KR101374072B1 - 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법 - Google Patents

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한국생산기술연구원
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Abstract

본 발명은 인쇄패턴 형성방법에 관한 것으로서, 특히 잉크방울의 낙하위치를 제어하여 정밀하고 미세한 인쇄패턴을 형성할 수 있는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법에 관한 것이다.
본 발명의 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법은, 기판의 표면에 친수성구역과 소수성구역을 형성하는 구역형성단계와; 상기 친수성구역에 다수개의 잉크방울을 낙하시키는 잉크낙하단계와; 상기 기판의 표면에 낙하된 잉크방울을 건조시키는 건조단계를 포함하여 이루어지되, 상기 잉크낙하단계에서 상기 친수성구역에 낙하된 잉크방울들이 상호 중첩되게 낙하시키는 것을 특징으로 한다.

Description

잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법{ FORMING METHOD OF PRINTED PATTERN }
본 발명은 인쇄패턴 형성방법에 관한 것으로서, 특히 잉크방울의 낙하위치를 제어하여 정밀하고 미세한 인쇄패턴을 형성할 수 있는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법에 관한 것이다.
일반적으로 전자소자 등에 사용되는 패턴을 형성하기 위해 포토리소그라피 (Photolithography)라는 방법을 사용하게 된다.
그러나, 이러한 포토리소그라피 방법에 의한 경우 재료의 낭비가 많고 공정이 복잡하여 효율이 떨어지는 문제점이 있고, 대면적 마스크를 사용하기 때문에 새로운 설계를 최단시간 내에 적용하기가 어려운 문제점이 있었다.
따라서 포토리소그라피의 이러한 단점을 극복하기 위해, 마스크 없이 직접 기판상에 패턴을 행할 수 있는 잉크젯 패턴법이 제시되고 있다.
이러한 인쇄전자기술은 널리 알려진 여러 장점들이 있으나, 현재 개발되어 있는 기술로는 미세 패턴의 구현, 인쇄 두께 조절, 엣지(edge) 부분의 선예도(sharpness) 확보 등에 많은 어려움이 존재한다.
이는 잉크재료의 자체 특성뿐만이 아니라, 기판의 포면 특성, 환경 특성, 인쇄 장비의 특성 등 다양한 복합적 조건에 따라 발생하는 것으로써, 현재 많은 해결 방안들이 연구되어 있다.
대표적인 기술로는, 기판의 표면특성을 친수성에서 소수성으로 또는 소수성에서 친수성으로 제어하여 토출된 잉크의 기판 부착시에 그 크기를 제어하는 방법이 있으며, 이를 응용하여 특정 패턴을 가진 부분적인 표면처리를 통해 용액 형태의 재료인 잉크의 퍼짐성을 이용하는 기술도 있다.
그러나, 이러한 종래의 기술들은 특정 수준 이상의 정밀 인쇄패턴을 형성하는데 어려움이 있었다.
즉, 기존의 인쇄공정을 통한 패턴형성방법은 노광 증착 공정 등에 의해 제작되는 소자의 미세회로를 제작하기에 어려움이 있었다.
또한, 인쇄패턴의 두께의 조절이 어렵고, 엣지부분 등의 선예도 확보에 어려움이 있었다.
대한민국 공개특허공보 제10-2010-0065769호 대한민국 등록특허공보 제10-0690930호
본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로써, 잉크방울의 낙하 위치 등을 제어하여 인쇄패턴을 정밀하고 미세하게 구현할 수 있는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법은, 기판의 표면에 친수성구역과 소수성구역을 형성하는 구역형성단계와; 상기 친수성구역에 다수개의 잉크방울을 낙하시키는 잉크낙하단계와; 상기 기판의 표면에 낙하된 잉크방울을 건조시키는 건조단계를 포함하여 이루어지되, 상기 잉크낙하단계에서 상기 친수성구역에 낙하된 잉크방울들이 상호 중첩되게 낙하시키는 것을 특징으로 한다.
상기 잉크방울은, 상기 친수성구역과 소수성구역의 경계선에 접하도록 상기 경계선을 따라 상기 친수성구역에 낙하되는 경계잉크방울과; 상기 경계잉크방울들의 안쪽에 낙하되는 내부잉크방울로 이루어지되, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울의 지름(R)은, 상기 경계선과 상기 경계잉크방울의 낙하중심점 사이의 거리(X1)보다 크다.
