KR101183060B1 - A touch panel and its manufacturing method with equipped a ito of a resistive components of different two or more - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A touch panel including an ITO(Indium Tin Oxide) having two or more separate resistance elements and a manufacturing method thereof are provided to minimize an excessive increase in touch panel line resistance by forming two or more ITO pattern layer areas having separate resistance elements. CONSTITUTION: A pattern layer(120) is formed by having different thicknesses in order to form two or more areas having separate resistance elements. The pattern layer includes a pattern layer sensing unit(122) and a pattern layer connecting unit(121). The pattern layer sensing unit forms a touch pattern for sensing a touch position. The pattern layer connecting unit is thicker than the pattern layer sensing unit. The pattern layer connection unit is cut in micro patterns.

Description

서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 아이티오를 구비한 터치 패널 및 그 제조 방법{A TOUCH PANEL AND ITS MANUFACTURING METHOD WITH EQUIPPED A ITO OF A RESISTIVE COMPONENTS OF DIFFERENT TWO OR MORE}TOUCH PANEL AND ITS MANUFACTURING METHOD WITH EQUIPPED A ITO OF A RESISTIVE COMPONENTS OF DIFFERENT TWO OR MORE}

본 발명은 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a touch panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a touch panel having an ITO having two or more different resistive components and a method of manufacturing the same.

터치 패널(touch panel)이란 접촉식 패널이라고도 하는데, 디스플레이에 표시되어 있는 버튼을 접촉함으로써, 대화적이고 직감적인 조작을 가능하게 하여 손쉽게 컴퓨터를 조작할 수 있게 하는 컴퓨팅 입력 장치를 말한다. 흔히 볼 수 있는 은행의 현금 인출기나 개인 휴대 정보 단말기(PDA), 내비게이션, 노트북의 터치 패드 등에 터치 패널이 많이 사용되고 있다. 터치 패널에서 터치를 인식하는 방식은 크게 저항 막 방식과 정전용량 방식으로 나뉠 수 있다. 종래에는 저항 막 방식이 경제적인 측면에서 저렴하기 때문에 널리 사용되어 왔으나, 최근에는 내구성이 우수하고 화면이 선명하며 멀티 터치가 가능한 정전용량 방식으로 교체되고 있는 추세이다.
A touch panel, also referred to as a touch panel, refers to a computing input device that makes it possible to easily operate a computer by enabling interactive and intuitive operations by touching a button displayed on a display. Touch panels are widely used in ATMs, personal digital assistants (PDAs), navigation systems, and laptop touch pads. The touch recognition method in the touch panel may be largely divided into a resistive film method and a capacitive method. Conventionally, the resistive film method has been widely used because it is economically inexpensive, but in recent years, it has been replaced by a capacitive method that has excellent durability, a clear screen, and multi-touch.

정전용량 방식의 터치 패널은 사람의 몸에 있는 정전용량을 이용하는 방식이다. 정전용량 방식의 터치 패널은, 교류 전압을 이용하여 사람의 정전용량에 의해 일어나는 저항과 전류의 변화를 측정하여 터치를 인식하는 방식과, 커패시터의 충전되는 양을 비교하여 터치 유무를 판단하는 방식으로 나눌 수 있다. 이와 같은 정전용량 방식의 터치 패널은, 필름을 사용하는 저항 막 방식에 비해 내구성이 탁월하여 수분이나 작은 손상에도 동작에 지장이 없다. 또한, 터치의 정확도가 비교적 높고, 광학적 특성이 우수하여 화면이 선명하다. 특히, 정전용량의 충전 방식을 이용하는 터치 패널은, 다중 포인트가 가능하고 소형으로 제작이 가능하여 모바일 스마트 기기에 많이 사용되고 있다.
A capacitive touch panel uses a capacitance in a human body. In the capacitive touch panel, a touch is recognized by measuring a change in resistance and current caused by a capacitance of a person using an alternating voltage, and a method of determining whether there is a touch by comparing the amount of charge of a capacitor. Can be divided. Such a capacitive touch panel is superior in durability compared to a resistive film method using a film, and thus does not interfere with operation even with moisture or small damage. In addition, the touch accuracy is relatively high, and the optical characteristic is excellent, so that the screen is clear. In particular, the touch panel using the capacitive charging method is multi-point and can be manufactured in a small size, which is widely used in mobile smart devices.

종래의 정전용량 방식의 터치 패널은 주로 ITO(Indium Tin Oxide)를 사용하는 데, 유리 기판 상부에 ITO를 투명 전극으로 사용하여 터치 신호를 감지하게 된다. 이때, 투명 전극은 2개 층을 사용하여 터치 신호를 감지하고 위치를 검출하는 방법이 사용되고 있으며, 이와 같은 방법이 가장 편리하고 안전한 터치 인식 방식으로 알려져 있다. 그러나 이와 같은 방법은 투명 전극을 2층 이상 사용해야 하므로 제조 단가가 상승하는 단점이 있다.
Conventional capacitive touch panels mainly use indium tin oxide (ITO), and use ITO as a transparent electrode on a glass substrate to sense a touch signal. In this case, a method of detecting a touch signal and detecting a position using two layers is used as the transparent electrode. Such a method is known as the most convenient and safe touch recognition method. However, such a method has a disadvantage in that the manufacturing cost increases because two or more transparent electrodes must be used.

