KR101391307B1 - Method of preparing interface panel for display - Google Patents
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Abstract
본 발명의 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법은 용융된 수지를 시트 형상으로 성형하여 제1시트를 제조하는 단계; 상기 제1시트의 최소한 일면을 양각 또는 음각 패턴이 형성된 롤과 접촉시켜 단면 또는 양면에 제1 방향을 따라 서로 이격되는 복수개의 제1 트렌치가 형성된 제1 투명 절연성 기재를 형성하는 단계; 및 상기 복수개의 제1 트렌치 내부에 도전성 페이스트를 충진시켜 상기 제1 투명 절연성 기재의 단면 또는 양면에 제1 전극패턴층을 형성하는 단계를 포함한다. A manufacturing method of a display interface panel according to the present invention comprises the steps of: forming a first sheet by molding molten resin into a sheet shape; Forming at least one surface of the first sheet with a roll having a relief or engraved pattern to form a first transparent insulating substrate having a plurality of first trenches spaced apart from each other along a first direction; And filling the plurality of first trenches with a conductive paste to form a first electrode pattern layer on one or both surfaces of the first transparent insulating substrate.
Description
본 발명은 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 연속공정이 가능하고 이물의 불량이 없으며, 생산성이 우수한 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing an interface panel for a display. More specifically, the present invention relates to a method of manufacturing an interface panel for a display, which is capable of continuous processes, is free of foreign matter, and is excellent in productivity.
디스플레이용 인터페이스패널에는 디스플레이 전면에 부착되어 사용자의 터치 입력을 수신하는 장치이다. 이 디스플레이용 인터페이스패널의 터치는 정압의 저항막 방식에서 정전용량방식으로 빠르게 변화되고 있다. 이 정전용량방식은 필름 타입(film type)과 글라스 타입(glass type)으로 구분된다. 종래의 필름 타입과 글라스 타입은 ITO를 기반으로 하고 있다.The display interface panel is attached to the front surface of the display and receives the user's touch input. The touch of the interface panel for display is rapidly changing from the static pressure resistance film type to the electrostatic capacity type. This electrostatic capacity type is classified into a film type and a glass type. Conventional film types and glass types are based on ITO.
최근에는 디스플레이용 인터페이스패널의 고기능화 추세에 따라, 종래의 투명 감지 전극 재료인 인듐주석산화물보다 전기전도도가 높은 도전물질에 대한 요청이 대두되고 있다. 또, 인듐주석산화물의 인듐은 희귀 원소 물질로서, 전세계적으로 수급과 관련하여 가격 변동이 심화될 것으로 예측되고 있다. 이에 따라, 상기 투명 감지 전극을 전도성이 높은 금속 세선들의 금속 메쉬 구조로 대체하려는 노력들이 새롭게 시도되고 있다.In recent years, there has been a demand for a conductive material having higher electric conductivity than indium tin oxide, which is a conventional transparent sensing electrode material, in accordance with the trend of high-functioning interface panels for displays. Indium tin oxide, indium, is a rare element, and it is predicted that prices will fluctuate in relation to supply and demand worldwide. Accordingly, attempts have been made to replace the transparent sensing electrode with a metal mesh structure of metal wires having high conductivity.
상용화된 대부분의 디스플레이용 인터페이스패널은 투명 전도막이 일면에 형성되어 있는 투명 기판을 적어도 하나 포함한다. 투명 전도막은 흔히 ITO(indium tin oxide), TAO(Tin Antimony Oxide) 등의 투명 전도성 물질로 이루어지며, 전기 배선을 통해 사용자가 접속한 디스플레이용 인터페이스패널 상의 위치를 계산하기 위하여 패널 외부에 마련된 센서 회로에 연결된다. 또한, 디스플레이용 인터페이스패널의 패턴을 구현하기 위한 방법으로 투명기판 위에 투명 전도막을 형성하고 금속을 증착한 다음 식각 처리하는 방법이 사용되고 있다. 최근의 기술 동향으로는 투명 전도막 대신에 은나노 와이어를 사용하는 방법, 탄소나노튜브를 사용하는 방법, 전도성 폴리머 등이 사용되고 있다.Most of the commercially available display interface panels include at least one transparent substrate having a transparent conductive film formed on one surface thereof. The transparent conductive film is usually made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide) or TAO (tin antimony oxide). In order to calculate the position on the display interface panel connected by the user through the electric wiring, Lt; / RTI > As a method for implementing a pattern of an interface panel for a display, a transparent conductive film is formed on a transparent substrate, a metal is deposited, and then etching is performed. Recent trends include the use of silver nanowires instead of transparent conductive films, the use of carbon nanotubes, and conductive polymers.
