KR101324443B1 - 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법 - Google Patents

광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 디스플레이 장치에 사용되는 광학필름을 생산하기 위해 사용되는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법은, 알루미늄 재질의 가이드롤을 가공하는 제1 단계; 니켈 활성화 전처리액으로 가이드롤의 표면 활성화 처리시키는 제2 단계; 가이드롤을 전해도금조에 수평하게 배치하여 회전시키며 니켈 도금액으로 전해도금하는 제3 단계; 및 가이드롤을 전해도금조에 수평하게 배치하여 회전시키며 불소 첨가제를 포함하는 크롬 도금액으로 전해도금하는 제4 단계를 포함한다.
본 발명의 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법은 니켈 도금층 및 크롬 도금층의 밀착성을 향상시킬 수 있으며, 기계적 강도, 표면 균일성 및 표면조도가 우수한 효과가 있다.

Description

광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법{SURFACE TREATMENT METHOD FOR GUIDE ROLL OF MANUFACTURING OPTICAL FILM}
본 발명은 디스플레이 장치에 사용되는 광학필름을 생산하기 위해 사용되는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 디스플레이 장치의 베이스 필름 중 하나인 TAC 필름의 경우, 광학필름의 특성상 표면의 결점은 제품의 불량으로 유발되기 때문에 무결점의 광학필름 생산을 위해 설비 부품의 고기능성 특성이 요구되고 있다. 이에 따라, TAC 필름 생산용 가이드롤의 표면 특성 또한 고기능성을 요구한다.
종래에는 가이드롤의 소재를 알루미늄으로 하고 니켈 도금층과 크롬 도금층을 형성하여, 기계적 강도, 표면 균일성 및 표면조도 향상을 도모하고 있다. 하지만, 가이드롤의 표면에 도금을 하기 위해 안정적인 전처리 방법으로 사용되는 징케이트 처리라는 화학적인 방법을 사용하고 있으나, 이는 오히려 도금 밀착성에 문제가 발생하여 도금층이 박리되는 문제점이 있다.
또한, 크롬 도금시, 강산의 크롬 도금액에 의해 계면활성 첨가제가 분해되어 표면조도가 저해될 뿐만 아니라, 크롬 도금시 낮은 도금 효율에 의해 발생되는 가스로 인해 도금 표면 불균일 및 가이드롤을 상하 방향으로 세워서 도금하므로 표면 전류 밀도 편차에 의해 도금 불균일에 따른 부위별 도금 두께 편차가 발생되는 문제점이 있다.
상술한 바와 같이 종래의 광학필름 생산용 가이드롤의 경우, 도금층 박리 및 표면조도 불량에 따른 스크래치가 발생하는 문제점이 있다. 구체적으로, TAC 필름 생산용 가이드롤의 경우 표면조도가 Rmax 0.8S이하로 매우 미려하며, 가이드롤의 표면에 결점이 하나라도 존재하면 TAC 필름에 불량을 유발한다. 또한, 5T 두께의 파이프형상의 롤이기 때문에 도금 불균일에 의한 응력 발생에 따른 가이드롤의 진원, 직진도에 변화가 올 수 있는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 니켈 도금층 및 크롬 도금층의 밀착성을 향상시킬 수 있는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 기계적 강도, 표면 균일성 및 표면조도가 우수한 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 도금 효율을 향상시킬 수 있는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 여기에 언급되지 않은 본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법은, 알루미늄 재질의 가이드롤을 가공하는 제1 단계; 니켈 활성화 전처리액으로 가이드롤의 표면 활성화 처리시키는 제2 단계; 가이드롤을 전해도금조에 수평하게 배치하여 회전시키며 니켈 도금액으로 전해도금하는 제3 단계; 및 가이드롤을 전해도금조에 수평하게 배치하여 회전시키며 불소 첨가제를 포함하는 크롬 도금액으로 전해도금하는 제4 단계를 포함한다.