이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 하나의 투명 전극 층만을 이용하여 2층을 사용하는 것과 같은 효과를 내기 위한 다양한 연구가 시도되고 있다. 즉, 싱글 레이어에 터치 패턴을 배치하고 터치 패턴에서 검출되는 신호 변화를 이용하여 터치 위치를 계산하는 것이다. 그러나 종래의 싱글 레이어 터치 패턴은 옆 라인의 저항이 너무 커지는 단점이 있으며, 이는 터치 패널에서 터치 감지의 성능 저하를 야기하는 문제로 작용하게 된다.In order to solve this problem, various studies have been attempted to produce the same effect as using two layers using only one transparent electrode layer. That is, a touch pattern is disposed on a single layer and a touch position is calculated by using a signal change detected in the touch pattern. However, the conventional single layer touch pattern has a disadvantage in that the resistance of the side line is too large, which causes a problem of degrading touch sensing performance in the touch panel.

본 발명은 기존에 제안된 방법들의 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 싱글 레이어 타입의 정전용량 터치 패널을 구성함에 있어 패턴층(ITO)의 두께를 상이하게 구성함으로써, 저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 ITO 패턴층 영역을 구성하여 터치 패널의 라인의 저항이 너무 커지게 되는 문제를 최소화하고, 우수한 전도성과 투과율의 확보를 통한 터치 패널의 전체적인 성능이 향상될 수 있도록 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention is proposed to solve the above problems of the conventionally proposed methods, by configuring the thickness of the pattern layer (ITO) in the configuration of a single layer type capacitive touch panel, the resistance components are mutually The two different ITO pattern layer areas can be configured to minimize the problem of the line resistance of the touch panel becoming too large, and to improve the overall performance of the touch panel by ensuring excellent conductivity and transmittance. It is an object of the present invention to provide a touch panel having an ITO having at least two resistive components and a method of manufacturing the same.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널은,In order to achieve the above object, a touch panel having an ITO having two or more different resistance components according to a feature of the present invention is provided.

정전용량 방식의 터치 패널로서,As a capacitive touch panel,

투명한 소재의 기판으로 구성되는 베이스 기재; 및A base substrate composed of a transparent material substrate; And

상기 베이스 기재의 일면으로 복수의 터치 패턴을 형성하기 위한 투명 전도체 소재의 전극들이 배치 형성되는 패턴층을 포함하되,It includes a pattern layer in which electrodes of a transparent conductor material for forming a plurality of touch patterns on one surface of the base substrate is disposed,

상기 패턴층은,The pattern layer,

저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 영역이 형성될 수 있도록 상기 패턴층의 두께를 상이하게 형성하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.
The thickness of the pattern layer is differently formed so that two or more regions having different resistance components can be formed.

바람직하게는, 상기 투명 전도체는,Preferably, the transparent conductor,

ITO(Indium Tin Oxide)로 구성할 수 있다.
It may be composed of indium tin oxide (ITO).

바람직하게는, 상기 패턴층은,Preferably, the pattern layer,

터치 위치의 감지를 위해 터치 패턴을 형성하는 낮은 두께를 갖는 패턴층 감지부; 및A pattern layer detector having a low thickness forming a touch pattern to detect a touch position; And

상기 패턴층 감지부의 전극에 전기적 연결을 위해 상기 패턴층 감지부에 비해 두께가 두껍고, 미세 패턴으로 절단된 구조의 패턴층 연결부를 포함하여 구성할 수 있다.
In order to electrically connect the electrode of the pattern layer detecting unit, the thickness is thicker than the pattern layer detecting unit, and may include a pattern layer connecting unit having a structure cut into a fine pattern.

더욱 바람직하게는, 상기 패턴층은,More preferably, the pattern layer,

상기 터치 패널의 전도성과 투과율이 확보되고, 옆 라인의 저항이 너무 커지는 것이 방지될 수 있도록 두께가 낮은 패턴층 감지부의 사이에 패턴층 연결부가 형성되며,The pattern layer connection part is formed between the pattern layer sensing part having a low thickness so that the conductivity and transmittance of the touch panel can be secured and the resistance of the side line can be prevented from becoming too large.

상기 패턴층 연결부와 패턴층 감지부가 상기 베이스 기재의 일면에 순차로 형성될 수 있다.
The pattern layer connection unit and the pattern layer detection unit may be sequentially formed on one surface of the base substrate.

