KR101254698B1 - 대면적 기판의 처리장치 - Google Patents
대면적 기판의 처리장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101254698B1 KR101254698B1 KR1020060102102A KR20060102102A KR101254698B1 KR 101254698 B1 KR101254698 B1 KR 101254698B1 KR 1020060102102 A KR1020060102102 A KR 1020060102102A KR 20060102102 A KR20060102102 A KR 20060102102A KR 101254698 B1 KR101254698 B1 KR 101254698B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- area substrate
- chemical liquid
- treatment
- chemical
- extension plate
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
- B05B1/005—Nozzles or other outlets specially adapted for discharging one or more gases
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B1/00—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
- B05B1/02—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
- B05B1/04—Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape in flat form, e.g. fan-like, sheet-like
- B05B1/044—Slits, i.e. narrow openings defined by two straight and parallel lips; Elongated outlets for producing very wide discharges, e.g. fluid curtains
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
본 발명은 대면적 기판의 처리장치에 관한 것으로, 대면적 기판을 이송하는 이송부와, 상기 이송부의 상부측 대면적 기판의 측면부에 처리 약액이 유실되지 않는 정도의 간격을 두고 위치하는 도포가이드와, 상기 도포가이드가 측면부에 위치하는 대면적 기판의 상부 일부에 처리 약액을 도포하는 슬릿 노즐을 포함한다. 이와 같은 구성의 본 발명은 처리 약액의 균일한 도포가 가능하도록 함으로써, 대면적 기판의 전면에 대하여 처리의 균일성을 향상시켜 제품의 수율을 향상시키는 효과가 있다.
Description
도 1은 종래 대면적 기판 처리장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명 대면적 기판 처리장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.
도 3은 본 발명 대면적 기판 처리장치의 바람직한 실시예의 일부 평면도이다.
도 4는 도 3의 A-A'방향의 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10:대면적 기판 20:이송부
30:슬릿 노즐 40:도포가이드
41:약액연장판 42:제1차단벽
43:제2차단벽
본 발명은 대면적 기판의 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 대면적 기판의 전면에 고른 약액을 도포할 수 있는 대면적 기판의 처리장치에 관한 것이 다.
일반적으로, 대면적 기판을 세정하거나, 대면적 기판에 도포된 포토레지스트를 현상하는 등의 대면적 기판의 처리장치들은 대면적 기판의 폭 이상의 길이를 가지는 분사노즐을 이용하여 그 대면적 기판에 약액을 도포하도록 구성된다.
이와 같은 세정 등의 처리는 대면적 기판의 전면에서 균일한 조건으로 이루어지는 것이 이상적이나, 약액은 약액 분자간의 응집력에 의해 도포의 균일도가 저하될 수 있으며, 이와 같은 종래 대면적 기판의 처리장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래 대면적 기판의 처리장치의 구성도이다.
도 1을 참조하면, 이송부(2)를 통해 이송되는 대면적 기판(1)의 폭방향으로 이격되어 설치되어, 상기 대면적 기판(1)에 처리 약액을 도포하는 슬릿노즐(3)로 이루어진다.
이하, 상기와 같은 종래 대면적 기판의 처리장치의 구성과 그 구성에 따른 문제점을 상세히 설명한다.
먼저, 대면적 기판(1)이 이송부(2)를 통해 이송되는 과정에서 상기 슬릿노즐(3)에서는 대면적 기판(1)의 상면에 처리 약액을 도포한다.
상기 처리 약액은 대면적 기판(1)의 세정, 포토레지스트의 현상 등 대면적 기판(1)을 처리하는데 사용되는 약액이다.
상기와 같이 도포된 처리 약액 중 기판(1)의 가장자리에 도포된 약액은 쉽게 대면적 기판(1)의 측면 또는 저측면으로 유실되며, 측면부가 유실된 약액은 중앙부에 도포된 약액의 분자간 응집력에 의하여 대면적 기판(1)의 중앙부로 집중되는 현상이 발생된다.
따라서, 도 1의 비도포 구간이 각도로 발생하게 되며, 이는 대면적 기판(1)의 뒤쪽으로 갈수록 비도포 영역이 커지게 됨을 알 수 있다.
