparatus energizes the objects to be plated (1) in the plurality of barrel drums (30). 1, for example, the
또한, 하나의 예에서, 음극구조(40)는 슬립링(도시되지 않음) 또는 회전형 통전장치(도시되지 않음)를 이용하여 다수의 배럴드럼(30) 내의 피도금물(1)에 전하를 공급할 수 있다. 이때, 슬립링 또는 회전형 통전장치를 이용하여 배럴드럼(30) 별로 다른 세기의 전류를 통전시킬 수 있다. 이때, 하나의 도금조(90) 내에서 다수의 배럴드럼(30)에 2대 이상의 정류기 개별 전류인가가 가능하여 다품종 대량 생산에 유리할 수 있다.In addition, in one example, the cathode structure 40 is configured to apply electric charges to the
또한, 도 1을 참조하면, 하나의 예에서, 음극구조(40)는 다수의 배럴드럼(30)의 상측에 회전 전달축(10)을 둘러싸는 음극판(41)을 구비하여 다수의 배럴드럼(30) 내의 피도금물(1)에 전하를 공급할 수 있다. 이때, 음극판(41)은 고정형으로 설치될 수 있고, 고정형으로 설치되는 경우 음극판(41)의 하부연장부위(45)와 배럴드럼(30)의 자체 축(33)의 접촉부위, 그리고 피도금물 통전라인(43)을 통해 전류를 배럴드럼(30) 내의 피도금물(1)에 통전시킬 수 있다. 하나의 예에서, 음극판(41)의 하부 연장부위(45)와 배럴드럼(30)의 자체 축(33)의 접촉부위가 슬립링(도시되지 않음) 또는 회전형 통전장치(도시되지 않음)로 연결될 수도 있다. 또한, 음극판(41)은 회전 전달축(10)에 고정되되 회전 전달축(10)의 회전에 따라 회전하도록 구성될 수도 있다. 이 경우, 음극판(41)의 상부와 배럴 도금장치의 프레임과의 회전 접촉 부위가 슬립링(도시되지 않음) 또는 회전형 통전장치(도시되지 않음)로 구성될 수 있다. 또한, 예컨대, 도 1을 참조하면, 음극판(41)의 상부에 카본 브러쉬(41a)가 구비되고 카본 브러쉬(41a)가 배럴 도금장치의 프레임과 접촉하며 통전이 되도록 할 수 있다.
1, the negative electrode structure 40 includes a
다음으로, 도 2를 참조하면, 배럴 도금장치의 양극구조(50)는 다수의 배럴드럼(30)의 공전 운동 궤도 주위에 일정 반경으로 형성되어 있다. 참고로, 도 1에서 양극구조(50)가 도시되지 않았으나, 다수의 배럴드럼(30)의 공전 운동 궤도 주위에 양극구조(50)가 일정 반경으로 형성될 수 있다.Next, referring to FIG. 2, the
또 하나의 예에 따르면, 양극구조(50)는 공전 운동 궤도 주위에 일정 반경으로 형성된 환형의 애노드 바스켓(53) 내에 양극판(51)이 설치될 수 있다. 이때, 환형의 애노드 바스켓(53)은 하나로 이루어진 환형상 뿐만 아니라 2개 또는 다수의 조각들이 전체적으로 환형을 이루는 것일 수 있다. 예컨대, 이때, 각 애노드 바스켓(53)의 조각에는 양극판(51)이 하나 또는 다수가 설치되어 양극판(51)이 전체적으로 일정 간격을 유지하도록 설치될 수 있다.
According to another example, the
또한, 도시되지 않았으나, 하나의 예에 따르면, 도금조(90)의 하부에는 도금용액(3) 순환펌프가 구비될 수 있다. 도금용액(3) 순환펌프(도시되지 않음)에 의해 도금액의 순환을 원활하게 할 수 있다.