또한, 본 발명의 제2 단계에서는, 니켈 활성화 전처리액이, 설파민산 니켈, 황산니켈 또는 염화니켈의 0.3M 내지 3.0M의 니켈 공급원과, 황산 또는 염산의 1.0M 내지 6.0M의 완충제를 포함하며, 전류밀도 1A/dm2 내지 10A/dm2, 가이드롤의 전류공급 (+)로 10초 내지 200초 (-)로 30초 내지 300초, 온도 20℃ 내지 50℃에서 표면 활성화 처리하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 제3 단계에서는, 니켈 도금액이, 설파민산 니켈 또는 황산니켈의 1.0M 내지 1.9M의 니켈 공급원과, 염화니켈 0.03M 내지 0.20M의 양극용해제와, 붕산 0.3M 내지 0.8M의 완충제와, 라우릴 황산 소다 0.1g/L 내지 1.5g/L 농도의 피트방지제와, 헥사메틸렌디아민(1,6-diammonium hexane), 아세트산 에틸(C4H8O2), 뷰타인다이올(C4H6O2) 또는 시카린 나트륨(C7H4NNaO3S)의 0.1g/L 내지 1.5g/L 농도의 광택 및 계면활성 첨가제를 포함하며, 전류밀도 1A/dm2 내지 30A/dm2, 온도 30℃ 내지 60℃, pH 3 내지 5, 가이드롤의 도금액 침적률 20% 내지 100%, 가이드롤의 회전 속도 0.1RPM 내지 100RPM에서 전해 도금하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 제4 단계에서는, 크롬 도금액이, 무수 크롬산 1.0M 내지 3.0M의 크롬 공급원과, 황산 0.5g/L 내지 5.5g/L 농도의 완충제와, 5-플루오로우라실, 5-플루오로덱시우리민, 모노플루오로초산 또는 모노플루오로아세타미드의 0.5g/L 내지 10.0g/L 농도의 계면활성 불소 첨가제를 포함하며, 전류밀도 20A/dm2 내지 80A/dm2, 온도 30℃ 내지 60℃, 가이드롤의 도금액 침적률 20% 내지 100%, 가이드롤의 회전 속도 0.1RPM 내지 100RPM에서 전해 도금하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 제3 단계 또는 제4 단계 중 적어도 하나의 단계에서는 전해도금 공정 이후, 가이드롤의 표면을 연마하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 제3 단계 또는 제4 단계 중 적어도 하나의 단계에서는, 전해도금조에서 상기 가이드롤에 대한 양극의 거리를, 수평 양끝단 보다 중앙 부분에서 가깝게 배치하는 것을 특징으로 한다.
상기 과제의 해결 수단에 의해, 본 발명의 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법은 니켈 도금층 및 크롬 도금층의 밀착성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법은 기계적 강도, 표면 균일성 및 표면조도가 우수한 효과가 있다.
또한, 본 발명의 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법은 도금 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리를 위한 전해도금조를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법에 따라 제작된 가이드롤을 나타낸 사진이다.
도 5는 종래의 가이드롤과 도 4의 가이드롤을 확대하여 나타낸 사진다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법을 설명하기 위한 도면이다.
이상과 같은 본 발명에 대한 해결하고자 하는 과제, 과제의 해결 수단, 발명의 효과를 포함한 구체적인 사항들은 다음에 기재할 실시예 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법을 설명하기 위한 도면이다. 구체적으로, 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법을 설명하기 위한 플로차트이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리를 위한 전해도금조를 개략적으로 나타낸 도면이며, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤을 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법은, 다음의 단계에 따라 이루어진다.
먼저, 제1 단계(S110)에서는 알루미늄 재질의 가이드롤을 가공한다. 구체적으로, 알루미늄 부재로 파이프 형상의 가이드롤을 제작하고, 에칭한 후 수세한 다음, 디스머트 처리하고 다시 수세한다.