또한, 상기 경계잉크방울들의 낙하중심점 사이의 거리(X2)는, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울들의 중첩되는 거리(X3)보다 크도록 한다.
이때, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울들의 중첩거리(X3)은, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울의 지름(R)의 1/4과 같거나 크고 1/2보다 작도록 함이 바람직하다.
그리고, 상기 경계잉크방울은, 상기 경계선을 이루는 상기 친수성구역의 꼭지점에 낙하되는 제1잉크방울과; 상기 경계선을 이루는 상기 친수성구역의 직선구간에 낙하되는 제2잉크방울로 이루어지되, 상기 제1잉크방울은 낙하중심점이 상기 꼭지점으로부터 이격된 위치에서 상기 친수성구역에 낙하된다.
상기 제2잉크방울은 낙하중심점이 상기 직선구간의 경계선 위치와 동일하거나 상기 경계선으로부터 이격된 위치에서 상기 친수성구역에 낙하된다.
이러한 상기 제2잉크방울은 낙하중심점이 상기 경계선을 기준으로 상기 제1잉크방울과 동일한 이격거리 또는 더 먼 거리에 낙하된다.
상기 잉크낙하단계에서는, 상기 경계잉크방울의 낙하 후에 상기 내부잉크방울을 낙하시킨다.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법에 따르면, 인쇄패턴을 정밀하고 미세하게 구현할 수 있고, 상기 내부잉크방울의 양에 따라 패턴의 두께도 쉽게 조절할 수 있으며, 패턴의 엣지부분의 선예도가 정밀하게 확보되어 일정한 간격의 간극유지가 요구되는 FET 등의 소자제작에 적용될 수 있다.
도 1은 기판의 표면 특성에 따라 기판에 낙하된 잉크방울의 퍼짐정도를 나타낸 이미지,
도 2는 사각형상을 갖는 패턴에서 꼭지점 위치를 기준으로 하여 낙하된 잉크방울의 퍼짐형상을 나타낸 이미지,
도 3은 사각형상을 갖는 패턴에서 모서리(직선구간) 위치를 기준으로 낙하된 잉크방울의 퍼짐형상을 나타낸 이미지,
도 4의 (a)는 종래의 일반적인 방법에 따라 기판에 낙하되는 잉크방울의 간격을 동일하게 하여 나타낸 평면도이고, 도 4의 (b)는 본 발명의 실시예에 따라 기판에 낙하되는 잉크방울의 위치를 나타낸 평면도,
도 5는 본 발명의 실시예에 따라 기판에 낙하되어 퍼진 잉크방울을 도시한 평면도,
도 6은 종래의 일반적인 방법과 본 발명의 실시예에 따른 방법에 따라 기판에 잉크방울을 낙하시켜 인쇄패턴을 형성한 상태의 이미지,
도 7은 기판에 낙하되는 잉크방울의 갯수 및 구현하고자 하는 패턴형상을 약간 변경하여 시험한 것으로써, 종래의 일반적인 방법과 본 발명의 실시예에 따른 방법에 따라 기판에 잉크방울을 낙하시켜 응용된 인쇄패턴을 형성한 상태의 이미지.
본 발명의 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법은, 구역형성단계와, 잉크낙하단계와, 건조단계를 포함하여 이루어진다.
상기 구역형성단계는 유리 등과 같은 기판의 표면에 친수성구역과 소수성구역을 분리하여 형성하는 단계이다.
상기 잉크낙하단계는 상기 친수성구역에 다수개의 잉크방울을 낙하시켜, 낙하된 잉크방울들이 친수성구역을 덮음으로써 패턴을 형성하는 단계이다.
상기 건조단계는 상기 기판의 표면에 낙하된 잉크방울을 건조시키는 단계이다.
도 1의 (a)는 기판의 친수성 표면(Hydrophilic surface)에 낙하된 잉크방울(10)의 퍼짐정도를 나타낸 이미지이고, 도 1의 (b)는 기판의 소수성 표면(Hydrophobic surface)에 낙하된 잉크방울(10)의 퍼짐정도를 나타낸 이미지이다.
