KR101244900B1 - 풉 세정용 퍼지시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명은 풉 세정용 퍼지시스템에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 풉 세정용 퍼지시스템은 내부에 밀폐공간이 형성되고, 밀폐공간과 연통하는 개구부에 밀착되는 풉의 도어를 개폐하는 도어개폐유닛과, 풉의 내부와 챔버의 밀폐공간 사이에서 웨이퍼를 반송하는 웨이퍼반송유닛이 형성된 챔버;에 설치되어 웨이퍼 및 풉을 세정하는 풉 세정용 퍼지시스템에 있어서, 챔버의 개구부 내측에 이동가능하게 배치되는 커버와, 상기 커버가 선택적으로 개구부를 마감하도록 상기 커버를 개구부 또는 개구부의 인접위치로 이동시키는 제1구동부와, 개구부에 위치한 커버를 개구부에 밀착 또는 이격되는 방향으로 이동시키는 제2구동부와, 상기 커버의 내측 상단부에 횡방향으로 배치되어 하측방향을 향해 질소가스를 분사하는 커튼노즐과, 상기 커버의 내부 일측에 수직방향으로 설치되어 풉의 내부공간을 향해 질소가스를 공급하는 제1세척노즐이 형성된 풉세척부; 및, 상기 챔버 내에서 웨이퍼반송유닛의 이동영역의 적어도 일측에 웨이퍼의 이동방향을 따라 이격 배치되어 웨이퍼반송유닛에 의해 반송되는 웨이퍼를 향해 질소가스를 분사하는 다수의 제2세척노즐이 형성된 웨이퍼세척부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

풉 세정용 퍼지시스템{PURGE SYSTEMS FOR A WAFER CONTAINER}

본 발명은 풉 세정용 퍼지시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 풉의 내부가 높은 청정도를 유지할 수 있도록 하는 풉 세정용 퍼지시스템에 관한 것이다.

반도체 생산 처리는 주로 반도체 웨이퍼를 처리하기 위해 내측이 고도로 정화된 소위 청정실에서 수행된다. 그러나, 웨이퍼의 대규모화와 청정실 운용비 삭감 문제를 해결한다는 점에 있어서, 최근에는 처리장치의 내측과, 웨이퍼용기와, 웨이퍼용기에서 처리장치로 웨이퍼를 전달하는 이송 로봇을 수용하기 위한 국소환경만이 고도로 정화 상태로 유지되는 방법이 이용되고 있다.

구체적으로는 공장 전체의 청정도를 높이는 것은 아니고, 제조 공정 내에 있어서의 각 처리 장치 내 및 그동안의 이동 중에 있어서의 보관용 컨테이너 내부만을 높은 청정도로 유지하는 것으로 하고 있다. 이러한 웨이퍼 이송용기를 풉(FOUP;Front Open Unified Pod)이라 총칭하고 있다.(이하 '풉'이라고 함) 이와 같이, 약간의 공간만을 고청정화함으로써, 공장 전체를 클린룸화한 경우와 같은 효과를 얻어 설비 투자나 유지비를 삭감하여 효율적인 생산 공정을 실현하고 있다.

이하, 실제로 이용되는, 소위 국소청정환경 방식에 대응한 반도체 처리 장치 등에 대해 간단하게 설명한다. 도 1은 반도체 웨이퍼 처리 장치(50)의 전체를 도시하고 있다. 반도체 웨이퍼 처리 장치(50)는 주로 로드 포트부(51), 반송실(52) 및 처리실(59)로 구성되어 있는 각각의 접합 부분은 로드 포트측의 구획부(55a) 및 커버(58a)와, 처리실측의 구획부(55b) 및 커버(58b)에 의해 구획되어 있다. 반도체 웨이퍼 처리 장치(50)에 있어서의 반송실(52)에서는 먼지를 배출하여 고청정도를 유지하기 위해, 그 상부에 설치된 팬(도시되지 않음)에 의해 반송실(52)의 상방으로부터 하방을 향해 공기류를 발생시키고 있다. 이것으로 먼지는 항상 하방을 향해 배출되게 된다.