그러나 지금까지 이러한 개발된 미세패턴 구현 방법은 원재료인 투명 전도막이 고가이고, 구현 방법이 복잡하며, 양산 적용에의 실현성이 부족하여 조기 적용하는 데에는 한계가 있었다. 또한 이러한 기술 등은 코팅 후에 다시 식각해야 하고, 이로 인해, 제조원가의 상승 등의 문제와 공정이 복잡하고 시인성과 관련된 제조 공정조건의 문제 등이 있었다. However, until now, the developed method of implementing the fine pattern has a limitation in early application because the transparent conductive film as the raw material is expensive, the implementation method is complicated, and the realization of mass production application is insufficient. In addition, these techniques have to be re-etched after coating, which causes problems such as an increase in manufacturing cost, complicated processes, and manufacturing process conditions related to visibility.
한편, 본 발명자는 투명 절연성 기재에 전극을 형성하는 방법을 개발한 바 있으나, 연속공정 어려워 생산성이 떨어지고 이물에 불량이 생기는 문제가 있다.
On the other hand, the inventor of the present invention has developed a method of forming an electrode on a transparent insulating substrate, but has a problem that the productivity is low due to the difficulty of the continuous process and defects occur in the foreign matter.
본 발명의 하나의 목적은 기판형성의 원료에서부터 인쇄까지 연속공정이 가능하고, 이를 통해 이물의 불량이 없으며, 생산성이 우수하고 투과율 및 시인성이 향상된 디스플레이용 인터페이스패널 제조방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an interface panel for a display, which is capable of continuous processing from a raw material for forming a substrate to a printing process, thereby preventing defects of foreign objects, providing excellent productivity, and improving transmittance and visibility.
본 발명의 다른 목적은 한 장의 투명 절연성 기재에 전극을 형성함으로써, 디스플레이용 인터페이스패널의 두께를 대폭 감소시킬 수 있어, 가볍고 얇은 디스플레이용 인터페이스패널 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a lightweight and thin display interface panel, in which the thickness of a display interface panel can be greatly reduced by forming electrodes on a single transparent insulating substrate.
본 발명의 또 다른 목적은 제조 공정이 간소화되며, 제조 원가를 절감할 수 있는 디스플레이용 인터페이스패널 제조방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a method of manufacturing an interface panel for a display in which the manufacturing process is simplified and the manufacturing cost is reduced.
본 발명의 또 다른 목적은 디스플레이용 인터페이스패널의 베젤부에 형성되는 금속 배선의 선폭 및 선간 거리를 감소시킬 수 있어, 디스플레이용 인터페이스패널의 유효 표시 영역을 실질적으로 확장시킬 수 있고, 이를 통해 보다 다양한 기능을 구현할 수 있어 제품 경쟁력 제고에 기여할 수 있는 디스플레이용 인터페이스패널 제조방법을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to reduce the line width and the line distance of the metal wiring formed in the bezel portion of the display interface panel so as to substantially extend the effective display region of the display interface panel, The present invention also provides a method of manufacturing a display interface panel that can contribute to enhancement of product competitiveness.
본 발명의 또 다른 목적은 고가의 ITO를 사용하지 않음으로 인해, 제조 비용을 절감시킬 수 있을 뿐만 아니라 종래와 동등 또는 그 이상의 광학적 특성을 구현할 수 있는 디스플레이용 인터페이스패널 제조방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a method of manufacturing an interface panel for a display which can reduce manufacturing cost and realize equivalent or better optical characteristics because expensive ITO is not used.
본 발명의 또 다른 목적은 종래의 리소그래피 등의 패턴 형성 공정을 생략함에 따라, 제조 공정을 간소화시킬 수 있는 디스플레이용 인터페이스패널 제조방법을 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an interface panel for a display that can simplify the manufacturing process by omitting the conventional pattern formation process such as lithography.
본 발명의 하나의 관점은 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법에 관한 것이다. 상기 방법은 용융된 수지를 시트 형상으로 성형하여 제1시트를 제조하는 단계; 상기 제1시트의 최소한 일면을 양각 또는 음각 패턴이 형성된 롤과 접촉시켜 단면 또는 양면에 제1 방향을 따라 서로 이격되는 복수개의 제1 트렌치가 형성된 제1 투명 절연성 기재를 형성하는 단계; 및 상기 복수개의 제1 트렌치 내부에 도전성 페이스트를 충진시켜 상기 제1 투명 절연성 기재의 단면 또는 양면에 제1 전극패턴층을 형성하는 단계를 포함한다. One aspect of the present invention relates to a method of manufacturing an interface panel for a display. The method includes the steps of forming a first sheet by molding molten resin into a sheet shape; Forming at least one surface of the first sheet with a roll having a relief or engraved pattern to form a first transparent insulating substrate having a plurality of first trenches spaced apart from each other along a first direction; And filling the plurality of first trenches with a conductive paste to form a first electrode pattern layer on one or both surfaces of the first transparent insulating substrate.
