KR101279066B1 - 코팅 처리의 광학 모니터링을 위한 측정 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 진공 챔버 내에서의 코팅 처리의 광학 모니터링을 위한 측정 시스템에 관한 것으로, 본 측정 시스템에서는, 광원이 진공 챔버 내에서 기판 캐리어와 셔터 사이에 배치되고, 셔터가 기판 캐리어 아래에 배치되며, 광수신기 유닛이 진공 챔버 외부에서 광원의 광경로에 배치된다. 기판 캐리어는 하나 이상의 기판을 수용하도록 설계되며, 진공 챔버 내에서 코팅 소스를 교차하여, 바람직하게는 축을 중심으로 회전하면서 이동할 수 있으며, 이로써 기판이 투과 측정을 위하여 광원과 광수신기 유닛 사이의 광경로를 교차하며, 셔터가 코팅 소스를 교차하여 측정 영역에 음영이 이루어지도록 한다.
단색 분광기, 진공 챔버, 셔터, 측정상, 기준상, 암상

Description

코팅 처리의 광학 모니터링을 위한 측정 시스템{MEASURING ARRANGEMENT FOR THE OPTICAL MONITORING OF COATING PROCESSES}
본 발명은 진공 챔버에서의 코팅 처리의 광학 모니터링을 위한 측정 시스템에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 코팅 처리 동안 기판에 도포되는 코팅층의 두께를 측정하고, 광주입용 시스템과 광수신 장치를 포함하는 측정 시스템에 관한 것이다.
소정의 광학 특성을 달성하기 위해 광파장(light-wave length) 규모의 박막층으로 코팅되는 기판에 대해서는, 이들 박막층은 소정의 투과 특성 또는 반사 특성을 얻기 위해 높은 균일성과 정확한 층두께로 도포되어야 한다. 층두께는 투과 및 반사 측정 장치에 의해 측정되며, 층두께를 정밀하게 제어하기 위해서는 이러한 측정이 코팅 위치에서 이루어져야 한다. 이러한 박막층의 두께를 측정하기 위해, 측정상(measurement phase)에서의 코팅 기판의 단색 투과 또는 반사 신호와, 광도계(photometer)의 광원의 기준 신호를 포함하는 광도계가 흔히 사용된다. 그러나, 이러한 광도계 구성은, 2개의 상이한 검출기에 의해 신호가 기록되어, 그 드리프트(drift)가 측정 결과에 영향을 줌으로써, 광원의 색 온도(color temperature)의 변화가 불충분하게 반영된다는 단점을 갖는다.
이러한 단점을 해소하기 위해, 유럽 특허 공보 EP 0 257 229 B1에서는, 초퍼(chopper)를 통해 제1 광 가이드에서의 측정상(measurement phase), 다른 광 가이드에서의 기준상(reference phase) 및 암상(dark phase)을 차례대로 생성하는 기술이 제안되어 있다. 측정상 및 기준상의 광신호의 기록은 단색 분광기(monochromator)로 조절된 동일한 파장에서 공통의 광 검출기로 이루어지며, 이로써 광원 및 검출기에 의해 에이징 및 온도 드리프트(temperature drift)가 보상될 수 있다. 암상은 외부 영향에 의한 오차와 전자 증폭기의 드리프트를 보상하기 위해 사용된다. 이들 신호는 프로세서 유닛에 의해 평가된다.
광학 모니터링 시스템용의 공지의 측정 시스템은, 코팅 소스와 기판 간의 거리가 작아 진공 챔버에서의 광경로가 매우 짧고, 코팅 소스와 측정 시스템의 공간적인 분리가 간편하게 이루어질 수 있고, 광원과 진공 챔버 외부의 광수신기의 배치가 간편하게 이루어질 수 있기 때문에, 회전하는 평탄한 기판 캐리어와 단속 코팅(intermittent coating)을 갖는 스퍼터링 시스템에서 상대적으로 용이하게 구현될 수 있다.