상기와 같이 대면적 기판(1)에 처리 약액의 비도포 영역이 발생하면, 그 비도포 영역에서는 대면적 기판(1)의 세정 또는 현상 등의 처리가 이루어지지 않게 되며, 공정불량으로 제품의 수율이 감소하는 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 대면적 기판의 상부에 처리 약액을 균일하게 도포할 수 있는 대면적 기판의 처리장치를 제공함에 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 대면적 기판의 상부에서 처리 약액의 유실을 방지하여 처리 약액의 낭비를 줄일 수 있는 대면적 기판의 처리장치를 제공함에 다른 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 대면적 기판의 처리장치는 대면적 기판을 이송하는 이송부와, 상기 이송부의 상부측 대면적 기판의 측면부에 처리 약액이 유실되지 않는 정도의 간격을 두고 위치하는 도포가이드와, 상기 도포가이드가 측면부에 위치하는 대면적 기판의 상부 일부에 처리 약액을 도포하는 슬릿 노즐을 포함한다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명 대면적 기판 처리장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명 대면적 기판 처리장치의 바람직한 실시예는 대면적 기판(10)을 이송하는 이송부(20)와, 상기 대면적 기판(10)에 처리 약액을 도포하는 슬릿 노즐(30)과, 상기 이송부(20)에 의해 이송되는 대면적 기판(10)의 측면 일부에 이격되어 위치하여, 상기 대면적 기판(10)에 도포된 약액이 측면으로 유실되는 것을 방지하는 도포가이드(40)를 포함하여 구성된다.
이하, 상기와 같이 구성된 본 발명에 따른 대면적 기판 처리장치의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
먼저, 대면적 기판(10)은 이송부(20)에 의해 이송되며, 그 이송부(20)의 상부측 대면적 기판(10)의 측면부에는 도포가이드(40)가 위치한다.
상기 도포가이드(40)는 대면적 기판(10)의 측면으로부터 0.1 내지 1mm의 간격으로 이격되는 것이 바람직하다. 이는 대면적 기판(10)이 이송중에 그 도포가이드(40)와 충돌하여 손상되지 않도록 함과 아울러 그 도포가이드(40)와 대면적 기판(10)의 사이로 처리 약액이 유실되는 것을 방지할 수 있는 것이다.
도 3은 본 발명 대면적 기판 처리장치의 바람직한 실시예에 따른 일부 평면도이고, 도 4는 도 3의 A-A'방향 단면도이다.
도 3과 도 4를 각각 참조하면, 상기 도포가이드(40)의 형상은 대면적 기판(10)의 측면과 동일선상에 위치하여, 처리 약액이 대면적 기판(10) 측면으로 유실되는 것을 방지하는 약액연장판(41)과, 상기 약액연장판(41)의 측면과 전면에 각각 위치하여 약액이 상기 약액연장판(41)에서 유실되는 것을 방지하는 제1차단벽(42) 및 제2차단벽(43)을 포함할 수 있다.
상기 제1차단벽(42)은 대면적 기판(10)에 도포된 처리 약액이 약액연장판(41)으로 확산된 상태에서, 그 약액연장판(41)의 처리 약액이 측면부로 유실되는 것을 방지하기 위한 것이다.
또한, 상기 제2차단벽(43)은 대면적 기판(10)에 도포된 처리 약액이 약액연장판(41)으로 확산된 상태에서, 그 약액연장판(41)의 처리 약액이 대면적 기판(10)의 이송방향측으로 유실되는 것을 방지하기 위한 것이다.
이와 같이 제1차단벽(42)과 제2차단벽(43)에 의하여 상기 약액연장판(41)에는 처리 약액이 존재할 수 있게 되며, 이와 같이 약액연장판(41)에 존재하는 처리 약액과 대면적 기판(10)에 도포된 처리 약액 간에 응집력이 작용하여 상기 대면적 기판(10)에 도포된 처리 약액이 그 대면적 기판(10)의 중앙부로 응집되는 것을 방지할 수 있게 된다.
이와 같은 구성은 상기 대면적 기판(10)에 슬릿 노즐(30)의 처리 약액이 도포된 상태에서 그 처리 약액이 대면적 기판(10)의 측면부를 통해 유실되는 것을 방지한다.
특히, 상기 슬릿 노즐(30)의 처리 약액 분사위치(L)는 상기 도포가이드(40)가 위치하는 대면적 기판(10)의 상부 일부인 것이 바람직하다.
상기와 같은 구성의 도포가이드(40)는 대면적 기판(10)에 도포된 처리 약액이 대면적 기판(10)의 측면으로 유실되지 않도록 방지하는 구조이면, 그 구조에 의해 본 발명이 제한되지 않는다.
즉, 상기 도포가이드(40)의 다른 실시예로는 상기 약액연장판(41)과 제1차단벽(42) 만을 포함하는 구조일 수 있다.
상기와 같은 구성의 도포가이드(40)에 의해 대면적 기판(10)에 도포된 처리 약액은 상기 도 4에 도시한 바와 같이 자체의 응집력에 의해 대면적 기판(10)과 도포가이드(40) 사이의 틈으로도 유실되지 않으며, 따라서 처리 약액이 대면적 기판(10)의 중앙부로 집중되는 것을 방지할 수 있게 된다.