구체예에서는 상기 제1시트의 최소한 일면에 제2 투명 절연성 수지를 도포하여 제2 시트를 형성하는 단계; 상기 제2 시트가 형성된 면의 최소한 일면에 양각 또는 음각 패턴이 형성된 롤과 접촉시켜 제2 방향을 따라 서로 이격되는 복수개의 제2 트렌치가 형성된 제2 투명 절연성 기재를 형성하는 단계; 및 상기 복수개의 제2 트렌치 내부에 도전성 페이스트를 충진시켜 상기 제2 투명 절연성 기재에 제2 전극패턴층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. In a specific example, a second sheet is formed by applying a second transparent insulating resin on at least one surface of the first sheet. Forming a second transparent insulating base material having a plurality of second trenches spaced apart from each other along a second direction by contacting a roll formed on at least one surface of the surface on which the second sheet is formed with an embossed or engraved pattern; And filling a conductive paste into the plurality of second trenches to form a second electrode pattern layer on the second transparent insulating substrate.
구체예에서는 상기 제1시트를 제1패턴이 형성된 제1롤과 제2패턴이 형성된 제2롤 사이를 롤투롤 공정으로 접촉시켜 제1시트 양면에 패턴이 형성되도록 할 수 있다. In a specific example, the first sheet may be formed by a roll-to-roll process between a first roll formed with the first pattern and a second roll formed with the second pattern to form a pattern on both sides of the first sheet.
상기 제1 및 제2 전극패턴층은 시트면과 수직면에서 관찰시 복수의 스트라이프 패턴일 수 있다. The first and second electrode pattern layers may be a plurality of stripe patterns when observing the sheet surface and the vertical surface.
상기 스트라이프 패턴의 단면은 삼각형, 사각형, 반원 및 사다리꼴 중 어느 하나의 형상으로 형성될 수 있다. The cross section of the stripe pattern may be formed in any shape of triangle, quadrangle, semicircle and trapezoid.
상기 스트라이프 패턴의 폭은 10㎛ 이하로 형성될 수 있다. The width of the stripe pattern may be less than 10 탆.
상기 스트라이프 패턴은 동일면상에 이웃하는 다른 스트라이프 패턴과 10 내지 1500 ㎛의 거리(d)를 가질 수 있다. The stripe pattern may have a distance d between 10 and 1500 mu m and another stripe pattern neighboring on the same plane.
상기 제1 전극패턴층의 스트라이프 패턴 중 어느 하나와 상기 제2 전극패턴층의 스트라이프 패턴 중 어느 하나는 전기적으로 접속될 수 있다. Either one of the stripe patterns of the first electrode pattern layer and the stripe pattern of the second electrode pattern layer may be electrically connected.
상기 제1 및 제2 전극패턴층은 도전성 입자 및 상기 도전성 입자를 고정하는 바인더를 포함할 수 있다. The first and second electrode pattern layers may include conductive particles and a binder for fixing the conductive particles.
상기 도전성 입자는 전도성 금속, 상기 금속의 합금, 전도성 고분자, 탄소입자 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. The conductive particles may include a conductive metal, an alloy of the metal, a conductive polymer, carbon particles, or a combination thereof.
상기 도전성 입자는 평균입자크기(D50)가 1 nm 내지 20 ㎛ 일 수 있다.
The conductive particles may have an average particle size (D50) of 1 nm to 20 m.
본 발명은 연속공정이 가능하고 이물의 불량이 없으며, 생산성이 우수하고 디스플레이용 인터페이스패널의 두께를 대폭 감소시킬 수 있어, 가볍고 얇은 디스플레이용 인터페이스패널을 제조할 수 있고, 디스플레이용 인터페이스패널의 베젤부에 형성되는 금속 배선의 선폭 및 선간 거리를 감소시킬 수 있어, 디스플레이용 인터페이스패널의 유효 표시 영역을 실질적으로 확장시킬 수 있고, 이를 통해 보다 다양한 기능을 구현할 수 있으며, 이는 제품 경쟁력 제고에 기여하게 된다. 그리고 본 발명에 따르면, 고가의 ITO를 사용하지 않음으로 인해, 제조 비용을 절감시킬 수 있을 뿐만 아니라 종래와 동등 또는 그 이상의 광학적 특성을 구현할 수 있으며, 종래의 리소그래피 등의 패턴 형성 공정을 생략함에 따라, 제조 공정을 간소화시킬 수 있다.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can produce a light and thin display interface panel, which can be continuously processed, free from foreign matter, excellent in productivity, and greatly reducing the thickness of a display interface panel, It is possible to substantially extend the effective display area of the display interface panel and to implement more various functions thereby contributing to enhancement of product competitiveness . According to the present invention, since the expensive ITO is not used, the manufacturing cost can be reduced, and the optical characteristics equivalent to or higher than that of the prior art can be realized. By omitting the conventional pattern formation process such as lithography , The manufacturing process can be simplified.
도 1은 본 발명의 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법을 나타낸 공정 순서도이다.
도 2 내지 도 5은 본 발명의 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법을 공정 순으로 나타낸 공정도이다.
도 6은 본 발명의 한 구체에에 따른 디스플레이용 인터페이스패널을 나타낸 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 구체에에 따른 디스플레이용 인터페이스패널을 나타낸 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flow chart showing a manufacturing method of a display interface panel according to the present invention.