스팀 장치의 진공 챔버에서 및/또는 플라즈마 지원 공정 또는 이온빔 지원 공정에 의해 코팅이 이루어지면, 코팅, 이온 또는 플라즈마 소스가 기판으로부터 더 먼 거리에 위치하게 되어, 진공 챔버가 현저하게 더 커지고, 투과 측정을 위한 광경로가 길어지게 된다. 그러므로, 광원으로부터의 소량의 광만이 광수신기에 도달되어, 코팅, 이온 또는 플라즈마 소스로부터의 외부광에 의해 측정에 지장을 초래하게 된다.
본 발명의 목적은, 스팀 장치 및/또는 플라즈마 지원 공정 또는 이온빔 지원 공정에 적합하고, 이동 기판 캐리어 상에 배치된 기판의 투과 측정을 위해 높은 측정 정밀도를 갖는, 광학 모니터링을 위한 간편한 측정 시스템을 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적은 청구항 1에 따른 측정 시스템에 의해 달성된다.
본 발명에 따른 진공 챔버에서의 코팅 처리의 광학 모니터링을 위한 측정 시스템은, 진공 챔버 내에서 기판 캐리어와 셔터(shutter) 사이에 배치되는 광방출기를 포함하며, 상기 셔터가 기판 캐리어 아래에 배치된다. 기판 캐리어는 적어도 하나의 기판을 수용하도록 설계되고, 진공 챔버 내에서 코팅 소스를 교차하면서, 바람직하게는 축을 중심으로 회전하면서 이동될 수 있으며, 이로써 기판이 투과 측정을 위하여 광방출기와 광수신 유닛 사이의 광경로를 교차하고, 셔터는 코팅 소스 상에서 측정 영역에 음영이 이루어지게 한다.
코팅이 이루어지는 위치에서의 모니터링을 위한 측정 시스템은, 예컨대 전자빔 스티밍(electron-beam steaming) 등의 코팅 재료의 스티밍 수단에 의해, 또는 플라즈마 지원 또는 이온빔 지원의 PVD 또는 CVD 공정을 통해 코팅이 이루어지는 진공 코팅 구현에서 기판에 대한 투과 측정을 위해 특히 적합하다. 측정 시스템은 연속적인 코팅 처리 동안에도 측정과 코팅의 간편한 분리를 가능하게 한다. 기판 캐리어 바로 아래에 광방출기를 배치하는 것은 광경로를 단축시킬 수 있으며, 이에 의해 높은 광출력과 낮은 신호 잡음이 획득된다.
본 발명의 바람직한 실시예에서는 진공 챔버 외부에 광수신기 유닛을 배치함으로써, 본 발명의 측정 시스템은 높은 처리 온도 하에서 실행되는 공정에 특히 적합하다. 그럼에도 불구하고, 측정 시스템은 스팀 소스 및/또는 이온 또는 플라즈마 소스의 배출, 가열 및 이동 동안 개개의 구성 부품의 국부적인 시프트(local shift) 또는 진공 탱크의 기계적인 변형에 상대적으로 민감하지 않다. 셔터는 원하지 않는 코팅에 대하여 진공 챔버의 측정 창과 광방출기를 보호하며, 코팅 소스 및/또는 플라즈마 또는 이온 소스를 통한 측정 시스템 내의 외부광에 의한 영향을 차단한다.
코팅 소스와 기판 캐리어 사이에 배치된 셔터가 음영 또는 층두께 분배를 위해 진공 챔버 내에 설치되면, 이 셔터는 또한 측정 시스템의 바람직한 실시예에서의 측정 시스템용 셔터로서도 사용된다.
또 다른 바람직한 실시예에서, 광방출기는 코팅 소스를 향해 회전되는 셔터의 측면에 직접 부착되어, 추가의 고정 장치를 필요로 하지 않는다.
