KR101385701B1 - Boat for supporting substrate and support unit using the same - Google Patents
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Abstract
기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛이 개시된다. 본 발명에 따른 기판 지지용 보트 및 지지유닛은 기판의 전체면이 균일하게 지지되므로, 기판의 열처리시 기판이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다. 그러므로, 기판을 열처리 하여도, 기판의 특성 변화가 없으므로, 기판의 열처리 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.A boat for supporting a substrate and a supporting unit using the same are disclosed. In the substrate support boat and the support unit according to the present invention, since the entire surface of the substrate is uniformly supported, the substrate is prevented from sagging due to its own weight during heat treatment of the substrate. Therefore, even when the substrate is heat-treated, there is no change in the characteristics of the substrate, so that the reliability of the heat treatment process of the substrate is improved.
Description
본 발명은 기판의 전체면을 균일하게 지지하여 기판의 열처리 도중에 기판이 자중에 의하여 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a boat for supporting a substrate and a support unit using the same, which can uniformly support the entire surface of the substrate and prevent the substrate from being deformed due to its own weight during heat treatment of the substrate.
평판 디스플레이 제조시 사용되는 기판 처리장치는 크게 증착장치와 어닐링장치로 구분될 수 있다.A substrate processing apparatus used in manufacturing a flat panel display can roughly be divided into a deposition apparatus and an annealing apparatus.
증착장치는 평판 디스플레이의 핵심 구성을 이루는 투명 전도층, 절연층, 금속층 또는 실리콘층을 형성하는 장치이며, LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 등과 같은 화학기상 증착장치와 스퍼터링(Sputtering) 등과 같은 물리기상 증착장치가 있다.The deposition apparatus is a device for forming a transparent conductive layer, an insulating layer, a metal layer, or a silicon layer which is a core constituent of a flat panel display, and is a chemical vapor deposition apparatus such as LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) or PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) And a physical vapor deposition apparatus such as sputtering.
또한, 어닐링장치는 증착 공정 후에 증착된 막의 특성을 향상시키는 장치이며, 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키기 위한 열처리장치가 있다.In addition, the annealing apparatus is an apparatus for improving the characteristics of the deposited film after the deposition process, and there is a heat treatment apparatus for crystallizing or phase-changing the deposited film.
통상적으로 열처리장치에는 하나의 기판을 열처리하는 매엽식과 복수개의 기판을 열처리하는 배치식이 있다. 매엽식은 장치의 구성이 간단한 이점이 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있어서 대량 생산용으로는 배치식이 각광을 받고 있다.Generally, a heat treatment apparatus includes a sheet-fed type in which one substrate is heat-treated and a batch type in which a plurality of substrates are heat-treated. There is a merit of simple configuration of the apparatus, but it has a disadvantage that productivity is low, and the batch formula is in the spotlight for mass production.
배치식 열처리장치에는 복수개의 기판을 동시에 열처리하기 위한 공간인 챔버에 복수개의 기판을 지지할 수 있는 지지유닛을 설치하여 사용한다. 그리고, 최근 평판 디스플레이의 사이즈가 증가함에 따라 대면적의 기판을 안정적으로 지지할 수 있는 지지유닛의 필요성이 점점 증가하고 있다.The batch type heat treatment apparatus is provided with a support unit capable of supporting a plurality of substrates in a chamber which is a space for simultaneously heat treating a plurality of substrates. In recent years, as the size of a flat panel display increases, the need for a supporting unit capable of stably supporting a large area substrate is increasing.