더욱 바람직하게는, 상기 터치 패널은,More preferably, the touch panel,

디스플레이 장치의 투명 윈도우를 더 포함할 수 있다.
The display device may further include a transparent window.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법은,Method of manufacturing a touch panel having an ITO having two or more different resistance components according to the features of the present invention for achieving the above object,

(1) 투명한 소재의 기판으로 구성되는 베이스 기재의 일면으로 투명 전도체를 코팅하는 단계;(1) coating a transparent conductor on one surface of a base substrate composed of a substrate of transparent material;

(2) 상기 투명 전도체가 코팅된 베이스 기재 위에 에칭 레지스트를 코팅하는 단계;(2) coating an etching resist on the base substrate coated with the transparent conductor;

(3) 상기 에칭 레지스트가 코팅된 베이스 기재 위에 제1 스크린 마스크를 이용하여 에칭 페이스트를 코팅 및 식각하여 상기 투명 전도체의 일부에 대해 두께가 낮아지도록 조절하는 단계; 및(3) coating and etching the etching paste on the base substrate coated with the etching resist using a first screen mask to adjust the thickness of the transparent conductor to be lowered to a portion of the transparent conductor; And

(4) 상기 베이스 기재 위에 제2 스크린 마스크를 이용한 에칭 공정을 통해 상기 단계 (3)에서 두께가 조절되지 않은 투명 전도체에 대한 미세 패턴의 형성을 위한 절단이 이루어지는 단계를 포함하며,(4) cutting to form a fine pattern for the transparent conductor whose thickness is not controlled in step (3) through an etching process using a second screen mask on the base substrate,

상기 단계 (4) 이후, 상기 베이스 기재의 일면에 코팅된 투명 전도체는 저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 영역이 형성될 수 있도록 두께가 상이한 구조로 이루어지는 패턴층이 형성되는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.
After the step (4), the transparent conductor coated on one surface of the base substrate is characterized in that the pattern layer is formed of a structure having a different thickness so that two or more regions having different resistive components can be formed .

바람직하게는, 상기 단계 (1)에서는,Preferably, in the step (1)

상기 베이스 기재의 공정 투입 전, 베이스 기재의 표면에 묻어 있는 불순물을 제거하는 세정 과정을 더 포함할 수 있다.
The method may further include a cleaning process of removing impurities on the surface of the base substrate before the process of introducing the base substrate.

바람직하게는, 상기 단계 (2) 및 상기 단계(3)은,Preferably, the step (2) and the step (3),

스크린 프린팅(Screen Printing), 그라비아(Gravure), 및 잉크젯(Inkjet) 중 하나의 코팅 공정으로 이루어질 수 있다.
The coating process may be performed by one of screen printing, gravure, and inkjet.

바람직하게는, 상기 투명 전도체는,Preferably, the transparent conductor,

ITO(Indium Tin Oxide)로 구성할 수 있다.
It may be composed of indium tin oxide (ITO).

바람직하게는, 상기 단계 (3)에서,Preferably, in step (3),

두께가 낮아지도록 조절된 투명 전도체는, 터치 위치의 감지를 위해 터치 패턴을 형성하는 패턴층 감지부로 이루어질 수 있다.
The transparent conductor adjusted to have a low thickness may include a pattern layer sensing unit forming a touch pattern for sensing a touch position.

더욱 바람직하게는, 상기 단계 (4)에서,More preferably, in step (4),

미세 패턴의 형성을 위해 절단되는 투명 전도체는, 상기 패턴층 감지부의 전극에 전기적 연결을 위한 패턴층 연결부로 이루어질 수 있다.The transparent conductor cut to form a fine pattern may be formed of a pattern layer connection unit for electrical connection to an electrode of the pattern layer detection unit.

본 발명에서 제안하고 있는 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널 및 그 제조 방법에 따르면, 싱글 레이어 타입의 정전용량 터치 패널을 구성함에 있어 패턴층(ITO)의 두께를 상이하게 구성함으로써, 저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 ITO 패턴층 영역을 구성하여 터치 패널의 라인의 저항이 너무 커지게 되는 문제를 최소화하고, 우수한 전도성과 투과율의 확보를 통한 터치 패널의 전체적인 성능이 향상될 수 있도록 할 수 있다.According to the present invention, a touch panel having an ITO having two or more different resistive components and a manufacturing method thereof have different thicknesses of the pattern layer (ITO) in configuring a single layer type capacitive touch panel. By constructing two or more ITO pattern layer regions having different resistive components, the problem that the resistance of the line of the touch panel becomes too large is minimized, and the overall performance of the touch panel can be improved by securing excellent conductivity and transmittance. You can do that.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 단면 구성을 도시한 도면.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 평면 구성을 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널에 투명 윈도우가 포함된 단면 구성을 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법의 흐름을 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법에서, 2개의 스크린 마스크를 이용한 패턴층 영역의 식각 처리 과정을 도시한 도면.1 is a cross-sectional view of a touch panel having an ITO having two or more different resistance components according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 illustrates a planar configuration of a touch panel having an ITO having two or more different resistive components according to an embodiment of the present invention. FIG.
3 is a cross-sectional view of a transparent window included in a touch panel having an ITO having two or more different resistance components according to an embodiment of the present invention.
4 is a flow diagram illustrating a method of manufacturing a touch panel having an ITO having two or more different resistive components according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view illustrating an etching process of a pattern layer region using two screen masks in a method of manufacturing a touch panel having ITO having two or more different resistive components according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in order that those skilled in the art can easily carry out the present invention. In the following detailed description of the preferred embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. In the drawings, like reference numerals are used throughout the drawings.

덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 ‘연결’ 되어 있다고 할 때, 이는 ‘직접적으로 연결’ 되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 ‘간접적으로 연결’ 되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 ‘포함’ 한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
In addition, in the entire specification, when a part is referred to as being 'connected' to another part, it may be referred to as 'indirectly connected' not only with 'directly connected' . In addition, the term 'comprising' of an element means that the element may further include other elements, not to exclude other elements unless specifically stated otherwise.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 단면 구성을 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 평면 구성을 도시한 도면이다. 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널(100)은, 베이스 기재(110), 및 패턴층(120)을 포함하여 구성될 수 있으며, 투명 윈도우(130)를 더 포함하여 구성될 수 있다.
1 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration of a touch panel having an ITO having two or more different resistance components according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating two different configurations according to an embodiment of the present invention. It is a figure which shows the planar structure of the touchscreen provided with ITO which has the above-mentioned resistance component. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the touch panel 100 including ITO having two or more different resistive components according to an embodiment of the present invention includes a base substrate 110 and a pattern layer 120. It may be configured to include, and may further comprise a transparent window 130.

베이스 기재(110)는, 투명한 소재의 기판으로 구성되는 베이스 부재이다. 여기서, 베이스 기재(110)는 투명한 재질의 글라스 기판 혹은 강화 유리로 구성될 수 있다. 이러한 베이스 기재(110)는 터치 패널(100)을 제조하기 위한 공정에서, 공정 투입 전 초순수(DI)를 이용하여 표면에 묻어 있는 불순물을 제공하는 처리 과정을 거치게 된다. ITO 필름의 경우에는 세정 공정이 생략될 수 있다.
The base base material 110 is a base member comprised from the board | substrate of a transparent material. Here, the base substrate 110 may be composed of a glass substrate or tempered glass of a transparent material. In the process of manufacturing the touch panel 100, the base substrate 110 is subjected to a process of providing impurities buried on the surface using ultrapure water (DI) before the process input. In the case of an ITO film, the cleaning process may be omitted.

패턴층(120)은, 베이스 기재(110)의 일면으로 복수의 터치 패턴을 형성하기 위한 투명 전도체 소재의 전극들이 배치 형성되는 구성이다. 이러한 패턴층(120)은 Tx 패턴의 전극과 Rx 패턴의 전극 조합으로 터치 신호를 감지하는 데 사용된다. 본 발명의 터치 패널(100)에 적용되는 패턴층(120)은 저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 영역이 형성될 수 있도록 도 1에 도시된 바와 같이, 패턴층(120)의 두께를 상이하게 형성할 수 있다. 이때, 패턴층(120)은, 터치 위치의 감지를 위해 터치 패턴을 형성하는 낮은 두께를 갖는 패턴층 감지부(122), 및 패턴층 감지부(122)의 전극에 전기적 연결을 위해 패턴층 감지부(122)에 비해 두께가 두껍고, 미세 패턴으로 절단된 구조의 패턴층 연결부(121)를 포함한다. 여기서, 투명 전도체는 ITO(Indium Tin Oxide)로 구성함이 바람직하나, 이에 제한을 두지는 않으며 ITO 외에도 현재 사용될 수 있는 투명 소재와, 향후 개발될 수 있는 투명 소재의 재질이 적용될 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 도 2를 참조하여 좀 더 상세히 보면, 패턴층(120)은, 터치 패널(100)의 전도성과 투과율이 확보되고, 옆 라인의 저항이 너무 커지는 것이 방지될 수 있도록 두께가 낮은 패턴층 감지부(122)의 사이에 두꺼운 두께를 갖는 패턴층 연결부(121)가 형성되며, 패턴층 연결부(121)와 패턴층 감지부(122)가 베이스 기재(110)의 일면에 순차로 형성되도록 구성할 수 있다.
The pattern layer 120 is a configuration in which electrodes of a transparent conductor material for forming a plurality of touch patterns on one surface of the base substrate 110 are disposed. The pattern layer 120 is used to detect a touch signal by a combination of an electrode of a Tx pattern and an electrode of an Rx pattern. The pattern layer 120 applied to the touch panel 100 of the present invention may have different thicknesses of the pattern layer 120 as illustrated in FIG. 1 so that two or more regions having different resistance components may be formed. can do. At this time, the pattern layer 120, the pattern layer detection unit 122 having a low thickness to form a touch pattern for the detection of the touch position, and the pattern layer detection for electrical connection to the electrode of the pattern layer detection unit 122 It is thicker than the portion 122 and includes a pattern layer connection part 121 having a structure cut into a fine pattern. Here, the transparent conductor is preferably composed of indium tin oxide (ITO), but is not limited thereto, and it should be understood that a transparent material that can be used in addition to ITO and a material of a transparent material that can be developed in the future can be applied. do. In more detail with reference to FIG. 2, the pattern layer 120 may have a low thickness pattern layer sensing unit so that the conductivity and transmittance of the touch panel 100 are secured and the resistance of the side line is prevented from becoming too large. The pattern layer connecting portion 121 having a thick thickness is formed between the 122, and the pattern layer connecting portion 121 and the pattern layer detecting portion 122 may be sequentially formed on one surface of the base substrate 110. .

