KR101367784B1 - Gravure plate with cushion property and process for producing the same - Google Patents

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가부시키가이샤 씽크. 라보라토리
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Abstract

인쇄판 특히 쿠션성을 가지는 것에 의해 경질한 피인쇄물에 대해서 블랭킷 롤을 이용하지 않는 직접 그라비아 인쇄가 가능하고, 골판지 인쇄 등, 거친면에 대한 그라비아 인쇄가 적당하게 실시할 수 있어서, 액정패널용 유리에 칼라필터를 구성하기 위한 매트릭스 화상을 칼라인쇄하거나, 또는 컴팩트디스크 등에 화상을 칼라인쇄하는 것에 적합한 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법을 제공한다.The gravure printing without using a blanket roll is possible for a hard to-be-printed object by having a printing plate especially cushioning property, and the gravure printing with respect to the rough surface, such as corrugated cardboard printing, can be performed suitably, and the color for glass for liquid crystal panels A method for producing a gravure plate having a cushioning property suitable for color printing a matrix image for constituting a filter or for color printing an image on a compact disc or the like.

고무 또는 쿠션성을 가지는 수지로 이루어진 쿠션층과, 이 쿠션층의 표면에 형성되고, 동시에 광중합성을 가지고, 적어도 광중합 반응 후에 있어서 쿠션성과, 내쇄력을 가지는 감광성판재층과, 이 감광성판재층의 표면에 형성된 그라비아 셀과, 이 그라비아 셀을 형성한 이 감광성판재층의 표면에 형성된 이산화규소피막을 포함하여 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 이용하여 상기 이산화규소피막을 형성하도록 했다.A cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties, a photosensitive plate layer formed on the surface of the cushion layer and at the same time having a photopolymerization property and having at least a cushion property after the photopolymerization reaction and a frictional force, and the surface of the photosensitive plate layer The silicon dioxide film was formed by using a perhydropolysilazane solution, including a gravure cell formed in the cell and a silicon dioxide film formed on the surface of the photosensitive plate layer on which the gravure cell was formed.

감광성판재층, 이산화규소피막, 광중합성, 퍼하이드로폴리실라잔, 그라비아판, 도포막 Photosensitive plate layer, silicon dioxide film, photopolymerizable, perhydropolysilazane, gravure plate, coating film

Description

쿠션성을 가지는 그라비아판 및 그 제조방법{GRAVURE PLATE WITH CUSHION PROPERTY AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME}Gravure plate having cushion characteristics and manufacturing method thereof {GRAVURE PLATE WITH CUSHION PROPERTY AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME}

본 발명은 골판지 등의 거친면(粗面)에 인쇄하거나, 또는 컴팩트디스크 등에 화상을 인쇄하거나, 또는 액정패널용 유리에 칼라필터를 구성하기 위해 매트릭스 화상을 칼라 인쇄하는 것에 적합한 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법에 관한 것이다.The present invention provides a gravure plate having a cushioning property suitable for printing on a rough surface such as corrugated cardboard, printing an image on a compact disc or the like, or color printing a matrix image for forming a color filter on glass for a liquid crystal panel. It relates to a manufacturing method of.

종래 인쇄판 특히, 액정패널용 유리에 칼라필터를 구성하기 위해 매트릭스 화상을 칼라 인쇄하거나, 또는 컴팩트디스크 등에 화상을 칼라인쇄 하려면, 그라비아 오프셋인쇄 또는 물이 없는 오프셋인쇄가 채용(採用)되고 있고, 그라비아 인쇄는 채용되지 않았다. 그 이유로는 그라비아 인쇄는 쿠션성이 없기 때문에 인쇄압이 증대하면 유리를 깨뜨려 버리기도 하고, 컴팩트디스크 등에 일그러짐을 줄 염려가 있기 때문에 고무로 이루어진 블랭킷롤을 끼우고 인쇄함으로써 인쇄압이 증가할 때는 고무의 변형에 의해 인쇄압의 증대를 억제할 수 있는 그라비아 오프셋인쇄가 적절하기 때문이다.Gravure offset printing or offset printing without water is employed to color print an image of a matrix in order to form a color filter on glass of a printing plate, in particular, a liquid crystal panel, or to print an image on a compact disc or the like. Printing was not adopted. For this reason, gravure printing is not cushioned, so if the printing pressure increases, the glass may be broken, and there is a risk of distortion due to compact discs, etc. This is because gravure offset printing can suppress an increase in printing pressure.

액정패널용 유리에 칼라인쇄 하려면, 유리로 전이한 직후 웨트(wet) 잉크의 막두께를 균일하게 5~6㎛로 하고, 드라이한 잉크의 막두께를 균일하게 1~1.5㎛로 하여, 백 라이트광을 균일하게 투과하고, 동시에 높은 투과율을 보장할 필요가 있다. 또 컴팩트디스크 등에 화상을 칼라인쇄 하려면, 화상이 샤프하게 얻어지는 한도로 잉크의 막두께를 가능한 한 얇게 할 필요가 있다. 그 이유는 컴팩트디스크 등에 인쇄하는 화상은 중심에 대하여 치우쳐서 인쇄되기 때문에, 화상을 형성하고 있는 잉크의 중량이 차세대의 컴팩트디스크 장치의 유체동압축수(流體動壓軸受)를 채용한 스핀들 모터(SPINDLE MOTOR)의 고속회전화를 동반하여, 불균형한 회전의 원인으로서 무시할 수 없게 된다는 것을 알았기 때문이다.In order to color-print on glass for liquid crystal panels, the film thickness of wet ink is made into 5-6 micrometers uniformly immediately after transition to glass, and the film thickness of dry ink may be uniformly 1-1.5 micrometers, It is necessary to transmit light uniformly and at the same time ensure high transmittance. In addition, in order to color print an image on a compact disc or the like, it is necessary to make the film thickness of the ink as thin as possible so long as the image is sharply obtained. The reason for this is that an image to be printed on a compact disc or the like is printed with the center of gravity so that the weight of the ink forming the image is a spindle motor (SPINDLE) employing the fluid dynamic compression of the next generation of compact disc devices. This is because it is known that the high speed rotation of the motor is accompanied and cannot be ignored as a cause of unbalanced rotation.

종래의 그라비아 인쇄판은 구리도금의 표층부에 깊이가 15~25㎛로 되도록 셀을 형성할 필요가 있고, 그렇다면 웨트 잉크의 막두께가 15~25㎛가 되도록 액정패널용 유리에 칼라인쇄하고, 또는 컴팩트디스크 등에 화상을 칼라인쇄하는 것으로는 잉크의 막두께가 너무 두꺼워서 적합하지 않다.The conventional gravure printing plate needs to form a cell so that the depth of the copper plating is 15-25 μm in the surface layer portion, and if so, color printing is performed on the glass for liquid crystal panel so that the wet ink has a thickness of 15-25 μm, or it is compact. Color printing of images on a disk or the like is not suitable because the film thickness of the ink is too thick.

종래의 그라비아 인쇄판에 있어서, 구리도금의 표면에 깊이가 5~6㎛로 되도록 에칭하고, 셀을 에칭 형성할 수 없는 것은 셀의 크기에 의해 에칭 속도에 불규형이 생기고, 셀의 심도가 균일하게 되지 않기 때문이다. 셀의 윤곽이나 저면에 요철이 생기거나, 크기에 의해 깊이가 다른 셀이 생기는 것은 피할 수 없다. 특히 그림자부의 큰 셀에 대하여 깊이가 5~6㎛가 되도록 할 수 있어도, 하이라이트부의 작은 셀에 대해서는 윤곽이나 저면에 요철이 생길 확률이 높고, 깊이가 5~6㎛가 되도록 하는 것은 전혀 바람직하지 않다.In the conventional gravure printing plate, the surface of the copper plating is etched to have a depth of 5 to 6 µm, and the cells cannot be etched to form irregularities in the etching rate due to the size of the cells, and the depth of the cells is uniform. Because it is not. It is unavoidable that irregularities appear on the contours or bottoms of the cells, or cells having different depths due to size. In particular, although the depth can be 5 to 6 µm for the large cell of the shadow portion, it is highly unlikely that the small cells in the highlight portion will have irregularities on the contour or the bottom, and the depth to 5 to 6 µm is not desirable at all. .

그래서 셀의 깊이가 5~6㎛의 그라비아판을 확실하게 얻으려면 유리에 화상을 인화해서 현상하여, 불소산(hydrofluoric acid:HF)으로 에칭하는 것에 의해 깊이가 균일한 꽤 정확한 셀을 형성할 수 있다. 다만, 이것은 그라비아 인쇄로는 되지 않고, 블랭킷롤을 끼우고 인쇄를 실시하는 그라비아 오프셋인쇄로 된다.Therefore, in order to obtain a gravure plate with a depth of 5 to 6 µm, an image may be printed on glass, developed, and etched with hydrofluoric acid (HF) to form a fairly accurate cell with a uniform depth. have. However, this is not gravure printing, but gravure offset printing is performed by sandwiching a blanket roll.

이렇게 해서 종래에는 액정패널용 유리에 칼라인쇄 하거나, 또는 컴팩트디스크 등에 칼라인쇄 하기 위해서는 그라비아 오프셋인쇄 또는 물이 없는 평판 오프셋 인쇄가 채용되고 있고, 그라비아 인쇄는 채용되지 않았다.Thus, gravure offset printing or flat offset printing without water is employed in the prior art for color printing on glass for liquid crystal panels, or color printing on compact discs, etc., and gravure printing is not employed.

한편, 종래의 연성판(수지요판)은 광경화성수지(光硬化性樹脂)에 마스크필름을 겹치고 자외선을 노광(露光) 하거나, 또는 반도체 서멀레이저, YAG레이저 등을 조사하여 현상하고, 또는 광경화성수지에 카본블랙의 피막을 도포하여 레이저에서 카본블랙을 태워 날려서 포지티브화상을 형성하고, 자외선에 의해 최초의 광경화성수지를 인화해서 현상하는 것에 의해 제판하고 있다.On the other hand, a conventional flexible plate (resin plate) is formed by stacking a mask film on a photocurable resin and exposing ultraviolet rays, or by developing a semiconductor thermal laser, a YAG laser, or the like, or photocurable. The film is coated by coating a carbon black film on the resin, burning the carbon black with a laser to form a positive image, and then printing the first photocurable resin with ultraviolet light to develop it.

그렇지만 종래의 인쇄법에 의해 제작되는 액정패널용 칼라필터는 화상의 샤프함이 낮고, 선화상(線畵像)의 에지의 흐트러짐, 선화상의 요철이 있어서, 필름법에 의해 제작되는 액정패널용 칼라필터에 비교해서 현저하게 품질이 뒤떨어지기 때문에 완구관계(玩具關係)밖에 용도가 넓어지지 않고, TFT 부착 컴퓨터디스플레이나 액정텔레비전 등의 고급품에는 전혀 채용되고 있지 않다.However, the liquid crystal panel color filter produced by the conventional printing method has a low sharpness of the image, the edges of the linear image and the irregularities of the linear image, and thus the color of the liquid crystal panel color produced by the film method. Since the quality is remarkably inferior to a filter, only a toy relationship is used, and it is not used at all in high-end goods, such as a computer display with a TFT, and a liquid crystal television.

그라비아 오프셋인쇄에 의해 제작되는 액정패널용 칼라필터의 품질이 뒤떨어지는 원인은 다음과 같이 생각할 수 있다. 그라비아 오프셋인쇄는 블랭킷롤에서 유리 등의 피인쇄물에 잉크를 전이시킬 때에 다소나마 인쇄압이 가해진다. 이 인쇄압은 잉크를 가압하므로 잉크의 윤곽이 바깥쪽으로 넓어지거나 흐트러지고, 이것이 해상성(解像性) 또는 정세성(精細性)의 지표로서 이용되는 라인앤드스페이스의 값 을 작게 할 수 없는 원인 중 하나이다. 또 전이하는 잉크가 판에서 블랭킷롤로, 또한 블랭킷롤에서 유리 등의 피인쇄물로, 각각 100%의 확률로 전이하지 않을 때는 잉크가 당겨서 떨어지는 결과가 되어 유리 등 피인쇄물에 인쇄되는 잉크의 막두께는 균일하지 않고 표면에 요철이 생긴다.The cause of the inferior quality of the color filter for liquid crystal panels produced by gravure offset printing can be considered as follows. In gravure offset printing, printing pressure is somewhat applied when transferring ink from a blanket roll to an object such as glass. This printing pressure presses the ink so that the outline of the ink spreads outwards or becomes distorted, and this is one of the reasons why the value of the line and space used as an index of resolution or fineness cannot be reduced. One. Also, when the transferred ink is transferred from plate to blanket roll, or from blanket roll to to-be-printed glass or the like, if the transfer rate is not 100%, the ink is pulled out and the film thickness of the ink to be printed on the to-be-printed glass is Unevenness and irregularities on the surface.

그라비아 오프셋 인쇄기계의 고정도(高精度)를 어느정도 추구해도 인쇄압을 걸 필요가 있고, 인쇄압의 변동을 제어하는 것은 불가능이다. 따라서 인쇄압이 걸려서 인쇄압이 변동하는 것이 필수적이므로, 블랭킷롤에서 액정패널용 유리에 100%의 확률로 잉크를 전이시키는 것은 실험적으로는 가능하다고 해도 실용화는 매우 곤란하다고 생각할 수 있다.It is necessary to apply printing pressure to some extent in pursuit of the high precision of the gravure offset printing machine, and it is impossible to control the fluctuation of the printing pressure. Therefore, it is necessary to vary the printing pressure due to the printing pressure, and therefore it is considered that practical use is difficult even if it is experimentally possible to transfer the ink with a 100% probability from the blanket roll to the glass for the liquid crystal panel.

한편, 종래의 연성판(수지요판)은 광경화성수지를 사용하고 있으므로, 작은 도트를 주상(柱狀)으로 형성하면 용이하게 꺽여서 파손되어 버리는 경화수지의 취성(脆性)을 해소할 수 없고, 고선명한 판을 제작할 수 없었다. On the other hand, since the conventional flexible plate (resin plate) uses a photocurable resin, the brittleness of the cured resin, which easily breaks and breaks when small dots are formed in a columnar shape, cannot be removed. Could not produce a high-definition plate.

그래서 본 출원인은 고무, 또는 쿠션성을 가지는 수지로 이루어진 쿠션층에 감광성판재층(感光性版材層)을 형성하고, 감광성판재층의 표면에 그라비아 화상을 가지는 마스크를 적층하거나 겹치고, 자외선을 조사하여, 마스크를 없애고 제거하는 현상을 하여, 상기 감광성판재층에 그라비아 셀을 형성하고, 그 다음에 DLC막을 형성하는 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법을 이미 제안했다(특허문헌 1).Thus, the present applicant forms a photosensitive plate layer on a cushion layer made of rubber or a resin having a cushion property, and laminates or superimposes a mask having a gravure image on the surface of the photosensitive plate layer and irradiates ultraviolet rays. A process for producing a gravure plate having a cushion property of forming a gravure cell in the photosensitive plate material layer and then forming a DLC film has been proposed (Patent Document 1).

특허문헌1: 일본 특개2000-199949호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-199949

발명의 개시DISCLOSURE OF INVENTION

발명이 해결하고자 하는 과제Problems to be solved by the invention

본 발명은 상술한 점에 고려하여 도출된 것이므로, 인쇄판 특히 쿠션성을 가지는 것에 의해 경질의 피인쇄물에 대하여 블랭킷롤을 사용하지 않고 직접 그라비아 인쇄가 가능하고, 골판지 인쇄 등, 거친면에 대하여 그라비아 인쇄를 양호하게 실시할 수 있고, 액정패널용 유리에 칼라필터를 구성하기 위해 매트릭스 화상을 칼라인쇄하거나, 또는 컴팩트디스크 등에 화상을 칼라인쇄 하는데 적합한 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. Since the present invention has been derived in consideration of the above-mentioned points, gravure printing can be directly performed without using a blanket roll for hard to-be-printed materials by having a printing plate, especially cushioning properties, and gravure printing can be performed on rough surfaces such as cardboard printing. An object of the present invention is to provide a method for producing a gravure plate, which can be satisfactorily carried out and has a cushioning property suitable for color printing a matrix image for forming a color filter on glass for liquid crystal panels, or for color printing an image on a compact disc or the like. have.

과제를 해결하기 위한 수단Means for solving the problem

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 쿠션성을 가지는 그라비아판은 고무 또는 쿠션성을 가지는 수지로 이루어진 쿠션층과, 이 쿠션층의 표면에 형성되고, 동시에 광중합성을 가지고, 적어도 광중합반응 후에 있어서 쿠션성과 내쇄력(耐刷力)을 가지는 감광성판재층과, 이 감광성판재층의 표면에 형성된 그라비아 셀과, 이 그라비아 셀을 형성한 이 감광성판재층의 표면에 형성된 이산화규소피막을 포함하고, 퍼하이드로폴리실라잔(perhydro-polysilazane)용액을 이용하여 상기 이산화규소피막을 형성하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the gravure plate having the cushioning property of the present invention is formed on the surface of the cushioning layer made of rubber or resin having a cushioning property and the cushioning layer, and at the same time has photopolymerization property, and at least after the photopolymerization reaction, A photosensitive plate material layer having a frictional force, a gravure cell formed on the surface of the photosensitive plate material layer, and a silicon dioxide film formed on the surface of the photosensitive plate layer on which the gravure cell is formed; The silicon dioxide film is formed by using a silazane (perhydro-polysilazane) solution.