Figs. 2 to 5 are process diagrams showing a manufacturing method of a display interface panel according to the present invention in the order of processes. Fig.
6 is a cross-sectional view of a display interface panel according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of a display interface panel according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 출원의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 또한, 설명의 편의를 위하여 구성요소의 일부만을 도시하기도 하였으나, 당업자라면 구성요소의 나머지 부분에 대하여도 용이하게 파악할 수 있을 것이다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위 또는 아래에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위 또는 아래에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. 또한, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 출원의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원의 사상을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 그리고, 복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다. Embodiments of the present application will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the techniques disclosed in this application are not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. It should be understood, however, that the embodiments disclosed herein are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the width, thickness, and the like of the components are enlarged in order to clearly illustrate the components of each device. In addition, although only a part of the components is shown for convenience of explanation, those skilled in the art can easily grasp the rest of the components. It is to be understood that when an element is described above as being located above or below another element, it is to be understood that the element may be directly on or under another element, It means that it can be done. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. In the drawings, the same reference numerals denote substantially the same elements.
한편, 본 출원에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다. "제1" 또는 "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수도 있다.Meanwhile, the meaning of the terms described in the present application should be understood as follows. The terms "first" or "second" and the like are intended to distinguish one element from another and should not be limited by these terms. For example, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.
또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 기술되는 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Also, the singular " include " should be understood to include plural representations, unless the context clearly dictates otherwise, and the terms & Parts or combinations thereof, and does not preclude the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
또한, 방법 또는 제조 방법을 수행함에 있어서, 상기 방법을 이루는 각 과정들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 과정들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.Further, in carrying out the method or the manufacturing method, the respective steps of the method may take place differently from the stated order unless clearly specified in the context. That is, each process may occur in the same order as described, may be performed substantially concurrently, or may be performed in the opposite order.
본 발명에서 시인성이 우수하다는 의미는 커버 윈도우에서 봤을 때 금속세선과 같은 전극 패턴이 반사에 의해 보이지 않는 것을 의미한다.
In the present invention, excellent visibility means that an electrode pattern such as a metal thin wire is not seen by reflection when viewed from a cover window.
이하, 본 발명의 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing the display interface panel of the present invention will be described.
도 1을 참조하면, 본 발명의 디스플레이용 인터페이스패널 제조방법은, 용융된 수지를 시트형상으로 제조하는 단계(S1), 패턴롤에 의한 제1 트렌치 형성단계(S2), 제1 전극패턴층 형성단계(S3), 제2 시트 형성단계(S4), 패턴롤에 의한 제2 트렌치 형성단계(S5) 및 제2 전극패턴층 형성단계(S6)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the method for manufacturing an interface panel for a display according to the present invention includes the steps of: (S1) forming a molten resin in a sheet form; forming a first trench by a pattern roll (S2) Step S3, second sheet formation step S4, second trench formation step S5 by pattern roll, and second electrode pattern layer formation step S6.
용융된 수지를 시트형상으로 제조하는 단계(S1)는, 제1 시트를 이루는 수지 성분을 용융시켜 성형에 의해 시트 형상으로 제조하고, 상기 필름은 패턴이 형성된 롤을 이용한 롤투롤 공정에 투입된다. The step (S1) of producing a molten resin in a sheet form is performed by melting a resin component constituting the first sheet and forming it into a sheet by molding, and the film is put into a roll-to-roll process using a roll on which a pattern is formed.
상기 수지 성분으로는 올레핀계 수지, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지 등의 수지를 포함할 수 있다. The resin component may include a resin such as an olefin resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a silicone resin, and a polyester resin.
구체예에서는 수지 성분을 파쇄하여 평균 직경 0.01~50 mm의 펠렛형태로 제조한 다음, 상기 펠렛형태의 수지 성분을 압출기 등을 비롯한 성형기기에 투입하여 시트 형상의 제1 시트를 제조할 수 있다. 이와 같이 제조된 제1 시트는 바로 롤투롤 공정에 연속적으로 투입하여 시트의 일면 혹은 양면에 패턴을 형성시킬 수 있어, 원료의 투입에서부터 패턴형성, 인쇄 및 오버코팅공정까지 전 공정이 연속공정이 가능한 것을 특징으로 한다. In a specific example, the resin component is crushed to prepare pellets having an average diameter of 0.01 to 50 mm, and then the pellet-shaped resin component is poured into a molding machine including an extruder to produce a first sheet in a sheet form. The first sheet thus produced can be continuously injected into the roll-to-roll process to form a pattern on one side or both sides of the sheet. Thus, the entire process from the input of the raw material to the pattern formation, printing and overcoating process can be performed continuously .