기판에 낙하되는 잉크방울(10)의 크기가 동일하더라도, 도 1의 (a)에 도시된 바와 같이 기판의 표면이 친수성이면 낙하된 잉크방울(10)은 넓게 퍼지게 되고, 도 1의 (b)에 도시된 바와 같이 기판의 표면이 소수성이면 낙하된 잉크방울(10)은 상대적으로 좁게 퍼지게 된다.
상기 기판에 친수성구역(21)과 소수성구역(22)을 분리하여 형성하는 방법은 종래의 일반적인 다양한 방법을 통해 제작하면 충분하다.
그 일 예로써, 친수성 표면의 기판에 소수성액을 도포하여, 소수성액이 도포되지 않은 친수성구역(21)과 소수성액이 도포된 소수성구역(22)을 분리하여 형성할 수 있다.
도 2 및 도 3에서는 사각형상의 경계선(20) 안쪽이 친수성구역(21)이고, 사각형상의 경계선(20) 바깥쪽이 소수성구역(22)이며, 사각형을 이루는 라인은 친수성구역(21)과 소수성구역(22)의 경계선(20)이다.
도 2 및 도 3에 나타나 있는 이미지는, 낙하되는 잉크방울(10)의 크기를 대략 20㎛로 하여 시험한 것이다.
도 2에서는 사각형상을 갖는 패턴에서 꼭지점 위치를 기준으로 하여 낙하된 잉크방울(10)의 퍼짐형상을 나타낸 이미지이고, 도 3은 사각형상을 갖는 패턴에서 모서리(직선구간) 위치를 기준으로 낙하된 잉크방울(10)의 퍼짐형상을 나타낸 이미지이다.
도 2의 (a),(b)에서는 잉크방울(10)을 경계선(20)의 바깥쪽 즉 소수성구역(22)에 낙하시킨 것으로써, 이때에는 잉크방울(10)이 거의 퍼짐 없는 상태를 유지함을 볼 수 있다.
도 2의 (c)는 잉크방울(10)의 낙하중심점을 경계선(20) 즉 꼭지점의 정위치 상에 낙하시킨 것으로써, 이때에는 낙하된 잉크방울(10)의 일부는 친수성구역(21)에 존재하고 일부는 소수성구역(22)에 존재함을 알 수 있다.
도 2의 (d)부터 (h)까지는 꼭지점을 0으로 기준하였을 때, 꼭지점을 기준으로 5㎛부터 점점 멀어진 위치에 잉크방울(1)을 낙하시킨 것이다.
꼭지점으로부터 낙하중심점이 35㎛ 떨어진 위치에 잉크방울(10)을 낙하시킨 도 2의 (g)에서는 낙하된 잉크방울(10)이 꼭지점까지 확산되어 퍼져 있는 것을 볼 수 있으나, 꼭지점으로부터 낙하중심점이 45㎛ 떨어진 위치에 잉크방울(10)을 낙하시킨 도 2의 (f)에서는 낙하된 잉크방울(10)이 꼭지점까지 완전하게 확산되어 있지 않음을 볼 수 있다.
이러한 도 2에 도시된 바와 같은 시험을 통해, 잉크방울(10)의 낙하중심점은 꼭지점의 정위치가 아닌 꼭지점으로부터 약간 이격되어 인접한 위치에 낙하되어야 함을 알 수 있다.
도 3의 (a),(b)에서는 잉크방울(10)을 경계선(20)의 바깥쪽 즉 소수성구역(22)에 낙하시킨 것으로써, 이때에는 잉크방울(10)이 거의 퍼짐 없는 상태를 유지함을 볼 수 있다.
도 3의 (c)는 잉크방울(10)의 낙하중심점을 경계선(20) 즉 직선구간인 모서리 상에 낙하시킨 것으로써, 이때에는 낙하된 잉크방울(10)이 소수성구역(22)으로 이동하여 소수성구역(22)에만 존재함을 알 수 있다.
도 3의 (d)부터 (h)까지는 모서리를 0으로 기준하였을 때, 모서리를 기준으로 잉크방울(10)의 낙하중심점이 5㎛부터 45㎛까지 점점 멀어진 위치에 낙하시킨 것으로써, 모두의 경우 낙하된 잉크방울(10)이 경계선(20)인 모서리와 접하고 있음을 알 수 있다.