로드 포트부(51) 상에는 실리콘 웨이퍼 등(이하, 단순히 웨이퍼라 부름)의 보관용 용기인 풉(2)이 대(臺)(53) 상에 설치된다. 앞에서도 서술한 바와 같이, 반송실(52)의 내부는 웨이퍼(1)를 처리하기 위해 고청정도로 유지되어 있고, 또한 그 내부에는 로봇 아암(54)이 설치되어 있다. 이 로봇 아암(54)에 의해, 웨이퍼는 풉(2) 내부와 처리실(59)의 내부 사이를 이송된다. 처리실(59)에는, 통상 웨이퍼 표면 등에 박막 형성, 박막 가공 등의 처리를 실시하기 위한 각종 기구가 내포되어 있지만, 이들 구성은 본 발명과 직접의 관계를 갖고있지 않으므로 여기서의 설명은 생략한다.

풉(2)은 피처리물인 웨이퍼(1)를 내부에 수납하기 위한 공간을 갖고, 어느 하나의 면에 개구부를 갖는 상자 형상의 본체부(2a)와, 상기 개구부를 밀폐하기 위한 덮개(4)를 구비하고 있다. 본체부(2a)의 내부에는 웨이퍼(1)를 한 방향으로 포개기 위한 복수의 단(段)을 갖는 선반이 배치되어 있고, 여기에 적재되는 웨이퍼(1) 각각은 그 간격을 일정하게 하여 풉(2) 내부에 수용된다. 또한, 여기서 나타낸 예에 있어서는, 웨이퍼(1)를 포개는 방향은 수직 방향으로 되어 있다. 반송실(52)의 로드 포트부(51)측에는 개구부(10)가 설치되어 있다. 개구부(10)는 풉(2)이 개구부(10)에 근접하도록 로드 포트부(51)상에서 배치되었을 때에 풉(2)의 개구부와 대향하는 위치에 배치되어 있다. 또한, 반송실(52)에는 내측에 있어서의 개구부(10) 부근에는 후술하는 오프너(3)가 설치되어 있다.

도 2a 및 도 2b는 종래의 장치에 있어서의 오프너(3) 부분을 확대한 측단면도 및 반송실(52)측으로부터 오프너(3)를 본 정면도를 각각 도시하고 있다. 도 3은 오프너(3)를 이용하여 풉(2)으로부터 덮개(4)를 제거한 상태에 대해 그 측단면 개략을 도시하고 있다. 오프너(3)는 도어(6)와 도어 아암(42)을 구비하고 있다. 도어(6)에는 고정 부재(46)가 부착되어 있고, 도어(6)는 상기 고정 부재(46)를 거쳐서 도어 아암(42)의 일단부에 대해 회전 가능하게 연결되어 있다. 도어 아암(42)의 타단부는 에어 구동식 실린더(31)의 일부인 로드(37)의 선단부에 대해 추축(40)을 거쳐서 상기 추축(40)에 대해 회전 가능하게 지지되어 있다.

도어 아암(42)의 상기 일단부와 상기 타단부 사이에는 관통 구멍이 마련되어 있다. 상기 구멍과, 오프너(3)를 승강시키는 가동부(56)의 지지 부재(60)에 고정되는 고정 부재(39)의 구멍을 도시되지 않은 핀이 관통함으로써 지지점(41)이 구성되어 있다. 따라서, 실린더(31)의 구동에 의한 로드(37)의 신축에 따라서 도어 아암(42)은 지지점(41)을 중심으로 회전 가능해진다. 도어 아암(42)의 지지점(41)은 승강이 가능한 가동부(56)에 설치되는 지지 부재(60)에 고정되어 있다. 도어(6)는 보유 지지 포트(11a 및 11b)를 갖고 있고, 풉(2)의 덮개(4)를 진공 흡착으로 보유 지지할 수 있다.

이들 구성에 의해 웨이퍼(1)의 처리를 행할 때에는, 우선 반송실 개구부(10)에 근접하도록 대(53) 상에 배치하여 도어(6)에 의해 덮개(4)를 보유 지지한다. 그리고 실린더(31)의 로드를 수축하면 도어 아암(42)이 지지점(41)을 중심으로 반송실 개구부(10)로부터 떨어지도록 이동한다. 이 동작에 의해 도어(6)는 덮개(4)와 함께 회전하여 덮개(4)를 풉(2)으로부터 제거한다. 그 상태가 도17에 도시되어 있다. 그 후, 가동부(56)를 하강시켜 덮개(4)를 소정의 대피 위치까지 반송한다.

통상, 웨이퍼 등을 수용한 상태에서의 풉(2)의 내부는 고청정으로 관리된 건조 질소 등에 의해 채워져 있고, 오염 물질, 산화성의 가스 등의 풉 내부로의 침입을 방지하고 있다. 그러나, 이 풉은 처리실을 경유한 후의 웨이퍼도 수용하므로, 처리실 등에서 오염 물질 등이 웨이퍼에 부착되어 이것을 풉 내부에 갖고 들어가는 경우가 고려된다. 이와 같은 오염 물질 등을 다음 처리실까지 갖고 들어간 경우, 이 처리실을 경유함으로써 본래 이루어져야 할 원하는 웨이퍼 처리가 행해지지 않는 경우도 생길 수 있다. 이로 인해, 웨이퍼를 풉으로부터 반송실로 옮길 때에 이들 오염 물질 등을 제거할 필요가 있다.

종래의 F0UP에 있어서는 상기 요구에 대응하기 위해, 퍼지용 가스를 풉 내부로 도입하기 위한 급기 구멍 및 배출하기 위한 배기 구멍이 그 바닥부에 설치되어 있다. 이들 급기 및 배기 구멍은 상기 풉을 적재하는 지지대에 마련된 퍼지 가스용 급기 구멍 및 배기 구멍과 각각 접속된다. 실제의 조작으로서는, 이들 급기 구멍을 거쳐서 지지대측으로부터 고청정으로 관리된 고압 가스를 풉 내부로 도입한다. 동시에, 풉 내부에 존재하고 있던 가스 및 오염 물질 등을 이들 배기 구멍을 거쳐서 풉 외부로 배출한다. 상기 조작에 의해, 풉 내부에 갖고 들어간 오염 물질 등의 제거를 행하고 있었다.

그러나, 단순히 풉의 바닥부로부터 고압 가스를 도입하는 것만으로는, 가스 흐름은 통과가 용이한 웨이퍼 외주 근방을 주로 통과함로, 미소 간격을 유지하여 보유 지지되는 각각의 웨이퍼의 상하면에 대해 충분한 유속을 가진 가스를 통과시키는 것은 곤란하다. 특히 오염 물질 등은 웨이퍼 표면 혹은 하면에 주로 부착되어 있는 것이므로 상기와 같은 종래의 방식에서는 오염 물질 등을 충분하게 제거하기 어려운 문제점이 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 풉의 내부로 오염물질이 유입되는 것을 방지하는 것과 동시에, 풉의 내부에서 웨이퍼를 반출한 상태로 풉 내부를 세정하는 동안 챔버의 밀폐공간으로 반출된 웨이퍼를 세정함으로써 풉의 내부가 높은 청정도를 유지할 수 있도록 하는 풉 세정용 퍼지시스템을 제공함에 있다.

또한, 제1세척노즐을 통해 풉의 개구부 일측에서 공급되는 세정용 질소가스가 풉의 일측에서 타측으로 이동하도록 하고, 커튼노즐에 의해 형성되는 하강기류에 의해 배기호스를 향해 이동하도록 함으로써, 세정을 위해 공급되는 질소가스와 세정 후 오염물질을 포함하는 질소가스가 풉의 내부에서 섞이지 않도록 하는 것과 동시에 빠르게 배출시킴으로써 세정효율을 향상시킬 수 있는 풉 세정용 퍼지시스템을 제공함에 있다.

상기 목적은, 본 발명에 따라, 내부에 밀폐공간이 형성되고, 밀폐공간과 연통하는 개구부에 밀착되는 풉의 도어를 개폐하는 도어개폐유닛과, 풉의 내부와 챔버의 밀폐공간 사이에서 웨이퍼를 반송하는 웨이퍼반송유닛이 형성된 챔버;에 설치되어 웨이퍼 및 풉을 세정하는 풉 세정용 퍼지시스템에 있어서, 챔버의 개구부 내측에 이동가능하게 배치되는 커버와, 상기 커버가 선택적으로 개구부를 마감하도록 상기 커버를 개구부 또는 개구부의 인접위치로 이동시키는 제1구동부와, 개구부에 위치한 커버를 개구부에 밀착 또는 이격되는 방향으로 이동시키는 제2구동부와, 상기 커버의 내측 상단부에 횡방향으로 배치되어 하측방향을 향해 질소가스를 분사하는 커튼노즐과, 상기 커버의 내부 일측에 수직방향으로 설치되어 풉의 내부공간을 향해 질소가스를 공급하는 제1세척노즐이 형성된 풉세척부; 및, 상기 챔버 내에서 웨이퍼반송유닛에 의해 반송되는 웨이퍼를 향해 질소가스를 분사하는 웨이퍼세척부;를 포함하는 풉 세정용 퍼지시스템에 의해 달성된다.

여기서, 상기 웨이퍼세척부는 웨이퍼반송유닛에 의해 이동하는 웨이퍼의 이동영역의 적어도 일측에 웨이퍼의 이동방향을 따라 이격 배치되는 다수의 제2세척노즐로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제2세척노즐은 수직방향으로 설치되는 관체와, 상기 관체의 웨이퍼 이동영역과 대향하는 부위에 수직방향으로 이격되어 다수 형성되는 노즐공으로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 상기 커버는 4개의 측벽으로 이루어지는 사각틀체와, 상기 사각틀체의 후방을 마감하는 후면부로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 상기 커튼노즐은 커버의 내부 상측면에서 후면부에 인접배치되고, 상기 제1세척노즐은 커버의 내부 상측면에서 개구부에 인접배치되는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제1구동부는 상기 챔버의 개구부와 개구부 인접위치의 사이에 배치되어 커버의 이동을 안내하는 안내레일과, 일단부는 챔버측에 고정되고 타단부는 상기 커버에 고정되어 길이방향으로 신축하는 실린더로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제2구동부는 상기 제1구동부의 안내레일과 커버의 사이에 마련되어 상기 커버를 개구부에 밀착시키거나 개구부로부터 이격시키도록 길이방향으로 신축하는 실린더로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 상기 풉세척부는 상기 커버의 타측 하부에 형성되는 배기공과, 상기 배기공에 착탈가능하게 결합하여 풉 내부의 공기를 배출하는 배기호스를 포함하며, 상기 제1세척노즐과 배기호스는 서로 반대편에 배치되는 것이 바람직하다.

또한, 상기 풉세척부는 상기 배기호스와 커버의 배기공 사이에 마련되어 상기 배기호스를 커버의 배기공에 결합 또는 분리시키는 제3구동부를 더 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제1세척노즐은 커버의 내부 일측에 수직방향으로 설치되는 관체와, 상기 관체의 풉 내부공간과 대향하는 부위에 수직방향으로 이격되어 다수 마련되는 노즐공으로 이루어지는 것이 바람직하다.

본 발명에 따르면, 풉의 내부로 오염물질이 유입되는 것을 방지하는 것과 동시에, 풉의 내부에서 웨이퍼를 반출한 상태로 풉 내부를 세정하는 동안 챔버의 밀폐공간으로 반출된 웨이퍼를 세정함으로써 풉의 내부가 높은 청정도를 유지할 수 있도록 하는 풉 세정용 퍼지시스템이 제공된다.

또한, 제1세척노즐을 통해 풉의 개구부 일측에서 공급되는 세정용 질소가스가 풉의 일측에서 타측으로 이동하도록 하고, 커튼노즐에 의해 형성되는 하강기류에 의해 배기호스를 향해 이동하도록 함으로써, 세정을 위해 공급되는 질소가스와 세정 후 오염물질을 포함하는 질소가스가 풉의 내부에서 섞이지 않도록 하는 것과 동시에 빠르게 배출시킴으로써 세정효율을 향상시킬 수 있는 풉 세정용 퍼지시스템이 제공된다.

도 1은 종래 반도체 웨이퍼 처리 장치의 전체를 도시하는 측면도,
도 2a는 종래의 장치에 있어서의 오프너 부분을 확대한 측단면도,
도 2b는 종래의 장치에 있어서의 반송실측으로부터 오프너를 본 정면도,
도 3은 종래 오프너를 이용하여 풉으로부터 덮개를 제거한 상태의 측단면 개략도,
도 4는 본 발명 풉 세정용 퍼지시스템의 측면도,
도 5는 본 발명에 따른 풉세정부의 발췌사시도,
도 6은 본 발명에 따른 풉세정부의 분해사시도,
도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼세정부의 발췌사시도,
도 8은 본 발명에 따른 웨이퍼세척부의 평면도,
도 9는 본 발명에 따른 웨이퍼세척부의 정면도,
도 10은 본 발명에 따른 풉세척부의 커버가 상승한 상태의 정면도,
도 11은 본 발명에 따른 풉세척부의 커버가 하강한 상태의 정면도,
도 12는 본 발명에 따른 풉세척부의 커버가 하강한 상태의 측면도,
도 13은 본 발명에 따른 풉세척부의 커버가 전진한 상태의 측면도,
도 14는 본 발명에 따른 풉세척부의 배기호스가 커버에 결합한 상태의 정면도이다.

설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 풉 세정용 퍼지시스템에 대하여 상세하게 설명한다.

첨부도면 중 도 4는 본 발명 풉 세정용 퍼지시스템의 측면도, 도 5는 본 발명에 따른 풉세정부의 발췌사시도, 도 6은 본 발명에 따른 풉세정부의 분해사시도, 도 7은 본 발명에 따른 웨이퍼세정부의 발췌사시도이다.

상기 도면에서 도시하는 바와 같은 본 발명 풉 세정용 퍼지시스템은 챔버(10)의 개구부(11)를 통해 풉(F) 내부를 세척하는 풉세척부(100)와, 챔버(10)의 개구부(11)를 통해 챔버(10) 밀폐공간으로 반출된 웨이퍼(W)를 세척하는 웨이퍼세척부(200)를 포함하여 구성된다.

상기 챔버(10)는 내부에 밀폐공간이 형성되고, 밀폐공간과 연통하는 개구부(11)에 밀착되는 풉(F)의 도어를 개폐하는 도어개폐유닛(13)과, 풉(F)의 내부와 챔버(10)의 밀폐공간 사이에서 웨이퍼(W)를 반송하는 웨이퍼이동유닛(13)이 형성된다.

상기 풉세척부(100)는 커버(110)와, 상기 커버(110)를 수직방향으로 이동시키는 제1구동부(120)와, 상기 커버(110)를 수평방향으로 이동시키는 제2구동부(130)와, 상기 커버(110)의 내부 상측에 수평방향으로 설치되는 커튼노즐(140)과, 상기 커버(110)의 내부 일측에 수직방향으로 설치되는 제1세척노즐(150)과, 상기 커버(110)의 하단부 일측에서 풉(F) 내부로 공급되는 질소와 오염물질을 배출하는 배기호스(160)와, 상기 배기호스(160)를 커버(110)에 착탈시키는 제3구동부(170)를 포함하여 구성된다.

상기 커버(110)는 일측이 개구된 박스형태를 이루도록 4개의 측벽으로 구성되는 사각틀체(111)와 상기 사각틀체(111)의 일측 개구를 마감하는 후면부(112)로 구성되며, 개구측이 챔버(10)의 내측에서 개구부(11)를 향해 배치되고, 상기 사각틀체(111)의 일측면 하부에 배기공(113)이 형성된다.

상기 제1구동부(120)는 상기 커버(110)가 선택적으로 개구부(11)를 마감하도록 챔버(10)의 개구부(11)가 형성된 면에 설치되어 커버(110)를 개구부(11) 또는 개구부(11)의 인접위치로 이동시키는 것으로, 상기 챔버(10)의 개구부(11)의 내측면 상부 양측에서 수직방향으로 배치되어 커버(110)의 이동을 안내하는 안내레일(121)과, 일단부는 챔버(10)측에 고정되고 타단부는 상기 커버(110)에 고정되어 길이방향으로 신축하는 실린더(122)로 이루어진다.

상기 제2구동부(130)는 챔버(10)의 개구부(11)와 중첩되는 위치로 이동한 커버(110)를 개구부(11)에 밀착 또는 이격되는 방향으로 이동시키는 것으로, 상기 제1구동부(120)의 안내레일(121)과 커버(110)의 사이에 마련되어 상기 커버(110)를 개구부(11)에 밀착시키거나 개구부(11)로부터 이격시키도록 길이방향으로 신축하는 실린더(131)로 이루어진다.

상기 커튼노즐(140)은 상기 커버(110)의 내측 상단부에 횡방향으로 배치되어 하측방향을 향해 질소가스를 분사하는 것으로, 하나의 공급부(141)와, 상기 커버(110)의 내부 상측면에서 후면부(12)와 인접하여 하측방향을 향해 다수 설치되는 분사노즐(143)과, 상기 공급부(141)와 분사노즐(143)을 각각 연결하는 분기관(143)으로 이루어진다.

상기 제1세척노즐(150)은 상기 커버(110)의 배기공(113)의 반대편에서 커튼노즐(140)보다 챔버(10)의 개구부(11)와 가까운 위치에 수직방향으로 설치되어 풉(F)의 내부공간을 향해 질소가스를 공급하는 것으로, 상기 커버(110)의 내부 일측에 수직방향으로 설치되어 도시되지 않은 질소 공급라인으로부터 질소가 공급되는 관체(151)와, 상기 관체(151)의 풉(F) 내부공간과 대향하는 부위에 수직방향으로 이격되어 다수 형성되는 노즐공(152)으로 이루어진다.

상기 배기호스(160)는 상기 배기공(113)에 착탈가능하게 결합하여 풉(F) 내부의 공기를 배출하는 것으로, 플렉시블관으로 이루어지는 것이 바람직하며, 상기 커튼노즐(140)과 제1세척노즐(150)을 통해 커버(110)와 풉(F)의 사이에 형성된 내부공간으로 공급된 질소와 오염물질을 챔버(10) 외부로 배출한다.

상기 제3구동부(170)는 상기 배기호스(160)와 커버(110)의 배기공(113) 사이에 마련되어 상기 배기호스(160)를 커버(110)의 배기공(113)에 결합 또는 분리시키는 것으로, 상기 커버(110)의 측방향에서 상기 배기호스(160)의 말단부를 수평이동시키는 실린더로 이루어진다.

상기 웨이퍼세척부(200)는 상기 챔버(10) 내에서 웨이퍼이동유닛(13)에 의해 반송되는 웨이퍼(W)를 향해 질소가스를 분사하는 것으로, 웨이퍼이동유닛(13)에 의해 이동하는 웨이퍼(W)의 이동영역의 양측에 웨이퍼(W)의 이송방향을 따라 다수 이격 배치되는 제2세척노즐(210)로 이루어진다.

상기 제2세척노즐(210)은 수직방향으로 설치되어 도시되지 않은 질소 공급라인으로부터 질소가 공급되는 관체(211)와, 상기 관체(211)의 웨이퍼(W) 이동영역과 대향하는 부위에 수직방향으로 이격되어 다수 형성되는 노즐공(212)으로 이루어진다.

지금부터는 도 8 내지 도 14를 참조하여 상술한 풉 세정용 퍼지시스템의 제1실시예의 결합 및 작용에 대하여 설명한다.

첨부도면 중 도 8은 본 발명에 따른 웨이퍼세척부의 평면도이고, 도 9는 본 발명에 따른 웨이퍼세척부의 정면도이다.

먼저, 챔버(10)의 개구부(11) 내측 하부에 위치한 도어개폐유닛(13)이 승강하면서 챔버(10)의 개구부(11)에 밀착되도록 스테이지(12)에 안착된 풉(F)의 도어를 개방하고, 이어서 웨이퍼반송유닛(14)이 전,후진하면서 풉(F) 내부로부터 웨이퍼(W)를 반출하여 챔버(10)의 밀폐공간으로 이동한다.

상기와 같이 웨이퍼반송유닛(14)에 의해 웨이퍼(W)가 챔버(10) 내부로 반출되는 과정에서는 상기 웨이퍼반송유닛(14)의 양측에 소정간격 이격되어 다수 배치된 웨이퍼세척부(200)로부터 질소가스가 분사되면서 웨이퍼(W)의 오염물질을 제거한다.

즉, 챔버(10)의 개구부(11) 후방에 전,후진하도록 배치된 웨이퍼반송유닛(14)의 양측에, 웨이퍼(W)의 반출방향을 따라 제2세척노즐(210)이 소정간격 이격 배치된 상태에서, 상기 제2세척노즐(210)을 구성하는 관체(211)와 질소 공급라인으로 연결된 질소공급부로부터 질소가 공급되면, 상기 관체(211) 상에서 수직방향으로 이격 형성된 다수의 노즐공(212)을 통해 웨이퍼(W)의 측방향으로 질소가 분사되면서 웨이퍼(W)에 부착된 오염물질들이 질소의 분사압력에 의해 웨이퍼(W)로부터 제거된다.

상기와 같이 웨이퍼세척부(200)의 제2세척부가 웨이퍼반송유닛(14)의 웨이퍼(W) 반송방향을 따라 양측에 다수 형성되어 웨이퍼(W)를 반출하는 동안 웨이퍼(W)의 양측에서 질소를 분사하므로, 웨이퍼(W)에 부착된 오염물질이 제거되는 것은 물론, 오염물질이 웨이퍼(W)에 들러붙는 것이 방지된다.

도 10은 본 발명에 따른 풉세척부의 커버가 상승한 상태의 정면도이고, 도 11은 본 발명에 따른 풉세척부의 커버가 하강한 상태의 정면도이고, 도 12는 본 발명에 따른 풉세척부의 커버가 하강한 상태의 측면도이다.

상기와 같이 웨이퍼(W)가 풉(F)으로부터 반출되면, 챔버(10)의 개구부(11) 내측 상부에 위치한 커버(110)가 제1구동부(120)의 구동에 의해 하강하면서 챔버(10)의 개구부(11) 내측을 마감한다.

즉, 챔버(10)의 개구부(11) 상부 양측에 수직방향으로 풉세척부(100)의 안내레일(121)이 배치된 상태에서 커버(110)가 상기 안내레일(121)을 따라 이동가능하게 설치되고, 실린더(122)의 일단부는 챔버(10)측에 고정되고 타단부의 작용로드는 커버(110)측에 고정된다. 상기와 같이 결합된 상태에서 실린더(1)의 작용로드가 수축하면 커버(110)가 수직방향으로 하강하여 챔버(10)의 개구부(11)와 중첩되는 위치로 이동하게 된다.

한편, 도 12와 같이 상기 제1구동부(120)의 수축방향으로의 구동에 의해 커버(110)가 승강하는 과정에서는 상기 커버(110)가 챔버(10)의 개구부(11)와 이격된 상태로 승강하게 된다.

도 13은 본 발명에 따른 풉세척부의 커버가 전진한 상태의 측면도이고, 도 14는 본 발명에 따른 풉세척부의 배기호스가 커버에 결합한 상태의 정면도이다.

상기와 같이 커버(110)가 하강하여 개구부(11)의 후방에 이격된 위치로 이동한 상태에서는 안내레일(121)과 커버(110)의 사이에 배치된 제3구동부(170)가 결합방향으로 구동하면 커버(110)가 챔버(10)의 개구부(11)를 향해 전진하여 커버(110)가 챔버(10)의 개구부(11) 내측에 밀착된다.

이어서, 커버(110)가 개구부(11)에 밀착되면, 커버(110)의 하강위치에서 측방향에 위치한 제3구동부(170)가 결합방향으로 구동하여 배기호스(160)의 단부를 커버(110)의 측면 하부에 위치한 배기공(113)에 결합시킨다.

상기와 같이 커버(110)가 개구부(11)의 내측에 밀착되고, 커버(110)의 배기공(113)으로 배기호스(160)가 결합된 상태에서, 질소공급부의 질소 공급라인을 통해 커튼노즐(140)의 공급부(141)에 공급되는 질소는, 공급부(141)와 커버(110)의 내부 상측면에 설치된 분사노즐(143)을 연결하는 분기관(143)을 통해 각각의 분사노즐(143)로 공급되어 하측방향을 향해 분사된다. 이때, 상기 분사노즐(143)이 커버(110)의 내부 상측면에 소정간격 이격되어 다수 형성되어 있으므로 커버(110)의 내부에서 후면부(112)의 판면을 따라 하강기류를 형성하게 된다.

또한, 질소공급부의 질소 공급라인을 통해 제1세척노즐(150)의 관체(151)로 공급되는 질소는, 관체(151)의 길이방향으로 소정간격 이격 형성된 노즐공(152)을 통해 풉(F)의 내부공간을 향해 분사된다.

이때, 상기 제1세척노즐(150)이 풉(F)의 내부공간의 일측영역에서 수직방향으로 설치된 관체(151)의 노즐공(152)을 통해 질소를 분사하도록 설치되고, 제1세척노즐(150)의 반대편에 배기공(113)이 형성되어 배기호스(160)가 결합되어 있다.

따라서 커버(110)의 일측에서 수직방향으로 설치된 제1세척노즐(150)을 통해 질소가스가 풉(F) 내부로 공급되면 풉(F)의 내측면을 따라 순환하면서 커버(110)의 타측으로 되돌아 나오는데, 이때 커버(110)의 내측면에 커튼노즐(140)에 의해 하강기류가 형성되어 오염물질을 포함하는 질소가스가 배기공(113)을 향하게 되므로, 배기호스(160)을 통해 외부공간으로 배출된다.

즉, 풉(F) 내부공간으로 공급되는 질소가스가 일정한 동선을 가지고 배기호스(160)로 배출되도록 함으로써 배출되는 가스가 공급되는 가스와 혼합되는 것을 방지하며, 오염물질을 포함하는 질소가스가 풉(F)의 내부공간에 머무르지 않도록 하는 효과가 있다.

상술한 바와 같은 본 발명 웨이퍼 이송용기용 세정시스템은 풉(F)에 적재된 웨이퍼(W)를 반출한 상태로 풉(F)을 세정하므로 풉 내부의 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 풉(F)의 내부를 세정하는 동안 풉(F)으로부터 반출된 웨이퍼(W)의 표면을 세정하도록 함으로써, 웨이퍼(W)가 오염되는 것을 최소화할 수 있게 된다. 또한, 풉세척부(100)를 통해 풉(F) 내부공간을 세정하는 과정에서 가스가 일정한 흐름을 갖도록 유도함으로써 풉(F)의 세정효과를 상승시키는 효과가 있다.