도 2를 참조하면, 제1 트렌치 형성단계(S2)는 제1 시트의 최소한 일면을 양각 또는 음각 패턴이 형성된 패턴롤과 접촉시켜 제1 방향을 따라 서로 이격되는 복수개의 제1 트렌치가 형성된 제1 투명 절연성 기재를 형성하는 것이다. 상기 패턴롤을 접촉시키는 방법은 바람직하게는 롤투롤 공정이다. 이와 같이 롤투롤 공정을 진행하여 연속공정이 가능하게 되는 것이다. Referring to FIG. 2, the first trench forming step S2 includes forming a first trench by contacting at least one surface of the first sheet with a pattern roll having an embossed or engraved pattern formed thereon, thereby forming a first trench, Thereby forming a transparent insulating substrate. The method of contacting the pattern roll is preferably a roll-to-roll process. As described above, the roll-to-roll process is performed to enable the continuous process.
다시 도 2를 참조하면, 롤(401, 402) 사이로 제1시트를 접촉시켜 롤에 형성된 패턴이 전사되어 제1 시트에 복수의 트렌치를 형성하는 것이다. 도면에는 롤 (401)에만 패턴이 형성되는 것으로 도시하였으나, 롤 (402)에도 패턴이 형성될 수 있다. 이와 같이 양 쪽 롤 모두에 패턴이 형성된 경우 시트 양면에 트렌치(113)를 동시에 형성할 수 있는 것이다. Referring again to FIG. 2, a first sheet is contacted between
롤투롤 공정에 의해 패턴이 전사되어 제1 트렌치(113)가 형성된 제1 투명 절연성 기재(111)는 도 3에 도시하였다. 상기 제1 트렌치(113)는 제1 전극패턴층(120)의 형상을 제어하는 역할을 하게 된다. The first transparent insulating
이와 같이 트렌치(113)가 형성된 제1 투명 절연성 기재(111)는 도 4에 도시된 바와 같이 상기 제1 트렌치(113)에 제1 전극패턴층(120)을 이루는 도전성 페이스트가 충진된다. As shown in FIG. 4, the first transparent insulating
전극 패턴층 형성단계(S3)에서는, 먼저, 도전성 입자와 바인더를 포함하는 도전성 페이스트를 도전성 물질로 준비한다. 여기서, 도전성 입자로는 니켈, 팔라듐, 은, 구리, 금, 주석, 백금, 알루미늄, 산화인듐, 탄소나노튜브, 그래핀, 전도성 고분자 및 코발트로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상을 사용할 수 있고, 바인더로는 제1 투명 절연성 기재 (111)과의 굴절률 차이를 고려하여 물질을 선택하여 사용하는 것이 바람직하다. 그 다음, 도시한 바와 같이, 복수개의 제1 트렌치(113) 내부에 준비한 도전성 물질을 채워 넣는다. 일 예로, 닥터 블레이드를 이용하여 제1 트렌치(113)가 형성된 제1 투명 절연성 기재 (111)의 일면에 도전성 물질을 도포한 후 제1 트렌치(113) 이외의 제1 투명 절연성 기재 (111)의 일면에 도포된 도전성 물질을 긁어 내거나 별도의 수단으로 제거하면, 제1 트렌치(113) 내부에만 도전성 물질을 채워 넣을 수 있다. 이와 같은 방법을 통해서는 제1 트렌치(113) 내부에 채워진 도전성 물질의 표면을 동시에 평탄화시킬 수 있다는 장점이 있다. 그리고 다른 예로, 노즐과 같은 주입 수단을 사용하여 처음부터 제1 트렌치(113)의 내부에만 도전성 물질을 채워 넣을 수도 있다. 그 다음, UV조사, 포함한 핫 플레이트나 오븐 등의 가열장치로 열을 가해 도전성 물질을 경화시키면, 제1 투명 절연성 기재 (111)의 일면에 스트라이프 패턴의 제1 전극패턴층(120)이 형성된다.