바람직하게는 구형의 돔(spherical calotte)으로서 형성되는 기판 캐리어가 코팅 동안 축을 중심으로 회전하면, 하나 이상의 기판이 기판 캐리어의 반경 상에 투과 측정을 위해 배치되며, 이에 따라 코팅을 위한 추가의 기판이 돔 상의 이러한 반경 외부에 배치될 수도 있다. 광방출기는, 반경 상의 기판이 기판 캐리어의 1회의 회전에서 광방출기와 광수신기 유닛 사이의 광경로를 교차하는 방식으로 기판 캐리어 아래에 배치되며, 회전시마다 간헐적인 투과 측정이 이루어질 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 광방출기는 진공 챔버 내에 배치된 광원으로서 또는 진공 챔버 외부에 위치된 광원으로부터의 광을 진공 챔버 내로 지향시키는 광 가이드로서 직접 구성될 수 있다. 광방출기가 진공 챔버 내의 광원으로서 구현된다면, 광원에 대한 전원 공급은 진공 챔버의 기존의 진공 전원 장치를 통해 이루어질 수 있다. 광방출기를 광 가이드로서 구성하면, 추가의 진공 설비가 광 가이드를 위해 진공 챔버에 제공된다. 광 가이드를 진공 챔버에 배치하는 구성은, 특히 예컨대 할로겐 램프, 중수소 램프(deuterium lamp), 및 크세논 램프와 같은 넓은 스펙트럼 범위 및 고휘도를 갖는 임의의 광원의 사용뿐만 아니라 초핑 광(chopped light)의 주입을 가능하게 하며, 이에 의해 측정 정밀도가 향상되고, 외부광으로부터의 영향이 보상될 수 있다. 바람직하게는, 광 가이드로서 구성된 광방출기는 셔터의 개구부에 의해 아래에서부터 안내되고, 셔터 또는 셔터 홀더에 부착된다.
바람직하게는, 측정 시스템은 진공 챔버에서의 광원의 배치에서 광대역 광원, 구체적으로는 할로겐 앰프가 포함되며, 이에 의해 바람직하게는 400㎚ 내지 1800㎚의 스펙트럼 범위에서, 코팅 처리에 대한 광대역 모니터링이 가능하다. 또한, 광원을 하우징 내에 배치하는 것이 광원의 보호에도 이롭다. 하우징은, 광원의 향상된 광출력을 위한 또 다른 바람직한 실시예에서는, 시준기(collimator), 디스플레이 렌즈 시스템, 및/또는 반사기를 포함할 수 있다.
할로겐 램프가 약 350㎚ 내지 3000㎚ 범위로 광을 방출하므로, 모니터링을 위한 스펙트럼 범위의 제한은 대체로 사용되는 광검출기, 특히 광검출기의 신호 잡음에 의해 제공된다. 예컨대, 표준 Si 광검출기를 이용하면, 400㎚ 내지 1100㎚ 범위에서 우수한 잡음 마진이 달성된다. 표준 InGaAs 광검출기를 이용하면, 1000㎚ 내지 1700㎚ 범위가 손쉽게 검출될 수 있다. UV 범위(350㎚ 내지 400㎚)에 대해서는, 예컨대 PMT 광검출기가 적합할 것이다.
광방출기에 의해 송출된 광을 수신하기 위해서는, 광수신기 유닛은 시준기 렌즈를 갖는 광 가이드를 포함하는 것이 바람직하다. 광 가이드를 갖는 광수신기 유닛의 구현예에서는, 이 광수신기 유닛을 진공 챔버 내부에서 기판 캐리어 위에 배치할 수 있으며, 이에 의해, 진공 설비가 진공 챔버 내에 제공되거나, 또는 광 가이드로서 실현된 광방출기의 진공 설비가 사용될 수 있다. 또한, 광수신기 유닛이 진공 챔버의 측정 창을 교차하여 광검출기의 광경로에서 진공 챔버 외부에 배치될 수도 있다.
본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 광수신기 유닛은 광검출기 유닛에 접속되며, 이에 따라 광검출기 유닛은 광검출기 및 분산 부재, 구체적으로는 단색 분광기를 포함한다. 광검출기에 안내된 광의 광파장은 분산 부재로 조정 가능하며, 이로써 스펙트럼 광도 측정(spectral photometric measurement)이 가능하다. 직선광 검출기(line-light detector)를 갖는 다색 분광기가 단색 분광기 대신 사용될 수 있다. 그 후, 다이오드 또는 CCD 라인이 광 그리드(optical grid)에 의해 조명된다. 직선광 검출기의 각각의 단일 구성요소는 다른 파장으로 조명된다. 그러므로, 전체 파장 스펙트럼이 동시에 측정될 수 있으며, 광범위한 모니터링이 가능하게 된다.
광검출기에 의해 검출된 광 세기에 대한 추가의 처리를 위해, 광검출기의 출구에 인접한 신호는 증폭되어 A/D 변환기를 통해 디지털화되고, 추가의 처리를 위해 광검출기 유닛에 접속된 프로세서 유닛에 전송되는 것이 바람직하다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 광수신기 유닛은 광방출기로부터 광을 수신할 수 있도록 진공 챔버의 측정 창을 교차하여 배치되고 조정된다. 광방출기의 광경로에 대해 광수신기 유닛을 정확하게 조정하기 위해, 진공 챔버에 연결된 광수신기 유닛은 조정 수단, 구체적으로는 진공 챔버에 고정될 수 있고 적어도 하나의 축에 대하여 광수신기 유닛의 기울어짐(tilt)을 가능하게 하는 고정 장치가 구비되는 것이 유리하다.
기판 상의 스팀형 코팅층의 두께의 정확한 측정이 코팅 처리 동안에 가능하도록 하기 위해서는, 기준상에서의 광원의 광 세기, 측정상에서의 기판으로부터 투과된 광의 광 세기, 및 적어도 하나의 암상에서의 잔여 광 세기를 광검출기를 이용하여 차례대로 기록하고, 이들로부터 코팅된 기판의 투과에 대한 값을 구하는 것이 이롭다. 기록되어 있는 값으로부터, 측정상과 암상의 차분값 및 기준상과 암상의 차분값이 구해진다. 이와 같이 결정된 차분값 간의 관계(Imeas-Idark/Iref-Idark)는 코팅된 기판의 투과에 대한 측정치를 형성한다. 그 후, 광소스 및 광검출기의 감도의 변동(fluctuation)이 보상될 수 있다.
측정 시스템의 바람직한 실시예에서, 기판 캐리어는 측정상, 기준상 및 암상의 조정이 가능하도록 구성된다. 기판 캐리어는, 기준광 경로를 형성하기 위한 적어도 하나의 개구부와, 광원과 광수신기 유닛 사이의 광경로를 차단하기 위한 적어도 하나의 암 영역(dark area)을 포함한다.
또한, 측정상을 위해 기판 캐리어 상에 배치된 기판의 위치, 기준상을 위한 개구부의 위치, 및 암상을 위한 암 영역의 위치를 기록하기 위해서는, 회전 가능한 기판 캐리어에 대한 회전 장치에 프로세서 유닛이 접속되는 것이 바람직하다. 이것은 회전 장치에 접속된 증가형 인코더(incremental encoder)를 통해 가능하며, 이 증가형 인코더는 정해진 회전각에서 각각의 회전수를 갖는 소정의 값으로 카운터를 설정하고, 회전각에 따라 카운터에 펄스를 보낸다. 그러므로, 회전각 및 그에 의한 기판, 개구부 및 암 영역의 위치가 항상 카운터 판독치로 할당될 수 있다. 카운터 판독치는 프로세서 유닛에 의해 평가되며, 평가된 결과로부터, 기준상, 측정상 및 암상에서의 측정값을 기록하기 위해 광검출기 유닛을 제어하는 신호가 생성된다.
도 1은 본 발명에 따른 모델 측정 시스템의 개략도이다.
도 2는 측정상, 기준상 및 암상 측정치를 구하기 위한 기판 캐리어의 부분을 나타내는 도면이다.
이하에서는, 진공 챔버(1) 내의 스팀 인가 코팅 기판(steam-applied coated substrate)(3)의 투과 측정을 위한 모델 측정 시스템을 설명한다. 코팅될 기판(3)은 코팅 소스(도시하지 않음)에 의한 기판(3)의 코팅 동안 축(7)을 중심으로 회전하는 돔형의 기판 캐리어(2)에 배치된다. 셔터(5)는 층두께 분배를 최적화하기 위해 기판 캐리어(2) 아래에 견고하게 장착된다.