위와 같은 시험결과로부터, 도 3에 도시된 바와 같이 모서리에 인접하게 잉크방울(10)을 낙하시키는 경우에는, 도 2에 도시된 꼭지점에 인접하게 잉크방울(10)을 낙하시키는 경우와 비교하여, 경계선(20)의 모서리에서는 꼭지점보다 인접하게 잉크방울(10)을 낙하하여도 낙하된 잉크방울(10)이 친수성구역(21)에만 퍼지는 것을 알 수 있고 또한 경계선(20)의 모서리에서는 꼭지점보다 너 먼 거리에 잉크방울(10)을 낙하하여도 낙하된 잉크방울(10)이 모서리까지 퍼져 접하게 됨을 알 수 있다.
도 4의 (a)는 종래의 일반적인 방법에 따라 기판에 낙하되는 잉크방울(10)의 간격을 동일하게 하여 나타낸 평면도이고, 도 4의 (b)는 본 발명의 실시예에 따라 기판에 낙하되는 잉크방울(10)의 위치를 나타낸 평면도이다.
도 4의 (a)에 도시된 바와 같이 종래에는 잉크방울(10)들 간의 간격을 동일하게 하여 낙하시켰다.
이에 반해 본 발명에서는 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이 전체 잉크방울(10)들 간의 간격이 동일하지 않고, 경계선(20)을 따라 인접한 위치에서 잉크방울(10)들이 집중되어 낙하됨을 알 수 있다.
상기 잉크방울(10)은, 상기 친수성구역(21)과 소수성구역(22)의 경계선(20)에 접하도록 상기 경계선(20)을 따라 상기 친수성구역(21)에 낙하되는 경계잉크방울(11)과, 상기 경계잉크방울(11)들의 안쪽에 낙하되는 내부잉크방울(15)로 구분된다.
도 4의 (a)와 도 4의 (b)에서는 잉크방울(10)의 갯수가 36개로 동일한 것으로써, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이 본 발명에서는 상기 경계잉크방울(11)이 32개이고, 상기 내부잉크방울(15)이 4개로써, 경계선(20)을 따라 잉크방울(10)들이 집중되어 낙하 된다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따라 도 4의 (b)에 나타나 있는 간격으로 잉크방울(10)을 기판에 낙하시켰을 경우, 기판에 낙하되어 퍼진 잉크방울(10)을 도시한 평면도이다.
도 5에 사선으로 표시하여 도시된 바와 같이 상기 잉크낙하단계에서 상기 친수성구역(21)에 낙하되어 퍼진 잉크방울(10)들은 상호 중첩되게 된다.
이때, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울(11)의 지름(R)은, 상기 경계선(20)과 상기 경계잉크방울(11)의 낙하중심점 사이의 거리(X1)보다 크도록 한다.
그리고, 상기 경계잉크방울(11)들의 낙하중심점 사이의 거리(X2)는, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울(11)들의 중첩되는 거리(X3)보다 크도록 한다.
이때, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울(11)들의 중첩거리(X3)은, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울(11)의 지름(R)의 1/4과 같거나 크고 1/2보다 작도록 한다.
바람직하게는, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울(11)들의 중첩거리(X3)는, 도 5에 도시된 바와 같이 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울(11)의 지름(R)의 약 1/3이 되도록 한다.
이러한 상기 경계잉크방울(11)은 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 경계선(20)을 이루는 상기 친수성구역(21)의 꼭지점에 낙하되는 제1잉크방울(12)과, 상기 경계선(20)을 이루는 상기 친수성구역(21)의 직선구간 즉 모서리에 낙하되는 제2잉크방울(13)로 구분된다.
상기 제1잉크방울(12)의 낙하중심점은 상기 꼭지점으로부터 일정거리 이격된 위치에서 상기 친수성구역(21)에 낙하된다.
그리고, 상기 제2잉크방울(13)의 낙하중심점은 상기 경계선(20)의 직선구간 위치 즉 모서리의 위치와 동일하거나 상기 모서리로부터 상기 친수성구역(21)으로 이격된 위치에서 상기 친수성구역(21)에 낙하된다.
이러한 상기 제2잉크방울(13)은 상기 경계선(20)을 기준으로 상기 제1잉크방울(12)과 동일한 이격거리 또는 더 먼 거리에 낙하된다.