In the electrode pattern layer forming step (S3), first, a conductive paste containing conductive particles and a binder is prepared as a conductive material. Here, as the conductive particles, any one or two or more selected from the group consisting of nickel, palladium, silver, copper, gold, tin, platinum, aluminum, indium oxide, carbon nanotubes, graphene, conductive polymer and cobalt And the binder is preferably selected in consideration of a difference in refractive index with respect to the first transparent insulating
다음으로, 도 5를 참조하면, 제2 시트 형성단계(S4) 및 제2 트렌치 형성단계(S5)는 제1 투명 절연성 기재 (111)의 어느 한 표면에 제2 투명 절연성 기재 (112)를 적층하고, 제2 투명 절연성 기재(112)에 제2 방향을 따라 서로 이격되는 복수개의 제2 트렌치를 형성하는 단계이다. 여기서, 제2 시트 형성단계(S4) 및 제2 트렌치 형성단계(S5)의 구분은 설명의 편의를 위한 것으로, 그 방법은 제1 트렌치 형성단계(S3)와 동일하다. 먼저, 제2 시트 형성단계(S4)에서는 도시한 바와 같이, 제1 전극패턴층(120)이 형성된 제1 투명 절연성 기재 (111)의 표면에 제2 투명 절연성 기재 (112)이 형성되도록 수지물을 코팅하거나 제2시트를 합지할 수 있다. 합지하는 경우 롤투롤 공정에 의해 합지할 수 있다. 이와 같이 제2시트가 표면에 형성시킨 다음, 상기 제2 시트가 형성된 면에 양각 또는 음각 패턴이 형성된 롤과 접촉시켜 제2 방향을 따라 서로 이격되는 복수개의 제2 트렌치가 형성된 제2 투명 절연성 기재를 형성할 수 있는 것이다. 이 경우 패턴롤이 형성된 롤 사이로 다시 통과시켜 제2 트렌치를 형성할 수 있다. Next, referring to FIG. 5, the second sheet forming step S4 and the second trench forming step S5 are performed by stacking the second transparent insulating
이후 과정은 도시하지 않았으나, 앞서 제1트렌치 형성과 마찬가지로 복수개의 제2 트렌치 내부에 도전성 물질을 충진시켜 제2 투명 절연성 기재 (112)에 제2 전극패턴층(130)을 형성하는 단계이다. 이 단계(S6)는 제1 전극패턴층 형성단계(S3)와 동일한 공정으로 진행된다. 즉, 이 단계(S6)에서는 먼저, 도전성 입자와 바인더를 포함하는 도전성 페이스트를 도전성 물질로 준비한다. 여기서, 도전성 입자로는 니켈, 팔라듐, 은, 구리, 금, 주석, 백금, 알루미늄, 산화인듐, 탄소나노튜브, 그래핀, 전도성 고분자 및 코발트로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상을 사용할 수 있고, 바인더로는 제1 투명층(112)과의 굴절률 차이가 대략 1.72 이내인 물질을 선택하여 사용하는 것이 바람직하다. 그 다음, 도시한 바와 같이, 복수개의 제2 트렌치 내부에 준비한 도전성 물질을 채워 넣는다. 그 다음, 핫 플레이트나 오븐 등의 가열장치로 열을 가해 도전성 물질을 경화시키면, 제2 투명 절연성 기재 (112)의 일면에 제1 전극패턴층(120)의 스트라이프 패턴과 직교하거나 교차하는 스트라이프 패턴의 제2 전극패턴층(130)이 형성된다.Although not shown in the figure, the second
이와 같이, 제2 투명 절연성 기재 (112)에 제2 전극패턴층(130)을 형성하면, 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이용 인터페이스패널(100)의 제조가 완료된다.When the second
도 6은 본 발명의 하나의 구체예에 따른 디스플레이용 인터페이스패널(100)의 단면도이다. 도 7은 본 발명의 다른 구체에에 따른 디스플레이용 인터페이스패널을 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a
상기 디스플레이용 인터페이스패널(100)은 투명 절연성 기재(110), 제1 전극패턴층(120) 및 제2 전극패턴층(130)을 포함한다.The
상기 제1 투명 절연성 기재(111) 및 제2 투명 절연성 기재(112)는 경화성 수지를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 투명 절연성 기재(111)및 제2 투명 절연성 기재(112)는 자외선 경화성 수지 또는 열 경화성 수지를 포함할 수 있다. 구체적으로, 제1 및 제2 투명 절연성 기재는 올레핀계 수지, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지 등의 수지를 포함할 수 있다. The first transparent insulating
또한, 상기 제2 투명 절연성 기재(112)의 타면에는 제3 투명 절연성 기재(도시되지 않음)가 적층 혹은 접합될 수 있다. 상기 제3 투명 절연성 기재는 전극패턴이 형성되거나 전극패턴이 형성되지 않을 수 있다. 전극패턴이 형성되지 않은 상기 제3 투명 절연성 기재는 오버 코트층(over coat layer)으로서의 역할을 할 수 있다.A third transparent insulating substrate (not shown) may be laminated or bonded to the other surface of the second transparent insulating
상기 제1 전극패턴층(120)은 제1방향을 따라 스트라이프 형태로 배열 될 수 있다. 이때, 제1 전극패턴층(120)은 제1 투명 절연성 기재(120)의 제2면(120b)에 음각 또는 양각 형태로 형성될 수 있다. The first
상기 제2 전극패턴층(130)은 상기 제1방향과는 다른 제2방향을 따라 스트라이프 형태로 배열될 수 있다. 상기 제2 전극패턴층(130)은 제1 전극패턴층(120)과 함께 외부로부터의 접촉에 대한 전기적 신호를 발생시키는 역할을 한다. 이때, 제1 전극패턴층(120)과 제2 전극패턴층(130) 중 어느 하나는 X축 입력 좌표를, 다른 하나는 Y축 입력 좌표를 감지하게 된다. The second
구체예에서는, 제2 전극패턴층(130)과 제1 전극패턴층(120)은 평면 상에서 서로 직교하게 형성될 수 있다. 하지만, 제1 전극패턴층(120)과 제2 전극패턴층(130)은 설계 목적에 따라 다양한 각도를 이루도록 형성될 수 있는 바, 본 발명의 실시 예에서 제1 전극패턴층(120)과 제2 전극패턴층(130)의 배치 형태를 특별히 한정하는 것은 아니다. 이와 같이 배치되는 제1 전극패턴층(120)과 제2 전극패턴층(130)은 투명 절연성 기재(111, 112)에 의해 서로 절연된 상태로 배치된다.In an embodiment, the second