다음으로, 제2 단계(S120)에서는, 니켈 활성화 전처리액으로 가이드롤의 표면 활성화 처리시킨다. 이때, 니켈 활성화 전처리액은, 설파민산 니켈, 황산니켈 또는 염화니켈의 0.3M 내지 3.0M의 니켈 공급원과, 황산 또는 염산의 1.0M 내지 6.0M의 완충제를 포함하여 마련한다. 표면 활성화 처리 조건은, 전류밀도 1A/dm2 내지 10A/dm2, 전류 공급은 가이드롤에 (+)로 10초~200초로 공급한 후, (-)로 30초~300초 공급하며, 온도 20℃ 내지 50℃로 한다. 한편, 표면 활성화 처리 후, 가이드롤을 수세하도록 한다.
이와 같이, 종래의 징케이트 처리를 대신하여, 표면 활성화 처리를 행함으로써, 이후의 도금 공정에서 도금 밀착성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 알루미늄 재질의 가이드롤의 표면 밀착성이 향상되므로, 니켈 도금층 및 크롬 도금층의 박리를 방지할 수 있다.
다음으로, 제3 단계(S130)에서는, 가이드롤을 전해도금조에 수평하게 배치하여 회전시키며 니켈 도금액으로 전해도금한다. 이때, 니켈 도금액은, 전착응력이 작은 설파민산 니켈 또는 황산니켈의 1.0M 내지 1.9M의 니켈 공급원과, 염화니켈 0.03M 내지 0.20M의 양극용해제와, 붕산 0.3M 내지 0.8M의 완충제와, 라우릴 황산 소다 0.1g/L 내지 1.5g/L 농도의 피트방지제와, 헥사메틸렌디아민(1,6-diammonium hexane), 아세트산 에틸(C4H8O2), 뷰타인다이올(C4H6O2) 또는 시카린 나트륨(C7H4NNaO3S)의 0.1g/L 내지 1.5g/L 농도의 광택 및 계면활성 첨가제를 포함하여 마련한다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따른 니켈 전해도금 방식은, SCR, IGBT 및 고주파 펄스를 이용한 수평(Horizontal) 타입의 회전식으로 이루어진다. 구체적으로, 전해도금조는 도 2에 도시된 바와 같이, 정류기(10), 여과기 및 펌프(20), 양극(30), 공기 교반기(40), 음극(50, 실질적으로 알루미늄 가이드롤이 음극을 이룸), 히터(60), 회전 모터(70), 도금액(80)으로 구성되어, 가이드롤을 수평하게 배치 가능하며, 가이드롤을 회전 가능하게 한다.
전해도금 조건은, 전류밀도 1A/dm2 내지 30A/dm2, 온도 30℃ 내지 60℃, pH 3 내지 5, 가이드롤의 도금액 침적률 20% 내지 100%, 가이드롤의 회전 속도 0.1RPM 내지 100RPM으로 한다.
전해도금 후에는 표면조도 향상을 위해 니켈 도금층의 연마 공정을 행한다.
이와 같이, 전착응력을 낮춤으로써 기계적 특성을 향상시킬 수 있으며, 수평 회전 방식으로 도금함으로써 니켈 도금의 균일성을 확보할 수 있다.
다음으로, 제4 단계(S140)에서는, 가이드롤을 전해도금조에 수평하게 배치하여 회전시키며 불소 첨가제를 포함하는 크롬 도금액으로 전해도금한다. 이때, 크롬 도금액은, 무수 크롬산 1.0M 내지 3.0M의 크롬 공급원과, 황산 0.5g/L 내지 5.5g/L 농도의 완충제와, 5-플루오로우라실, 5-플루오로덱시우리민, 모노플루오로초산 또는 모노플루오로아세 타미드의 0.5g/L 내지 10.0g/L 농도의 계면활성 불소 첨가제를 포함하여 마련한다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따른 크롬 전해도금 방식은, 상술한 도 2와 같은 전해도금조에서, SCR, IGBT 및 고주파 펄스를 이용한 수평 타입의 회전식으로 이루어진다.
전해도금 조건은, 전류밀도 20A/dm2 내지 80A/dm2, 온도 30℃ 내지 60℃, 가이드롤의 도금액 침적률 20% 내지 100%, 가이드롤의 회전 속도 0.1RPM 내지 100RPM으로 한다.