본 발명의 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법은 고무 또는 쿠션성을 가지는 수지로 이루어진 쿠션층의 표면에 광중합성을 가지고, 적어도 광중합반응 후에 있어서 쿠션성과 내쇄력을 가지는 감광성판재층을 형성하는 공정과, 이 감광성판재층의 표면에 형성된 그라비아 셀을 형성하는 공정과, 이 그라비아 셀을 형성한 이 감광성판재층의 표면을 피복하는 이산화규소피막을 형성하는 공정을 가지고, 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 이용하여 상기 이산화규소피막을 형성하는 것을 특징으로 한다.The method for producing a gravure plate having a cushioning property of the present invention comprises the steps of forming a photosensitive plate material layer having photopolymerization on the surface of a cushion layer made of rubber or a resin having a cushioning property, and at least after the photopolymerization reaction, having a cushioning property and a breaking force; A step of forming a gravure cell formed on the surface of the photosensitive plate layer and a step of forming a silicon dioxide film covering the surface of the photosensitive plate layer on which the gravure cell is formed, using a perhydropolysilazane solution The silicon dioxide film is formed.

본 발명방법은 본 발명의 그라비아판을 제조하기 위해 이용될 수 있다. 상기 감광성판재층은 적어도 광중합성 반응 후 즉, 광중합 반응의 전후 또는 후에 있어서 쿠션성과 내쇄력을 가지는 것이다.The method of the present invention can be used to prepare the gravure plate of the present invention. The photosensitive plate layer has cushioning properties and abrasion resistance at least after the photopolymerization reaction, that is, before or after the photopolymerization reaction.

상기 쿠션층이 노출되지 않도록 상기 감광성판재층의 표면에 그라비아 셀을 형성해도 되고, 또는 상기 쿠션층이 노출 되도록 상기 감광성판재층의 표면에 그라비아 셀을 형성하는 것도 할 수 있다.A gravure cell may be formed on the surface of the photosensitive plate material layer so that the cushion layer is not exposed, or a gravure cell may be formed on the surface of the photosensitive plate material layer so that the cushion layer is exposed.

상기 이산화규소피막을 형성하는 방법으로서는 상기 감광성판재층의 표면에 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 도포하고, 소정의 막두께의 퍼하이드로폴리실라잔 도포막을 형성하는 도포막형성공정과, 상기 도포된 퍼하이드로폴리실라잔 도포막을 과열수증기에 의한 소정의 조건으로 가열처리하여 소정의 경도의 이산화규소피막을 상기 감광성판재층의 표면에 형성하는 공정을 가지고, 상기 가열처리가 제 1차 및 제 2차 가열처리를 포함하는 복수단계의 가열처리이고, 제 1차 가열처리의 조건을 100℃∼170℃, 1분∼30분 및 제 2차 가열처리의 조건을 140℃∼200℃, 1분∼30분으로 하고, 제 2차 가열처리의 온도를 제 1차 가열처리의 온도보다도 높게 설정하도록 한 구성을 채용하는 것이 적합하다. 상기 제 2차 가열처리의 온도를 제 1차 가열처리의 온도보다도 5℃이상, 바람직하게는 10℃이상 높게 설정하는 것이 좋다.As a method of forming the silicon dioxide film, a coating film forming step of applying a perhydropolysilazane solution to the surface of the photosensitive plate material layer and forming a perhydropolysilazane coating film having a predetermined film thickness, and the applied fur Heat treating the hydropolysilazane coating film under a predetermined condition by superheated steam to form a silicon dioxide film having a predetermined hardness on the surface of the photosensitive plate layer, wherein the heat treatment is performed for the first and second heating. It is the heat processing of several steps including processing, The conditions of a 1st heat processing are 100 degreeC-170 degreeC, 1 minute-30 minutes, and The conditions of a second heat treatment are 140 degreeC-200 degreeC, 1 minute-30 minutes It is preferable to adopt a configuration in which the temperature of the second heat treatment is set higher than the temperature of the first heat treatment. It is good to set the temperature of the said 2nd heat processing 5 degreeC or more, Preferably it is 10 degreeC or more higher than the temperature of a 1st heat processing.

상기 가열처리에 의해 형성된 이산화규소피막의 표면을 냉수 또는 온수로 세정하는 공정을 더 마련하는 것에 의해, 얻어진 이산화규소피막의 경도를 더욱 더 향상시키는 것이 가능하다.By further providing a step of washing the surface of the silicon dioxide film formed by the heat treatment with cold water or hot water, it is possible to further improve the hardness of the obtained silicon dioxide film.

본 발명의 쿠션성을 가지는 그라비아판에 있어서는 상기 이산화규소피막의 두께가 0.1∼5㎛, 바람직하게는 0.1~3㎛, 더 바람직하게는 0.1~1㎛인 것이 바람직하다. In the gravure plate which has the cushion property of this invention, it is preferable that the thickness of the said silicon dioxide film is 0.1-5 micrometers, Preferably it is 0.1-3 micrometers, More preferably, it is 0.1-1 micrometer.

상기 그라비아 셀의 형성은 감광성판재층의 표면에 자외선 등의 광선을 차단하는 그라비아 화상인 마스크화상을 가지는 마스크를 겹치고, 자외선 등의 광선을 조사하여, 상기 감광성판재층의 표면에 광중합 반응을 일으켜서, 상기 마스크를 제거하여 현상하는 것에 의해, 상기 감광성판재층의 표면에 그라비아 셀을 형성하는 것 의해 행해지는 것이 바람직하다. Formation of the gravure cell overlaps a mask having a mask image, which is a gravure image that blocks light such as ultraviolet rays, on the surface of the photosensitive plate layer, irradiates light such as ultraviolet rays, and causes a photopolymerization reaction to the surface of the photosensitive plate layer, It is preferable to carry out by forming a gravure cell on the surface of the said photosensitive board material layer by removing and developing the said mask.

도 1은 본 발명의 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조공정을 모식적으로 나타내는 설명도이며, (a)는 고무 또는 쿠션성을 가지는 수지로 이루어진 쿠션층을 표면에 형성한 중공 롤(판모재)의 전체단면도, (b)는 쿠션층의 표면에 감광성판재층을 형성한 상태를 나타내는 부분 확대단면도, (c)는 감광성판재층의 표면에 마스크를 만든 상태를 나타내는 부분 확대단면도, (d)는 감광성판재층의 표면에 그라비아 셀을 형성한 상태를 나타내는 부분 확대단면도, (e)는 감광성판재층의 표면에 퍼하이드로폴리실라잔 도포막을 형성한 상태를 나타내는 부분 확대단면도, (f)는 퍼하이드로폴리실라잔 도포막을 과열수증기에 의한 열처리에 의해 이산화규소피막으로 한 상태를 나타내는 부분 확대단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing which shows typically the manufacturing process of the gravure plate which has cushion characteristics of this invention, (a) is the whole of the hollow roll (former plate base material) which formed the cushion layer which consists of rubber | gum or resin which has cushion characteristics on the surface. Sectional drawing, (b) is a partial enlarged sectional view which shows the state which formed the photosensitive plate layer on the surface of a cushion layer, (c) is a partial enlarged sectional view which shows the state which made the mask on the surface of the photosensitive plate layer, (d) is a photosensitive plate material Partial enlarged cross-sectional view showing a state where a gravure cell is formed on the surface of the layer, (e) is a partially enlarged cross-sectional view showing a state where a perhydropolysilazane coating film is formed on the surface of the photosensitive plate layer, and (f) is a perhydropolysila It is a partial enlarged sectional view which shows the state which made the residual coating film into the silicon dioxide film by the heat processing by superheated steam.

도 2는 본 발명의 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법을 나타내는 플로 우차트이다.2 is a flow chart showing a method for producing a gravure plate having a cushioning property of the present invention.

도 3은 본 발명의 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법의 다른 예를 나타내는 도 1과 같은 도면이다.3 is a view similar to FIG. 1 showing another example of the method for manufacturing a gravure plate having a cushioning property of the present invention.