상기 제2 전극패턴층(130)은 상기 제1 전극패턴층(120)과 마찬가지로, 음각 또는 양각 형태로 형성될 수 있다. Like the first
또한, 제1 전극패턴층(120)과 제2 전극패턴층(130)이 투명 절연성 기재(111, 112)에 의해 절연되는 가운데, 제1 전극패턴층(120)의 스트라이프 패턴 중 어느 하나, 예컨대, 최외각 패턴과 제2 전극패턴층(130)의 최외각 패턴은 서로 전기적으로 접속될 수 있다. 이와 같이, 전기적으로 접속되는 패턴들은 본 발명의 실시 예에 따른 디스플레이용 인터페이스패널(100)이 터치 패널로 사용될 경우 베젤부에 의해 가려지는 부분의 패턴이 되고, 이러한 패턴은 디스플레이용 인터페이스패널(100)의 금속 배선으로 사용되어 FPCB와 같은 회로부에 접속되어 외부로부터의 접촉에 의해 발생된 전기적 신호를 회로부로 전송시키는 역할을 하게 된다.While the first
상기 제1 및 제2 전극패턴층은 시트면과 수직면에서 관찰시 복수의 스트라이프 패턴일 수 있다. 이러한 스트라이프 패턴의 단면은 삼각형, 사각형, 반원 및 사다리꼴 중 어느 하나의 형상으로 형성될 수 있다. 이중 시인성 면에서 삼각형이 바람직하다. 상기 스트라이프 패턴의 폭은 10㎛ 이하로 형성될 수 있다. The first and second electrode pattern layers may be a plurality of stripe patterns when observing the sheet surface and the vertical surface. The cross section of such a stripe pattern may be formed in any one of triangular, rectangular, semicircular, and trapezoidal shapes. Triangles are preferred in terms of double visibility. The width of the stripe pattern may be less than 10 탆.
상기 스트라이프 패턴은 동일면상에 이웃하는 다른 스트라이프 패턴과 10 내지 1500㎛의 간격을 가질 수 있다. 상기 범위에서 보다 우수한 시인성과 투과율을 갖는다.The stripe pattern may have another stripe pattern neighboring on the same plane and an interval of 10 to 1500 mu m. And has better visibility and transmittance in the above range.
한편, 이러한 제1 및 제2 전극패턴층은 도전성 입자 및 상기 도전성 입자를 고정하는 바인더를 포함할 수 있다. 이때, 도전성 입자는 전도성 금속, 상기 금속의 합금, 전도성 고분자, 탄소입자 또는 이들의 조합 등이 사용될 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 도전성 입자는 니켈, 팔라듐, 은, 구리, 금, 주석, 백금, 알루미늄, 코발트, 산화인듐, 탄소나노튜브, 그래핀, 전도성 고분자 등이 사용될 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 상기 도전성 입자는 평균입자크기(D50)가 1 nm 내지 20 ㎛, 바람직하게는 50 nm 내지 15 ㎛일 수 있다. 상기 범위에서 우수한 투과율과 시인성을 갖는다. The first and second electrode pattern layers may include conductive particles and a binder for fixing the conductive particles. The conductive particles may be conductive metals, alloys of the metals, conductive polymers, carbon particles, or combinations thereof, but are not limited thereto. For example, the conductive particles may be nickel, palladium, silver, copper, gold, tin, platinum, aluminum, cobalt, indium oxide, carbon nanotubes, graphene, conductive polymers, Can be used in combination. The conductive particles may have an average particle size (D50) of 1 nm to 20 mu m, preferably 50 nm to 15 mu m. And has excellent transmittance and visibility in the above range.
상기 바인더는 종래 ITO를 투명 전극으로 사용한 디스플레이용 인터페이스패널과 비교하여 동일 또는 그 이상의 투과율을 확보하기 위해, 제1 및 제2 투명 절연성 기재와 굴절률 정합(index matching)을 이루는 물질을 사용하는 것이 가장 바람직하고, 차선으로 제1 투명 절연성 기재(120)와 굴절률 차이가 1.72 이내일 수 있다.
It is preferable to use a material having a refractive index matching with the first and second transparent insulating substrates in order to ensure the same or higher transmittance as compared with a conventional display interface panel using ITO as a transparent electrode And the difference in refractive index between the first transparent insulating
이와 같이 제조된 디스플레이용 인터페이스패널은 커버 윈도우 등에 적층될 수 있다. The display interface panel thus manufactured may be laminated on a cover window or the like.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시 예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. This is possible.
그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
Therefore, the scope of the present invention should not be limited by the described embodiments, but should be determined by the scope of the appended claims as well as the appended claims.