Also, although not shown, according to one example, a circulating pump for the
다음으로, 본 발명의 제3 실시예에 따른 배럴 도금 방법을 구체적으로 살펴본다. 이때, 전술한 제1 실시예에 따른 배럴 장치들, 전술한 제2 실시예에 따른 배럴 도금장치들 및 도 1 및 2가 참조될 수 있고, 그에 따라 중복되는 설명들은 생략될 수 있다.
Next, a barrel plating method according to a third embodiment of the present invention will be described in detail. At this time, it is possible to refer to the above-described barrel apparatuses according to the first embodiment, the barrel plating apparatuses according to the above-described second embodiment, and FIGS. 1 and 2, and thus redundant explanations can be omitted.
본 발명의 제3 실시예에 따르면, 하나의 예에 따른 배럴 도금 방법은 도금액면과 경사지게 설치된 다수의 배럴드럼(30) 내에 피도금물(1)이 도금용액(3)에 잠기도록 장착하고 다수의 배럴드럼(30)에 대하여 회전 전달축(10)의 회전에 의한 동일 궤도에 따른 공전 운동과 동시에 회전 전달축(10)의 회전에 따른 회전 전달축(10)에 결합된 각각의 자체 축에 의한 각각의 자체 축(33)에 따른 자전 운동을 진행시켜 피도금물(1)에 대한 도금을 수행한다.
According to the third embodiment of the present invention, the barrel plating method according to one example is characterized in that the object to be plated 1 is mounted so as to be immersed in the
이때, 하나의 예에서, 공전 운동과 자전 운동에 따라 배럴드럼(30) 내부의 도금용액(3)에 와류를 형성시켜 도금을 수행할 수 있다.
At this time, in one example, a plating flow can be performed by forming a vortex in the
또한 하나의 예에 따르면, 이때, 공전 운동과 자전 운동의 회전 비율은 1:1 일 수 있다.
Also, according to one example, at this time, the rotation ratio of the revolution motion and the rotation motion may be 1: 1.
또한, 하나의 예에서, 피도금물(1)을 통전시키는 음극 구조(40)와 다수의 배럴드럼(30)의 궤도 주위에 일정 반경으로 형성된 양극 구조(50) 하에서 도금을 수행할 수 있다. 이때, 음극구조(40) 및/또는 양극구조(50)의 구체적인 설명은 앞서 언급된 설명들을 참조하기로 한다.
Further, in one example, the plating can be performed under the cathode structure 40 that energizes the
이때, 하나의 예에서, 음극 구조(40)는 다수의 배럴드럼(30) 내의 피도금물(1)과 접촉되어 통전하되, 슬립링을 이용하여 다른 세기의 전류의 통전이 이루어지며 도금이 수행될 수 있다.
At this time, in one example, the cathode structure 40 is energized by being in contact with the
이상에서, 전술한 실시예 및 첨부된 도면들은 본 발명의 범주를 제한하는 것이 아니라 본 발명에 대한 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자의 이해를 돕기 위해 예시적으로 설명된 것이다. 또한, 전술한 구성들의 다양한 조합에 따른 실시예들이 앞선 구체적인 설명들로부터 당업자에게 자명하게 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 다양한 실시예는 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 범위는 특허청구범위에 기재된 발명에 따라 해석되어야 하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의한 다양한 변경, 대안, 균등물들을 포함하고 있다.
The foregoing embodiments and accompanying drawings are not intended to limit the scope of the present invention but to illustrate the present invention in order to facilitate understanding of the present invention by those skilled in the art. Embodiments in accordance with various combinations of the above-described configurations can also be implemented by those skilled in the art from the foregoing detailed description. Accordingly, various embodiments of the invention may be embodied in various forms without departing from the essential characteristics thereof, and the scope of the invention should be construed in accordance with the invention as set forth in the appended claims. Alternatives, and equivalents by those skilled in the art.