투명 윈도우(130)는, 터치 패널(100)에 설치된다. 이러한 투명 윈도우(130)는 도 3에 도시된 바와 같이, 베이스 기재(110)의 일면에 형성되는 패턴층(120)의 상부에 설치된다. 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널에 투명 윈도우가 포함된 단면 구성을 나타낸다.
The transparent window 130 is provided in the touch panel 100. As shown in FIG. 3, the transparent window 130 is provided on an upper portion of the pattern layer 120 formed on one surface of the base substrate 110. 3 illustrates a cross-sectional configuration in which a transparent window is included in a touch panel having an ITO having two or more different resistive components according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법의 흐름을 도시한 도면이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법은, 투명 전도체를 코팅하는 단계(S100), 에칭 레지스트(Etching Resist)를 코팅하는 단계(S200), 코팅 및 식각을 통해 투명 전도체의 일부에 대해 두께가 낮아지도록 조절하는 단계(S300), 및 에칭 공정을 통해 두께가 조절되지 않은 투명 전도체에 대한 미세 패턴의 형성을 위한 절단이 이루어지는 단계(S400)를 포함하여 구현될 수 있다.
4 is a flow diagram illustrating a method of manufacturing a touch panel having an ITO having two or more different resistive components according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the method of manufacturing a touch panel having ITO having two or more different resistive components according to an embodiment of the present invention includes coating a transparent conductor (S100) and etching resist. Resist coating step (S200), the step of adjusting the thickness of the transparent conductor to be lowered through the coating and etching (S300), and the formation of a fine pattern for the transparent conductor is not controlled through the etching process It may be implemented including a step for making a cut (S400).

단계 S100에서는, 투명한 소재의 기판으로 구성되는 베이스 기재(110)의 일면으로 투명 전도체를 코팅한다. 여기서, 투명 전도체는 ITO(Indium Tin Oxide)로 구성함이 바람직하나, 이에 제한을 두지는 않으며 ITO 외에도 현재 사용될 수 있는 투명 소재와, 향후 개발될 수 있는 투명 소재의 전도체 재료가 적용될 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 이러한 단계 S100에서는, 베이스 기재(110)의 공정 투입 전, 베이스 기재(110)의 표면에 묻어 있는 불순물을 제거하는 세정 과정을 더 포함할 수 있다. 이때, 베이스 기재(110)의 일면에 투명 전도체(ITO)를 코팅하는 방식이 아닌 ITO 필름을 이용하는 경우에는 세정 공정이 생략될 수 있다.
In step S100, the transparent conductor is coated on one surface of the base substrate 110 composed of a transparent material substrate. Herein, the transparent conductor is preferably composed of indium tin oxide (ITO), but it is not limited thereto, and it is understood that a transparent material that can be used in addition to ITO and a conductive material of a transparent material that can be developed in the future may be applied. Should be. In this step S100, before the process of the base substrate 110, the cleaning process of removing impurities on the surface of the base substrate 110 may be further included. In this case, the cleaning process may be omitted when the ITO film is used instead of the method of coating the transparent conductor (ITO) on one surface of the base substrate 110.

단계 S200에서는, 투명 전도체가 코팅된 베이스 기재(110) 위에 에칭 레지스트를 코팅 처리한다. 단계 S200에서는, 에칭 레지스트 코팅 처리의 공정을 위해 스크린 프린팅(Screen Printing), 그라비아(Gravure), 및 잉크젯(Inkjet) 중 하나가 사용될 수 있다. 이와 같은 단계 S200에서는, 베이스 기재(110)위에 에칭 레지스트를 코팅하고, 코팅 처리된 에칭 레지스트를 건조하는 공정을 수행할 수 있다.
In step S200, the etching resist is coated on the base substrate 110 coated with the transparent conductor. In step S200, one of screen printing, gravure, and inkjet may be used for the process of the etching resist coating process. In such a step S200, the etching resist is coated on the base substrate 110, and a process of drying the coated etching resist may be performed.