100: 디스플레이용 인터페이스패널 111: 제1 투명 절연성 기재
112: 제2 투명 절연성 기재 120: 제1 전극패턴층
130: 제2 전극패턴층 401, 402, 701, 702: 롤100: display interface panel 111: first transparent insulating substrate
112: second transparent insulating substrate 120: first electrode pattern layer
130: second
Claims (11)
상기 제1시트의 최소한 일면을 양각 또는 음각 패턴이 형성된 롤과 접촉시켜 단면 또는 양면에 제1 방향을 따라 서로 이격되는 복수개의 제1 트렌치가 형성된 제1 투명 절연성 기재를 형성하는 단계; 및
상기 복수개의 제1 트렌치 내부에 도전성 페이스트를 충진시켜 상기 제1 투명 절연성 기재의 단면 또는 양면에 제1 전극패턴층을 형성하는 단계;
를 포함하고,
상기 제1 전극패턴층은 도전성 입자 및 상기 도전성 입자를 고정하는 바인더를 포함하는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
Forming a molten resin into a sheet to form a first sheet;
Forming at least one surface of the first sheet with a roll having a relief or engraved pattern to form a first transparent insulating substrate having a plurality of first trenches spaced apart from each other along a first direction; And
Filling a plurality of first trenches with a conductive paste to form a first electrode pattern layer on one or both sides of the first transparent insulating substrate;
Lt; / RTI >
Wherein the first electrode pattern layer includes conductive particles and a binder for fixing the conductive particles.
상기 제1시트의 최소한 일면에 제2 투명 절연성 수지를 도포하여 제2 시트를 형성하는 단계;
상기 제2 시트가 형성된 면의 최소한 일면에 양각 또는 음각 패턴이 형성된 롤과 접촉시켜 제2 방향을 따라 서로 이격되는 복수개의 제2 트렌치가 형성된 제2 투명 절연성 기재를 형성하는 단계; 및
상기 복수개의 제2 트렌치 내부에 도전성 페이스트를 충진시켜 상기 제2 투명 절연성 기재에 제2 전극패턴층을 형성하는 단계;
를 더 포함하는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
The method according to claim 1,
Forming a second sheet by applying a second transparent insulating resin to at least one side of the first sheet;
Forming a second transparent insulating base material having a plurality of second trenches spaced apart from each other along a second direction by contacting a roll formed on at least one surface of the surface on which the second sheet is formed with an embossed or engraved pattern; And
Filling the plurality of second trenches with a conductive paste to form a second electrode pattern layer on the second transparent insulating substrate;
The method comprising the steps of:
상기 제1시트를 제1패턴이 형성된 제1롤과 제2패턴이 형성된 제2롤 사이를 롤투롤 공정으로 접촉시켜 제1시트 양면에 패턴이 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the first sheet is brought into contact with the first roll on which the first pattern is formed and the second roll on which the second pattern is formed by a roll-to-roll process to form a pattern on both surfaces of the first sheet. Way.
상기 제1 및 제2 전극패턴층은 시트면과 수직면에서 관찰시 복수의 스트라이프 패턴인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
3. The method of claim 2,
Wherein the first and second electrode pattern layers are a plurality of stripe patterns when viewed from a vertical plane and a sheet surface.
상기 스트라이프 패턴의 단면은 삼각형, 사각형, 반원 및 사다리꼴 중 어느 하나의 형상으로 형성되는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the cross-section of the stripe pattern is formed in a shape of a triangle, a quadrangle, a semicircle, or a trapezoid.
상기 스트라이프 패턴의 폭은 10㎛ 이하로 형성되는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the stripe pattern has a width of 10 mu m or less.
상기 스트라이프 패턴은 동일면상에 이웃하는 다른 스트라이프 패턴과 10 내지 1500 ㎛의 거리(d)를 갖는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the stripe pattern has another stripe pattern neighboring on the same plane and a distance (d) of 10 to 1500 mu m.
상기 제1 전극패턴층의 스트라이프 패턴 중 어느 하나와 상기 제2 전극패턴층의 스트라이프 패턴 중 어느 하나는 전기적으로 접속되는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein one of the stripe patterns of the first electrode pattern layer and the stripe pattern of the second electrode pattern layer is electrically connected.
3. The method according to claim 2, wherein the second electrode pattern layer comprises conductive particles and a binder for fixing the conductive particles.
상기 도전성 입자는 전도성 금속, 상기 금속의 합금, 전도성 고분자, 탄소입자 또는 이들의 조합을 포함하는 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
10. The method of claim 9,
Wherein the conductive particles comprise a conductive metal, an alloy of the metal, a conductive polymer, carbon particles, or combinations thereof.
상기 도전성 입자는 평균입자크기(D50)가 1 nm 내지 20 ㎛ 인 디스플레이용 인터페이스패널의 제조방법.
10. The method of claim 9,
Wherein the conductive particles have an average particle size (D50) of 1 nm to 20 占 퐉.
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