전해도금 후에는 표면조도 향상을 위해 크롬 도금층의 연마 공정을 행한다.
이와 같이, 불소 계열의 첨가제를 사용함으로써, 강산의 크롬 도금액에서 계면활성 첨가제의 분해를 방지할 수 있으며, 전류 효율을 높일 수 있고 가스 발생을 방지할 수 있다. 이에 따라, 수평 배치 방식의 크롬 도금이 가능하게 하며, 이때 회전 방식을 병행함으로써, 도금 두께 균일성 및 도금 입자 균일성을 통하여 가공시 도금 표면조도를 향상시킬 수 있다.
따라서, 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤(200)은 알루미늄 가이드롤 바디(210) 상에, 밀착성, 기계적 강도, 표면 균일성 및 표면조도가 우수한 니켈 도금층(220) 및 크롬 도금층(230)이 형성된다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법에 따라 제작된 가이드롤을 나타낸 사진이고, 도 5는 종래의 가이드롤과 도 4의 가이드롤을 확대하여 나타낸 사진다. 구체적으로, 도 5에서는 종래의 크롬 도금 방식으로 제작된 가이드롤의 표면을 확대한 사진을 (a)로, 본 발명의 일실시예에 따른 크롬 도금 방식으로 제작된 가이드롤의 표면을 확대한 사진을 (b)로 나타내어, 표면 상태를 비교하였다. 여기서, 표면 균일성 및 표면조도가 종래에 비하여 매우 우수함을 알 수 있다.
<다른 실시예>
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에서는 제3 단계 또는 제4 단계 중 적어도 하나의 단계에서, 전해도금조에서 가이드롤(50, 음극)에 대한 양극(30)의 거리를, 수평 양끝단 보다 중앙 부분에서 가깝게 배치하도록 한다.
이는, 전기 도금의 특성상 전기는 에지(Edge) 방향으로 전류가 모이는 현상이 발생하며 이에 따라 중앙 부위 보다 에지 부위의 두께운데에 기인다. 이 때문에, 종래 상하 방향으로 도금시 도금 양끝의 두께가 가장 두껍고 중앙이 얇은 도금 두께 불균일 현상이 발생한다.
따라서, 본 발명의 다른 실시예에서는 가이드롤을 수평하게 도금을 하면서, 가이드롤에 대한 양극의 배치 간격을 부위에 따라 조절하면, 전류 밀도의 균일하게 하며 도금 두께를 균일하게 하여 도금 균일성을 더욱더 향상시킬 수 있다.
이와 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타나며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10 : 정류기
20 : 여과기 및 펌프
30 : 양극
40 : 공기 교반기
50 : 음극(가이드롤)
60 : 히터
70 : 회전 모터
80 : 도금액
200 : 광학필름 생산용 가이드롤
210 : 알루미늄 가이드롤 바디
220 : 니켈 도금층
230 : 크롬 도금층

Claims (6)

  1. 알루미늄 재질의 가이드롤을 가공하는 제1 단계;
    니켈 활성화 전처리액으로 상기 가이드롤의 표면 활성화 처리시키는 제2 단계;
    상기 가이드롤을 전해도금조에 수평하게 배치하여 회전시키며 니켈 도금액으로 전해도금하는 제3 단계; 및
    상기 가이드롤을 전해도금조에 수평하게 배치하여 회전시키며 불소 첨가제를 포함하는 크롬 도금액으로 전해도금하는 제4 단계;
    를 포함하며,
    상기 제3 단계 또는 제4 단계 중 적어도 하나의 단계에서는, 전해도금조에서 상기 가이드롤에 대한 양극의 거리를, 수평 양끝단 보다 중앙 부분에서 가깝게 배치하는 것을 특징으로 하는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 단계에서는,
    상기 니켈 활성화 전처리액이, 설파민산 니켈, 황산니켈 또는 염화니켈의 0.3M 내지 3.0M의 니켈 공급원과, 황산 또는 염산의 1.0M 내지 6.0M의 완충제를 포함하며,
    전류밀도 1A/dm2 내지 10A/dm2, 상기 가이드롤의 전류공급 (+)로 10초 내지 200초 (-)로 30초 내지 300초, 온도 20℃ 내지 50℃에서 표면 활성화 처리하는 것을 특징으로 하는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제3 단계에서는,