1 : 피도금물 3 : 도금용액
10 : 회전 전달축 10a, 10b, 33a, 70b : 베벨기어
30 : 배럴드럼 31 : 배럴드럼 몸체
33 : 자체 축 40 : 음극구조
41 : 음극판 43 : 피도금물 통전라인
45 : 하부 연장부 50 : 양극구조
51 : 양극판 53 : 애노드 바스켓
70 : 동력 전달축 90 : 도금조1: Plasma 3: Plating solution
10:
30: Barrel drum 31: Barrel drum body
33: own axis 40: negative electrode structure
41: Negative electrode plate 43: Conducting line to be plated
45: lower extension part 50: anode structure
51: positive electrode plate 53: anode basket
70: Power transmission shaft 90: Plating tank
Claims (17)
동력을 전달받아 도금액면과 수평 방향으로 회전하는 회전 전달축; 및
상기 도금액면에 경사지도록 상기 회전 전달축에 경사지게 설치되어 상기 회전 전달축의 회전에 따라 공전 운동하고 동시에 상기 회전 전달축의 회전에 따라 상기 회전 전달축에 결합된 자체 축의 회전에 따른 자전 운동을 수행하되, 내부에 구비된 피도금물이 도금조 내의 도금용액에 잠기도록 형성된 다수의 배럴드럼; 을 포함하여 이루어지는 배럴 장치.
A barrel apparatus for use in a barrel plating apparatus,
A rotation transmission shaft that receives power and rotates in a horizontal direction with the plating liquid surface; And
And a tilting means for tilting the plating liquid surface so as to be inclined with respect to the rotation transmitting shaft so as to perform a revolving motion in accordance with the rotation of the rotation transmitting shaft and at the same time rotating according to the rotation of its own shaft coupled to the rotation transmitting shaft, A plurality of barrel drums provided inside the plating solution so as to be immersed in the plating solution in the plating bath; And a barrel.
상기 배럴드럼은 내부의 피도금물을 포함하여 몸체의 일부가 상기 도금용액에 잠기도록 형성된,
배럴 장치.
The method according to claim 1,
The barrel drum includes an object to be plated, and a part of the body is immersed in the plating solution.
Barrel device.
상기 공전 운동과 자전 운동에 따라 상기 배럴드럼 내부의 도금용액에 와류가 형성되는,
배럴 장치.
The method according to claim 1,
Wherein a vortex is formed in the plating solution inside the barrel drum according to the idle motion and the rotating motion,
Barrel device.
상기 배럴드럼은 상기 도금액면에 30~60° 경사지게 설치된,
배럴 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the barrel drum is installed at an inclination of 30 to 60 degrees on the plating liquid surface,
Barrel device.
상기 공전 운동과 자전 운동의 회전 비율은 1:1인,
배럴 장치.
The method according to claim 1,
The rotation ratio of the revolution motion and the rotation motion is 1: 1,
Barrel device.
상기 배럴드럼의 상부는 개방되고 둘레는 메쉬구조를 갖는,
배럴 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the upper portion of the barrel drum is open and the periphery thereof has a mesh structure,
Barrel device.
회전 전달축 및 다수의 배럴드럼을 포함하는 청구항 1 내지 5 중의 어느 하나에 따른 배럴 장치;
상기 다수의 배럴드럼 내의 피도금물을 통전시키는 음극구조; 및
상기 다수의 배럴드럼의 상기 공전 운동 궤도 주위에 일정 반경으로 형성된 양극구조; 를 포함하는 배럴 도금장치.
In the barrel plating apparatus,
A barrel apparatus according to any one of claims 1 to 5, comprising a rotation transmission shaft and a plurality of barrel drums.
A negative electrode structure for energizing the objects to be plated in the plurality of barrel drums; And
An anode structure formed with a certain radius around the orbital motion track of the plurality of barrel drums; Wherein the barrel plating apparatus comprises:
상기 회전 전달축으로 동력을 전달하는 동력 전달축을 더 포함하되,
상기 동력 전달축과 상기 회전 전달축, 그리고 상기 회전 전달축과 상기 배럴드럼의 자체 축은 각각 베벨기어로 결합하는,
배럴 도금장치.