위와 같이 상기 기판에 잉크방울(10)을 낙하시키는 상기 잉크낙하단계에서는, 상기 경계잉크방울(11)의 낙하 후에 상기 내부잉크방울(15)을 낙하시킨다.
상기 내부잉크방울(15)들은 상기 경계선(20)의 안쪽에 형성되는 패턴의 두께나 채워주고자 하는 재료의 양에 따라 자유롭게 그 갯수 등을 변경하여 배치할 수 있다.
도 6은 종래의 일반적인 방법과 본 발명의 실시예에 따른 방법에 따라 기판에 잉크방울(10)을 낙하시켜 인쇄패턴을 형성한 상태의 이미지이다.
도 6의 (a)는 친수성표면(Hydrophilic surface)의 기판에 도 4의 (a)에 도시된 바와 같은 간격으로 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이고, 도 6의 (b)는 소수성표면(Hydrophobic surface)의 기판에 도 4의 (a)에 도시된 바와 같은 간격으로 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이며, 도 6의 (c)는 도 2 및 도 3에 도시된 친수성구역(21)과 소수성구역(22)이 사각형상의 경계선(20)에 의해 구분된 기판에서 친수성구역(21)에 도 4의 (a)에 도시된 바와 같은 간격으로 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이다.
그리고, 도 6의 (d)는 친수성표면의 기판에 도 4의 (b)에 도시된 바와 같은 간격으로 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이고, 도 6의 (e)는 소수성표면의 기판에 도 4의 (b)에 도시된 바와 같은 간격으로 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이며, 도 6의 (f)는 도 2 및 도 3에 도시된 친수성구역(21)과 소수성구역(22)이 사각형상의 경계선(20)으로 구분된 기판에서 친수성구역(21)에 도 4의 (b)에 도시된 바와 같은 간격으로 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이다.
도 6의 (a) 내지 (e)에 도시된 인쇄패턴들은 모두 사각형상의 정밀 형상을 제대로 구현하지 못하여 불량임을 알 수 있다.
그러나, 도 6의 (f)에 도시된 본 발명의 실시예와 같이 친수성구역(21)과 소수성구역(22)이 구분되어 있고, 친수성구역(21)에 낙하되는 잉크방울(10)들을 도 4의 (b)에 도시된 간격으로 낙하시켰을 경우에는, 사각형상의 패턴 형상이 정밀하고 정확하게 구현됨을 알 수 있다.
도 7은 도 6과 비교하여, 기판에 낙하되는 잉크방울(10)의 갯수 및 얻고자 하는 패턴형상을 약간 변경하여 시험한 것으로써, 도 7의 (a)는 친수성표면의 기판에 본 발명의 잉크방울(10) 낙하간격에 따라 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이고, 도 7의 (b)는 소수성표면의 기판에 본 발명의 잉크방울(10) 낙하간격에 따라 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이며, 도 7의 (c)는 친수성구역(21)과 소수성구역(22)이 2개의 사각형상으로 구분된 기판에 본 발명의 잉크방울(10) 낙하간격에 따라 잉크방울(10)을 낙하시킨 것이다.
도 7의 (a)에서는 낙하된 잉크방울(10)들이 넓게 퍼져 2개 아닌 1개의 패턴형상이 형성됨을 볼 수 있고, 도 7의 (b)에서는 낙하된 잉크방울(10)들 퍼지지 않아 잉크방울(10)들이 별개로 존재함을 볼 수 있다.
이에 반해, 본 발명이 적용된 도 7의 (c)에서는 낙하된 잉크방울(10)들이 친수성구역(21)에서만 퍼지면서 2개의 사각형상의 패턴이 정밀하게 형성됨을 볼 수 있으며, 특히 2개의 사각패턴 사이에 미세한 간극도 구현됨을 볼 수 있다.
위와 같이, 본 발명의 인쇄패턴 형성방법에 따르면, 인쇄패턴을 정밀하고 미세하게 구현할 수 있고, 상기 내부잉크방울(15)의 양에 따라 패턴의 두께도 쉽게 조절할 수 있으며, 패턴의 엣지부분의 선예도가 정밀하게 확보되어 일정한 간격의 간극유지가 요구되는 FET 등의 소자제작에 적용될 수 있다.