    상기 니켈 도금액이,
    설파민산 니켈 또는 황산니켈의 1.0M 내지 1.9M의 니켈 공급원과,
    염화니켈 0.03M 내지 0.20M의 양극용해제와,
    붕산 0.3M 내지 0.8M의 완충제와,
    라우릴 황산 소다 0.1g/L 내지 1.5g/L 농도의 피트방지제와,
    헥사메틸렌디아민(1,6-diammonium hexane), 아세트산 에틸(C4H8O2), 뷰타인다이올(C4H6O2) 또는 시카린 나트륨(C7H4NNaO3S)의 0.1g/L 내지 1.5g/L 농도의 광택 및 계면활성 첨가제를 포함하며,
    전류밀도 1A/dm2 내지 30A/dm2, 온도 30℃ 내지 60℃, pH 3 내지 5, 상기 가이드롤의 도금액 침적률 20% 내지 100%, 상기 가이드롤의 회전 속도 0.1RPM 내지 100RPM에서 전해 도금하는 것을 특징으로 하는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제4 단계에서는,
    상기 크롬 도금액이,
    무수 크롬산 1.0M 내지 3.0M의 크롬 공급원과,
    황산 0.5g/L 내지 5.5g/L 농도의 완충제와,
    5-플루오로우라실, 5-플루오로덱시우리민, 모노플루오로초산 또는 모노플루오로아세 타미드의 0.5g/L 내지 10.0g/L 농도의 계면활성 불소 첨가제를 포함하며,
    전류밀도 20A/dm2 내지 80A/dm2, 온도 30℃ 내지 60℃, 상기 가이드롤의 도금액 침적률 20% 내지 100%, 상기 가이드롤의 회전 속도 0.1RPM 내지 100RPM에서 전해 도금하는 것을 특징으로 하는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제3 단계 또는 제4 단계 중 적어도 하나의 단계에서는 전해도금 공정 이후, 상기 가이드롤의 표면을 연마하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름 생산용 가이드롤의 표면처리 방법.
  6. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20210130968A1 (en) * 2016-12-27 2021-05-06 Furukawa Electric Co., Ltd. Surface-treated material and method for producing the same, and member produced with this surface-treated material
KR20190098963A (ko) * 2016-12-27 2019-08-23 후루카와 덴끼고교 가부시키가이샤 표면 처리재 및 이를 이용하여 제작한 부품
JP6452912B1 (ja) * 2017-03-31 2019-01-16 古河電気工業株式会社 めっき線棒材及びその製造方法、並びにこれを用いて形成されたケーブル、電線、コイル及びばね部材
CN113201641B (zh) * 2021-04-26 2022-11-01 瑞安市创博机械有限公司 一种舒展型铝导辊的热处理方法及其热处理

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990046446A (ko) * 1999-03-13 1999-07-05 신현복 퍼포레이티드패널의제조방법
JP2005296799A (ja) 2004-04-12 2005-10-27 Yasui Seiki:Kk グラビアロールおよびグラビアロールの表面処理方法
KR20090132733A (ko) * 2008-06-23 2009-12-31 포철산기주식회사 프리즘시트용 마스터롤의 제작방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990046446A (ko) * 1999-03-13 1999-07-05 신현복 퍼포레이티드패널의제조방법
JP2005296799A (ja) 2004-04-12 2005-10-27 Yasui Seiki:Kk グラビアロールおよびグラビアロールの表面処理方法
KR20090132733A (ko) * 2008-06-23 2009-12-31 포철산기주식회사 프리즘시트용 마스터롤의 제작방법

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