The method of claim 7,
And a power transmitting shaft for transmitting power to the rotation transmitting shaft,
Wherein the power transmission shaft and the rotation transmission shaft, and the rotation transmission shaft and the own shaft of the barrel drum are coupled with bevel gears, respectively,
Barrel plating device.
상기 양극구조는 상기 공전 운동 궤도 주위에 일정 반경으로 형성된 환형의 애노드 바스켓 내에 양극판이 설치된,
배럴 도금장치.
The method of claim 7,
Wherein the anode structure includes a cathode plate disposed in an annular anode basket having a predetermined radius around the orbiting motion track,
Barrel plating device.
상기 음극구조는 슬립링을 이용하여 상기 다수의 배럴드럼 내의 피도금물에 전하를 공급하되, 상기 배럴드럼 별로 다른 세기의 전류를 통전시킬 수 있는,
배럴 도금장치.
The method of claim 7,
The negative electrode structure is characterized in that a slip ring is used to supply electric charges to objects to be plated in the plurality of barrel drums,
Barrel plating device.
상기 음극구조는 상기 다수의 배럴드럼의 상측에 상기 회전 전달축을 둘러싸는 음극판을 구비하여 상기 다수의 배럴드럼 내의 피도금물에 전하를 공급하는,
배럴 도금장치.
The method of claim 7,
Wherein the negative electrode structure includes a negative electrode plate surrounding the rotation transmitting shaft on the upper side of the plurality of barrel drums to supply electric charges to the object to be plated in the plurality of barrel drums,
Barrel plating device.
상기 도금조의 하부에는 도금용액 순환펌프가 구비된,
배럴 도금장치.
The method of claim 7,
And a plating solution circulation pump is provided at a lower portion of the plating tank,
Barrel plating device.
도금액면과 경사지게 설치된 다수의 배럴드럼 내에 피도금물이 도금용액에 잠기도록 장착하고 상기 다수의 배럴드럼에 대하여 회전 전달축의 회전에 의한 동일 궤도에 따른 공전 운동과 동시에 상기 회전 전달축의 회전에 따른 상기 회전 전달축에 결합된 각각의 자체 축에 의한 자전 운동을 진행시켜 상기 피도금물에 대한 도금을 수행하는 배럴 도금 방법.
In the barrel plating method,
A plurality of barrel drums mounted in a plurality of inclined barrel drums so as to be immersed in the plating solution, and performing a revolving motion corresponding to the same orbit by rotation of the rotation transmitting shaft with respect to the plurality of barrel drums, Wherein the plating is performed on the object to be plated by advancing the rotating motion of each self axis coupled to the rotation transmitting axis.
상기 공전 운동과 자전 운동에 따라 상기 배럴드럼 내부의 도금용액에 와류를 형성시켜 도금을 수행하는,
배럴 도금 방법.
14. The method of claim 13,
And performing a plating operation by forming a vortex in the plating solution in the barrel drum according to the idle motion and the rotating motion,
Barrel plating method.
상기 공전 운동과 자전 운동의 회전 비율은 1:1인,
배럴 도금 방법.
14. The method of claim 13,
The rotation ratio of the revolution motion and the rotation motion is 1: 1,
Barrel plating method.
상기 피도금물을 통전시키는 음극 구조와 상기 다수의 배럴드럼의 상기 궤도 주위에 일정 반경으로 형성된 양극 구조 하에서 도금을 수행하는,
배럴 도금 방법.
The method according to any one of claims 13 to 15,
A cathode structure for energizing the object to be plated and a cathode structure formed with a certain radius around the orbits of the plurality of barrel drums,
Barrel plating method.
상기 음극 구조는 상기 다수의 배럴드럼 내의 피도금물과 접촉되어 통전하되, 슬립링을 이용하여 다른 세기의 전류의 통전이 이루어지며 도금이 수행되는,
배럴 도금 방법.18. The method of claim 16,
Wherein the negative electrode structure is electrically connected to the objects to be plated in the plurality of barrel drums so that electric current of different intensity is applied using the slip rings,
Barrel plating method.
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