측정 시스템용의 광원(4)으로서 광대역 할로겐 램프가 제공되어, 하우징(6) 내에 그리고 셔터(5) 위의 기판 캐리어(2) 바로 아래에 위치된다. 하우징(6)은 할로겐 램프의 광이 지향된 광빔으로서 빠져나올 수 있도록 구성된다. 여기에서, 층두께 분배를 위한 셔터(5)는 동시에 측정 시스템용 셔터(5)로서도 사용된다. 광원(4)에 대한 전원은 진공 상태에서 전기 케이블로 이루어진다.
광수신기 유닛(10)은 진공 챔버(1)의 측정 창(9)을 통해 고정 장치(15)를 이용하여 장착된다. 시준기 렌즈를 갖는 광 가이드(8)는 광원(4)의 광빔의 광경로(12) 상에 정확하게 정렬된다. 수신된 광은 광 가이드(8)에 집속되고, 광검출기 유닛에 지향된다. 광수신기 유닛(10)을 정확하게 정렬시키기 위해, 조절 수단(11)은 예컨대 광수신기 유닛(10)이 정확하게 위치될 수 있도록 하는 조절 나사를 갖는다. 검출기 어레이를 갖는 광검출기 유닛에서, 수신된 광신호는 증폭 및 디지털화되어, 평가를 위해 프로세서 유닛에 전송될 수 있다.
광원(4) 및 측정 창(9)은 셔터(5)에 의해 바람직하지 않은 코팅으로부터 보호된다. 추가로, 광수신기 유닛은 스팀 소스로부터의 외부광이 차단된다.
기판 캐리어(2)의 일부분에는, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(3)용의 측정 부재와, 개구부(13)용의 측정 부재와, 측정상, 기준상 및 암상 측정치를 구하기 위한 암 영역(14)용의 측정 부재가 복수 개 설치되며, 또한 이 측정 부재는 광경로(12)를 단절시키는 기판 캐리어(2)의 반경 상에 배치된다. 돔 형태의 기판 캐리어(2)의 다른 부분에는, 코팅을 위해 다른 기판(3)이 배치될 수도 있다. 기판 캐리어(2)가 1회 회전하는 동안, 적어도 하나의 측정상에서의 기판(3)에서 투과된 광 에 대한 측정, 개구부(13)를 통해 광원(4)으로부터 직접 지향된 광의 기준상에서의 측정, 및 암 영역(14)에 의해 가려진 광원(4) 부근에서의 암상에서의 측정이 이루어질 수 있다.
기판 캐리어(2)의 회전 장치는, 측정상을 위한 기판 캐리어(2) 상에 배치된 기판(3)의 위치와, 기준상을 위한 개구부(13)의 위치와, 암상을 위한 암 영역(14)의 위치를 기록하기 위해, 또한 광수신기 유닛(10)에 연결된 광검출기 유닛과 회전 기판 캐리어와의 동기화를 위해, 회전 장치 및 카운터에 견고하게 접속된 증가형 인코더(encremental encoder)를 통해 프로세서 유닛에 접속된다.
광신호는, 측정상, 기준상 및 암상에서의 신호로부터 코팅 기판(3)의 투과에 대한 값이 구해지는 프로세서 유닛에서 평가된다.