한편, 상기와 같은 웨이퍼(W) 및 풉(F)의 세정이 완료되면, 제3구동부(170)가 역방향으로 구동하여 커버(110)의 배기공(113)으로부터 배기호스(160)를 분리시키고, 제2구동부(130)가 수축방향으로 구동하여 커버(110)를 챔버(10)의 개구부(11)로부터 이격시킨 다음, 제1구동부(120)가 연장방향으로 구동하여 커버(110)를 상측방향으로 이동시킨다.

상기와 같이 커버(110)가 상측방향으로 이동한 뒤에는 웨이퍼이동유닛(13)을 전진시켜 웨이퍼(W)를 풉(F) 내부에 다시 적재하고, 웨이퍼이동유닛(13)을 후진시켜 원위치로 복귀시킨 다음, 도어개폐유닛(13)을 통해 풉(F)의 개구영역에 도어를 다시 결합한다.

이러한 작용은 상술한 세정작용의 역순에 해당하므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.

100:풉세척부, 110:커버, 111:사각틀체, 112:마감패널, 113:배기공,
120:제1구동부, 121:안내레일, 122:실린더, 130:제2구동부, 131:실린더,
140:커튼노즐, 141:공급통로, 142:분사노즐, 143:분기관, 150:제1세척노즐,
151:관체, 152:노즐공, 160:배기호스, 170:제3구동부, 200:웨이퍼세척부,
210:제2세척노즐, 211:관체, 212:노즐공, 10:챔버, 11:개구부, 12:스테이지,
13:도어개폐유닛, 14:웨이퍼반송유닛, F:풉, W:웨이퍼

Claims (5)

1. 내부에 밀폐공간이 형성되고, 밀폐공간과 연통하는 개구부에 밀착되는 풉의 도어를 개폐하는 도어개폐유닛과, 풉의 내부와 챔버의 밀폐공간 사이에서 웨이퍼를 반송하는 웨이퍼반송유닛이 형성된 챔버에 설치되어 웨이퍼 및 풉을 세정하는 풉 세정용 퍼지시스템에 있어서,
   챔버의 개구부 내측에 이동가능하게 배치되는 커버와, 상기 커버가 선택적으로 개구부를 마감하도록 상기 커버를 개구부 또는 개구부의 인접위치로 이동시키는 제1구동부와, 개구부에 위치한 커버를 개구부에 밀착 또는 이격되는 방향으로 이동시키는 제2구동부와, 상기 커버의 내측 상단부에 횡방향으로 배치되어 하측방향을 향해 질소가스를 분사하는 커튼노즐과, 상기 커버의 내부 일측에 수직방향으로 배치되는 관체와, 상기 관체의 웨이퍼 이동영역과 대향하는 부위를 향해 수직방향으로 이격되어 다수 형성되는 노즐공으로 풉의 내부공간을 향해 질소가스를 공급하는 제1세척노즐과, 상기 커버의 타측 하부에 형성되는 배기공과, 상기 배기공에 착탈가능하게 결합하여 풉 내부의 공기를 배출하도록 설치되는 배기호스로 이루어지는 풉세척부; 및,
   상기 챔버 내에서 웨이퍼반송유닛의 이동영역의 적어도 일측에 웨이퍼의 이동방향을 따라 이격 배치되어 웨이퍼반송유닛에 의해 반송되는 웨이퍼를 향해 질소가스를 분사하도록 수직방향으로 배치되는 관체와, 상기 관체의 풉 내부공간과 대향하는 부위를 향해 수직방향으로 이격되어 다수 형성되는 노즐공으로 이루어지는 다수의 제2세척노즐이 형성된 웨이퍼세척부를 포함하는 풉 세정용 퍼지시스템.
2. 삭제
3. 제 1항에 있어서,
   상기 커버는 4개의 측벽으로 이루어지는 사각틀체와, 상기 사각틀체의 후방을 마감하는 후면부로 이루어지고, 상기 커튼노즐은 사각틀체의 상부 내측면에서 후면부에 인접한 위치에 배치되고, 상기 제1세척노즐은 사각틀체의 상부 내측면에서 개구부에 인접한 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 풉 세정용 퍼지시스템.
4. 삭제
5. 삭제

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