부호의 설명Explanation of symbols

10: 판모재, 10a: 그라비아판(그라비아제판 롤), 11a: 중공 롤, 11b: 쿠션층, 12: 감광성판재층, 13: 마스크, 14: 그라비아 셀, 16: 퍼하이드로폴리실라잔 도포막, 18: 이산화규소피막10: base material, 10a: gravure plate (gravure plate roll), 11a: hollow roll, 11b: cushion layer, 12: photosensitive plate layer, 13: mask, 14: gravure cell, 16: perhydropolysilazane coating film, 18: silicon dioxide film

이하에서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 이러한 실시의 형태는 예시적으로 나타낸 것이므로, 본 발명의 기술사상에서 벗어나지 않는 한 다양한 변형이 가능하다는 것은 말할 것도 없다. Although the embodiment of the present invention is described below, these embodiments are shown by way of example, it goes without saying that various modifications are possible without departing from the technical spirit of the present invention.

도 1에 있어서, 부호 (10)는 판모재이며, 알루미늄, 철 등의 금속제 또는 탄소섬유강화수지(CFRP)제의 중공 롤(11a)의 표면에 쿠션층(11b)을 만든 것이 사용되고 있다(도 2의 스텝100). 이 쿠션층(11b)은 고무 또는 쿠션성을 가지는 수지로 이루어고, 1㎜~10㎝정도의 균일한 두께로 표면의 평활도(平滑度)가 높은 시트상의 것을 이음매로 틈사이가 열리지 않도록 중공 롤(11a)에 감아서 굳게 접착하고, 그 후 정밀원통 연삭(硏削) 및 경면 연마(硏磨)된다.In FIG. 1, the code | symbol 10 is a board | substrate material, and what made the cushion layer 11b on the surface of the hollow roll 11a made of metals, such as aluminum and iron, or carbon fiber reinforced resin (CFRP), is used (FIG. 2, step 100). The cushion layer 11b is made of a rubber or resin having cushioning properties, and has a uniform thickness of about 1 mm to 10 cm to provide a sheet-like sheet with high surface smoothness so that the gap does not open with a seam. It is wound up by 11a) and adhere | attached firmly, after that, precision cylinder grinding and mirror polishing are performed.

그 다음에, 상기 쿠션층(1lb)의 표면에 감광성판재층(12)을 형성한다(도 2의 스텝102). 감광성판재층(12)은 광중합성을 가지고, 적어도 광중합 반응 후에 있어서, 적당한 쿠션성과 내쇄력을 가지는 감광성판재층에 의해 형성된다. 상기 감광성 판재로서는 감광제 또는 감광성 시트상 물건을 이용할 수 있고, 상기 쿠션층(1lb)에 감광제를 도포 또는 감광성 시트를 적층하고, 감광성판재층이 형성된다. 감광성판재의 재료로서 이용할 수 있는 감광성조성물로서는 공지의 네거티브(negative)형 감광성조성물 및 포지티브형 감광성 조성물을 들 수 있지만, 네거티브형 감광성조성물이 적합하며, 네거티브형 감광성조성물을 이용해서 네거티브형 감광성판재층을 형성하는 것이 바람직하다. 상기 감광성조성물로서는 예를 들면, 감광성엘라스토머(elastomer)조성물(디엔계 폴리머, 에틸렌성 불포화화합물 및 광중합개시제를 주성분으로 하는 것이므로 예를 들면, 일본 특개평5-249695호 공보에 개신된 것을 사용가능하다)을 들 수 있다. Next, the photosensitive plate layer 12 is formed on the surface of the cushion layer 1 lb (step 102 in FIG. 2). The photosensitive plate layer 12 is formed of a photosensitive plate layer having photopolymerization and at least after the photopolymerization reaction, having a suitable cushioning property and a breaking resistance. As said photosensitive board | plate material, a photosensitive agent or a photosensitive sheet-like thing can be used, a photosensitive agent is apply | coated or the photosensitive sheet is laminated | stacked on the said cushion layer 1lb, and the photosensitive plate material layer is formed. As a photosensitive composition which can be used as a material of a photosensitive board | plate material, well-known negative photosensitive composition and positive photosensitive composition are mentioned, A negative photosensitive composition is suitable, and a negative photosensitive plate layer is used using a negative photosensitive composition. It is preferable to form As the photosensitive composition, for example, a photosensitive elastomer composition (since it is mainly composed of a diene polymer, an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator, can be used, for example, disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-249695). ).

상기 형성된 감광성판재층 (즉, 그라비아 셀을 형성하는 공정 전의 감광성판재층)의 막두께에 대해서는 특별한 한정은 없고, 판의 사용 목적과 관련하여 셀의 깊이나, 감광성판재층(12)의 형성의 용이성, 비용, 현상(現像)과 관련하여 적절하게 결정할 수 있다. There is no particular limitation on the film thickness of the formed photosensitive plate layer (i.e., the photosensitive plate layer before the step of forming the gravure cell), and the depth of the cell and the formation of the photosensitive plate layer 12 in relation to the purpose of use of the plate. Decisions can be made as to ease, cost, and development.

감광성판재층(12)의 막두께를 셀의 깊이와 같다고 하는 것에 의해 쿠션층 (1lb)이 노출하도록 셀이 형성되어([도 3(d)]), 감광성판재층(12)의 막두께를 셀의 깊이보다도 두껍게 하는 것에 의해 쿠션층(1lb)이 노출하지 않고, 감광성판재층 (12)의 표면에 셀이 형성된다([도 1(d)]). 셀의 깊이가 깊은(예를 들면, 심도 1mm이상)의 경우, 감광성판재로서 감광성 시트상 물건을 이용하는 것이 바람직하고, 셀의 깊이가 얕은(예를 들면, 심도 1mm미만) 경우, 감광성판재로서 감광제를 이용하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 그라비아 셀의 심도가 2∼20μm의 경우, 감광제 를 이용해서 2∼30μm의 감광성판재층을 형성하는 것이 바람직하다. By saying that the film thickness of the photosensitive plate layer 12 is equal to the depth of the cell, the cell is formed so as to expose the cushion layer 1 lb ([FIG. 3 (d)]), thereby reducing the film thickness of the photosensitive plate layer 12. By making it thicker than the depth of a cell, a cell is formed in the surface of the photosensitive board material layer 12 without exposing the cushion layer 1lb (FIG. 1 (d)). When the depth of the cell is deep (for example, 1 mm or more in depth), it is preferable to use a photosensitive sheet-like article as a photosensitive plate material, and when the cell depth is shallow (for example, less than 1 mm in depth), a photosensitive agent as a photosensitive plate material It is preferable to use. For example, when the depth of a gravure cell is 2-20 micrometers, it is preferable to form the 2-30 micrometers photosensitive plate material layer using a photosensitive agent.

예를 들면, 골판지 인쇄 등에서는 그라비아 셀의 깊이를 1밀리 이상으로 하기 때문에 감광성판재층(12)의 막두께는 그것보다도 몇 mm 두껍게 하는 것이 바람직하다. For example, in corrugated cardboard printing or the like, the depth of the gravure cell is set to 1 mm or more, so that the film thickness of the photosensitive plate material layer 12 is preferably several mm thicker than that.

이 감광성판재층(12)은 통상은 시트 상의 감광성판재를 감아서 접착하고, 그 후 정밀원통 연마하는 것에 의해 형성된다. 상기 감광성판재는 표면평활도가 높은 시트 상이며, 이음매로 틈사이가 열리지 않도록 감는 것이 바람직하다. This photosensitive plate material layer 12 is normally formed by winding and bonding the photosensitive plate material on a sheet | seat, and then precision-cylindrical grinding. It is preferable that the said photosensitive plate material is a sheet form with high surface smoothness, and it winds so that a gap does not open with a joint.

또 예를 들면, 액정패널용 유리에 칼라필터를 구성하기 위해 매트릭스 화상을 칼라인쇄하려면 잉크 막두께가 균일해지도록 하기 위해서 그라비아 셀을 균일한 깊이, 예를 들면, 5∼6μm의 깊이로 형성할 필요가 있다. 따라서, 감광성판재층(12)을 감광제의 코팅에 의해 셀의 심도와 동일한 두께가 되도록 형성하고, 쿠션층(1lb)이 노출하도록 셀을 형성하는 것이 바람직하다([도 3(d)]). 더 바람직하게는 쿠션층(1lb)을 실리콘 고무에 의해 형성하여 셀에 담겨지는 잉크의 액정패널용 유리에 전이성(戰移性)을 높이는 것이 좋다. For example, in order to color-print a matrix image in order to form a color filter on glass for liquid crystal panels, a gravure cell may be formed at a uniform depth, for example, 5-6 μm in order to make the ink film uniform. There is a need. Therefore, it is preferable to form the photosensitive plate layer 12 so as to have the same thickness as the depth of the cell by coating the photosensitive agent, and to form the cell so that the cushion layer 1 lb is exposed ([FIG. 3 (d))). More preferably, the cushion layer 1lb is formed of silicone rubber to increase the transferability to the liquid crystal panel glass of the ink contained in the cell.

컴팩트디스크 등도 지극히 엷은 잉크 막두께로 이루어지게 되므로, 셀의 깊이를 몇μm으로 한다. 감광성판재층(12)의 막두께는 1∼2mm이여도 되고, 또는 코팅에 의해 5∼6μm의 박막으로 하여도 된다. 요컨대, 감광성판재층(12)의 형성의 용이성, 비용, 현상과 관련하여 적절하게 결정할 수 있다. Since a compact disc or the like also has an extremely thin ink film thickness, the cell depth is several μm. The film thickness of the photosensitive plate material layer 12 may be 1-2 mm, or may be 5-6 micrometers thin film by coating. In short, it can be appropriately determined in terms of the ease, cost, and development of the photosensitive plate layer 12.

계속해서, 포토리소그래피(photolithography)에 의해 감광성판재층(12)의 표면에 그라비아 셀(14)을 형성한다(도 2의 스텝104). Then, the gravure cell 14 is formed in the surface of the photosensitive board material layer 12 by photolithography (step 104 of FIG. 2).

포토리소그래피의 순서에 대해서, 감광성판재층(12)으로서 네거티브형 감광성판재층을 이용했을 경우를 예로서 이하에 설명한다. About the procedure of photolithography, the case where a negative photosensitive plate layer is used as the photosensitive plate layer 12 is demonstrated below as an example.

도 1(c)에 나타내는 것처럼 감광성판재층(12)의 표면에 그라비아 화상인 마스크 화상을 가지는 마스크(13)를 적층하거나 또는 밀착하여 겹치고, 광선(자외선 등)을 필요한 시간만 조사하고, 감광성판재층(12)의 필요한 부분에 광중합 반응을 생기게 하여, 현상액에 대하여 비화선부(非畵線部)를 불용화한다. As shown in Fig. 1 (c), the mask 13 having a mask image, which is a gravure image, is laminated on or stacked in close contact with the surface of the photosensitive plate layer 12, and only a necessary time is irradiated with a light ray (ultraviolet ray, etc.). A photopolymerization reaction is caused to a required portion of the layer 12 to insolubilize the non-sun line portion with respect to the developer.

마스크(13)의 형성방법은 특히 제한은 없지만 예를 들면, 카본 함유 폴리머에 의해 이루어지는 흑색코팅제 또는 네거티브형의 포토크로믹제를 코팅에 의해 성막하고, YAG레이저 또는 반도체 레이저를 조사하는 것에 의해, 그라비아 화상의 비화선부에 대응시켜서 감광성판재층(14)을 날려서 노출하거나 투과하도록 형성하는 방법이나, 그라비아 화상의 비화선부가 투명한 네거티브형의 마스크필름을 이용하는 방법, 감광제를 상기 감광성판재층에 코팅하여, 전자파조사에 의해 광중합 반응을 일으켜 현상하는 것에 의해 형성하는 네거티브형의 레지스트(registration)화상으로 하는 방법 등을 들 수 있다. Although the formation method of the mask 13 is not restrict | limited, For example, the black coating agent or negative photochromic agent which consists of a carbon containing polymer is formed into a film by coating, and it irradiates a YAG laser or a semiconductor laser, and is gravure. A method of forming the photosensitive plate layer 14 so as to be blown to expose or transmit in correspondence with the non-sensitized portion of the image, a method using a negative mask film having a transparent non-sensitized portion of the gravure image, and a photosensitive agent is coated on the photosensitive plate layer, And a method of forming a negative resist image formed by causing a photopolymerization reaction by electromagnetic radiation to develop.

상기 카본 함유 폴리머에 의해 이루어지는 흑색코팅제로서는 니트로셀룰로오스(nitrocellulose) 또는 파라히드록시스틸렌과 블랙카본을 혼합하여 이루어지는 것을 선택하면, 반도체 레이저에 의한 인화가 양호하게 되어 에너지 절약을 도모할 수 있기 때문에 바람직하다. The black coating agent made of the carbon-containing polymer is preferably selected from a mixture of nitrocellulose or parahydroxy styrene and black carbon, because the printing by the semiconductor laser is favorable and energy saving can be achieved. .

상기 네거티브형의 포토크로믹제로서는 유색 때에 자외선 차폐성을 가지고 레이저 조사에 의해 투명하게 되는 유기포토크로믹분자 단독, 또는 유기포토크로믹 분자와 고분자와의 상용체를 이용하는 것이 반도체 레이저에 의한 인화가 양호하게 되어 에너지 절약을 도모할 수 있기 때문에 바람직하다.As the negative photochromic agent, the use of an organic photochromic molecule alone or a mixture of organic photochromic molecules and a polymer that becomes transparent by laser irradiation when UV colored and transparent is satisfactory. This is preferable because energy saving can be achieved.

계속해서, 도 1(d)에 나타내는 것처럼 마스크(13)를 제거하여 현상하고 감광성판재층(12)의 광중합 한 부분을 남겨 미노광부분(未露光部分)을 쿠션층(1lb)이 노출하지 않는 한도에 현상액으로 용해하여 그라비아 셀(14)을 형성하고, 계속해서 광선(자외선 등)을 전면조사하여, 감광성판재층(12)의 광중합 하지 않은 부분도 광중합 시켜서 안정화 처리한다. Subsequently, the mask 13 is removed and developed as shown in Fig. 1 (d), leaving the photopolymerized portion of the photosensitive plate layer 12 so that the unexposed portion does not expose the cushion layer 1lb. The gravure cell 14 is formed by dissolving with a developing solution to the limit, followed by full irradiation with light rays (ultraviolet rays, etc.), and photopolymerization of the non-photopolymerized portion of the photosensitive plate material layer 12 is then stabilized.

감광성판재층(12)에 대한 현상액은 예를 들면, 일본 특개평4-18564호 공보, 일본 특개평4-285967호 공보, 일본 특개평5-249695호 공보, 일본 특개평6-258847호 공보, 일본 특개평7-234523호 공보, 일본 특개평8-95257호 공보 등에 나타내지는 현상제를 사용할 수 있다. The developing solution for the photosensitive plate layer 12 is, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-18564, Japanese Patent Laid-Open No. 4-285967, Japanese Patent Laid-Open No. 5-249695, Japanese Patent Laid-Open No. 6-258847, The developer shown in Unexamined-Japanese-Patent No. 7-234523, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-95257, etc. can be used.

감광성판재층(12)으로서 네거티브형 감광성판재층을 이용했을 경우, 감광성 판재층은 빛(자외선 등)조사에 의해 광중합 반응을 일으켜 현상액에 대해서 용성(溶性)이 되는 감광제 또는 감광성 시트 상 물건을 상기 쿠션층에 코팅에 의해 박막 형성하고 또는 적층하여 이루어지고, 이것에 대하여 마스크는 카본 함유 폴리머에 의해 이루어지는 흑색코트제, 또는 포지티브형의 포토크로믹제를 상기 감광성판재층에 코트하고, 레이저 조사에 의해 상기 그라비아 화상의 화선부에 대응시켜서 상기 감광성판재층을 노출 또는 투과하도록 형성하거나 또는 상기 그라비아 화상의 화선부가 투명한 포지티브형의 마스크필름이거나 또는 감광제를 상기 감광성판재층에 코트하고 전자파조사에 의해 광중합반응을 일으켜 현상하는 것에 의해 형성하는 포지티브형의 레지스트 화상을 들 수 있다. When the negative photosensitive plate layer is used as the photosensitive plate layer 12, the photosensitive plate layer causes a photopolymerization reaction by irradiation of light (ultraviolet rays, etc.), so that the photosensitive agent or a photosensitive sheet-like article which becomes soluble to the developer is mentioned above. A thin film is formed or laminated on the cushion layer by coating. On the other hand, the mask is coated with a black coat agent made of a carbon-containing polymer, or a positive photochromic agent on the photosensitive plate material layer, and subjected to laser irradiation. The photosensitive plate layer may be formed to expose or transmit the photosensitive plate layer in correspondence with the line portion of the gravure image, or the line portion of the gravure image may be a transparent positive mask film, or a photosensitive agent may be coated on the photosensitive plate layer and subjected to photopolymerization reaction by electromagnetic wave irradiation. Positive type to form by developing There may be mentioned a resist image.

따라서, 마스크 한 감광성판재층을 빛(자외선 등)조사하면 그라비아 화상의 화선부가 광중합 반응을 일으켜 현상액에 대하여 용성이 이루어지고, 마스크를 제거하여 현상을 실시하면, 그라비아 셀을 형성할 수 있다. 감광성판재층(12)이 네거티브형과 포지티브형의 어느 것이여도 상기의 현상액을 사용할 수 있다.Therefore, when the masked photosensitive plate layer is irradiated with light (ultraviolet rays, etc.), the oxidized portion of the gravure image causes a photopolymerization reaction, solubility is achieved in the developer, and when the mask is removed and developed, a gravure cell can be formed. Any of the negative type and the positive type of the photosensitive plate layer 12 can use the above developer.

이 실시의 형태에서는 감광성판재층(12)에 쿠션층(11b)가 노출하지 않도록 그라비아 셀(14)을 형성하지만, 후술하는 도 3에 나타난 것처럼 쿠션층(11b)이 노출하도록 감광성판재층(12)의 표면에 그라비아 셀(14)을 형성하는 것도 가능하다. 예를 들면, 상기와 같이 액정패널용 유리에 칼라필터를 구성하기 위해 매트릭스 화상을 칼라인쇄하기 위한 것일 때는 감광성판재층(12)을 코팅에 의해 5~6μm의 두께가 되도록 형성하고, 후술하는 도 3에 나타난 것처럼 쿠션층(11b)이 노출하도록 그라비아 셀(14)을 형성하는 것이 바람직하다.In this embodiment, the gravure cell 14 is formed so that the cushion layer 11b is not exposed to the photosensitive plate layer 12, but the photosensitive plate layer 12 is exposed so that the cushion layer 11b is exposed as shown in FIG. It is also possible to form the gravure cell 14 on the surface of). For example, in order to color-print a matrix image to form a color filter on the glass for liquid crystal panel as described above, the photosensitive plate layer 12 is formed to have a thickness of 5 to 6 μm by coating, and will be described later. As shown in Fig. 3, it is preferable to form the gravure cell 14 so that the cushion layer 11b is exposed.

그 다음에, 도 1(e)에 나타낸 것처럼 감광성판재층(12)의 셀(14)이 형성된 표면에 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 도포하고, 퍼하이드로폴리실라잔 도포막(16)을 형성한다(도 2의 스텝106).Subsequently, a perhydropolysilazane solution is applied to the surface on which the cells 14 of the photosensitive plate layer 12 are formed, as shown in Fig. 1E, to form a perhydropolysilazane coating film 16. (Step 106 in Fig. 2).

　퍼하이드로폴리실라잔 도포막(16)의 형성방법으로서는 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 스프레이(spray)코트, 잉크젯트(inkjet)도포, 메니스커스(meniscus)코트, 파운딩(pounding)코트, 딥(deep)코트, 회전도포, 롤(roll)도포, 와이어바도포, 에어나이프(air-knife)도포, 블레이드도포, 커튼도포 등의 공지의 도포방법을 이용하여 도포하면 된다.As a method of forming the perhydropolysilazane coating film 16, a perhydropolysilazane solution is sprayed, inkjet coated, meniscus coat, pounding coat, dip ( deep) coating, rotary coating, roll coating, wire bar coating, air-knife coating, blade coating, curtain coating, or the like.

상기 퍼하이드로폴리실라잔을 용해하는 용제로서는 공지의 것이 사용되지만 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에테르, THF, 염화메틸렌, 사염화탄소, 아니솔, 데카린, 사이클로헥센, 메틸사이클로헥산, 에틸사이클로헥산, 솔베솔, 데카히드로나프탈렌, 메틸터셜부틸에테르, 디이소프로필에테르, 리모넨, 헥산, 옥탄, 노난, 데칸, C8-C11 알칸혼합물, C18-C11 방향족탄화수소혼합물, C8 이상의 방향족탄화수소를 5중량%이상 25중량%이하로 함유하는 지방족/지환식 탄화수소혼합물 및 디부틸에테르 등을 사용할 수 있다.As the solvent for dissolving the perhydropolysilazane, a known one is used, but for example benzene, toluene, xylene, ether, THF, methylene chloride, carbon tetrachloride, anisole, decarin, cyclohexene, methylcyclohexane, ethylcyclohexane 5% or more by weight of solbesol, decahydronaphthalene, methyl tert-butyl ether, diisopropyl ether, limonene, hexane, octane, nonane, decane, C8-C11 alkanes mixture, C18-C11 aromatic hydrocarbon mixture, C8 or more aromatic hydrocarbons Aliphatic / alicyclic hydrocarbon mixtures containing not more than 25% by weight, dibutyl ether and the like can be used.

　이러한 용제는 단독으로 이용되어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 용제의 사용량은 특히 제한은 없고, 용액의 도포 방법에 의해 적절하게 선택하면 되지만, 예를 들면, 스프레이코트법이나 파운팅코트법에 의해 도포하는 경우, 용액 중에 퍼하이드로폴리실라잔을 0.5질량% ~ 10질량% 포함하도록 용제를 이용하는 것이 바람직하다.Such a solvent may be used independently and may use 2 or more types together. There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a solvent, Although what is necessary is just to select suitably by the coating method of a solution, For example, when apply | coating by a spray coat method or a coating coat method, 0.5 mass% of perhydropolysilazane in a solution is carried out. It is preferable to use a solvent so that it may contain-10 mass%.

상기한 각종 용제에 용해되고 제작되는 퍼하이드로폴리실라잔용액은 그대로 과열수증기에 의한 가열처리에 의해 이산화규소로 전화하지만, 반응속도의 증가, 반응시간의 단축, 반응온도의 저하, 형성되는 이산화규소피막의 밀착성의 향상 등을 도모할 목적으로 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 촉매도 공지되어 있고, 예를 들면 아민이나 팔라디움(Palladium)이 사용되지만, 구체적으로는 유기아민, 예를 들면 C1-5의 알킬기가 1-3개 배치된 제1 - 제3급의 직선 체인형 지방족아민, 페닐기가 1-3개 배치된 제1 - 제3급의 방향족아민, 피리딘(pyridine) 또는 이것에 메틸, 에틸기 등의 알킬기가 핵 치환된 고리형 지방족아민 등을 들 수 있고, 더 바람직한 것으로서 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노부틸아민, 모노프로필아민, 디프로필아민 등을 들 수 있다. 이들 촉매는 퍼하이드로폴리실라잔 용액에 미리 첨가해두어도 되고, 또 과열 수증기에 의한 가열처리 할 때 처리 분위기 중에 기화상태로 함유시킬 수도 있다. The perhydropolysilazane solution dissolved and prepared in the above various solvents is converted into silicon dioxide by heat treatment with superheated steam as it is, but the reaction rate is increased, the reaction time is shortened, the reaction temperature is decreased, and the silicon dioxide formed. It is preferable to use a catalyst for the purpose of improving the adhesiveness of a film, etc. These catalysts are also known and, for example, amines or palladiums are used, but concretely, primary to tertiary linear chains in which 1-3 alkyl groups of organic amines, for example C1-5, are arranged And type aliphatic amines, aromatic tertiary amines having 1 to 3 phenyl groups arranged thereon, pyridine or cyclic aliphatic amines in which alkyl groups such as methyl and ethyl groups are nuclearly substituted. Preferred examples thereof include diethylamine, triethylamine, monobutylamine, monopropylamine, dipropylamine, and the like. These catalysts may be added to the perhydropolysilazane solution in advance, or may be contained in a vaporized state in the treatment atmosphere when the heat treatment is performed by superheated steam.

계속해서, 상기 퍼하이드로폴리실라잔 도포층(16)에 대해서 가열처리, 바람직하게는 과열수증기에 의한 열처리를 실시하는(도 2의 스텝108) 것에 의해 이산화규소피막(18)으로 한다(도 2의 스텝110).Subsequently, the perhydropolysilazane coating layer 16 is subjected to heat treatment, preferably heat treatment by superheated steam (step 108 in FIG. 2) to obtain the silicon dioxide film 18 (FIG. 2). Step 110).

상기 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm, 바람직하게는 0.1~3μm, 더 바람직하게는 0.1~1μm인 것이 바람직하다.It is preferable that the thickness of the said silicon dioxide film is 0.1-5 micrometers, Preferably it is 0.1-3 micrometers, More preferably, it is 0.1-1 micrometer.

상기 퍼하이드로폴리실라잔 도포막의 가열수증기로서는 과열수증기에 의한 소정의 조건으로 가열처리 하는 것이 바람직하다. 과열수증기의 온도로서는 일반적으로 100℃~300℃가 이용되지만, 본 발명에 있어서는 100℃~200℃, 바람직하게는 105℃~200℃가 적합하게 이용 될 수 있다.As heating water vapor of the said perhydropolysilazane coating film, it is preferable to heat-process on predetermined conditions by superheated steam. Although the temperature of superheated steam is generally 100 degreeC-300 degreeC, 100 degreeC-200 degreeC in this invention, Preferably 105 degreeC-200 degreeC can be used suitably.

상기 가열처리로서는 제 1차 및 제2차 가열처리를 포함하는 복수단계의 가열처리로 하는 것이 보다 바람직하고, 제 1차 가열처리의 조건을 100℃~170℃, 1분~30분 및 제 2차 가열처리의 조건을 140℃~200℃, 1분~30분으로 하고, 제 2차 가열처리의 온도를 제 1차 가열처리의 온도보다도 높게 설정하도록 한 구성을 채용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 제 2차 가열처리의 온도를 제 1차 가열처리의 온도보다도 5℃이상, 바람직하게는 10℃이상 높게 설정하는 것이 좋다.As said heat processing, it is more preferable to set it as the heat processing of several steps containing a 1st and a 2nd heat processing, and the conditions of a 1st heat processing are 100 degreeC-170 degreeC, 1 minute-30 minutes, and 2nd It is preferable to employ | adopt the structure which made the conditions of a secondary heat processing into 140 degreeC-200 degreeC, 1 minute-30 minutes, and set the temperature of a 2nd heat processing higher than the temperature of a 1st heat processing. Moreover, it is good to set the temperature of the said 2nd heat processing 5 degreeC or more, Preferably it is 10 degreeC or more higher than the temperature of a 1st heat processing.

상기 가열처리에 의해 형성된 이산화규소피막의 표면을 냉수 또는 온수로 세 정하는 공정을 더욱 더 마련하는 것에 의해 얻어진 이산화규소피막의 경도를 더욱 더 향상시키는 것이 가능하다.It is possible to further improve the hardness of the silicon dioxide film obtained by further providing a step of washing the surface of the silicon dioxide film formed by the heat treatment with cold water or hot water.

상기한 이산화규소피막(18)을 피복하고, 이 이산화규소피막(18)을 표면 강화피복층으로서 작용시키는 것에 의해 독성이 없고, 동시에 공해 발생의 염려도 전무하게 되는 것과 동시에 내쇄력이 뛰어난 그라비아제판 롤(그라비아판)(10a)을 얻을 수 있다.By coating the silicon dioxide film 18 described above and operating the silicon dioxide film 18 as a surface reinforcement coating layer, there is no toxicity, and there is no fear of pollution. (Gravure version) 10a can be obtained.

도 3은 본 발명의 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법의 공정의 다른 예를 나타내는 도 1과 같은 도면이다. 도 1에 나타낸 본 발명방법의 공정에 있어서는 감광성판재층(12)에 쿠션층(11b)이 노출하지 않도록 그라비아 셀(14)을 형성한 예를 나타냈지만, 도 3(d)에 나타낸 것처럼 쿠션층(11b)이 노출하도록 그라비아 셀(14)을 형성할 수도 있다. 도 3에 있어서, 다른 공정의 구성 및 작용은 도 1과 동일하기 때문에 반복의 설명은 생략한다.3 is a view similar to FIG. 1 showing another example of the process of the method for producing a gravure plate having the cushioning property of the present invention. In the process of the method of the present invention shown in FIG. 1, an example in which the gravure cell 14 is formed so that the cushion layer 11b is not exposed to the photosensitive plate material layer 12 is illustrated, but as shown in FIG. The gravure cell 14 may be formed so as to expose 11b. In FIG. 3, since the structure and operation | movement of another process are the same as FIG. 1, description of repetition is abbreviate | omitted.

실시예Example

이하에 실시예를 들어서 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 이들 실시예는 예시적으로 나타낸 것이므로 한정적으로 해석되어서는 안된다는 것은 말할 것도 없다.Although an Example is given to the following and this invention is demonstrated to it further more concretely, it goes without saying that these Examples are shown as an illustration and should not be interpreted limitedly.

(실시예 1)(Example 1)

우선 원주(圓周) 600㎜, 면장(面長) 1100㎜의 알루미늄 중공 롤의 표면에 두께 5㎝의 합성고무 시트를 감아서 굳게 접착하고 연마기를 이용해 원통연삭 및 경면연마하고, 그 표면을 균일한 연마면으로 하여 쿠션층을 가지는 판모재를 형성했 다.First, a 5 cm thick synthetic rubber sheet is wound on the surface of aluminum hollow rolls of 600 mm circumference and 1100 mm face length, and is firmly bonded to each other. A plate base material having a cushion layer was formed as the polishing surface.

상기 한 쿠션층의 연마면에 감광성판재층을 감광제의 코팅에 의해 5㎛의 두께로 이루어지도록 형성했다. 이 감광성판재층의 표면에 포토리소그래피에 의해 그라비아 셀을 형성했다. 즉 감광성판재층의 표면에 그라비아 화상인 마스크 화상을 가지는 마스크를 적층하고, 자외선을 조사했다. 계속해서, 마스크를 제거하고 현상하여 감광성판재층의 광중합 한 부분을 남기고 미노광부분이 쿠션층을 노출하도록 형상액에 용해하고 깊이 5㎛의 그라비아 셀을 형성했다. 계속해서, 자외선을 전면조사하여 감광성판재층의 광중합 하지 않은 부분을 중합시켜서 안정화처리했다.On the polishing surface of the cushion layer, a photosensitive plate material layer was formed to have a thickness of 5 μm by coating with a photosensitive agent. Gravure cells were formed on the surface of this photosensitive plate material layer by photolithography. That is, the mask which has the mask image which is a gravure image was laminated | stacked on the surface of the photosensitive plate material layer, and the ultraviolet-ray was irradiated. Subsequently, the mask was removed and developed to leave a photopolymerized portion of the photosensitive plate layer, and the unexposed portion was dissolved in the shaping liquid so as to expose the cushion layer, thereby forming a gravure cell having a depth of 5 mu m. Subsequently, ultraviolet irradiation was carried out on the entire surface to polymerize and stabilize the non-photopolymerized portion of the photosensitive plate material layer.

그 다음에, 그라비아 셀이 형성된 감광성판재층의 표면에 이산화규소피막의 형성을 이하와 같이 실시했다. 퍼하이드로폴리실라잔용액［아크아미카(AZ일렉트로닉 마테리아르즈(주)의 등록상표) NL120A(AZ일렉트로닉 마테리아르즈(주)제의 상품명, 퍼하이드로폴리실라잔을 20질량% 포함하는 디부틸에테르용액)을 퍼하이드로폴리실라잔이 고형분에서 4질량% 포함되도록 디부틸에테르용액으로 희석한 용액］을 상기 감광성판재층의 표면에 대해서 HVLP 스프레이 도포를 실시했다. 해당 감광성판재층의 표면에 균일하게 도포된 도포 막두께는 0.8μm였다. 이 퍼하이드로폴리실라잔이 도포된 실린더에 대해서 과열수증기를 이용하여 2단계의 가열처리(140℃ 5분 ＋ 170℃ 5분)를 주어 이산화규소피막을 형성했다. 이 피막은 커터 나이프로 상처가 나지 않는 정도의 지극히 높은 피막 경도를 가지고 있었다. 이와 같이 하여 쿠션성을 가지는 그라비아판을 완성했다.Next, the silicon dioxide film was formed on the surface of the photosensitive plate material layer on which the gravure cell was formed as follows. Perhydropolysilazane solution [Arc Amica (registered trademark of AZ Electronic Materials Co., Ltd.) NL120A (A brand name of AZ Electronic Materials Co., Ltd. make, dibutyl ether solution containing 20 mass% of perhydro polysilazanes ) Was diluted with a dibutyl ether solution so that perhydropolysilazane was contained in a solid content of 4% by mass, and HVLP spray coating was applied to the surface of the photosensitive plate material layer. The coating film thickness uniformly apply | coated to the surface of this photosensitive plate material layer was 0.8 micrometer. The peroxide polysilazane-coated cylinder was subjected to two steps of heat treatment (140 ° C. 5 minutes + 170 ° C. 5 minutes) using superheated steam to form a silicon dioxide film. This film had an extremely high film hardness such that the cutter knife was not damaged. Thus, the gravure plate which has cushion characteristics was completed.

계속해서, 얻어진 그라비아실린더에 대하여 인쇄잉크로서 시안잉크(잔컵 (Zahncup)점도 18초, 사카타잉크스사 제조 수성잉크 스파라미퓨어남(藍)800PR-5)를 적용하고 OPP필름(Oriented Polypropylene Film:2축연신(軸延伸) 폴리프로필렌필름)을 이용해서 인쇄 테스트(인쇄속도:120m/분)를 실시했다. 얻어진 인쇄물은 판흐림이 없고 50,000m의 길이까지 인쇄할 수 있었다. 패턴의 정도(精度)는 변화가 없었다. 또 감광성판재층에 대한 이산화규소피막의 밀착성은 문제가 없었다. 이 그라비아판의 하이라이트부에서 그림자부의 그라데이션은 통상의 방법에 따라서 제작한 종래의 그라비아판과 다르지 않았다는 것에서 잉크 전이성(轉移性)은 문제가 없다고 판단된다.Subsequently, to the obtained gravure cylinder, cyan ink (Zahncup viscosity 18 seconds, water-based ink Sparami Purenam 800PR-5 manufactured by Sakata Inks Co., Ltd.) was applied as a printing ink, and an OPP film (Oriented Polypropylene Film: 2) was applied. The printing test (printing speed: 120 m / min) was performed using the axial stretched polypropylene film. The resulting print had no plate blur and could print up to 50,000 m in length. The precision of the pattern did not change. In addition, the adhesion of the silicon dioxide film to the photosensitive plate layer was not a problem. Since the gradation of the shadow portion at the highlight portion of the gravure plate is not different from the conventional gravure plate produced according to the conventional method, it is judged that the ink transferability is not a problem.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1에서는 감광성판재층의 두께를 5㎛로 한 경우를 나타냈지만, 두께 2㎜의 시트 상 감광성판재층을 쿠션층의 표면에 감아서 접착하고, 1㎜ 깊이의 그라비아 셀을 실시예 1과 동일한 방법으로 작성한 쿠션성을 가지는 그라비아판을 작성했다. 이 그라비아판을 이용하여 실시예 1과 동일하게 인쇄 테스트 실시한 결과 실시예 1과 같은 양호한 결과를 얻었다. In Example 1, although the case where the thickness of the photosensitive plate material layer was made into 5 micrometers was shown, the sheet-like photosensitive plate material layer of thickness 2mm was wound up on the surface of a cushion layer, and it adhere | attached, and the gravure cell of 1 mm depth was bonded with Example 1, and The gravure plate which has the cushion property created by the same method was created. Printing test was carried out in the same manner as in Example 1 using this gravure plate, and the same good results as in Example 1 were obtained.

본 발명에 의하면, 인쇄판에 쿠션성을 갖게 한 결과, 경질의 피인쇄물에 대하여 블랭킷롤을 사용하지 않고 직접 그라비아 인쇄가 가능하고, 액정패널용 유리에 칼라필터를 구성하기 위해 매트릭스화상을 칼라인쇄하거나, 또는 컴팩트디스크 등에 화상을 칼라인쇄 하는데 적합하며, 또는 골판지 인쇄 등, 거친면에 대한 인쇄도 양호할 수 있다.According to the present invention, as a result of providing a cushioning property to a printing plate, gravure printing can be directly performed on a hard to-be-printed object without using a blanket roll, and color printing of a matrix image for forming a color filter on glass for a liquid crystal panel, Or it is suitable for color printing an image on a compact disc, etc., or printing on rough surfaces, such as cardboard printing, may also be favorable.

Claims (7)

고무 또는 쿠션성을 가지는 수지로 이루어진 쿠션층과, 이 쿠션층의 표면에 형성되고 동시에 광중합성을 가지고, 적어도 광중합 반응 후에 있어서 쿠션성과 내쇄력을 가지는 감광성판재층과, 이 감광성판재층의 표면에 형성된 그라비아 셀과, 이 그라비아 셀을 형성한 이 감광성판재층의 표면에 형성된 이산화규소피막을 포함하고, 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 이용해서 상기 이산화규소피막을 형성하는 것을 특징으로 하는 쿠션성을 가지는 그라비아판.A cushion layer made of rubber or a resin having cushioning properties, a photosensitive plate material layer formed on the surface of the cushion layer and at the same time having a photopolymerization property, having at least a cushioning property and a friction resistance after the photopolymerization reaction, and formed on the surface of the photosensitive plate material layer A gravure plate having a cushioning property, comprising a gravure cell and a silicon dioxide film formed on the surface of the photosensitive plate layer on which the gravure cell is formed, wherein the silicon dioxide film is formed using a perhydropolysilazane solution. . 제 1항에 있어서, 상기 쿠션층이 노출하지 않도록 상기 감광성판재층의 표면에 그라비아 셀을 형성하는 것을 특징으로 하는 쿠션성을 가지는 그라비아판.The gravure plate of claim 1, wherein a gravure cell is formed on a surface of the photosensitive plate material layer so that the cushion layer is not exposed. 제 1항에 있어서, 상기 쿠션층이 노출하도록 상기 감광성판재층의 표면에 그라비아 셀을 형성하는 것을 특징으로 하는 쿠션성을 가지는 그라비아판.The gravure plate of claim 1, wherein a gravure cell is formed on a surface of the photosensitive plate material layer to expose the cushion layer. 제 1항에 기재된 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the gravure plate which has a cushion property of Claim 1, 고무 또는 쿠션성을 가지는 수지로 이루어진 쿠션층의 표면에 광중합성을 가지고, 적어도 광중합 반응 후에 있어서 쿠션성과 내쇄력을 가지는 감광성판재층을 형성하는 공정과,Forming a photosensitive plate material layer having photopolymerization on the surface of the cushion layer made of rubber or resin having cushioning properties and having at least cushioning resistance and abrasion resistance after the photopolymerization reaction; 감광성판재층의 표면에 그라비아 셀을 형성하는 공정과,Forming a gravure cell on the surface of the photosensitive plate layer, 그라비아 셀을 형성한 감광성판재층의 표면을 피복하는 이산화규소 피막을 형성하는 공정을 가지고,It has a process of forming the silicon dioxide film which coat | covers the surface of the photosensitive board material layer which formed the gravure cell, 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 이용하여, 상기 이산화규소피막을 형성하는 것을 특징으로 하는 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법.A method for producing a gravure plate having a cushioning property, wherein the silicon dioxide film is formed using a perhydropolysilazane solution. 제 4항에 있어서, 상기 이산화규소피막을 형성하는 방법이,The method of claim 4, wherein the method of forming the silicon dioxide film, 상기 감광성판재층의 표면에 퍼하이드로폴리실라잔 용액을 도포하고 퍼하이드로폴리실라잔 도포막을 형성하는 도포막형성공정과,A coating film forming step of applying a perhydropolysilazane solution to the surface of the photosensitive plate layer and forming a perhydropolysilazane coating film; 상기 도포된 퍼하이드로폴리실라잔 도포막을 과열수증기에 의한 소정의 조건으로 가열처리해서 이산화규소피막을 상기 감광성판재층의 표면에 형성하는 공정과을 가지고,And heat treating the applied perhydropolysilazane coating film to a predetermined condition by superheated steam to form a silicon dioxide film on the surface of the photosensitive plate material layer. 상기 가열 처리가 제 1차 및 제 2차 가열 처리를 포함하는 복수단계의 가열처리이며, 제 1차 가열처리의 조건을 100℃~170℃, 1분~30분 및 제 2차 가열처리의 조건을 140℃~200℃, 1분~30분으로 하고, 제 2차 가열처리의 온도를 제 1차 가열처리의 온도보다 높게 설정하는 것을 특징으로 하는 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법.The heat treatment is a plurality of heat treatments including first and second heat treatments, and the conditions of the first heat treatment are 100 ° C to 170 ° C, 1 minute to 30 minutes, and the conditions of the second heat treatment. And 140 degreeC-200 degreeC, 1 minute-30 minutes, and set the temperature of a 2nd heat processing higher than the temperature of a 1st heat treatment, The manufacturing method of the gravure plate with cushion characteristics. 제 5항에 있어서, 상기 가열처리에 의해 형성된 이산화규소피막의 표면을 냉수 또는 온수로 세정하는 공정을 추가로 가지는 것을 특징으로 하는 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법.The method for producing a gravure plate having cushioning according to claim 5, further comprising a step of washing the surface of the silicon dioxide film formed by the heat treatment with cold water or hot water. 제 4항에 있어서, 상기 이산화규소피막의 두께가 0.1~5μm인 것을 특징으로 하는 쿠션성을 가지는 그라비아판의 제조방법.The method of manufacturing a gravure plate having a cushioning property according to claim 4, wherein the thickness of the silicon dioxide film is 0.1 to 5 탆.
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