본 발명인 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법은 전술한 실시예에 국한하지 않고, 본 발명의 기술 사상이 허용되는 범위 내에서 다양하게 변형하여 실시할 수 있다.
10 : 잉크방울,
11 : 경계잉크방울, 12 : 제1잉크방울, 13 : 제2잉크방울,
15 : 내부잉크방울,
20 : 경계선, 21 : 친수성구역, 22 : 소수성구역,

Claims (8)

  1. 삭제
  2. 기판의 표면에 친수성구역과 소수성구역을 형성하는 구역형성단계와;
    상기 친수성구역에 다수개의 잉크방울을 낙하시키는 잉크낙하단계와;
    상기 기판의 표면에 낙하된 잉크방울을 건조시키는 건조단계를 포함하여 이루어지되,
    상기 잉크낙하단계에서는 상기 친수성구역에 낙하된 잉크방울들이 상호 중첩되도록 낙하시키고,
    상기 잉크방울은,
    상기 친수성구역과 소수성구역의 경계선에 접하도록 상기 경계선을 따라 상기 친수성구역에 낙하되는 경계잉크방울과;
    상기 경계잉크방울들의 안쪽에 낙하되는 내부잉크방울로 이루어지며,
    상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울의 지름(R)은, 상기 경계선과 상기 경계잉크방울의 낙하중심점 사이의 거리(X1)보다 큰 것을 특징으로 하는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법.
  3. 청구항2에 있어서,
    상기 경계잉크방울들의 낙하중심점 사이의 거리(X2)는, 상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울들의 중첩되는 거리(X3)보다 큰 것을 특징으로 하는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법.
  4. 청구항3에 있어서,
    상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울들의 중첩거리(X3)은,
    상기 기판에 낙하된 상기 경계잉크방울의 지름(R)의 1/4과 같거나 크고 1/2보다 작은 것을 특징으로 하는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법.
  5. 청구항2 내지 청구항4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 경계잉크방울은,
    상기 경계선을 이루는 상기 친수성구역의 꼭지점에 낙하되는 제1잉크방울과;
    상기 경계선을 이루는 상기 친수성구역의 직선구간에 낙하되는 제2잉크방울로 이루어지되,
    상기 제1잉크방울은 낙하중심점이 상기 꼭지점으로부터 이격된 위치에서 상기 친수성구역에 낙하되는 것을 특징으로 하는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법.
  6. 청구항5에 있어서,
    상기 제2잉크방울은 낙하중심점이 상기 직선구간의 경계선 위치와 동일하거나 상기 경계선으로부터 이격된 위치에서 상기 친수성구역에 낙하되는 것을 특징으로 하는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법.
  7. 청구항6에 있어서,
    상기 제2잉크방울의 낙하중심점은 상기 경계선을 기준으로 상기 제1잉크방울의 낙하중심점과 동일한 이격거리 또는 더 먼 거리에 낙하되는 것을 특징으로 하는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법.
  8. 청구항2에 있어서,
    상기 잉크낙하단계에서는,
    상기 경계잉크방울의 낙하 후에 상기 내부잉크방울을 낙하시키는 것을 특징으로 하는 잉크방울의 낙하 위치제어를 통한 인쇄패턴 형성방법.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284274A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Seiko Epson Corp シリコン膜パターンの形成方法
KR101076116B1 (ko) * 2003-09-02 2011-10-21 픽스드로 엘티디. 잉크젯 기술을 이용한 미세 라인을 형성하는 방법 및시스템
KR101144915B1 (ko) * 2008-12-08 2012-05-16 광주과학기술원 자기조립단분자막을 이용한 패턴 형성방법
KR101166358B1 (ko) * 2003-10-28 2012-07-23 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 배선 형성 방법, 박막 트랜지스터 제조 방법, 및 액적 토출방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284274A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Seiko Epson Corp シリコン膜パターンの形成方法
KR101076116B1 (ko) * 2003-09-02 2011-10-21 픽스드로 엘티디. 잉크젯 기술을 이용한 미세 라인을 형성하는 방법 및시스템
KR101166358B1 (ko) * 2003-10-28 2012-07-23 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 배선 형성 방법, 박막 트랜지스터 제조 방법, 및 액적 토출방법
KR101144915B1 (ko) * 2008-12-08 2012-05-16 광주과학기술원 자기조립단분자막을 이용한 패턴 형성방법

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