Claims (24)

  1. 코팅 처리 동안 기판(3)에 도포되는 층의 두께를 측정하기 위한, 진공 챔버(1)에서의 코팅 처리의 광학 모니터링용의 측정 시스템으로서,
    광방출기;
    상기 광방출기의 광경로(12)에 배치된 광수신기 유닛(10); 및
    하나 이상의 상기 기판(3)을 가지며 진공 챔버(1) 내에서 코팅 소스를 교차하여 이동될 수 있고, 하나 이상의 상기 기판(3)이 상기 광방출기와 상기 광수신기 유닛(10) 사이의 상기 광경로(12)에 위치될 수 있도록 하는, 기판 캐리어(2)
    를 포함하며,
    상기 진공 챔버(1) 내의 광방출기가 상기 기판 캐리어(2)와 셔터(5) 사이에, 상기 진공 챔버(1)의 상부에서 상기 코팅 소스 위에 배치되며,
    상기 셔터(5)는 상기 기판 캐리어(2) 아래에, 상기 진공 챔버(1)의 상부에서 상기 코팅 소스 위에 배치되고, 이에 의해 상기 셔터(5)가 코팅 소스를 교차하여 측정 영역에 음영이 이루어지도록 하는,
    측정 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광방출기는 광 가이드를 포함하는, 측정 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 광방출기는 광원(4)을 포함하는, 측정 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 광원(4)은 광대역 광원인, 측정 시스템.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 광원(4)은 하우징(6) 내에 배치되는, 측정 시스템.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 하우징(6)은 시준기, 결상 렌즈, 및 반사기 중 하나 이상을 포함하는, 측정 시스템.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광방출기는 상기 코팅 소스에서 벗어나도록 회전되는 상기 셔터(5)의 측면에 고정되는, 측정 시스템.
  8. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광수신기 유닛(10)은 시준기를 갖는 광 가이드(8)를 포함하는, 측정 시스템.
  9. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광수신기 유닛(10)은 상기 진공 챔버(1)의 외부에 배치되는, 측정 시스템.
  10. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광수신기 유닛(10)은 상기 진공 챔버(1)의 측정 창(9)을 교차하여 배치되는, 측정 시스템.
  11. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광수신기 유닛(10)은 조절 수단(11)을 포함하는, 측정 시스템.
  12. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광수신기 유닛(10)은 분산 수단 및 광검출기를 포함하는 광검출기 유닛에 접속되며, 이로써 상기 광검출기에 공급되는 광의 파장이 조절 가능하게 되는, 측정 시스템.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 분산 수단은 단색 분광기(monochromator) 또는 다색 분광기인, 측정 시스템.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 광검출기 유닛은 신호 증폭기 및 A/D 변환기를 포함하는, 측정 시스템.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 광검출기 유닛은 상기 광검출기 유닛 상의 광신호를 평가하기 위해 프로세서 유닛에 접속되는, 측정 시스템.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 기판 캐리어(2)는 축(7)을 중심으로 회전하고, 하나 이상의 상기 기판(3)이 상기 기판 캐리어(2)의 반경 상에 배치되는, 측정 시스템.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 기판 캐리어(2)는 구형의 돔(spherical calotte)의 형태를 갖는, 측정 시스템.
  18. 제16항에 있어서,
    상기 기판 캐리어(2)는 광원(4)과 상기 광수신기 유닛(10) 사이의 기준광 경로를 형성하기 위해 하나 이상의 개구부(13)를 가지며, 상기 개구부(13)는 상기 기판(3)과 동일한 반경 상에 배치되는, 측정 시스템.
  19. 제16항에 있어서,
    상기 기판 캐리어(2)는 광원(4)과 상기 광수신기 유닛(10) 사이의 광경로를 차단하기 위해 하나 이상의 암 영역(dark area)(14)을 가지며, 상기 암 영역(14)은 상기 기판(3)과 동일한 반경 상에 배치되는, 측정 시스템.
  20. 제16항에 있어서,
    상기 기판 캐리어(2)를 회전시키는 회전 장치는 상기 기판 캐리어(2)의 회전 움직임을 기록하기 위해 상기 프로세서 유닛에 접속되거나 접속될 수 있는, 측정 시스템.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 회전 장치는 증가형 인코더 및 카운터를 통해 상기 프로세서 유닛에 접속되거나 접속될 수 있는, 측정 시스템.
  22. 제20항에 있어서,
    상기 기판 캐리어(2) 및 상기 광검출기 유닛은 측정상(measurement phase), 기준상(reference phase) 및 하나 이상의 암상(dark phase)을 생성하기 위해 상기 프로세서 유닛에 접속되거나 접속될 수 있는, 측정 시스템.
  23. 제2항에 있어서,
    상기 광 가이드는 시준기(collimator) 또는 결상 렌즈를 갖는, 측정 시스템.
  24. 제4항에 있어서,
    상기 광대역 광원은 할로겐 램프인, 측정 시스템.
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