그런데, 종래의 지지유닛은, 기판의 열처리 도중, 기판이 자중에 의하여 휘는 것을 방지하지 못하므로, 기판의 특성이 변화된다. 이로 인해, 기판의 열처리 공정의 신뢰성이 저하되는 단점이 있었다.However, the conventional support unit can not prevent the substrate from being warped due to its own weight during the heat treatment of the substrate, so that the characteristics of the substrate are changed. As a result, the reliability of the heat treatment process of the substrate is lowered.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판의 전체면을 균일하게 지지하여 기판의 열처리 도중 기판이 자중에 의하여 변형되는 것을 방지할 수 있는 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art as described above, and it is an object of the present invention to provide a substrate supporting apparatus for uniformly supporting an entire surface of a substrate, And a support unit using the same.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지용 보트는, 기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 보트로서, 상호 대향하는 한 쌍의 제 1 메인바; 상기 제 1 메인바의 상면에 각각 결합되어 상기 제 1 메인바와 각각 평행을 이루고, 상호 대향하며, 상기 기판의 테두리부측이 접촉 지지되는 한 쌍의 제 2 메인바; 한 쌍의 상기 제 1 메인바를 상호 연결하는 복수의 제 1 연결바; 및 상기 제 1 메인바 및 상기 제 2 메인바에 형성되고, 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간에 복수의 기판이 구획되어 지지되도록 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간을 복수개로 구획함과 동시에 복수의 상기 기판의 모서리부측과 접촉하여 복수의 상기 기판이 유동하는 것을 방지하는 복수의 구획-지지핀을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a boat for supporting a substrate, comprising: a pair of first main bars opposed to each other as a boat supporting a substrate to be processed by being injected into a chamber of a substrate processing apparatus; A pair of second main bars respectively coupled to an upper surface of the first main bar, parallel to the first main bar, and opposed to each other, and the edge portion side of the substrate is in contact with each other; A plurality of first connecting bars interconnecting the pair of first main bars; And a plurality of spaces formed on the first main bar and the second main bar and partitioned into a plurality of spaces formed by the second main bar so that a plurality of substrates are partitioned and supported in a space formed by the second main bar. And a plurality of compartment-supporting pins in contact with the edge side of the substrate to prevent the plurality of substrates from flowing.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 지지용 지지유닛은, 기판 처리장치의 챔버에 투입되어 처리되는 기판을 지지하는 지지유닛으로서, 상기 챔버의 바닥면과 접촉되는 받침대, 상기 받침대의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브를 각각 가지고, 상호 대향하는 한 쌍이 세트를 이루면서 상기 챔버의 전면측 및 후면측에 각각 설치된 서포터; 쌍을 이루면서 상호 대향하는 상기 서포터의 상기 지지리브에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지된 크로스 지지바; 및 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바 및 상기 챔버의 후면측이 위치된 상기 크로스 지지바에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지되며, 복수의 상기 기판의 구획되어 탑재 지지되는 보트를 포함한다.In order to achieve the above object, a support unit for supporting a substrate according to the present invention comprises: a support unit for supporting a substrate to be introduced into a chamber of a substrate processing apparatus to be processed, the support unit comprising: a pedestal contacting the bottom surface of the chamber; And a plurality of support ribs extending horizontally from one side of the support and extending in the vertical direction and formed in a vertically stacked shape with a space therebetween, A supporter provided on a front side and a rear side of the support; A cross support bar having one end side and the other end side supported by the support ribs of the pair of supporters facing each other; And a boat on which one end side and the other end side are respectively supported by the cross support bar located on the front side of the chamber and the cross support bar on which the rear side of the chamber is located, and the boat is partitioned and supported by a plurality of the substrates. do.
본 발명에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛은 기판의 전체면을 균일하게 지지하므로, 기판의 열처리시, 기판이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다. 그러므로, 기판을 열처리 하여도, 기판의 특성에 변화가 없으므로, 기판의 열처리 공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.The substrate support boat and the support unit using the same according to the present invention uniformly support the entire surface of the substrate, so that the substrate is prevented from sagging due to its own weight during heat treatment of the substrate. Therefore, even when the substrate is heat-treated, there is no change in the characteristics of the substrate, so that the reliability of the heat treatment process of the substrate is improved.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지용 지지유닛이 설치된 기판 처리장치의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 지지유닛의 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 서포터의 확대도.
도 4는 도 2의 일부 확대도.
도 5는 도 2에 도시된 보트의 사시도.
도 6은 도 5의 정면도.
도 7은 도 2에 도시된 지지유닛에 기판이 지지된 상태를 보인 사시도.1 is a perspective view of a substrate processing apparatus provided with a substrate supporting unit according to an embodiment of the present invention;
Figure 2 is a perspective view of the support unit shown in Figure 1;
3 is an enlarged view of the supporter shown in Fig.
4 is a partially enlarged view of Fig.
Fig. 5 is a perspective view of the boat shown in Fig. 2; Fig.
Figure 6 is a front view of Figure 5;
FIG. 7 is a perspective view showing a state where a substrate is supported on the support unit shown in FIG. 2. FIG.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled, if properly explained. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several views, and length and area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛을 상세히 설명한다.Hereinafter, a boat for supporting a substrate and a support unit using the boat according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 지지용 지지유닛이 설치된 기판 처리장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a substrate processing apparatus provided with a substrate supporting unit according to an embodiment of the present invention.
도시된 바와 같이, 기판 처리장치(100)는 대략 직육면체 형상으로 형성되어 외관을 이루는 본체(110)를 포함하고, 본체(110)의 내부에는 기판(50)이 처리되는 챔버(110a)가 형성된다. 본체(110)는 직육면체 형상뿐만 아니라 기판(50)의 형상에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있고, 챔버(110a)는 밀폐된 공간으로 마련된다.The
본체(110)의 전면은 개방되어 도어(113)가 설치되는데, 도어(113)는 챔버(110a)를 개폐한다. 도어(113)를 열어 챔버(110a)를 개방한 상태에서, 로봇의 아암(미도시) 등으로 기판(50)을 지지하여 기판(50)을 챔버(110a)로 로딩한다. 그리고, 도어(113)를 닫아 챔버(110a)를 폐쇄한 상태에서, 기판(50)을 처리한다.The front surface of the
본체(110)의 내부에는 기판(50)을 지지하는 지지유닛(120), 기판(50)을 가열하기 위한 히터(미도시) 및 기판(50)을 냉각시키기 위한 냉각관(미도시) 등이 설치된다.A
본 실시예에 따른 지지유닛(120)에 대하여 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 지지유닛의 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시된 서포터의 확대도이며, 도 4는 도 2의 일부 확대도이다.The
도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 지지유닛(120)은 서포터(130), 크로스 지지바(140) 및 보트(150)를 포함한다.As shown, the
서포터(130)는 챔버(110a)를 형성하는 본체(110)의 바닥면에 접촉되는 받침대(131), 받침대(131)의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대(133), 지지대(133)의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브(135)를 가진다.The
서포터(130)는 상호 대향하는 한쌍으로 마련되어 세트를 이루며, 세트를 이루는 서포터(130)는 본체(110)의 전면측 양모서리부 및 후면측 양모서리부에 각각 설치된다. 그리고, 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)는 상호 대향한다.The
세트를 이루면서 상호 대향하는 서포터(130) 사이의 거리 및 세트를 이루는 서포터(130) 사이의 거리는 기판(50)의 크기에 따라 적절하게 조절할 수 있다.The distance between the
세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에는 크로스 지지바(140)의 좌단부측 및 우단부측이 각각 고정되어 지지된다. 그리고, 챔버(110a)의 전면측 및 후면측에 위치되어 각각 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 각각 지지된 크로스 지지바(140)는 상하로 배치되어 상호 평행을 이룸은 당연하다. 또한, 챔버(110a)의 전면측에 위치되어 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 각각 지지된 각각의 크로스 지지바(140)와 챔버(110a)의 후면측에 위치되어 세트를 이루는 서포터(130)의 지지리브(135)에 각각 지지된 각각의 크로스 지지바(140)는 동일 높이에 위치됨은 당연하다.The left end side and the right end side of the
크로스 지지바(140)가 서포터(130)에 안정되게 지지될 수 있도록, 지지리브(135)에는 크로스 지지바(140)와 대응되는 형상으로 형성되며, 크로스 지지바(140)의 단부측이 삽입 지지되는 안치홈(135a)이 형성된다. 그리고, 안치홈(135a)이 형성된 지지리브(135)의 부위에는 안치홈(135a)의 길이방향과 수직으로 걸림홈(135b)이 형성되고, 크로스 지지바(140)의 단부측 외주면에는 걸림홈(135b)에 삽입되어 걸리는 걸림링(141)이 각각 형성된다.The
안치홈(135a)에 크로스 지지바(140)가 삽입 지지되므로, 크로스 지지바(140)가 지지리브(135) 상에서 전후방향으로 유동하는 것이 방지된다. 그리고, 안치홈(135a)에 수직하는 걸림홈(135b) 및 걸림링(141)에 의하여 크로스 지지바(140)가 지지리브(135) 상에서 좌우방향으로 유동하는 것이 방지된다.The
도 2 및 도 4에는 크로스 지지바(140)가 받침대(131)에도 지지된 것을 도시하여 보이고 있으며, 이 경우에는 받침대(131)의 상면에도 지지리브(135)의 상면에 형성된 안치홈(135a) 및 걸림홈(135b)이 동일하게 형성될 수 있다.2 and 4 show that the
챔버(110a)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)와 후면측에 위치된 크로스 지지바(140)에는 기판(50)이 탑재 지지되는 보트(150)가 탑재 지지된다. 보트(150)에 대하여 도 2, 도 4 내지 도 6을 참조하여 설명한다. 도 5는 도 2에 도시된 보트의 사시도이고, 도 6은 도 5의 정면도이다.A
도시된 바와 같이, 보트(150)는 제 1 메인바(161), 제 2 메인바(171), 제 1 연결바(181) 및 제 2 연결바(191)를 포함한다.As shown, the
제 1 메인바(161)는 상호 간격을 가지면서 대향하는 한 쌍으로 마련되며, 전단부측은 챔버(110a)(도 1 참조)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)에 지지되고, 후단부측은 챔버(110a)의 후면측에 위치된 크로스 지지바(140)에 지지된다.The first
보트(150)를 크로스 지지바(140)에 견고하게 지지하기 위하여, 제 1 메인바(161)의 전단부에는 챔버(110a)의 전면측에 위치된 크로스 지지바(140)에 걸려서 고정되는 아크형 지지편(163)이 형성된다. 아크형 지지편(163)의 형상은 크로스 지지바(140)의 외형과 대응되는 형상인 반원형으로 형성된다.In order to firmly support the
그리고, 제 1 메인바(161)의 후단부측에 위치된 후술할 제 1 연결바(181)에는 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되는 바 형상의 직선형 지지편(183)이 형성된다. 직선형 지지편(183)은 크로스 지지바(140)와 수직으로 배치되어 크로스 지지바(140)에 탑재 지지된다.In addition, a bar-shaped
아크형 지지편(163)이 크로스 지지바(140)에 삽입 지지되고, 직선형 지지편(183)이 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되므로, 보트(150)는 견고하게 크로스 지지바(140)에 탑재 지지된다. 또한, 아크형 지지편(163)이 반원형으로 형성되어 크로스 지지바(140)에 삽입 지지되고, 직선형 지지편(183)이 바 형으로 형성되어 크로스 지지바(140)에 탑재 지지되므로, 보트(150)를 상측으로 들기만 하면, 보트(150)가 크로스 지지바(140)로부터 분리된다. 따라서, 보트(150)를 크로스 지지바(140)로부터 용이하게 분리할 수 있다.Since the
그리고, 크로스 지지바(140)에는 아크형 지지편(163)에 걸려서 제 1 메인바(161)가 크로스 지지바(140) 상에서 크로스 지지바(140)를 따라 유동하는 것을 방지하는 복수의 스토퍼(143)가 형성된다. 스토퍼(143)의 개수는 크로스 지지바(140)에 삽입 지지된 아크형 지지편(163)의 개수와 대응되게 형성됨은 당연하다.In addition, the
제 2 메인바(171)는 상호 대향하는 한 쌍으로 마련되어 제 1 메인바(161)의 상면에 각각 결합되며, 제 1 메인바(161)와 각각 평행을 이룬다. 그리고, 제 2 메인바(171)에는 기판의 4 측면 중, 상호 대향하는 일측면 및 타측면의 테두리부측이 접촉 지지된다.The second
제 1 메인바(161)와 제 2 메인바(171)는 복수의 연결돌기(173)를 매개로 상호 결합되어 간격을 가진다. 그리고, 제 2 메인바(171)에는 제 2 메인바(171)와 대략 직교하는 형태로 형성되어 기판(50)의 테두리부측을 지지하는 복수의 수평지지핀(175)이 형성된다.The first
본 실시예에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛은 하나의 보트(150)에 복수의 기판(50)이 구획되어 지지된다. 이를 위하여, 제 1 메인바(161) 및 제 2 메인바(171)에는 제 2 메인바(171)에 의하여 형성되는 공간에 복수의 기판(50)이 구획되어 지지되도록 제 2 메인바(171)에 의하여 형성되는 공간을 복수개로 구획함과 동시에 복수의 기판(50)의 모서리부측과 접촉하여 복수의 기판(50)을 각각 지지하는 복수의 구획-지지핀(165, 177)이 각각 형성된다. 구획-지지핀(165, 177)이 기판(50)의 모서리부측 접촉하여 기판(50)을 지지하므로, 기판(50)이 제 2 메인바(171) 상에서 유동하는 것이 방지된다.The substrate support boat and the support unit using the same according to the present embodiment are supported by a plurality of
제 1 연결바(181)는 한 쌍의 제 1 메인바(161)를 상호 연결하고, 제 2 연결바(191)는 상호 인접하는 제 1 연결바(181)를 상호 연결한다. 그리고, 제 1 연결바(181) 및 제 2 연결바(191)에는 기판(50)을 지지하는 복수의 제 1 수직지지핀(185) 및 복수의 제 2 수직지지핀(193)이 각각 형성된다.The
기판(50)은 제 2 메인바(171), 복수의 수평지지핀(175), 복수의 제 1 수직지지핀(185) 및 복수의 제 2 수직지지핀(193)에 의하여 지지되므로, 기판(50)의 전체면이 균일하게 지지된다. 따라서, 기판(50)의 열처리시 기판(50)이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다.Since the
제 1 연결바(181)의 직경은 제 1 메인바(161)의 직경 보다 작게 마련되어 제 1 메인바(161)에 결합될 수 있다. 그리고, 제 1 연결바(181)가 제 1 메인바(161) 보다 낮은 위치에 위치될 경우, 제 1 연결바(181)는 "" 형상으로 형성되어 일측 상단부 및 타측 상단부가 제 1 메인바(161)에 각각 결합된다. 제 1 연결바(181)를 제 1 메인바(161)보다 낮게 위치시키는 이유는, 기판(50)을 보트(150)에 탑재하여 처리할 때, 기판(50)과 제 1 연결바(181) 사이에 충분한 간격이 형성되어, 기판(50)의 처리시 투입되는 기판의 처리가스가 원활하게 흐르게 하기 위함이다.The diameter of the
그리고, 제 1 연결바(181)는 상호 상이한 간격을 가질 수 있다. 제 1 연결바(181)가 상호 상이한 간격으로 배치될 경우, 제 1 수직지지핀(185)은 복수번 벤딩된 ""형상으로 형성될 수 있다. 이는, 제 1 연결바(181) 사이의 간격이 일정하지 않을 때, 제 1 연결바(181)에 설치된 제 1 수직지지핀(185)이 일정한 간격을 가지면서 기판(50)의 전체면을 균일하게 지지할 수 있도록 하기 위함이다.The first connection bars 181 may have different intervals from each other. When the first connecting
제 1 메인바(161)의 양단부측에는 로봇의 아암(미도시)이 삽입되어 걸리는 걸림후크(167)가 각각 형성된다. 상기 로봇의 아암이 걸림후크(167)에 삽입되어 걸림후크(167)를 승강시키면 보트(150)가 승강하는 것이다.On both ends of the first
크로스 지지바(140) 및 보트(150)는 기판(50)의 열처리시에 견딜 수 있고, 구조의 변화가 거의 없는 석영으로 형성되는 것이 바람직하다.It is preferable that the
도 7은 도 2에 도시된 지지유닛에 기판이 지지된 상태를 보인 사시도로서, 이를 설명한다.FIG. 7 is a perspective view showing a state in which the substrate is supported by the support unit shown in FIG. 2. FIG.
도시된 바와 같이, 두 개의 보트(150)가 크로스 지지바(140)에 설치되고, 각각의 보트(150)에 두 개의 기판(50)이 지지된 것을 보인다.As shown, two
상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략한 것으로서, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.The above-described embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, in which detailed contour lines are omitted. It should be noted that the above-described embodiments are not intended to limit the technical spirit of the present invention and are merely a reference for understanding the technical scope of the present invention.
120: 지지유닛
130: 서포터
140: 크로스 지지바
150: 보트
161, 171: 제 1, 제 2 메인바
165, 177: 구획-지지핀
181, 191: 제 1, 제 2 연결바120: support unit
130: supporter
140: Cross support bar
150: Boat
161, 171: first and second main bars
165, 177: compartment-support pin
181, 191: first and second connecting bars
Claims (24)
상호 대향하는 한 쌍의 제 1 메인바;
상기 제 1 메인바의 상면에 각각 결합되어 상기 제 1 메인바와 각각 평행을 이루고, 상호 대향하며, 상기 기판의 테두리부측이 접촉 지지되는 한 쌍의 제 2 메인바;
한 쌍의 상기 제 1 메인바를 상호 연결하는 복수의 제 1 연결바; 및
상기 제 1 메인바 및 상기 제 2 메인바에 형성되고, 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간에 복수의 기판이 구획되어 지지되도록 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간을 복수개로 구획함과 동시에 복수의 상기 기판의 모서리부측과 접촉하여 복수의 상기 기판이 유동하는 것을 방지하는 복수의 구획-지지핀
을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.A boat for supporting a substrate to be introduced into a chamber of a substrate processing apparatus to be processed,
A pair of first main bars opposed to each other;
A pair of second main bars respectively coupled to an upper surface of the first main bar, parallel to the first main bar, and opposed to each other, and the edge portion side of the substrate is in contact with each other;
A plurality of first connecting bars interconnecting the pair of first main bars; And
A plurality of spaces formed on the first main bar and the second main bar and partitioned by a plurality of substrates so that a plurality of substrates are partitioned and supported in a space formed by the second main bar. A plurality of compartment-supporting pins which contact the edge side of the substrate to prevent the plurality of substrates from flowing;
Substrate support boat comprising a.
상기 제 2 메인바에는 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 복수의 수평지지핀이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.The method of claim 1,
The second main bar is a substrate support boat, characterized in that a plurality of horizontal support pins for supporting the edge portion side of the substrate is formed.
상기 제 1 연결바에는 상기 기판을 지지하는 복수의 제 1 수직지지핀이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.The method of claim 1,
The first support bar is a substrate support boat, characterized in that formed with a plurality of first vertical support pin for supporting the substrate.
상기 제 1 연결바들 중, 일부는 상호 상이한 간격을 가지고,
상이한 간격을 가지는 상기 제 1 연결바에 설치된 상기 제 1 수직지지핀은 ""형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.The method of claim 3,
Some of the first connecting bars have different intervals from each other,
The first vertical support pins installed on the first connecting bars having different intervals may be “ "≪ / RTI >
상호 인접하는 상기 제 1 연결바는 제 2 연결바에 의하여 연결된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.The method of claim 1,
The first connecting bar adjacent to each other is a substrate supporting boat, characterized in that connected by a second connecting bar.
상기 제 2 연결바에는 상기 기판을 지지하는 제 2 수직지지핀이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.6. The method of claim 5,
And a second vertical support pin for supporting the substrate in the second connection bar.
상기 제 1 메인바와 상기 제 2 메인바는 연결돌기를 매개로 상호 결합된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.The method of claim 1,
The first main bar and the second main bar is a substrate support boat, characterized in that coupled to each other via a connecting projection.
상기 제 1 메인바의 일단부측에는 반원판 형상으로 형성되어 상대물에 삽입 지지되는 아크형 지지편이 설치되고,
상기 제 1 메인바의 타단부측에 위치된 상기 제 1 연결바에는 상대물에 탑재 지지되는 직선형 지지편이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.The method of claim 1,
One end of the first main bar is provided with an arc-shaped support piece formed in a semi-circular shape and inserted into and supported by a counterpart.
The first support bar located on the other end side of the first main bar is a substrate supporting boat, characterized in that the linear support piece is mounted on the counterpart.
상기 제 1 연결바는 상기 제 1 메인바의 하측에 위치되고,
상기 제 1 연결바는 "" 형상으로 형성되어 단부가 상기 제 1 메인바에 각각 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.The method of claim 1,
The first connecting bar is located below the first main bar,
The first connecting bar is " The boat for supporting a substrate, wherein the boat is formed in a shape, and ends are respectively coupled to the first main bar.
상기 제 1 메인바의 양단부측에는 로봇의 아암이 삽입되어 걸리는 걸림후크가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 보트.The method of claim 1,
Both sides of the first main bar is a substrate supporting boat, characterized in that each engaging hook for engaging the arm of the robot is formed.
상기 챔버의 바닥면과 접촉되는 받침대, 상기 받침대의 일단부에서 수직으로 연장 형성된 지지대, 상기 지지대의 일측면에서 수평으로 연장 형성되며 상호 간격을 가지면서 상하로 적층된 형태로 형성된 복수의 지지리브를 각각 가지고, 상호 대향하는 한 쌍이 세트를 이루면서 상기 챔버의 전면측 및 후면측에 각각 설치된 서포터;
쌍을 이루면서 상호 대향하는 상기 서포터의 상기 지지리브에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지된 크로스 지지바; 및
상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바 및 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 일단부측 및 타단부측이 각각 지지되며, 복수의 상기 기판의 구획되어 탑재 지지되는 보트
를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.A supporting unit for supporting a substrate to be processed into a chamber of a substrate processing apparatus,
Pedestal contacting the bottom surface of the chamber, a support extending vertically from one end of the pedestal, a plurality of support ribs formed horizontally and vertically stacked on one side of the support is formed in a vertically stacked form Supporters each having a pair of mutually opposing pairs provided on the front side and the rear side of the chamber;
A cross support bar having one end side and the other end side supported by the support ribs of the pair of supporters facing each other; And
One end side and the other end side are respectively supported by the cross support bar located at the front side of the chamber and the cross support bar located at the rear side of the chamber, and the boat is partitioned and supported by a plurality of substrates.
And a support member for supporting the substrate.
상기 지지리브에는 상기 크로스 지지바가 삽입 안치되는 안치홈이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.12. The method of claim 11,
Wherein the support rib is formed with an insertion groove into which the cross support bar is inserted.
상기 안치홈에는 상기 안치홈에 직교하는 걸림홈이 형성되고, 상기 크로스 지지바에는 상기 걸림홈에 삽입되어 걸리는 걸림링이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.The method of claim 12,
The settlement groove is formed in the recess groove orthogonal to the settle groove, the support substrate for supporting the substrate, characterized in that the cross support bar is formed with a locking ring is inserted into the engaging groove.
상기 크로스 지지바에는 상기 보트가 상기 크로스 지지바를 따라 유동하는 것을 방지하는 복수의 스토퍼가 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.12. The method of claim 11,
And a plurality of stoppers formed in the cross support bar to prevent the boat from flowing along the cross support bar.
상기 보트는,
일단부측은 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 지지되고 타단부측은 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 지지되는 상호 대향하는 한 쌍의 제 1 메인바;
상기 제 1 메인바의 상면에 각각 결합되어 상기 제 1 메인바와 각각 평행을 이루고, 상호 대향하며, 상기 기판의 테두리부측이 접촉 지지되는 한 쌍의 제 2 메인바;
한 쌍의 상기 제 1 메인바를 상호 연결하는 복수의 제 1 연결바;
상기 제 1 메인바 및 상기 제 2 메인바에 형성되고, 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간에 복수의 기판이 구획되어 지지되도록 상기 제 2 메인바에 의하여 형성되는 공간을 복수개로 구획함과 동시에 복수의 상기 기판의 모서리부측과 접촉하여 복수의 상기 기판이 유동하는 것을 방지하는 복수의 구획-지지핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.12. The method of claim 11,
The boat,
A pair of mutually opposite first main bars supported at one end of the cross support bar at the front side of the chamber and at the other end of the cross support bar at the rear side of the chamber;
A pair of second main bars respectively coupled to an upper surface of the first main bar, parallel to the first main bar, and opposed to each other, and the edge portion side of the substrate is in contact with each other;
A plurality of first connecting bars interconnecting the pair of first main bars;
A plurality of spaces formed on the first main bar and the second main bar and partitioned by a plurality of substrates so that a plurality of substrates are partitioned and supported in a space formed by the second main bar. And a plurality of partition-supporting pins in contact with an edge portion of the substrate to prevent the plurality of substrates from flowing.
상기 제 2 메인바에는 상기 기판의 테두리부측을 지지하는 복수의 수평지지핀이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.16. The method of claim 15,
And a plurality of horizontal support pins formed on the second main bar to support the edge portion of the substrate.
상기 제 1 연결바에는 상기 기판을 지지하는 복수의 제 1 수직지지핀이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.16. The method of claim 15,
And a plurality of first vertical support pins for supporting the substrate in the first connection bar.
상기 제 1 연결바들 중, 일부는 상호 상이한 간격을 가지고,
상이한 간격을 가지는 상기 제 1 연결바에 설치된 상기 제 1 수직지지핀은 ""형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.18. The method of claim 17,
Some of the first connecting bars have different intervals from each other,
The first vertical support pins installed on the first connecting bars having different intervals may be “ "≪ / RTI >
상호 인접하는 상기 제 1 연결바는 제 2 연결바에 의하여 연결된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.16. The method of claim 15,
The support unit for supporting a substrate, wherein the first connecting bars adjacent to each other are connected by a second connecting bar.
상기 제 2 연결바에는 상기 기판을 지지하는 제 2 수직지지핀이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.20. The method of claim 19,
And a second vertical support pin for supporting the substrate in the second connection bar.
상기 제 1 메인바와 상기 제 2 메인바는 연결돌기를 매개로 상호 결합된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.16. The method of claim 15,
And the first main bar and the second main bar are coupled to each other via a connection protrusion.
상기 제 1 메인바의 일단부측에는 반원판 형상으로 형성되어 상기 챔버의 전면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 삽입 지지되는 아크형 지지편이 설치되고,
상기 제 1 메인바의 타단부측에 위치된 상기 제 1 연결바에는 상기 챔버의 후면측에 위치된 상기 크로스 지지바에 탑재 지지되는 직선형 지지편이 설치된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.16. The method of claim 15,
An arc-shaped support piece is formed at one end of the first main bar in a semicircular shape and inserted into and supported by the cross support bar located at the front side of the chamber.
And a linear support piece mounted and supported on the cross support bar located at the rear side of the chamber, on the first connection bar located at the other end side of the first main bar.
상기 제 1 연결바는 상기 제 1 메인바의 하측에 위치되고,
상기 제 1 연결바는 "" 형상으로 형성되어 단부가 상기 제 1 메인바에 각각 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.16. The method of claim 15,
The first connecting bar is located below the first main bar,
The first connecting bar is " The support unit for supporting the substrate, characterized in that formed in the "shape is coupled to the end of each of the first main bar.
상기 제 1 메인바의 양단부측에는 로봇의 아암이 삽입되어 걸리는 걸림후크가 각각 형성된 것을 특징으로 하는 기판 지지용 지지유닛.16. The method of claim 15,
The support unit for a substrate support, characterized in that each of the hook end is formed on both ends of the first main bar is inserted into the arm of the robot.
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KR100600515B1 (en) | 2005-01-20 | 2006-07-13 | (주)상아프론테크 | Cassette having a connector for installing the cross-bar |
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