단계 S300에서는, 에칭 레지스트가 코팅된 베이스 기재(110) 위에 제1 스크린 마스크(141)를 이용하여 에칭 페이스트를 코팅 및 식각하여 투명 전도체의 일부에 대해 두께가 낮아지도록 조절한다. 이때, 단계 S300에서, 두께가 낮아지도록 조절된 투명 전도체는, 터치 위치의 감지를 위해 터치 패턴을 형성하는 패턴층 감지부(122)로 사용된다. 이러한 공정의 단계 S300에서는 에칭 페이스트 코팅 처리의 공정을 위해 위에서 앞서 설명한 단계 S200에서와 같이, 스크린 프린팅(Screen Printing), 그라비아(Gravure), 및 잉크젯(Inkjet) 중 하나가 코팅 고정으로 사용될 수 있다. 이와 같은 단계 S300에서는 에칭 레지스트가 코팅된 베이스 기재(110) 위에 에칭 페이스트를 코팅하고, 에칭 페이스트의 에칭 율(etching rate)을 높이기 위한 가열 공정을 병행하여 수행할 수 있다.
In step S300, the etching paste is coated and etched on the base substrate 110 coated with the etching resist by using the first screen mask 141 to adjust the thickness of the transparent conductor to be lowered. In this case, in step S300, the transparent conductor adjusted to have a low thickness is used as the pattern layer sensing unit 122 forming a touch pattern for sensing the touch position. In step S300 of this process, one of screen printing, gravure, and inkjet may be used for coating fixing, as in step S200 described above, for the process of the etching paste coating process. In the step S300 as described above, the etching paste may be coated on the base substrate 110 coated with the etching resist, and the heating process may be performed in parallel to increase the etching rate of the etching paste.

단계 S400에서는, 베이스 기재(110) 위에 제2 스크린 마스크(142)를 이용한 에칭 공정을 통해 단계 S300에서 두께가 조절되지 않은 투명 전도체에 대한 미세 패턴의 형성을 위한 절단이 이루어지게 된다. 이러한 단계 S400에서, 미세 패턴의 형성을 위해 절단되는 투명 전도체는, 패턴층 감지부(122)의 전극에 전기적 연결을 위한 패턴층 연결부(121)로 사용된다. 이와 같이, 단계 S400 이후, 베이스 기재(110)의 일면에 코팅된 투명 전도체는 저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 영역이 형성될 수 있도록 두께가 상이한 구조로 이루어지는 패턴층(120)이 형성되게 된다. 단계 S400에서는, 베이스 기재(110)의 에칭 처리를 통해 패턴층(120)을 설계된 형태로 구현하고, 베이스 기재(110)의 표면에 잔류하고 있는 에칭 페이스트 및 투명 전도체인 ITO를 제거하는 세정 공정을 통해 패턴층(120)의 제조를 완료하게 된다. 단계 S300 및 단계 S400에서의 식각 처리를 통해 형성되는 패턴층(120)의 두께가 상이하게 처리되는 과정은 도 5를 참조하여 더욱 상세하게 설명하기로 한다.
In step S400, a cutting process is performed to form a fine pattern for the transparent conductor whose thickness is not adjusted in step S300 through an etching process using the second screen mask 142 on the base substrate 110. In this step S400, the transparent conductor cut to form the fine pattern is used as the pattern layer connector 121 for electrical connection to the electrode of the pattern layer detector 122. As such, after step S400, the transparent conductor coated on one surface of the base substrate 110 is formed with a pattern layer 120 having a structure having a different thickness so that two or more regions having different resistance components may be formed. In step S400, the pattern layer 120 is embodied in a designed form through an etching process of the base substrate 110, and a cleaning process of removing the etching paste and the transparent conductor ITO remaining on the surface of the base substrate 110 is performed. Through the manufacturing of the pattern layer 120 is completed. A process in which the thickness of the pattern layer 120 formed through the etching process in steps S300 and S400 is processed differently will be described in more detail with reference to FIG. 5.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법에서, 2개의 스크린 마스크를 이용한 패턴층 영역의 식각 처리 과정을 도시한 도면이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 베이스 기재(110)의 일면에 코팅 처리된 투명 전도체(ITO)는, 단계 S300에서 사용하는 제1 스크린 마스크(141)를 통해 식각 처리됨으로써, 제1 스크린 마스크(141)에 의해 가려지지 않은 투명 전도체의 식각이 이루어져 두께가 얇아지게 된다. 이때 형성되는 투명 전도체는 Tx 및 Rx의 터치 패턴이 형성되는 패턴층 감지부(122)로 사용된다. 다음, 단계 S300에서 사용된 제1 스크린 마스크(141)가 제거된 후, 단계 S400에서는 도 5에 도시되는 바와 같은 제2 스크린 마스크(142)를 이용한 에칭 공정의 처리를 통해 단계 S300에서 두께가 조절되지 않은 투명 전도체에 대한 미세 패턴의 형성을 위한 절단이 이루어지게 된다. 이때, 미세 패턴의 형성을 위해 절단된 투명 전도체는, 패턴층 감지부(122)의 전극에 전기적 연결을 위한 패턴층 연결부(121)로 사용된다. 따라서 베이스 기재(110)의 일면에 코팅된 투명 전도체는 저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 영역이 형성되는 두께가 상이한 구조로 이루어지는 패턴층(120)이 구성된다. 이와 같이, 패턴층 연결부(121)와, 패턴층 감지부(122)를 순차로 형성하는 패턴층(120)은, 터치 패널(100)의 전도성과 투과율이 확보되고, 옆 라인의 저항이 너무 커지는 것이 방지될 수 있도록 기능한다.
FIG. 5 is a view illustrating an etching process of a pattern layer region using two screen masks in a method of manufacturing a touch panel having ITO having two or more different resistance components according to an embodiment of the present invention. As illustrated in FIG. 5, the transparent conductor (ITO) coated on one surface of the base substrate 110 is etched through the first screen mask 141 used in step S300, thereby providing a first screen mask 141. The thickness of the transparent conductor, which is not covered by), is etched. In this case, the formed transparent conductor is used as the pattern layer detector 122 in which the touch patterns of Tx and Rx are formed. Next, after the first screen mask 141 used in step S300 is removed, the thickness is adjusted in step S300 through a process of an etching process using the second screen mask 142 as shown in FIG. 5 in step S400. Cutting is made for the formation of a fine pattern for the untransparent transparent conductor. In this case, the transparent conductor cut to form the fine pattern is used as the pattern layer connector 121 for electrical connection to the electrode of the pattern layer detector 122. Accordingly, the transparent conductor coated on one surface of the base substrate 110 includes a pattern layer 120 having a structure having a different thickness in which two or more regions having different resistance components are formed. As described above, the pattern layer connecting unit 121 and the pattern layer 120 sequentially forming the pattern layer detecting unit 122 secure the conductivity and transmittance of the touch panel 100, and the resistance of the side line becomes too large. Function so that it can be prevented.

이상 설명한 본 발명은 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이나 응용이 가능하며, 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.The present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics of the invention.

100: 터치 패널 110: 베이스 기재
120: 패턴층 121: 패턴층 연결부
122: 패턴층 감지부 130: 투명 윈도우
141: 제1 스크린 마스크(Screen Mark) 142: 제2 스크린 마스크
S100: 투명한 소재의 기판으로 구성되는 베이스 기재의 일면으로 투명 전도체를 코팅하는 단계
S200: 투명 전도체가 코팅된 베이스 기재 위에 에칭 레지스트를 코팅하는 단계
S300: 에칭 레지스트가 코팅된 베이스 기재 위에 제1 스크린 마스크를 이용하여 에칭 페이스트를 코팅 및 식각하여 투명 전도체의 일부에 대해 두께가 낮아지도록 조절하는 단계
S400: 베이스 기재 위에 제2 스크린 마스크를 이용한 에칭 공정을 통해 두께가 조절되지 않은 투명 전도체에 대한 미세 패턴의 형성을 위한 절단이 이루어지는 단계(패턴층의 두께를 상이하게 형성)100: touch panel 110: base substrate
120: pattern layer 121: pattern layer connection portion
122: pattern layer detection unit 130: transparent window
141: first screen mask 142: second screen mask
S100: coating a transparent conductor with one surface of a base substrate composed of a transparent material substrate
S200: coating the etching resist on the base substrate coated with a transparent conductor
S300: coating and etching the etching paste using a first screen mask on the base substrate coated with the etching resist to adjust the thickness of the transparent conductor to be lowered to a part of the transparent conductor
S400: cutting to form a fine pattern for the transparent conductor whose thickness is not controlled through an etching process using a second screen mask on the base substrate (differently forming the thickness of the pattern layer)

Claims (11)

정전용량 방식의 터치 패널(100)로서,
투명한 소재의 기판으로 구성되는 베이스 기재(110); 및
상기 베이스 기재(110)의 일면으로 복수의 터치 패턴을 형성하기 위한 투명 전도체 소재의 전극들이 배치 형성되는 패턴층(120)을 포함하되,
상기 패턴층(120)은,
저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 영역이 형성될 수 있도록 상기 패턴층(120)의 두께를 상이하게 형성하며,
상기 패턴층(120)은,
터치 위치의 감지를 위해 터치 패턴을 형성하는 낮은 두께를 갖는 패턴층 감지부(122); 및
상기 패턴층 감지부(122)의 전극에 전기적 연결을 위해 상기 패턴층 감지부(122)에 비해 두께가 두껍고, 미세 패턴으로 절단된 구조의 패턴층 연결부(121)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널.
As a capacitive touch panel 100,
A base substrate 110 composed of a transparent material substrate; And
And a pattern layer 120 in which electrodes of a transparent conductor material are formed to form a plurality of touch patterns on one surface of the base substrate 110.
The pattern layer 120,
The thickness of the pattern layer 120 is differently formed so that two or more regions having different resistance components may be formed.
The pattern layer 120,
A pattern layer detector 122 having a low thickness forming a touch pattern to detect a touch position; And
Characterized in that it comprises a pattern layer connecting portion 121 of a thicker thickness than the pattern layer detecting unit 122 and cut into a fine pattern for electrical connection to the electrode of the pattern layer detecting unit 122, A touch panel with ITO having two or more different resistive components.
제1항에 있어서, 상기 투명 전도체는,
ITO(Indium Tin Oxide)로 구성하는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널.
The method of claim 1, wherein the transparent conductor,
A touch panel provided with ITO having two or more different resistive components, which is composed of indium tin oxide (ITO).
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 패턴층(120)은,
상기 터치 패널(100)의 전도성과 투과율이 확보되고, 옆 라인의 저항이 너무 커지는 것이 방지될 수 있도록 두께가 낮은 패턴층 감지부(122)의 사이에 패턴층 연결부(121)가 형성되며,
상기 패턴층 연결부(121)와 패턴층 감지부(122)가 상기 베이스 기재(110)의 일면에 순차로 형성되는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널.
The method of claim 1, wherein the pattern layer 120,
The pattern layer connection part 121 is formed between the pattern layer detector 122 having a low thickness so that the conductivity and transmittance of the touch panel 100 are secured and the resistance of the side line is prevented from becoming too large.
The pattern layer connecting unit 121 and the pattern layer detecting unit 122 are sequentially formed on one surface of the base substrate 110, wherein the touch panel is provided with ITO having two or more different resistance components.
제1항에 있어서, 상기 터치 패널(100)은,
디스플레이 장치의 투명 윈도우(130)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널.
The method of claim 1, wherein the touch panel 100,
A touch panel having an ITO having at least two different resistive components, characterized in that it further comprises a transparent window (130) of the display device.
서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법으로서,
(1) 투명한 소재의 기판으로 구성되는 베이스 기재(110)의 일면으로 투명 전도체를 코팅하는 단계;
(2) 상기 투명 전도체가 코팅된 베이스 기재(110) 위에 에칭 레지스트를 코팅하는 단계;
(3) 상기 에칭 레지스트가 코팅된 베이스 기재(110) 위에 제1 스크린 마스크(141)를 이용하여 에칭 페이스트를 코팅 및 식각하여 상기 투명 전도체의 일부에 대해 두께가 낮아지도록 조절하는 단계; 및
(4) 상기 베이스 기재(110) 위에 제2 스크린 마스크(142)를 이용한 에칭 공정을 통해 상기 단계 (3)에서 두께가 조절되지 않은 투명 전도체에 대한 미세 패턴의 형성을 위한 절단이 이루어지는 단계를 포함하며,
상기 단계 (4) 이후, 상기 베이스 기재(110)의 일면에 코팅된 투명 전도체는 저항 성분이 서로 다른 2가지 이상의 영역이 형성될 수 있도록 두께가 상이한 구조로 이루어지는 패턴층(120)이 형성되는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법.
A method of manufacturing a touch panel having ITO having two or more different resistive components,
(1) coating a transparent conductor on one surface of the base substrate 110 composed of a transparent material substrate;
(2) coating an etching resist on the base substrate 110 coated with the transparent conductor;
(3) coating and etching the etching paste on the base substrate 110 coated with the etching resist using a first screen mask 141 to adjust the thickness of the transparent conductor to be lowered to a part of the transparent conductor; And
(4) cutting to form a fine pattern for the transparent conductor whose thickness is not adjusted in step (3) through an etching process using the second screen mask 142 on the base substrate 110. ,
After the step (4), the transparent conductor coated on one surface of the base substrate 110 is formed with a pattern layer 120 having a structure having a different thickness so that two or more regions having different resistance components are formed. Characterized in that the manufacturing method of the touch panel with ITO having two or more different resistance components.
제6항에 있어서, 상기 단계 (1)에서는,
상기 베이스 기재(110)의 공정 투입 전, 베이스 기재(110)의 표면에 묻어 있는 불순물을 제거하는 세정 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법.
The method of claim 6, wherein in step (1),
Before the process of the base substrate 110, further comprising a cleaning process for removing impurities on the surface of the base substrate 110, touch with ITO having two or more different resistance components Method of manufacturing the panel.
제6항에 있어서, 상기 단계 (2) 및 상기 단계(3)은,
스크린 프린팅(Screen Printing), 그라비아(Gravure), 및 잉크젯(Inkjet) 중 하나의 코팅 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법.
The method of claim 6, wherein step (2) and step (3),
A method of manufacturing a touch panel with ITO having at least two different resistive components, characterized in that it comprises a coating process of one of screen printing, gravure, and inkjet.
제6항에 있어서, 상기 투명 전도체는,
ITO(Indium Tin Oxide)로 구성하는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법.
The method of claim 6, wherein the transparent conductor,
A method of manufacturing a touch panel with ITO having at least two different resistive components, characterized by comprising indium tin oxide (ITO).
제6항에 있어서, 상기 단계 (3)에서,
두께가 낮아지도록 조절된 투명 전도체는, 터치 위치의 감지를 위해 터치 패턴을 형성하는 패턴층 감지부(122)로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법.
The method of claim 6, wherein in step (3),
The transparent conductor adjusted to have a low thickness includes a pattern layer sensing unit 122 that forms a touch pattern for sensing a touch position. The touch panel having ITO having two or more different resistive components is provided. Method of preparation.
제10항에 있어서, 상기 단계 (4)에서,
미세 패턴의 형성을 위해 절단되는 투명 전도체는, 상기 패턴층 감지부(122)의 전극에 전기적 연결을 위한 패턴층 연결부(121)로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 서로 다른 2가지 이상의 저항 성분을 갖는 ITO를 구비한 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 10, wherein in step (4):
ITO having two or more different resistance components, characterized in that the transparent conductor is cut to form a fine pattern, consisting of a pattern layer connection portion 121 for electrical connection to the electrode of the pattern layer detection unit 122 Method of manufacturing a touch panel having a.
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