이는 적어도 대면적 기판(10)에 처리 약액의 미도포 영역의 발생을 방지할 수 있는 것으로, 대면적 기판(10)의 전면에 처리 약액에 의한 균일한 처리가 가능하도록 하여 제품의 수율을 향상시킬 수 있게 된다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.
상기한 바와 같이 본 발명 대면적 기판의 처리장치는 처리 약액의 균일한 도포가 가능하도록 함으로써, 대면적 기판의 전면에 대하여 처리의 균일성을 향상시켜 제품의 수율을 향상시키는 효과가 있다.
Claims (4)
- 대면적 기판을 이송하는 이송부;상기 이송부의 상부측 대면적 기판의 측면부에 위치하되, 상기 대면적 기판의 측면에서 대면적 기판의 처리 약액이 측면으로 유실되는 것을 방지하여, 대면적 기판에 도포되는 처리 약액이 대면적 기판의 중앙으로 응집되는 것을 방지하는 약액연장판과, 상기 약액연장판의 처리 약액이 그 약액연장판의 측면으로 유실되는 것을 방지하여 상기 대면적 기판에 도포된 처리약액과의 응집력이 유지되도록 하는 제1차단벽을 구비하는 도포가이드; 및상기 대면적 기판의 상부에 처리 약액을 도포하는 슬릿 노즐을 포함하는 대면적 기판의 처리장치.
- 제1항에 있어서,상기 대면적 기판과 도포가이드의 이격 거리는 0.1mm 내지 1mm인 것을 특징으로 하는 대면적 기판의 처리장치.
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 도포가이드는 상기 약액연장판 상의 처리 약액이 상기 대면적 기판의 이송방향측으로 유실되는 것을 방지하여, 상기 약액연장판의 처리 약액과 상기 대면적 기판의 처리 약액 사이의 응집력이 유지되도록 하는 제2차단벽을 더 포함하는 대면적 기판의 처리장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060102102A KR101254698B1 (ko) | 2006-10-20 | 2006-10-20 | 대면적 기판의 처리장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060102102A KR101254698B1 (ko) | 2006-10-20 | 2006-10-20 | 대면적 기판의 처리장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080035719A KR20080035719A (ko) | 2008-04-24 |
KR101254698B1 true KR101254698B1 (ko) | 2013-04-15 |
Family
ID=39574468
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060102102A KR101254698B1 (ko) | 2006-10-20 | 2006-10-20 | 대면적 기판의 처리장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101254698B1 (ko) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003124182A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-04-25 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2004095705A (ja) | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
JP2005051008A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-24 | Tokyo Electron Ltd | 現像処理装置及び現像処理方法 |
-
2006
- 2006-10-20 KR KR1020060102102A patent/KR101254698B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003124182A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-04-25 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2004095705A (ja) | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
JP2005051008A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-24 | Tokyo Electron Ltd | 現像処理装置及び現像処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080035719A (ko) | 2008-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101254698B1 (ko) | 대면적 기판의 처리장치 | |
KR100828665B1 (ko) | 유체 분사노즐 | |
KR100691473B1 (ko) | 기판건조용 에어나이프 모듈 및 이를 이용한 기판건조장치 | |
KR20030005019A (ko) | 약액도포방법 및 그 도포장치 | |
JP2011054790A5 (ko) | ||
KR200482218Y1 (ko) | 노즐 간격 조절이 가능한 나이프 | |
US20220148900A1 (en) | Method and device for treating substrates | |
KR101347634B1 (ko) | 코안다 효과를 이용한 아쿠아나이프 구조 | |
KR101145851B1 (ko) | 기판세정용 분사노즐 | |
KR20150073352A (ko) | 기판 코터 장치용 슬릿 노즐 및 이를 구비한 기판 코터 장치 | |
JP3866856B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR100567833B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2005019991A (ja) | 基板処理装置 | |
KR20120015068A (ko) | 에어 나이프 장치 | |
TWI603421B (zh) | 溼式製程設備 | |
JP2009279477A (ja) | 処理液除去装置、基板処理装置およびノズル間隔設定方法 | |
KR101062452B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 | |
KR200469191Y1 (ko) | 대면적 기판 세정용 퍼들나이프 | |
KR100641840B1 (ko) | 샤워헤드 및 이를 채용한 플라즈마 처리장치 | |
KR100853148B1 (ko) | 대면적 기판 세정장치 및 방법 | |
KR970063393A (ko) | 기판처리장치 | |
KR19980060366U (ko) | 에어나이프 세정/건조장치 | |
KR200295029Y1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
TW200822974A (en) | Apparatus for jetting fluid | |
JP2002043266A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法、液切りミストナイフ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160412 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |